JP2010135513A - Package - Google Patents

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秀樹 松原
Hideaki Toshioka
英昭 年岡
Kyoichiro Nakatsugi
恭一郎 中次
Masahiro Adachi
真寛 足立
Yasuhiro Okuda
泰弘 奥田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a package capable of expanding usability of an optical device while keeping low-cost and high reliability. <P>SOLUTION: The package A has the optical device 10 mounted in a flip-chip state over a mother substrate 1. First and second interconnect pads 5 and 6 are provided on an upper surface of the mother substrate 1, and an opening 1a is formed in the mother substrate 1. On a principal surface side of the optical device 10, a p-type electrode 15 and an n-type electrode 16 are provided. Between the optical device 10 and mother substrate 1, an ACF 30 is interposed which has chain metallic particles 31 dispersed in light-transmissive resin. The p-type electrode 15 and n-type electrode 16, and the first and second interconnect pads 5 and 6 are electrically connected to each other by the chain metallic particles 31 in the ACF 30. The ACF 30 having the chain metallic particles dispersed functions as a path for light in addition to a chip bonding function and an electric connection function. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、光デバイスを内蔵した光デバイスを実装した実装体に係り、特に信頼性向上対策に関する。   The present invention relates to a mounting body on which an optical device including an optical device is mounted, and particularly relates to a measure for improving reliability.

半導体チップの実装方法としては、銀ペーストやハンダなどのチップボンディングと、ワイヤボンディングによる電極接続とを別々に行う方法が一般的である。
図12(a)は、一般的な実装方法として、ワイヤボンディングを用いる方法の手順を示している。図12(a)に示す方法では、母基板101の上に、銀ペースト102を塗布し、この上に半導体チップ110をマウントする。この例では、半導体チップ110は、垂直方向共振型半導体レーザである。半導体チップ110には、nコンタクト領域112と、活性領域を含むメサ領域114と、p型電極115と、n型電極116とが設けられている。アニール後、母基板101上の電機(図示せず)と、p型電極115,n型電極116とを、ボンディングワイヤ121,122により、それぞれ接続する。
ただし、上記方法では、工程も多く、製造コストの低減には一定の限界がある。
As a method for mounting a semiconductor chip, a method of separately performing chip bonding such as silver paste or solder and electrode connection by wire bonding is generally used.
FIG. 12A shows a procedure of a method using wire bonding as a general mounting method. In the method shown in FIG. 12A, the silver paste 102 is applied on the mother substrate 101, and the semiconductor chip 110 is mounted thereon. In this example, the semiconductor chip 110 is a vertical direction resonant semiconductor laser. The semiconductor chip 110 is provided with an n contact region 112, a mesa region 114 including an active region, a p-type electrode 115, and an n-type electrode 116. After annealing, an electric machine (not shown) on the mother substrate 101 is connected to the p-type electrode 115 and the n-type electrode 116 by bonding wires 121 and 122, respectively.
However, in the above method, there are many steps, and there is a certain limit in reducing the manufacturing cost.

そこで、低コスト化を図るものとして、チップボンディングと電極接続とを一度に行うフリップチップ実装法がある。 図12(b)は、ベアフリップチップ法の手順を示している。まず、図12(a)に示す半導体チップ110と同様の半導体チップ110を準備する。そして、半導体チップ110のp型電極115,n型電極116の上に、それぞれスタッドバンプ123,124を設ける。次に、半導体チップ110を反転し、いわゆるフリップチップ状態で、母基板101上に搭載する。そして、超音波圧着により、スタッドバンプ123,124を介して、各電極115,116と母基板101の電極とを接合する。この方法は、非特許文献1の図4に示すアンダーフィルを省略した構造に相当する。
このフリップチップ実装法は、IC等の電子デバイスを中心に広がっている。ただし、後述するように、ベアフリップチップ実装法では、信頼性に難点がある。
In order to reduce the cost, there is a flip chip mounting method in which chip bonding and electrode connection are performed at once. FIG. 12B shows the procedure of the bare flip chip method. First, a semiconductor chip 110 similar to the semiconductor chip 110 shown in FIG. Then, stud bumps 123 and 124 are provided on the p-type electrode 115 and the n-type electrode 116 of the semiconductor chip 110, respectively. Next, the semiconductor chip 110 is inverted and mounted on the mother substrate 101 in a so-called flip chip state. And each electrode 115,116 and the electrode of the mother board | substrate 101 are joined via stud bump 123,124 by ultrasonic crimping | compression-bonding. This method corresponds to a structure in which the underfill shown in FIG.
This flip chip mounting method has spread mainly in electronic devices such as ICs. However, as described later, the bare flip chip mounting method has a problem in reliability.

図12(c)は、アンダーフィルを用いたフリップチップ実装法の手順を示している(非特許文献1の図4参照)。まず、ベアフリップチップ法と同様の半導体チップ110のp型電極115,n型電極116の上に、それぞれスタッドバンプ123,124を設ける。次に、母基板101の上にアンダーフィル樹脂130を塗布する。次に、半導体チップ110を反転し、いわゆるフリップチップ状態で、アンダーフィル樹脂130の上に搭載する。そして、超音波圧着により、スタッドバンプ123,124を介して、各電極115,116と母基板101の電極とを接合する。このとき、アンダーフィル樹脂130は、接続部分を含むチップー母基板間の空間を埋める。
アンダーフィルを介在させることにより、ベアフリップチップ法の難点が解消されており、最近では、この方法の採用が拡大されつつある。
民生機器向けフリップチップ接続技術開発(FIND Vol.20 No.2/No.3 002 p.6-10) 特開2003−331951号公報
FIG. 12C shows a procedure of a flip chip mounting method using underfill (see FIG. 4 of Non-Patent Document 1). First, stud bumps 123 and 124 are provided on a p-type electrode 115 and an n-type electrode 116 of a semiconductor chip 110 similar to the bare flip chip method, respectively. Next, an underfill resin 130 is applied on the mother substrate 101. Next, the semiconductor chip 110 is inverted and mounted on the underfill resin 130 in a so-called flip chip state. And each electrode 115,116 and the electrode of the mother board | substrate 101 are joined via stud bump 123,124 by ultrasonic crimping | compression-bonding. At this time, the underfill resin 130 fills the space between the chip and the mother board including the connection portion.
By interposing the underfill, the difficulty of the bare flip chip method has been solved, and recently, the adoption of this method is being expanded.
Development of flip chip connection technology for consumer products (FIND Vol.20 No.2 / No.3 002 p.6-10) JP 2003-331951 A

ところで、上記フリップチップ実装技術を、そのまま光デバイスに適用しようとすると、種々不具合が生じる。
図12(b)に示すベアフリップチップの場合には、圧着の際の超音波によって、チップ内の活性領域に悪影響を与えるおそれがある。また、接合部がバンプ表面の圧着によってつぶれた部分のみなので、横方向の応力に抗するダイシェア強度が弱いという難点がある。これは、銀ペーストのように、チップ−母基板間の空間を埋める部材がないからである
また、重要な機能をもつ電極やチップ表面が実装時に基板側部材と接触して傷が生じたり、酸化による機能劣化などが生じるおそれがある。
By the way, if the flip chip mounting technique is applied to an optical device as it is, various problems occur.
In the case of the bare flip chip shown in FIG. 12 (b), there is a possibility that the active region in the chip is adversely affected by the ultrasonic waves during the pressure bonding. In addition, since the joint portion is only a portion crushed by the pressure bonding of the bump surface, there is a difficulty that the die shear strength against the stress in the lateral direction is weak. This is because there is no member that fills the space between the chip and the mother substrate like silver paste. Also, the electrode having an important function or the chip surface comes into contact with the substrate side member at the time of mounting, and scratches occur. There is a risk of functional deterioration due to oxidation.

