JP2010130008A - サイドビューledパッケージ構造並びにその製造方法及びその応用 - Google Patents

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Abstract

【課題】伝熱効果が優れたサイドビューLEDパッケージ構造並びにその製造方法及びその応用を提供する。
【解決手段】サイドビューLEDパッケージ構造200は、光取出面224を画定する第1の凹部208が設けられたシリコンベース202と、少なくとも一部の第1の凹部208上に設けられ、シリコンベース202の外表面まで延伸された第1の導電リードと、少なくとも一部の第1の凹部208上に設けられ、シリコンベース202の外表面まで延伸され、第1の導電リードと電気的に分離された第2の導電リードと、第1の導電リード及び第2の導電リードとそれぞれ電気的に接続された第1の電極及び第2の電極を有する第1のLEDチップ212とを備える。シリコンベース202の外表面は、光取出面224に対して略垂直である。
【選択図】図3

Description

本発明は、LEDパッケージ構造に関し、特にサイドビューLEDパッケージ構造並びにLEDライトバー及びLEDバックライトモジュールへの応用に関する。
エネルギ節減及び環境保護に対する関心の高まりに伴い、発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)は、従来の光源を代替する光源として最も注目されている。LED光源のなかでも、表面実装型(Surface Mounting Type:SMT)LEDは幅広く利用されている。一般のLEDチップは、入力電力の大部分が光エネルギに変換されずにその多くが失われたため、LEDチップの変換効率は理想的でなかった。LEDチップの動作により発生する熱を効率的に放熱することができない場合、LEDチップのジャンクション温度が増大するため、LEDチップの発光効率が低下し、LEDチップの信頼性が低下する虞があった。そのため、発光ダイオード素子の発展にとって放熱問題を解決することは重要であった。
一般に、高パワーLEDとは、パワーが1W以上のLEDを指す。高パワーLEDチップは、より大きな電流を使用するため、放熱は特に重要である。図1を参照する。図1は、従来の高パワー表面実装型LEDパッケージ構造を示す断面図である。LEDパッケージ構造100は、LEDチップ104、パッケージベース102、リードフレーム106、ワイヤ108及びパッケージ体(package encapsulant)110を主に含む。パッケージベース102は、ポリフタルアミド(polyphthalamide:PPA)を射出成形して形成する。一般に、パッケージベース102は、射出成形を行う際にリードフレーム106と接続される。リードフレーム106は、電気的に分離された2つのリード112以外に、ヒートシンク114を含む。ヒートシンク114は、リード112のうちの1つと接続され、リード112よりも厚さを大きくして放熱効果を高めていた。パッケージベース102は、リードフレーム106のリード112及びヒートシンク114の一部を底部から露出させる凹部116を含む。
LEDチップ104は、パッケージベース102の凹部116の中で、リードフレーム106のヒートシンク114の露出部分に配置されているため、LEDチップ104が発生させる熱は、ヒートシンク114から迅速に放熱させることができる。LEDチップ104の2つの電極は、例えば、ワイヤ108又はフリップチップ法を利用し、リードフレーム106の2つのリード112と電気的に接続されている。パッケージ体110は、パッケージベース102の凹部116の中に充填され、LEDチップ104及びワイヤ108を覆う。
LEDパッケージ構造100は、ヒートシンク114により放熱効果を高めることができるため、1W以上の高パワーLED素子に応用することができるが、以下の欠点があった。LEDパッケージ構造100は、トップビューLEDパッケージ構造であり、サイズが大きいため、薄型の導光板を備えるバックライトモジュールに応用することができなかった。また、パッケージベース102の材料とLEDチップ104の半導体材料との伝熱係数は差が大きいため、パッケージベース102とLEDチップ104との接続部分が熱膨張により切断され、LEDパッケージ構造100の信頼性が低下する虞があった。さらに、パッケージベース102の表面がポリフタルアミドからなる場合、プラズマクリーニングを行うと損壊され、パッケージベース102の表面の反射率が下がって発光強度に悪影響を与える虞があった。さらに、リードフレーム106及びヒートシンク114は、ヒートシンク114により厚さが不均一となる上、厚さの差異が大きくなるために、ヒートシンク114とともにリードフレーム106の製造工程が複雑となり、廃棄物が発生するためコストを低減させるには不利であった。
本発明の第1の目的は、シリコンの熱膨張係数は、LEDチップの半導体材料と略等しいため、LEDチップとシリコンパッケージベースとの接続部分が熱膨張により影響されることを防ぎ、サイドビューLEDパッケージ構造の信頼性を向上させることができる、パッケージベースがシリコンからなるサイドビューLEDパッケージ構造並びにその製造方法を提供することにある。
本発明の第2の目的は、シリコンからなるパッケージベースの熱伝達係数が高いため、金属ヒートシンクを含んで不均一な厚さを有する従来のリードフレームが必要なく、そのため、リードフレームの製造の困難度を低減し、リードフレームの製造の際に発生した廃棄物を無くし、サイドビューLEDパッケージ構造及びその製造方法を提供することにある。
本発明の第3の目的は、パッケージベースの熱伝達係数が高いため、低パワーLEDチップに適用することができるだけでなく、1W以上の大パワーLEDチップにもパッケージベースを用いることができる、サイドビューLEDパッケージ構造並びにそのLEDライトバー及びLEDバックライトモジュールへの応用を提供することにある。
