JP2010171304A - Production method of component built-in substrate - Google Patents

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晃 橋本
Tomoe Sasaki
智江 佐々木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a component built-in substrate capable of forming an electrolytic capacitor part and a wiring pattern on an aluminum formation foil sheet, separately and independently, without deteriorating the electric characteristics of the capacitor. <P>SOLUTION: A separation-division groove 3 is formed on one surface of the aluminum formation foil by dry machining such as a laser apparatus and a metallic mold before forming the solid electrolytic capacitor 22 on the aluminum formation foil sheet, the solid electrolytic capacitor 22 is formed after forming a protective insulation material 4 on the same surface as a reinforcement material thereof, and the aluminum formation foil is ground from the back surface until the bottom of the groove 3 is exposed, and the solid electrolytic capacitor 22 and the wiring pattern 21 are formed on the aluminum foil sheet by electrically separating them in an independent manner. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、プリント回路基板の任意の場所にコンデンサを内蔵したものであって、部品内蔵基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a component-embedded board in which a capacitor is built in an arbitrary place of a printed circuit board.

近年、電子機器に用いられるLSIは高速化・低電圧化が進んでいる。LSIが高速動作すると電源電圧の変動が起きやすくなり、配線の抵抗や寄生インダクタンス等の影響で電圧降下が生じ、半導体が誤動作しやすくなる。そのため、一般的にLSIの電源とグランド間には安定した電源の供給と半導体からの高周波ノイズの除去を目的とし、コンデンサが接続されている。   In recent years, LSIs used in electronic devices have been increased in speed and voltage. When the LSI operates at high speed, the power supply voltage is likely to fluctuate, voltage drop occurs due to the influence of wiring resistance, parasitic inductance, etc., and the semiconductor is likely to malfunction. Therefore, a capacitor is generally connected between the LSI power supply and the ground for the purpose of supplying a stable power supply and removing high-frequency noise from the semiconductor.

また、電子機器の多機能化により、LSIにおいては複数の電源を必要とするものが増加している。例えば、ディジタル回路とアナログ回路とが混載されるようになっている。このようなLSIは、ディジタル回路用電源とアナログ回路用電源を分離し、回路ごとに複数の電源を外部から供給することによって、アナログ回路がディジタル回路から受けるノイズの影響を低減している。このようなLSIの変化に伴い、LSIを実装する回路基板の設計も電源層を電圧の異なる複数の電源に分離されたレイアウトが行われている。そのため、プリント回路基板の電源およびグランド層も配線層と同様に複雑な形状が形成できることが求められている。   In addition, with the increasing number of functions of electronic devices, LSIs that require a plurality of power supplies are increasing. For example, a digital circuit and an analog circuit are mixedly mounted. In such an LSI, a digital circuit power supply and an analog circuit power supply are separated, and a plurality of power supplies are supplied from the outside for each circuit, thereby reducing the influence of noise that the analog circuit receives from the digital circuit. Along with such a change in LSI, a circuit board on which an LSI is mounted is designed such that a power supply layer is separated into a plurality of power supplies having different voltages. Therefore, it is required that the power source and ground layer of the printed circuit board can be formed in a complicated shape like the wiring layer.

このような背景から、現在では電子機器の軽薄短小化の要求に伴い、プリント回路基板にコンデンサを内蔵した構造のものも開発されている(特許文献1参照)。この特許では、アルミニウム等の金属板からなるコア基材をドリル等を用いて加工し、アルミ板が陽極となり、アルミ板表面に形成された表面酸化物(アルミナ)を誘電体とし、陰極となる導体層との間にコンデンサを形成・内蔵する印刷配線板の提案がなされている。しかし、前記提案において、上述した導体層とアルミ板の間にコンデンサを形成する方法では、陽極となるアルミ板を分割できないためアルミ板全体が同じ電位となる。そのため、一つの電源とGND間のみにしかコンデンサを形成できず、複数の電源を有するLSIに対応できないという課題があり、アルミ板をフォトリソ工程でウエットエッチングにより、コンデンサ部を電気的に分割する方法も検討されている。ここで従来工法としてアルミ板として、高容量を得ることが可能なアルミ化成箔を使用した固体電解コンデンサのフォトリソ工程の課題点について、図8を用いて説明する。図8の(a)〜(e)は片面にアルミ化成箔をフォトレジスト材料を用いたウエットプロセスであるフォトエッチング工程の断面図である。アルミ化成箔は、アルミ金属箔に電気化学的に粗面化し、表面積を数百倍以上にし、その表面に誘電体となるアルミ酸化膜を電気化学的に緻密な膜を生成したもので、図8の(a)のようにアルミ金属箔のプレート2部と多孔質部1を形成した部分に分けられる。次に図8の(b)のようにアルミ化成箔の多孔質部1上にフォトレジスト81を形成した状態である。次に図8の(c)の様に所望のコンデンサ形状と配線パターンを任意の位置に形成するために設計されフォトマスクを利用して、フォトレジスト81を露光してフォトレジストパターン82を形成する。次に、図8の(d)の様に、アルミ化成箔を市販の混酸エッチング液等を用いて、アルミ化成箔を所望のパターンにウエットエッチングする。次に図8の(e)の様にフォトレジストパターン82をDEMSOやNMP等の有機溶剤にて除去することで、所望のパターン形状に溝83の加工ができる。図8の(a)〜(e)では、アルミ化成箔からエッチングをしたが、同様にプレート2部から前記溝83と同じ位置にフォトエッチングすることで分割は可能である。但し、両面にエッチングするとアルミ化成箔のシート状からパターンニングされた部分で個片化脱落してしまうので、片面をエッチングした後には、エッチング面に個片化脱落防止用支持シートなどの個片化したものが固定できるものを貼り付ける必要がある。前記のウエットエッチング工程の課題点について述べる。図8の(b)において、フォトリソレジスト81はアルミ化成箔の多孔質部1のポーラスな層に十分に充填される必要があるが、図8の(e)の工程でフォトレジスト81を除去する必要があり、アルミ化成箔の多孔質部1に浸透したフォトレジスト81は非常に除去しにくいため、フォトレジスト81の多孔質部1に残渣となる。また、フォトレジスト81を除去しやすいアルカリ材料を添加した有機溶剤を使用するとフォトレジスト81の残渣は除去し易いがアルミ化成箔の多孔質部1の表面酸化物である薄いアルミナ誘電体にダメージを与えて、絶縁抵抗劣化などの電気特性を劣化する可能性があり、これらの問題を解決するには非常に時間と労力を要する懸念がある。
特開2004−31641号公報
Against this background, a structure in which a capacitor is built in a printed circuit board has been developed in response to the demand for light and thin electronic devices (see Patent Document 1). In this patent, a core substrate made of a metal plate such as aluminum is processed using a drill or the like, the aluminum plate serves as an anode, the surface oxide (alumina) formed on the aluminum plate surface serves as a dielectric, and serves as a cathode. There has been proposed a printed wiring board in which a capacitor is formed and built in between a conductor layer. However, in the above proposal, in the method of forming a capacitor between the conductor layer and the aluminum plate described above, the aluminum plate serving as the anode cannot be divided, so that the entire aluminum plate has the same potential. Therefore, there is a problem that a capacitor can be formed only between one power supply and GND, and cannot be applied to an LSI having a plurality of power supplies, and a method of electrically dividing a capacitor portion by wet etching an aluminum plate in a photolithography process Has also been considered. Here, the problem of the photolithography process of the solid electrolytic capacitor using the aluminum formed foil capable of obtaining a high capacity as an aluminum plate as a conventional construction method will be described with reference to FIG. FIGS. 8A to 8E are cross-sectional views of a photoetching process which is a wet process using an aluminum conversion foil on one side and a photoresist material. Aluminum conversion foil is an aluminum metal foil that is electrochemically roughened, has a surface area of several hundred times or more, and an aluminum oxide film serving as a dielectric is formed on its surface to produce an electrochemically dense film. As shown in FIG. 8 (a), it is divided into two portions of the aluminum metal foil plate and the portion where the porous portion 1 is formed. Next, as shown in FIG. 8B, a photoresist 81 is formed on the porous portion 1 of the aluminum chemical conversion foil. Next, as shown in FIG. 8C, a photoresist pattern 82 is formed by exposing the photoresist 81 using a photomask designed to form a desired capacitor shape and wiring pattern at an arbitrary position. . Next, as shown in FIG. 8D, the aluminum chemical conversion foil is wet etched into a desired pattern using a commercially available mixed acid etching solution or the like. Next, as shown in FIG. 8E, by removing the photoresist pattern 82 with an organic solvent such as DEMSO or NMP, the groove 83 can be processed into a desired pattern shape. In FIGS. 8A to 8E, etching is performed from the aluminum chemical conversion foil. However, it is possible to divide by performing photo-etching in the same position as the groove 83 from the plate 2 portion. However, if etching is performed on both sides, it will be separated and dropped at the part patterned from the sheet form of aluminum conversion foil, so after etching one side, individual pieces such as support sheets for preventing separation and separation on the etched surface It is necessary to paste something that can be fixed. The problems of the wet etching process will be described. In FIG. 8B, the photolithography resist 81 needs to be sufficiently filled in the porous layer of the porous portion 1 of the aluminum conversion foil, but the photoresist 81 is removed in the step of FIG. 8E. Since the photoresist 81 that has penetrated into the porous portion 1 of the aluminum conversion foil is very difficult to remove, it becomes a residue in the porous portion 1 of the photoresist 81. Further, when an organic solvent to which an alkaline material that can easily remove the photoresist 81 is used is used, the residue of the photoresist 81 can be easily removed, but the thin alumina dielectric that is the surface oxide of the porous portion 1 of the aluminum conversion foil is damaged. There is a possibility that electrical characteristics such as deterioration of insulation resistance may be deteriorated, and there is a concern that it takes a very long time and effort to solve these problems.
JP 2004-31641 A

しかしながら、前記アルミ板のコンデンサ部の電気的独立分割する方法として、ウエットエッチングプロセスを用いてパターンニングした場合、前記プロセスに使用される溶液によって、コンデンサの電気特性に影響するアルミ板の表面に形成された酸化アルミニウム膜に悪影響する懸念があり、コンデンサ特性の劣化を防ぐにはコンデンサ部分に当たるアルミ化成箔の多孔質部を保護する工程が必要になる等の課題が生じる。   However, as a method for electrically independent division of the capacitor portion of the aluminum plate, when patterning is performed using a wet etching process, it is formed on the surface of the aluminum plate that affects the electrical characteristics of the capacitor by the solution used in the process. There is a concern that the formed aluminum oxide film may be adversely affected, and problems such as the need for a step of protecting the porous portion of the aluminum formed foil that hits the capacitor portion arises in order to prevent deterioration of the capacitor characteristics.

