JP2010177692A - Method of manufacturing semiconductor device - Google Patents

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好彦 嶋貫
Masayuki Suzuki
雅之 鈴木
Shigetoshi Kurihara
繁敏 栗原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve packaging properties of a semiconductor device assembled by using a leadframe. <P>SOLUTION: The semiconductor device includes: a sealing section 3; a tab 1b which supports a semiconductor chip 2; a tab hanging lead which supports the tab 1b; a plurality of leads 1a which are arranged around the tab 1b; a cutting burr 1i which is formed at a cutting end of a lead 1a and the tub hanging lead when a leadframe 1 is cut, and which does not project but recedes from a connected surface 1d of the lead 1a and the tub hanging lead; and a wire which connects a pad of a semiconductor chip 2 and the lead 1a. A recess 1j as a thin part is formed in a cut-off area 1k of the leadframe 1. This makes the tip of the cutting burr 1i formed by lead-cutting with a blade 6 not project but recede from the connected surface 1d of the lead 1a and the tub hanging lead. Thereby, a flatness degree of the connected surface 1d of the lead 1a or the tab hanging lead is improved, and the packaging properties of the QFN (Quad Flat Non-leaded package) are improved. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体製造技術に関し、特に、リードフレームを用いて組み立てる半導体装置の実装性向上に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor manufacturing technique, and more particularly to a technique that is effective when applied to improve the mountability of a semiconductor device assembled using a lead frame.

以下に説明する技術は、本発明を研究、完成するに際し、本発明者によって検討されたものであり、その概要は次のとおりである。   The technology described below has been studied by the present inventors in researching and completing the present invention, and the outline thereof is as follows.

小形化を図った半導体装置として、QFN(Quad Flat Non-leaded Package) と呼ばれる半導体チップより若干大きい程度の小形半導体パッケージが開発されており、モールドによって形成された封止部の裏面の周縁部に外部端子となる複数のリードが露出して配置され、このような構造の半導体パッケージは、ペリフェラル形と呼ばれている。   As a miniaturized semiconductor device, a small semiconductor package, which is slightly larger than a semiconductor chip called QFN (Quad Flat Non-leaded Package), has been developed. A plurality of leads serving as external terminals are arranged so as to be exposed, and the semiconductor package having such a structure is called a peripheral type.

QFNの組み立てでは、モールド金型の1つのキャビティで複数の半導体チップを一括してモールドし、モールド後に、一括した封止部をリードフレームとともにダイシング用のブレードによって切断分離して個片化する組み立て方式が考案されている。   In the assembly of QFN, a plurality of semiconductor chips are collectively molded in one cavity of a mold, and after the molding, the packaged sealing part is cut and separated by a dicing blade together with a lead frame to separate the chips. A scheme has been devised.

なお、リードフレームを用いて組み立てるQFNの構造については、例えば、非特許文献1に記載されている。   Note that the structure of the QFN assembled using the lead frame is described in Non-Patent Document 1, for example.

株式会社プレスジャーナル1998年7月27日発行、「月刊Semiconductor World増刊号'99半導体組立・検査技術」、53〜57頁Press Journal Co., Ltd., issued July 27, 1998, “Monthly Semiconductor World special issue '99 Semiconductor assembly and inspection technology”, pages 53-57

ところが、前記した技術のQFNの組み立てでは、モールド後、リードを切断した際に、リード(吊りリードも含む)の被接続面には切断バリが突出する。特に、ブレードの移動方向がX方向とY方向とで交差する箇所は2度切りとなるため、切断バリが、QFNの角部のリードに大きく形成され、その被接続面に突出した状態となる。   However, in the assembly of the QFN of the above-described technique, when the lead is cut after molding, a cutting burr protrudes from the connected surface of the lead (including the suspension lead). In particular, since the location where the blade movement direction intersects the X direction and the Y direction is cut twice, the cutting burr is greatly formed on the lead at the corner of the QFN and protrudes to the connected surface. .

これによって、リードの被接続面の平坦度が悪くなり、完成後のQFNの実装性が低下することが問題となる。   As a result, the flatness of the connected surface of the lead deteriorates, and there is a problem that the mountability of the completed QFN is lowered.

本発明の目的は、実装性の向上を図る半導体装置の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device that improves mountability.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。   Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、本発明の半導体装置の製造方法は、(a)チップ搭載部、前記チップ搭載部を支持する複数の吊りリード、及び前記チップ搭載部の周囲に配置された複数のリードを備えた複数のパッケージ領域と、前記複数のパッケージ領域のうち、互いに隣接するパッケージ領域間に位置し、前記複数のリードのそれぞれの厚さよりも薄く形成され、前記複数の吊りリードのそれぞれと前記複数のリードのそれぞれを支持する切断部とを有するリードフレームを準備する工程;(b)複数のパッドが形成された主面を有する半導体チップを複数個準備し、前記複数の半導体チップを前記複数のパッケージ領域の前記チップ搭載部上にそれぞれ搭載する工程;(c)前記半導体チップの前記複数のパッドと前記複数のリードを複数のワイヤでそれぞれ電気的に接続する工程;(d)前記複数のリードのそれぞれの一部が露出するように、前記複数の半導体チップ、前記複数のワイヤ、及び前記複数のパッケージ領域を樹脂で封止する工程;(e)前記切断部の幅よりも細い幅から成るブレードを準備し、前記ブレードのエッジ部が前記切断部内に位置するように、前記切断部に沿って前記ブレードを走行させ、前記複数のパッケージ領域を分割する工程;を含むものである。   That is, the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes: (a) a chip mounting portion, a plurality of suspension leads that support the chip mounting portion, and a plurality of leads that are arranged around the chip mounting portion. A package region and a plurality of package regions, each of which is located between adjacent package regions and formed thinner than each of the plurality of leads, each of the plurality of suspension leads and each of the plurality of leads. And (b) preparing a plurality of semiconductor chips each having a main surface on which a plurality of pads are formed, and arranging the plurality of semiconductor chips in the plurality of package regions. (C) mounting the plurality of pads and the plurality of leads of the semiconductor chip with a plurality of wires; (D) a step of sealing the plurality of semiconductor chips, the plurality of wires, and the plurality of package regions with a resin so that a part of each of the plurality of leads is exposed. (E) preparing a blade having a width narrower than a width of the cutting portion, running the blade along the cutting portion so that an edge portion of the blade is located in the cutting portion, and Dividing the package region.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

