JP2010129604A - Circuit board and manufacturing method of the same - Google Patents

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泰司 小川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board and its manufacturing method using a common wiring material which have different thicknesses, and a simple transfer technology, in particular, which is most suitable for preparing conductor layers on the same substrate which are most suited for a signal and power. <P>SOLUTION: The circuit board has an insulating resinous substrate 1 having a first main surface 1a and a second main surface 1b, and first and second conductor layers 2 and 3 that are buried in the first main surface side 1a of the insulating resinous substrate 1 and have different thicknesses wherein the first and second conductor layers 2 and 3 are patterned so that they are juxtaposed in a direction along the first main surface 1a, and buried so that respective outer surfaces located in the first main surface side 1a may be on the same plane. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は回路配線基板及びその製造方法、特に、信号用回路配線層及びパワー用回路配線層を同一基板に設けた回路配線基板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a circuit wiring board and a manufacturing method thereof, and more particularly to a circuit wiring board having a signal circuit wiring layer and a power circuit wiring layer provided on the same substrate, and a manufacturing method thereof.

近年、各種電子機器の小形化、薄形化及び多機能化の要求が高まるに伴い、その機器に組み込まれる回路配線基板にも、小形/薄形/多機能化はもとより、配線の高密度化、信号伝達の高速化、パワー半導体素子等のパワー素子への通電のための大電流容量化の要求が高まってきている。   In recent years, as the demands for miniaturization, thinning, and multi-functionality of various electronic devices have increased, not only miniaturization / thinness / multifunctionality of circuit wiring boards incorporated in such devices, but also high-density wiring There is an increasing demand for higher current capacity for increasing the speed of signal transmission and energizing power elements such as power semiconductor elements.

このような要求に応えるために、従来、信号系配線としての薄肉導体配線とパワー系配線としての厚肉導体配線を併設した構造の配線基板の技術が特許文献1に開示されている。   In order to meet such a requirement, a technique of a wiring board having a structure in which a thin conductor wiring as a signal wiring and a thick conductor wiring as a power wiring is conventionally disclosed in Patent Document 1.

前記特許文献1の配線基板の技術は、その図1及び図2に示されているように、粗化処理されたステンレス製の転写用基材1の表面にパターン状の金属膜2をめっき法によって被着形成し、前記金属膜2のパターンの一部に合わせたパターン形状の金属個片3を金属膜2の表面に重ねて接合するというものである。そして、前記パターンにおいて、前記金属膜2のうちで金属個片3が積層されていない部分が前記金属膜2自身による薄肉導体配線(信号系配線)7として、前記金属膜2に金属個片3を積層して接合した部分が厚肉導体配線(パワー系配線)6や電子部品搭載部8として利用されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the technique of the wiring board disclosed in Patent Document 1 is a method of plating a patterned metal film 2 on the surface of a roughened stainless steel transfer substrate 1. The metal piece 3 having a pattern shape matching a part of the pattern of the metal film 2 is overlapped on the surface of the metal film 2 and bonded. In the pattern, a portion of the metal film 2 where the metal piece 3 is not laminated is a thin conductor wiring (signal wiring) 7 by the metal film 2 itself, and the metal piece 3 is formed on the metal film 2. The parts that are laminated and joined are used as the thick conductor wiring (power system wiring) 6 and the electronic component mounting portion 8.

このような従来技術では、前記ステンレス製の転写用基材1表面の粗化処理は、前記金属膜3が転写用基材1表面にめっき法により被着された場合、これら相互間に適度のピール強度を得るために、精度の高い粗度調節を要し、しかも、転写用基材1への金属膜3のめっき処理条件の設定も複雑化する。   In such a conventional technique, when the metal film 3 is deposited on the surface of the transfer substrate 1 by plating, the roughening treatment of the surface of the stainless steel transfer substrate 1 is moderately performed between them. In order to obtain the peel strength, it is necessary to adjust the roughness with high accuracy, and the setting of the plating treatment conditions for the metal film 3 on the transfer substrate 1 is complicated.