図12(c)に示すアンダーフィルを用いた場合、スペースが樹脂で埋められるので、ダイシェア強度は保持しうる。また、アンダーフィル130が介在することで、基板側部材との接触による損傷も回避しうる。
しかしながら、圧着の際の超音波によって、チップ内の素子に悪影響を与えるおそれは、依然として残る。
また、フリップチップ状態の光デバイスの場合、通常、光の授受のために、母基板101に光路となる開口を設ける。すると、流動性が必要とされるアンダーフィル130が開口に流れ込んで、トラブルを生じさせるおそれがある。すなわち、開口に流れ込んだ樹脂が開口をふさぐことで、光の透過性を低下させるなど、種々不具合が生じる。
When the underfill shown in FIG. 12C is used, since the space is filled with resin, the die shear strength can be maintained. In addition, since the underfill 130 is interposed, damage due to contact with the substrate-side member can be avoided.
However, there is still a possibility that the ultrasonic waves during the crimping may adversely affect the elements in the chip.
In the case of an optical device in a flip-chip state, an opening serving as an optical path is usually provided in the mother substrate 101 for light transmission / reception. Then, the underfill 130 that requires fluidity may flow into the opening and cause trouble. That is, the resin flowing into the opening blocks the opening, thereby causing various problems such as a decrease in light transmission.

本発明の目的は、従来のフリップチップ実装法と同等の低コスト性および高信頼性を維持しつつ、光デバイスの利用性を拡大しうる実装体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a mounting body capable of expanding the usability of an optical device while maintaining low cost and high reliability equivalent to those of a conventional flip chip mounting method.

本発明の実装体は、一部に基体側導体を有する実装基体上に、一部にチップ側導体を有する光デバイスを搭載した実装体である。光デバイスは、実装基体に対向して、かつ、チップ側導体を前記基体側導体の上方に位置させて配置されている。
そして、光デバイスと実装基体との間には、チップ側導体と基体側導体とを電気的に接続するとともに、光デバイスに出入りする光の通路となる異方導電性膜が介在している。
異方導電性膜とは、ACF(Anisotropic Conductive Film)と略称されるものである。異方導電性膜は、膜面方向(横方向)には導電性を有しておらず、膜面にほぼ垂直な方向(縦方向)に導電性を有している。一般には、異方導電性膜は、絶縁樹脂内に、導電性粒子を分散させたものである。
The mounting body of the present invention is a mounting body in which an optical device having a chip-side conductor in part is mounted on a mounting base having a base-side conductor in part. The optical device is disposed so as to face the mounting substrate and have the chip-side conductor positioned above the substrate-side conductor.
Between the optical device and the mounting substrate, there is an anisotropic conductive film that electrically connects the chip-side conductor and the substrate-side conductor and serves as a light path for entering and exiting the optical device.
The anisotropic conductive film is abbreviated as ACF (Anisotropic Conductive Film). The anisotropic conductive film has no conductivity in the film surface direction (lateral direction) and has conductivity in a direction (vertical direction) substantially perpendicular to the film surface. In general, the anisotropic conductive film is obtained by dispersing conductive particles in an insulating resin.

この構造により、光デバイスで生成された光を基体側の方向に出光したり、逆方向から光を光デバイスに入光させることが可能になる。従来、ACFは光とは無関係の電子デバイスや、配線板の接続に応用されている。しかし、導電性粒子(金属粒子)が存在するので、一般には透明性が悪いことから、ACFを用いて、光デバイスの光を通過させることは、考えられていなかった。
それに対し、本発明者たちは、異方導電性膜の中には光透過性のよいものがあることに着目し、異方導電性膜に、チップボンディングと電気的接続とに加えて、光の通路という新たな機能を与えることを想到した。つまり、実装の分野において、新たな利用法を切り開くものである。
光デバイスは、フリップチップ状態であってもよいし、フリップチップ状態でなくてもよい。本発明の実装体は、フリップチップ実装でなくても、フリップチップ実装法の利点であるチップボンディングと電気的接続とに加えて、光の授受という新たな機能を与えることができるからである。透明性のワイドバンドギャップ半導体を用いた光デバイスの場合、裏面側から光を出光することも可能である。
異方導電性膜は、アンダーフィルとは異なり、粘性を比較的高く調節することが容易である。よって、実装基体側に開口があっても、開口をふさがないようにすることも容易である。また、超音波を用いず、熱圧着や紫外線照射によって接続を行うので、実装時における光デバイスの損傷はほとんど生じない。
しかも、熱圧着や紫外線照射という簡単な接続法が採用できるので、製造コストを低減することができる。また、光デバイス−実装基体間のスペースが異方導電性膜によって埋められるので、ダイシェア強度も確保することができる。
以上のことから、本発明の実装体により、光デバイスの実装に際し、低コストと高信頼性とを維持しつつ、光デバイスの利用性を高めることができる。
With this structure, it is possible to emit light generated by the optical device in the direction of the substrate or to enter the optical device from the opposite direction. Conventionally, ACF has been applied to connection of electronic devices unrelated to light and wiring boards. However, since conductive particles (metal particles) are present, the transparency is generally poor, and therefore it has not been considered to transmit light from an optical device using ACF.
On the other hand, the present inventors pay attention to the fact that some anisotropically conductive films have good light transmission properties, and in addition to chip bonding and electrical connection, the anisotropically conductive film has a light transmitting property. I thought of giving the new function of the passage. In other words, it opens up new uses in the field of packaging.
The optical device may be in a flip chip state or may not be in a flip chip state. This is because the mounting body of the present invention can provide a new function of light transmission / reception in addition to chip bonding and electrical connection, which are advantages of the flip chip mounting method, even if it is not flip chip mounting. In the case of an optical device using a transparent wide bandgap semiconductor, it is possible to emit light from the back side.
Unlike the underfill, the anisotropic conductive film is easy to adjust the viscosity to be relatively high. Therefore, even if there is an opening on the mounting substrate side, it is easy to prevent the opening from being blocked. Further, since the connection is performed by thermocompression bonding or ultraviolet irradiation without using ultrasonic waves, the optical device is hardly damaged during mounting.
In addition, since a simple connection method such as thermocompression bonding or ultraviolet irradiation can be employed, the manufacturing cost can be reduced. Further, since the space between the optical device and the mounting substrate is filled with the anisotropic conductive film, the die shear strength can be ensured.
From the above, according to the mounting body of the present invention, it is possible to improve the usability of the optical device while maintaining low cost and high reliability when mounting the optical device.

異方導電性膜は、使用光に対して60%以上の光透過率を有していることが好ましい。発明者たちの実験によると、60%以上の光透過率を有していれば、異方導電性膜を光の通路として利用することが容易であることが判明している。
使用光は、一般に、可視光から近赤外線の範囲、つまり400〜1600nm程度である。
The anisotropic conductive film preferably has a light transmittance of 60% or more with respect to the used light. According to the experiments by the inventors, it has been found that if the light transmittance is 60% or more, it is easy to use the anisotropic conductive film as a light path.
The light used is generally in the range from visible light to near infrared, that is, about 400 to 1600 nm.

特に、異方導電性膜として、金属粒子を縦方向に連鎖させてなる鎖状金属粒子を、透光性樹脂に分散させたものが好ましい。これは、特許文献1に記載されるように、狭ピッチの電極接続に適したものであるが、金属粒子が縦方向に連鎖していることで、上下方向の光透過性も非常に高いことがわかった。   In particular, the anisotropic conductive film is preferably one in which chain metal particles obtained by chaining metal particles in the vertical direction are dispersed in a translucent resin. As described in Patent Document 1, this is suitable for electrode connection with a narrow pitch, but the light transmittance in the vertical direction is very high because the metal particles are chained in the vertical direction. I understood.