(1).半導体チップを支持可能な薄板部材の切断部にダイシングラインに対応して凹部が形成され、この凹部でブレードによって分割することにより、切断バリの大きさを小さくすることができ、各外部端子において被接続面への切断バリの突出を防ぐことができる。その結果、外部端子の被接続面の平坦度を向上でき、半導体装置の実装性の向上を図ることができる。   (1). A concave portion corresponding to the dicing line is formed in the cut portion of the thin plate member capable of supporting the semiconductor chip, and the size of the cutting burr can be reduced by dividing the concave portion by a blade in the concave portion. Protrusion of the cutting burr to the connection surface can be prevented. As a result, the flatness of the connected surface of the external terminal can be improved, and the mountability of the semiconductor device can be improved.

(2).切断部に、ブレードの厚さと同じ間隔で少なくとも2列に凹部が形成されていることにより、切断時にブレードのエッジ部を凹部に配置することができ、切断バリの大きさを確実に小さくすることができる。その結果、外部端子の被接続面の平坦度をさらに向上でき、半導体装置の実装性を高めることができる。   (2). By forming recesses in the cutting part in at least two rows at the same interval as the thickness of the blade, the edge part of the blade can be placed in the recess during cutting, and the size of the cutting burr is reliably reduced Can do. As a result, the flatness of the connected surface of the external terminal can be further improved, and the mountability of the semiconductor device can be improved.

(3).切断部に、ダイシングラインに対応した凹部と、ダイシングラインの直交箇所に対応して前記凹部より深い他の凹部または貫通孔とが形成されていることにより、前記直交箇所で2度切りされてもその際に形成される切断バリの大きさを小さくすることができる。これにより、半導体装置の角部の外部端子において被接続面への切断バリの突出を確実に防ぐことができる。   (3). Even if the cut part is cut twice at the orthogonal part by forming a concave part corresponding to the dicing line and another concave part or through hole deeper than the concave part corresponding to the orthogonal part of the dicing line. The size of the cutting burr formed at that time can be reduced. Accordingly, it is possible to reliably prevent the cutting burr from projecting to the connected surface at the external terminal at the corner of the semiconductor device.

(a),(b),(c)は本発明の実施の形態の半導体装置の製造方法によって組み立てられる半導体装置の一例であるQFNの構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は底面図である。(A), (b), (c) is a figure which shows the structure of QFN which is an example of the semiconductor device assembled by the manufacturing method of the semiconductor device of embodiment of this invention, (a) is a top view, ( b) is a side view, and (c) is a bottom view. 図1に示すQFNの構造を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows the structure of QFN shown in FIG. 図1に示すQFNの製造における組み立て手順の一例を示すプロセスフロー図である。It is a process flow figure showing an example of an assembly procedure in manufacture of QFN shown in FIG. 図1に示すQFNの組み立てに用いられるリードフレームの構造を示す部分平面図である。FIG. 2 is a partial plan view showing a structure of a lead frame used for assembling the QFN shown in FIG. 1. (a),(b)は図3に示す組み立て手順におけるモールド後の状態の一例を示す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。(A), (b) is a figure which shows an example of the state after a mold in the assembly procedure shown in FIG. 3, (a) is a top view, (b) is a side view. (a),(b),(c)は図3に示す組み立て手順における切断時の状態の一例を示す図であり、(a)は切断前の部分断面図、(b)は(a)のA部の拡大部分断面図、(c)は切断後の部分断面図である。(A), (b), (c) is a figure which shows an example of the state at the time of the cutting | disconnection in the assembly procedure shown in FIG. 3, (a) is a fragmentary sectional view before cutting | disconnection, (b) is a figure of (a). The expanded partial sectional view of A part, (c) is the fragmentary sectional view after a cutting | disconnection. (a),(b) は図6に示すリードフレームの凹部に対する変形例の凹部の形状を示す図であり、(a)は切断前の部分断面図、(b)は(a)のB部の拡大部分断面図である。(A), (b) is a figure which shows the shape of the recessed part of the modification with respect to the recessed part of the lead frame shown in FIG. 6, (a) is a fragmentary sectional view before a cutting | disconnection, (b) is B part of (a). FIG. 図6に示すリードフレームに対する変形例のリードフレームの形状を示す部分平面図である。FIG. 7 is a partial plan view showing the shape of a lead frame according to a modification of the lead frame shown in FIG. 6. (a),(b) は図6に示すリードフレームの凹部に対する変形例の凹部の形状を示す拡大部分断面図である。(A), (b) is an expanded partial sectional view which shows the shape of the recessed part of the modification with respect to the recessed part of the lead frame shown in FIG. 本発明の他の実施の形態の半導体装置の製造方法における一括モールド後の個片化の方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the method of individualization after the collective molding in the manufacturing method of the semiconductor device of other embodiment of this invention. (a),(b),(c)は本発明の他の実施の形態の半導体装置の製造方法によって組み立てられる半導体装置であるLGAの構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は底面図である。(A), (b), (c) is a figure which shows the structure of LGA which is a semiconductor device assembled by the manufacturing method of the semiconductor device of other embodiment of this invention, (a) is a top view, ( b) is a side view, and (c) is a bottom view. 図11に示すLGAの構造を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows the structure of LGA shown in FIG. 図11に示すLGAの組み立てに用いられる配線基板の構造を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the wiring board used for the assembly of LGA shown in FIG. (a),(b) は図13に示す配線基板のC部の構造を示す図であり、(a)は表面側(チップ搭載側)の拡大平面図、(b)は拡大底面図である。(A), (b) is a figure which shows the structure of the C section of the wiring board shown in FIG. 13, (a) is an enlarged plan view of the surface side (chip mounting side), (b) is an enlarged bottom view. .