本発明の第4の目的は、半導体製造工程により形成されるシリコンパッケージベースの平坦な凹部の表面を反射面として直接用い、反射面の反射効果がプラズマクリーニングにより影響を受けないため、パッケージベースの反射効果は、従来のプラスチックベースより高い、サイドビューLEDパッケージ構造並びにそのLEDライトバー及びLEDバックライトモジュールへの応用を提供することにある。
本発明の第5の目的は、LEDパッケージ構造をサイドビュータイプにすることにより、LEDライトバーの幅及びサイドエッジタイプのバックライトモジュールの厚さを有効に低減させることができる、サイドビューLEDパッケージ構造並びにそのLEDライトバー及びLEDバックライトモジュールへの応用を提供することにある。
(1)本発明は上記目的を達成するため、サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定する第1の凹部が設けられたシリコンベースと、少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸された第1の導電リードと、少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸され、前記第1の導電リードと電気的に分離された第2の導電リードと、前記第1の導電リード及び前記第2の導電リードとそれぞれ電気的に接続された第1の電極及び第2の電極を有する第1のLEDチップと、を備え、前記シリコンベースの外表面は、前記光取出面に対して略垂直であることを特徴とするサイドビューLEDパッケージ構造を提供する。
(2)また、本発明は上記目的を達成するため、シリコンベースを準備し、前記シリコンベースは、互いに隣接する第1の表面及び第2の表面に設けた第1の凹部及び第2の凹部を含み、前記第1の凹部により、サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定する工程と、少なくとも2つの導電リードを形成し、前記第1の凹部を覆って前記第2の凹部まで延伸し、前記少なくとも2つの導電リードが互いに電気的に分離し、前記第2の凹部に配置された前記少なくとも2つの導電リードの部分に対して前記光取出面を略垂直に設ける工程と、前記第2の凹部の中に少なくとも1つのLEDチップを配置し、前記少なくとも1つのLEDチップは、前記少なくとも2つの導電リードとそれぞれ電気的に接続された2つの電極を有する工程と、前記少なくとも1つのLEDチップを覆うパッケージ体を形成する工程と、を含むことを特徴とするサイドビューLEDパッケージ構造の製造方法を提供する。
(3)また、本発明は上記目的を達成するため、シリコンサブベースを準備し、前記シリコンサブベースは、互いに隣接した第1の表面及び第2の表面を有し、前記第2の表面に第1の凹部を設ける工程と、少なくとも2つの導電リードを形成し、前記シリコンサブベースの前記第1の表面及び前記第1の凹部の表面を覆って延伸し、前記少なくとも2つの導電リードを互いに電気的に分離する工程と、前記シリコンサブベースの前記第1の表面に、シリコン凹部が設けられ、前記シリコンサブベース及び前記シリコン凹部により第2の凹部が画定され、前記少なくとも2つの導電リードそれぞれの一部が前記第2の凹部から露出され、前記第2の凹部は、サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定し、前記第1の凹部に設けられた前記少なくとも2つの導電リードの部分に対して前記光取出面を略垂直に設ける工程と、前記第2の凹部の中に少なくとも1つのLEDチップを配置し、前記少なくとも1つのLEDチップは、前記少なくとも2つの導電リードとそれぞれ電気的に接続された2つの電極を含む工程と、前記少なくとも1つのLEDチップを覆うパッケージ体を形成する工程と、を含むことを特徴とするサイドビューLEDパッケージ構造の製造方法を提供する。
(4)また、本発明は上記目的を達成するため、回路基板と、少なくとも1つのサイドビューLEDパッケージ構造と、を備えるLEDライトバーであって、前記少なくとも1つのサイドビューLEDパッケージ構造は、シリコンベース、第1の導電リード、第2の導電リード及び第1のLEDチップを有し、前記シリコンベースには、前記サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定する第1の凹部が設けられ、前記第1の導電リードは、少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸され、前記第2の導電リードは、少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸され、前記第1の導電リードと前記第2の導電リードとは電気的に分離され、前記第1の導電リード及び前記第2の導電リードは、回路基板の平面に設けられ、前記光取出面は、前記回路基板の平面に対して略垂直に設けられ、前記第1のLEDチップは、前記第1の導電リード及び前記第2の導電リードとそれぞれ電気的に接続された第1の電極及び第2の電極を有することを特徴とするLEDライトバーを提供する。
本発明のサイドビューLEDパッケージ構造並びにその製造方法及びその応用は、以下(1)〜(5)の長所を有する。
(1)シリコンの熱膨張係数は、LEDチップの半導体材料と略等しいため、LEDチップとシリコンパッケージベースとの接続部分が熱膨張により影響されることを防ぎ、サイドビューLEDパッケージ構造の信頼性を向上させることができる。
(2)シリコンからなるパッケージベースの熱伝達係数が高いため、金属ヒートシンクを含んで不均一な厚さを有する従来のリードフレームを用いる必要がなく、そのため、リードフレームの製造の困難度を低減し、リードフレームの製造の際に発生する廃棄物を無くすことができる。
(3)パッケージベースの熱伝達係数が高いため、低パワーLEDチップに適用することができるだけでなく、1W以上の大パワーLEDチップにもパッケージベースを用いることができる。
(4)半導体製造工程により形成されるシリコンパッケージベースの凹部の平坦な表面を反射面として直接用い、反射面の反射効果がプラズマクリーニングにより悪影響を受けないため、パッケージベースの反射効果は、従来のプラスチックベースより高い。
