JP2010133424A - シリンダライナの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アーク溶射を通じて皮膜5を外周面に形成するとともに、該アーク溶射に用いるワイヤの直径を0.8mm以上に設定した。
【選択図】図22
Description
請求項1に記載の発明は、シリンダブロックに適用される鋳ぐるみ用のシリンダライナの製造方法において、アーク溶射を通じて皮膜を外周面に形成するとともに、該アーク溶射に用いるワイヤの直径を0.8mm以上に設定することを要旨としている。
本実施形態では、アルミニウム合金を素材としたエンジンのシリンダライナとして本発明を具体化した場合を想定している。
図1に、本発明にかかるシリンダライナを備えたエンジンの全体構成を示す。
エンジン1は、シリンダブロック11及びシリンダヘッド12等を備えて構成されている。
シリンダ13は、シリンダライナ2を備えて構成されている。
シリンダブロック11においては、シリンダライナ2の内周面(ライナ内周面21)によりシリンダ13の内周側の壁面(シリンダ内壁14)が形成されている。また、ライナ内周面21に囲まれてシリンダボア15が形成されている。
なお、シリンダブロック11の素材となるアルミニウム合金としては、例えば「JIS
ADC10(関連規格:米国ASTM A380.0)」または「JIS ADC12(関連規格:米国ASTM A383.0)」を用いることができる。本実施形態では、シリンダブロックの素材となるアルミニウム合金として上記ADC12を採用している。
図2に、本発明が適用されたシリンダライナの斜視構造を示す。
シリンダライナ2は、鋳鉄を素材として形成されている。
突起3は、シリンダライナ2の上端(ライナ上端23)からシリンダライナ2の下端(ライナ下端24)までにわたってライナ外周面22の全体に形成されている。なお、ライナ上端23はエンジン1において燃焼室側に位置するシリンダライナ2の端部を示す。また、ライナ下端24は、エンジン1において燃焼室とは反対側に位置するシリンダライナ2の端部を示す。
ライナ外周面22においては、軸方向の中間部(ライナ中間部25)からライナ下端24までの範囲に皮膜5が形成されている。また、周方向の全体にわたって皮膜5が形成されている。
図4に、突起3のモデル図を示す。以降では、シリンダライナ2の径方向(矢印A方向)を突起3の軸方向とする。また、シリンダライナ2の軸方向(矢印B方向)を突起3の径方向とする。図4では、突起3の径方向からみた突起3の形状を示している。
突起3の先端部32には、突起3の先端面に相当する頂面32Aが平滑に形成されている。
括れ部33は、径方向に沿う断面の面積(径方向断面積SR)が基端部31及び先端部32の径方向断面積SRよりも小さくなるように形成されている。
図5に、シリンダライナ2の括れ空間34に印を付けた突起3のモデル図を示す。
括れ空間34は、突起3の軸方向に沿って最大先端部32Bを通過する曲面(図5においては直線D−Dが同曲面に相当する)と括れ部33の表面(括れ面33A)とにより囲まれる領域に相当する。なお、最大先端部32Bは、先端部32において突起3の径方向の長さが最も大きい箇所を示す。
図6、図7及び図8を参照して、シリンダライナ2における皮膜5の形成態様について説明する。なお、以降では、皮膜5の厚さを皮膜厚さTPとして示す。
図6を参照して、皮膜5の形成位置の設定態様について説明する。図6〔A〕は、軸方向に沿ったシリンダライナ2の断面構造を示す。図6〔B〕は、エンジンの定常運転状態におけるシリンダの温度(シリンダ壁温TW)について、軸方向の変化傾向の一例を示す。なお、以降では、シリンダライナ2から皮膜5を除いた状態のシリンダライナを基準シリンダライナとする。また、基準シリンダライナを備えたエンジンを基準エンジンとする。
ここで、基準エンジンにおけるシリンダ壁温TWの変化傾向について説明する。なお、図6〔B〕において、実線は基準エンジンのシリンダ壁温TWを、破線は本実施形態のエンジン1のシリンダ壁温TWを示す。また、以降では、シリンダ壁温TWにおける最大の温度を最大シリンダ壁温TWHとし、シリンダ壁温TWにおける最小の温度を最小シリンダ壁温TWLとする。
(a)ライナ下端24からライナ中間部25までの範囲においては、燃焼ガスの影響が小さいため、ライナ下端24からライナ中間部25へかけてシリンダ壁温TWが緩やかに上昇する。また、ライナ下端24近傍においてシリンダ壁温TWが最小シリンダ壁温TWL1となる。本実施形態では、シリンダライナ2においてシリンダ壁温TWがこうした変化傾向を示す箇所をライナ低温部27としている。