また、鎖状金属粒子を構成する金属粒子としては、Ni粒が好ましいことがわかっている。Ni粒を用いることで、鎖状金属粒子の製造が容易であり、耐酸化性も高いなど、機能的にも優れた鎖状金属粒子が得られる。   Further, it has been found that Ni particles are preferable as the metal particles constituting the chain metal particles. By using Ni particles, chain metal particles that are easy to produce chain metal particles and have high functional properties such as high oxidation resistance can be obtained.

一般的には、光デバイスは、フリップチップ状態で配置されていることが好ましい。発光ダイオード(LED)、垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL)を含むレーザダイオード(LD)、フォトダイオード(PD)、太陽電池(SC)などは、活性領域のある主面側にp電極とn電極とを備えることが多い。よって、通常は、光デバイスの主面側から光の授受を行うことが多く、主面を実装基体側に向けたフリップチップ実装が適している。   In general, the optical device is preferably arranged in a flip chip state. A light emitting diode (LED), a laser diode (LD) including a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), a photodiode (PD), a solar cell (SC), and the like have a p-electrode and n on the main surface side having an active region. It is often provided with an electrode. Therefore, usually, light is often exchanged from the main surface side of the optical device, and flip-chip mounting with the main surface facing the mounting substrate side is suitable.

実装基体における光デバイスの下方に位置する領域に、光導波部材との光伝達部が形成されていることにより、光の利用性がさらに拡大する。   Since the light transmission part with the optical waveguide member is formed in a region located below the optical device on the mounting substrate, the light utilization is further expanded.

上記光伝達部が、開口である場合には、開口に、光導波部材である光ファイバーの端部を挿入しておくことが好ましい。これにより、各種外部機器との間で、光の授受を行うことが容易となる。つまり、光インターコネクションとしての利用拡大が期待できる。   When the light transmission part is an opening, it is preferable to insert an end of an optical fiber as an optical waveguide member into the opening. This makes it easy to exchange light with various external devices. That is, the use expansion as an optical interconnection can be expected.

本発明の実装体によれば、低コスト性および高信頼性を維持しつつ、光デバイスの利用性を拡大することができる。   According to the mount assembly of the present invention, it is possible to expand the usability of the optical device while maintaining low cost and high reliability.

(実施の形態)
図1は、実施の形態に係る実装体Aの構造を示す断面図である。
本実施の形態に係る実装体Aは、実装基体である母基板1の上方に、光デバイス10をフリップチップ状態で搭載したものである。母基板1の上面には、基板側導体である第1配線パッド5と、第2配線パッド6とが設けられている。また、母基板1には、光を通過させるための開口1aが形成されている。
(Embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a structure of a mounting body A according to the embodiment.
The mounting body A according to the present embodiment is obtained by mounting the optical device 10 in a flip chip state above the mother board 1 that is a mounting base. On the upper surface of the mother board 1, a first wiring pad 5 and a second wiring pad 6 which are board-side conductors are provided. The mother substrate 1 has an opening 1a for allowing light to pass therethrough.

光デバイス10の主面側には、活性領域やクラッド層を含む動作領域11と、光ガイド領域12と、光ガイド領域12を両側から挟む酸化狭窄層13と、pコンタクト領域14とが設けられている。さらに、光デバイス10の主面側に、チップ側導体である、各1対のp型電極15とn型電極16とが設けられている。なお、n型電極16の直下領域は、nコンタクト領域となっている。   On the main surface side of the optical device 10, an operation region 11 including an active region and a cladding layer, a light guide region 12, an oxidized constricting layer 13 sandwiching the light guide region 12 from both sides, and a p contact region 14 are provided. ing. Further, a pair of p-type electrode 15 and n-type electrode 16, which are chip-side conductors, are provided on the main surface side of the optical device 10. Note that the region immediately below the n-type electrode 16 is an n-contact region.

ここで、本実施の形態の特徴は、光デバイス10と母基板1との間に、ACF(異方導電性膜)30が介在している点である。本実施の形態では、ACF30は、光透過性樹脂内に鎖状金属粒子31を分散させたものである。
そして、ACF30中の鎖状金属粒子31により、p型電極15と第1配線パッド5とが電気的に接続され、n型電極16と第2配線パッド6とが電気的に接続されている。
Here, the feature of this embodiment is that an ACF (anisotropic conductive film) 30 is interposed between the optical device 10 and the mother substrate 1. In the present embodiment, the ACF 30 is obtained by dispersing chain metal particles 31 in a light transmissive resin.
The p-type electrode 15 and the first wiring pad 5 are electrically connected by the chain metal particles 31 in the ACF 30, and the n-type electrode 16 and the second wiring pad 6 are electrically connected.

ACF30の光透過性樹脂としては、エポキシ樹脂,アクリル樹脂,ポリイミド樹脂,ポリウレタン樹脂,シリコーン樹脂などが用いられる。エポキシ樹脂を用いる場合、加熱により硬化するタイプ、光照射によって硬化するタイプ、などがあるが、いずれを用いてもよい。
本実施の形態のACF30中の鎖状金属粒子31は、ひも状に細長く、良導体の金属(Ni)によって構成されている。電流は、ひも状の鎖状金属粒子31の長手方向に、スムースに流れる。このため、各電極15,16と各パッド5,6との導電性を高く維持することができる。ACF30の製造方法については、後に詳しく説明する。
鎖状金属粒子30を構成する金属は、Ni(ニッケル)に限られず、Fe(鉄),Co(コバルト),およびそれらの合金など、磁性を有するものが望ましい。ただし、Au(金),Ag(銀),Cu(銅),Pd(パラジウム),Rh(ロジウム)などの貴金属などでもかまわない。
An epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a polyurethane resin, a silicone resin, or the like is used as the light transmissive resin of ACF30. In the case of using an epoxy resin, there are a type that is cured by heating, a type that is cured by light irradiation, and the like.
The chain metal particles 31 in the ACF 30 of the present embodiment are elongated in a string shape and are made of a good conductor metal (Ni). The current flows smoothly in the longitudinal direction of the string-like chain metal particles 31. For this reason, the conductivity between the electrodes 15 and 16 and the pads 5 and 6 can be maintained high. A method for manufacturing the ACF 30 will be described in detail later.
The metal constituting the chain metal particles 30 is not limited to Ni (nickel), but is preferably a magnetic material such as Fe (iron), Co (cobalt), and alloys thereof. However, noble metals such as Au (gold), Ag (silver), Cu (copper), Pd (palladium), and Rh (rhodium) may be used.

本実施の形態のACF30には、縦方向につらなる鎖状金属粒子31が分散されているので、ACF30の光透過率が非常に高い点が特徴である。したがって、光デバイス10で生成された光は、図中矢印で示すように、ACF30を通過して母基板1の開口1aから出光する。また、開口1aから入光した光は、ACF30を通過して光デバイス10に到達する。つまり、ACF30は光の通路になっている。
このように、ACF30に、チップボンディング機能、電気的接続機能に加えて、光の通路として機能させている。
The ACF 30 of the present embodiment is characterized in that the light transmittance of the ACF 30 is very high because the chain metal particles 31 that are formed in the vertical direction are dispersed. Therefore, the light generated by the optical device 10 passes through the ACF 30 and exits from the opening 1a of the mother substrate 1 as indicated by an arrow in the figure. Further, the light incident from the opening 1 a passes through the ACF 30 and reaches the optical device 10. That is, the ACF 30 is a light path.
As described above, the ACF 30 functions as a light path in addition to the chip bonding function and the electrical connection function.