(5)LEDパッケージ構造をサイドビュータイプにすることにより、LEDライトバーの幅及びサイドエッジタイプのバックライトモジュールの厚さを有効に低減させることができる。
従来の高パワー表面実装型LEDパッケージ構造を示す断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造を示す斜視図である。 図2の線A−A’に沿った断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の他の実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造を示す斜視図である。 図5の線B−B’に沿った断面図である。 本発明の他の実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の他の実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の他の実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の他の実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の他の実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の他の実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造の製造工程の流れを示す断面図である。 本発明の一実施形態によるLEDバックライトモジュールを示す断面図である。 本発明の他の実施形態によるLEDバックライトモジュールを示す断面図である。
以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
図2及び図3を参照する。図2及び図3に示すように、サイドビューLEDパッケージ構造200は、シリコンベース202、2つの導電リード218、1つ又は2つ以上のLEDチップ212及びパッケージ体228を含む。本実施形態のシリコンベース202は、互いに隣接するように一体成形された表面204,206を含む。シリコンベース202は、表面204に設けられた第1の凹部208を含む。第1の凹部208は、サイドビューLEDパッケージ構造200の光取出面224を画定する。本実施形態のシリコンベース202は、表面206に設けられた第2の凹部210をさらに含む。図2及び図3に示すように、導電リード218は、シリコンベース202の表面204に設けられた第1の凹部208をそれぞれ覆うとともに、延伸して表面206の第2の凹部210を覆い、互いに電気的に分離されている。各導電リード218は、1層の材料層からなる1層構造又は少なくとも2層が積層された多層積層構造にしてもよい。図3に示すように、本実施形態の各導電リード218は、シリコンベース202上に順次積層したシード層214及び電気めっき層216を含む多層構造である。シード層214は、Cu、Au、Ag又はNiからなる。また、電気めっき層216は、Cu、Ag又はNiからなる。
図3を参照する。図3に示すように、LEDチップ212は、シリコンベース202の第1の凹部208の中に配置される(例えば、LEDチップ212は、導電リード218上に配置される)。本実施形態では、シリコンベース202とLEDチップ212との間の絶縁効果を高めるために、シリコンベース202上に絶縁層(図示せず)を選択的に形成し、導電リード218とシリコンベース202との間に絶縁層を形成する。この絶縁層は、二酸化ケイ素、窒化ケイ素又はセラミックからなる。サイドビューLEDパッケージ構造200の光取出面224は、シリコンベース202の外側の表面206に対して略垂直である。本実施形態のサイドビューLEDパッケージ構造200は、1つのLEDチップ212を有する。他の実施形態のサイドビューLEDパッケージ構造200は、互いに異なる導電型である2つの電極222(例えば、一方の電極222はp型であり、他方の電極222はn型である。)をそれぞれ含む複数のLEDチップ212を含んでもよい。本実施形態において、LEDチップ212は、水平電極構造である。例えば、LEDチップ212の2つの電極222は、LEDチップ212の同じ側に配置されている。サイドビューLEDパッケージ構造200は、複数のLEDチップ212の必要に応じ、2つ以上の導電リード(例えば、複数の導電リード218)を含んでもよい。本実施形態では、電極222のそれぞれは、導電リード218に対応するようにそれぞれ配置され、ワイヤ226を介して対応した導電リード218と電気的に接続されてもよい。他の実施形態では、共通カソード又は共通アノードを応用するため、サイドビューLEDパッケージ構造200が備える電極222の数は、導電リード218よりも多く、導電リード218の一部はワイヤ226を介して少なくとも2つの電極222と電気的に接続されてもよい。LEDチップ212は、同じ色調を有したり(例えば、LEDチップ212の色は全て青色である)、異なる色調を有したりしてもよい(例えば、2つの緑色LEDチップ、1つの赤色LEDチップ及び1つの青色LEDチップを含む)。
図3に示すように、本実施形態のサイドビューLEDパッケージ構造200は、製品に必要な輝度に応じ、シリコンベース202の第1の凹部208の側面を覆う反射層220を選択的に含んでもよい。反射層220は、金属反射層、非金属反射層又は金属層/非金属層の複合構造でもよい。本実施形態において、第1の凹部208の側面は、反射層が設けられていない反射面として直接使用してもよい。パッケージ体228は、シリコンベース202の第1の凹部208に充填され、LEDチップ212を覆うとともにワイヤ226を覆うことが好ましい。本実施形態のパッケージ体228には、蛍光粉末が混入されてもよい。この蛍光粉末は、所望のパッケージの光の色やLEDチップ212から放射する光の色に応じて選択してもよい。所望のパッケージ光の色が白色の場合、LEDチップ212は青色を放射し、パッケージ体228に、黄色又は赤緑色の蛍光粉末を混入してもよい。