(b)ライナ中間部25からライナ上端23までの範囲においては、燃焼ガスの影響が大きいため、シリンダ壁温TWが急激に上昇する。また、ライナ上端23近傍においてシリンダ壁温TWが最大シリンダ壁温TWHとなる。本実施形態では、シリンダライナ2においてシリンダ壁温TWがこうした変化傾向を示す箇所をライナ高温部26としている。
図7を参照して、皮膜厚さTPの設定態様について説明する。図7〔A〕は、軸方向に沿ったシリンダライナ2の断面構造を示す。図7〔B〕は、シリンダライナ2における軸方向の位置と皮膜厚さTPとの関係を示す。
(A)皮膜厚さTPは、壁温境界28からライナ下端24へかけて徐々に大きく設定されている。即ち、壁温境界28において「0」に設定されている一方で、ライナ下端24において最も大きい厚さ(最大厚さTPmax)に設定されている。
(B)皮膜厚さTPは、0.5mm以下に設定されている。なお、本実施形態では、ライナ低温部27の複数箇所における皮膜厚さTPの平均値が0.5mm以下となるように皮膜5を形成しているが、ライナ低温部27の全体において皮膜厚さTPが0.5mm以下となるように皮膜5を形成することもできる。
図8に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2においては、ライナ外周面22及び突起3の表面に沿って皮膜5が形成されている。また、括れ空間34が埋められることのないように皮膜5が形成されている。即ち、シリンダライナ2を鋳ぐるんだ際に括れ空間34へ鋳造材料が流れ込むように皮膜5が形成されている。なお、括れ空間34が皮膜5により埋められている場合、括れ空間34へ鋳造材料が充填されないため、ライナ低温部27において突起3によるアンカー効果が得られないようになる。
図9及び図10を参照して、シリンダブロック11とシリンダライナ2との接合状態について説明する。なお、図9及び図10は、それぞれシリンダ13の軸方向に沿ったシリンダブロック11の断面構造を示す。
図9に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
(A)皮膜5を通じてシリンダブロック11とライナ低温部27との間の熱伝導性が低くされているため、ライナ低温部27のシリンダ壁温TWの上昇が図られるようになる。
図10に、シリンダブロック11とライナ高温部26との接合状態(図1のZB部の断面構造)を示す。
表1を参照して、シリンダライナ2における突起3の形成状態について説明する。
本実施形態では、突起3の形成状態を示すパラメータ(形成状態パラメータ)として、「第1面積率SA」、「第2面積率SB」、「標準断面積SD」、「標準突起数NP」及び「標準突起長HP」を規定している。
(a)「測定高さH」は、ライナ外周面22を基準とした突起3の軸方向の距離(突起3の高さ)を示す。ライナ外周面22において測定高さHは0mmとなる。また、突起3の頂面32Aにおいて測定高さHは最も大きくなる。
(b)「第1基準平面PA」は、測定高さ0.4mmの位置において突起3の径方向に沿う平面を示す。
(c)「第2基準平面PB」は、測定高さ0.2mmの位置において突起3の径方向に沿う平面を示す。
〔A〕「第1面積率SA」:第1面積率SAは、ライナ外周面22上の第1基準平面PAの単位面積に占める突起3の面積(径方向断面積SR)の割合を示す。
〔B〕「第2面積率SB」:第2面積率SBは、ライナ外周面22上の第2基準平面PBの単位面積に占める突起3の面積(径方向断面積SR)の割合を示す。
〔C〕「標準断面積SD」:標準断面積SDは、ライナ外周面22上の第1基準平面PAにおける1つの突起3の面積(径方向断面積SR)を示す。
〔D〕「標準突起数NP」:標準突起数NPは、ライナ外周面22上の単位面積(1cm2)当たりに形成されている突起3の数を示す。
〔E〕「標準突起長HP」:標準突起長HPは、突起3における複数箇所の測定高さHの平均値を示す。
図11、図12及び表2を参照してシリンダライナ2の製造方法について説明する。
本実施形態では、金型遠心鋳造によりシリンダライナ2を製造するようにしている。また、上記形成状態パラメータの値を表1の選択範囲内におさめるため、金型遠心鋳造に関連するパラメータ(以下の〔A〕〜〔F〕)の値を表2の選択範囲内に設定するようにしている。
〔A〕懸濁液61における耐火基材61Aの配合割合。
〔B〕懸濁液61における粘結剤61Bの配合割合。
〔C〕懸濁液61における水61Cの配合割合。
〔D〕耐火基材61Aの平均粒径。
〔E〕懸濁液61に対する界面活性剤62の添加割合。
〔F〕塗型剤63の層(塗型層64)の厚さ。
