JP2010130031A - 弾性境界波素子と、これを用いた電子機器 - Google Patents

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    • H03H9/02Details
    • H03H9/0222Details of interface-acoustic, boundary, pseudo-acoustic or Stonely wave devices

Abstract

【課題】弾性境界波素子の電気通過特性向上と弾性境界波素子と外部電子部品の電気的接続信頼性向上との両立を図る。
【解決手段】本発明の弾性境界波素子8は、圧電体9と、この圧電体9の上に形成されたIDT電極層10と、圧電体9の上に形成されると共にIDT電極層10に電気的に接続されたパッド電極層11と、圧電体9の上にIDT電極層10の少なくとも一部を覆うように形成された第1誘電体層12と、圧電体9の上に第1誘電体層12を覆いかつパッド電極層11の上面の少なくとも一部を露出する開口部14を有するように形成されてパッド電極層11の側面を構成する金属に対する拡散性が第1誘電体層12より低い媒質からなる第2誘電体層13とを備え、第2誘電体層13は、パッド電極層11の側面を覆うように形成され、第1誘電体層12は、パッド電極層11の側面に接することなく形成された構成とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、弾性境界波素子と、これを用いた電子機器に関するものである。
以下、従来の弾性境界波素子について、図面を用いて説明する。図3は従来の弾性境界波素子1の断面模式図である。図3において、弾性境界波素子1は、例えば、ニオブ酸リチウムやタンタル酸リチウム等からなる圧電体2と、この圧電体2の上に形成された例えば銅からなるIDT電極層3と、圧電体2の上に形成されると共にIDT電極層3に電気的に接続されたパッド電極層4と、圧電体2の上にIDT電極層3を覆うように形成された酸化ケイ素等からなる第1誘電体層5と、圧電体2の上に第1誘電体層5を覆いかつパッド電極層4の上面の少なくとも一部を露出する開口部7を有するように形成された窒化ケイ素等からなる第2誘電体層6とを備える。
この第2誘電体層6は、IDT電極層3によって励振される主要波の波長λよりも膜厚が厚く、パッド電極層4の側面を覆うように形成される。一方、第1誘電体層5は、上記主要波の波長λよりも膜厚は薄く、パッド電極層4の側面に接するように形成されている。
このように、パッド電極層4の側面を第1誘電体層5及び第2誘電体層6によって覆うのは、以下の理由からである。
例えば、図4に示す様に、パッド電極層4と第1誘電体層5及び第2誘電体層6との間に隙間が存在する場合、パッド電極層4の上面からメッキを成長させる前にスパッタ等で金属薄膜を形成する際、その隙間において十分に金属薄膜が付着せず、パッド電極層4とメッキとの接続信頼性が低下する。そこで、図3に示す様に、パッド電極層4の側面を第1誘電体層5及び第2誘電体層6によって覆うことにより、パッド電極層4の側面と第1誘電体層5及び第2誘電体層6との間に隙間がなくなる。これにより、第2誘電体層6の開口部7において、パッド電極層4の上面からメッキを成長させる前にスパッタ等で金属薄膜を形成する際、第2誘電体層6の開口部7の内壁に金属薄膜を十分に付着させることができ、この弾性境界波素子1とメッキを介しての外部電子部品(図示せず)との接続信頼性が向上するのである。
なお、この出願に関連する先行技術文献として特許文献1が知られている。
特開2007−329584号公報
上記従来の弾性境界波素子1において、例えば、パッド電極層4の側面を構成する金属が銅であり、第1誘電体層5が酸化ケイ素であり、第2誘電体層6が窒化ケイ素の場合、第1誘電体層5に対するパッド電極層4の側面を構成する金属の拡散性が、第2誘電体層6に対するパッド電極層4の側面を構成する金属の拡散性より高くなる。この為、パッド電極層4の側面を構成する金属が第1誘電体層5に拡散してしまい、パッド電極層4の抵抗が大きくなり、その結果、弾性境界波素子1の電気通過特性が劣化するという問題があった。
