JP2010165777A - Semiconductor device and method of manufacturing the same - Google Patents

Semiconductor device and method of manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2010165777A
JP2010165777A JP2009005618A JP2009005618A JP2010165777A JP 2010165777 A JP2010165777 A JP 2010165777A JP 2009005618 A JP2009005618 A JP 2009005618A JP 2009005618 A JP2009005618 A JP 2009005618A JP 2010165777 A JP2010165777 A JP 2010165777A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bus bar
die pad
semiconductor device
sealing body
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009005618A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010165777A5 (en
Inventor
Noriyuki Takahashi
典之 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP2009005618A priority Critical patent/JP2010165777A/en
Publication of JP2010165777A publication Critical patent/JP2010165777A/en
Publication of JP2010165777A5 publication Critical patent/JP2010165777A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/32257Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic the layer connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8512Aligning
    • H01L2224/85148Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
    • H01L2224/85169Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus being the upper part of the bonding apparatus, i.e. bonding head, e.g. capillary or wedge
    • H01L2224/8518Translational movements
    • H01L2224/85181Translational movements connecting first on the semiconductor or solid-state body, i.e. on-chip, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To expose a die pad from a sealing body of a die pad exposed type semiconductor device. <P>SOLUTION: The semiconductor device has the die pad 1c, a bus bar 1d disposed around the die pad 1c, a plurality of inner leads 1a disposed around the bus bar 1d, a semiconductor chip 2 mounted on an upper surface 1ca of the die pad 1c, a plurality of wires 4 for electrically connecting a plurality of electrode pads 2c of the semiconductor chip 2 to the plurality of inner leads 1a, the sealing body 3 for sealing the semiconductor chip 2 such that a lower surface 1cb of the die pad 1c is exposed, and a plurality of outer leads 1b exposed from the sealing body 3, wherein the bus bar 1d is located at a height between the inner leads 1a and a mounting surface 3b of the sealing body 3 such that the interval between an inner lead 1a and the bus bar 1d is equal to the interval between the bus bar 1d and the mounting surface 3b of the sealing body 3 or is larger than the interval between the bus bar 1d and the mounting surface 3b of the sealing body 3. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置及びその製造技術に関し、特に、ダイパッド露出型の半導体装置に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor device and a manufacturing technique thereof, and more particularly to a technique effective when applied to a die pad exposed semiconductor device.

高放熱型の半導体パッケージ(半導体装置)として、ダイパッド露出型の半導体パッケージが知られている。   As a high heat dissipation type semiconductor package (semiconductor device), a die pad exposed type semiconductor package is known.

ダイパッド露出型の半導体パッケージとして、例えば、特開2000−91489号公報(特許文献1)に、半導体チップ搭載板(ダイパッド)がパッケージの底面に露出した構造が記載されている。   As a die pad exposure type semiconductor package, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-91489 (Patent Document 1) describes a structure in which a semiconductor chip mounting plate (die pad) is exposed on the bottom surface of a package.

特開2000−91489号公報JP 2000-91489 A

半導体装置の高機能化に伴い、内蔵される半導体チップ(以降、単にチップともいう)の消費電力(駆動電力)も増加する傾向に有り、半導体チップからの発熱量も大きくなる。そこで、放熱性を向上するための半導体パッケージ構造として放熱板やサーマルボールを用いるような様々な構成が検討されている。しかしながら、このような構成では新たな部材を用いる必要があり、製造コストの低減が困難である。   As semiconductor devices become more sophisticated, power consumption (drive power) of built-in semiconductor chips (hereinafter also simply referred to as chips) tends to increase, and the amount of heat generated from the semiconductor chips also increases. Therefore, various configurations using a heat sink or a thermal ball as a semiconductor package structure for improving heat dissipation have been studied. However, in such a configuration, it is necessary to use a new member, and it is difficult to reduce the manufacturing cost.

そこで、低価格で放熱性を確保できる構成として、例えば前記特許文献1に示すように、タブを封止体の下面から露出させたQFP(Quad Flat Package)型の半導体装置がある。ここで、QFP型の半導体装置の場合、この半導体装置を実装基板に実装する際の熱の影響で実装基板が水平方向に膨張収縮したとしても、アウタリードの長さの分だけ実装基板との接続部に生じる応力を吸収できるため、低価格で高い実装信頼性が得られる。   Therefore, as a configuration that can ensure heat dissipation at a low price, for example, as shown in Patent Document 1, there is a QFP (Quad Flat Package) type semiconductor device in which a tab is exposed from the lower surface of a sealing body. Here, in the case of a QFP type semiconductor device, even if the mounting substrate expands and contracts in the horizontal direction due to the influence of heat when mounting the semiconductor device on the mounting substrate, the connection with the mounting substrate is made by the length of the outer lead. Since the stress generated in the part can be absorbed, high mounting reliability can be obtained at a low price.

しかしながら、QFP型の半導体装置の場合、封止体に内蔵される半導体チップやダイパッド(タブ)は、モールド工程におけるレジンバランスを考慮し、封止体の厚さ方向におけるほぼ中央部に配置される。そのため、ダイパッドを封止体の下面から露出させようとすると、タブと一体に形成された吊りリードのダウンセット量が大きくなり、吊りリードも大きく引き伸ばされることから、吊りリード自体の強度が低下し、モールド工程における樹脂の充填圧力によりダイパッドのロケーションが不安定となる。   However, in the case of a QFP type semiconductor device, a semiconductor chip and a die pad (tab) incorporated in the sealing body are arranged at a substantially central portion in the thickness direction of the sealing body in consideration of a resin balance in the molding process. . Therefore, if the die pad is exposed from the lower surface of the sealing body, the amount of downset of the suspension lead formed integrally with the tab is increased, and the suspension lead is greatly extended, so that the strength of the suspension lead itself is reduced. The location of the die pad becomes unstable due to the resin filling pressure in the molding process.

そこで、本願発明者は、前記特許文献1に示すような、2段階に分けて、ダイパッドを支持する吊りリードを折り曲げる構成について、検討した。このとき、吊りリードだけでなく、ブリッジバー(バスバー、セクションバー)も適用し、折り曲げ部を吊りリードとブリッジバーの2箇所に分けることで、曲げに対する吊りリードの強度を確保することができ、ダイパッドのロケーションを安定させることができる。   Therefore, the inventor of the present application studied a configuration in which the suspension lead that supports the die pad is bent in two stages as shown in Patent Document 1. At this time, not only the suspension lead but also a bridge bar (bus bar, section bar) is applied, and the bending portion is divided into two portions, the suspension lead and the bridge bar, to ensure the strength of the suspension lead against bending, The location of the die pad can be stabilized.

このようなリードフレームを用いて本願発明者が評価した結果、新たに以下の問題を発見した。   As a result of the inventor's evaluation using such a lead frame, the following problems were newly discovered.

まず、封止体を形成するために用いる成型金型は、半導体チップが配置されるキャビティ部と、このキャビティ部に繋がり、樹脂を供給する経路となるゲート部と、このゲート部が配置されていない部分に設けられ、キャビティ内の空気を排出するためのエアベント部やフローキャビティ部を有している。そして、このような成型金型において、ゲート部がリードフレームの片面側(上型及び下型のうちの一方)にしか形成されていない場合、形成される封止体の内部にボイドが発生することがわかった。   First, a molding die used for forming a sealing body includes a cavity part in which a semiconductor chip is arranged, a gate part connected to the cavity part and serving as a path for supplying resin, and the gate part. An air vent part and a flow cavity part for exhausting the air in the cavity are provided in the part which is not present. In such a molding die, when the gate portion is formed only on one side (one of the upper die and the lower die) of the lead frame, a void is generated inside the formed sealing body. I understood it.

これは、半導体装置の高機能化に伴い、半導体チップの端子(電極パッド)の数が増加することに原因がある。すなわち、半導体チップとリードとをワイヤを介して電気的に接続する場合、増加する端子に合わせて、ワイヤ及びリードの本数が増える。また、半導体装置の外形サイズが小さくなると、隣り合うワイヤ及びリード同士の間隔も小さくなるため、リードフレームの片面側に設けられたゲート(例えば、上型)から、もう一方の面側(例えば、下型)に向かって樹脂が供給され難くなる。   This is due to the increase in the number of terminals (electrode pads) of the semiconductor chip as the functionality of the semiconductor device increases. That is, when the semiconductor chip and the leads are electrically connected via wires, the number of wires and leads increases in accordance with the increasing terminals. Further, when the outer size of the semiconductor device is reduced, the distance between adjacent wires and leads is also reduced, so that the gate (for example, the upper mold) provided on one side of the lead frame is changed to the other side (for example, It becomes difficult to supply resin toward the lower mold.

そこで、本願発明者は、リードフレームの両面側にゲートが配置された成型金型を用いて評価を行った。   Therefore, the inventor of the present application evaluated using a molding die in which gates are arranged on both sides of the lead frame.

この結果、樹脂の充填圧力により、ダイパッドが動いてしまい(上型方向に持ち上がり)、ダイパッドの下面が封止体で覆われてしまう問題が発生した。   As a result, the die pad moves (lifts in the upper mold direction) due to the resin filling pressure, and the lower surface of the die pad is covered with the sealing body.

これは、ブリッジバーの配置箇所に原因があることがわかった。すなわち、前記特許文献1、又は図31の比較例のQFP30に示すように、バスバー1d(ブリッジバー)とインナリード1aとの間隔(T1)がバスバー1dと封止体3の実装面3bとの間隔(T2)よりも小さい場合、バスバー1dの下側に樹脂が供給される量が多くなるため、このバスバー1dを介してダイパッド1cが持ち上げられることがわかった。   This was found to be caused by the location of the bridge bar. That is, as shown in the patent document 1 or the QFP 30 of the comparative example of FIG. 31, the interval (T1) between the bus bar 1d (bridge bar) and the inner lead 1a is the distance between the bus bar 1d and the mounting surface 3b of the sealing body 3. When the distance is smaller than the interval (T2), it is found that the amount of resin supplied to the lower side of the bus bar 1d increases, and thus the die pad 1c is lifted through the bus bar 1d.

また、前記特許文献1、又は図32の比較例に示すように、半導体チップ2の主面がインナリード1aとほぼ同じ高さに位置するように、半導体チップ2がダイパッド1c上に配置されていると、下側のゲートを介して供給された樹脂の流れが、半導体チップ2の側面でせき止められてしまう。その後、樹脂はワイヤ4に向かって流れるため、ワイヤ4を介して半導体チップ2が搭載されたダイパッド1cを持ち上げてしまうことがわかった(作用F)。   Further, as shown in Patent Document 1 or the comparative example of FIG. 32, the semiconductor chip 2 is disposed on the die pad 1c so that the main surface of the semiconductor chip 2 is located at substantially the same height as the inner lead 1a. If so, the flow of the resin supplied through the lower gate is blocked by the side surface of the semiconductor chip 2. Thereafter, since the resin flows toward the wire 4, it was found that the die pad 1c on which the semiconductor chip 2 was mounted was lifted via the wire 4 (action F).

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ダイパッド露出型の半導体装置において、ダイパッドを封止体から露出させることができる技術を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a technique capable of exposing a die pad from a sealing body in a die pad exposure type semiconductor device.

また、本発明の他の目的は、半導体装置の放熱性を向上することができる技術を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a technique capable of improving the heat dissipation of a semiconductor device.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。   Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、本発明は、上面、及び前記上面とは反対側の下面を有するダイパッドと、前記ダイパッドの周囲に配置されたバスバーと、折り曲げ部が形成され、前記バスバーと繋がる複数の吊りリードと、前記バスバーの周囲に配置された複数のリードと、主面、前記主面に形成された複数の電極パッド、及び前記主面とは反対側の裏面を有し、前記ダイパッドの前記上面上に搭載された半導体チップと、を含むものである。さらに、前記半導体チップの前記複数の電極パッドと前記複数のリードとをそれぞれ電気的に接続する複数のワイヤと、表面、前記表面とは反対側の実装面、及び前記表面と前記実装面との間の側面を有し、前記複数のリードのそれぞれの一部が前記側面から露出し、前記ダイパッドの前記下面が露出するように、前記バスバー、前記半導体チップ及び前記複数のワイヤを封止する封止体と、を含むものである。さらに、前記複数の吊りリードのそれぞれには、前記折り曲げ部が形成されており、前記封止体の厚さ方向において、前記バスバーは、前記リードと前記バスバーとの間隔が前記バスバーと前記封止体の実装面との間隔と同じ、又は前記バスバーと前記封止体の実装面との間隔より大きくなるように、前記リードと前記封止体の実装面との間に配置されているものである。   That is, the present invention provides a die pad having an upper surface and a lower surface opposite to the upper surface, a bus bar disposed around the die pad, a plurality of suspension leads formed with bent portions and connected to the bus bar, A plurality of leads arranged around the bus bar, a main surface, a plurality of electrode pads formed on the main surface, and a back surface opposite to the main surface, are mounted on the upper surface of the die pad. And a semiconductor chip. Further, a plurality of wires that electrically connect the plurality of electrode pads and the plurality of leads of the semiconductor chip, respectively, a surface, a mounting surface opposite to the surface, and the surface and the mounting surface A seal that seals the bus bar, the semiconductor chip, and the plurality of wires such that a part of each of the plurality of leads is exposed from the side surface and the lower surface of the die pad is exposed. And a stationary body. Further, each of the plurality of suspension leads is formed with the bent portion, and in the thickness direction of the sealing body, the bus bar has an interval between the lead and the bus bar and the sealing between the bus bar and the sealing bar. It is arranged between the lead and the mounting surface of the sealing body so that it is the same as the spacing between the mounting surface of the body or larger than the spacing between the bus bar and the mounting surface of the sealing body. is there.