本発明は、このような課題のもとで考え出されたものであって、アルミ化成箔を所望の任意の場所・形状にコンデンサと配線パターンに分割する手段として、コンデンサの形成前後でコンデンサ部に特性劣化の可能性のある溶液を使ったプロセスを使用しない切断プロセス及びアルミ化成箔を分離分割した時に分割されたものが個片脱落しないようにプロセスの最初から最後までシート状で搬送できる状態で製造できるプロセスを両立させることでアルミ化成箔を用いたコンデンサおよび配線パターンを所望のサイズで任意の場所に形成できると同時に電気的に良好な特性を有するコンデンサを内蔵した部品内蔵基板を形成することを目的としている。   The present invention has been conceived under such a problem, and as a means for dividing the aluminum formed foil into a capacitor and a wiring pattern in a desired arbitrary location and shape, the capacitor portion before and after the formation of the capacitor. A cutting process that does not use a process that uses a solution that may deteriorate characteristics, and a state in which it can be conveyed in the form of a sheet from the beginning to the end of the process so that the separated pieces do not fall off when the aluminum conversion foil is separated and divided By combining the processes that can be manufactured in the process, capacitors and wiring patterns using aluminum foil can be formed in any location at a desired size, and at the same time, a component-embedded board with a built-in capacitor having good electrical characteristics is formed. The purpose is that.

上記目的を達成するために、本発明は、アルミ化成箔をレーザーや金型等の乾式加工設備を用いて所望のコンデンサ用分割パターンを完全に切断せずに予め溝加工することで、シート状態でハンドリングできるようにし、アルミ化成箔の溝加工した面に所望のコンデンサを形成する部分と配線パターンの電気的取出し部分を除く部分と溝部分に保護用絶縁樹脂材料を充填し、溝部に充填された保護用絶縁樹脂材料はアルミ化成箔シートの分割脱落防止の為に補強となり、アルミ化成箔の溝加工面とは逆面をバフ研磨機等の装置で徐々に削り、前記乾式加工設備による加工溝に充填した樹脂が露出して、アルミ化成箔の分割した部分同士が電気的に分離するまで削る。   In order to achieve the above object, the present invention provides a sheet state by pre-grooving a formed aluminum foil without completely cutting a desired capacitor division pattern using a dry processing facility such as a laser or a mold. Fill the groove part with protective insulating resin material in the part and groove part except the part where the desired capacitor is formed and the electrical extraction part of the wiring pattern on the grooved surface of the aluminum conversion foil. The protective insulating resin material is reinforced to prevent the aluminum conversion foil sheet from falling off, and the surface opposite to the groove processing surface of the aluminum conversion foil is gradually scraped with a device such as a buffing machine, and processed by the dry processing equipment. The resin filled in the groove is exposed and scraped until the divided portions of the aluminum formed foil are electrically separated.

以上のように、本発明の部品内蔵基板は、アルミニウム箔を乾式の溝加工とバフ研磨により、片面ずつ分割加工することで、ウエットエッチング工程等のアルミ化成箔のコンデンサ特性を劣化させる溶液を使用せずに、また、電気的分割されたコンデンサや配線パターンを任意の位置・形状に形成でき、また良好な特性をもつコンデンサを内蔵したプリント回路基板が容易に製造できるという効果を得るものである。   As described above, the component-embedded substrate of the present invention uses a solution that degrades the capacitor characteristics of the aluminum formed foil in the wet etching process, etc., by dividing the aluminum foil one side at a time by dry grooving and buffing. In addition, an electrically divided capacitor and a wiring pattern can be formed at an arbitrary position and shape, and a printed circuit board with a built-in capacitor having good characteristics can be easily manufactured. .

(実施の形態1)
以下、実施の形態1を用いて、本発明の特に請求項1、7、8に記載の発明について図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the first aspect of the present invention will be described with reference to the drawings, particularly according to the first, seventh and eighth aspects of the present invention.

図1は、本実施の形態1におけるアルミ化成箔シートを用いてのコンデンサ部と配線部を分離形成したコンデンサ内蔵シートの製造工程である。   FIG. 1 shows a manufacturing process of a capacitor built-in sheet in which a capacitor portion and a wiring portion are separately formed using the aluminum formed foil sheet according to the first embodiment.

図1の(a)においてアルミ化成箔は多孔質部1とプレート部2により構成される。前記アルミ化成箔の構成は、前記プレート部2の両側が多孔質部1のものでも良い。前記アルミ化成箔の多孔質部1は、アルミニウム板(一般的な厚みは40μm以上150μm以内のもの)を電気化学的にエッチングすることで、アルミニウム表面の表面積が数百倍程度まで増加する粗化部を形成する。また、アルミ化成箔は更に電気化学的にアルミニウム表面に誘電体となる緻密な酸化膜層を形成する。前記アルミ化成箔の多孔質部1のコンデンサ部になる部分のプレート部2を陽極として、アルミニウムとその表面の誘電体となる緻密な酸化膜と後述する図1の(d)の導電性高分子材料5を陰極部として高容量且つ良好な電気特性を持つコンデンサが形成される。   In FIG. 1A, the aluminum chemical conversion foil is composed of a porous portion 1 and a plate portion 2. The configuration of the aluminum chemical conversion foil may be that of the porous portion 1 on both sides of the plate portion 2. The porous portion 1 of the aluminum chemical conversion foil is roughened by electrochemically etching an aluminum plate (having a general thickness of 40 μm or more and 150 μm or less) to increase the surface area of the aluminum surface to several hundred times. Forming part. Further, the aluminum chemical conversion foil further electrochemically forms a dense oxide film layer serving as a dielectric on the aluminum surface. With the plate portion 2 of the porous portion 1 of the aluminum formed foil as the capacitor portion as an anode, aluminum and a dense oxide film serving as a dielectric on the surface, and a conductive polymer shown in FIG. Using the material 5 as a cathode portion, a capacitor having a high capacity and good electrical characteristics is formed.

次に図1の(b)において、アルミ化成箔の多孔質部1の面から、所望のコンデンサパターン及び配線パターンを形成できるように分割部に溝3を形成する。前記溝3の深さは、アルミ化成箔の多孔質部1の総厚みとプレート部2の厚みの一部を残した部分までとする。アルミ化成箔は溝3を加工する方法として、前記アルミ化成箔の多孔質部1に形成される誘電体膜に欠損や変形等の機械的なダメージや表面の汚れや変質させる化学的なダメージを与えないことが重要である。また、加工時に使用する水溶性防錆用材料等の残渣により悪影響のないようにする必要がある。そこで、アルミ化成箔を加工する工法として、レーザー加工と金型加工の様な乾式の加工方法で行うことが望ましい。また、ビットを回転しながら、溝加工が可能な研削機や円盤状の砥石を回転させて研磨しながら溝加工できるダイシング装置等に使用される冷却洗浄水は純水であることが望ましい。また、フォトレジストを用いたアルミ材料の混酸によるエッチングも可能であるが、エッチング液やフォトレジスト材料除去材料等でコンデンサ部であるアルミ化成箔の多孔質部1に形成された誘電体膜のダメージを回避する材料選定に多大な時間がかかる懸念がある。   Next, in FIG. 1B, a groove 3 is formed in the divided portion so that a desired capacitor pattern and wiring pattern can be formed from the surface of the porous portion 1 of the aluminum chemical conversion foil. The depth of the groove 3 is set to a portion where the total thickness of the porous portion 1 of the aluminum chemical conversion foil and a part of the thickness of the plate portion 2 are left. As a method of processing the groove 3 in the aluminum chemical conversion foil, the dielectric film formed on the porous portion 1 of the aluminum chemical conversion foil is subjected to mechanical damage such as deficiency or deformation, or chemical damage to the surface or chemical deterioration. It is important not to give. In addition, it is necessary to prevent adverse effects from residues such as water-soluble rust preventive materials used during processing. Therefore, it is desirable to use a dry processing method such as laser processing and die processing as a method of processing the aluminum chemical conversion foil. Moreover, it is desirable that the cooling cleaning water used in a grinding machine capable of grooving while rotating the bit or a dicing apparatus capable of grooving while rotating by rotating a disk-shaped grindstone is pure water. Etching with a mixed acid of an aluminum material using a photoresist is also possible, but damage to the dielectric film formed on the porous portion 1 of the aluminum conversion foil as a capacitor portion by an etching solution or a material for removing the photoresist material is possible. There is a concern that it takes a lot of time to select a material that avoids the problem.