図3(a),(b)は、本実施の形態に係る実装体Aの組み立て手順を示す断面図である。
まず、図3(a)に示すように、母基板1の上方に光デバイス10をフリップチップ状態で配置し、その間にACF30を介在させる。このとき、ACF30として、固体のシート状のものを使用する。ただし、液状のACF30を塗布してもよい。
次に、光デバイス10と母基板1との間に押圧力を印加しつつ、加熱するか、紫外線を照射するかにより、ACF30の樹脂を硬化させる。これにより、各電極15,16と各パッド5,6とが導通状態となる。光デバイス10の基板が、サファイア,バルクGaN等の紫外線を透過する材質である場合には、紫外線照射型を用いることができる。
以上の工程によって、図3(b)に示す実装体Aが得られる。実装体Aについては、すでに説明した通りである。
FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views showing the assembly procedure of the mounting body A according to the present embodiment.
First, as shown in FIG. 3A, the optical device 10 is disposed in a flip chip state above the mother substrate 1, and the ACF 30 is interposed therebetween. At this time, a solid sheet is used as the ACF 30. However, liquid ACF 30 may be applied.
Next, the resin of the ACF 30 is cured by applying a pressing force between the optical device 10 and the mother substrate 1 or by irradiating with ultraviolet rays. Thereby, each electrode 15 and 16 and each pad 5 and 6 will be in a conduction state. When the substrate of the optical device 10 is made of a material that transmits ultraviolet rays, such as sapphire and bulk GaN, an ultraviolet irradiation type can be used.
Through the above steps, the mounting body A shown in FIG. 3B is obtained. The mounting body A is as already described.

本実施の形態によると、以下の効果を発揮することができる。
本実施の形態では、ACF30に、チップボンディング機能、電気的接続機能に加えて、光の通路として機能させている。このうち、チップボンディング機能と電気的接続機能とは、従来のフリップチップ実装法においても、満たされている。そこで、従来のフリップチップ実装法と、本実施の形態の実装法とを比較すると,以下の通りである。
以上のように、本実施の形態の実装工程は、非常に簡素なものである。したがって、従来のフリップチップ実装と同様に、製造コストを安価に抑えることができる。また、光デバイス10−実装基体1間のスペースがACF30によって埋められるので、ダイシェア強度も確保することができる。また、超音波を用いず、熱圧着や紫外線照射によって接続を行うので、実装時における光デバイス10の損傷はほとんど生じない。
以上の点は、従来のフリップチップ実装法で、アンダーフィルを用いる方法と同等である。つまり、ベアフリップチップ実装法に対する優位性を保持している。
According to the present embodiment, the following effects can be exhibited.
In this embodiment, the ACF 30 functions as a light path in addition to the chip bonding function and the electrical connection function. Of these, the chip bonding function and the electrical connection function are satisfied even in the conventional flip chip mounting method. Therefore, a comparison between the conventional flip chip mounting method and the mounting method of the present embodiment is as follows.
As described above, the mounting process of the present embodiment is very simple. Therefore, like the conventional flip chip mounting, the manufacturing cost can be kept low. Moreover, since the space between the optical device 10 and the mounting substrate 1 is filled with the ACF 30, die shear strength can be ensured. Further, since the connection is performed by thermocompression bonding or ultraviolet irradiation without using ultrasonic waves, the optical device 10 is hardly damaged during mounting.
The above points are equivalent to the conventional flip chip mounting method using the underfill. That is, it has an advantage over the bare flip chip mounting method.

一方、従来のフリップチップ実装法で、アンダーフィルを用いた場合には、金スタッドバンプを用い、超音波による接合を行うことで、デバイスに損傷を与えるおそれがある。それに対し、本実施の形態のACF30を用いた場合、圧力印加と、熱硬化処理または紫外線照射による硬化処理を行うだけでよい。つまり、超音波の印加は不要であるので、デバイスの損傷波ほとんど生じない。   On the other hand, when an underfill is used in the conventional flip chip mounting method, there is a risk of damaging the device by using a gold stud bump and performing ultrasonic bonding. On the other hand, when the ACF 30 of the present embodiment is used, it is only necessary to perform pressure application and thermal curing or curing by ultraviolet irradiation. That is, since the application of ultrasonic waves is unnecessary, the damage wave of the device hardly occurs.

また、従来のフリップチップ実装法におけるアンダーフィルを、光の通路として機能させようとすると、実装基体1の開口1aをふさぐなどの不具合が生じる。
それに対し、ACF30は、固体シート状のものを用いることで、実装基体1に開口1aがあっても、開口1aをふさぐことはない。したがって、後述するごとく、開口1aに光ファイバーを挿入して,外部機器との光の授受を行うことも容易である。よって、上記従来の不具合を解消することができる。
In addition, if the underfill in the conventional flip chip mounting method is to function as a light path, problems such as blocking the opening 1a of the mounting substrate 1 occur.
On the other hand, the ACF 30 is a solid sheet, so that even if the mounting substrate 1 has the opening 1a, the opening 1a is not blocked. Therefore, as will be described later, it is also easy to insert and receive light from an external device by inserting an optical fiber into the opening 1a. Therefore, the conventional problems can be solved.

以上のことから、ACF30を利用した実装体Aにより、光デバイス10の実装に際し、低コストと高信頼性とを維持しつつ、光デバイス10の利用性を高めることができる。   From the above, the mounting body A using the ACF 30 can improve the usability of the optical device 10 while maintaining low cost and high reliability when mounting the optical device 10.

さらに、ACF30を用いることで、通常のフリップチップ実装に必要なバンプをなくすことも可能である(図1、図3参照)。よって、バンプをなくすことで、製造コストのさらなる低減も可能となる。   Further, by using the ACF 30, it is possible to eliminate bumps necessary for normal flip chip mounting (see FIGS. 1 and 3). Therefore, the manufacturing cost can be further reduced by eliminating the bumps.

特に、本実施の形態では、ACF30として、鎖状金属粒子を分散させたものを用いている。この構成により、汎用されている金属粒子を樹脂中に分散させたものに比べ、光の透過率が飛躍的に向上する。よって、本実施の形態のACF30は,光の通路として特に高い機能を発揮することができる。   In particular, in this embodiment, ACF 30 in which chain metal particles are dispersed is used. With this configuration, the light transmittance is drastically improved as compared with the case where commonly used metal particles are dispersed in a resin. Therefore, the ACF 30 of the present embodiment can exhibit a particularly high function as a light path.

なお、本実施の形態では、光デバイス10として、垂直共振型の面発光レーザ(VCSEL)を用いたが、光デバイスはこれに限定されるものではない。光デバイスが、他の構造の半導体レーザ、フォトダイオード(PD)等の受光素子であってもよい。
ただし、発光ダイオード(LED)、垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL)を含むレーザダイオード(LD)フォトダイオード(PD)、太陽電池(SC)などは、活性領域のある主面側にp電極とn電極とを備えることが多いので、本発明に特に適している。
In this embodiment, a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) is used as the optical device 10, but the optical device is not limited to this. The optical device may be a light receiving element such as a semiconductor laser having another structure or a photodiode (PD).
However, a light emitting diode (LED), a laser diode (LD) photodiode (PD) including a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), a solar cell (SC), and the like have a p-electrode on the main surface side having an active region. Since it often includes an n-electrode, it is particularly suitable for the present invention.