図12を参照して、括れた形状の凹穴の形成態様について説明する。
[1]金型65の金型内周面65Aには、複数の気泡64Aを含んだ状態で塗型層64が形成される。
[2]気泡64Aに対して界面活性剤62が作用することにより、塗型層64の内周側に凹穴64Bが形成される。
[3]凹穴64Bの先端が金型内周面65Aに突き当たるまで拡大することにより、塗型層64内に括れた形状の凹穴64Cが形成される。
[工程F]ブラスト処理装置67により塗型層64(塗型剤63)をシリンダライナ2の外周から除去する。
図13を参照して、3次元レーザ測定方法による形成状態パラメータの測定方法について説明する。なお、標準突起長HPについては、別途の方法により測定される。
[1]シリンダライナ2から突起測定用試験片71を作成する。
[2]非接触式の3次元レーザ測定器81において、レーザ光82の照射方向と突起3の軸方向とが略平行となるように突起測定用試験片71を試験台83へセットする(図13〔A〕)。
[3]3次元レーザ測定器81から突起測定用試験片71へ向けてレーザ光82を照射する。(図13〔B〕)。
[4]3次元レーザ測定器81の測定結果を画像処理装置84に取り込む。
[5]画像処理装置84による画像処理を通じて突起3の等高線図85(図14)を表示し、等高線図85に基づいて各形成状態パラメータを算出する。
図14及び図15を参照して、突起3の等高線図85について説明する。図14は、等高線図85の一例を示す。図15は、測定高さHと等高線HLとの関係を示す。なお、図14においては、図15の突起3と異なる突起3についての等高線図85を示している。
例えば、測定高さ0mmから測定高さ1.0mmまで範囲において等高線HLを0.2mm毎に表示するようにした場合、等高線図85においては、測定高さ0mmの等高線HL0、測定高さ0.2mmの等高線HL2、測定高さ0.4mmの等高線HL4、測定高さ0.6mmの等高線HL6、測定高さ0.8mmの等高線HL8及び測定高さ1.0mmの等高線HL10が表示される。
本実施形態のシリンダライナ2について、形成状態パラメータは等高線図85に基づいてそれぞれ次のように算出することができる。
第1面積率SAは、等高線図85の面積に占める第1領域RAの面積の割合として算出することができる。即ち、下記計算式により第1面積率SAの算出を行うことができる。
SA = SRA/ST×100 [%]
上記計算式において、「ST」は等高線図85の全面積を示す。また、「SRA」は等高線図85における第1領域RAの面積を合計した面積を示す。例えば、図16の第1等高線図85Aをモデルとした場合、四角の領域の面積が「ST」となる。また、斜線の領域の面積が「SRA」となる。なお、第1面積率SAの算出に際して、等高線図85にはライナ外周面22以外の部分が含まれていないものとする。
第2面積率SBは、等高線図85の面積に占める第2領域RBの面積の割合として算出することができる。即ち、下記計算式により第2面積率SBの算出を行うことができる。
SB = SRB/ST×100 [%]
上記計算式において、「ST」は等高線図85の全面積を示す。また、「SRB」は等高線図85における第2領域RBの面積を合計した面積を示す。例えば、図17の第2等高線図85Bをモデルとした場合、四角の領域の面積が「ST」となる。また、斜線の領域の面積が「SRB」となる。なお、第2面積率SBの算出に際して、等高線図85にはライナ外周面22以外の部分が含まれていないものとする。
標準断面積SDは、等高線図85における個々の第1領域RAの面積として算出することができる。例えば、図16の第1等高線図85Aをモデルとした場合、斜線の領域の面積が標準断面積SDとなる。
標準突起数NPは、等高線図85の単位面積(ここでは1cm2)あたりにおける突起3の数として算出することができる。例えば、図16の第1等高線図85Aまたは図17の第2等高線図85Bをモデルとした場合、図中の突起の数(1個)が標準突起数NPとなる。なお、本実施形態のシリンダライナ2においては、単位面積(1cm2)あたりに5個〜60個の突起3が形成されているため、実際の標準突起数NPと第1等高線図85A及び第2等高線図85Bの標準突起数NPとは異なった値となる。
標準突起長HPは、各突起3について測定した1箇所または複数箇所の高さの平均値として算出することができる。なお、突起3の高さは、ダイヤルディプスゲージ等の測定機器により測定することができる。
シリンダブロック11とシリンダライナ2との接合強度について、その評価態様の一例について説明する。
接合強度の評価は、次の[1]〜[5]の手順をもって行うことができる。