また、本発明は、以下の工程を含むものである。(a)上面、及び前記上面とは反対側の下面を有するダイパッドと、前記ダイパッドの周囲に配置されたバスバーと、折り曲げ部が形成され、前記バスバーと繋がる複数の吊りリードと、前記バスバーの周囲に配置された複数のリードとを備えたリードフレームを準備する工程;(b)主面、前記主面に形成された複数の電極パッド、及び前記主面とは反対側の裏面を有する半導体チップを、前記ダイパッドの前記上面上に搭載する工程;(c)前記半導体チップの前記複数の電極パッドと前記複数のリードとを、複数のワイヤを介してそれぞれ電気的に接続する工程;(d)前記複数のリードのそれぞれの一部が封止体の側面から露出し、前記ダイパッドの前記下面が露出するように、前記バスバー、前記半導体チップ及び前記複数のワイヤを樹脂で封止する工程;(e)前記封止体から露出する前記複数のリードのそれぞれを、前記リードフレームから切り離す工程。ここで、前記(a)工程では、前記リードフレームの厚さ方向において、前記リードと前記バスバーとの間隔が前記バスバーと前記ダイパッドとの間隔と同じ、又は前記バスバーと前記ダイパッドとの間隔より大きくなるように、前記リードと前記ダイパッドの前記上面との間に配置された前記バスバーを備えた前記リードフレームを準備する。また、前記(d)工程は、(d1)第1キャビティ、及び前記第1キャビティに繋がる第1ゲートを有する上型と、前記第1キャビティと対向する第2キャビティ、及び前記第1ゲートと対向し、前記第2キャビティに繋がる第2ゲートを有する下型とを備えた成型金型を準備する工程;(d2)前記(d1)工程の後、前記半導体チップが搭載された前記リードフレームを、前記上型の前記第1キャビティと前記下型の前記第2キャビティとの間に配置する工程;(d3)前記(d2)工程の後、前記第1ゲート及び前記第2ゲートを介して前記第1キャビティ及び前記第2キャビティ内に前記樹脂を供給する工程;を有するものである。   Moreover, this invention includes the following processes. (A) a die pad having an upper surface and a lower surface opposite to the upper surface, a bus bar disposed around the die pad, a plurality of suspension leads formed with bent portions and connected to the bus bar, and the periphery of the bus bar And (b) a semiconductor chip having a main surface, a plurality of electrode pads formed on the main surface, and a back surface opposite to the main surface. (C) electrically connecting the plurality of electrode pads and the plurality of leads of the semiconductor chip via a plurality of wires, respectively; Each of the plurality of leads is exposed from a side surface of the sealing body, and the lower surface of the die pad is exposed, so that the bus bar, the semiconductor chip, and the plurality of wires are exposed. Step to separate each of the plurality of leads is exposed from the (e) the sealing body, from the lead frame; a step of sealing with resin. Here, in the step (a), in the thickness direction of the lead frame, the interval between the lead and the bus bar is the same as the interval between the bus bar and the die pad, or larger than the interval between the bus bar and the die pad. The lead frame including the bus bar disposed between the lead and the upper surface of the die pad is prepared. The step (d) includes (d1) a first cavity and an upper mold having a first gate connected to the first cavity, a second cavity facing the first cavity, and the first gate. And a step of preparing a molding die provided with a lower die having a second gate connected to the second cavity; (d2) After the step (d1), the lead frame on which the semiconductor chip is mounted, A step of disposing between the first cavity of the upper die and the second cavity of the lower die; (d3) after the step (d2), the first gate and the second gate through the first gate; Supplying the resin into the first cavity and the second cavity.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、ダイパッド露出型の半導体装置において、ダイパッドを封止体から確実に露出させることができる。   That is, in the die pad exposure type semiconductor device, the die pad can be reliably exposed from the sealing body.

本発明の実施の形態1の半導体装置の構造の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the structure of the semiconductor device of Embodiment 1 of this invention. 図1に示す半導体装置の構造を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. 1. 図1に示すA−A線に沿って切断した構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure cut | disconnected along the AA line shown in FIG. 図1に示すB−B線に沿って切断した構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure cut | disconnected along the BB line shown in FIG. 図1に示す半導体装置におけるワイヤリング状態の一例を示す部分平面図である。FIG. 2 is a partial plan view showing an example of a wiring state in the semiconductor device shown in FIG. 1. 図5に示すA−A線に沿って切断した構造を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the structure cut | disconnected along the AA line shown in FIG. 図1に示す半導体装置の第2吊りリード上で切断した構造を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a structure cut on a second suspension lead of the semiconductor device shown in FIG. 1. 図1に示す半導体装置の組み立てに用いられるリードフレームの構造の一例を示す部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure of a lead frame used for assembling the semiconductor device shown in FIG. 1. 図1に示す半導体装置の組み立てにおけるダイボンド材塗布時の構造の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the structure at the time of die-bonding material application | coating in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおけるペ付け時の構造の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the structure at the time of the pairing in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおけるワイヤボンディング時の構造の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the structure at the time of wire bonding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおけるワイヤボンディング後の構造の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing an example of the structure after wire bonding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールディング時の構造の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the structure at the time of the resin molding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールディング後の構造の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the structure after the resin molding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおける外装めっき後の構造の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the structure after exterior plating in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおける切断成形後の構造の一例を示す部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view illustrating an example of a structure after cut molding in the assembly of the semiconductor device illustrated in FIG. 1. 図8に示すリードフレームの構造の一例を示す拡大部分平面図である。FIG. 9 is an enlarged partial plan view showing an example of the structure of the lead frame shown in FIG. 8. 図17に示すA部の構造を示す拡大部分平面図である。FIG. 18 is an enlarged partial plan view showing the structure of a portion A shown in FIG. 17. 図17のB−B線に沿って切断した構造を示す拡大部分断面図である。It is an expanded partial sectional view which shows the structure cut | disconnected along the BB line of FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおけるダイボンド完了時の構造の一例を示す部分平面図である。FIG. 2 is a partial plan view showing an example of a structure when die bonding is completed in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 1. 図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールディング時の樹脂の流動状態の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the flow state of the resin at the time of the resin molding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 本発明の実施の形態1における変形例の半導体装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor device of the modification in Embodiment 1 of this invention. 図1に示す半導体装置の実装構造の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the mounting structure of the semiconductor device shown in FIG. 本発明の実施の形態2の半導体装置の構造の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the structure of the semiconductor device of Embodiment 2 of this invention. 図24に示す半導体装置の構造を示す側面図である。FIG. 25 is a side view showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. 24. 図24に示すA−A線に沿って切断した構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure cut | disconnected along the AA line shown in FIG. 図24に示すB−B線に沿って切断した構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure cut | disconnected along the BB line shown in FIG. 図24に示す半導体装置の第2吊りリード上で切断した構造を示す断面図である。FIG. 25 is a cross-sectional view showing a structure cut on a second suspension lead of the semiconductor device shown in FIG. 24. 図24に示す半導体装置の第1実装構造の一例を示す断面図である。FIG. 25 is a cross-sectional view showing an example of a first mounting structure of the semiconductor device shown in FIG. 24. 図24に示す半導体装置の第2実装構造の一例を示す断面図である。FIG. 25 is a cross-sectional view showing an example of a second mounting structure of the semiconductor device shown in FIG. 24. 比較例の半導体装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor device of a comparative example. 図31に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂の流動状態を示す断面図である。FIG. 32 is a cross-sectional view showing a resin flow state in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 31.

以下の実施の形態では特に必要なとき以外は同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。   In the following embodiments, the description of the same or similar parts will not be repeated in principle unless particularly necessary.

さらに、以下の実施の形態では便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明などの関係にある。   Further, in the following embodiment, when it is necessary for the sake of convenience, the description will be divided into a plurality of sections or embodiments, but they are not irrelevant to each other unless otherwise specified. The other part or all of the modifications, details, supplementary explanations, and the like are related.

また、以下の実施の形態において、要素の数など(個数、数値、量、範囲などを含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良いものとする。   Also, in the following embodiments, when referring to the number of elements (including the number, numerical value, quantity, range, etc.), particularly when clearly indicated and when clearly limited to a specific number in principle, etc. Except, it is not limited to the specific number, and it may be more or less than the specific number.

また、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。   Further, in the following embodiments, the constituent elements (including element steps) are not necessarily indispensable unless otherwise specified and clearly considered essential in principle. Needless to say.

また、以下の実施の形態において、構成要素等について、「Aからなる」、「Aよりなる」、「Aを有する」、「Aを含む」と言うときは、特にその要素のみである旨明示した場合等を除き、それ以外の要素を排除するものでないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。   Further, in the following embodiments, regarding constituent elements and the like, when “consisting of A”, “consisting of A”, “having A”, and “including A” are specifically indicated that only those elements are included. It goes without saying that other elements are not excluded except in the case of such cases. Similarly, in the following embodiments, when referring to the shapes, positional relationships, etc. of the components, etc., the shapes are substantially the same unless otherwise specified, or otherwise apparent in principle. And the like are included. The same applies to the above numerical values and ranges.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof will be omitted.

(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1の半導体装置の構造の一例を示す平面図、図2は図1に示す半導体装置の構造を示す側面図、図3は図1に示すA−A線に沿って切断した構造を示す断面図、図4は図1に示すB−B線に沿って切断した構造を示す断面図である。また、図5は図1に示す半導体装置におけるワイヤリング状態の一例を示す部分平面図、図6は図5に示すA−A線に沿って切断した構造を示す部分断面図、図7は図1に示す半導体装置の第2吊りリード上で切断した構造を示す断面図である。
(Embodiment 1)
1 is a plan view showing an example of the structure of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is taken along line AA shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure cut along the line BB shown in FIG. 1. 5 is a partial plan view showing an example of a wiring state in the semiconductor device shown in FIG. 1, FIG. 6 is a partial sectional view showing a structure cut along the line AA shown in FIG. 5, and FIG. It is sectional drawing which shows the structure cut | disconnected on the 2nd suspension lead of the semiconductor device shown in FIG.

図1〜図7に示す本実施の形態1の半導体装置は、樹脂封止型で、かつ多ピンの半導体パッケージであり、ここでは、樹脂によって形成された封止体3の側面3cからそれぞれ露出する複数のアウタリード(外部接続用端子)1bがガルウィング状に曲げ成形されたQFP5を一例として取り上げて説明する。さらに、QFP5は、半導体チップ2が搭載されたダイパッド1cの一部である下面1cbを封止体3から露出させて放熱性を高める構造を備えたものである。すなわち、QFP5は高放熱型の半導体パッケージである。   The semiconductor device according to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 7 is a resin-encapsulated and multi-pin semiconductor package. Here, the semiconductor device is exposed from the side surface 3c of the encapsulant 3 formed of resin. A QFP 5 in which a plurality of outer leads (external connection terminals) 1b are bent and formed in a gull wing shape will be described as an example. Furthermore, the QFP 5 has a structure in which the lower surface 1cb, which is a part of the die pad 1c on which the semiconductor chip 2 is mounted, is exposed from the sealing body 3 to improve heat dissipation. That is, the QFP 5 is a high heat dissipation type semiconductor package.

なお、本実施の形態1のQFP5は、ダイパッド1cの下面1cbが、封止体3の裏面である実装面3bから露出する構造のものである。   The QFP 5 according to the first embodiment has a structure in which the lower surface 1 cb of the die pad 1 c is exposed from the mounting surface 3 b that is the back surface of the sealing body 3.

図1〜図7に示すQFP(半導体装置)5の構成について説明する。QFP5は、上面1ca、及びこの上面1caとは反対側の下面1cbを有するダイパッド1cと、ダイパッド1cの周囲に配置されたバスバー1dと、それぞれ第1折り曲げ部(折り曲げ部)1fが形成され、かつバスバー1dと繋がる複数の第1吊りリード(吊りリード)1eと、バスバー1dの周囲に配置された複数のリードとを有している。この複数のリードは、封止体3の内部に配置されるインナリード(リードの一部)1aと、インナリード1aに一体で繋がり、かつ封止体3の側面3cから露出するアウタリード(リードの他部)1bとから成る。すなわち、各リードは、インナリード1aとアウタリード1bとから成る。   A configuration of the QFP (semiconductor device) 5 shown in FIGS. 1 to 7 will be described. The QFP 5 includes a die pad 1c having an upper surface 1ca and a lower surface 1cb opposite to the upper surface 1ca, a bus bar 1d arranged around the die pad 1c, and a first bent portion (folded portion) 1f. A plurality of first suspension leads (suspending leads) 1e connected to the bus bar 1d and a plurality of leads arranged around the bus bar 1d are provided. The plurality of leads include an inner lead (a part of the lead) 1a disposed inside the sealing body 3 and an outer lead (lead lead) that is integrally connected to the inner lead 1a and exposed from the side surface 3c of the sealing body 3. Other part) 1b. That is, each lead includes an inner lead 1a and an outer lead 1b.

また、QFP5は、主面2a、主面2aに形成された複数の電極パッド2c、及び主面2aとは反対側の裏面2bを有し、かつダイパッド1cの上面1ca上に搭載された半導体チップ2と、半導体チップ2の複数の電極パッド2cと複数のインナリード(リードの一部)1aとをそれぞれ電気的に接続する複数のワイヤ4と、バスバー1d、半導体チップ2及び複数のワイヤ4を封止する封止体3とを有している。   The QFP 5 has a main surface 2a, a plurality of electrode pads 2c formed on the main surface 2a, and a back surface 2b opposite to the main surface 2a, and a semiconductor chip mounted on the upper surface 1ca of the die pad 1c. 2, a plurality of wires 4 that electrically connect a plurality of electrode pads 2 c of the semiconductor chip 2 and a plurality of inner leads (a part of the leads) 1 a, a bus bar 1 d, a semiconductor chip 2, and a plurality of wires 4 It has the sealing body 3 to seal.

さらに、各部材について詳細に説明すると、図3に示すように、ダイパッド(タブ、チップ搭載部)1cは、板状の部材であり、上面(主面、表面、チップ搭載面)1ca、及び上面1caとは反対側の下面(裏面、実装面)1cbを有している。このダイパッド1cの上面1caには導電性の接着材であるAgペースト6等を介して半導体チップ2が接合されている。なお、図3〜図5に示すように、ダイパッド1cの外形サイズ(上面1caの大きさ)は、半導体チップ2の外形サイズ(主面2aまたは裏面2bの大きさ)よりも大きい。すなわち、本実施の形態1のQFP5は、大タブ構造である。   Further, each member will be described in detail. As shown in FIG. 3, the die pad (tab, chip mounting portion) 1c is a plate-shaped member, and has an upper surface (main surface, surface, chip mounting surface) 1ca, and upper surface. It has a lower surface (back surface, mounting surface) 1cb opposite to 1ca. The semiconductor chip 2 is bonded to the upper surface 1ca of the die pad 1c via an Ag paste 6 that is a conductive adhesive. 3 to 5, the outer size of the die pad 1c (the size of the upper surface 1ca) is larger than the outer size of the semiconductor chip 2 (the size of the main surface 2a or the back surface 2b). That is, the QFP 5 of the first embodiment has a large tab structure.

このように上面1ca(または下面1cb)が半導体チップ2より広い面積のダイパッド1cを用いて大タブ構造とすることで、ダイパッド1cからの放熱効果を高めることができ、QFP5の放熱性を向上することができる。   As described above, by using the die pad 1c having the upper surface 1ca (or the lower surface 1cb) wider than the semiconductor chip 2, the heat dissipation effect from the die pad 1c can be enhanced, and the heat dissipation of the QFP 5 is improved. be able to.

また、図5に示すようにバスバー(ブリッジバー、セクションバー)1dは、リング状に形成されたリード材(板状部材)であり、半導体チップ2の周囲に配置され、主に、バスバー1dの上側と下側とでレジンの供給量の区分けを行ってレジンバランスを調整するものである。   Further, as shown in FIG. 5, the bus bar (bridge bar, section bar) 1d is a lead material (plate-like member) formed in a ring shape, and is disposed around the semiconductor chip 2, and mainly the bus bar 1d. The resin balance is adjusted by dividing the supply amount of the resin between the upper side and the lower side.