−実施の形態の変形例−
図2は、実施の形態の変形例に係る実装体Aの構造を示す断面図である。
図2において、図1と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付して、説明を省略する。本変形例において、光デバイス10および実装基体1の構造は、実施の形態と同じであり、ACF30の構造のみが異なる。
本変形例においては、ACF30は、光透過性を有する樹脂内に、球状の金属粒子32を分散させたものである。光デバイス10と母基板1との間に押圧力を印加しつつ、加熱するか、紫外線を照射するかにより、ACF30の樹脂を硬化させる。すると、各電極15,16と各パッド5,6との間に存在する金属粒子32同士がつながる。これにより、各電極15,16と各パッド5,6とが導通状態となる。
-Modification of the embodiment-
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a structure of a mounting body A according to a modified example of the embodiment.
In FIG. 2, members having the same functions as those in FIG. In this modification, the structures of the optical device 10 and the mounting substrate 1 are the same as those in the embodiment, and only the structure of the ACF 30 is different.
In this modification, the ACF 30 is obtained by dispersing spherical metal particles 32 in a resin having optical transparency. While applying a pressing force between the optical device 10 and the mother substrate 1, the resin of the ACF 30 is cured by heating or irradiating with ultraviolet rays. Then, the metal particles 32 existing between the electrodes 15 and 16 and the pads 5 and 6 are connected. Thereby, each electrode 15 and 16 and each pad 5 and 6 will be in a conduction state.

本変形例によっても、ACF30の光透過率が十分高ければ、実施の形態と同じ効果が得られる。ただし、横方向にも相当に寸法がある金属粒子32は、光を遮断する割合が実施の形態における鎖状金属粒子31よりも大きい。また、図2に示す金属粒子32aのように、電極−配線パッド間で押しつぶされた金属粒子32aは大きく横方向に広がる。したがって、本変形例のACF30の透過率は、実施の形態よりも低下する。   Also according to this modification, the same effect as the embodiment can be obtained if the light transmittance of the ACF 30 is sufficiently high. However, the metal particle 32 having a considerable size in the lateral direction has a higher light blocking ratio than the chain metal particle 31 in the embodiment. Moreover, like the metal particle 32a shown in FIG. 2, the metal particle 32a crushed between the electrode and the wiring pad greatly spreads in the lateral direction. Therefore, the transmittance of the ACF 30 of this modification is lower than that of the embodiment.

図4(a),(b)は、鎖状金属粒子31である鎖状Ni粒子の濃度と、ACF30の光透過率(可視領域)との関係を示す図、および光透過率の波長依存性を示す図である。発明者達の実験では、鎖状Ni濃度が数%程度でも電気的な接続の信頼性は確保できる。また、光透過率が60%以上であれば、光デバイスや光デバイスの動作を確保できることがわかっている。
図4(a)に示されるように、本実施の形態の鎖状Ni粒子を含有したACFの場合、実線Lncに示すような粒子濃度−透過利率特性を示す。透過率が60%の範囲に限定して、実線Lncをリニアな特性線に近似すると、破線Lniとなる。
図4(b)は、鎖状Ni粒子を分散させた透過率80%のACFを熱硬化させた場合の非狩生透過率の波長依存性を評価したものである。同図からわかるとおり、可視光から近赤外光に亘って,広い波長範囲で十分な透過特性を示していることがわかる。
一方、現在市販されている金属粒子を含有したACFの場合、粒子濃度は不明だが、光透過率は、30%を少し超える程度である(点線Lpa参照)。ただし、点線Lpaは、粒子濃度が増大しても、光透過率が一定であるという意味ではない。
したがって、粒子濃度が電気的接続を確保できる範囲で、光透過率が60%以上となるように、金属粒子の材質,形状,分散性等を調整することで、上記変形例においても、実施の形態の基本的な効果を得ることはできる。
4A and 4B are diagrams showing the relationship between the concentration of the chain Ni particles as the chain metal particles 31 and the light transmittance (visible region) of the ACF 30, and the wavelength dependence of the light transmittance. FIG. In the experiments by the inventors, the reliability of electrical connection can be ensured even when the chain Ni concentration is about several percent. Further, it has been found that if the light transmittance is 60% or more, the operation of the optical device or the optical device can be secured.
As shown in FIG. 4A, in the case of the ACF containing the chain Ni particles of the present embodiment, the particle concentration-permeation rate characteristic as shown by the solid line Lnc is shown. When the transmittance is limited to a range of 60% and the solid line Lnc is approximated to a linear characteristic line, a broken line Lni is obtained.
FIG. 4B evaluates the wavelength dependence of the non-cultivation transmittance when an ACF having a transmittance of 80% in which chain Ni particles are dispersed is thermally cured. As can be seen from the figure, sufficient transmission characteristics are shown in a wide wavelength range from visible light to near infrared light.
On the other hand, in the case of ACF containing metal particles currently on the market, the particle concentration is unknown, but the light transmittance is a little over 30% (see dotted line Lpa). However, the dotted line Lpa does not mean that the light transmittance is constant even if the particle concentration increases.
Therefore, even in the above-described modification example, by adjusting the material, shape, dispersibility, etc. of the metal particles so that the light transmittance is 60% or more within the range in which the electrical connection can ensure electrical connection. You can get the basic effect of form.

実施例1として、光ファイバ接続用フェルール上の面発光レーザ(VCSEL)および受光用の光デバイスについて、特性を調べた。図5(a)〜(c)は、順に、実施例1で用いた光デバイス,実装基板(実装基体),および受光用PDの構造を示す平面図である。
図5(a)に示すように、光デバイスは、主面側に発光部とp電極,n電極を有する垂直共振器型面発光レーザ(GaAs系VCSEL)である。
図5(b)に示すように、実装基板は、マルチモード光ファイバ(120μm径)を挿入する開口を有している。実装基板は、125μmピッチで、幅が相等しいp電極,n電極を備えている。
As Example 1, the characteristics of a surface emitting laser (VCSEL) and a light receiving optical device on an optical fiber connecting ferrule were examined. 5A to 5C are plan views showing the structures of the optical device, the mounting substrate (mounting base), and the light receiving PD used in Example 1 in order.
As shown in FIG. 5A, the optical device is a vertical cavity surface emitting laser (GaAs VCSEL) having a light emitting portion, a p electrode, and an n electrode on the main surface side.
As shown in FIG. 5B, the mounting substrate has an opening for inserting a multimode optical fiber (120 μm diameter). The mounting board includes a p-electrode and an n-electrode having a pitch of 125 μm and the same width.

上記実装基板上に、鎖状Ni粒子分散型ACF(透明エポキシ基材)を光デバイス全面が覆われるように貼り付けた(貼り付け領域は点線部より大)。ACFは、15μm厚で赤外領域(850nm近傍)での透過率80%となるように調整されている。次に、光デバイスをフリップチップ状態で、電極パターン同士が相対するように、実装基板上にマウントした。そして、190℃に加熱しながら、0.3Nの圧力を印加して30秒保持したところ、光デバイスは強く基板に接着された。さらに、実装基板の下面側から光ファイバを差し込み、実装基板の電極パターンを通して、光デバイスに電流注入を行なった。
図6(a),(b)は、実施例1におけるILV測定および光出力−波長特性を示す図である。図6(a)に示すように、電流8mAの通電時に、1mWの光出力が光ファイバの出力端にて観測された。また、図6(b)に示すように、光出力の最大ピークを示す波長は、850nm近傍である。
また、ダイシェア強度は100g以上を記録した。
On the mounting substrate, a chain Ni particle-dispersed ACF (transparent epoxy base material) was pasted so that the entire surface of the optical device was covered (the pasting area was larger than the dotted line). The ACF is adjusted to have a thickness of 15 μm and a transmittance of 80% in the infrared region (near 850 nm). Next, the optical device was mounted on a mounting substrate in a flip chip state so that the electrode patterns face each other. Then, while heating to 190 ° C. and applying a pressure of 0.3 N and holding for 30 seconds, the optical device was strongly bonded to the substrate. Further, an optical fiber was inserted from the lower surface side of the mounting substrate, and current was injected into the optical device through the electrode pattern of the mounting substrate.
6A and 6B are diagrams showing ILV measurement and optical output-wavelength characteristics in Example 1. FIG. As shown in FIG. 6A, a light output of 1 mW was observed at the output end of the optical fiber when a current of 8 mA was applied. Further, as shown in FIG. 6B, the wavelength showing the maximum peak of the optical output is in the vicinity of 850 nm.
The die shear strength was recorded as 100 g or more.