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof will be omitted.

図1は本発明の実施の形態の半導体装置の製造方法によって組み立てられる半導体装置の一例であるQFNの構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は底面図、図2は図1に示すQFNの構造を示す拡大断面図、図3は図1に示すQFNの製造における組み立て手順の一例を示すプロセスフロー図、図4は図1に示すQFNの組み立てに用いられるリードフレームの構造を示す部分平面図、図5は図3に示す組み立て手順におけるモールド後の状態の一例を示す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、図6は図3に示す組み立て手順における切断時の状態の一例を示す図であり、(a)は切断前の部分断面図、(b)は(a)のA部の拡大部分断面図、(c)は切断後の部分断面図、図7は図6に示すリードフレームの凹部に対する変形例の凹部の形状を示す図であり、(a)は切断前の部分断面図、(b)は(a)のB部の拡大部分断面図、図8は図6に示すリードフレームに対する変形例のリードフレームの形状を示す部分平面図、図9は図6に示すリードフレームの凹部に対する変形例の凹部の形状を示す拡大部分断面図である。   1A and 1B are views showing a structure of a QFN which is an example of a semiconductor device assembled by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a side view, and FIG. 2 is a bottom view, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of the QFN shown in FIG. 1, FIG. 3 is a process flow diagram showing an example of an assembly procedure in manufacturing the QFN shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 5 is a diagram showing an example of a state after molding in the assembly procedure shown in FIG. 3, (a) is a plan view, (b) is a side view, 6 is a diagram showing an example of a state during cutting in the assembly procedure shown in FIG. 3, (a) is a partial cross-sectional view before cutting, (b) is an enlarged partial cross-sectional view of part A of (a), c) is a partial sectional view after cutting, and FIG. 7 is the lead frame shown in FIG. FIG. 8 is a diagram showing the shape of a concave portion of a modified example with respect to the concave portion of the beam, where (a) is a partial cross-sectional view before cutting, (b) is an enlarged partial cross-sectional view of portion B of FIG. 9 is a partial plan view showing the shape of a modified lead frame with respect to the lead frame shown, and FIG. 9 is an enlarged partial sectional view showing the shape of a recessed portion of the modified example with respect to the recessed portion of the lead frame shown in FIG.

図1に示す本実施の形態の半導体装置の製造方法によって組み立てられる半導体装置は、図4に示すリードフレーム(薄板部材)1を用い、かつこのリードフレーム1の片方の面である表面(チップ搭載側の面)側にモールドによって図1に示す封止部3が形成される片面モールドの樹脂封止形の小形半導体パッケージであり、さらに、封止部3の裏面3aの周縁部に複数のリード1aの被接続面1dを露出させて配置したペリフェラル形のものでもあり、前記半導体装置の一例として、QFN5を取り上げて説明する。   1 uses a lead frame (thin plate member) 1 shown in FIG. 4 and a surface (chip mounting) which is one side of the lead frame 1. 1 is a single-sided resin-sealed small semiconductor package in which the sealing portion 3 shown in FIG. 1 is formed on the side, and a plurality of leads are provided on the peripheral portion of the back surface 3a of the sealing portion 3. The peripheral surface 1d of the peripheral surface 1d is also exposed, and QFN5 will be described as an example of the semiconductor device.

したがって、QFN5の各リード1aは、封止部3に埋め込まれたインナリードと、封止部3の裏面3aの周縁部に露出するアウタリードとの両者の機能を兼ねている。   Therefore, each lead 1a of the QFN 5 functions as both an inner lead embedded in the sealing portion 3 and an outer lead exposed at the peripheral edge of the back surface 3a of the sealing portion 3.

図1、図2を用いて、QFN5の詳細構成について説明すると、半導体チップ2が樹脂封止されて形成された封止部3と、半導体チップ2を支持するチップ支持面1cを備えたタブ(チップ搭載部)1bと、タブ1bを支持するとともに封止部3の裏面3aの周縁部の4つの角部に露出して配置されたタブ吊りリード1eと、タブ1bの周囲に配置され、かつ封止部3の裏面3aの周縁部に並んで被接続面1dを露出して配置された複数のリード1aと、リードフレーム1の切断時にリード1aやタブ吊りリード1eの切断端部に形成され、かつリード1aやタブ吊りリード1eの被接続面1dから突出せずに引っ込んだ図6(c)に示す切断バリ(バリ)1iと、半導体チップ2の表面電極であるパッド2aとこれに対応するリード1aとを接続するボンディング用のワイヤ4とからなる。   The detailed configuration of the QFN 5 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. A tab (1) having a sealing portion 3 formed by resin-sealing the semiconductor chip 2 and a chip support surface 1 c that supports the semiconductor chip 2 ( A chip mounting portion) 1b, a tab suspension lead 1e that supports the tab 1b and is exposed at the four corners of the peripheral portion of the back surface 3a of the sealing portion 3, and is disposed around the tab 1b, and A plurality of leads 1a arranged along the peripheral edge of the back surface 3a of the sealing portion 3 so as to expose the connected surface 1d and the cut ends of the leads 1a and the tab suspension leads 1e when the lead frame 1 is cut. In addition, the cutting burr 1i shown in FIG. 6C that is retracted without protruding from the connected surface 1d of the lead 1a or the tab suspension lead 1e, the pad 2a that is the surface electrode of the semiconductor chip 2, and the corresponding With lead 1a Consisting wire 4 which for bonding to be connected.

すなわち、図4、図5に示すリードフレーム1の切断部1kに、図6に示すような薄肉部である凹部1jが形成されたことにより、切断用のブレード6によってリード切断が行われた際に形成される切断バリ1iの先端が、図6(c)に示すように、リード1aやタブ吊りリード1eの被接続面1dから突出せずに引っ込んだ状態となるものであり、これによって、リード1aやタブ吊りリード1eの被接続面1dの平坦度を向上させ、その結果、QFN5の実装性の向上を図ることができる。   That is, when the cutting portion 1k of the lead frame 1 shown in FIG. 4 and FIG. 5 is formed with the concave portion 1j as a thin portion as shown in FIG. As shown in FIG. 6 (c), the tip of the cutting burr 1i formed in the state is retracted without protruding from the connected surface 1d of the lead 1a or the tab suspension lead 1e. The flatness of the connected surface 1d of the lead 1a and the tab suspension lead 1e can be improved, and as a result, the mountability of the QFN 5 can be improved.