また、前記の金属個片3は、前記金属膜2表面への確実な接合を得る等のために、複数の金属材料を積層した複層材(銅、各種インバー合金、銅をこの順に積層成形して得られるクラッド材)とされていて、それ自身の製造が複雑で材料コストの高騰を招く。また、前記の金属個片3の金属膜2表面への接合のために、はんだ付け、金属間接合或いは超音波接合などによる格別な接合手段を必要としている。更に、金属個片3と金属膜2とのパターンの重ね合わせ位置精度を高くとる必要があり、重ね合わせずれが起きると、配線の電流容量などの電気的特性が設計値からずれるなど種々の問題点がある。
特開2005−311202号公報
Further, the metal piece 3 is formed by a multilayer material in which a plurality of metal materials are laminated (copper, various invar alloys, copper are laminated in this order in order to obtain reliable bonding to the surface of the metal film 2 and the like. The clad material obtained in this manner is complicated in its production and causes an increase in material costs. Further, in order to join the metal piece 3 to the surface of the metal film 2, special joining means such as soldering, metal-to-metal joining or ultrasonic joining is required. Furthermore, it is necessary to obtain a high overlay position accuracy of the pattern of the metal piece 3 and the metal film 2, and if the overlay shift occurs, various problems such as the electrical characteristics such as the current capacity of the wiring deviate from the design value. There is a point.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-312102

本発明は、前記問題点を解決するものであり、特に、一般的な配線材料や簡単な転写技術を用いて信号用及びパワー用に適した厚さの異なる導体層を同一基板に設けるのに好適な回路配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-described problems. In particular, a common wiring material or a simple transfer technique is used to provide conductor layers having different thicknesses suitable for signals and power on the same substrate. It is an object of the present invention to provide a suitable circuit wiring board and a manufacturing method thereof.

請求項1に記載の本発明の回路配線基板は、第1主面及び第2主面を有する絶縁樹脂基板と、前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設され互いに厚さの異なる第1及び第2導体層とを備え、前記第1及び第2導体層は、前記第1主面に沿う方向に互いに並置される関係でそれぞれパターン化され、前記第1主面側に位置する各外表面が相互に同一面となるように埋設されていることを特徴とする。   A circuit wiring board according to a first aspect of the present invention includes an insulating resin substrate having a first main surface and a second main surface, and first insulating layers that are embedded on the first main surface side of the insulating resin substrate and have different thicknesses. And the second conductor layer, wherein the first and second conductor layers are respectively patterned in a relationship of being juxtaposed with each other in a direction along the first main surface, and are arranged on the first main surface side. The surface is embedded so that it may mutually become the same surface.

請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載の回路配線基板において、前記第1及び第2導体層は信号用回路配線層及びパワー用回路配線層としてそれぞれ形成され、前記第1導体層の厚さはファインパターン化に適した薄肉とされ、これに対して前記第2導体層の厚さは大電流容量化に適した厚肉とされていることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the circuit wiring board according to the first aspect, the first and second conductor layers are formed as a signal circuit wiring layer and a power circuit wiring layer, respectively, and the first conductor The thickness of the layer is thin enough for fine patterning, whereas the thickness of the second conductor layer is thick enough for high current capacity.

請求項3に記載の本発明は、請求項2に記載の回路配線基板において、前記第1導体層の内表面の一部に電子部品が実装され、前記電子部品が前記絶縁樹脂基板内部に埋設されていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the circuit wiring board according to the second aspect, an electronic component is mounted on a part of the inner surface of the first conductor layer, and the electronic component is embedded in the insulating resin substrate. It is characterized by being.

請求項4に記載の本発明は、請求項2または請求項3に記載の回路配線基板において、前記第1導体層よりも厚い厚さの前記第2導電層は、回路素子が搭載された放熱体であることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the circuit wiring board according to the second or third aspect, the second conductive layer having a thickness thicker than the first conductive layer is configured to dissipate heat in which circuit elements are mounted. It is a body.