また、比較例1として、汎用されているACFを用いたフリップチップ実装を行なった実装体を準備した。比較例1の基本的な構造は、図2に示す実装体Aと同様である。比較例で用いたACFは、球状の微細金属粒子が分散して混入されたACF(15μm厚、透過率約30%)である。   Further, as Comparative Example 1, a mounting body was prepared on which flip chip mounting using a general-purpose ACF was performed. The basic structure of Comparative Example 1 is the same as that of the mounting body A shown in FIG. The ACF used in the comparative example is ACF (15 μm thickness, transmittance of about 30%) in which spherical fine metal particles are dispersed and mixed.

また、比較例2として、ベアフリップチップ実装による実装体を準備した。図7は、比較例2に係る実装体Xの断面図である。実装体Xは、実施の形態1と同様の光デバイス10および母基板1を備えている。ただし、ACFは用いず、光デバイス10側に、20μm径の金スタッドバンプ34を形成している。そして、200℃に加熱した状態で、直接超音波により金スタッドバンプ34と、第1,第2配線パッド5,6とを接合した。そして、開口1aに光ファイバを差し込んで、通電試験を行なった。このように、開口に光ファイバーを挿入した構造は、フェルールと呼ばれている。   Further, as Comparative Example 2, a mounting body by bare flip chip mounting was prepared. FIG. 7 is a cross-sectional view of the mounting body X according to Comparative Example 2. The mounting body X includes the optical device 10 and the mother board 1 similar to those in the first embodiment. However, ACF is not used, and a gold stud bump 34 having a diameter of 20 μm is formed on the optical device 10 side. And the gold stud bump 34 and the 1st, 2nd wiring pads 5 and 6 were joined by the ultrasonic wave directly in the state heated to 200 degreeC. And the optical fiber was inserted in the opening 1a and the electricity supply test was done. Thus, the structure in which the optical fiber is inserted into the opening is called a ferrule.

比較例1,2についての測定結果は、以下の通りである。
比較例1では、電流8mA通電時のファイバ端出力が0.1mW以下であり、必要な光出力が全く得られないことが判明した。
比較例2では、電流8mA通電時のファイバ端出力が1.2mWであり、実施例1とほぼ同等であった。しかし、ダイシェア強度はわずか20gしかなく、信頼性に乏しいことが分かった。
The measurement results for Comparative Examples 1 and 2 are as follows.
In Comparative Example 1, it was found that the fiber end output when the current of 8 mA was applied was 0.1 mW or less, and the necessary light output could not be obtained at all.
In Comparative Example 2, the fiber end output when the current of 8 mA was applied was 1.2 mW, which was almost the same as Example 1. However, it was found that the die shear strength is only 20 g, which is poor in reliability.

さらに、実施例1では、光デバイスとして、図5(c)に示すような受光部,p電極,n電極のパターンを有するフォトダイオード(PD)を作成した。このPDも、鎖状Ni分散型ACFを用いて実装されている。ACFは、15μm厚で赤外領域(850nm近傍)での透過率80%となるように調整されている。
図8(a)は、実施例1のVCSEL実装体と、PD実装体とを,光ファイバーを介して接続した結合ユニットを概略的に示す図である。この光通信ユニットを動作させたところ、PDから十分な強度の信号を得ることに成功した。この結合ユニットは、いわばワイボン完全フリーの信頼性の高い光インターコネクションユニットと言える。
このとき、光ファイバーは光導波部材として機能する。そして、母基板1の開口1aは、光導波部材との光伝達部である。
Furthermore, in Example 1, a photodiode (PD) having a light receiving portion, p-electrode, and n-electrode pattern as shown in FIG. 5C was prepared as an optical device. This PD is also mounted using a chain Ni-dispersed ACF. The ACF is adjusted to have a thickness of 15 μm and a transmittance of 80% in the infrared region (near 850 nm).
FIG. 8A is a diagram schematically showing a coupling unit in which the VCSEL mounting body of Example 1 and the PD mounting body are connected via an optical fiber. When this optical communication unit was operated, it succeeded in obtaining a sufficiently strong signal from the PD. This coupling unit can be said to be a highly reliable optical interconnection unit that is completely free of Wibon.
At this time, the optical fiber functions as an optical waveguide member. And the opening 1a of the mother board | substrate 1 is a light transmission part with an optical waveguide member.

図8(b)は、実施例1の別例における光導波部材を設けた構造を示す図である。この構造では、母基板1の上面上に、光導波部材40が設けられている。光導波部材40は、たとえばPMMA(ポリメチルメタクリレート)樹脂からなる棒状の部材である。そして、光導波部材40の先端には、VCSELの発光を受ける光伝達部である斜面41が形成されている。
このような構造によっても、光導波部材40を介して、外部機器とVCSEL(光デバイス)との光通信を行うことができる。
FIG. 8B is a diagram illustrating a structure provided with an optical waveguide member in another example of the first embodiment. In this structure, an optical waveguide member 40 is provided on the upper surface of the mother substrate 1. The optical waveguide member 40 is a rod-shaped member made of, for example, PMMA (polymethyl methacrylate) resin. An inclined surface 41 is formed at the tip of the optical waveguide member 40 as a light transmission part that receives light emitted from the VCSEL.
Even with such a structure, optical communication between the external device and the VCSEL (optical device) can be performed via the optical waveguide member 40.

次に、プリント基板上に超低背デバイス(LED)を設けた実装体に係る実施例2について説明する。
図9(a)〜(c2)は、順に、実施例2に係るLEDおよび実装基板の平面図,ならびに実装体の断面図である。
図9(a)に示すように、本実施例のLEDは、主面側にp電極およびn電極を有する青色発光ダイオード(GaN系LED)である。チップ寸法は、300μm角、厚み60μmであって、透明サファイア基板上にエピタキシャル成長されたGaN層を利用している。
図9(b)に示すように、実装側基板は、p電極およびn電極を有し、厚みは80μmの超薄型プリント基板である。
Next, Example 2 according to a mounting body in which an ultra-low profile device (LED) is provided on a printed board will be described.
FIGS. 9A to 9C are a plan view of the LED and the mounting board according to the second embodiment, and a cross-sectional view of the mounting body, respectively.
As shown to Fig.9 (a), LED of a present Example is a blue light emitting diode (GaN-type LED) which has p electrode and n electrode in the main surface side. The chip size is 300 μm square and the thickness is 60 μm, and a GaN layer epitaxially grown on a transparent sapphire substrate is used.
As shown in FIG. 9B, the mounting side substrate is an ultra-thin printed board having a p-electrode and an n-electrode and a thickness of 80 μm.