なお、IDT電極層3の上面から第1誘電体層5への金属拡散については、IDT電極層3の上面に拡散防止層(図示せず)等を設けることにより、防止することが容易である。また、IDT電極層3の高さは、パッド電極層4の高さと比較して低いので、IDT電極層3の側面に拡散防止層等を容易にそしてより確実に付着させることができ、IDT電極層3の側面から第1誘電体層5への金属拡散は容易に防止できる。しかし、パッド電極層4の高さは高く、拡散防止層を確実にパッド電極層4の側面に付着させることが困難であり、パッド電極層4の側面を構成する金属の第1誘電体層5への拡散が深刻な問題となっていたのである。
そこで本発明は、弾性境界波素子の電気通過特性向上と弾性境界波素子と外部電子部品の電気的接続信頼性向上との両立を図ることを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の弾性境界波素子は、圧電体と、この圧電体の上に形成されたIDT電極層と、圧電体の上に形成されると共にIDT電極層に電気的に接続されたパッド電極層と、圧電体の上に前記IDT電極層の少なくとも一部を覆うように形成された第1誘電体層と、圧電体の上に第1誘電体層を覆いかつパッド電極層の上面の少なくとも一部を露出する開口部を有するように形成されてパッド電極層の側面を構成する金属に対する拡散性が前記第1誘電体層より低い媒質からなる第2誘電体層とを備え、第2誘電体層は、パッド電極層の側面を覆うように形成され、第1誘電体層は、パッド電極層の側面に接することなく形成された構成とする。
上記構成により、本発明の弾性境界波素子は、パッド電極層の側面を比較的に金属拡散性の低い第2誘電体層によって覆うことにより、パッド電極層の側面と第1誘電体層及び第2誘電体層との間に隙間がなくなる。これにより、第2誘電体層の開口部において、パッド電極層の上面からメッキを成長させる前にスパッタ等で金属薄膜を形成する際、第2誘電体層の開口部の内壁に金属薄膜を十分に付着させることができ、弾性境界波素子とメッキを介しての外部電子部品との電気的接続信頼性が向上する。
また、パッド電極層の側面と比較的に金属拡散性の高い第1誘電体層とが接していないので、パッド電極層の側面を構成する金属の第1誘電体層への拡散を防止することができる。これにより、パッド電極層の抵抗値増大を抑制し、その結果、弾性境界波素子の電気通過特性の劣化を防止することができる。
即ち、弾性境界波素子の電気通過特性の向上と弾性境界波素子と外部電子部品の電気的接続信頼性向上との両立を図ることができるのである。
(実施の形態1)
以下、図面を参照して本発明の実施の形態1の弾性境界波素子について説明する。図1は、実施の形態1における弾性境界波素子の上面透視図である。図2は、同弾性境界波素子における図1のABの断面模式図である。
図1、図2において、弾性境界波素子8は、圧電体9と、この圧電体9の上に形成されたIDT電極層10と、圧電体9の上に形成されると共にIDT電極層10に電気的に接続されたパッド電極層11と、圧電体9の上にIDT電極層10を覆うように形成された第1誘電体層12と、圧電体9の上に第1誘電体層12を覆いかつパッド電極層11の上面の少なくとも一部を露出する開口部14を有するように形成された第2誘電体層13とを備える。
この第2誘電体層13は、パッド電極層11の膜厚よりも厚く、パッド電極層11の側面を覆うように形成される。一方、第1誘電体層12は、パッド電極層11の膜厚よりも薄く、パッド電極層11の側面に接することなく形成されている。
このように、パッド電極層11の側面を第2誘電体層13によって覆うことにより、パッド電極層11の側面と第2誘電体層13との間に隙間がなくなる。これにより、第2誘電体層13の開口部において、パッド電極層11の上面からメッキを成長させる前にスパッタ等で金属薄膜を形成する際、第2誘電体層13の開口部14の内壁に金属薄膜を十分に付着させることができ、この弾性境界波素子8とメッキを介しての外部電子部品(図示せず)との接続信頼性が向上するのである。
圧電体9は、例えば、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、又はニオブ酸カリウムである。