なお、バスバー1dは、図3に示すようにダイパッド1cの上面1caと同一面側の上面(主面、表面、チップ搭載面)1da、及び上面1daとは反対側の下面(裏面)1dbを有している。さらに、バスバー1dは、図5、図6及び図7に示すように、第2吊りリード1gを介してダイパッド1cと繋がった状態で、ダイパッド1cの周囲に配置されている。言い換えると、ダイパッド1cは、第2吊りリード1gを介してバスバー1dによって支持されている。   As shown in FIG. 3, the bus bar 1d has an upper surface (main surface, surface, chip mounting surface) 1da on the same side as the upper surface 1ca of the die pad 1c, and a lower surface (back surface) 1db opposite to the upper surface 1da. is doing. Furthermore, the bus bar 1d is arranged around the die pad 1c in a state of being connected to the die pad 1c through the second suspension lead 1g, as shown in FIGS. In other words, the die pad 1c is supported by the bus bar 1d via the second suspension lead 1g.

また、バスバー1dと繋がる複数の第1吊りリード1eは、図4に示すようにダイパッド1cの上面1caと同一面側の上面(主面、表面、チップ搭載面)1ea、及び上面1eaとは反対側の下面(裏面)1ebを有しており、図5に示すように封止体3の平面方向の対角線上に配置されている。つまり、バスバー1dから封止体3の平面方向の対角線上に4本の第1吊りリード1eが延在し、各第1吊りリード1eにおいて、図4に示すようにバスバー1dの近傍に第1折り曲げ部1fが形成されている。   The plurality of first suspension leads 1e connected to the bus bar 1d are opposite to the upper surface (main surface, surface, chip mounting surface) 1ea on the same side as the upper surface 1ca of the die pad 1c and the upper surface 1ea as shown in FIG. It has a lower surface (back surface) 1eb on the side, and is disposed on a diagonal line in the planar direction of the sealing body 3 as shown in FIG. That is, four first suspension leads 1e extend from the bus bar 1d on a diagonal line in the planar direction of the sealing body 3, and each first suspension lead 1e has a first in the vicinity of the bus bar 1d as shown in FIG. A bent portion 1f is formed.

また、バスバー1dの周囲に配置された複数のインナリード1aは、図3に示すように、ダイパッド1cの上面1caと同一面側の上面(主面、表面、チップ搭載面)1aa、及び上面1aaとは反対側の下面(裏面)1abを有しており、図5に示すように複数の第1吊りリード1eの間に配置されている。すなわち、QFP5の封止体3の平面方向の対角線上に配置された4本の第1吊りリード1eによって切り分けられる4つの領域それぞれにおいて、複数のインナリード1aが外方に向かって放射状に延在するように配置されている。なお、各インナリード1aの上面1aaのワイヤ4との接合部には、ワイヤ4との接合を良好にするためのめっき層(例えば、銀めっき)が形成されている。さらに、全周に亘るインナリード1aの上面1aaのワイヤ4との接合部の外側には、QFP5の組み立て時の各インナリード1aのばたつきを抑制する枠状のテープ材1iが貼り付けられている。   Further, as shown in FIG. 3, the plurality of inner leads 1a arranged around the bus bar 1d are an upper surface (main surface, surface, chip mounting surface) 1aa on the same side as the upper surface 1ca of the die pad 1c, and an upper surface 1aa. 5 is provided between the plurality of first suspension leads 1e as shown in FIG. That is, in each of the four regions cut by the four first suspension leads 1e arranged on the diagonal line in the planar direction of the sealing body 3 of the QFP 5, the plurality of inner leads 1a extend radially outward. Are arranged to be. Note that a plating layer (for example, silver plating) for improving the bonding with the wire 4 is formed at the bonding portion between the upper surface 1aa of each inner lead 1a and the wire 4. Further, a frame-shaped tape material 1i that suppresses flapping of each inner lead 1a during assembly of the QFP 5 is attached to the outside of the joint portion of the upper surface 1aa of the inner lead 1a with the wire 4 over the entire circumference. .

また、封止用の樹脂によって形成される封止体3は、図2及び図3に示すように、表面(主面、上面)3a、表面3aとは反対側の実装面(裏面、下面)3b、及び表面3aと実装面3bとの間の側面3cを有しており、複数のリードのそれぞれの一部であるアウタリード1bが封止体3の側面3cから露出している。さらに、封止体3は、ダイパッド1cの下面1cbが実装面3bから露出するように、バスバー1d、半導体チップ2及び複数のワイヤ4を封止している。   Further, as shown in FIGS. 2 and 3, the sealing body 3 formed of a sealing resin has a front surface (main surface, upper surface) 3a and a mounting surface (back surface, lower surface) opposite to the surface 3a. 3b and the side surface 3c between the surface 3a and the mounting surface 3b, and the outer lead 1b that is a part of each of the plurality of leads is exposed from the side surface 3c of the sealing body 3. Further, the sealing body 3 seals the bus bar 1d, the semiconductor chip 2, and the plurality of wires 4 so that the lower surface 1cb of the die pad 1c is exposed from the mounting surface 3b.

また、封止体3の4つの側面3cから露出する複数のアウタリード1bのそれぞれは、封止体3の外側において、封止体3の表面3a側から封止体3の実装面3b側に向かって折り曲げられている。すなわち、複数のインナリード1aのそれぞれと一体で繋がる複数のアウタリード1bのそれぞれは、ガルウィング状に形成されている。これは、後述する図23に示すように、QFP5をマザーボード(実装基板)16上に実装する際にアウタリード1bとマザーボード16の端子16aとの電気的な接続信頼性を高めるためである。また、アウタリード1bの表面には、図15に示すように、例えば半田からなる外装めっき15が形成されている。QFP5をマザーボード16に実装するマウント工程では、アウタリード1bをマザーボード16の端子16aに半田等の接合材料を介して電気的に接続する。このため、アウタリード1bの表面に半田からなる外装めっき15を施しておくことで、マウント工程において、マザーボード16とQFP5との接合性を向上させることができる。   Further, each of the plurality of outer leads 1b exposed from the four side surfaces 3c of the sealing body 3 is directed from the surface 3a side of the sealing body 3 toward the mounting surface 3b side of the sealing body 3 outside the sealing body 3. Is bent. That is, each of the plurality of outer leads 1b integrally connected to each of the plurality of inner leads 1a is formed in a gull wing shape. This is to increase the electrical connection reliability between the outer lead 1b and the terminal 16a of the mother board 16 when the QFP 5 is mounted on the mother board (mounting board) 16, as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 15, an outer plating 15 made of, for example, solder is formed on the surface of the outer lead 1b. In the mounting process of mounting the QFP 5 on the mother board 16, the outer lead 1b is electrically connected to the terminal 16a of the mother board 16 via a bonding material such as solder. For this reason, by providing exterior plating 15 made of solder on the surface of the outer lead 1b, it is possible to improve the bondability between the mother board 16 and the QFP 5 in the mounting process.

また、半導体チップ2は、例えば、シリコン等から成り、その主面2aに複数の半導体素子が形成されているとともに、複数の半導体素子が集積回路を構成している。図3及び図5に示すように半導体チップ2の平面形状は四角形から成り、複数の電極パッド2cは、半導体チップ2の主面2aの辺に沿って配置されている。すなわち、QFP5は、多ピンの半導体パッケージであるため、半導体チップ2の複数の電極パッド2cは、その主面2aの4つの辺全てに沿って配置されており、これらの電極パッド2cと対応するインナリード1aとがワイヤ4によって電気的に接続されているため、半導体チップ2の主面2aの各辺上に複数のワイヤ4が高密に配置されている(図5においては、ワイヤ4は、チップ角部付近のみの数本の記載となっているが、角部と角部の間の中央部付近にも複数のワイヤ4が高密に配置されている)。   The semiconductor chip 2 is made of, for example, silicon and the like. A plurality of semiconductor elements are formed on the main surface 2a, and the plurality of semiconductor elements constitute an integrated circuit. As shown in FIGS. 3 and 5, the planar shape of the semiconductor chip 2 is a quadrangle, and the plurality of electrode pads 2 c are arranged along the side of the main surface 2 a of the semiconductor chip 2. That is, since the QFP 5 is a multi-pin semiconductor package, the plurality of electrode pads 2c of the semiconductor chip 2 are arranged along all four sides of the main surface 2a, and correspond to these electrode pads 2c. Since the inner leads 1a are electrically connected by the wires 4, a plurality of wires 4 are densely arranged on each side of the main surface 2a of the semiconductor chip 2 (in FIG. 5, the wires 4 are Although only a few are described in the vicinity of the corner of the chip, a plurality of wires 4 are densely arranged near the center between the corners).

なお、ダイパッド1c、第1吊りリード1e、バスバー1d、インナリード1a及びアウタリード1bは、例えば、放熱性の高い銅合金等の板材によって形成されている。また、ワイヤ4は、例えば、金線である。さらに、封止体3は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂等からなる。   The die pad 1c, the first suspension lead 1e, the bus bar 1d, the inner lead 1a, and the outer lead 1b are formed of a plate material such as a copper alloy having high heat dissipation. Moreover, the wire 4 is a gold wire, for example. Furthermore, the sealing body 3 is made of, for example, a thermosetting epoxy resin.

本実施の形態1のQFP5では、図3に示すように封止体3の厚さ方向において、バスバー1dは、インナリード1aとバスバー1dとの間隔(T1)がバスバー1dと封止体3の実装面3bとの間隔(T2)と同じか(T1=T2)、好ましくは、前記(T1)がバスバー1dと封止体3の実装面3bとの間隔(T2)より大きくなる(T1>T2)ように、インナリード1aと封止体3の実装面3bとの間に配置されている。   In the QFP 5 of the first embodiment, as shown in FIG. 3, in the thickness direction of the sealing body 3, the bus bar 1 d has an interval (T 1) between the inner lead 1 a and the bus bar 1 d between the bus bar 1 d and the sealing body 3. It is the same as the interval (T2) between the mounting surface 3b (T1 = T2), or preferably (T1) is larger than the interval (T2) between the bus bar 1d and the mounting surface 3b of the sealing body 3 (T1> T2). ), The inner lead 1a and the mounting surface 3b of the sealing body 3 are disposed.

すなわち、インナリード1aの下面1abとバスバー1dの上面(インナリード1aの下面1abと対向する面)1daとの間隔(T1)がバスバー1dの下面1dbと封止体3の実装面(バスバー1dの下面1dbと対向する面)3bとの間隔(T2)と同じか(T1=T2)、好ましくは、前記(T1)がバスバー1dの下面1dbと封止体3の実装面3bとの間隔(T2)より大きい(T1>T2)。   That is, the distance (T1) between the lower surface 1ab of the inner lead 1a and the upper surface of the bus bar 1d (the surface facing the lower surface 1ab of the inner lead 1a) 1da is such that the lower surface 1db of the bus bar 1d and the mounting surface of the sealing body 3 (of the bus bar 1d It is the same as the distance (T2) between the lower surface 1db and the surface 3b (T1 = T2), or preferably (T1) is the distance (T2) between the lower surface 1db of the bus bar 1d and the mounting surface 3b of the sealing body 3 ) (T1> T2).

あるいは、封止体3の厚さ方向において、バスバー1dは、その上面1daが半導体チップ2の主面2aと同じ位置か、又はバスバー1dの上面1daが半導体チップ2の主面2aと封止体3の実装面3bとの間の高さ位置に配置されるように、ダイパッド1cの周囲に配置されている(G≧0)。   Alternatively, in the thickness direction of the sealing body 3, the bus bar 1 d has the upper surface 1 da at the same position as the main surface 2 a of the semiconductor chip 2, or the upper surface 1 da of the bus bar 1 d has the main surface 2 a of the semiconductor chip 2 and the sealing body. 3 is disposed around the die pad 1c so as to be disposed at a height position between the three mounting surfaces 3b (G ≧ 0).

このようにバスバー1dが(T1=T2)、好ましくは(T1>T2)となるように配置されているか、あるいはバスバー1dの上面1daが半導体チップ2の主面2aと同じ位置か、又は半導体チップ2の主面2aと封止体3の実装面3bとの間の高さに配置されていることにより、樹脂モールディング工程の樹脂充填時にバスバー1dの下側に供給される樹脂の量を減らすことができる。言い換えると、図21に示すように、樹脂充填時にバスバー1dの上側に供給される樹脂の量を増やすことで、バスバー1dを下側に押し付ける荷重を増加させることができる。   In this way, the bus bar 1d is arranged such that (T1 = T2), preferably (T1> T2), or the upper surface 1da of the bus bar 1d is at the same position as the main surface 2a of the semiconductor chip 2, or the semiconductor chip 2 is arranged at a height between the main surface 2a of the sealing body 3 and the mounting surface 3b of the sealing body 3, thereby reducing the amount of resin supplied to the lower side of the bus bar 1d when the resin is filled in the resin molding process. Can do. In other words, as shown in FIG. 21, by increasing the amount of resin supplied to the upper side of the bus bar 1d during resin filling, the load for pressing the bus bar 1d downward can be increased.

その結果、バスバー1dは樹脂によって下側に押し付けられ、さらに第2吊りリード1gを介してバスバー1dによって支持されたダイパッド1cも下側に押し付けられる。これによって、ダイパッド1cは封止体3の実装面3bに露出し易くなる。   As a result, the bus bar 1d is pressed downward by the resin, and the die pad 1c supported by the bus bar 1d via the second suspension lead 1g is also pressed downward. As a result, the die pad 1 c is easily exposed to the mounting surface 3 b of the sealing body 3.

つまり、樹脂充填時に樹脂によってバスバー1dが下側に押し付けられるため、バスバー1dを介してダイパッド1cが持ち上げられる作用を低減することができ、封止体3の実装面3bにダイパッド1cの下面1cbが露出し易くなり、ダイパッド1cを十分に露出させることができる。その結果、レジンフラッシュバリの発生を抑制することができる。   That is, since the bus bar 1d is pressed downward by the resin when the resin is filled, the action of lifting the die pad 1c through the bus bar 1d can be reduced, and the lower surface 1cb of the die pad 1c is mounted on the mounting surface 3b of the sealing body 3. It becomes easy to expose and the die pad 1c can fully be exposed. As a result, the occurrence of resin flash burr can be suppressed.

また、バスバー1dが半導体チップ2の主面2aより下側に配置されていることにより、樹脂の流路に対する障害物を少なくすることができ、チップ周辺の樹脂の充填性を向上させることができる。   Further, since the bus bar 1d is disposed below the main surface 2a of the semiconductor chip 2, obstacles to the resin flow path can be reduced, and the resin filling property around the chip can be improved. .

なお、本実施の形態1のQFP5は、多ピンであるため、ダイパッド1cが半導体チップ2を介して複数のワイヤ4によって吊り上げられて封止体3の実装面3bから露出しにくくなる方向に引っ張られており、したがって、ダイパッド1cを封止体3の実装面3bから露出し易くする本実施の形態1のQFP5の構造は非常に有効である。   Since the QFP 5 of the first embodiment is multi-pin, the die pad 1c is lifted by a plurality of wires 4 via the semiconductor chip 2 and pulled in a direction that is difficult to be exposed from the mounting surface 3b of the sealing body 3. Therefore, the structure of the QFP 5 of the first embodiment that makes it easy to expose the die pad 1c from the mounting surface 3b of the sealing body 3 is very effective.