図4A〜図4Gを参照する。本実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造200の製造工程では、図4Aに示すように、まず、シリコン基板232を準備する。続いて、図4Bに示すように、例えば、フォトリソグラフィ及びエッチングにより、シリコン基板232に第1の凹部208及び第2の凹部210を画定する。シリコン基板232は、例えば、ウェットエッチングにより、各シリコンベース202の表面204に第1の凹部208を形成する。このウェットエッチングでは、エッチャントとしてKOH又はHFを用いてもよい。また、他の実施形態では、シリコンベース202の表面204に、第1の凹部208を形成してもよい。例えば、反応性イオンエッチングにより、シリコン基板232に1つ又は2つ以上の第2の凹部210を形成し、複数のシリコンベース202を画定してもよい。第2の凹部210は、シリコンベース202の表面206に設けられ、幅wを有する。後で形成する導電リード218(図4Cに示す)の厚さは、第2の凹部210の幅wを制御することにより調整することができる。
後で設置するLEDチップ212(図4Dに示す)とシリコンベース202との間の絶縁性を向上させるために、シリコンベース202の第1の凹部208の底部又はシリコンベース202の外表面全体に絶縁層(図示せず)を選択的に形成してもよい。この絶縁層を形成する際、例えば、堆積法又は炉熱酸化法により、二酸化ケイ素又は窒化ケイ素を形成したり、例えば、堆積法によりセラミック層を形成したりしてもよい。セラミック層を絶縁層として使用すると、伝熱効果を向上させることができる。
図4Cを参照する。図4Cに示すように、少なくとも2つの導電リード218により、シリコンベース202の表面204に設けられた第1の凹部208を覆うとともに、延伸させて他の表面206に設けた第2の凹部210を覆う。導電リード218は、互いに電気的に分離されている。各導電リード218は、本実施形態では単層構造であるが、他の実施形態では多層構造にしてもよい。例えば、まず、半導体製造工程のパターン画定技術、スパッタリング法又は蒸着法により、薄いシード層214を形成してシリコンベース202を覆う。このシード層214は、半導体パターン画定技術により画定され、それぞれ互いに電気的に分離された2つ又は3つ以上の部分を含む。続いて、シード層214をベースとして用い、例えば、電気めっき法を利用し、シード層214上に電気めっき層216を形成し、互いに電気的に分離された導電リード218の製作を完了する。シード層214の厚さは、製造工程に応じて約数百Å〜数千Åの間で調整することができる。シード層214は、例えば、Cu、Au、Ag又はNiからなってもよい。電気めっき層216の厚さは、シリコンベース202に画定された第2の凹部210の幅wにより調整することができ、パッケージベースの後続のカット工程及び分割工程を行うのに都合が良いように、幅wより僅かに小さいサイズにすることが好ましい。電気めっき層216は、例えば、Cu、Ag又はNiからなる。本実施形態では、電気めっき法により導電リード218を製作することにより、従来技術において金属材料を多数回折り曲げることにより発生していた材料応力の問題を解決することができる。
図4D及び図2を同時に参照する。図4D及び図2に示すように、各シリコンベース202の第1の凹部208の中に1つ又は2つ以上のLEDチップ212を配置する。図2に示すように、各LEDチップ212は、互いに異なる導電型である2つの電極222を含む。電極222は、フリップチップ法又はワイヤボンディング法により、図2に示すようなワイヤ226を用い、対応した導電リード218とそれぞれ電気的に接続される。各導電リード218は、1つ又は2つ以上の電極222とそれぞれ電気的に接続される。
続いて、図4Eに示すように、製品に必要な輝度に応じて反射層220を選択的に形成し、シリコンベース202の第1の凹部208の側面を覆う。本実施形態では、反射層を設けずに、第1の凹部208の側面を反射面として直接使用してもよい。続いて、図4Fに示すように、シリコンベース202の第1の凹部208に、パッケージ体228を充填し、LEDチップ212及びワイヤ226を覆う。本実施形態において、パッケージ体228には、蛍光粉末(例えば、黄色蛍光粉末又は赤緑色蛍光粉末)が混入されてもよい。本実施形態では、サイドビューLEDパッケージ構造200の光取出面224は、シリコンベース202の外側の表面206に延伸された導電リード218の部分に対して略垂直に形成されている。
続いて、図4Gに示すように、例えば、バックサイドエッチング(backside etching)により、隣接した2つのシリコンベース202の間にあるシリコン材料を除去し、サイドビューLEDパッケージ構造200を分離することにより、図2及び図3に示すような構造を形成する。他の実施形態では、各サイドビューLEDパッケージ構造200を分割工程で分離し、図2及び図3に示すような構造を得てもよい。
図5及び図6を参照する。図5及び図6に示すように、サイドビューLEDパッケージ構造200aは、シリコンベース202a、2つの導電リード218a、1つ又は2つ以上のLEDチップ212a及びパッケージ体228を主に含む。本実施形態のシリコンベース202aは、シリコンサブベース234とシリコン凹部236とが積層され、一体成形されていない構造である。シリコンサブベース234は、シリコン凹部236の底面に接続されている。本実施形態において、シリコンサブベース234とシリコン凹部236とは、ポリマー又は接着糊(例えば、エポキシ樹脂)からなる接合層(図示せず)を用いてもよい。本実施形態のシリコンベース202aは、互いに隣接した表面204,206を含む。シリコンベース202aは、表面204の中に設けられた第1の凹部208を含む。図6に示すように、本実施形態のシリコンベース202aは、シリコンベース202aの表面206に設けた第2の凹部210を含む。本実施形態の第1の凹部208は、シリコンサブベース234とシリコン凹部236との組み合わせにより画定される。この第1の凹部208は、サイドビューLEDパッケージ構造200aの光取出面224を画定する。本実施形態において、サイドビューLEDパッケージ構造200aの光取出面224は、シリコンベース202aの外側の表面206に対して略垂直である。図5及び図6を参照する。図5及び図6に示すように、導電リード218aは、シリコンベース202aの第1の凹部208から露出されるとともに、延伸して表面206の第2の凹部210を覆う。導電リード218aは、互いに電気的に隔離されている。各導電リード218aは、単一の材料層からなる単層構造でもよいし、2層の材料層が積層されて形成された多層構造でもよい。図6に示すように、本実施形態の各導電リード218aは、シリコンベース202a上に順次積層されたシード層214a及び電気めっき層216aを含んだ多層構造である。シード層214aは、例えば、Cu、Au、Ag又はNiからなり、電気めっき層216aは、例えば、Cu、Ag又はNiからなってもよい。
