JP2010161366A - ガス汚染センサ、リソグラフィ装置、汚染物質ガスのレベルを決定する方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガス汚染センサは、試験されるガスのサンプルからイオンビームを生成するイオン源と、第1及び第2イオンディテクタとを含み、第1及び第2イオンディテクタの各々は異なる範囲で偏向されたイオンビームからのイオンを受ける。第1イオンディテクタは、試験されるガス内の一次ガスから生成されたイオンを受け、第2イオンディテクタは、試験されるサンプル内の汚染物質ガスから生成されたイオンを受ける。
【選択図】図2
Description
Claims (15)
- 一次ガスと混合された汚染物質ガスのレベルを決定するガス汚染センサであって、
該ガス汚染センサによって試験されるガスのサンプルを受ける入口と、
前記試験されるガスのサンプルからイオンビームを生成するイオン源と、
イオンの質量対電荷の比率による量によって前記イオンビーム内のイオンのパスを偏向させる場を発生させる場発生器と、
第1の範囲で前記場によって偏向され、かつ前記サンプル内の前記一次ガスから生成されたイオンを受けるように位置決めされた第1イオンディテクタと、
前記第1の範囲とは異なる第2の範囲で前記場によって偏向され、かつ前記サンプル内の前記汚染物質ガスから生成されたイオンを受けるように位置決めされた第2イオンディテクタと
を含む、ガス汚染センサ。 - 前記第2イオンディテクタは、前記第2イオンディテクタが様々な質量対電荷比を有するイオンに対応する様々な偏向による前記場によって偏向されたイオンを検出するアパーチャを含む、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 前記アパーチャは、前記第2イオンディテクタによって検出された前記イオンが約100Daから約200Daの間の統一原子質量単位を有するイオンであるように構成されている、請求項2に記載のガス汚染センサ。
- 前記第2イオンディテクタは二次電子増倍管である、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 前記第1イオンディテクタはファラデーカップである、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 前記場発生器は、前記イオンビーム内のイオンの前記パスを偏向させるために磁場及び静電場のうちの少なくとも1つを発生させる、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 前記一次ガスはH2ガスである、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- プロセッサ及びメモリを含むコントローラをさらに含む請求項1に記載のガス汚染センサであって、較正データが前記メモリに格納されており、前記プロセッサは前記第1イオンディテクタからの測定信号及び前記メモリからの前記較正データを用いて前記入口で受けた前記ガスの圧力を決定する、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 前記プロセッサは、前記第2イオンディテクタからの測定信号、前記メモリからの前記較正データ及び前記プロセッサによって決定された前記入口で受けた前記ガスの圧力を用いて前記入口で受けた前記汚染物質ガスの分圧を決定するように構成されている、請求項8に記載のガス汚染センサ。
- 前記ガス汚染センサは、前記第1及び第2イオンディテクタが同時に動作されるように構成されている、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 前記イオン源はクローズドイオン源である、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 第3イオンディテクタをさらに含む請求項1に記載のガス汚染センサであって、該第3イオンディテクタは、前記第1の範囲及び前記第2の範囲とは異なる第3の範囲で前記場によって偏向され、かつ前記サンプル内の前記第一ガスと混合された第2汚染物質ガスから生成されたイオンを受けるように位置決めされている、請求項1に記載のガス汚染センサ。
- 請求項1に記載のガス汚染センサを含むリソグラフィ装置であって、前記リソグラフィ装置内の少なくとも1つのチャンバ内の汚染物質ガスのレベルを決定するリソグラフィ装置。
- プロセスガスと混合された汚染物質ガスのレベルを決定する方法であって、
試験されるガスのサンプルを受けることと、
イオン源を用いて前記試験されるガスのサンプルからイオンビームを生成することと、
イオンの質量対電荷比による量によって前記イオンビーム内のイオンのパスを偏向させる場を提供することと、
第1の範囲で前記場によって偏向され、かつ前記プロセスガスから生成されたイオンを検出するために第1イオンディテクタを使用することと、
前記第1の範囲とは異なる第2の範囲で前記場によって偏向され、かつ前記汚染物質ガスから生成されたイオンを検出するために第2イオンディテクタを使用することと
を含む、方法。 - リソグラフィ装置を用いてパターン付き放射ビームを基板上に投影することを含むデバイス製造方法であって、前記放射ビームを前記基板上に投影するステップの前、間、及び後のうちの少なくとも1つにおいて、前記リソグラフィ装置の少なくとも1つのチャンバ内の汚染物質ガスのレベルが請求項14に記載の方法を用いて決定される、デバイス製造方法。
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