なお、図2に示すように、半導体チップ2は、タブ1bのチップ支持面1c上にダイボンド材(例えば、銀ペーストなど)12によって固定されている。   As shown in FIG. 2, the semiconductor chip 2 is fixed on the chip support surface 1c of the tab 1b by a die bond material (for example, silver paste) 12.

また、QFN5の封止部3の裏面3aの周縁部に並んで配置された外部端子であるリード1aの被接続面1dには、厚さ10μm程度の半田メッキ層10が形成されている。   Further, a solder plating layer 10 having a thickness of about 10 μm is formed on the connected surface 1 d of the lead 1 a which is an external terminal arranged along the peripheral edge of the back surface 3 a of the sealing portion 3 of the QFN 5.

また、タブ1b、タブ吊りリード1eおよび各リード1aは、例えば、銅などの薄板材によって形成され、その厚さは、0.15〜0.2mm程度である。   The tab 1b, the tab suspension lead 1e, and each lead 1a are formed of a thin plate material such as copper, for example, and the thickness is about 0.15 to 0.2 mm.

さらに、半導体チップ2のパッド2aとこれに対応するリード1aとを接続するワイヤ4は、例えば、金線などである。   Further, the wire 4 that connects the pad 2a of the semiconductor chip 2 and the corresponding lead 1a is, for example, a gold wire.

また、封止部3は、モールド方法による樹脂封止によって形成され、その際用いられる封止用樹脂は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などである。   Moreover, the sealing part 3 is formed by resin sealing by a molding method, and the sealing resin used at that time is, for example, a thermosetting epoxy resin.

次に、本実施の形態によるQFN5(半導体装置)の製造方法を図3に示すプロセスフロー図にしたがって説明する。   Next, a method for manufacturing QFN 5 (semiconductor device) according to the present embodiment will be described with reference to a process flow diagram shown in FIG.

まず、図2に示す半導体チップ2を支持可能な複数のチップ搭載部であるタブ1bと、タブ1bをその角部で支持するタブ吊りリード1eと、タブ1bの周囲に配置され、かつ樹脂封止された際に封止部3の裏面3aの周縁部に露出する被接続面1dを備えた複数のリード1aと、タブ1bおよびその周囲のリード1aを区画する切断部1kとからなり、この切断部1kに、分割用のダイシングライン1hに対応して図6に示すような凹部1j
が形成された図4に示す薄板部材であるリードフレーム1を準備する(ステップS1)。
First, a tab 1b, which is a plurality of chip mounting portions that can support the semiconductor chip 2 shown in FIG. 2, a tab suspension lead 1e that supports the tab 1b at its corners, a periphery of the tab 1b, and a resin seal It consists of a plurality of leads 1a having a connected surface 1d exposed at the peripheral edge of the back surface 3a of the sealing portion 3 when stopped, and a cutting portion 1k that partitions the tab 1b and the surrounding leads 1a. A recess 1j as shown in FIG. 6 corresponding to the dicing line 1h for division is formed in the cutting portion 1k.
A lead frame 1 which is a thin plate member shown in FIG. 4 in which is formed is prepared (step S1).

なお、図4に示す点線部は、モールド後のモールドライン1nである。   In addition, the dotted line part shown in FIG. 4 is the mold line 1n after a mold.

また、凹部1jは、図6(b)に示すように、リード1aの基本板厚(T)が、例えば、0.2mmで、かつブレード6の幅(L1)を100μmとすると、その深さ(Z1もしくはZ2)は、大凡30μm程度であり、さらに、凹部1jの幅(L2)は、150μm程度である。つまり、凹部1jの幅は、ブレード6の幅より大きく(幅広)する。   Further, as shown in FIG. 6B, the recess 1j has a depth when the basic thickness (T) of the lead 1a is 0.2 mm and the width (L1) of the blade 6 is 100 μm, for example. (Z1 or Z2) is approximately 30 μm, and the width (L2) of the recess 1j is approximately 150 μm. That is, the width of the recess 1 j is larger (wider) than the width of the blade 6.

ただし、複数の凹部1jを形成して1つの凹部1jと見立てる場合は、一方の端部の凹
部1jから反対側の端部の凹部1jまでの距離をブレード6の幅より大きくすればよい。
However, when a plurality of recesses 1j are formed and regarded as one recess 1j, the distance from the recess 1j at one end to the recess 1j at the opposite end may be made larger than the width of the blade 6.

さらに、凹部1jの深さは、30μmに限らず、発生する切断バリ1iの量(高さ)に応じて設定するものである。   Further, the depth of the recess 1j is not limited to 30 μm, but is set according to the amount (height) of the generated cutting burr 1i.

また、凹部1jは、リードフレーム1の切断部1kにおいて、図5(a) に示すダイシングライン1hに対応して形成されており、その際、図6(a),(b)に示すように、その表裏両面に形成されていることが好ましく、これにより、切断時の切断バリ1iの大きさを極力小さくできる。   Further, the recess 1j is formed in the cut portion 1k of the lead frame 1 corresponding to the dicing line 1h shown in FIG. 5 (a). At that time, as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b). It is preferable to be formed on both the front and back surfaces, so that the size of the cutting burr 1i during cutting can be made as small as possible.

したがって、QFN個片化への切断時には、ダイシングライン1hに対応して形成された凹部1jを、この凹部1jに沿ってブレード6をX方向およびY方向に移動させて切断する。   Therefore, when cutting into QFN pieces, the recess 1j formed corresponding to the dicing line 1h is cut by moving the blade 6 in the X direction and the Y direction along the recess 1j.