図6を参照する。図6に示すように、本実施形態では、シリコンベース202aとLEDチップ212aとの間の絶縁効果を向上させるために、シリコンベース202aのシリコンサブベース234とシリコン凹部236との間で、かつ、導電リード218a下に、絶縁層238が設けられている。他の実施形態では、絶縁効果をさらに向上させるために、導電リード218a全体とシリコンサブベース234との間に、絶縁層238を設けてもよい。絶縁層238は、例えば、二酸化ケイ素、窒化ケイ素又はセラミックからなってもよい。本実施形態の導電リード218aは、第1の凹部208の側面から外側に延伸された導電リード218と異なり、シリコンサブベース234からシリコンベース202aの外表面へ延伸されている。そのため、絶縁層238の一部及び各導電リード218aの一部は、シリコンベース202aのシリコン凹部236とシリコンサブベース234との間に設けられている。導電リード218aをこのように設計することにより、シリコンベース202aの第1の凹部208の反射面が導電リード218aの悪影響を受けないため、所望しないLEDチップ212aの反射パスが発生して発光効率が低下することを防ぐことができる。
図6に示すように、本実施形態では、LEDチップ212aは、シリコンベース202aに設けられた第1の凹部208に配置されているが、他の実施形態では、導電リード218a上に配置されてもよい。本実施形態において、サイドビューLEDパッケージ構造200aは、2つのLEDチップ212aを有するが、他の実施形態では、1つ又は2つ以上のLEDチップ212aを含んでもよい。各LEDチップ212aは、互いに異なる導電型である2つの電極222a(例えば、一方の電極222aはp型であり、他方の電極222aはn型である。)を含む。本実施形態において、LEDチップ212aは、垂直電極構造である。例えば、LEDチップ212aの2つの電極222aは、対向するようにLEDチップ212aの両側に配置されている。サイドビューLEDパッケージ構造200aは、複数のLEDチップ212aに対応するように2つ以上の導電リード(例えば、3つの導電リード218a)を含んでもよい。本実施形態の電極222aそれぞれは、ワイヤ226を介し、対応した導電リード218aと電気的に接続されてもよい。図5に示すように、本実施形態では、共通カソード又は共通アノードを応用するために、サイドビューLEDパッケージ構造200aが有する電極222aの数は、導電リード218aよりも多い。導電リード218aは、2つのワイヤ226を介し、2つのLEDチップ212aの2つの電極222aと電気的に接続されている。LEDチップ212aは、同じ色調を有するLEDチップでもよいし(例えば、LEDチップ212aのそれぞれは青色LEDチップである。)、異なる色調を有してもよい(例えば、LEDチップ212aは、2つの緑色LEDチップ、1つの赤色LEDチップ及び1つの青色LEDチップを含む)。
図6に示すように、本発明の一実施形態によるサイドビューLEDパッケージ構造200aは、製品に必要な輝度に応じ、シリコンベース202aに設けた第1の凹部208の側面を覆う反射層220を選択的に含んでもよい。反射層220は、金属反射層、非金属反射層又は金属層/非金属層の複合構造でもよい。同様に、第1の凹部208の側面は、反射層が設けられていない反射面として直接使用してもよい。パッケージ体228は、シリコンベース202aに設けられた第1の凹部208に充填され、LEDチップ212a及びワイヤ226を覆う。本実施形態のパッケージ体228には、蛍光粉末が混入されてもよい。蛍光粉末は、パッケージの光の色やLEDチップ212aから放射する光の色に応じて選択してもよい。本実施形態において、所望のパッケージ光の色が白色の場合、LEDチップ212aは青色を放射し、パッケージ体228に、黄色又は赤緑色の蛍光粉末を混入してもよい。
図7A〜図7Fを参照する。本実施形態のサイドビューLEDパッケージ構造200aの製造工程では、図7Aに示すように、まず、シリコン基板240を準備する。続いて、シリコンベース202aとLEDチップ212a(図7Eに示す)との間の絶縁性能を向上させるために、絶縁層238を選択的に形成し、シリコン基板240の表面を覆う。例えば、堆積法又は炉熱酸化法により、二酸化ケイ素又は窒化ケイ素を形成したり、例えば、堆積法によりセラミック層を形成したりしてもよい。セラミック層を絶縁層として使用した場合、伝熱効果を向上させることができる。絶縁層238は、導電リード218aよりも厚いことが好ましい。
図7Bを参照する。図7Bに示すように、配置領域242及び所望の厚さの導電リード218a(図7Cに示す)を形成し、例えば、フォトリソグラフィ及びエッチングにより、絶縁層238を画定する。続いて、例えば、フォトリソグラフィ及びエッチングを利用し、シリコン基板240の中に1つ又は2つ以上の第2の凹部210を画定する。例えば、フォトリソグラフィ及びエッチングを利用し、導電リード218aの配置領域242及び複数のシリコンサブベース234を画定する。シリコン基板240をエッチングする際、ドライエッチング工程(例えば、反応性イオンエッチング法)を使用してもよい。各シリコンサブベース234は、互いに隣接した表面244,246を含み、絶縁層238は、シリコンサブベース234の表面244上に形成される。第2の凹部210の一部は、シリコンサブベース234の表面246に設けられ、幅wを有する。後で形成する第2の凹部210の幅wを制御することにより、導電リード218aの厚さを制御することができる。絶縁層238が設けられていない本実施形態では、例えば、フォトリソグラフィ及びエッチング法を利用し、シリコン基板240を直接画定し、1つ又は2つ以上の第2の凹部210を形成するため、導電リード218aの配置領域242と、複数のシリコンサブベース234と、を形成することができる。