また、QFP5では、図3に示すように、半導体チップ2は、その主面2aが封止体3の厚さ方向において、インナリード1aの上面1aaとダイパッド1cの上面1caとの間、あるいはインナリード1aの下面1abとダイパッド1cの上面1caとの間に配置されて、主面2aがインナリード1aより下側の位置になるようにダイパッド1c上に搭載されている。   In the QFP 5, as shown in FIG. 3, the semiconductor chip 2 has a main surface 2a between the upper surface 1aa of the inner lead 1a and the upper surface 1ca of the die pad 1c or the inner surface in the thickness direction of the sealing body 3. Arranged between the lower surface 1ab of the lead 1a and the upper surface 1ca of the die pad 1c, the main surface 2a is mounted on the die pad 1c so as to be positioned below the inner lead 1a.

これにより、チップ側からインナリード側への打ち上げワイヤボンディングにより、ダイパッド1cが、複数の打ち上げられたワイヤ4によって半導体チップ2を介して吊り上げられた状態となって封止体3の実装面3bから露出しにくくなる作用(図32に示す矢印F)が発生する。このことは、多ピンによってワイヤ4の本数が増えれば増えるほど、前記作用の大きさが大きくなる。   As a result, the die pad 1c is lifted by the plurality of launched wires 4 via the semiconductor chip 2 by the launch wire bonding from the chip side to the inner lead side, and from the mounting surface 3b of the sealing body 3. An action (arrow F shown in FIG. 32) that is difficult to be exposed occurs. This means that the larger the number of wires 4 due to the multi-pins, the greater the magnitude of the action.

しかしながら、本実施の形態1のQFP5では、多ピン構造であっても、バスバー1dが樹脂によって下側に押し付けられ、さらに第2吊りリード1gを介してバスバー1dによって支持されたダイパッド1cも下側に押し付けられるため、ダイパッド1cが複数のワイヤ4によって半導体チップ2を介して吊り上げられた状態となって封止体3から露出しにくくなる作用を抑制することができる。   However, in the QFP 5 of the first embodiment, even in the multi-pin structure, the bus bar 1d is pressed downward by the resin, and the die pad 1c supported by the bus bar 1d via the second suspension lead 1g is also lower. Since the die pad 1c is lifted by the plurality of wires 4 via the semiconductor chip 2, it is possible to suppress the action of being difficult to be exposed from the sealing body 3.

これにより、ダイパッド1cの下面1cbが封止体3の実装面3bに露出し易くなり、ダイパッド1cを十分に露出させることができる。その結果、前記同様、レジンフラッシュバリの発生を抑制することができる。   Thereby, the lower surface 1cb of the die pad 1c is easily exposed to the mounting surface 3b of the sealing body 3, and the die pad 1c can be sufficiently exposed. As a result, the occurrence of resin flash burrs can be suppressed as described above.

また、本実施の形態1のQFP5では、図17に示すように、ダイパッド1cの平面形状は、対向する一対の第1辺1ccと、第1辺1ccと交差し、かつ対向する一対の第2辺1cdとを有する四角形から成る。   In the QFP 5 of the first embodiment, as shown in FIG. 17, the planar shape of the die pad 1c has a pair of first sides 1cc facing each other and a pair of second sides facing each other and intersecting the first side 1cc. It consists of a quadrilateral with side 1cd.

さらに、バスバー1dの平面形状は、ダイパッド1cの第1辺1ccと並ぶ第3辺1dcと、ダイパッド1cの第2辺1cdと並ぶ第4辺1ddと、第3辺1dcと第4辺1ddとの間に位置する第5辺1deとを有する八角形の枠状から成り、4本の第1吊りリード1eのそれぞれは、バスバー1dの第5辺1deと繋がっている。その際、バスバー1dの第5辺1deは、第1吊りリード1eの延在方向と垂直に交差する方向に延在している。すなわち、バスバー1dは、八角形の枠状から成り、4本の第1吊りリード1eそれぞれとの接合部である第5辺1deは、第1吊りリード1eの延在方向と直交する方向に延在している。言い換えると、バスバー1dは、対向する第3辺1dcと、同じく対向する第4辺1ddとから成る四角形において、4つのコーナ部それぞれにおいて第5辺1deによって面取りを行ったことによる八角形から成る。   Furthermore, the planar shape of the bus bar 1d includes a third side 1dc aligned with the first side 1cc of the die pad 1c, a fourth side 1dd aligned with the second side 1cd of the die pad 1c, and a third side 1dc and a fourth side 1dd. It has an octagonal frame shape having a fifth side 1de positioned therebetween, and each of the four first suspension leads 1e is connected to the fifth side 1de of the bus bar 1d. At that time, the fifth side 1de of the bus bar 1d extends in a direction perpendicular to the extending direction of the first suspension lead 1e. That is, the bus bar 1d has an octagonal frame shape, and the fifth side 1de, which is a joint portion with each of the four first suspension leads 1e, extends in a direction perpendicular to the extending direction of the first suspension leads 1e. Exist. In other words, the bus bar 1d has an octagonal shape formed by chamfering each of the four corner portions with the fifth side 1de in a quadrangle composed of the third side 1dc facing each other and the fourth side 1dd facing each other.

バスバー1dが各第1吊りリード1eとの接合部で第5辺1deによる面取り形状を有していることにより、バスバー1dでの応力を緩和させることができる。   Since the bus bar 1d has a chamfered shape with the fifth side 1de at the joint portion with each first suspension lead 1e, the stress in the bus bar 1d can be relieved.

また、バスバー1dは、その第3辺1dc及び第4辺1ddと、ダイパッド1cとの間に配置された複数の第2吊りリード1gを介してダイパッド1cと繋がっており、複数の第2吊りリード1gのそれぞれには、第2折り曲げ部1hが形成されている。   The bus bar 1d is connected to the die pad 1c via a plurality of second suspension leads 1g arranged between the third side 1dc and the fourth side 1dd and the die pad 1c, and a plurality of second suspension leads. A second bent portion 1h is formed in each of 1g.

つまり、2段曲げのオフセットである第2折り曲げ部1hが形成された第2吊りリード1gは、それぞれバスバー1dの第3辺1dcや第4辺1ddと繋がっている。なお、2段曲げのオフセット箇所は、バスバー1dの1つの辺において複数設けられていることが好ましく、本実施の形態1のQFP5では、バスバー1dの第3辺1dc及び第4辺1ddそれぞれの辺において、2つの第2吊りリード1gが設けられ、各々に第2折り曲げ部1hが形成されている。   That is, the second suspension lead 1g formed with the second bent portion 1h, which is a two-step bending offset, is connected to the third side 1dc and the fourth side 1dd of the bus bar 1d, respectively. In addition, it is preferable that a plurality of offset portions for the two-stage bending are provided on one side of the bus bar 1d. In the QFP 5 of the first embodiment, each side of the third side 1dc and the fourth side 1dd of the bus bar 1d. , Two second suspension leads 1g are provided, and a second bent portion 1h is formed in each.

これにより、ダイパッド1cのロケーションの安定化を図ることができるため、ダイパッド1cにおいて封止体3から露出する面にレジンフラッシュバリが形成される問題を抑制することができる。この結果、半導体装置の放熱性を向上することができる。   Thereby, since the location of the die pad 1c can be stabilized, the problem that a resin flash burr is formed on the surface exposed from the sealing body 3 in the die pad 1c can be suppressed. As a result, the heat dissipation of the semiconductor device can be improved.

なお、ダイパッド1cは、そのコーナ部では、第2吊りリード1gとは接続していない。言い換えると、ダイパッド1cのコーナ部は封止体3の一部と密着している。すなわち、本実施の形態1のQFP5では、その四角形のダイパッド1cのコーナ部は、吊りリードとは一切接続しておらず、フリーな状態となっている。   The die pad 1c is not connected to the second suspension lead 1g at the corner. In other words, the corner portion of the die pad 1 c is in close contact with a part of the sealing body 3. That is, in the QFP 5 according to the first embodiment, the corner portion of the rectangular die pad 1c is not connected to the suspension lead at all and is in a free state.

したがって、コーナ部には吊りリード及びオフセット(曲げ加工)がないため、第1吊りリード1eによって歪みが発生してもこの歪みをダイパッド1cに伝えることなく逃がすことができる。また、QFP5において、半導体チップ2の周囲に配置された枠状のバスバー1dが設けられたことにより、樹脂とリード部分との密着面積が増え、樹脂の熱歪みを分散させることができる。これにより、ダイパッド1cと樹脂の剥がれを低減することができるため、封止体3にクラックが発生する問題(レジンクラック)を抑制することができる。   Therefore, since there is no suspension lead and offset (bending) in the corner portion, even if distortion is generated by the first suspension lead 1e, this distortion can be released without being transmitted to the die pad 1c. Further, in the QFP 5, since the frame-shaped bus bar 1d disposed around the semiconductor chip 2 is provided, the contact area between the resin and the lead portion is increased, and the thermal strain of the resin can be dispersed. Thereby, since peeling of die pad 1c and resin can be reduced, the problem (resin crack) which a crack generate | occur | produces in the sealing body 3 can be suppressed.

また、QFP5において、封止体3の側面3cには、図14に示すように、第1吊りリード1eの上面側に形成された第1ゲートレジン3dと、第1吊りリード1eの前記上面とは反対側である下面側に形成された第2ゲートレジン3eとが設けられている。   In the QFP 5, on the side surface 3c of the sealing body 3, as shown in FIG. 14, the first gate resin 3d formed on the upper surface side of the first suspension lead 1e and the upper surface of the first suspension lead 1e Is provided with a second gate resin 3e formed on the lower surface side which is the opposite side.

すなわち、本実施の形態1のQFP5は、その組み立てのモールド工程において、第1吊りリード1eの上側と下側の両側の成型金型のゲートから樹脂が注入されて封止体3が形成されたものである。これは、QFP5が多ピン構造であるため、樹脂の注入が上側からだけだと、密集したワイヤ4が壁となって第1吊りリード1eの下側には樹脂が回り込まず、ボイドが多数形成されてしまうが、上下両側のゲートから樹脂を注入することでボイドの形成を防ぐことができる。   That is, in the QFP 5 according to the first embodiment, the sealing body 3 is formed by injecting resin from the gates of the molding dies on both the upper side and the lower side of the first suspension lead 1e in the assembly molding process. Is. This is because the QFP 5 has a multi-pin structure, so if the resin is injected only from the upper side, the dense wires 4 become walls and the resin does not flow under the first suspension lead 1e, and many voids are formed. However, the formation of voids can be prevented by injecting resin from the upper and lower gates.

次に、本実施の形態1の半導体装置(QFP5)の組み立てを説明する。   Next, assembly of the semiconductor device (QFP5) of the first embodiment will be described.

図8は図1に示す半導体装置の組み立てに用いられるリードフレームの構造の一例を示す部分断面図、図9は図1に示す半導体装置の組み立てにおけるダイボンド材塗布時の構造の一例を示す部分断面図、図10は図1に示す半導体装置の組み立てにおけるペ付け時の構造の一例を示す部分断面図である。また、図11は図1に示す半導体装置の組み立てにおけるワイヤボンディング時の構造の一例を示す部分断面図、図12は図1に示す半導体装置の組み立てにおけるワイヤボンディング後の構造の一例を示す部分断面図、図13は図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールディング時の構造の一例を示す部分断面図、図14は図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールディング後の構造の一例を示す部分断面図である。さらに、図15は図1に示す半導体装置の組み立てにおける外装めっき後の構造の一例を示す部分断面図、図16は図1に示す半導体装置の組み立てにおける切断成形後の構造の一例を示す部分断面図、図17は図8に示すリードフレームの構造の一例を示す拡大部分平面図、図18は図17に示すA部の構造を示す拡大部分平面図、図19は図17のB−B線に沿って切断した構造を示す拡大部分断面図である。また、図20は図1に示す半導体装置の組み立てにおけるダイボンド完了時の構造の一例を示す部分平面図、図21は図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールディング時の樹脂の流動状態の一例を示す部分断面図である。   8 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure of a lead frame used for assembling the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure when a die bond material is applied in assembling the semiconductor device shown in FIG. FIG. 10 and FIG. 10 are partial cross-sectional views showing an example of the structure when attaching the semiconductor device shown in FIG. 11 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure during wire bonding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure after wire bonding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing an example of a structure during resin molding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 14 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure after resin molding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. FIG. 15 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure after exterior plating in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 16 is a partial cross-sectional view showing an example of the structure after cut forming in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 17 is an enlarged partial plan view showing an example of the structure of the lead frame shown in FIG. 8, FIG. 18 is an enlarged partial plan view showing the structure of part A shown in FIG. 17, and FIG. 19 is a BB line in FIG. It is an expanded partial sectional view which shows the structure cut | disconnected along. 20 is a partial plan view showing an example of a structure when die bonding is completed in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 21 is an example of a resin flow state during resin molding in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. It is a fragmentary sectional view shown.

まず、図8及び図17〜図19に示すように、上面1ca、及び上面1caとは反対側の下面1cbを有するダイパッド1cと、ダイパッド1cの周囲に配置されたバスバー1dと、第1折り曲げ部1fが形成され、かつバスバー1dと繋がる複数の第1吊りリード1eと、バスバー1dの周囲に配置された複数のインナリード1aと、複数のインナリード1aとそれぞれに繋がる複数のアウタリード1bとを備えたリードフレーム1を準備する。リードフレーム1は、例えば、放熱性の高い銅合金等の板材によって形成されている。また、ダイパッド1cとバスバー1dは、複数の第2吊りリード1gを介して繋がっている。すなわち、ダイパッド1cは、複数の第2吊りリード1gを介してバスバー1dに支持されている。さらに、それぞれの第2吊りリード1gには、第2折り曲げ部1hが形成されており、第1吊りリード1eの第1折り曲げ部1fと第2吊りリード1gの第2折り曲げ部1hとで、リードフレーム1における吊りリード全体としては2段階の曲げが形成されている。   First, as shown in FIGS. 8 and 17 to 19, a die pad 1c having an upper surface 1ca and a lower surface 1cb opposite to the upper surface 1ca, a bus bar 1d arranged around the die pad 1c, and a first bent portion A plurality of first suspension leads 1e formed with 1f and connected to the bus bar 1d, a plurality of inner leads 1a arranged around the bus bar 1d, and a plurality of outer leads 1b connected to the plurality of inner leads 1a, respectively. A lead frame 1 is prepared. The lead frame 1 is made of, for example, a plate material such as a copper alloy having high heat dissipation. The die pad 1c and the bus bar 1d are connected via a plurality of second suspension leads 1g. That is, the die pad 1c is supported by the bus bar 1d via the plurality of second suspension leads 1g. Further, each second suspension lead 1g is formed with a second bent portion 1h, and the first bent portion 1f of the first suspension lead 1e and the second bent portion 1h of the second suspension lead 1g The entire suspension lead in the frame 1 is bent in two stages.