ここで、アルミ化成箔の溝3の加工方法として、レーザー装置について述べる。YAGレーザーを使用する場合、Qスイッチ式のパルス波で、周波数は低めで、1パルスの出力を上げて、溝深さに対して、2回以上の複数回で同一部分に照射することにより、溝深さは調整しやすくなる。特に、マーカー用YAGレーザーや彫刻用YAGレーザー使用のものが、良好な溝形状を得ることが出来る。エキシマレーザーにおいては、RIMと呼ばれるレーザー溝周辺に発生するレーザー除去物の体積盛り上り部が見られずに非常に綺麗な溝加工が可能であるが、加工時間が大きい。また、炭酸ガスレーザー装置では、アルミニウムの吸収効率がYAGレーザーに比べ低い。   Here, a laser apparatus will be described as a method for processing the groove 3 of the aluminum chemical conversion foil. When using a YAG laser, the pulse is a Q-switch type pulse wave, the frequency is low, the output of one pulse is increased, and the same part is irradiated two or more times with respect to the groove depth, The groove depth can be easily adjusted. In particular, those using a marker YAG laser or an engraving YAG laser can obtain a good groove shape. In an excimer laser, a very clean groove processing is possible without seeing a volume rising portion of a laser removal product generated around a laser groove called RIM, but the processing time is long. In the carbon dioxide laser device, the absorption efficiency of aluminum is lower than that of the YAG laser.

また、アルミ化成箔の溝3の加工方法として、金型を使用する方法について説明する。金型に使用する刃の角度は、鋭利な方がテーパーの少ない溝が形成できるが、アルミ化成箔の表面は酸化アルミの硬質膜であり、刃こぼれしやすく、刃の選定では、刃の材質及び刃の角度は刃こぼれのしにくい角度に調整する必要がある。   Moreover, the method of using a metal mold | die as a processing method of the groove | channel 3 of aluminum conversion foil is demonstrated. The sharp angle of the blade used in the mold can form a groove with less taper, but the surface of the aluminum conversion foil is a hard film of aluminum oxide, and the blade is easy to spill. It is necessary to adjust the angle of the blade to an angle at which the blade does not easily spill.

前記アルミ化成箔のプレート部2の溝部を除く厚みは、後工程の取り扱いで、アルミ化成箔の溝部3で分割個片化して脱落しない程度の厚みである。アルミ化成箔の多孔質部1の厚みは一般的に10μm以上50μm以下である。プレート部2は10μm以上で50μm以下である。コンデンサのESR等の電気特性により、プレート部2の溝3の深さの割合は、10μm以上が望ましい。   The thickness excluding the groove portion of the plate portion 2 of the aluminum chemical conversion foil is such that it is divided into pieces at the groove portion 3 of the aluminum chemical conversion foil and does not fall off during handling in a later step. The thickness of the porous portion 1 of the aluminum chemical conversion foil is generally 10 μm or more and 50 μm or less. The plate part 2 is 10 μm or more and 50 μm or less. The ratio of the depth of the groove 3 of the plate portion 2 is desirably 10 μm or more depending on the electrical characteristics such as ESR of the capacitor.

次に図1の(c)において、前記溝加工したアルミ化成箔の溝3及びコンデンサ形成部以外に保護用絶縁材料4を形成する。保護用絶縁材料は、ペースト化したものをスクリーン印刷機やディスペンサやインクジェット等のウエットプロセスを用いる。本発明では、スクリーン印刷法にて、保護用絶縁材料4を形成した。尚、スクリーン印刷をした保護用絶縁材料4はアルミ化成箔の多孔質部1の微小な孔から浸透して、誘電体表面を全てコーティングして、多孔質部1に空洞がないことが望ましい。スクリーン印刷用ペースト粘度は、ペーストの浸透性を上げる為に、一般的に使用されるものに比べて低粘度である120Pa・s(B型粘度計10rpm)以下で、アルミ化成箔の多孔質部1のビア窓印刷時のペーストにじみ幅が50μm以上にならない程度の範囲が望ましい。また、スクリーンメッシュはコンデンサの任意形状のサイズやパターン精度により、120メッシュ以上400メッシュ以下のものを用いるが、高メッシュになるとペーストの印刷量が少なくなるために多数回繰り返し印刷する必要がある。   Next, in FIG. 1C, a protective insulating material 4 is formed in addition to the groove 3 and the capacitor forming portion of the grooved aluminum formed foil. As the protective insulating material, a wet process such as a screen printer, a dispenser, or an ink jet is used after the paste is formed. In the present invention, the protective insulating material 4 is formed by screen printing. In addition, it is desirable that the protective insulating material 4 subjected to the screen printing penetrates from the minute holes of the porous portion 1 of the aluminum conversion foil and coats the entire dielectric surface so that the porous portion 1 does not have a cavity. The viscosity of the paste for screen printing is 120 Pa · s (B-type viscometer 10 rpm), which is lower than that generally used to increase the permeability of the paste, and the porous portion of the aluminum formed foil A range in which the spread width of paste at the time of printing one via window does not exceed 50 μm is desirable. Further, a screen mesh having a size of 120 to 400 mesh is used depending on the size and pattern accuracy of an arbitrary shape of the capacitor. However, when the mesh becomes high, the printing amount of the paste is reduced, so that it is necessary to repeatedly print a large number of times.

図1の(d)において、アルミ化成箔の多孔質部1上に、次にアルミ化成箔のコンデンサ形成部に導電性高分子材料5を形成する。   In FIG. 1 (d), a conductive polymer material 5 is formed on the porous portion 1 of the aluminum chemical conversion foil and then on the capacitor forming portion of the aluminum chemical conversion foil.

アルミ化成箔に形成する固体電解コンデンサは、アルミ化成箔のアルミニウム部分が陽極とし、アルミニウムの酸化皮膜からなる誘電体膜を介して、その表面に導電性高分子材料5からなる固体電解質層を陰極として形成している。この固体電解質層はポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等の機能性高分子層を化学重合や電解重合によって形成したり、硝酸マンガン溶液を含浸させて熱分解したりすることによって二酸化マンガン層を形成することで得ることができる。   The solid electrolytic capacitor formed on the aluminum chemical conversion foil has the aluminum portion of the aluminum chemical conversion foil as an anode, and a solid electrolyte layer made of the conductive polymer material 5 on the surface thereof through a dielectric film made of an aluminum oxide film. It is formed as. This solid electrolyte layer is formed by forming a functional polymer layer such as polypyrrole, polythiophene, or polyaniline by chemical polymerization or electrolytic polymerization, or by impregnating a manganese nitrate solution and thermally decomposing it to form a manganese dioxide layer. Obtainable.

また、図1の(e)において、固体電解質層となる導電性高分子5上に陰極の電気的取り出し部として、カーボンペースト6をスクリーン印刷やディスペンサやインクジェット等の塗布機にて、前記導電性高分子材料5を覆うように形成する。   Further, in FIG. 1 (e), carbon paste 6 is applied to the conductive polymer 5 serving as a solid electrolyte layer as an electrical extraction part of a cathode by a coating machine such as screen printing, a dispenser or an inkjet. The polymer material 5 is formed so as to cover it.

更に図1の(f)において、Agペースト等の導電ペースト7をカーボンペースト6をスクリーン印刷やディスペンサやインクジェット等の塗布機にて、形成する。この構造により、コンデンサ部からの電極取り出しを容易にしている。   Further, in FIG. 1 (f), a conductive paste 7 such as an Ag paste is formed by using a carbon paste 6 by screen coating, a dispenser, an ink jet or other coating machine. This structure facilitates the extraction of the electrode from the capacitor portion.

次に、図1の(g)において、前記アルミ化成箔の溝3の加工面の裏面から、表面を徐々に除去して、溝3に充填された保護用絶縁層の溝3底部までアルミ化成箔の表面を取り除き、前記アルミ化成箔の所望のコンデンサ部や配線パターンに分離分割して、電気的絶縁性を確保する。前記アルミ化成箔の表面層を除去する方法として、ロール式バフ研磨装置、ロータリー研磨や平行研磨機等の機械的研磨及びアルミ化成箔の混酸エッチング液による化学エッチングも可能である。しかし、ロータリー式バフ研磨機は、混酸溶液を用いた化学エッチングより、使用する研磨粉洗浄液として純水が使用できること及び、ワークサイズ500mm□程度の研磨実験では、4軸式ロータリー式バフ研磨機を用いることで、研磨粗さ200#〜300#と300〜400#等の2本のバフ研磨ローラー軸を使用すれば、化学エッチングよりも2〜5倍程度の高速で研磨することで有利である。特にアルミ化成箔に形成したコンデンサ部の電気特性に影響する伸びや変形等の機械的な負荷を与えないことが望ましい。   Next, in FIG. 1 (g), the surface is gradually removed from the rear surface of the processed surface of the groove 3 of the aluminum conversion foil, and the aluminum conversion is performed up to the bottom of the groove 3 of the protective insulating layer filled in the groove 3. The surface of the foil is removed and divided into desired capacitor portions and wiring patterns of the aluminum chemical conversion foil to ensure electrical insulation. As a method for removing the surface layer of the aluminum conversion foil, mechanical polishing such as a roll-type buff polishing apparatus, rotary polishing or a parallel polishing machine, and chemical etching of the aluminum conversion foil with a mixed acid etching solution are also possible. However, in the rotary buffing machine, pure water can be used as a polishing powder cleaning liquid to be used rather than chemical etching using a mixed acid solution, and in a polishing experiment with a workpiece size of about 500 mm □, a 4-axis rotary buffing machine is used. By using two buffing roller shafts such as polishing roughness 200 # to 300 # and 300 to 400 #, it is advantageous to polish at a high speed about 2 to 5 times that of chemical etching. . In particular, it is desirable not to apply a mechanical load such as elongation or deformation that affects the electrical characteristics of the capacitor portion formed on the aluminum conversion foil.

次に図1の(h)において、前記アルミ化成箔のプレート部2の表面を除去した面のアルミ化プレート部2の露出部に電気的取り出し用接続部との接続を容易にするために、アルミニウムと電気的接続性の良好なニッケルめっきや導電性材料をペースト化したものをスクリーン印刷、ディスペンサーやインクジェット装置により金属膜8を形成する。また、低温で形成できる金属ナノ粒子を含有する導電性ペーストを使用しても良い。また、アルミニウムの電気的接続性の良好な銅と亜鉛などで構成される合金を溶射によって形成しても良い。   Next, in FIG. 1 (h), in order to facilitate connection of the exposed portion of the aluminized plate portion 2 to the exposed portion of the aluminized plate portion 2 from which the surface of the plate portion 2 of the aluminum formed foil is removed, A metal film 8 is formed by screen printing, a dispenser or an ink jet apparatus using a paste of nickel plating or conductive material having good electrical connection with aluminum. Moreover, you may use the electrically conductive paste containing the metal nanoparticle which can be formed at low temperature. Alternatively, an alloy made of copper, zinc, or the like having good electrical connectivity of aluminum may be formed by thermal spraying.