図7Cを参照する。図7Cに示すように、少なくとも2つの導電リード218aにより、絶縁層238中の配置領域242を覆うとともに、延伸してシリコンサブベース234の表面246中の第2の凹部210を覆う。導電リード218aは、互いに電気的に分離されている。各導電リード218aは、単層構造であるが、他の実施形態では多層構造でもよい。例えば、半導体製造工程のパターン画定技術、スパッタリング又は蒸着法により、薄いシード層214aを形成し、シリコンサブベース234の表面244上の絶縁層238を覆う。シード層214aは、半導体パターン画定技術により画定された2つ又は3つ以上の部分を含み、それぞれの部分は互いに電気的に分離されている。続いて、シード層214aをベースとして用い、例えば、電気めっき法を利用し、シード層214a上に電気めっき層216aを形成し、互いに電気的に分離された導電リード218aの製作を完了する。シード層214aの厚さは、製造工程に応じて約数百Å〜数千Åに調整してもよい。シード層214aは、例えば、Cu、Au、Ag又はNiからなってもよい。電気めっき層216aの厚さは、シリコンサブベース234に画定された第2の凹部210の幅wにより調整し、パッケージベースの後続のカット工程及び分割工程を行うのに都合がよいように幅wより僅かに小さいサイズが好ましい。電気めっき層216aは、例えば、Cu、Ag又はNiからなってもよい。本実施形態の導電リード218aは、電気めっき法により製作されているため、従来、金属材料を多数回折り曲げることにより発生していた材料応力の問題を解決することができる。さらに他の実施形態では、例えば、スパッタリング又は蒸着法により、所望の厚さを有する導電リード218aを直接成長させるため、電気めっき法を用いる必要がない。
図7Dを参照する。図7Dに示すように、シリコンサブベース234の表面244にシリコン凹部236を配置し、シリコンサブベース234の表面244は、シリコン凹部236の底面に接合し、シリコンベース202aを形成する。本実施形態において、接合層(図示せず)を選択的に使用し、シリコン凹部236とシリコンサブベース234とを接続する。接合層は、ポリマー又は接着糊(例えば、エポキシ樹脂)からなってもよい。図5及び図7Dを同時に参照する。図5及び図7Dに示すように、シリコンベース202aにおいて、シリコンサブベース234及びシリコン凹部236により第1の凹部208が画定される。各導電リード218aの一部は、第1の凹部208から露出される。
図5及び図7Eを同時に参照する。図5及び図7Eに示すように、各シリコンベース202aの第1の凹部208に、1つ又は2つ以上のLEDチップ212aが配置されている。各LEDチップ212aは、表裏の関係にある両面に、互いに異なる導電型である2つの電極222aがそれぞれ設けられている。続いて、電極222aは、例えば、図5に示すワイヤ226を用い、フリップチップ法又はワイヤボンディング法により、対応した導電リード218aと電気的に接続されている。図5に基づいて説明したように、各導電リード218aは、1つ又は2つ以上の電極222aと対応するように電気的に接続されている。続いて、製品に必要な輝度に応じ、反射層220を選択的に形成し、シリコンベース202aの第1の凹部208の側面を覆ったり、第1の凹部208の側面を、反射層が設けられていない反射面として直接用いたりしてもよい。パッケージ体228は、シリコンベース202aの第1の凹部208に充填され、LEDチップ212a及びワイヤ226を覆う。本実施形態のパッケージ体228には、蛍光粉末(例えば、黄色の蛍光粉末又は赤緑色の蛍光粉末)が混入されてもよい。その後、図7Fに示すように、例えば、ドライエッチング法を利用し、導電リード218aをエッチングストップ層として用いることにより、シリコン凹部236の上方及びシリコンサブベース234の下方からシリコン凹部236の一部及びシリコンサブベース234の一部をそれぞれ除去し、サイドビューLEDパッケージ構造200aを分離して図5及び図6に示すような構造を形成する。本実施形態において、サイドビューLEDパッケージ構造200aの光取出面224は、シリコンベース202aの外側の表面206に延伸した導電リード218aの部分に対して略垂直である。
上述したことから分かるように、サイドビューLEDパッケージ構造は、以下の長所を有する。シリコンベースの膨張係数がLEDチップの半導体材料の膨張係数と略同じであるため、LEDチップとシリコンベースとの接続部分が熱膨張により影響されることを防ぎ、サイドビューLEDパッケージ構造の信頼性を向上させることができる。そのため、金属ヒートシンクを含み、厚さが不均一であった従来のリードフレームを用いる必要がない。これにより、リードフレームの製造工程における困難を低減し、リードフレームの製造工程で発生する廃棄物を無くすことができる。さらに、シリコンベースは、伝熱効果が優れているため、低パワーLEDチップに適用することができるだけでなく、1W以上の大パワーLEDチップにも適用することができる。さらに、半導体製造工程により形成した場合、シリコンベースの凹部表面が平坦となる。そのため、凹部の表面を反射面として直接用いた場合、反射面の反射効果がプラズマクリーニングによる悪影響を受けず、シリコンベースの反射効果は、従来のプラスチックベースよりも優れている。
上述のサイドビューLEDパッケージ構造は、LEDライトバー及びLEDバックライトモジュールに利用することができる。このLEDパッケージ構造はサイドビュータイプであるため、LEDライトバーの幅及びサイドエッジタイプ(side−edged type)バックライトモジュールの厚さを有効に低減させることができる。