また、本実施の形態1のQFP5の組み立てに用いられるリードフレーム1は、その厚さ方向において、図19に示すように、インナリード1aの下面1abとバスバー1dの上面1daとの間隔(T1)が、バスバー1dの下面1dbとダイパッド1cの下面1cbとの間隔(T3)と同じ(T1=T3)、又はバスバー1dの下面1dbとダイパッド1cの下面1cbとの間隔(T3)より大きく(T1>T3)なるように、インナリード1aとダイパッド1cの上面1caとの間に配置されたバスバー1dを備えている。   Further, as shown in FIG. 19, the lead frame 1 used for assembling the QFP 5 according to the first embodiment has a distance (T1) between the lower surface 1ab of the inner lead 1a and the upper surface 1da of the bus bar 1d in the thickness direction. Is the same as the interval (T3) between the lower surface 1db of the bus bar 1d and the lower surface 1cb of the die pad 1c (T1 = T3), or larger than the interval (T3) between the lower surface 1db of the bus bar 1d and the lower surface 1cb of the die pad 1c (T1>). T3), a bus bar 1d is provided between the inner lead 1a and the upper surface 1ca of the die pad 1c.

その後、図9、図10及び図20に示すようにダイボンディングを行う。ここでは、主面2a、主面2aの周縁部に形成された複数の電極パッド2c、及び主面2aとは反対側の裏面2bを有する半導体チップ2を、ダイパッド1cの上面1ca上に搭載する。   Thereafter, die bonding is performed as shown in FIGS. Here, the semiconductor chip 2 having the main surface 2a, the plurality of electrode pads 2c formed on the peripheral portion of the main surface 2a, and the back surface 2b opposite to the main surface 2a is mounted on the upper surface 1ca of the die pad 1c. .

まず、図9に示すように、吐出ノズル7からダイパッド1cの上面1ca上にダイボンド材(接着材)である導電性のAgペースト6を塗布する。その後、図10に示すようにコレット8によって吸着搬送した半導体チップ2をダイパッド1cの上面1ca上に載置し、半導体チップ2をその主面2aを上方に向けた状態でダイパッド1cの上面1ca上にAgペースト6を介して固着する。   First, as shown in FIG. 9, a conductive Ag paste 6 as a die bond material (adhesive) is applied from the discharge nozzle 7 onto the upper surface 1ca of the die pad 1c. Thereafter, as shown in FIG. 10, the semiconductor chip 2 sucked and conveyed by the collet 8 is placed on the upper surface 1ca of the die pad 1c, and the semiconductor chip 2 is placed on the upper surface 1ca of the die pad 1c with the main surface 2a facing upward. It adheres via Ag paste 6.

その後、図11及び図12に示すようにワイヤボンディングを行う。ここでは、半導体チップ2の複数の電極パッド2c(図3参照)とこれに対応する複数のインナリード1aとを、複数のワイヤ4を介してそれぞれ電気的に接続する。   Thereafter, wire bonding is performed as shown in FIGS. Here, a plurality of electrode pads 2c (see FIG. 3) of the semiconductor chip 2 and a plurality of inner leads 1a corresponding thereto are electrically connected via a plurality of wires 4, respectively.

まず、熱源を備えたボンディングステージ10を準備する。そして、図11の左側に示すように、半導体チップ2がダイパッド1c上に搭載されたリードフレーム1を、ボンディングステージ10上に配置し、加熱する(温める)。   First, the bonding stage 10 provided with a heat source is prepared. Then, as shown on the left side of FIG. 11, the lead frame 1 on which the semiconductor chip 2 is mounted on the die pad 1c is placed on the bonding stage 10 and heated (warmed).

次に、図11の右側に示すように、加熱されたダイボンディング済みのリードフレーム1を、ダイパッド1c及びバスバー1dがボンディングステージ10の溝内に位置するように、ボンディングステージ上に配置し、複数のインナリード1aに貼り付けられたテープ材1i上、又はテープ材1iとインナリード1aの先端部(又は、ワイヤ4が接続される部分)との間をリード押さえ治具11によって押さえた状態でワイヤボンディングを行う。このように、インナリード1aにおいて、ワイヤ4が接続される部分にできるだけ近い部分をリード押さえ治具11で押さえておくことで、インナリード1aの先端部が動いてしまう(バタついてしまう)不良を抑制できる。また、ワイヤ4を接続する前に、予めリードフレーム1及び半導体チップ2を加熱しておくため、時間を短縮してワイヤボンディングを行うことが可能である。なお、ワイヤボンディング時は、ボンディングツールであるキャピラリ9によってワイヤ4(例えば、金線)を案内しながら、図12に示すように半導体チップ2の電極パッド2cとインナリード1aの上面1aaとをワイヤ4で電気的に接続する。   Next, as shown on the right side of FIG. 11, the heated die-bonded lead frame 1 is arranged on the bonding stage so that the die pad 1 c and the bus bar 1 d are positioned in the groove of the bonding stage 10. In a state where the lead pressing jig 11 holds the tape material 1i attached to the inner lead 1a or between the tape material 1i and the tip of the inner lead 1a (or the portion to which the wire 4 is connected). Wire bonding is performed. In this way, the inner lead 1a has a defect in which the tip of the inner lead 1a moves (flutters) by pressing the lead pressing jig 11 as close as possible to the portion to which the wire 4 is connected. Can be suppressed. Further, since the lead frame 1 and the semiconductor chip 2 are heated in advance before connecting the wires 4, it is possible to shorten the time and perform wire bonding. At the time of wire bonding, the wire 4 (for example, a gold wire) is guided by the capillary 9 as a bonding tool, and the electrode pad 2c of the semiconductor chip 2 and the upper surface 1aa of the inner lead 1a are wired as shown in FIG. 4 for electrical connection.

その後、図13及び図21に示すように樹脂モールディング(樹脂封止)を行う。ここでは、複数のリードのそれぞれのアウタリード(一部)1bが封止体3の側面3cから露出し、かつダイパッド1cの下面1cbが封止体3の実装面3bに露出するように、バスバー1d、半導体チップ2及び複数のワイヤ4を封止用樹脂(樹脂)13で封止する。   Thereafter, as shown in FIGS. 13 and 21, resin molding (resin sealing) is performed. Here, the bus bar 1d is such that each outer lead (part) 1b of the plurality of leads is exposed from the side surface 3c of the sealing body 3 and the lower surface 1cb of the die pad 1c is exposed to the mounting surface 3b of the sealing body 3. The semiconductor chip 2 and the plurality of wires 4 are sealed with a sealing resin (resin) 13.

まず、第1キャビティ12aa、及び第1キャビティ12aaに繋がる第1ゲート12abを有する上型12aと、第1キャビティ12aaと対向する第2キャビティ12ba、及び第1ゲート12abと対向し、かつ第2キャビティ12baに繋がる第2ゲート12bbを有する下型12bとを備えた樹脂成型金型(成型金型)12を準備する。なお、図示しないが、キャビティ(第1キャビティ12aa及び第2キャビティ12ba)の平面形状は、矩形状(本実施の形態では、四角形)からなり、ゲート(第1ゲート12ab及び第2ゲート12bb)は、キャビティの角部に形成されている。また、ゲート(第1ゲート12ab及び第2ゲート12bb)が形成されていない部分(本実施の形態では、他の角部)には、キャビティ内に残存する空気を排出するためのエアベントやフローキャビティが、キャビティに繋がるように、形成されている。   First, an upper mold 12a having a first cavity 12aa and a first gate 12ab connected to the first cavity 12aa, a second cavity 12ba facing the first cavity 12aa, and a first cavity 12ab, and a second cavity A resin molding die (molding die) 12 including a lower die 12b having a second gate 12bb connected to 12ba is prepared. Although not shown, the planar shape of the cavities (first cavity 12aa and second cavity 12ba) is a rectangular shape (in this embodiment, a quadrangle), and the gates (first gate 12ab and second gate 12bb) are , Formed at the corners of the cavity. Further, an air vent or a flow cavity for discharging air remaining in the cavity is provided in a portion where the gates (first gate 12ab and second gate 12bb) are not formed (in this embodiment, other corners). However, it is formed so as to be connected to the cavity.

なお、図21に示すように、樹脂成型金型12の上型12aは、リードフレーム1の上面1jと接触する第1パーティング面12acを有しており、一方、下型12bは、リードフレーム1の下面1kと接触する第2パーティング面12bcを有している。   As shown in FIG. 21, the upper mold 12a of the resin mold 12 has a first parting surface 12ac that contacts the upper surface 1j of the lead frame 1, while the lower mold 12b is formed of a lead frame. 2 has a second parting surface 12bc that comes into contact with the lower surface 1k.

ここで、図示しないが、樹脂成型金型12内に配置する前のリードフレーム1において、複数のインナリード1aのそれぞれからダイパッド1cまでの間隔(折り曲げ深さ)は、第2パーティング面12bcから第2キャビティ12baの底面12bdまでの間隔(深さ)よりも大きく形成されている(例えば、50μm程度大きく形成されている)。   Here, although not shown, in the lead frame 1 before being placed in the resin molding die 12, the distance (bending depth) from each of the plurality of inner leads 1a to the die pad 1c is from the second parting surface 12bc. It is formed larger than the interval (depth) to the bottom surface 12bd of the second cavity 12ba (for example, it is formed larger by about 50 μm).

その後、図13及び図21に示すように、半導体チップ2が第1キャビティ12aaと第2キャビティ12baとの間に位置するように、半導体チップ2が搭載されたリードフレーム1を、上型12aの第1キャビティ12aaと下型12bの第2キャビティ12baとの間に配置し、樹脂成型金型12の型締め(クランプ)を行う。この際、複数のインナリード1aのそれぞれの下面1abからダイパッド1cの下面1cbまでの間隔(折り曲げ深さ)が、第2パーティング面12bcから第2キャビティ12baの底面12bdまでの間隔(深さ)よりも大きいため、第2キャビティ12baの底面12bdにダイパッド1cの下面1cbが突き当たって確実に接触した状態となっている。   Thereafter, as shown in FIGS. 13 and 21, the lead frame 1 on which the semiconductor chip 2 is mounted is attached to the upper mold 12a so that the semiconductor chip 2 is positioned between the first cavity 12aa and the second cavity 12ba. It arrange | positions between 1st cavity 12aa and 2nd cavity 12ba of the lower mold | type 12b, and the mold clamping (clamp) of the resin molding metal mold | die 12 is performed. At this time, the distance (bending depth) from the lower surface 1ab of each of the plurality of inner leads 1a to the lower surface 1cb of the die pad 1c is the distance (depth) from the second parting surface 12bc to the bottom surface 12bd of the second cavity 12ba. Therefore, the lower surface 1cb of the die pad 1c abuts against the bottom surface 12bd of the second cavity 12ba and is in a reliable contact state.

その後、第2キャビティ12baの底面12bdにダイパッド1cの下面1cbが突き当たって接触した状態で、第1ゲート12ab及び第2ゲート12bbを介して第1キャビティ12aa及び第2キャビティ12ba内に、図21に示すように封止用樹脂13を供給する。その際、図13の樹脂の充填方向14aに示すように、リードフレーム1の上側と下側のゲート(第1ゲート12abと第2ゲート12bb)から樹脂を注入することで、リードフレーム1の下側(密集したワイヤ4の下側)にボイドが形成されることを防ぐことができる。すなわち、QFP5は多ピン構造であるため、樹脂の注入が上側のゲート(第1ゲート12ab)からだけだと、密集したワイヤ4が壁となってリードフレーム1の下側には樹脂が回り込まず、ボイドが多数形成されてしまうが、上下両側のゲートから樹脂を注入することでボイドの形成を防ぐことができる。   Then, with the bottom surface 12bd of the second cavity 12ba in contact with the bottom surface 1cb of the die pad 1c, the first cavity 12aa and the second cavity 12ba are brought into contact with each other through the first gate 12ab and the second gate 12bb, as shown in FIG. As shown, a sealing resin 13 is supplied. At that time, as shown in the resin filling direction 14a in FIG. 13, by injecting resin from the upper and lower gates (first gate 12ab and second gate 12bb) of the lead frame 1, It is possible to prevent voids from being formed on the side (under the dense wires 4). That is, since the QFP 5 has a multi-pin structure, when the resin is injected only from the upper gate (first gate 12ab), the dense wires 4 become walls and the resin does not flow into the lower side of the lead frame 1. Although many voids are formed, the formation of voids can be prevented by injecting resin from the upper and lower gates.

樹脂を上下両側のゲートから注入することで、図14に示すように第1吊りリード1eの上側に第1ゲートレジン3dが形成され、一方、下側にも第2ゲートレジン3eが形成される。   By injecting resin from the upper and lower gates, the first gate resin 3d is formed on the upper side of the first suspension lead 1e as shown in FIG. 14, while the second gate resin 3e is also formed on the lower side. .

また、第2キャビティ12baの底面12bdにダイパッド1cの下面1cbを突き当てて接触させた状態で、第1キャビティ12aa及び第2キャビティ12baへの樹脂の注入を行うことにより、樹脂硬化後、ダイパッド1cの下面1cbを封止体3の実装面3bに確実に露出させることができる。   Further, the resin is injected into the first cavity 12aa and the second cavity 12ba in a state where the lower surface 1cb of the die pad 1c is brought into contact with the bottom surface 12bd of the second cavity 12ba, so that the die pad 1c is cured after the resin is cured. The lower surface 1cb of the sealing member 3 can be reliably exposed to the mounting surface 3b.

さらに、ダイパッド1cの下面1cbを封止体3の実装面3bに確実に露出させることができるため、ダイパッド1cの下面1cbへのレジンフラッシュバリの形成を極めて少なくすることができる。   Furthermore, since the lower surface 1cb of the die pad 1c can be reliably exposed to the mounting surface 3b of the sealing body 3, the formation of a resin flash burr on the lower surface 1cb of the die pad 1c can be extremely reduced.

したがって、本実施の形態1のQFP5の組み立てでは、樹脂モールディング後のバリ取り工程を無くすことが可能になる。これにより、樹脂モールディング後、ダム切断を行い、その後、図15に示す外装めっき15の塗布を行うことができる。すなわち、樹脂モールディング後、各アウタリード1b間の図18に示す樹脂流出阻止用のダム1mを切断し、さらにダム1mの切断後に外装めっき15を塗布することができる。つまり、樹脂モールディング後、外装めっき15の塗布工程前にダム切断を行うことができ、ダム切断で発生した異物をめっき工程時の洗浄において除去することができる。また、銅合金製のリードフレーム1を用いている場合には、ダム切断による切断面にめっき塗布を行えるため、切断面の酸化を抑制することができる。ただし、外装めっき15の塗布工程前にはダム切断は行わずに、外装めっき15の塗布工程後の切断成形工程においてダム切断を行ってもよい。   Therefore, in the assembly of the QFP 5 according to the first embodiment, it is possible to eliminate the deburring process after the resin molding. Thereby, after resin molding, dam cutting can be performed, and then the exterior plating 15 shown in FIG. 15 can be applied. That is, after resin molding, the resin outflow prevention dam 1m shown in FIG. 18 between the outer leads 1b can be cut, and the exterior plating 15 can be applied after the dam 1m is cut. That is, dam cutting can be performed after resin molding and before the coating process of exterior plating 15, and foreign matters generated by dam cutting can be removed by washing during the plating process. Moreover, when the lead frame 1 made of copper alloy is used, plating can be applied to the cut surface by dam cutting, so that oxidation of the cut surface can be suppressed. However, the dam cutting may be performed in the cutting forming process after the coating process of the exterior plating 15 without performing the dam cutting before the coating process of the exterior plating 15.