次に図1の(i)において、金属膜8上に金めっき等の腐蝕防止材料により別の金属膜9を形成する。金属膜8が変質等の問題がない場合は、金属膜9は不要である。   Next, in FIG. 1I, another metal film 9 is formed on the metal film 8 by a corrosion preventing material such as gold plating. When the metal film 8 has no problem such as alteration, the metal film 9 is unnecessary.

以上の工程により、アルミ化成箔により、所望のコンデンサ及び配線パターンを分離分割したシート状のものを形成できる。   Through the above steps, a sheet-like product in which desired capacitors and wiring patterns are separated and divided can be formed by the aluminum chemical conversion foil.

本発明において、図2を用いて、前記アルミ化成箔を用いた固体電解コンデンサ内蔵シートの構造及び使用される材料について説明する。前記アルミ化成箔は、アルミ金属箔の表面を片面または両面に酸などによって電気化学的エッチングすることによって多孔質部を形成することができる。前記アルミ化成箔は、アルミ金属箔の表面の多孔質部1を形成した多孔質部1とエッチングされていないプレート部2を有するものである。アルミ化成箔には、薄いアルミ酸化物の層を形成し、更に多孔質部を形成することによって、固体電解コンデンサとして機能する面積を拡大し、大きな静電容量が得られる。   In the present invention, the structure of the solid electrolytic capacitor built-in sheet using the aluminum chemical conversion foil and the materials used will be described with reference to FIG. The aluminum chemical conversion foil can form a porous portion by electrochemically etching the surface of the aluminum metal foil on one or both sides with acid or the like. The aluminum chemical conversion foil has a porous portion 1 that forms a porous portion 1 on the surface of an aluminum metal foil and a plate portion 2 that is not etched. By forming a thin aluminum oxide layer on the aluminum chemical conversion foil and further forming a porous portion, the area that functions as a solid electrolytic capacitor is expanded, and a large capacitance can be obtained.

前記アルミ化成箔の溝3により、図2の配線パターン21と固体電解コンデンサ22の様に所望の構成で形成できる。   By the groove 3 of the aluminum chemical conversion foil, it can be formed in a desired configuration like the wiring pattern 21 and the solid electrolytic capacitor 22 of FIG.

次に保護用絶縁層4は、樹脂絶縁材料または無機絶縁材料を用いる。樹脂絶縁材料はエポキシ樹脂やフェノール樹脂、ポリイミド樹脂を用いる。無機絶縁材料では、アルミ化成箔の耐熱性から酸化雰囲気では、約600℃以下のピーク温度で、窒素雰囲気焼成では800℃以下のピーク温度で焼成できる材料が用いられる。   Next, the protective insulating layer 4 uses a resin insulating material or an inorganic insulating material. As the resin insulating material, epoxy resin, phenol resin, or polyimide resin is used. As the inorganic insulating material, a material that can be fired at a peak temperature of about 600 ° C. or lower in an oxidizing atmosphere and at a peak temperature of 800 ° C. or lower in nitrogen atmosphere firing is used because of the heat resistance of the aluminum conversion foil.

保護用絶縁層4として、樹脂絶縁材料において、フィラと絶縁性樹脂の混合物を用いた場合、フィラ及び絶縁性樹脂を選択することによって、保護用絶縁層4の弾性率、熱膨張係数、熱伝導度、誘電率などを容易に制御することができる。たとえばフィラとしてアルミナ、マグネシア、窒化ホウ素、窒化アルミ、窒化珪素、ポリテトラフルオロエチレン及び、シリカなどを用いることができる、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミを用いることにより、従来のガラス−エポキシ基板より熱伝導度の高い基板が製作可能となり、複合配線基板の放熱特性を向上させることができる。また、アルミナはコストが安いという利点もある。シリカを用いた場合、誘電率が低い保護用絶縁層4が得られ、比重も軽いため、携帯電話などの高周波用途として好ましい。窒化珪素やポリテトラフルオロエチレン、例えば“テフロン(登録商標)”(デュポン社)を用いても誘電率の低い電気絶縁層を形成できる。また、窒化ホウ素を用いることにより熱膨張係数を低減できる。弾性率は、フィラ含有量により調整することができ、これにより、回路基板の反りを制御することができる。   When a mixture of filler and insulating resin is used as the protective insulating layer 4 in the resin insulating material, by selecting the filler and the insulating resin, the elastic modulus, thermal expansion coefficient, thermal conductivity of the protective insulating layer 4 are selected. The degree, dielectric constant, etc. can be easily controlled. For example, alumina, magnesia, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, polytetrafluoroethylene, silica, etc. can be used as the filler. By using alumina, boron nitride, aluminum nitride, heat is increased from the conventional glass-epoxy substrate. A substrate with high conductivity can be manufactured, and the heat dissipation characteristics of the composite wiring substrate can be improved. Alumina also has the advantage of low cost. When silica is used, the protective insulating layer 4 having a low dielectric constant can be obtained, and the specific gravity is light. Therefore, it is preferable for high frequency applications such as cellular phones. Even if silicon nitride or polytetrafluoroethylene, for example, “Teflon (registered trademark)” (DuPont) is used, an electrically insulating layer having a low dielectric constant can be formed. Moreover, the thermal expansion coefficient can be reduced by using boron nitride. The elastic modulus can be adjusted by the filler content, whereby the warp of the circuit board can be controlled.

保護用絶縁材料4はさらに、分散剤、カップリング剤を含んでいてもよい。分散剤によって、絶縁性樹脂中のフィラを均一性よく分散させることができる。カップリング剤によって、絶縁性樹脂とフィラとの接着強度を高くすることができるため、電気絶縁性基材の絶縁性を向上できる。   The protective insulating material 4 may further contain a dispersant and a coupling agent. The filler in the insulating resin can be dispersed with good uniformity by the dispersant. Since the coupling agent can increase the adhesive strength between the insulating resin and the filler, the insulating property of the electrically insulating substrate can be improved.

また、保護用絶縁層4の厚みを制御することによって固体アルミ電解コンデンサ22の形状を安定・制御させることができる。固体電解コンデンサ22を厚み精度よく形成することで、基板に内蔵しやすくなる。   Further, the shape of the solid aluminum electrolytic capacitor 22 can be stabilized and controlled by controlling the thickness of the protective insulating layer 4. By forming the solid electrolytic capacitor 22 with high thickness accuracy, it is easy to incorporate it in the substrate.

次にアルミ化成箔の固体電解コンデンサ22を形成するために導電性高分子5について説明する。アルミ化成箔に形成する固体電解コンデンサ22は、アルミ化成箔のアルミニウム部分が陽極とし、アルミニウムの酸化皮膜からなる誘電体膜を介して、その表面に導電性高分子5からなる固体電解質層を陰極として形成している。この固体電解質層はポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等の機能性高分子層を化学重合や電解重合によって形成したり、硝酸マンガン溶液を含浸させて熱分解したりすることによって二酸化マンガン層を形成することで得ることができる。高い誘電率を持つので固体電解コンデンサ22として有利である。また、固体電解質層となる導電性高分子5上に陰極の電気的取り出し部として、カーボンペースト6を形成して、Agペースト等の導電ペースト7を形成する。この構造により、コンデンサからの電極取り出しを容易にしている。また、固体電解コンデンサ22の陽極部分の電気的取り出し部として、金属膜8は、アルミニウムと接続性の良好なニッケルめっきなどのめっきやアルミ電極接続用の導電性ペーストを用いる。また、金属膜8にニッケルめっきなどの大気中で酸化し易く電気的取出しが困難なものは、金めっき等で金属膜9を形成すると、コンデンサの電気的特性が安定する。   Next, the conductive polymer 5 will be described in order to form the aluminum electrolytic foil solid electrolytic capacitor 22. The solid electrolytic capacitor 22 formed on the aluminum chemical conversion foil has an aluminum portion of the aluminum chemical conversion foil as an anode and a solid electrolyte layer made of the conductive polymer 5 on the surface of the aluminum electrolytic foil through a dielectric film made of an aluminum oxide film. It is formed as. This solid electrolyte layer is formed by forming a functional polymer layer such as polypyrrole, polythiophene, or polyaniline by chemical polymerization or electrolytic polymerization, or by impregnating a manganese nitrate solution and thermally decomposing it to form a manganese dioxide layer. Obtainable. Since it has a high dielectric constant, it is advantageous as the solid electrolytic capacitor 22. Further, a carbon paste 6 is formed on the conductive polymer 5 serving as a solid electrolyte layer as an electrical extraction part of the cathode, and a conductive paste 7 such as an Ag paste is formed. This structure facilitates the extraction of the electrode from the capacitor. Further, as the electrical extraction part of the anode part of the solid electrolytic capacitor 22, the metal film 8 uses a plating such as nickel plating having good connectivity with aluminum or a conductive paste for connecting an aluminum electrode. In addition, when the metal film 9 is formed by gold plating or the like, the electrical characteristics of the capacitor are stabilized when the metal film 8 is easily oxidized in the atmosphere such as nickel plating and difficult to be electrically extracted.