図8を参照する。図8に示すように、LEDバックライトモジュール252は、キャリア260、導光板254及び少なくとも1つのLEDライトバー250を主に含む。キャリア260は、フレーム構造又はプレート構造でもよい。キャリア260は、十分な強度の支持を得るために、金属又は硬質プラスチック材料からなってもよい。導光板254は、キャリア260上に配置されている。本実施形態において、導光板254は、厚さが不均一な楔形板状である。LEDバックライトモジュール252は、厚さが均一な平板状の導光板を用いてもよい。LEDライトバー250は、キャリア260で、導光板254の入光面262に隣接するように配置してもよい。
本実施形態のLEDライトバー250は、サイドビューLEDパッケージ構造200の一応用例である。このLEDライトバー250は、少なくとも1つのサイドビューLEDパッケージ構造200及び回路基板248を主に含む。サイドビューLEDパッケージ構造200は、回路基板248の平面264上に配置され、サイドビューLEDパッケージ構造200の導電リード218は、回路基板248の平面264に接合されている。回路基板248の平面264には回路が予め設けられ、回路基板248の平面264上に予め設けられた回路と、導電リード218とが電気的に接続され、サイドビューLEDパッケージ構造200の中のLEDチップ212と、回路基板248とが電気的に接続されている。LEDライトバー250の中において、サイドビューLEDパッケージ構造200の光取出面224は、回路基板248の平面264に対して略垂直である。さらに、LEDライトバー250をLEDバックライトモジュール252中に応用する場合、LEDライトバー250のサイドビューLEDパッケージ構造200の光取出面224は、導光板254の入光面262に対向するように設けてもよい。
本実施形態のLEDバックライトモジュール252は、製品に必要な輝度に応じ、導光板254とキャリア260との間に配置した反射シート256を選択的に含んでもよい。さらに、このLEDバックライトモジュール252は、光学品質を向上させるために、1つ又は2つ以上の光学フィルム258(例えば、輝度向上フィルム、拡散シート)を選択的に含んでもよい。
図9を参照する。図9に示すように、LEDバックライトモジュール252aは、キャリア260、導光板254a及び少なくとも1つのLEDライトバー250aを主に含む。導光板254aは、キャリア260上に配置される。本実施形態の導光板254aは、厚さが均一な平板状の導光板であるが、上述した厚さが不均一な楔形板状の導光板254を用いてもよい。LEDライトバー250aは、キャリア260上に配置され、導光板254aの入光面262aの傍に配置される。
本実施形態のLEDライトバー250aは、サイドビューLEDパッケージ構造200aの一応用例である。このLEDライトバー250aは、少なくとも1つのサイドビューLEDパッケージ構造200a及び回路基板248aを主に含む。サイドビューLEDパッケージ構造200aは、回路基板248aの平面264a上に配置され、サイドビューLEDパッケージ構造200aの導電リード218aは、回路基板248aの平面264aに接合されている。回路基板248aの平面264aには、回路が予め設けられている。回路基板248aの平面264a上に予め設けられた回路には、導電リード218aが電気的に接続され、サイドビューLEDパッケージ構造200a中のLEDチップ212aと回路基板248aとが電気的に接続されている。LEDライトバー250a中において、サイドビューLEDパッケージ構造200aの光取出面224は、回路基板248aの平面264aに対して略垂直に設けられている。さらに、LEDライトバー250aをLEDバックライトモジュール252aに応用する際、LEDライトバー250aのサイドビューLEDパッケージ構造200aの光取出面224は、導光板254aの入光面262aに対向するように設けてもよい。
本実施形態のLEDバックライトモジュール252aは、製品に必要な輝度に応じ、導光板254aとキャリア260との間に配置した反射シート256を選択的に含んでもよい。さらに、LEDバックライトモジュール252aは、光学品質を向上させるために、1つ又は2つ以上の光学フィルム258(例えば、輝度向上フィルム、拡散シート)を選択的に含んでもよい。
当該分野の技術を熟知するものが理解できるように、本発明の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本発明を限定するものではない。本発明の主旨と範囲を脱しない範囲内で各種の変更や修正を加えることができる。従って、本発明による特許請求の範囲は、このような変更や修正を含めて広く解釈されるべきである。
100…LEDパッケージ構造、102…パッケージベース、104…LEDチップ、106…リードフレーム、108…ワイヤ、110…パッケージ体、112…リード、114…ヒートシンク、116…凹部、200…サイドビューLEDパッケージ構造、200a…サイドビューLEDパッケージ構造、202…シリコンベース、202a…シリコンベース、204…表面、206…表面、208…第1の凹部、210…第2の凹部、212…LEDチップ、212a…LEDチップ、214…シード層、214a…シード層、216…電気めっき層、216a…電気めっき層、218…導電リード、218a…導電リード、220…反射層、222…電極、222a…電極、224…光取出面、226…ワイヤ、228…パッケージ体、232…シリコン基板、234…シリコンサブベース、236…シリコン凹部、238…絶縁層、240…シリコン基板、242…配置領域、244…表面、246…表面、248…回路基板、248a…回路基板、250…LEDライトバー、250a…LEDライトバー、252…LEDバックライトモジュール、252a…LEDバックライトモジュール、254…導光板、254a…導光板、256…反射シート、258…光学フィルム、260…キャリア、262…入光面、262a…入光面、264…平面、264a…平面、w…幅

Claims (10)

  1. サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定する第1の凹部が設けられたシリコンベースと、