[1]シリンダライナ2を備えたアルミニウム合金製の単気筒シリンダブロック72をダイカストにより製造する(図18〔A〕)。
[2]単気筒シリンダブロック72のシリンダ73から強度評価用試験片74を作成する。なお、強度評価用試験片74は、シリンダライナ2のライナ低温部27の一部(ライナ片74A及び皮膜5)とシリンダ73のアルミ部(アルミ片74B)とから構成される。[3]引っ張り試験機のアーム86を強度評価用試験片74(ライナ片74A及びアルミ片74B)に接着する(図18〔B〕)。
[4]引っ張り試験機のアーム86の一方をクランプ87により保持した後、ライナ片74Aとアルミ片74Bとがシリンダの径方向(矢印Cの方向)へ剥離するように、他方のアーム86を通じて強度評価用試験片74に引っ張り荷重をかける(図18〔C〕)。
[5]引っ張り試験を通じてライナ片74Aとアルミ片74Bとが剥離したときの強度(単位面積あたりの荷重)をライナ接合強度として算出する。なお、シリンダライナ2のライナ高温部26についても、上記[1]〜[5]の手順をもって接合強度の評価を行うことができる。
以上詳述したように、本実施形態のシリンダライナによれば以下に示すような効果が得られるようになる。
なお、上記第1実施形態は、これを適宜変更した、例えば次のような形態として実施することもできる。
本発明の第2実施形態について、図19〜図21を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については前記第1実施形態と同様となっている。
図19に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。
鉄溶射層52は、複数の小溶射層52Aの積み重ねにより構成されている。また、鉄溶射層52(小溶射層52A)の内部には、酸化物の層及び気孔が多数含まれている。
図20に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
図21を参照して、皮膜5の製造方法について説明する。
本実施形態では、アーク溶射を通じて皮膜5を形成するようにしている。
[1]アーク溶射装置91により溶融したワイヤ92をライナ低温部27のライナ外周面22へ吹き付けて小溶射層52Aを形成する(図21〔A〕)。
[2]1つの小溶射層52Aを形成した後、この小溶射層52Aの上に別の小溶射層52Aを形成する(図21〔B〕)。
[3]所定の厚さの皮膜5が形成されるまで上記[2]の作業を繰り返す。
以上詳述したように、この第2実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に加えて、以下に示すような効果が得られるようになる。
なお、上記第2実施形態は、これを適宜変更した、例えば次のような形態として実施することもできる。
本発明の第3実施形態について、図22及び図23を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおいて、皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図22に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、シリンダライナ2の表面に形成された第1溶射層53Aと、第1溶射層53Aの表面に形成された第2溶射層53Bとから構成されている。
図23に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
本実施形態では、プラズマ溶射を通じて皮膜5を形成するようにしている。
皮膜5の形成は、次の手順をもって行うことができる。
[1]プラズマ溶射装置によりライナ低温部27に第1溶射層53Aを形成する。
[2]第1溶射層53Aを形成した後、プラズマ溶射装置により第2溶射層53Bを形成する。
以上詳述したように、この第3実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に加えて、以下に示すような効果が得られるようになる。
本発明の第4実施形態について、図24及び図25を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図24に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、酸化物の層(酸化物層54)により構成されている。
図25に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
本実施形態では、高周波加熱を通じて皮膜5を形成するようにしている。