上記実装基板上に、鎖状Ni分散型ACF(透明シリコーン基材)を用いてLEDを実装した。ACFは、10μm厚で、可視領域(450nm近傍)での透過率が80%となるように調整されている。
LEDをフリップチップ状態にして、電極同士を相対向させ、ACFを挟んで、実装基板上にマウントした。190℃に加熱しながら、0.5Nの圧力を印加して、30秒保持したところ、LEDは強く基板に接着された。
さらに、ポッティング法により、シリコーン樹脂をLED全面に流し込んで、樹脂封止を行い、1608サイズに実装基板ごと切断した。
図9(c2)は、完成した実装体の断面で図である。図9(c1)は、比較例の実装体の断面図である。この比較例では、ワイヤボンディングを用い、アンダーフィルによるチップボンディングを行っている。図9(c1)と図9(c2)とは、寸法を比較するために同じスケールで示している。
An LED was mounted on the mounting substrate using a chain Ni-dispersed ACF (transparent silicone base material). The ACF is 10 μm thick and is adjusted so that the transmittance in the visible region (near 450 nm) is 80%.
The LED was flip-chip mounted, the electrodes were opposed to each other, and mounted on a mounting substrate with an ACF interposed therebetween. While heating at 190 ° C. and applying a pressure of 0.5 N and holding for 30 seconds, the LED was strongly bonded to the substrate.
Further, a silicone resin was poured over the entire surface of the LED by a potting method, resin sealing was performed, and the entire mounting substrate was cut to 1608 size.
FIG. 9C2 is a cross-sectional view of the completed mounting body. FIG. 9C1 is a cross-sectional view of the mounting body of the comparative example. In this comparative example, wire bonding is used and chip bonding is performed by underfill. FIG. 9 (c1) and FIG. 9 (c2) are shown on the same scale in order to compare the dimensions.

図9(c2)に示す実施例2に係る実装体により、ワイヤボンディングを用いた実装法に比べて、大幅に寸法を低減することができる。
なお、透明サファイア基板を用いているので、図9(c2)中の矢印に示すように、LEDの両面から出光する光を効率よく利用することができる。つまり、母基板にミラー膜を設けて、LEDから主面側に出光される光を上方に反射させ、LEDから裏面側に出光される光はそのまま裏面から出光させることができる。
With the mounting body according to Example 2 shown in FIG. 9C2, the dimensions can be greatly reduced as compared with the mounting method using wire bonding.
In addition, since the transparent sapphire substrate is used, as shown by the arrow in FIG.9 (c2), the light emitted from both surfaces of LED can be utilized efficiently. That is, by providing a mirror film on the mother substrate, the light emitted from the LED to the main surface side can be reflected upward, and the light emitted from the LED to the back surface side can be emitted from the back surface as it is.

本実施例の実装体に対して、実装基板の電極パターンを通してLEDに電流注入を行ったところ、電流5mAの通電時に、2mWの全光光出力を積分球にて観測した。
本実施例に係る実装体の厚みは、わずか0.16mmである。これまでのシリコーン接着剤とワイヤボンディングを用いて実装した低背型LED実装体の最小厚み記録であった0.2mmを大きく更新した。
また、本実施例のLEDは、透明サファイヤ基板側からの光取り出しも併せると、電流5mAで1.2mWの光出力が得られた。これは、従来の低背型LEDの光出力記録を更新するものである。
When a current was injected into the LED through the electrode pattern on the mounting board of the mounting body of this example, a total light output of 2 mW was observed with an integrating sphere when a current of 5 mA was applied.
The thickness of the mounting body according to the present example is only 0.16 mm. The 0.2 mm which was the minimum thickness record of the low-profile LED mounting body mounted using the silicone adhesive and wire bonding so far has been greatly updated.
In addition, the LED of this example, when combined with light extraction from the transparent sapphire substrate side, obtained a light output of 1.2 mW at a current of 5 mA. This updates the light output record of a conventional low profile LED.

(ACFの製造工程)
次に、上記実施の形態における,鎖状金属粒子を分散させたACFの製造工程について説明する。図10は、ACF製造工程を示す斜視図である。
まず、基材フィルム上に、Ni粒子を分散させた樹脂液を塗布する。そして、基材フィルムおよび樹脂液を、乾燥炉中で、磁石を上下に配置したNi粒子配向器の間を通す。これにより、磁化したNi粒子同士が上下にひも状につながって、鎖状Ni粒子(鎖状金属粒子)が形成される。
乾燥炉中で樹脂液が乾燥することで、樹脂が固化され、鎖状Ni粒子の形状および位置が樹脂内で固定される。これにより、ACFが形成される。
その後、膜厚検査、配向検査を経て、ACFは上下面からラミネートされて、樹脂シート状のACFが完成される。
(ACF manufacturing process)
Next, the manufacturing process of ACF in which chain metal particles are dispersed in the above embodiment will be described. FIG. 10 is a perspective view showing an ACF manufacturing process.
First, a resin liquid in which Ni particles are dispersed is applied on a base film. Then, the base film and the resin liquid are passed through a Ni particle aligner in which magnets are vertically arranged in a drying furnace. Thereby, magnetized Ni particles are connected to each other in a string shape, and chain Ni particles (chain metal particles) are formed.
By drying the resin liquid in the drying furnace, the resin is solidified, and the shape and position of the chain Ni particles are fixed in the resin. Thereby, ACF is formed.
Thereafter, the ACF is laminated from above and below through a film thickness inspection and an orientation inspection, and a resin sheet ACF is completed.

図10の下部には、Ni粒子が配向する前と配向後のSEM写真が表示されている。配向前は、細かいNi粒子が密に分散している。配向後は、Ni粒子同士が集合して鎖状Ni粒子の固まりとなり、かつ、鎖状Ni粒子同士の間隔が拡大している。
つまり、配向前は、Ni粒子が密に分散していることで、樹脂膜の光透過率は高くない。このことから、従来のACFを光の通路として機能させるという発想そのものが生じなかったものと思われる。
それに対し、配向後は、鎖状Ni粒子同士の間隔が拡大することで、樹脂膜の光透過率が著しく向上することがわかる。本発明者達は、この点に着目したのである。
In the lower part of FIG. 10, SEM photographs before and after orientation of the Ni particles are displayed. Before orientation, fine Ni particles are densely dispersed. After the orientation, the Ni particles gather to form a chain of Ni particles, and the interval between the chain Ni particles is increased.
That is, before the orientation, the Ni particles are densely dispersed, so that the light transmittance of the resin film is not high. From this, it seems that the idea of making the conventional ACF function as a light path did not occur.
On the other hand, after the orientation, it can be seen that the light transmittance of the resin film is remarkably improved by increasing the interval between the chain Ni particles. The present inventors paid attention to this point.

図11(a),(b)は、鎖状Ni粒子を分散させたACFの電極間接続を行う前後における構造を示すSEM写真図,および3D−FIB図である。図11(b)に示すように、上電極と下電極との間に、鎖状Ni粒子が介在し、両者が電気的に接続されていることがわかる。   FIGS. 11A and 11B are a SEM photograph and a 3D-FIB diagram showing a structure before and after performing interelectrode connection of ACF in which chain Ni particles are dispersed. As shown in FIG. 11B, it can be seen that chain Ni particles are interposed between the upper electrode and the lower electrode, and both are electrically connected.

以上のように、鎖状金属粒子を分散させたACFの製造工程は、簡素なものであり、格別高価な装置も不要である。よって、従来の球状の金属粒子を分散させたACFに比べても、それほど製造コストが高くなるわけではない。よって、ワイヤボンディングを行う工程に比べ、低コストを維持することができる。   As described above, the production process of ACF in which chain metal particles are dispersed is simple and does not require a particularly expensive apparatus. Therefore, the manufacturing cost is not so high as compared with the conventional ACF in which spherical metal particles are dispersed. Therefore, a low cost can be maintained as compared with the step of performing wire bonding.