なお、外装めっき塗布工程において電界を形成することで、ダイパッド1cの下面1cbに形成された少量のレジンフラッシュバリを除去してもよい。外装めっき塗布工程において電界を掛けて行うバリ取りは、高圧洗浄等のバリ取りに比べて力が弱いが、本実施の形態1のQFP5の組み立てでは、ダイパッド1cの下面1cbに形成されるレジンフラッシュバリの量は極めて少量であるため、外装めっき塗布工程でのバリ取りであっても除去可能である。   Note that a small amount of resin flash burr formed on the lower surface 1cb of the die pad 1c may be removed by forming an electric field in the exterior plating application process. The deburring performed by applying an electric field in the exterior plating coating process is weaker than deburring such as high-pressure cleaning, but in the assembly of the QFP 5 of the first embodiment, the resin flash formed on the lower surface 1cb of the die pad 1c Since the amount of burrs is very small, it can be removed even by deburring in the exterior plating application process.

なお、外装めっき15としてPdめっき(先付けめっき)を使用する場合には、外装めっき15は不要である。   When Pd plating (advance plating) is used as the exterior plating 15, the exterior plating 15 is not necessary.

その後、図16に示すように、封止体3から露出する複数のアウタリード1bのそれぞれを、リードフレーム1から切り離すとともに、ガルウィング状に曲げ成型してQFP5の組み立て完了となる。   Thereafter, as shown in FIG. 16, each of the plurality of outer leads 1b exposed from the sealing body 3 is separated from the lead frame 1 and bent into a gull wing shape to complete the assembly of the QFP 5.

本実施の形態1のQFP5の組み立てでは、QFP5におけるバスバー1dが、インナリード1aとバスバー1dとの間隔(T1)がバスバー1dと封止体3の実装面3bとの間隔(T2)において、(T1=T2)、好ましくは(T1>T2)となるように配置されているか、あるいはバスバー1dの上面1daが半導体チップ2の主面2aと同じ位置か、又は半導体チップ2の主面2aと封止体3の実装面3bとの間に配置されていることにより、図21の樹脂モールディング工程の樹脂充填時のレジン流動方向14bに示すように、バスバー1dの上側に供給される樹脂の量を増やすことができ、バスバー1dを下側に押し付ける荷重(P2、P3)を増加させることができる。   In the assembly of the QFP 5 according to the first embodiment, the bus bar 1d in the QFP 5 has an interval (T1) between the inner lead 1a and the bus bar 1d (T2) between the bus bar 1d and the mounting surface 3b of the sealing body 3 (T2). T1 = T2), preferably (T1> T2), or the upper surface 1da of the bus bar 1d is at the same position as the main surface 2a of the semiconductor chip 2 or sealed with the main surface 2a of the semiconductor chip 2 By disposing it between the mounting surface 3b of the stationary body 3, the amount of resin supplied to the upper side of the bus bar 1d can be reduced as shown in the resin flow direction 14b during resin filling in the resin molding step of FIG. The load (P2, P3) for pressing the bus bar 1d downward can be increased.

これにより、第2吊りリード1gを介してバスバー1dによって支持されたダイパッド1cも下側に押し付けられる(荷重P1)ため、ダイパッド1cを封止体3の実装面3bに露出し易くして封止体3から確実に露出させることができる。   As a result, the die pad 1c supported by the bus bar 1d is also pressed downward (load P1) via the second suspension lead 1g, so that the die pad 1c is easily exposed to the mounting surface 3b of the sealing body 3 and sealed. The body 3 can be reliably exposed.

次に、図22に示す本実施の形態1の変形例の半導体装置について説明する。   Next, a semiconductor device of a modification of the first embodiment shown in FIG. 22 will be described.

図22は本発明の実施の形態1における変形例の半導体装置の構造を示す断面図である。図22に示す変形例の半導体装置は、図1に示すQFP5と同様のバスバー1dを有するQFP20であるが、このQFP20では、バスバー1dが、その上面1daが平面方向に対して傾斜するように、インナリード1aと封止体3の実装面3bとの間の高さに配置されている。なお、図22に示す構造では、枠状のバスバー1dの平面方向において、その内側が外側より高くなるように傾斜しているが、その反対に、外側が内側より高くなるように傾斜していてもよい。   FIG. 22 is a sectional view showing the structure of a semiconductor device according to a modification of the first embodiment of the present invention. The semiconductor device of the modification shown in FIG. 22 is a QFP 20 having the same bus bar 1d as the QFP 5 shown in FIG. 1, but in this QFP 20, the bus bar 1d has an upper surface 1da inclined with respect to the planar direction. It is disposed at a height between the inner lead 1 a and the mounting surface 3 b of the sealing body 3. In the structure shown in FIG. 22, in the planar direction of the frame-shaped bus bar 1d, the inner side is inclined so as to be higher than the outer side, but on the contrary, the outer side is inclined so as to be higher than the inner side. Also good.

QFP20のその他の構造については、図1に示すQFP5と同様であるため、その重複説明は省略する。   The other structure of the QFP 20 is the same as that of the QFP 5 shown in FIG.

変形例のQFP20によれば、樹脂によってバスバー1dを下側に押し付ける荷重をさらに大きくすることができ、その結果、ダイパッド1cを下側に押し付ける荷重もさらに大きくすることができる。その結果、ダイパッド1cを封止体3の実装面3bにさらに露出し易くして封止体3からより確実に露出させることができる。   According to the modified QFP 20, the load for pressing the bus bar 1d downward by the resin can be further increased, and as a result, the load for pressing the die pad 1c downward can be further increased. As a result, the die pad 1 c can be more easily exposed on the mounting surface 3 b of the sealing body 3 and can be more reliably exposed from the sealing body 3.

なお、変形例のQFP20によって得られるその他の効果については、図1に示すQFP5の効果と同じであるため、その重複説明は省略する。   Note that other effects obtained by the modified QFP 20 are the same as those of the QFP 5 shown in FIG.

次に、本実施の形態1のQFP5の実装構造について説明する。   Next, the mounting structure of the QFP 5 according to the first embodiment will be described.

図23は図1に示す半導体装置(QFP5)の実装構造の一例を示す断面図であり、ダイパッド1cの下面1cbが封止体3の実装面3bから露出されたQFP5の実装構造を示している。この実装構造では、QFP5の外部接続用端子であるアウタリード1bが、実装基板であるマザーボード16の主面16cに形成された端子16aに半田19を介して電気的に接続されているとともに、封止体3の実装面3bから露出するダイパッド1cの下面1cbは、マザーボード16の主面16cに形成された幅広(大面積)のパターン(電極パッド16b)に半田19を介して電気的に接続されている。   FIG. 23 is a cross-sectional view showing an example of the mounting structure of the semiconductor device (QFP5) shown in FIG. 1, and shows the mounting structure of QFP5 in which the lower surface 1cb of the die pad 1c is exposed from the mounting surface 3b of the sealing body 3. . In this mounting structure, the outer lead 1b which is an external connection terminal of the QFP 5 is electrically connected to the terminal 16a formed on the main surface 16c of the mother board 16 which is the mounting substrate via the solder 19 and is sealed. The lower surface 1 cb of the die pad 1 c exposed from the mounting surface 3 b of the body 3 is electrically connected to a wide (large area) pattern (electrode pad 16 b) formed on the main surface 16 c of the mother board 16 via the solder 19. Yes.

本実施の形態1のQFP5では、封止体3の実装面3bにダイパッド1cの下面1cbを確実に露出させることができるため、QFP5の裏面側を放熱に利用するものであり、このダイパッド1cの下面1cbとマザーボード16の幅広の電極パッド16bとを半田19を介して接続することで、QFP5の放熱性を非常に高めることができる。   In the QFP 5 of the first embodiment, the lower surface 1cb of the die pad 1c can be surely exposed to the mounting surface 3b of the sealing body 3, and therefore, the back surface side of the QFP 5 is used for heat dissipation. By connecting the lower surface 1cb and the wide electrode pad 16b of the mother board 16 via the solder 19, the heat dissipation of the QFP 5 can be greatly enhanced.

(実施の形態2)
図24は本発明の実施の形態2の半導体装置の構造の一例を示す平面図、図25は図24に示す半導体装置の構造を示す側面図、図26は図24に示すA−A線に沿って切断した構造を示す断面図、図27は図24に示すB−B線に沿って切断した構造を示す断面図、図28は図24に示す半導体装置の第2吊りリード上で切断した構造を示す断面図である。
(Embodiment 2)
24 is a plan view showing an example of the structure of the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, FIG. 25 is a side view showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. 24, and FIG. 26 is taken along the line AA shown in FIG. 27 is a sectional view showing the structure cut along the line, FIG. 27 is a sectional view showing the structure cut along the line BB shown in FIG. 24, and FIG. 28 is cut on the second suspension lead of the semiconductor device shown in FIG. It is sectional drawing which shows a structure.

図24〜図28に示す本実施の形態2の半導体装置は、実施の形態1のQFP5と同様に、バスバー1dを有するとともに、ダイパッド1cの一部が封止体3から露出するものであり、封止体3の4つの側面3cのそれぞれから複数のアウタリード1bが露出したQFP21である。本実施の形態2のQFP21の実施の形態1のQFP5との相違点は、ダイパッド1cが封止体3の表面3a側に露出していることである。すなわち、QFP21では、ダイパッド1cのチップ搭載側の面(主面1ce)と反対側の裏面1cf(QFP5の場合の下面1cb)が、封止体3の表面3aから露出している。   The semiconductor device of the second embodiment shown in FIG. 24 to FIG. 28 has a bus bar 1d and a part of the die pad 1c exposed from the sealing body 3 in the same manner as the QFP 5 of the first embodiment. The QFP 21 has a plurality of outer leads 1b exposed from each of the four side surfaces 3c of the sealing body 3. The difference between the QFP 21 of the second embodiment and the QFP 5 of the first embodiment is that the die pad 1 c is exposed on the surface 3 a side of the sealing body 3. That is, in the QFP 21, the back surface 1cf (the lower surface 1cb in the case of QFP5) opposite to the chip mounting side surface (main surface 1ce) of the die pad 1c is exposed from the surface 3a of the sealing body 3.

図23に示すように、幅広(大面積)のパターン(電極パッド16b)を形成するためのスペースがマザーボード16の表面にあれば、ダイパッド1cの裏面1cfを封止体3の実装面3bから露出し、マザーボード16に形成されたパターンと接続して放熱性を向上させることが可能である。しかしながら、このようなパターンを形成するためのスペースがマザーボード16にない場合には、本実施の形態2のQFP21のようにダイパッド1cを封止体3の表面3a側に露出させることが好ましい。   As shown in FIG. 23, if there is a space for forming a wide (large area) pattern (electrode pad 16 b) on the surface of the mother board 16, the back surface 1 cf of the die pad 1 c is exposed from the mounting surface 3 b of the sealing body 3. In addition, it is possible to improve heat dissipation by connecting with a pattern formed on the mother board 16. However, when there is no space for forming such a pattern in the mother board 16, it is preferable to expose the die pad 1c to the surface 3a side of the sealing body 3 as in the QFP 21 of the second embodiment.

これにより、表面側に露出したダイパッド1cに放熱板等を取り付けることが可能になり、半導体装置の放熱性を向上させることができる。   Thereby, it becomes possible to attach a heat sink etc. to the die pad 1c exposed to the surface side, and it can improve the heat dissipation of a semiconductor device.

ここで、図29は図24に示す半導体装置の第1実装構造の一例を示す断面図、図30は図24に示す半導体装置の第2実装構造の一例を示す断面図であり、両実装構造とも、QFP21の更なる放熱性の向上を図る構造を示すものである。   Here, FIG. 29 is a sectional view showing an example of the first mounting structure of the semiconductor device shown in FIG. 24, and FIG. 30 is a sectional view showing an example of the second mounting structure of the semiconductor device shown in FIG. Both show a structure for further improving the heat dissipation of the QFP 21.

図29に示す実装構造では、マザーボード16上に半田19を介して実装されたQFP21の封止体3の表面3a上にヒートスプレッダ(放熱板)17が配置されており、封止体3の表面3aから露出するダイパッド1cは、半田19を介してヒートスプレッダ17と接続されている。   In the mounting structure shown in FIG. 29, a heat spreader (heat radiating plate) 17 is arranged on the surface 3a of the sealing body 3 of the QFP 21 mounted on the mother board 16 via the solder 19, and the surface 3a of the sealing body 3 is arranged. The die pad 1 c exposed from is connected to the heat spreader 17 through the solder 19.

また、図30に示す実装構造では、マザーボード16上に半田19を介して実装されたQFP21の封止体3の表面3a上にヒートシンク(放熱板)18が配置されており、封止体3の表面3aから露出するダイパッド1cは、半田19を介してヒートシンク18と接続されている。   In the mounting structure shown in FIG. 30, a heat sink (heat radiating plate) 18 is arranged on the surface 3 a of the sealing body 3 of the QFP 21 mounted on the mother board 16 via the solder 19. The die pad 1 c exposed from the surface 3 a is connected to the heat sink 18 via the solder 19.

図29及び図30に示すQFP21の実装構造においては、QFP21の封止体3の表面3aに露出するダイパッド1cに対してヒートスプレッダ17やヒートシンク18等の放熱板や放熱部材を接続することで、封止体3の表面側を利用してQFP21の放熱性をさらに向上させることができる。   In the mounting structure of the QFP 21 shown in FIG. 29 and FIG. 30, the heat spreader 17 and the heat sink 18 such as the heat spreader 17 and the heat sink 18 are connected to the die pad 1c exposed on the surface 3a of the sealing body 3 of the QFP 21, thereby sealing. The heat dissipation of the QFP 21 can be further improved by utilizing the surface side of the stationary body 3.

なお、本実施の形態2のQFP21では、半導体チップ2は、半導体チップ2の主面2aを下方(封止体3の実装面3b)側に向けてダイパッド1cの主面1ceに接合されており、この半導体チップ2の周囲にバスバー1dが配置されている。そのため、主面2aに形成された電極パッド2cとインナリード1aとを接続する複数のワイヤ4それぞれのワイヤループは、下方に向かって形成されている。これにより、複数のワイヤ4によって半導体チップ2を介してダイパッド1cが、パッケージの下方に向かって引っ張られる構造となっている。すなわち、ダイパッド1cが封止体3の表面3aに露出しにくい方向に引っ張られている。   In the QFP 21 of the second embodiment, the semiconductor chip 2 is bonded to the main surface 1ce of the die pad 1c with the main surface 2a of the semiconductor chip 2 facing downward (the mounting surface 3b of the sealing body 3). A bus bar 1 d is arranged around the semiconductor chip 2. Therefore, the wire loops of the plurality of wires 4 that connect the electrode pads 2c formed on the main surface 2a and the inner leads 1a are formed downward. Thus, the die pad 1c is pulled by the plurality of wires 4 through the semiconductor chip 2 toward the lower side of the package. That is, the die pad 1 c is pulled in a direction that is difficult to be exposed on the surface 3 a of the sealing body 3.