皮膜5の形成は、次の手順をもって行うことができる。
[1]高周波加熱装置によりライナ低温部27を加熱する。
[2]ライナ外周面22に所定の厚さの酸化物層54が形成されるまで加熱を継続する。
以上詳述したように、この第4実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に加えて、以下に示すような効果が得られるようになる。
本発明の第5実施形態について、図26及び図27を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図26に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、ダイカスト用の離型剤の層(離型剤層55)により構成されている。
・バーミキュライト、ヒタゾール及び水ガラスを所定の割合で調合した離型剤。
・シリコンを主成分とした液状材料及び水ガラスを所定の割合で調合した離型剤。
図27に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
以上詳述したように、この第5実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に加えて、以下に示すような効果が得られるようになる。
本発明の第6実施形態について、図26及び図27を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図26に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、金型遠心鋳造用の塗型剤の層(塗型剤層56)により構成されている。
・珪藻土を主成分として調合した塗型剤。
・黒鉛を主成分として調合した塗型剤。
図27に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
以上詳述したように、この第6実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に加えて、以下に示すような効果が得られるようになる。
本発明の第7実施形態について、図26及び図27を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図26に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、低密着剤の層(低密着剤層57)により構成されている。なお、低密着剤は、シリンダブロック11との密着性が低い材料を含めて調合した液状材料を示す。
・黒鉛と水ガラスと水とを調合した低密着剤。
・窒化ボロンと水ガラスとを調合した低密着剤。
図27に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
本実施形態では、低密着剤の塗装及び乾燥を通じて皮膜5を形成するようにしている。
皮膜5の形成は、次の手順をもって行うことができる。
[1]所定の温度に加熱された炉内においてシリンダライナ2を一定時間にわたった保持することにより、シリンダライナ2の予熱を行う。
[2]液体の低密着剤が貯留された容器内にシリンダライナ2を浸すことにより、ライナ外周面22に低密着剤を塗装する。
[3]上記[2]の工程を行った後、上記[1]の炉内においてシリンダライナ2を一定時間にわたった保持することにより、低密着剤を乾燥させる。
[4]乾燥して形成された低密着剤層57が所定の厚さになるまで上記[1]〜[3]の工程を繰り返して行う。
以上詳述したように、この第7実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に準じた効果が得られるようになる。
なお、上記第7実施形態は、これを適宜変更した、例えば次のような形態として実施することもできる。
(a)黒鉛と有機溶剤とを調合した低密着剤。
(b)黒鉛と水とを調合した低密着剤。
(c)窒化ボロン及び無機バインダまたは有機バインダを主成分とする低密着剤。
本発明の第8実施形態について、図26及び図27を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図26に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、メタリック塗料の層(塗料層58)により構成されている。
図27に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