(その他の実施の形態)
上記実施の形態および各実施例では、光デバイスをフリップチップ実装している。しかし、本発明の実装体は、必ずしもフリップチップ実装したものには限定されない。バルクGaNを用いた面発光レーザー等では、基板の主面側にp電極が、裏面側にn電極が設けられる。また、活性領域から上下に出光されるレーザ光を利用する場合には、必ずしもフリップチップ実装しなくてもよい。かかる場合においても、ACFが光の通路となっていることで、光デバイスの利用性が拡大し、ワイヤボンディング数も片側だけで済むので低減することができる。さらに、スルーホールを利用して、上面電極を裏面側に引き出すことも可能である。その場合でも、透明基板を用いた光デバイスであれば、ACFを光の通路として機能させることができる。
よって、低コストと高信頼性とを維持しつつ、光デバイスの利用性を拡大する,という本発明の基本的な効果を発揮することができる。
(Other embodiments)
In the above embodiment and each example, the optical device is flip-chip mounted. However, the mount assembly of the present invention is not necessarily limited to the flip-chip mount. In a surface emitting laser or the like using bulk GaN, a p-electrode is provided on the main surface side of the substrate and an n-electrode is provided on the back surface side. Further, when using laser light emitted from the active region up and down, the flip chip mounting is not necessarily required. Even in such a case, since the ACF serves as a light path, the usability of the optical device is increased, and the number of wire bondings can be reduced only on one side. Furthermore, it is possible to draw out the upper surface electrode to the back surface side using a through hole. Even in such a case, if the optical device uses a transparent substrate, the ACF can function as a light path.
Therefore, the basic effect of the present invention of expanding the usability of the optical device while maintaining low cost and high reliability can be exhibited.

上記開示された本発明の実施の形態の構造は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの記載の範囲に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。   The structure of the embodiment of the present invention disclosed above is merely an example, and the scope of the present invention is not limited to the scope of these descriptions. The scope of the present invention is indicated by the description of the scope of claims, and further includes meanings equivalent to the description of the scope of claims and all modifications within the scope.

本発明の実装体は、レーザダイオード、フォトダイオード、太陽電池などの光デバイスの実装に利用することができる。   The mount assembly of the present invention can be used for mounting optical devices such as laser diodes, photodiodes, and solar cells.

本発明の実施の形態に係る実装体の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the mounting body which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の変形例に係る実装体の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the mounting body which concerns on the modification of embodiment of this invention. (a),(b)は、実施の形態に係る実装体の組み立て手順を示す断面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows the assembly procedure of the mounting body which concerns on embodiment. (a),(b)は、鎖状Ni粒子の濃度−光透過率(可視領域)との関係を示す図、および光透過率の波長依存性を示す図である。(A), (b) is a figure which shows the relationship between the density | concentration of chain-like Ni particle-light transmittance (visible region), and the figure which shows the wavelength dependence of light transmittance. (a)〜(c)は、順に、実施例1で用いた光デバイス,実装基板(実装基体),および受光用PDの構造を示す平面図である。(A)-(c) is a top view which shows the structure of the optical device, the mounting board | substrate (mounting base | substrate), and light receiving PD which were used in Example 1 in order. (a),(b)は、実施例1におけるILV測定および光出力−波長特性を示す図である。(A), (b) is a figure which shows the ILV measurement in Example 1, and an optical output-wavelength characteristic. 実施例1の比較例2に係る実装体の断面図である。6 is a cross-sectional view of a mounting body according to Comparative Example 2 of Example 1. FIG. (a)、(b)は、順に、実施例1およびその別例に係る光導波部材を備えた実装体の例を示す断面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows the example of the mounting body provided with the optical waveguide member which concerns on Example 1 and its another example in order. (a)〜(c2)は、順に、実施例2に係るLEDおよび実装基板の平面図,ならびに実装体の断面図である。(A)-(c2) is the top view of LED which concerns on Example 2, and a mounting board in order, and sectional drawing of a mounting body in order. ACF製造工程を、Ni粒子の配向表示写真とと共に示す斜視図である。It is a perspective view which shows an ACF manufacturing process with the orientation display photograph of Ni particle | grains. (a),(b)は、鎖状Ni粒子を分散させたACFの電極間接続を行う前後における構造を示す顕微鏡写真図である。(A), (b) is a microscope picture figure which shows the structure before and behind performing the connection between electrodes of ACF which disperse | distributed chain | strand-shaped Ni particle | grains. (a)〜(c)は、順に、ワイヤボンディングを用いた実装法、米フリップチップ実装法,およびアンダーフィルを用いたフリップチップ実装法の手順を示す断面図である。(A)-(c) is sectional drawing which shows the procedure of the mounting method using wire bonding, the US flip chip mounting method, and the flip chip mounting method using an underfill in order.

符号の説明Explanation of symbols

1 母基板(実装基体)
1a 開口(光伝達部)
5 第1配線パッド
6 第2配線パッド
10 光デバイス
11 動作領域
12 光ガイド領域
13 酸化狭窄層
14 pコンタクト領域
15 p型電極
16 n型電極
30 ACF(異方導電性膜)
31 鎖状金属粒子
32 金属粒子
34 金スタッドバンプ
1 Mother board (mounting substrate)
1a Aperture (light transmission part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 1st wiring pad 6 2nd wiring pad 10 Optical device 11 Operation area | region 12 Optical guide area | region 13 Oxide constriction layer 14 p contact area | region 15 p-type electrode 16 n-type electrode 30 ACF (anisotropic conductive film)
31 Chain metal particles 32 Metal particles 34 Gold stud bump

Claims (7)

一部に基体側導体を有する実装基体上に、一部にチップ側導体を有する光デバイスを搭載した実装体であって、
前記光デバイスは、前記実装基体に対向して、かつ、前記チップ側導体を前記基体側導体の上方に位置させて配置されており、
前記光デバイスと実装基体との間には、前記チップ側導体と前記基体側導体とを電気的に接続するとともに、前記光デバイスに出入りする光の通路となる異方導電性膜が介在している、実装体。
A mounting body in which an optical device having a chip-side conductor in part is mounted on a mounting base having a base-side conductor in part,
The optical device is disposed so as to face the mounting substrate, and the chip-side conductor is positioned above the substrate-side conductor,
Between the optical device and the mounting substrate, there is an anisotropic conductive film that electrically connects the chip-side conductor and the substrate-side conductor and serves as a path for light entering and exiting the optical device. An implementation body.
請求項1記載の実装体において、
前記異方導電性膜は、使用光に対して60%以上の光透過率を有している、実装体。
The mounting body according to claim 1,
The anisotropic conductive film has a light transmittance of 60% or more with respect to used light.
請求項2記載の実装体において、
前記異方導電性膜は、金属粒子を縦方向に連鎖させてなる鎖状金属粒子を、透光性樹脂に分散させたものである、実装体。
The mounting body according to claim 2,
The anisotropic conductive film is a mounting body in which chain metal particles formed by chaining metal particles in the vertical direction are dispersed in a translucent resin.
請求項3記載の実装体において、
前記鎖状金属粒子の金属粒子は、Ni粒である、実装体。
The mounting body according to claim 3,
The mounting body, wherein the metal particles of the chain metal particles are Ni particles.
請求項1〜4のうちいずれか1つに記載の実装体において、
前記光デバイスは、フリップチップ状態で配置されている、実装体。
In the mounting body according to any one of claims 1 to 4,
The optical device is a mounting body arranged in a flip chip state.
請求項1〜5のうちいずれか1つに記載の実装体において、
前記実装基体における前記光デバイスの下方に位置する領域には、光導波部材との光伝達部が設けられている、実装体。
In the mounting body according to any one of claims 1 to 5,
A mounting body in which a light transmission part with an optical waveguide member is provided in a region located below the optical device in the mounting substrate.
請求項6記載の実装体において、
前記光伝達部は、開口であり、
前記開口に、前記光導波部材である光ファイバーの端部が挿入されている、実装体。
The mounting body according to claim 6,
The light transmission part is an opening,
A mounting body in which an end of an optical fiber as the optical waveguide member is inserted into the opening.
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