請求項5に記載の本発明は、請求項1〜請求項4のいずれか1つに記載の回路配線基板において、前記第1及び第2導電層とは厚さの異なる第3導体層が前記絶縁樹脂基板の第1主面に沿って並置して埋設され、前記第3導体層は、その外表面が前記第1、第2導体層の外表面と同一面となるように埋設されていることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the circuit wiring board according to any one of the first to fourth aspects, the third conductive layer having a thickness different from that of the first and second conductive layers is The third conductor layer is embedded along the first main surface of the insulating resin substrate so that the outer surface thereof is flush with the outer surfaces of the first and second conductor layers. It is characterized by that.

請求項6に記載の本発明は、請求項1〜請求項5のいずれか1つに記載の回路配線基板において、前記絶縁樹脂基板として可撓性材料を用いたフレキシブル回路配線基板からなることを特徴とする。   A sixth aspect of the present invention is the circuit wiring board according to any one of the first to fifth aspects, comprising a flexible circuit wiring board using a flexible material as the insulating resin substrate. Features.

請求項7に記載の本発明の回路配線基板の製造方法は、(A)第1導体層基材をフィルム状の第1転写基材に剥離可能に接着し、前記第1導体層基材にパターニングを施して信号用回路配線層としてのパターン化された第1導体層を形成する工程と、(B)前記第1導体層よりも厚い厚肉のパターン化された第2導体層を形成する工程と、(C)前記第1及び第2導体層を、第1及び第2主面を有する平板状の絶縁樹脂基板の前記第1主面に沿って互いに並置させて前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設する工程と、(D)前記転写基材を剥離して前記第1及び第2導体層の前記第1主面側に位置する各外表面を露出させる工程と、を備えていることを特徴とする。   The method for producing a circuit wiring board of the present invention according to claim 7 includes: (A) a first conductor layer base material is detachably bonded to a film-like first transfer base material, and the first conductor layer base material is attached to the first conductor layer base material. Forming a patterned first conductor layer as a signal circuit wiring layer by patterning; and (B) forming a thick patterned second conductor layer thicker than the first conductor layer. (C) the first and second conductor layers are juxtaposed with each other along the first main surface of the flat insulating resin substrate having the first and second main surfaces; Embedded in one main surface side, and (D) peeling the transfer substrate to expose the outer surfaces located on the first main surface side of the first and second conductor layers. It is characterized by.

請求項8に記載の本発明は、請求項7に記載の回路配線基板の製造方法において、前記(B)工程が、(B−1)第2導体層基材をフィルム状の第2転写基材に剥離可能に接着し、前記第2導体層基材をエッチングによりパターニングして第2導体層を形成する工程を有し、前記(C)工程が、(C−1)前記第1及び第2転写基材と前記絶縁樹脂基板との位置合わせをそれぞれ行い、パターン化された前記第1及び第2導体層を前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設する工程を有することを特徴とする。   According to an eighth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a circuit wiring board according to the seventh aspect, in the step (B), (B-1) the second conductor layer base material is formed into a film-like second transfer group. A step of forming a second conductor layer by patterning the second conductor layer base material by etching, and the step (C) includes (C-1) the first and first steps. (2) performing the alignment of the transfer base material and the insulating resin substrate, and embedding the patterned first and second conductor layers on the first main surface side of the insulating resin substrate. To do.

請求項9に記載の本発明は、請求項7に記載の回路配線基板の製造方法において、前記(B)工程が、(B−2)板状または箔状の単一導体材料からなる第2導体層基材を打ち抜き加工によりパターニングしてパターン化された第2導体層を形成する工程を有し、前記(C)工程が、(C−2)前記第1転写基材の前記第1導体層が接着された面に、前記第2導体層を前記第1導体層とは並置して剥離可能に接着した後、前記第1及び第2導体層を前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設する工程を有することを特徴とする。   According to a ninth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a circuit wiring board according to the seventh aspect, the step (B) comprises (B-2) a second conductor plate or foil-shaped single conductor material. A step of forming a patterned second conductor layer by punching a conductor layer substrate, and the step (C) includes (C-2) the first conductor of the first transfer substrate. After the second conductor layer is juxtaposed with the first conductor layer in a peelable manner on the surface to which the layer is bonded, the first and second conductor layers are attached to the first main surface side of the insulating resin substrate. It has the process of burying in.