以上のようにアルミ化成箔シートの所望の形状の独立した固体電解コンデンサ22や配線パターン21を形成する工法として、ウエットエッチング工程を使用しない機械的な加工工法を用いることで、アルミ化成箔シート上に良好な電気特性を有する固体電解コンデンサ22と配線パターン21を内蔵したシートを容易に形成できる。また、前記分離独立したコンデンサ内蔵シートを多連コンデンサ部品として使用できるとともに、本発明のプリント回路基板に内蔵することが可能となる。又本実施の形態はアルミ化成箔について述べたが、タンタル箔を用いたタンタルコンデンサについても同様な方法により同様な効果を得ることができる。   As described above, by using a mechanical processing method that does not use a wet etching process as a method for forming the independent solid electrolytic capacitor 22 or the wiring pattern 21 having the desired shape of the aluminum chemical conversion foil sheet, In addition, a sheet incorporating the solid electrolytic capacitor 22 and the wiring pattern 21 having excellent electrical characteristics can be easily formed. Further, the separate and built-in capacitor built-in sheet can be used as a multiple capacitor component and can be built into the printed circuit board of the present invention. Moreover, although this Embodiment described aluminum conversion foil, the same effect can be acquired by the same method also about the tantalum capacitor using a tantalum foil.

(実施の形態2)
以下、実施の形態2を用いて、本発明の特に請求項2に記載の発明について図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態1の説明図である図1の符号は同じである。
(Embodiment 2)
Hereinafter, the second aspect of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the code | symbol of FIG. 1 which is explanatory drawing of Embodiment 1 is the same.

図3は、本実施の形態1におけるアルミ化成箔の状態であり、両面酸エッチングにより、プレート部2の両面に多孔質部1を形成したものである。アルミ化成箔の溝3の深さは、後工程のハンドリング時に分割個片化して、脱落しない厚み分のプレート部2の厚みは、溝3とは逆面の多孔質部1に補強されている為に深くできるために、後工程の裏面からの表面除去工程で除去後のアルミ化成箔のプレート部2の厚みを厚くでき、アルミ化成箔の固体電解コンデンサの形成後の電気特性であるESRを下げる効果がある。以上の発明により、請求項1のコンデンサ内蔵シートの電気特性を容易に向上させることが可能である。   FIG. 3 shows a state of the aluminum chemical conversion foil in the first embodiment, in which the porous portion 1 is formed on both surfaces of the plate portion 2 by double-side acid etching. The depth of the groove 3 of the aluminum chemical conversion foil is divided into pieces when handling in the subsequent process, and the thickness of the plate portion 2 that does not fall off is reinforced by the porous portion 1 opposite to the groove 3. Therefore, the thickness of the plate part 2 of the aluminum chemical conversion foil after removal can be increased in the surface removal process from the back surface in the subsequent process, and the ESR which is the electrical characteristic after the formation of the solid electrolytic capacitor of the aluminum chemical conversion foil can be obtained. There is an effect to lower. According to the above invention, the electrical characteristics of the capacitor built-in sheet according to claim 1 can be easily improved.

(実施の形態3)
以下、実施の形態3を用いて、本発明の特に請求項3に記載の発明について図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態1〜3と同一の構造については、同一番号を付与してその説明を省略する。
(Embodiment 3)
Hereinafter, the third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, about the structure same as Embodiment 1-3, the same number is provided and the description is abbreviate | omitted.

図4は、本実施の形態1におけるプリント回路基板の製造工程の断面図である。図4は、図1の製造工程の(b)に当たる部分に代わる工程であり、図4の(b)、(c)で示す。図4の(a)は、本実施の形態1と同様であり、アルミ化成箔の状態であり、少なくとも片面に両面酸エッチングにより、プレート部2の両面に多孔質部1を形成したものである。多孔質部1はコンデンサを形成する片面のみに形成したものでも良い。次に図4の(b)において、前記多孔質部1とプレート部2を備えたアルミ化成箔に予め後工程のハンドリング時の搬送負荷で次工程の溝加工後のアルミ化成箔のシート状からの分割脱落をしないようにサポートを目的として、前記アルミ化成箔の固体電解コンデンサ形成面とは逆面に耐熱性基材41を貼り付けたものである。耐熱性基材41は、後工程の熱履歴に対して、耐える材質のものを使用する。次に図4の(c)において、アルミ化成箔の溝3の深さは、前記アルミ化成箔のコンデンサ形成面の多孔質部1の厚み及びコンデンサの電気特性に必要なプレート部2の厚みを残した部分を最小溝深さとして、最大の溝深さはアルミ化成箔を分割できるまで可能である。また、後工程のハンドリングにシートの分割脱落のない範囲内で耐熱性基材41の一部まで溝加工しても良い。本実施の形態では、後工程のハンドリング時に分割個片化して、脱落しないように耐熱性基材41をアルミ化成箔に予め固定することにより、実施の形態1に示す図1の(c)工程で、保護用絶縁材料4で溝加工面から、形成することで、前記保護用絶縁材料4を前記アルミ化成箔の分割脱落防止効果を持たすことにより、耐熱性基材41は不要となり、前記アルミ化成箔から取り外すことが可能となる。この方法により、前記アルミ化成箔の溝加工時に、前記アルミ化成箔を実施の形態1、2に比べて、アルミ化成箔の厚みと同程度まで溝の深さに加工できる為、後工程の裏面からの表面除去工程で除去後のアルミ化成箔のプレート部2の厚みを厚くでき、アルミ化成箔の固体電解コンデンサの形成後の電気特性であるESRを下げる効果がある。また、前記アルミ化成箔の厚み分以上に溝加工された場合は、実施の形態1の(g)におけるコンデンサ形成面のアルミ化成箔の裏面研磨を省略することが可能である。   FIG. 4 is a cross-sectional view of the printed circuit board manufacturing process according to the first embodiment. FIG. 4 shows a step in place of the part corresponding to (b) of the manufacturing process of FIG. 1, and is shown by (b) and (c) in FIG. (A) of FIG. 4 is the same as that of Embodiment 1 and is a state of an aluminum conversion foil, in which the porous portion 1 is formed on both surfaces of the plate portion 2 by double-sided acid etching on at least one surface. . The porous portion 1 may be formed only on one side forming the capacitor. Next, in FIG. 4 (b), from the sheet form of the aluminum conversion foil after the groove processing of the next process to the aluminum conversion foil provided with the porous part 1 and the plate part 2 in advance by the transport load at the handling of the subsequent process. For the purpose of supporting so as not to divide and fall off, a heat-resistant base material 41 is pasted on the opposite side of the aluminum electrolytic foil from the surface on which the solid electrolytic capacitor is formed. The heat-resistant base material 41 is made of a material that can withstand the heat history of the subsequent process. Next, in FIG. 4C, the depth of the groove 3 of the aluminum chemical conversion foil is determined by the thickness of the porous part 1 on the capacitor forming surface of the aluminum chemical conversion foil and the thickness of the plate part 2 necessary for the electrical characteristics of the capacitor. The remaining groove is the minimum groove depth, and the maximum groove depth is possible until the aluminum formed foil can be divided. Moreover, you may groove-process to a part of heat-resistant base material 41 within the range which does not divide | omit and drop | separate of a sheet | seat for the handling of a post process. In the present embodiment, the heat-resistant base material 41 is preliminarily fixed to the aluminum conversion foil so as not to fall off during handling in the subsequent process, and the process shown in FIG. 1 (c) shown in the first embodiment. Then, by forming the protective insulating material 4 from the grooved surface, the protective insulating material 4 has an effect of preventing the aluminum formed foil from being separated and removed, so that the heat-resistant substrate 41 becomes unnecessary, and the aluminum It becomes possible to remove from the conversion foil. By this method, when the groove of the aluminum chemical conversion foil is processed, the aluminum chemical conversion foil can be processed to the depth of the groove as much as the thickness of the aluminum chemical conversion foil as compared with the first and second embodiments. Thus, the thickness of the plate portion 2 of the aluminum chemical conversion foil after the removal can be increased in the surface removal step, and there is an effect of lowering the ESR which is an electrical characteristic after the formation of the solid electrolytic capacitor of the aluminum chemical conversion foil. Further, when the groove is processed to have a thickness equal to or greater than the thickness of the aluminum chemical conversion foil, it is possible to omit the back surface polishing of the aluminum chemical conversion foil on the capacitor forming surface in (g) of the first embodiment.

(実施の形態4)
以下、実施の形態4を用いて、本発明の特に請求項4に記載の発明について図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態1〜3と同一の構造については、同一番号を付与してその説明を省略する。図5は、本実施の形態1におけるプリント回路基板の断面図である。図5の(a)、(b)は、実施の形態1の図1の(c)〜(f)の工程において、前記アルミ化成箔で形成されたコンデンサ部及び配線パターンに電気取り出し用電極を形成する方法を示す。
(Embodiment 4)
Hereinafter, the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, about the structure same as Embodiment 1-3, the same number is provided and the description is abbreviate | omitted. FIG. 5 is a cross-sectional view of the printed circuit board according to the first embodiment. 5 (a) and 5 (b) show an electrical extraction electrode on the capacitor portion and the wiring pattern formed of the aluminum chemical conversion foil in the steps (c) to (f) of FIG. 1 of the first embodiment. The method of forming is shown.

図5の(a)において、実施の形態1に示す図1の(c)の保護用樹脂材料4の形成工程時に、電気取り出し用電極を形成する部分に予めコンデンサ用取り出し口として保護材料用ビア穴51と配線パターン用取り出し口として保護材料用ビア穴52を設ける。次に、図5の(b)の様に、それぞれのビア穴に導電性接着剤53、導電性接着剤54を形成する。導電性接着剤は、導電性ペーストを使用する以外にめっきによって形成しても良い。   In FIG. 5 (a), a protective material via is previously used as a capacitor outlet in the portion where the electrode for electrical extraction is formed in the step of forming the protective resin material 4 of FIG. 1 (c) shown in the first embodiment. A protective material via hole 52 is provided as a hole 51 and a wiring pattern outlet. Next, as shown in FIG. 5B, a conductive adhesive 53 and a conductive adhesive 54 are formed in each via hole. The conductive adhesive may be formed by plating other than using a conductive paste.