IDT電極層10は、例えば、アルミニウム、銅、銀、金、チタン、タングステン、白金、クロムの少なくとも一種からなる単体金属、又はこれらを主成分とする合金である。
パッド電極層11の側面を構成する金属は、銅、金、銀の少なくとも一種からなる単体金属、又はこれらを主成分とする合金である。
第1誘電体層12は、例えば、酸化ケイ素からなるが、圧電体9とは逆の周波数温度特性を有する媒質であれば何でも構わない。これにより、周波数温度特性を向上することができる。
第2誘電体層13は、第1の誘電体層12を伝搬する横波の速度よりも速い横波が伝搬する媒質からなり、例えば、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、シリコンの少なくとも一種からなる。また、この第2誘電体層13の膜厚は主要波であるSH波の波長λの0.8倍以上である。これにより、主要波を、弾性境界波素子8の中に閉じ込めることができる。望ましくは、第2誘電体層13の膜厚が主要波であるSH波の波長λ以上であると、主要波を、弾性境界波素子8の中にほぼ完全に閉じ込めることができる。
また、上記第1誘電体層12に対するパッド電極層11の側面を構成する金属の拡散性は、第2誘電体層13に対するパッド電極層11の側面を構成する金属の拡散性より高い。図3に示すように、第1誘電体層5がパッド電極層4に接していれば、パッド電極層4の側面を構成する金属が第1誘電体層5に拡散してしまい、パッド電極層4の抵抗が大きくなり、その結果、弾性境界波素子1の電気通過特性が劣化するという問題があった。そこで、弾性境界波素子8は第1誘電体層12をパッド電極層11の側面に接することなく形成された構成とする。
この構成により、本発明の弾性境界波素子8は、パッド電極層11の側面と比較的に金属拡散性の高い第1誘電体層12とが接していないので、パッド電極層11の側面を構成する金属の第1誘電体層12への拡散を防止することができる。これにより、パッド電極層11の抵抗値増大を抑制し、その結果、弾性境界波素子8の電気通過特性の劣化を防止することができる。
上記のように、本発明の弾性境界波素子8は、弾性境界波素子8の電気通過特性の向上と弾性境界波素子8と外部電子部品(図示せず)の電気的接続信頼性向上との両立を図ることができるのである。
なお、IDT電極層10の上面から第1誘電体層12への金属拡散については、IDT電極層10の上面にTiN等からなる拡散防止層(図示せず)等を設けることにより、防止することができる。
また、IDT電極層10の膜厚は、パッド電極層11の膜厚と比較して薄いので、IDT電極層10の側面に拡散防止層等を容易にそしてより確実に付着させることができ、IDT電極層10の側面から第1誘電体層12への金属拡散は容易に防止することができる。
なお、第2誘電体層13の吸湿性が、第1誘電体層12の吸湿性より低い場合、第2誘電体層13が第1誘電体層12を完全に覆っていることが望ましい。これにより、第1誘電体層12が湿気を含むことを抑制することができ、その結果、弾性境界波素子の電気通過特性の劣化を抑制することができるのである。
本実施の形態1の弾性境界波素子8を共振器(図示せず)に適用しても構わないし、ラダー型フィルタもしくはDMSフィルタ等のフィルタ(図示せず)に適用しても構わない。さらに、弾性境界波素子8を、このフィルタと、フィルタに接続された半導体集積回路素子(図示せず)と、半導体集積回路素子(図示せず)に接続されたスピーカ等の再生部とを備えた電子機器に適用しても良い。これにより、共振器、フィルタ、及び電子機器における通信品質を向上することができるのである。
本発明にかかる弾性境界波素子は、弾性境界波素子の電気通過特性の向上と弾性境界波素子と外部電子部品の電気的接続信頼性向上との両立を図ることができるという特徴を有し、携帯電話等の電子機器に適用可能である。
本発明の実施の形態1における弾性境界波素子の上面透視図 同弾性境界波素子の断面模式図 従来の弾性境界波素子の断面模式図 従来の弾性境界波素子の断面模式図
符号の説明
8 弾性境界波素子
9 圧電体
10 IDT電極層
11 パッド電極層
12 第1誘電体層
13 第2誘電体層
14 開口部