なお、凹部1jは、図9(a),(b)の変形例に示すように、リードフレーム1の表面1gまたは裏面1lの何れか一方のみに形成されていてもよい。   Note that the recess 1j may be formed only on either the front surface 1g or the back surface 11 of the lead frame 1, as shown in the modification of FIGS. 9 (a) and 9 (b).

また、凹部1jは、図7(a),(b)の変形例に示すように、分割用のブレード6の厚さとほぼ同じ間隔程度に少なくとも2列に形成されていることが好ましい。   The recesses 1j are preferably formed in at least two rows at approximately the same interval as the thickness of the dividing blade 6, as shown in the modified examples of FIGS. 7 (a) and 7 (b).

このようにすれば、切断時に、ブレード6のエッジすなわちブレード6の表裏両側の周縁部をそれぞれ凹部1jの窪み箇所に配置することができ、切断によって形成される切断バリ1iの大きさを極力小さくすることができる。   In this way, at the time of cutting, the edge of the blade 6, that is, the peripheral portions on both the front and back sides of the blade 6 can be arranged in the recessed portions of the recess 1j, respectively, and the size of the cutting burr 1i formed by cutting is made as small as possible. can do.

ただし、凹部1jの数は、2列以上設けてもよい。   However, the number of the recesses 1j may be two or more.

また、図8の変形例に示すように、切断部1kに、ダイシングライン1hに対応した凹部1jと、ダイシングライン1hの直交箇所に対応した貫通孔1mとが形成されたリードフレーム1であってもよい。   Further, as shown in the modified example of FIG. 8, a lead frame 1 in which a cut portion 1k is formed with a recess 1j corresponding to a dicing line 1h and a through hole 1m corresponding to an orthogonal position of the dicing line 1h. Also good.

これにより、ブレード6のX方向とY方向とへの走行によってダイシングライン1hの直交箇所で2度切りが行われても、そこで発生する切断バリ1iを小さくできる。   As a result, even if the blade 6 is cut twice at a location orthogonal to the dicing line 1h by traveling in the X direction and the Y direction, the cutting burr 1i generated there can be reduced.

なお、ダイシングライン1hの直交箇所に設けられるのは、必ずしも貫通孔1mでなくてもよく、凹部1jより深い溝(他の凹部)などであってもよい。   In addition, what is provided in the orthogonal location of the dicing line 1h does not necessarily have to be the through hole 1m, and may be a groove (other recess) deeper than the recess 1j.

ここで、リードフレーム1は、1枚のリードフレーム1から複数個のQFN5を製造することが可能な短冊状の細長い多連のものであり、さらに、1枚のリードフレーム1上でマトリクス配列でQFN5を製造可能とするものであり、したがって、1枚のリードフレーム1には、1個のQFN5に対応したパッケージ領域がマトリクス配列で複数個形成されている。   Here, the lead frame 1 is a strip-like elongated multiple body capable of manufacturing a plurality of QFNs 5 from a single lead frame 1, and is further arranged in a matrix arrangement on the single lead frame 1. The QFN 5 can be manufactured. Therefore, a plurality of package regions corresponding to one QFN 5 are formed in a matrix arrangement on one lead frame 1.

また、リードフレーム1は、例えば、銅(Cu)などによって形成された薄板材であり、その厚さは、例えば、0.15〜0.2mm程度であるが、前記材料や前記厚さなどは、これらに限定されるものではない。   The lead frame 1 is a thin plate material formed of, for example, copper (Cu) and the thickness thereof is, for example, about 0.15 to 0.2 mm. However, it is not limited to these.

その後、主面2bに半導体集積回路が形成された半導体チップ2を準備し、この半導体チップ2の裏面2cとリードフレーム1のタブ1bのチップ支持面1cとを接合するステップS2に示すダイボンディング(ペレットボンディングまたはチップマウントともいう)を行う。   Thereafter, a semiconductor chip 2 having a semiconductor integrated circuit formed on the main surface 2b is prepared, and die bonding (step S2) in which the back surface 2c of the semiconductor chip 2 and the chip support surface 1c of the tab 1b of the lead frame 1 are bonded ( (Also called pellet bonding or chip mounting).

すなわち、リードフレーム1のタブ1bのチップ支持面1cに半導体チップ2を搭載する。   That is, the semiconductor chip 2 is mounted on the chip support surface 1 c of the tab 1 b of the lead frame 1.

その際、リードフレーム1のタブ1bにダイボンド材(例えば、銀ペーストなど)12を介して主面2bを上方に向けて半導体チップ2を固定する。   At that time, the semiconductor chip 2 is fixed to the tab 1 b of the lead frame 1 with the main surface 2 b facing upward via a die bond material (for example, silver paste) 12.

続いて、図2に示すように、半導体チップ2のパッド2aとこれに対応するリード1aのボンディング面1fとをボンディング用のワイヤ4によってワイヤボンディングして接続する(ステップS3)。   Subsequently, as shown in FIG. 2, the pad 2a of the semiconductor chip 2 and the bonding surface 1f of the lead 1a corresponding to the pad 2a are wire-bonded by a bonding wire 4 (step S3).

その後、ステップS4に示すモールド(ここでは、トランスファーモールド)によって半導体チップ2を樹脂封止してリードフレーム1の表面1g側に封止部3を形成する(片面モールドを行う)。   Thereafter, the semiconductor chip 2 is resin-sealed by a mold shown in step S4 (here, transfer mold) to form the sealing portion 3 on the surface 1g side of the lead frame 1 (single-sided molding is performed).

ここでは、モールド金型のキャビティとQFN5とが1対1に対応した前記モールド金型を用いてモールドを行う。   Here, the mold is performed using the mold die in which the cavity of the mold die and the QFN 5 have a one-to-one correspondence.

これによって、図5(a),(b)に示すように、リードフレーム1上に複数の封止部3がマトリクス配置で形成される。   As a result, as shown in FIGS. 5A and 5B, a plurality of sealing portions 3 are formed in a matrix arrangement on the lead frame 1.