(実施の形態5)
以下、実施の形態5を用いて、本発明の特に請求項5に記載の発明について図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態1〜4と同一の構造については、同一番号を付与してその説明を省略する。図6は、本実施の形態1におけるプリント回路基板の断面図である。図6の(a)、(b)は、実施の形態5の図5の(a)、(b)の工程に相当するもので、前記アルミ化成箔で形成されたコンデンサ部及び配線パターンに電気取り出し用電極を形成する方法において、予めアルミ化成箔の取り出し電極を形成する部分に穴加工して、電気的接続性を向上させたものである。
(Embodiment 5)
The fifth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, about the same structure as Embodiment 1-4, the same number is provided and the description is abbreviate | omitted. FIG. 6 is a cross-sectional view of the printed circuit board according to the first embodiment. 6 (a) and 6 (b) correspond to the steps of FIGS. 5 (a) and 5 (b) of the fifth embodiment, and the capacitor portion and the wiring pattern formed of the aluminum formed foil are electrically connected. In the method of forming the extraction electrode, holes are formed in advance in the portion of the aluminum formed foil where the extraction electrode is to be formed to improve electrical connectivity.

図6の(a)において、実施の形態1に示す図1の(b)または(c)のどちらかの工程時に、電気取り出し用電極を形成する部分に予めコンデンサ用取り出し口として配線パターン用取り出し口とに保護材料4の形成において、保護用ビア穴61、ビア穴62を形成とそれぞれの位置に穴あけ加工として、貫通孔63、64を形成する。次に、図6の(b)の様に、それぞれのビア穴に導電性接着剤65、導電性接着剤66を形成する。導電性接着剤は、導電性ペーストを使用する以外にめっきによって形成しても良い。   In FIG. 6A, in the process of either FIG. 1B or FIG. 1C shown in the first embodiment, a wiring pattern take-out is previously used as a capacitor take-out port in a portion where an electrode for electric take-out is formed. In the formation of the protective material 4 at the mouth, through holes 63 and 64 are formed by forming protective via holes 61 and via holes 62 and drilling at the respective positions. Next, as shown in FIG. 6B, a conductive adhesive 65 and a conductive adhesive 66 are formed in each via hole. The conductive adhesive may be formed by plating other than using a conductive paste.

(実施の形態6)
以下、実施の形態6を用いて、本発明の特に請求項6に記載の発明について図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態1〜5と同一の構造については、同一番号を付与してその説明を省略する。図7は、本実施の形態1におけるプリント回路基板の断面図である。図7は、実施の形態1〜5のアルミ化成箔シートに所望の分割独立した固体電解コンデンサ部22と配線パターン21及び電気的接続部を備えたシートを用いたプリント回路基板の製造方法に関するものである。
(Embodiment 6)
Hereinafter, the sixth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, about the same structure as Embodiment 1-5, the same number is provided and the description is abbreviate | omitted. FIG. 7 is a cross-sectional view of the printed circuit board according to the first embodiment. FIG. 7 relates to a method of manufacturing a printed circuit board using a sheet provided with a desired divided and independent solid electrolytic capacitor portion 22, wiring pattern 21, and electrical connection portion in the aluminum chemical conversion foil sheets of Embodiments 1 to 5. It is.

図7において回路基板は電気絶縁性基材71と、電気絶縁性基材71に形成された複数の配線パターン74からなり、少なくとも一層は多孔質部1とプレート部2からなるアルミニウム化成箔からなる配線層21と、アルミ化成箔からなる配線層21の一部に形成した固体アルミ電解コンデンサ22と、電気絶縁性基材71に形成され固体アルミ電解コンデンサ22と配線パターン21間および配線パターン76間を電気的に接続するビア73からなる。図7を用いて、本発明の製造方法を説明する。   In FIG. 7, the circuit board is composed of an electrically insulating base 71 and a plurality of wiring patterns 74 formed on the electrically insulating base 71, and at least one layer is formed of an aluminum conversion foil composed of the porous portion 1 and the plate portion 2. The wiring layer 21, the solid aluminum electrolytic capacitor 22 formed on a part of the wiring layer 21 made of an aluminum chemical conversion foil, the solid aluminum electrolytic capacitor 22 formed on the electrically insulating base 71, the wiring pattern 21, and the wiring pattern 76. Vias 73 for electrically connecting the two. The manufacturing method of this invention is demonstrated using FIG.

図7の(a)は、電気絶縁性基材71を示している。   FIG. 7A shows an electrically insulating substrate 71.

次に図7の(b)の様に、電気絶縁性基材71にレーザー、パンチング装置や金型により貫通孔72を形成する。貫通孔72の形成において、レーザー加工の光源には、炭酸ガスレーザーやYAGレーザー、エキシマレーザーが用いられる。レーザー加工では、小径の貫通穴を短時間で形成することができ、生産性に優れた加工を実現できる。また図7のビア73においてはインナービアを例に挙げているが、スルーホールによって層間接続を行ってもよい。例えば、貫通孔を形成後、金、銀、銅またはニッケルなどを用いためっきによって形成されたスルーホールでもよい。貫通孔の形成は、パンチ加工、ドリル加工を用いてもよく、ドリル加工やパンチング加工を用いる場合、汎用性のある既存の設備での形成が可能である。   Next, as shown in FIG. 7B, a through-hole 72 is formed in the electrically insulating substrate 71 using a laser, a punching device or a mold. In forming the through hole 72, a carbon dioxide laser, YAG laser, or excimer laser is used as a light source for laser processing. In laser processing, small-diameter through holes can be formed in a short time, and processing with excellent productivity can be realized. Further, in the via 73 of FIG. 7, an inner via is taken as an example, but interlayer connection may be performed by a through hole. For example, a through hole formed by plating using gold, silver, copper, nickel, or the like after the through hole is formed may be used. The through-holes may be formed by punching or drilling. When drilling or punching is used, it can be formed by existing versatile equipment.

次に図7の(c)の様に前記貫通孔72に導電性ペーストを用いてビア73、77を未硬化の状態で形成する。   Next, as shown in FIG. 7C, vias 73 and 77 are formed in the through holes 72 in an uncured state using a conductive paste.

次に図7の(d)の様に前記ビア73を形成した電気絶縁性基材71に配線層74となるCuなどの金属箔を電気絶縁性基材71の未硬化状態で仮接合ができる条件で加熱加圧工程にて仮積層する。   Next, as shown in FIG. 7 (d), a metal foil such as Cu serving as the wiring layer 74 can be temporarily bonded to the electrically insulating substrate 71 formed with the via 73 in an uncured state of the electrically insulating substrate 71. Temporary lamination is performed in a heating and pressurizing process under conditions.

次に図7の(e)の様に、実施の形態1〜5を用いて形成したアルミ化成箔シート上に所望のパターンサイズに任意の場所に形成した固体電解コンデンサ22と配線パターン21を備えたシートを準備する。   Next, as shown in FIG. 7 (e), a solid electrolytic capacitor 22 and a wiring pattern 21 formed in an arbitrary place in a desired pattern size are provided on the aluminum chemical conversion foil sheet formed using the first to fifth embodiments. Prepare the prepared sheet.

次に図7の(f)の様に図7の(d)で形成したビア73と配線層74を備えた電気絶縁性基材71と図7の(e)で準備した固体電解コンデンサ22と配線パターン21を内蔵したシートを加熱加圧工程にて積層一体化して、本硬化させることで電気的接続も行う。固体電解コンデンサ22の陰極側の電気取り出し部である導体ペースト7と電気絶縁性基材71のビア73との接続は前記本硬化時に接続を行う。また、アルミ化成箔シート側の配線パターン21の電気取り出し部である導電性接着剤54の接続も、前記本硬化時に接続を行う。   Next, as shown in FIG. 7 (f), the electrically insulating substrate 71 provided with the via 73 and the wiring layer 74 formed in FIG. 7 (d), and the solid electrolytic capacitor 22 prepared in FIG. 7 (e), Electrical connection is also made by stacking and integrating the sheet containing the wiring pattern 21 in a heating and pressurizing process and then curing the sheet. The connection between the conductor paste 7 serving as the electrical extraction portion on the cathode side of the solid electrolytic capacitor 22 and the via 73 of the electrically insulating base 71 is performed during the main curing. In addition, connection of the conductive adhesive 54 that is an electrical extraction portion of the wiring pattern 21 on the aluminum formed foil sheet side is also performed during the main curing.

次に図7の(g)において、前記一体化した固体電解コンデンサ22を内蔵するアルミ化成箔シートと電気絶縁性基材71の配線層74をフォトリソ工程にて、配線パターン76を形成する。   Next, in FIG. 7G, a wiring pattern 76 is formed by a photolithography process of the aluminum chemical conversion foil sheet containing the integrated solid electrolytic capacitor 22 and the wiring layer 74 of the electrically insulating base material 71.

次に図7の(h)において、前記固体電解コンデンサ22を内蔵したアルミ化成箔シートと電気絶縁性基材71とを一体化したものに、更に図7の(a)〜(d)までに形成したビア77と配線層74を形成した電気絶縁性基材71を片面または両面に加熱加圧工程にて積層一体化して、本硬化させることで電気的接続も行う。固体電解コンデンサ22の陽極側の電気取り出し部である金属膜9と電気絶縁性基材71のビア77との接続は前記本硬化時に接続を行う。また、アルミ化成箔シート側の配線パターン21の電気取り出し部である金属膜9の接続も、前記本硬化時に接続を行う。   Next, in FIG. 7 (h), the aluminum chemical conversion foil sheet incorporating the solid electrolytic capacitor 22 and the electrically insulating base material 71 are integrated with each other by (a) to (d) of FIG. The electrically insulative base material 71 on which the formed via 77 and the wiring layer 74 are formed is laminated and integrated on one side or both sides by a heating and pressurizing step, and is electrically cured by performing main curing. The connection between the metal film 9 serving as the electrical extraction portion on the anode side of the solid electrolytic capacitor 22 and the via 77 of the electrically insulating base 71 is performed during the main curing. Moreover, the connection of the metal film 9 which is the electrical extraction part of the wiring pattern 21 on the aluminum formed foil sheet side is also performed during the main curing.