    少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸された第1の導電リードと、
    少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸され、前記第1の導電リードと電気的に分離された第2の導電リードと、
    前記第1の導電リード及び前記第2の導電リードとそれぞれ電気的に接続された第1の電極及び第2の電極を有する第1のLEDチップと、を備え、
    前記シリコンベースの外表面は、前記光取出面に対して略垂直であることを特徴とするサイドビューLEDパッケージ構造。
  2. 前記シリコンベースは、
    シリコン凹部と、
    前記シリコン凹部の底面と接続されたシリコンサブベースと、を有し、
    前記シリコン凹部及び前記シリコンサブベースにより、前記第1の凹部が画定されることを特徴とする請求項1に記載のサイドビューLEDパッケージ構造。
  3. 互いに異なる導電型である2つの第3の電極を有する少なくとも1つの第2のLEDチップをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のサイドビューLEDパッケージ構造。
  4. 互いに異なる導電型である2つの第3の導電リードをさらに備え、
    前記第3の導電リードの導電型は、前記第3の電極の導電型にそれぞれ対応し、
    前記第3の導電リードは、対応した前記第3の電極とそれぞれ電気的に接続されることを特徴とする請求項3に記載のサイドビューLEDパッケージ構造。
  5. 第3の導電リードをさらに備え、
    一方の前記第3の電極は、前記第3の導電リードと電気的に接続され、
    他方の前記第3の電極は、前記第1の電極と導電型が同じであり、前記第1の導電リードと電気的に接続されることを特徴とする請求項3に記載のサイドビューLEDパッケージ構造。
  6. 前記第1のLEDチップを覆うパッケージ体をさらに備え、
    前記パッケージ体は、蛍光粉末を含むことを特徴とする請求項1に記載のサイドビューLEDパッケージ構造。
  7. シリコンベースを準備し、前記シリコンベースは、互いに隣接する第1の表面及び第2の表面に設けた第1の凹部及び第2の凹部を含み、前記第1の凹部により、サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定する工程と、
    少なくとも2つの導電リードを形成し、前記第1の凹部を覆って前記第2の凹部まで延伸し、前記少なくとも2つの導電リードが互いに電気的に分離し、前記第2の凹部に配置された前記少なくとも2つの導電リードの部分に対して前記光取出面を略垂直に設ける工程と、
    前記第2の凹部の中に少なくとも1つのLEDチップを配置し、前記少なくとも1つのLEDチップは、前記少なくとも2つの導電リードとそれぞれ電気的に接続された2つの電極を有する工程と、
    前記少なくとも1つのLEDチップを覆うパッケージ体を形成する工程と、を含むことを特徴とするサイドビューLEDパッケージ構造の製造方法。
  8. シリコンサブベースを準備し、前記シリコンサブベースは、互いに隣接した第1の表面及び第2の表面を有し、前記第2の表面に第1の凹部を設ける工程と、
    少なくとも2つの導電リードを形成し、前記シリコンサブベースの前記第1の表面及び前記第1の凹部の表面を覆って延伸し、前記少なくとも2つの導電リードを互いに電気的に分離する工程と、
    前記シリコンサブベースの前記第1の表面に、シリコン凹部が設けられ、前記シリコンサブベース及び前記シリコン凹部により第2の凹部が画定され、前記少なくとも2つの導電リードそれぞれの一部が前記第2の凹部から露出され、前記第2の凹部は、サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定し、前記第1の凹部に設けられた前記少なくとも2つの導電リードの部分に対して前記光取出面を略垂直に設ける工程と、
    前記第2の凹部の中に少なくとも1つのLEDチップを配置し、前記少なくとも1つのLEDチップは、前記少なくとも2つの導電リードとそれぞれ電気的に接続された2つの電極を含む工程と、
    前記少なくとも1つのLEDチップを覆うパッケージ体を形成する工程と、を含むことを特徴とするサイドビューLEDパッケージ構造の製造方法。
  9. 前記シリコンサブベースを準備する工程は、
    シリコン基板を準備する工程と、
    前記シリコン基板の表面を覆う絶縁層を形成する工程と、
    前記絶縁層に配置領域を画定し、前記絶縁層に画定工程を行う工程と、
    前記シリコン基板をエッチングし、前記第1の凹部を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項8に記載のサイドビューLEDパッケージ構造の製造方法。
  10. 回路基板と、少なくとも1つのサイドビューLEDパッケージ構造と、を備えるLEDライトバーであって、
    前記少なくとも1つのサイドビューLEDパッケージ構造は、シリコンベース、第1の導電リード、第2の導電リード及び第1のLEDチップを有し、
    前記シリコンベースには、前記サイドビューLEDパッケージ構造の光取出面を画定する第1の凹部が設けられ、
    前記第1の導電リードは、少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸され、
    前記第2の導電リードは、少なくとも一部の前記第1の凹部上に設けられ、前記シリコンベースの外表面まで延伸され、前記第1の導電リードと前記第2の導電リードとは電気的に分離され、前記第1の導電リード及び前記第2の導電リードは、回路基板の平面に設けられ、前記光取出面は、前記回路基板の平面に対して略垂直に設けられ、
    前記第1のLEDチップは、前記第1の導電リード及び前記第2の導電リードとそれぞれ電気的に接続された第1の電極及び第2の電極を有することを特徴とするLEDライトバー。
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