その後、封止部3から突出する各リード1aおよびタブ吊りリード1eをリードフレーム1から切断分離するステップS5に示すリード切断(個片化)を行う。   After that, lead cutting (separation) shown in step S5 for cutting and separating each lead 1a and tab suspension lead 1e protruding from the sealing portion 3 from the lead frame 1 is performed.

その際、リードフレーム1の切断部1kにおいてダイシングライン1hに対応して形成された凹部1j上に、分割用のブレード6をX方向およびY方向に走行させてQFN5ごとに(ここではタブ1bごとに)分割する。   At that time, the blade 6 for division is run in the X direction and the Y direction on the recess 1j formed corresponding to the dicing line 1h in the cutting part 1k of the lead frame 1, and each QFN5 (here, each tab 1b). To split).

切断時、図6(b)に示すように、凹部1jをブレード6が走行するため、その際に形成される図6(c)に示す切断バリ1iをリード1aの被接続面1dから突出させずに分割できる。   At the time of cutting, as shown in FIG. 6 (b), the blade 6 travels in the recess 1j. Therefore, the cutting burr 1i shown in FIG. 6 (c) is protruded from the connected surface 1d of the lead 1a. Can be divided without

なお、図7(a),(b)に示すように、分割用のブレード6の厚さとほぼ同じ間隔程度に少なくとも2列に凹部1jが形成されていることにより、ブレード6のエッジすなわちブレード6の両周縁部をそれぞれ凹部1jの窪み箇所に配置して切断することができ、これによって、切断バリ1iの大きさを小さくすることができる。   As shown in FIGS. 7A and 7B, the recesses 1j are formed in at least two rows at approximately the same interval as the thickness of the dividing blade 6, so that the edge of the blade 6, that is, the blade 6 is formed. Both of the peripheral edge portions can be arranged and cut at the recessed portions of the recesses 1j, whereby the size of the cutting burr 1i can be reduced.

また、図8に示すように、切断部1kのダイシングライン1hの直交箇所に貫通孔1mが形成されていることにより、ブレード6のX方向とY方向との走行によってダイシングライン1hの直交箇所で2度切りが行われた際にも、そこで発生する切断バリ1iを小さくできる。   Further, as shown in FIG. 8, through holes 1m are formed at the orthogonal positions of the dicing line 1h of the cutting portion 1k, so that the blade 6 travels in the X direction and the Y direction at an orthogonal position of the dicing line 1h. Even when the cutting is performed twice, the cutting burr 1i generated there can be reduced.

すなわち、QFN5の角部に形成される切断バリ1iを小さくすることができる。   That is, the cutting burr 1i formed at the corner of the QFN 5 can be reduced.

個片化によって、図1および図2に示すQFN5の完成となる(ステップS6)。   By dividing into pieces, the QFN 5 shown in FIGS. 1 and 2 is completed (step S6).

本実施の形態のQFN5(半導体装置)の製造方法によれば、以下のような作用効果が得られる。   According to the manufacturing method of QFN 5 (semiconductor device) of the present embodiment, the following operational effects are obtained.

すなわち、半導体チップ2を支持可能なリードフレーム1の切断部1kにダイシングライン1hに対応して凹部1jが形成され、この凹部1jでブレード6によって分割することにより、切断バリ1iの大きさを小さくすることができ、各リード1a(タブ吊りリード1eも含む)において被接続面1dへの切断バリ1iの突出を防ぐことができる。   That is, a recess 1j corresponding to the dicing line 1h is formed in the cut portion 1k of the lead frame 1 capable of supporting the semiconductor chip 2, and the size of the cut burr 1i is reduced by dividing the recess 1j by the blade 6. Thus, it is possible to prevent the cutting burr 1i from protruding to the connected surface 1d in each lead 1a (including the tab suspension lead 1e).

その結果、リード1aの被接続面1dの平坦度を向上でき、したがって、QFN5の実装性の向上を図ることができる。   As a result, the flatness of the connected surface 1d of the lead 1a can be improved, and therefore, the mountability of the QFN 5 can be improved.

なお、切断部1kに、ブレード6の厚さとほぼ同じ間隔で2列に凹部1jが形成されていることにより、切断時にブレード6のエッジ部を凹部1jに配置することができる。   In addition, since the recesses 1j are formed in two rows at approximately the same interval as the thickness of the blade 6 in the cutting portion 1k, the edge portion of the blade 6 can be disposed in the recess 1j at the time of cutting.

その結果、切断バリ1iの大きさを確実に小さくすることができ、各リード1aにおいて被接続面1dへの切断バリ1iの突出をさらに防ぐことができる。   As a result, the size of the cutting burr 1i can be reliably reduced, and the protrusion of the cutting burr 1i to the connected surface 1d can be further prevented in each lead 1a.

これにより、リード1aの被接続面1dの平坦度をさらに向上でき、QFN5の実装性を高めることができる。   Thereby, the flatness of the to-be-connected surface 1d of the lead 1a can be further improved, and the mountability of the QFN 5 can be improved.

また、本実施の形態のように、薄板部材がリードフレーム1であり、その切断部1kに、図8に示すように、ダイシングライン1hに対応した凹部1jと、ダイシングライン1hの直交箇所に対応した貫通孔1mとが形成されていることにより、ダイシングライン1hの直交箇所でX方向とY方向とで2度切りされてもその際に形成される切断部1kの大きさを小さくすることができる。   Further, as in the present embodiment, the thin plate member is the lead frame 1, and in the cut portion 1k, as shown in FIG. 8, the concave portion 1j corresponding to the dicing line 1h and the orthogonal position of the dicing line 1h are supported. By forming the through-hole 1m, the size of the cut portion 1k formed at that time can be reduced even if it is cut twice in the X direction and the Y direction at a location orthogonal to the dicing line 1h. it can.

これにより、QFN5の角部のリード1a(ここでは、特にタブ吊りリード1e)において、被接続面1dへの切断バリ1iの突出を確実に防ぐことができる。   Thereby, in the lead 1a at the corner portion of the QFN 5 (in particular, the tab suspension lead 1e in this case), it is possible to reliably prevent the cutting burr 1i from protruding to the connected surface 1d.