次に図7の(i)の様に、前記片面または両面に一体化形成された電気絶縁性基材71の上に形成された配線層74をフォトリソ工程により、所望の配線パターン78やランドパターン79を形成できる。   Next, as shown in FIG. 7 (i), a desired wiring pattern 78 or land pattern is formed on the wiring layer 74 formed on the electrically insulating substrate 71 integrally formed on one or both sides by a photolithography process. 79 can be formed.

以上の製造方法により、アルミ化成箔を形成した電気特性の良好な固体電解コンデンサ22や配線層パターン21を内蔵したプリント回路基板が容易に形成できる。   By the above manufacturing method, a printed circuit board having a built-in aluminum electrolytic foil and a solid electrolytic capacitor 22 having good electrical characteristics and a wiring layer pattern 21 can be easily formed.

次に本発明に使用している材料について説明する。本発明において、電気絶縁性基材71は、絶縁性樹脂及びフィラと絶縁性樹脂の混合物等を用いることができる。また、ガラスクロス等の補強材があってもよい。絶縁性樹脂としては、熱硬化性樹脂や、熱可塑樹脂、光硬化性樹脂等を用いることができ、耐熱性の高いエポキシ樹脂やフェノール樹脂、イソシアネート樹脂を用いることにより、電気絶縁性基材71の耐熱性をあげることができる。また、誘電正接の低いフッ素樹脂例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE樹脂)、PPO(ポリフェニレンオキサイド)樹脂(PPE(ポリフェニレンエーテル)樹脂ともいう)、液晶ポリマーを含むもしくはそれらの樹脂を変性させた樹脂を用いることにより、電気絶縁性基材71の高周波特性が向上する。   Next, materials used in the present invention will be described. In the present invention, the electrically insulating substrate 71 can be made of an insulating resin, a mixture of filler and insulating resin, or the like. There may also be reinforcing materials such as glass cloth. As the insulating resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a photocurable resin, or the like can be used. By using an epoxy resin, a phenol resin, or an isocyanate resin having high heat resistance, the electrically insulating substrate 71 can be used. The heat resistance can be increased. In addition, a fluororesin having a low dielectric loss tangent, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE resin), PPO (polyphenylene oxide) resin (also referred to as PPE (polyphenylene ether) resin), a resin containing a liquid crystal polymer or a resin obtained by modifying these resins is used. As a result, the high frequency characteristics of the electrically insulating substrate 71 are improved.

電気絶縁性基材71として、フィラと絶縁性樹脂の混合物を用いた場合、フィラ及び絶縁性樹脂を選択することによって、電気絶縁性基材71の弾性率、熱膨張係数、熱伝導度、誘電率などを容易に制御することができる。たとえばフィラとしてアルミナ、マグネシア、窒化ホウ素、窒化アルミ、窒化珪素、ポリテトラフルオロエチレン及び、シリカなどを用いることができる。アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミを用いることにより、従来のガラス−エポキシ基板より熱伝導度の高い基板が製作可能となり、複合配線基板の放熱特性を向上させることができる。また、アルミナはコストが安いという利点もある。シリカを用いた場合、誘電率が低い電気絶縁性基材71が得られ、比重も軽いため、携帯電話などの高周波用途として好ましい。窒化珪素やポリテトラフルオロエチレン、例えば“テフロン(登録商標)”(デュポン社)を用いても誘電率の低い電気絶縁層を形成できる。また、窒化ホウ素を用いることにより熱膨張係数を低減できる。弾性率は、フィラ含有量により調整することができ、これにより、回路基板の反りを制御することができる。   When a mixture of filler and insulating resin is used as the electrically insulating base 71, the elastic modulus, thermal expansion coefficient, thermal conductivity, dielectric of the electrically insulating base 71 is selected by selecting the filler and the insulating resin. The rate and the like can be easily controlled. For example, alumina, magnesia, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, polytetrafluoroethylene, silica, or the like can be used as the filler. By using alumina, boron nitride, or aluminum nitride, a substrate having higher thermal conductivity than that of a conventional glass-epoxy substrate can be manufactured, and heat dissipation characteristics of the composite wiring substrate can be improved. Alumina also has the advantage of low cost. When silica is used, an electrically insulating base material 71 having a low dielectric constant is obtained, and the specific gravity is light. Therefore, it is preferable for high-frequency applications such as cellular phones. Even if silicon nitride or polytetrafluoroethylene, for example, “Teflon (registered trademark)” (DuPont) is used, an electrically insulating layer having a low dielectric constant can be formed. Moreover, the thermal expansion coefficient can be reduced by using boron nitride. The elastic modulus can be adjusted by the filler content, whereby the warp of the circuit board can be controlled.

電気絶縁性基材71はさらに、分散剤、カップリング剤を含んでいてもよい。分散剤によって、絶縁性樹脂中のフィラを均一性よく分散させることができる。カップリング剤によって、絶縁性樹脂とフィラとの接着強度を高くすることができるため、電気絶縁性基材の絶縁性を向上できる。   The electrically insulating substrate 71 may further contain a dispersant and a coupling agent. The filler in the insulating resin can be dispersed with good uniformity by the dispersant. Since the coupling agent can increase the adhesive strength between the insulating resin and the filler, the insulating property of the electrically insulating substrate can be improved.

また、電気絶縁性基材71の厚みを制御することによって固体アルミ電解コンデンサの形状を安定・制御させることができる。アルミ固体電解コンデンサ22を厚み精度よく形成することで、基板に内蔵しやすくなる。   Further, the shape of the solid aluminum electrolytic capacitor can be stabilized and controlled by controlling the thickness of the electrically insulating substrate 71. By forming the aluminum solid electrolytic capacitor 22 with high thickness accuracy, it is easy to incorporate it in the substrate.

ビア73、77はAgなどの導電性ペーストで形成されている。ビア73と接続する電解コンデンサ22や配線パターン21の表面を金、銀、銅、ニッケル、半田、スズをめっき等により形成しておくことで、ビアとの接続抵抗が安定する。   The vias 73 and 77 are made of a conductive paste such as Ag. By forming the surfaces of the electrolytic capacitor 22 and the wiring pattern 21 connected to the via 73 with gold, silver, copper, nickel, solder, tin, or the like by plating or the like, the connection resistance with the via is stabilized.

ビア73、77は、めっきによるフィルドビアを用いることができ、金、銀、銅、半田、ニッケル、スズから選ばれる一つ以上の材料から形成されることが好ましい。また、ビアホールにめっき層を形成し、さらに樹脂が充填されていてもよく、また、ビルドアップビアで形成されていても良い。   The vias 73 and 77 can be filled vias by plating, and are preferably formed from one or more materials selected from gold, silver, copper, solder, nickel, and tin. Further, a plating layer may be formed in the via hole, and further filled with resin, or may be formed by a build-up via.

また、配線層74はCuなどの導電性の良好な金属箔シートを使用する。配線層74をフォトリソして形成した配線パターン76、78は表面にめっき処理をする事により、耐食性や電気伝導性を向上させることができる。また、配線パターン76の電気絶縁性基材71との接触面を粗化することで、電気絶縁性基材71との接着性を向上させることができる。粗化の処理は、反応性ガスを用いたドライエッチング加工、サンドブラストによる機械加工、および電解エッチング加工が挙げられる。   The wiring layer 74 uses a metal foil sheet having good conductivity such as Cu. The wiring patterns 76 and 78 formed by photolithography of the wiring layer 74 can improve corrosion resistance and electrical conductivity by plating the surface. Moreover, the adhesiveness with the electrical insulating base material 71 can be improved by roughening the contact surface of the wiring pattern 76 with the electrical insulating base material 71. Examples of the roughening treatment include dry etching using a reactive gas, machining by sandblasting, and electrolytic etching.

また、配線パターン76、78として導電性樹脂組成物を用いることにより、スクリーン印刷等による、配線パターンの製作が可能となる。更にリードフレームを用いることにより、電気抵抗の低い、厚みのある金属を使用できる。また、エッチングによる微細パターン化や打ち抜き加工等の簡易な製造法が使える。   Further, by using a conductive resin composition as the wiring patterns 76 and 78, it is possible to manufacture a wiring pattern by screen printing or the like. Furthermore, by using a lead frame, a metal having a low electric resistance and a large thickness can be used. Further, a simple manufacturing method such as fine patterning by etching or punching can be used.

また、図7の(e)に示すアルミ化成箔シートに形成された所望の電解コンデンサ22と配線パターンを分離分割したシートについては、実施の形態1〜5に記載のものであり、説明を省略するが、この層と他の配線パターン76との電気的接続は、電気絶縁性基材71に形成された貫通孔72に充填されたビア73である。   Moreover, about the sheet | seat which isolate | separated and divided the desired electrolytic capacitor 22 and wiring pattern which were formed in the aluminum chemical conversion foil sheet | seat shown in FIG.7 (e) is a thing of Embodiment 1-5, description is abbreviate | omitted However, the electrical connection between this layer and the other wiring pattern 76 is vias 73 filled in the through holes 72 formed in the electrically insulating base material 71.

以上のように、本実施の形態によれば、アルミニウム箔を用いることで、基板に任意の位置・形状でコンデンサを形成することができ、基板の厚みを厚くすることなく大容量のコンデンサを内蔵した回路基板を提供することができる。   As described above, according to the present embodiment, by using an aluminum foil, a capacitor can be formed at an arbitrary position and shape on a substrate, and a large-capacity capacitor is built in without increasing the thickness of the substrate. Thus, a circuit board can be provided.