以上詳述したように、この第8実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に準じた効果が得られるようになる。
本発明の第9実施形態について、図26及び図27を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図26に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、耐熱樹脂の層(耐熱樹脂層59)により構成されている。
図27に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
以上詳述したように、この第9実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に準じた効果が得られるようになる。
本発明の第10実施形態について、図26及び図27を参照して説明する。
本実施形態では、前記第1実施形態のシリンダライナにおける皮膜の形成態様を以下で説明するように変更している。なお、本実施形態のシリンダライナにおいて、以下で説明する構成以外については、前記第1実施形態と同様となっている。
図26に、図6〔A〕のZC部の拡大構造を示す。
シリンダライナ2において、ライナ低温部27のライナ外周面22には皮膜5が形成されている。皮膜5は、化成処理を通じて形成された層(化成処理層50)により構成されている。
・りん酸塩の化成処理層。
・四三酸化鉄の化成処理層。
図27に、シリンダブロック11とライナ低温部27との接合状態(図1のZA部の断面構造)を示す。
以上詳述したように、この第10実施形態にかかるシリンダライナによれば、先の第1実施形態による前記(1)〜(11)の効果に加えて、以下に示すような効果が得られるようになる。
その他、上記各実施形態に共通して変更することができる要素を以下に列挙する。
・上記各実施形態では、第1面積率SA及び第2面積率SBの選択範囲を表1の選択範囲に設定するようにしたが、次のように変更することもできる。
第1面積率SA:10% 〜 30%
第2面積率SB:20% 〜 45%
こうした設定を採用することで、ライナ接合強度及び突起3間への鋳造材料の充填性をより向上させることができるようになる。
・上記各実施形態において、皮膜5の形成態様を次のように変更することもできる。即ち、以下の(A)及び(B)の少なくとも一方の条件が満たされる範囲内で適宜の素材を用いて皮膜5を形成することもできる。
(A)皮膜5の熱伝導率がシリンダライナ2の熱伝導率よりも小さい。
(B)皮膜5の熱伝導率がシリンダブロック11の熱伝導率よりも小さい。
2…シリンダライナ、21…ライナ内周面、22…ライナ外周面、23…ライナ上端、24…ライナ下端、25…ライナ中間部、26…ライナ高温部、27…ライナ低温部、28…壁温境界。
5…皮膜、51…セラミック溶射層、52…鉄溶射層、52A…小溶射層、53A…第1溶射層、53B…第2溶射層、54…酸化物層、55…離型剤層、56…塗型剤層、57…低密着剤層、58…塗料層、59…耐熱樹脂層、50…化成処理層、5H…空隙。
81…3次元レーザ測定器、82…レーザ光、83…試験台、84…画像処理装置、85…等高線図、85A…第1等高線図、85B…第2等高線図、86…アーム、87…クランプ。
SR…径方向断面積、TW…シリンダ壁温、TP…皮膜厚さ、TPmax…最大厚さ、H…測定高さ、PA…第1基準平面、PB…第2基準平面、SA…第1面積率、SB…第2面積率、SD…標準断面積、NP…標準突起数、HP…標準突起長、HL…等高線、RA…第1領域、RB…第2領域。
Claims (3)
- シリンダブロックに適用される鋳ぐるみ用のシリンダライナの製造方法において、
アーク溶射を通じて皮膜を外周面に形成するとともに、該アーク溶射に用いるワイヤの直径を0.8mm以上に設定する
ことを特徴とするシリンダライナの製造方法。 - 請求項1に記載のシリンダライナの製造方法において、
次の(1)および(2)の工程を含む
(1)溶融した前記ワイヤを当該シリンダライナの外周面に吹き付けて1つの層を形成する工程
(2)前記(1)の工程により形成した前記層の上に、溶融した前記ワイヤを吹き付けて1つの層を形成する工程
ことを特徴とするシリンダライナの製造方法。 - 請求項2に記載のシリンダライナの製造方法において、
前記(2)の工程で形成した前記層の厚さが所定の厚さよりも小さいときには、前記層の厚さが所定の厚さとなるまで前記(2)の工程を繰り返し行う
ことを特徴とするシリンダライナの製造方法。
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