その結果、QFN5の角部のリード1aおよびタブ吊りリード1eの被接続面1dの平坦度を向上でき、QFN5の実装性を高めることができる。   As a result, the flatness of the lead 1a at the corner of the QFN 5 and the connected surface 1d of the tab suspension lead 1e can be improved, and the mountability of the QFN 5 can be improved.

以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments of the invention. However, the present invention is not limited to the embodiments of the invention, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It goes without saying that it is possible.

例えば、前記実施の形態では、図5に示すように、1つのQFN5に相当する領域を別々のキャビティでモールドしてリードフレーム1上に複数の封止部3を形成する場合について説明したが、QFN5の製造方法としては、図3に示すステップS4のモールド工程において、図10に示す他の実施の形態のモールド方法のように複数のQFN5に相当する領域を一括してモールド(以降、一括モールドという)した後、これによって形成された一括封止部7とリードフレーム1とをブレード6を用いて一緒に分割切断して個片化するものであってもよい。   For example, in the above-described embodiment, as illustrated in FIG. 5, the case where a plurality of sealing portions 3 are formed on the lead frame 1 by molding a region corresponding to one QFN 5 in different cavities has been described. As a manufacturing method of QFN5, in the molding process of step S4 shown in FIG. 3, a region corresponding to a plurality of QFN5 is molded in a lump like the molding method of another embodiment shown in FIG. After that, the batch sealing portion 7 and the lead frame 1 formed thereby may be divided and cut together using a blade 6 into individual pieces.

前記一括モールドによる製造方法であっても、リードフレーム1の切断部1kに凹部1jが形成されていることにより、切断バリ1iの大きさを小さくすることができ、前記一括モールドによって組み立てたQFN5の実装性を向上できる。   Even in the manufacturing method using the batch molding, the size of the cutting burr 1i can be reduced by forming the recess 1j in the cutting portion 1k of the lead frame 1, and the QFN 5 assembled by the batch molding can be reduced. Mountability can be improved.

また、前記実施の形態では、薄板部材がリードフレーム1であり、かつこのリードフレーム1を用いて製造される半導体装置がQFN5の場合について説明したが、前記半導体装置は、切断部1kに凹部1jが形成されたリードフレーム1を用いて製造するものであれば、QFN5以外の半導体装置であってもよい。   In the above-described embodiment, the thin plate member is the lead frame 1 and the semiconductor device manufactured using the lead frame 1 is the QFN 5. However, the semiconductor device includes a cut portion 1k and a recess 1j. A semiconductor device other than the QFN 5 may be used as long as it is manufactured using the lead frame 1 formed with.

さらに、前記薄板部材は、リードフレーム1に限らず、図11〜14に示す他の実施の形態のように、配線基板8であってもよい。   Further, the thin plate member is not limited to the lead frame 1 but may be the wiring board 8 as in other embodiments shown in FIGS.

ここで、図11(a),(b),(c)および図12に示す半導体装置は、図13に示す多数個取り基板である配線基板8を用いて組み立てられたLGA(Land Grid Array)11である。   Here, the semiconductor device shown in FIGS. 11A, 11B, and 12C and FIG. 12 is an LGA (Land Grid Array) assembled by using the wiring board 8 which is a multi-chip substrate shown in FIG. 11.

図13に示す配線基板8において、各LGA11に対応した領域が、図14(a),(b)に示すパッケージ基板9であり、図6に示す凹部1jと同様の薄肉部が形成された配線基板8を用い、この配線基板8の各パッケージ基板9に半導体チップ2を搭載し、さらに、ワイヤ4で接続した後、一括モールドを行って、その後、配線基板8の前記薄肉部でブレード6によって各パッケージ基板9ごとに分割個片化するものであり、これによって組み立てられたものが図11および図12に示すLGA11である。   In the wiring substrate 8 shown in FIG. 13, the region corresponding to each LGA 11 is the package substrate 9 shown in FIGS. 14A and 14B, and a wiring in which a thin portion similar to the recess 1 j shown in FIG. 6 is formed. Using the substrate 8, the semiconductor chip 2 is mounted on each package substrate 9 of the wiring substrate 8, further connected by the wire 4, and then batch-molded, and then the blade 6 on the thin portion of the wiring substrate 8. Each package substrate 9 is divided into individual pieces, and an assembly assembled thereby is an LGA 11 shown in FIGS.

LGA11のパッケージ基板9は、ガラス入りエポキシ樹脂などからなる基材9a上に銅配線9bが形成され、この銅配線9bを絶縁膜であるソルダレジスト9cによって覆ったものであり、半導体チップ2が搭載される面と反対側の面である裏面9eには、平坦な外部リード9dが、図11(c)に示すように、アレイ状に配置されている。   The package substrate 9 of the LGA 11 is formed by forming a copper wiring 9b on a base material 9a made of glass-filled epoxy resin or the like, and covering the copper wiring 9b with a solder resist 9c which is an insulating film. On the back surface 9e, which is the surface opposite to the surface to be formed, flat external leads 9d are arranged in an array as shown in FIG.

なお、LGA11では、図12に示すようにパッケージ基板9の裏面9eと、外部リード9dの露出面とがほぼ同じ高さであるため、配線基板8を切断した際に発生する切断バリ1i(図6(c)参照)の影響を受け易い。   In the LGA 11, since the back surface 9e of the package substrate 9 and the exposed surface of the external lead 9d are substantially the same height as shown in FIG. 12, the cutting burr 1i (FIG. 12) generated when the wiring substrate 8 is cut. 6 (c)).

したがって、配線基板8に、図6に示す凹部1jと同様の薄肉部を形成することは、非常に有効である。   Therefore, it is very effective to form a thin portion similar to the recess 1j shown in FIG.

また、配線基板8を用いて組み立てる半導体装置は、BGA(Ball Grid Array)などであってもよい。   The semiconductor device assembled using the wiring board 8 may be a BGA (Ball Grid Array) or the like.