本発明の回路基板は、大容量のコンデンサを回路基板の任意の位置・場所に形成することができ、ノイズ対策を有する回路基板として有用である。また、高速動作によるスイッチングノイズを発生するLSIや、複数の電源からなるLSIに対応したコンデンサ内蔵基板として有用である。   The circuit board of the present invention can form a large-capacitance capacitor at an arbitrary position / location on the circuit board, and is useful as a circuit board having noise countermeasures. Further, it is useful as a substrate with a built-in capacitor corresponding to an LSI that generates switching noise due to high-speed operation or an LSI that includes a plurality of power supplies.

(a)〜(i)は本発明の実施の形態1、2におけるコンデンサ及び配線パターン内蔵シートの製造方法を示す工程断面図(A)-(i) is process sectional drawing which shows the manufacturing method of the capacitor | condenser and wiring pattern built-in sheet in Embodiment 1, 2 of this invention 本発明の実施の形態1におけるコンデンサ及び配線パターン内蔵シートの断面図Sectional drawing of the capacitor | condenser and wiring pattern built-in sheet | seat in Embodiment 1 of this invention (a)〜(b)は本発明の実施の形態2におけるコンデンサ及び配線パターン内蔵シートの製造方法断面図(A)-(b) is sectional drawing of the manufacturing method of the capacitor | condenser and wiring pattern built-in sheet | seat in Embodiment 2 of this invention (a)〜(c)は本発明の実施の形態3におけるコンデンサ及び配線パターン内蔵シートの製造方法断面図(A)-(c) is sectional drawing of the manufacturing method of the capacitor | condenser and wiring pattern built-in sheet in Embodiment 3 of this invention (a)〜(b)は本発明の実施の形態4におけるコンデンサ及び配線パターン内蔵シートの製造方法工程断面図(A)-(b) is manufacturing method process sectional drawing of the capacitor | condenser and wiring pattern built-in sheet in Embodiment 4 of this invention (a)〜(b)は本発明の実施の形態5におけるコンデンサ及び配線パターン内蔵シートの製造方法工程断面図(A)-(b) is manufacturing method process sectional drawing of the capacitor | condenser and wiring pattern built-in sheet in Embodiment 5 of this invention (a)〜(i)は本発明の実施の形態1〜5のコンデンサ及び配線パターン内蔵シートを用いたプリント回路基板及びその製造方法を示す工程断面図(A)-(i) is process sectional drawing which shows the printed circuit board using the capacitor | condenser of Embodiment 1-5 of this invention, and a wiring pattern built-in sheet | seat, and its manufacturing method (a)〜(e)は従来のコンデンサ及び配線パターン内蔵シートの製造方法の課題点を示す工程断面図(A)-(e) is process sectional drawing which shows the subject of the manufacturing method of the conventional capacitor | condenser and a wiring pattern built-in sheet | seat

1 アルミ化成箔の多孔質部
2 アルミ化成箔のプレート部
3 溝
4 保護用絶縁材料
5 導電性高分子材料
6 炭素ペースト
7 導電性ペースト
8 金属膜
9 金属膜
21 配線用部分
22 コンデンサ形成部
41 耐熱性基材
51、52 ビア穴
53、54 導電性接着剤
61、62 ビア穴
63、64 貫通孔
65、66 導電性接着剤
71 電気絶縁性基材
72 貫通孔
73 ビア
74 配線層
75 導電性接着剤
76 配線パターン
77 ビア導体
78 配線パターン
81 フォトレジスト
82 フォトレジストパターン
83 溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Porous part of aluminum conversion foil 2 Plate part of aluminum conversion foil 3 Groove 4 Insulating material for protection 5 Conductive polymer material 6 Carbon paste 7 Conductive paste 8 Metal film 9 Metal film 21 Wiring part 22 Capacitor formation part 41 Heat-resistant substrate 51, 52 Via hole 53, 54 Conductive adhesive 61, 62 Via hole 63, 64 Through hole 65, 66 Conductive adhesive 71 Electrical insulating substrate 72 Through hole 73 Via 74 Wiring layer 75 Conductivity Adhesive 76 Wiring pattern 77 Via conductor 78 Wiring pattern 81 Photo resist 82 Photo resist pattern 83 Groove

Claims (8)

少なくとも片面に多孔質状態を形成したアルミ化成箔シート上に導電性高分子を用いたアルミ固体電解コンデンサを内蔵する部品内蔵基板において、前記部品内蔵基板内に任意の部分に独立した前記コンデンサ部を形成する場合に、前記アルミ化成箔シート上に任意の部分にコンデンサ部と配線パターンを形成する分離境界部に予め溝加工する第1工程と、前記溝加工されたアルミ化成箔にアルミ固体電解コンデンサ部や取り出し電極部等のアルミ化成箔シートの露出を必要とする部分を除く部分に絶縁材料で保護コートパターンを形成する第2工程と、前記アルミ化成箔シート上に保護コートパターンで区切られたコンデンサ部分に化学重合や電解重合又は固体電解コンデンサ部を形成する第3工程と、前記アルミ化成箔シートにおいて分割溝を形成した面とは逆面から、アルミ化成箔の表面を面方向に均一な厚みになるように徐々に除去して、前記分離境界部とした溝加工した底部まで浸透した保護コート材料が少なくとも露出し、分離した部分同士の電気的絶縁性を確保できるまで表面除去を行う第4工程と前記形成した固体電解コンデンサと配線パターンに外部回路に電気的接続を可能とする取出し電極を形成する第5工程とを有する製造工程を用いることで、アルミ化成箔シート上に所望のサイズに任意の場所に電気的に独立したコンデンサ部と配線パターンを形成したことを特徴とする部品内蔵基板の製造方法。 In a component-embedded substrate in which an aluminum solid electrolytic capacitor using a conductive polymer is incorporated on an aluminum conversion foil sheet having a porous state formed on at least one side, the capacitor portion independent of an arbitrary portion is provided in the component-embedded substrate. A first step of pregrooving a separation boundary portion for forming a capacitor portion and a wiring pattern in an arbitrary portion on the aluminum chemical conversion foil sheet, and forming an aluminum solid electrolytic capacitor on the grooved aluminum chemical conversion foil A second step of forming a protective coating pattern with an insulating material on a portion excluding a portion that requires exposure of the aluminum chemical conversion foil sheet, such as a portion and an extraction electrode portion, and the protective coating pattern separated on the aluminum chemical conversion foil sheet In the third step of forming a chemical polymerization, electrolytic polymerization or solid electrolytic capacitor part in the capacitor part, A protective coating material that gradually removes the surface of the aluminum conversion foil from the surface opposite to the groove-formed surface so as to have a uniform thickness in the surface direction and penetrates to the grooved bottom portion as the separation boundary portion. A fourth step of removing the surface until at least the exposed and separated portions can be electrically insulated, and the extraction electrode that enables electrical connection to an external circuit is formed on the formed solid electrolytic capacitor and wiring pattern. Manufacturing of a component-embedded board characterized in that an electrically independent capacitor portion and wiring pattern are formed in an arbitrary place at a desired size on an aluminum chemical conversion foil sheet by using a manufacturing process having a fifth process Method. 前記アルミ化成箔として、両面多孔質部を形成したものを使用する請求項1に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The manufacturing method of the component built-in substrate according to claim 1, wherein the aluminum formed foil is formed with a double-sided porous portion. 前記アルミ化成箔として、固体電解コンデンサを形成する面の逆面に前記溝加工する前に耐熱基材を貼りつけたものを使用する請求項1に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The manufacturing method of the component built-in substrate according to claim 1, wherein the aluminum conversion foil uses a heat resistant base material attached to the opposite surface of the surface on which the solid electrolytic capacitor is formed before the groove processing. 前記アルミ化成箔シートに形成した固体電解コンデンサのアルミ化成箔の多孔質部に陽極電気取出し電極を形成する請求項1に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The manufacturing method of the component built-in substrate according to claim 1, wherein an anode electrical extraction electrode is formed on a porous portion of the aluminum conversion foil of the solid electrolytic capacitor formed on the aluminum conversion foil sheet. 前記アルミ化成箔シートに形成した固体電解コンデンサのアルミ化成箔の多孔質部に陽極電気取出し電極を形成する部分に予め貫通孔を設けた請求項4に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The manufacturing method of the component built-in board | substrate of Claim 4 which provided the through-hole previously in the part which forms an anode electrical extraction electrode in the porous part of the aluminum chemical conversion foil of the solid electrolytic capacitor formed in the said aluminum chemical conversion foil sheet. 前記請求項1〜5のいずれかひとつに記載のアルミ化成箔に所望の形状の固体電解コンデンサと配線パターンとを形成したシート及びプリント回路基板を構成するビアと配線パターンとを備えた電気絶縁性基材とを少なくともそれぞれ1層ずつを用いて積層一体化し、電気的接続を得ることにより、アルミ化成箔で形成した固体電解コンデンサを内蔵した部品内蔵基板の製造方法。 Electrical insulation comprising a sheet formed with a solid electrolytic capacitor and a wiring pattern of a desired shape on the aluminum chemical conversion foil according to any one of claims 1 to 5 and vias and wiring patterns constituting a printed circuit board A method of manufacturing a component-embedded substrate including a solid electrolytic capacitor formed of an aluminum conversion foil by laminating and integrating at least one substrate with each other to obtain electrical connection. 前記請求項1の第1工程において、前記アルミ化成箔の溝加工する場合にレーザーの溝加工や金型のスリット加工の乾式加工方法を用いた請求項1または請求項6に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The component built-in substrate according to claim 1 or 6, wherein in the first step of claim 1, a dry processing method such as laser groove processing or die slit processing is used when the aluminum chemical conversion foil groove is processed. Manufacturing method. 前記請求項1の第4工程の固体電解コンデンサ形成面とは逆面からアルミ化成箔の表面を徐々に除去する方法として、ストレートバフタイプのバフ研磨機を用いた請求項1または請求項6に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The method according to claim 1 or 6, wherein a straight buff type buffing machine is used as a method of gradually removing the surface of the aluminum chemical conversion foil from the surface opposite to the solid electrolytic capacitor forming surface in the fourth step of claim 1. A manufacturing method of the component-embedded substrate as described.
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