Claims (6)

  1. 圧電体と、
    前記圧電体の上に形成されたIDT電極層と、
    前記圧電体の上に形成されると共に前記IDT電極層に電気的に接続されたパッド電極層と、
    前記圧電体の上に前記IDT電極層の少なくとも一部を覆うように形成された第1誘電体層と、
    前記圧電体の上に前記第1誘電体層を覆いかつ前記パッド電極層の上面の少なくとも一部を露出する開口部を有するように形成された第2誘電体層とを備え、
    前記第1誘電体層に対する前記パッド電極層の側面を構成する金属の拡散性は、前記第2誘電体層に対する前記パッド電極層の側面を構成する金属の拡散性より高く、
    前記第2誘電体層は、前記パッド電極層の側面を覆うように形成され、
    前記第1誘電体層は、前記パッド電極層の側面に接することなく形成された弾性境界波素子。
  2. 前記IDT電極層の上面に設けられた拡散防止層を備えた請求項1に記載の弾性境界波素子。
  3. 前記IDT電極層の膜厚は、前記パッド電極層の膜厚より薄い請求項2に記載の弾性境界波素子。
  4. 前記第2誘電体層の吸湿性は、前記第1誘電体層の吸湿性より低い請求項1に記載の弾性境界波素子。
  5. 前記パッド電極層の側面を構成する金属は、銅、金、銀の少なくとも一種を主成分とする金属であり、
    前記第1誘電体層は、酸化ケイ素であり、
    前記第2誘電体層は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、シリコンの少なくとも一種を含む請求項1に記載の弾性境界波素子。
  6. 請求項1に記載の弾性境界波素子と、
    前記弾性境界波素子に接続された半導体集積回路素子と、
    前記半導体集積回路素子に接続された再生部とを備えた電子機器。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015022931A1 (ja) * 2013-08-14 2015-02-19 株式会社村田製作所 弾性波装置、電子部品、および弾性波装置の製造方法
CN112953462A (zh) * 2021-02-04 2021-06-11 中芯集成电路制造(绍兴)有限公司 滤波器及其形成方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998051011A1 (fr) * 1997-05-08 1998-11-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Dispositif a ondes limites elastiques et son procede de fabrication
JP2006279609A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Fujitsu Media Device Kk 弾性境界波素子、共振子およびラダー型フィルタ
WO2007007476A1 (ja) * 2005-07-13 2007-01-18 Murata Manufacturing Co., Ltd. 弾性境界波フィルタ装置
JP2007329584A (ja) * 2006-06-06 2007-12-20 Fujitsu Media Device Kk 弾性境界波素子、共振器およびフィルタ
JP2008109413A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Fujitsu Media Device Kk 弾性波デバイスおよびフィルタ
JP2008135971A (ja) * 2006-11-28 2008-06-12 Fujitsu Media Device Kk 弾性波デバイス

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5792072A (en) * 1994-06-06 1998-08-11 University Of Washington System and method for measuring acoustic reflectance
US6812478B2 (en) * 2001-03-19 2004-11-02 Lam Research Corporation In-situ detection of thin-metal interface using optical interference via a dynamically updated reference
JP3764450B2 (ja) * 2003-07-28 2006-04-05 Tdk株式会社 表面弾性波素子、表面弾性波装置、表面弾性波デュプレクサ、及び表面弾性波素子の製造方法
US20060087199A1 (en) * 2004-10-22 2006-04-27 Larson John D Iii Piezoelectric isolating transformer

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998051011A1 (fr) * 1997-05-08 1998-11-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Dispositif a ondes limites elastiques et son procede de fabrication
JP2006279609A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Fujitsu Media Device Kk 弾性境界波素子、共振子およびラダー型フィルタ
WO2007007476A1 (ja) * 2005-07-13 2007-01-18 Murata Manufacturing Co., Ltd. 弾性境界波フィルタ装置
JP2007329584A (ja) * 2006-06-06 2007-12-20 Fujitsu Media Device Kk 弾性境界波素子、共振器およびフィルタ
JP2008109413A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Fujitsu Media Device Kk 弾性波デバイスおよびフィルタ
JP2008135971A (ja) * 2006-11-28 2008-06-12 Fujitsu Media Device Kk 弾性波デバイス

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015022931A1 (ja) * 2013-08-14 2015-02-19 株式会社村田製作所 弾性波装置、電子部品、および弾性波装置の製造方法
JPWO2015022931A1 (ja) * 2013-08-14 2017-03-02 株式会社村田製作所 弾性波装置、電子部品、および弾性波装置の製造方法
US10250220B2 (en) 2013-08-14 2019-04-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. Elastic wave device, electronic component, and method for manufacturing elastic wave device
CN112953462A (zh) * 2021-02-04 2021-06-11 中芯集成电路制造(绍兴)有限公司 滤波器及其形成方法

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