本発明は、半導体装置の製造技術に好適である。   The present invention is suitable for a semiconductor device manufacturing technique.

1 リードフレーム(薄板部材)
1a リード
1b タブ(チップ搭載部)
1c チップ支持面
1d 被接続面
1e タブ吊りリード
1f ボンディング面
1g 表面
1h ダイシングライン
1i 切断バリ(バリ)
1j 凹部
1k 切断部
1l 裏面
1m 貫通孔
1n モールドライン
2 半導体チップ
2a パッド
2b 主面
2c 裏面
3 封止部
3a 裏面
4 ワイヤ
5 QFN(半導体装置)
6 ブレード
7 一括封止部
8 配線基板(薄板部材)
9 パッケージ基板
9a 基材
9b 銅配線
9c ソルダレジスト
9d 外部リード
9e 裏面
10 半田メッキ層
11 LGA(半導体装置)
12 ダイボンド材
1 Lead frame (thin plate member)
1a Lead 1b Tab (chip mounting part)
1c Chip support surface 1d Connected surface 1e Tab suspension lead 1f Bonding surface 1g Surface 1h Dicing line 1i Cutting burr (burr)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1j Concave part 1k Cutting part 1l Back surface 1m Through-hole 1n Mold line 2 Semiconductor chip 2a Pad 2b Main surface 2c Back surface 3 Sealing part 3a Back surface 4 Wire 5 QFN (semiconductor device)
6 Blade 7 Batch sealing part 8 Wiring board (thin plate member)
9 Package substrate 9a Base material 9b Copper wiring 9c Solder resist 9d External lead 9e Back surface 10 Solder plating layer 11 LGA (semiconductor device)
12 Die bond materials

Claims (14)

(a)表面に半導体チップが搭載されたチップ搭載部、前記チップ搭載部に一端部が接続された吊りリード、および前記チップ搭載部の周囲に配置された複数のリードを有するリードフレームを準備する工程と、
(b)前記半導体チップの表面に形成された複数のパッドと前記複数のリードとをそれぞれ複数のワイヤにより電気的に接続する工程と、
(c)前記半導体チップ、前記ワイヤ、前記チップ搭載部の一部、および前記リードの一部を覆う封止体を形成する工程と、
(d)前記リードをダイシングブレードにより切断する工程と、を有し、
前記リードは第1部分と、前記第1部分よりも厚さが薄く、かつ幅が狭い第2部分と、を有し、
前記(b)工程は、前記リードの前記第1部分に前記ワイヤを電気的に接続させ、
前記(d)工程は、前記リードの前記第2部分を切断することを特徴とする半導体装置の製造方法。
(A) A lead frame having a chip mounting portion having a semiconductor chip mounted on the surface, a suspension lead having one end connected to the chip mounting portion, and a plurality of leads arranged around the chip mounting portion is prepared. Process,
(B) electrically connecting a plurality of pads formed on the surface of the semiconductor chip and the plurality of leads by a plurality of wires, respectively;
(C) forming a sealing body covering the semiconductor chip, the wire, a part of the chip mounting portion, and a part of the lead;
(D) cutting the lead with a dicing blade,
The lead has a first portion and a second portion that is thinner and narrower than the first portion;
In the step (b), the wire is electrically connected to the first portion of the lead,
In the step (d), the second portion of the lead is cut.
請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記(c)工程は、前記リードの前記第2部分が、前記封止体により覆われるように行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1,
The step (c) is performed so that the second portion of the lead is covered with the sealing body.
請求項2に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記(d)工程は、前記封止体と前記リードの前記第2部分とを同時に切断することを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2,
In the step (d), the sealing body and the second portion of the lead are cut at the same time.
請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記(c)工程は、前記リードの前記第2部分が、前記封止体の外側に位置するように行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1,
The step (c) is performed so that the second portion of the lead is positioned outside the sealing body.
請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードの前記第2部分は、前記リードの表面に凹部が形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the second portion of the lead has a recess formed on a surface of the lead.
請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードの前記第2部分は、前記リードの裏面に凹部が形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the second portion of the lead has a recess formed on the back surface of the lead.
請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードの前記第2部分は、前記リードの表裏面に凹部が形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the second portion of the lead has recesses formed on the front and back surfaces of the lead.
請求項5,6または7に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記凹部の幅は、前記ダイシングブレードの幅よりも広いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 5, 6 or 7,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein a width of the recess is wider than a width of the dicing blade.
請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードフレームは、複数のパッケージがマトリクス配列で形成されており、前記(d)工程を行うことにより、パッケージに個片化することを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1,
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the lead frame includes a plurality of packages formed in a matrix arrangement and is separated into packages by performing the step (d).
請求項9に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードの前記第2部分は、前記パッケージ間に位置することを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 9,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the second portion of the lead is located between the packages.
請求項9に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記(d)工程は、前記パッケージ間のダイシングラインに沿って、前記ダイシングブレードを進行させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 9,
In the step (d), the dicing blade is advanced along a dicing line between the packages.
請求項9に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードの前記第2部分は、平面視において、ダイシングラインと重なる位置にあることを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 9,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the second portion of the lead is in a position overlapping a dicing line in a plan view.
請求項11に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードフレームの前記ダイシングラインの直交箇所に対応した部分には貫通孔が設けられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 11, comprising:
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein a through hole is provided in a portion of the lead frame corresponding to an orthogonal portion of the dicing line.
請求項11に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記リードの前記第2部分には第1凹部が設けられており、前記リードフレームの前記ダイシングラインの直交箇所に対応した部分には第2凹部が設けられており、前記第2凹部の凹み深さは、前記第1凹部の凹み深さよりも深いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 11, comprising:
A first recess is provided in the second portion of the lead, and a second recess is provided in a portion of the lead frame corresponding to an orthogonal position of the dicing line. The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the depth is deeper than the depth of the first recess.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015159324A (en) * 2015-04-30 2015-09-03 大日本印刷株式会社 Lead frame for led with reflector, and manufacturing method of semiconductor apparatus employing the same

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