また、本実施の形態2のQFP21では、半導体チップ2は、半導体チップ2の主面2aを下方(封止体3の実装面3b)側に向けてダイパッド1cの主面1ceに接合されている。そのため、半導体チップ2の自重の影響により、ダイパッド1cが封止体3の下方(実装面3b)側に向かって引っ張られる。   In the QFP 21 according to the second embodiment, the semiconductor chip 2 is bonded to the main surface 1ce of the die pad 1c with the main surface 2a of the semiconductor chip 2 facing downward (the mounting surface 3b of the sealing body 3). . Therefore, the die pad 1 c is pulled toward the lower side (mounting surface 3 b) of the sealing body 3 due to the influence of the weight of the semiconductor chip 2.

上記したような理由により、Agペースト(接着材)6を介して半導体チップ2が接合されたダイパッド1cの裏面1cfと、上型12aに形成された第1キャビティ12aaの表面(底面)との間に隙間が生じてしまい、ダイパッド1cの裏面1cfが封止体3で覆われてしまう虞れがある。   For the reasons described above, between the back surface 1cf of the die pad 1c to which the semiconductor chip 2 is bonded via the Ag paste (adhesive) 6, and the surface (bottom surface) of the first cavity 12aa formed in the upper mold 12a. There is a possibility that a gap is formed in the back surface 1cf of the die pad 1c and the sealing body 3 covers the back surface 1cf.

しかしながら、QFP21においても、図26に示すように封止体3の厚さ方向において、バスバー1dは、インナリード1aとバスバー1dとの間隔(T1)がバスバー1dと封止体3の表面3aとの間隔(T2)と同じか(T1=T2)、好ましくは、前記(T1)がバスバー1dと封止体3の表面3aとの間隔(T2)より大きくなる(T1>T2)ように、インナリード1aと封止体3の表面3aとの間に配置されている。   However, also in the QFP 21, as shown in FIG. 26, in the thickness direction of the sealing body 3, the bus bar 1d has an interval (T1) between the inner lead 1a and the bus bar 1d and the surface 3a of the bus bar 1d and the sealing body 3. (T1 = T2), preferably, the inner (T1) is larger than the interval (T2) between the bus bar 1d and the surface 3a of the sealing body 3 (T1> T2). It is arranged between the lead 1 a and the surface 3 a of the sealing body 3.

すなわち、インナリード1aの上面1aaとバスバー1dの下面(インナリード1aの上面1aaと対向する面)1dbとの間隔(T1)がバスバー1dの上面1daと封止体3の表面(バスバー1dの上面1daと対向する面)3aとの間隔(T2)と同じか(T1=T2)、好ましくは、前記(T1)がバスバー1dの上面1daと封止体3の表面3aとの間隔(T2)より大きい(T1>T2)。   That is, the distance (T1) between the upper surface 1aa of the inner lead 1a and the lower surface of the bus bar 1d (the surface facing the upper surface 1aa of the inner lead 1a) 1db is equal to the upper surface 1da of the bus bar 1d and the surface of the sealing body 3 (upper surface of the bus bar 1d). (Surface facing 1da) is equal to the interval (T2) from 3a (T1 = T2), preferably (T1) is from the interval (T2) between the upper surface 1da of the bus bar 1d and the surface 3a of the sealing body 3 Large (T1> T2).

あるいは、封止体3の厚さ方向において、バスバー1dは、その下面1dbが半導体チップ2の主面2aと同じ位置か、又はバスバー1dの下面1dbが半導体チップ2の主面2aと封止体3の表面3aとの間の高さに配置されるように、ダイパッド1cの周囲に配置されている(G≧0)。   Alternatively, in the thickness direction of the sealing body 3, the bus bar 1 d has the lower surface 1 db at the same position as the main surface 2 a of the semiconductor chip 2, or the lower surface 1 db of the bus bar 1 d has the main surface 2 a of the semiconductor chip 2 and the sealing body. 3 is disposed around the die pad 1c so as to be disposed at a height between the surface 3a and the surface 3a (G ≧ 0).

このようにバスバー1dが(T1=T2)、好ましくは(T1>T2)となるように配置されているか、あるいはバスバー1dの下面1dbが半導体チップ2の主面2aと同じ位置か、又は半導体チップ2の主面2aと封止体3の表面3aとの間に配置されていることにより、樹脂モールディング工程の樹脂充填時にバスバー1dの上側(バスバー1dと封止体3の表面3aとの間)に供給される樹脂の量を減らすことができる。言い換えると、樹脂充填時にバスバー1dの下側に供給される樹脂の量を増やすことで、バスバー1dを上側に押し付ける荷重を増加させることができる。   Thus, the bus bar 1d is arranged so as to satisfy (T1 = T2), preferably (T1> T2), or the lower surface 1db of the bus bar 1d is at the same position as the main surface 2a of the semiconductor chip 2, or the semiconductor chip 2 between the main surface 2a of the sealing member 3 and the surface 3a of the sealing body 3, so that the upper side of the bus bar 1d (between the bus bar 1d and the surface 3a of the sealing body 3) when the resin is filled in the resin molding process. The amount of resin supplied to the can be reduced. In other words, by increasing the amount of resin supplied to the lower side of the bus bar 1d when filling the resin, the load for pressing the bus bar 1d upward can be increased.

その結果、バスバー1dは樹脂によって上側に押し付けられ、さらに第2吊りリード1gを介してバスバー1dによって支持されたダイパッド1cも上側に押し付けられる。これによって、ダイパッド1cは封止体3の表面3aに露出し易くなる。   As a result, the bus bar 1d is pressed upward by the resin, and the die pad 1c supported by the bus bar 1d via the second suspension lead 1g is also pressed upward. As a result, the die pad 1 c is easily exposed on the surface 3 a of the sealing body 3.

つまり、樹脂充填時に樹脂によってバスバー1dが上側に押し付けられるため、バスバー1dを介してダイパッド1cが下側に引っ張られる作用を低減することができ、封止体3の表面3aにダイパッド1cの裏面1cfが露出し易くなり、ダイパッド1cを十分に露出させることができる。その結果、本実施の形態2のQFP21においてもレジンフラッシュバリの発生を抑制することができる。   That is, since the bus bar 1d is pressed upward by the resin when the resin is filled, the action of pulling the die pad 1c downward through the bus bar 1d can be reduced, and the back surface 1cf of the die pad 1c can be reduced to the front surface 3a of the sealing body 3. Can be easily exposed, and the die pad 1c can be sufficiently exposed. As a result, the occurrence of resin flash burrs can also be suppressed in the QFP 21 of the second embodiment.

なお、本実施の形態2のQFP21のその他の構造と、QFP21によって得られるその他の効果については、実施の形態1のQFP5と同様であるため、その重複説明は省略する。   The other structure of QFP 21 according to the second embodiment and the other effects obtained by QFP 21 are the same as those of QFP 5 according to the first embodiment.

以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments of the invention. However, the present invention is not limited to the embodiments of the invention, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It goes without saying that it is possible.

例えば、前記実施の形態1及び2では、半導体装置(QFP5,20,21)において、その放熱性を考慮してダイパッド1cの露出面積が大きくなるように大タブ構造の場合を取り上げて説明したが、前記半導体装置は、大タブ構造に限らず、半導体チップ2よりダイパッド1cの上面1ca(又は主面1ce)が小さな小タブ構造であってもよい。   For example, in the first and second embodiments, the case where the semiconductor device (QFP 5, 20, 21) has a large tab structure so as to increase the exposed area of the die pad 1c in consideration of the heat dissipation has been described. The semiconductor device is not limited to the large tab structure, and may have a small tab structure in which the upper surface 1ca (or the main surface 1ce) of the die pad 1c is smaller than that of the semiconductor chip 2.

また、前記実施の形態2では、樹脂モールディング工程において、樹脂充填時にバスバー1dの上側(バスバー1dと封止体3の表面3aとの間)に供給される樹脂の量を減らすことができる構成として、図示しないが、ダイパッド1cの裏面1cfを上型12aに形成された第1キャビティ12aaの表面(底面)に接触させた状態で、樹脂モールディング工程を行うことについて説明したが、前記実施の形態1のように、リードフレーム1を上下反転し、ダイパッド1cの裏面1cfを下型12bに形成された第2キャビティ12baの表面(底面)12bdに接触させた状態で、樹脂モールディング工程を行ってもよい。この場合、封止体3を形成した後に、封止体3の側面3cから露出するアウタリード1bの成型工程では、前記実施の形態1とは逆方向(ダイパッド1cが露出していない封止体3の面に向かう方向)に折り曲げる。これにより、ダイパッド1c上に外形サイズの大きい半導体チップ2を搭載した場合、半導体チップ2の自重を利用し、ダイパッド1cの裏面1cfとキャビティの底面との密着性を、より向上することができる。   In the second embodiment, in the resin molding process, the amount of resin supplied to the upper side of the bus bar 1d (between the bus bar 1d and the surface 3a of the sealing body 3) during resin filling can be reduced. Although not shown, the resin molding process has been described in a state where the back surface 1cf of the die pad 1c is in contact with the surface (bottom surface) of the first cavity 12aa formed in the upper mold 12a. As described above, the resin molding step may be performed in a state where the lead frame 1 is turned upside down and the back surface 1cf of the die pad 1c is in contact with the surface (bottom surface) 12bd of the second cavity 12ba formed in the lower mold 12b. . In this case, in the molding process of the outer lead 1b exposed from the side surface 3c of the sealing body 3 after forming the sealing body 3, the direction opposite to that of the first embodiment (the sealing body 3 in which the die pad 1c is not exposed). Bend in the direction toward the surface. Thereby, when the semiconductor chip 2 having a large outer size is mounted on the die pad 1c, the self-weight of the semiconductor chip 2 can be used to further improve the adhesion between the back surface 1cf of the die pad 1c and the bottom surface of the cavity.

本発明は、高放熱型の電子装置に好適である。   The present invention is suitable for a high heat dissipation type electronic device.

1 リードフレーム
1a インナリード(リードの一部)
1aa 上面
1ab 下面
1b アウタリード(リードの他部)
1c ダイパッド(タブ、チップ搭載部)
1ca 上面(主面、表面、チップ搭載面)
1cb 下面(裏面、実装面)
1cc 第1辺
1cd 第2辺
1ce 主面
1cf 裏面
1d バスバー(ブリッジバー、セクションバー)
1da 上面(主面、表面、チップ搭載面)
1db 下面(裏面)
1dc 第3辺
1dd 第4辺
1de 第5辺
1e 第1吊りリード(吊りリード)
1ea 上面
1eb 下面
1f 第1折り曲げ部(折り曲げ部)
1g 第2吊りリード
1h 第2折り曲げ部(折り曲げ部)
1i テープ材
1j 上面
1k 下面
1m ダム
2 半導体チップ
2a 主面
2b 裏面
2c 電極パッド
3 封止体
3a 表面(主面、上面)
3b 実装面(裏面、下面)
3c 側面
3d 第1ゲートレジン
3e 第2ゲートレジン
4 ワイヤ
5 QFP(半導体装置)
6 Agペースト(接着材)
7 吐出ノズル
8 コレット
9 キャピラリ
10 ボンディングステージ
11 リード押さえ治具
12 樹脂成型金型(成型金型)
12a 上型
12aa 第1キャビティ
12ab 第1ゲート
12ac 第1パーティング面
12b 下型
12ba 第2キャビティ
12bb 第2ゲート
12bc 第2パーティング面
12bd 底面
13 封止用樹脂(樹脂)
14a 充填方向
14b レジン流動方向
15 外装めっき
16 マザーボード(実装基板)
16a 端子
16b 電極パッド
16c 主面
17 ヒートスプレッダ(放熱板)
18 ヒートシンク(放熱板)
19 半田
20 QFP(半導体装置)
21 QFP(半導体装置)
30 QFP
1 Lead frame 1a Inner lead (part of lead)
1aa Upper surface 1ab Lower surface 1b Outer lead (other part of lead)
1c Die pad (tab, chip mounting part)
1ca upper surface (main surface, surface, chip mounting surface)
1cb bottom surface (back surface, mounting surface)
1cc 1st side 1cd 2nd side 1ce Main surface 1cf Back surface 1d Bus bar (bridge bar, section bar)
1da upper surface (main surface, surface, chip mounting surface)
1db bottom (back)
1dc 3rd side 1dd 4th side 1de 5th side 1e 1st suspension lead (suspension lead)
1ea Upper surface 1eb Lower surface 1f 1st bending part (bending part)
1g 2nd suspension lead 1h 2nd bending part (bending part)
1i Tape material 1j Upper surface 1k Lower surface 1m Dam 2 Semiconductor chip 2a Main surface 2b Back surface 2c Electrode pad 3 Sealing body 3a Surface (main surface, upper surface)
3b Mounting surface (back, bottom)
3c Side surface 3d First gate resin 3e Second gate resin 4 Wire 5 QFP (semiconductor device)
6 Ag paste (adhesive)
7 Discharge nozzle 8 Collet 9 Capillary 10 Bonding stage 11 Lead holding jig 12 Resin molding die (molding die)
12a Upper mold 12aa First cavity 12ab First gate 12ac First parting surface 12b Lower mold 12ba Second cavity 12bb Second gate 12bc Second parting surface 12bd Bottom surface 13 Sealing resin (resin)
14a Filling direction 14b Resin flow direction 15 Exterior plating 16 Motherboard (mounting board)
16a Terminal 16b Electrode pad 16c Main surface 17 Heat spreader (heat sink)
18 Heat sink
19 Solder 20 QFP (Semiconductor Device)
21 QFP (semiconductor device)
30 QFP

Claims (16)

上面、及び前記上面とは反対側の下面を有するダイパッドと、
前記ダイパッドの周囲に配置されたバスバーと、
折り曲げ部が形成され、前記バスバーと繋がる複数の吊りリードと、
前記バスバーの周囲に配置された複数のリードと、
主面、前記主面に形成された複数の電極パッド、及び前記主面とは反対側の裏面を有し、前記ダイパッドの前記上面上に搭載された半導体チップと、
前記半導体チップの前記複数の電極パッドと前記複数のリードとをそれぞれ電気的に接続する複数のワイヤと、
表面、前記表面とは反対側の実装面、及び前記表面と前記実装面との間の側面を有し、前記複数のリードのそれぞれの一部が前記側面から露出し、前記ダイパッドの前記下面が露出するように、前記バスバー、前記半導体チップ及び前記複数のワイヤを封止する封止体と、
を含み、
前記複数の吊りリードのそれぞれには、前記折り曲げ部が形成されており、
前記封止体の厚さ方向において、前記バスバーは、前記リードと前記バスバーとの間隔が前記バスバーと前記封止体の実装面との間隔と同じ、又は前記バスバーと前記封止体の実装面との間隔より大きくなるように、前記リードと前記封止体の実装面との間に配置されていることを特徴とする半導体装置。
A die pad having an upper surface and a lower surface opposite to the upper surface;
A bus bar disposed around the die pad;
A plurality of suspension leads formed with bent portions and connected to the bus bar;
A plurality of leads disposed around the bus bar;
A semiconductor chip having a main surface, a plurality of electrode pads formed on the main surface, and a back surface opposite to the main surface, and mounted on the upper surface of the die pad;
A plurality of wires that electrically connect the plurality of electrode pads and the plurality of leads of the semiconductor chip, and
A front surface, a mounting surface opposite to the front surface, and a side surface between the front surface and the mounting surface, each of the plurality of leads is exposed from the side surface, and the lower surface of the die pad is A sealing body for sealing the bus bar, the semiconductor chip, and the plurality of wires so as to be exposed;
Including
Each of the plurality of suspension leads is formed with the bent portion,
In the thickness direction of the sealing body, the bus bar has the same interval between the lead and the bus bar as the interval between the bus bar and the mounting surface of the sealing body, or the mounting surface of the bus bar and the sealing body. The semiconductor device is disposed between the lead and the mounting surface of the sealing body so as to be larger than the distance between the lead and the sealing body.
請求項1記載の半導体装置において、前記封止体の厚さ方向において、前記半導体チップは、前記半導体チップの前記主面が前記リードと前記ダイパッドの前記上面との間に配置されるように、前記ダイパッドの前記上面上に搭載されていることを特徴とする半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein in the thickness direction of the sealing body, the semiconductor chip is arranged such that the main surface of the semiconductor chip is disposed between the lead and the upper surface of the die pad. A semiconductor device mounted on the upper surface of the die pad. 請求項2記載の半導体装置において、前記封止体の厚さ方向において、前記バスバーは、前記バスバーの上面が前記半導体チップの前記主面と同じ位置、又は前記バスバーの前記上面が前記半導体チップの前記主面と前記封止体の前記実装面との間に配置されるように、前記ダイパッドの周囲に配置されていることを特徴とする半導体装置。   3. The semiconductor device according to claim 2, wherein in the thickness direction of the sealing body, the bus bar has an upper surface of the bus bar at the same position as the main surface of the semiconductor chip, or the upper surface of the bus bar is formed of the semiconductor chip. A semiconductor device, wherein the semiconductor device is disposed around the die pad so as to be disposed between the main surface and the mounting surface of the sealing body. 請求項3記載の半導体装置において、前記ダイパッドの平面形状は、一対の第1辺と、前記第1辺と交差する一対の第2辺とを有する四角形から成り、
前記バスバーの平面形状は、前記ダイパッドの前記第1辺と並ぶ第3辺と、前記ダイパッドの前記第2辺と並ぶ第4辺と、前記第3辺と前記第4辺との間に位置する第5辺とを有する八角形の枠状から成り、
前記複数の吊りリードのそれぞれは、前記バスバーの前記第5辺と繋がっていることを特徴とする半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the planar shape of the die pad is a quadrangle having a pair of first sides and a pair of second sides intersecting the first sides,
The planar shape of the bus bar is located between the third side aligned with the first side of the die pad, the fourth side aligned with the second side of the die pad, and the third side and the fourth side. Consisting of an octagonal frame with a fifth side,
Each of the plurality of suspension leads is connected to the fifth side of the bus bar.
請求項4記載の半導体装置において、前記バスバーの前記第5辺は、前記吊りリードの延在方向と垂直に交差する方向に延在していることを特徴とする半導体装置。   5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the fifth side of the bus bar extends in a direction perpendicular to the extending direction of the suspension leads. 請求項4記載の半導体装置において、前記バスバーは、前記バスバーの前記第3辺及び前記第4辺と前記ダイパッドとの間に配置された複数の第2吊りリードを介して前記ダイパッドと繋がっており、
前記複数の第2吊りリードのそれぞれには、折り曲げ部が形成されていることを特徴とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the bus bar is connected to the die pad via a plurality of second suspension leads arranged between the third side and the fourth side of the bus bar and the die pad. ,
Each of the plurality of second suspension leads has a bent portion formed therein.
請求項6記載の半導体装置において、前記ダイパッドのコーナ部は、前記第2吊りリードとは接続しておらず、前記コーナ部は前記封止体の一部と密着していることを特徴とする半導体装置。   7. The semiconductor device according to claim 6, wherein the corner portion of the die pad is not connected to the second suspension lead, and the corner portion is in close contact with a part of the sealing body. Semiconductor device. 請求項3記載の半導体装置において、前記封止体の前記側面には、前記吊りリードの上面側に形成された第1ゲートレジンと、前記吊りリードの前記上面とは反対側である下面側に形成された第2ゲートレジンとが設けられていることを特徴とする半導体装置。   4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the side surface of the sealing body includes a first gate resin formed on an upper surface side of the suspension lead and a lower surface side opposite to the upper surface of the suspension lead. A semiconductor device comprising: a formed second gate resin. 請求項8記載の半導体装置において、前記半導体チップの平面形状は四角形から成り、前記複数の電極パッドは、前記半導体チップの前記主面の辺に沿って配置されていることを特徴とする半導体装置。   9. The semiconductor device according to claim 8, wherein a planar shape of the semiconductor chip is a quadrangle, and the plurality of electrode pads are arranged along a side of the main surface of the semiconductor chip. . 請求項9記載の半導体装置において、前記バスバーは、前記バスバーの上面が平面方向に対して傾斜するように、前記リードと前記封止体の前記実装面との間に配置されていることを特徴とする半導体装置。   10. The semiconductor device according to claim 9, wherein the bus bar is disposed between the lead and the mounting surface of the sealing body such that an upper surface of the bus bar is inclined with respect to a planar direction. A semiconductor device. 請求項10記載の半導体装置において、前記ダイパッドの外形サイズは、前記半導体チップの外形サイズよりも大きいことを特徴とする半導体装置。   11. The semiconductor device according to claim 10, wherein an outer size of the die pad is larger than an outer size of the semiconductor chip. 請求項11記載の半導体装置において、前記ダイパッドの前記下面は、前記封止体の前記実装面から露出されており、
前記封止体の前記実装面から露出する前記ダイパッドの前記下面は、実装基板の主面に形成された電極パッドと電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 11, wherein the lower surface of the die pad is exposed from the mounting surface of the sealing body,
The semiconductor device, wherein the lower surface of the die pad exposed from the mounting surface of the sealing body is electrically connected to an electrode pad formed on a main surface of a mounting substrate.
請求項11記載の半導体装置において、前記ダイパッドの前記下面は、前記封止体の前記表面から露出されており、
前記封止体の前記表面には、放熱板が配置されており、
前記封止体の前記表面から露出する前記ダイパッドは、前記放熱板と接続されていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 11, wherein the lower surface of the die pad is exposed from the surface of the sealing body,
A heat sink is arranged on the surface of the sealing body,
The die pad exposed from the surface of the sealing body is connected to the heat radiating plate.
以下の工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法:
(a)上面、及び前記上面とは反対側の下面を有するダイパッドと、前記ダイパッドの周囲に配置されたバスバーと、折り曲げ部が形成され、前記バスバーと繋がる複数の吊りリードと、前記バスバーの周囲に配置された複数のリードとを備えたリードフレームを準備する工程;
(b)主面、前記主面に形成された複数の電極パッド、及び前記主面とは反対側の裏面を有する半導体チップを、前記ダイパッドの前記上面上に搭載する工程;
(c)前記半導体チップの前記複数の電極パッドと前記複数のリードとを、複数のワイヤを介してそれぞれ電気的に接続する工程;
(d)前記複数のリードのそれぞれの一部が封止体の側面から露出し、前記ダイパッドの前記下面が露出するように、前記バスバー、前記半導体チップ及び前記複数のワイヤを樹脂で封止する工程;
(e)前記封止体から露出する前記複数のリードのそれぞれを、前記リードフレームから切り離す工程;
ここで、
前記(a)工程では、前記リードフレームの厚さ方向において、前記リードと前記バスバーとの間隔が前記バスバーと前記ダイパッドとの間隔と同じ、又は前記バスバーと前記ダイパッドとの間隔より大きくなるように、前記リードと前記ダイパッドの前記上面との間に配置された前記バスバーを備えた前記リードフレームを準備し、
前記(d)工程は、
(d1)第1キャビティ、及び前記第1キャビティに繋がる第1ゲートを有する上型と、前記第1キャビティと対向する第2キャビティ、及び前記第1ゲートと対向し、前記第2キャビティに繋がる第2ゲートを有する下型とを備えた成型金型を準備する工程;
(d2)前記(d1)工程の後、前記半導体チップが搭載された前記リードフレームを、前記上型の前記第1キャビティと前記下型の前記第2キャビティとの間に配置する工程;
(d3)前記(d2)工程の後、前記第1ゲート及び前記第2ゲートを介して前記第1キャビティ及び前記第2キャビティ内に前記樹脂を供給する工程;
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method for manufacturing a semiconductor device comprising the following steps:
(A) a die pad having an upper surface and a lower surface opposite to the upper surface, a bus bar disposed around the die pad, a plurality of suspension leads formed with bent portions and connected to the bus bar, and the periphery of the bus bar Providing a lead frame comprising a plurality of leads disposed on;
(B) mounting a semiconductor chip having a main surface, a plurality of electrode pads formed on the main surface, and a back surface opposite to the main surface on the upper surface of the die pad;
(C) electrically connecting the plurality of electrode pads and the plurality of leads of the semiconductor chip via a plurality of wires;
(D) The bus bar, the semiconductor chip, and the plurality of wires are sealed with a resin so that a part of each of the plurality of leads is exposed from a side surface of the sealing body and the lower surface of the die pad is exposed. Process;
(E) separating each of the plurality of leads exposed from the sealing body from the lead frame;
here,
In the step (a), in the thickness direction of the lead frame, the interval between the lead and the bus bar is the same as the interval between the bus bar and the die pad, or larger than the interval between the bus bar and the die pad. Preparing the lead frame comprising the bus bar disposed between the lead and the upper surface of the die pad;
The step (d)
(D1) a first cavity and an upper mold having a first gate connected to the first cavity; a second cavity facing the first cavity; and a first cavity facing the first gate and connected to the second cavity. Preparing a molding die having a lower die having two gates;
(D2) After the step (d1), placing the lead frame on which the semiconductor chip is mounted between the first cavity of the upper die and the second cavity of the lower die;
(D3) After the step (d2), supplying the resin into the first cavity and the second cavity via the first gate and the second gate;
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
請求項14記載の半導体装置の製造方法において、
前記上型は、前記リードフレームの上面と接触する第1パーティング面を有し、
前記下型は、前記リードフレームの下面と接触する第2パーティング面を有し、
前記複数のリードのそれぞれから前記ダイパッドまでの間隔は、前記第2パーティング面から前記第2キャビティの底面までの間隔よりも大きいことを特徴とする半導体装置の製造方法。
15. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 14,
The upper mold has a first parting surface that contacts an upper surface of the lead frame;
The lower mold has a second parting surface that contacts the lower surface of the lead frame;
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein a distance from each of the plurality of leads to the die pad is larger than a distance from the second parting surface to a bottom surface of the second cavity.
請求項15記載の半導体装置の製造方法において、前記(d)工程と前記(e)工程の間において、各リード間のダムを切断し、さらに前記ダムの切断後に外装めっきを塗布することを特徴とする半導体装置の製造方法。   16. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 15, wherein a dam between each lead is cut between the step (d) and the step (e), and an exterior plating is applied after the dam is cut. A method for manufacturing a semiconductor device.
JP2009005618A 2009-01-14 2009-01-14 Semiconductor device and method of manufacturing the same Pending JP2010165777A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009005618A JP2010165777A (en) 2009-01-14 2009-01-14 Semiconductor device and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009005618A JP2010165777A (en) 2009-01-14 2009-01-14 Semiconductor device and method of manufacturing the same

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012208061A Division JP5420737B2 (en) 2012-09-21 2012-09-21 Manufacturing method of semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010165777A true JP2010165777A (en) 2010-07-29
JP2010165777A5 JP2010165777A5 (en) 2012-02-16

Family

ID=42581747

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009005618A Pending JP2010165777A (en) 2009-01-14 2009-01-14 Semiconductor device and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010165777A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013128019A (en) * 2011-12-16 2013-06-27 Renesas Electronics Corp Semiconductor device
JP2013197426A (en) * 2012-03-22 2013-09-30 Renesas Electronics Corp Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor device
JP2014220439A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device
US9812388B2 (en) 2016-01-27 2017-11-07 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000091489A (en) * 1998-09-15 2000-03-31 Anam Semiconductor Inc Semiconductor package lead frame and semiconductor package using the same
JP2002076234A (en) * 2000-08-23 2002-03-15 Rohm Co Ltd Resin-sealed semiconductor device
JP2007324402A (en) * 2006-06-01 2007-12-13 Shinko Electric Ind Co Ltd Lead frame, manufacturing method thereof, and semiconductor device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000091489A (en) * 1998-09-15 2000-03-31 Anam Semiconductor Inc Semiconductor package lead frame and semiconductor package using the same
JP2002076234A (en) * 2000-08-23 2002-03-15 Rohm Co Ltd Resin-sealed semiconductor device
JP2007324402A (en) * 2006-06-01 2007-12-13 Shinko Electric Ind Co Ltd Lead frame, manufacturing method thereof, and semiconductor device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013128019A (en) * 2011-12-16 2013-06-27 Renesas Electronics Corp Semiconductor device
JP2013197426A (en) * 2012-03-22 2013-09-30 Renesas Electronics Corp Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor device
JP2014220439A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device
US9812388B2 (en) 2016-01-27 2017-11-07 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method thereof
US10090237B2 (en) 2016-01-27 2018-10-02 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI385763B (en) Quad flat non-lead semiconductor package and method for making quad flat non-lead semiconductor package
JP5149854B2 (en) Semiconductor device
JP2006318996A (en) Lead frame and resin sealed semiconductor device
JP2014007363A (en) Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device
JP2011029664A (en) Semiconductor device
JP2014220439A (en) Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device
KR20060042872A (en) A method of surface mounting a semiconductor device
JP2005223331A (en) Lead frame, semiconductor chip package using the same, and manufacturing method of the semiconductor chip package
JP5767294B2 (en) Semiconductor device
JP3470111B2 (en) Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device
JP6164895B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP5278037B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
TWI431728B (en) Semiconductor package with reinforced base
JP2010165777A (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP5420737B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2008211231A (en) Lead frame and resin-sealed semiconductor device
JPH11260990A (en) Lead frame, resin-sealed semiconductor device and its manufacture
JP2007134585A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP2009231322A (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2005191158A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP2015060876A (en) Method of manufacturing semiconductor device
JP2002164496A (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
JP5385438B2 (en) Semiconductor device
JP2017108191A (en) Semiconductor device
JP4750076B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20100528

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111227

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120725

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120731

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121127