請求項10に記載の本発明は、請求項7〜請求項9のいずれか1つに記載の回路配線基板の製造方法において、前記転写基材として樹脂粘着フィルムを用いることを特徴とする。   According to a tenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a circuit wiring board according to any one of the seventh to ninth aspects, a resin adhesive film is used as the transfer base material.

請求項11に記載の本発明は、請求項10に記載の回路配線基板の製造方法において、前記樹脂粘着フィルムの表面を構成する粘着材は、微粘着樹脂、UV硬化樹脂、UV消滅樹脂及び熱発泡樹脂の群から選択された材料であることを特徴とする。   The present invention according to claim 11 is the method for manufacturing a circuit wiring board according to claim 10, wherein the adhesive material constituting the surface of the resin adhesive film is a slightly adhesive resin, a UV curable resin, a UV extinction resin, and a heat A material selected from the group of foamed resins.

本発明の回路配線基板及びその製造方法にあっては、信号用回路配線層及びパワー用回路配線層や回路素子搭載を構成する互いに異なる厚さの第1及び第2導体層2、3を、一般的な配線材料や簡単な転写技術を用いて同一基板に設けることができる。   In the circuit wiring board and the manufacturing method thereof of the present invention, the first and second conductor layers 2 and 3 having different thicknesses constituting the signal circuit wiring layer, the power circuit wiring layer, and the circuit element mounting, It can be provided on the same substrate using a general wiring material or a simple transfer technique.

また、個々にパターン化して互いに並置され、絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設された前記第1及び第2導体層は、特許文献1のような金属個片3と金属膜2との格別な重ね合わせ接合や複層材料からなる金属個片3を用いる必要がなく、いずれも単一種の金属材料で形成できるので、低材料コスト及び低製造コストの回路配線基板が得られる。   Further, the first and second conductor layers individually patterned and juxtaposed to each other and embedded on the first main surface side of the insulating resin substrate are formed by the metal piece 3 and the metal film 2 as in Patent Document 1. Since it is not necessary to use a special piece of metal 3 made of a superposition bonding or a multilayer material, both can be formed of a single kind of metal material, so that a circuit wiring board with a low material cost and a low manufacturing cost can be obtained.

更に、互いに並置される前記第1と第2導体層との位置合わせは、特許文献1における金属個片3と金属膜2との重ね合わせの場合ほどの精度を要することなく容易に行え、回路配線基板の製造工程が簡素化される。   Further, the alignment of the first and second conductor layers juxtaposed with each other can be easily performed without requiring the same accuracy as in the case of the superposition of the metal piece 3 and the metal film 2 in Patent Document 1. The manufacturing process of the wiring board is simplified.

また、第1、第2導体層は、いずれも所定の電流容量などの電気的特性を有するようにパターン設計されているが、特許文献1のような金属個片3と金属膜2との重ね合わせずれなどの問題がないから、本発明の回路配線基板は、前記第1、第2導体層の各回路パターン設計値通りの電気的特性を容易に得ることができるなど種々の効果を奏することができる。   The first and second conductor layers are both designed to have electrical characteristics such as a predetermined current capacity, but the metal piece 3 and the metal film 2 are overlapped as in Patent Document 1. Since there is no problem such as misalignment, the circuit wiring board of the present invention has various effects such as easily obtaining electrical characteristics according to the circuit pattern design values of the first and second conductor layers. Can do.

以下、本発明の回路配線基板及びその製造方法に係る実施形態1〜4について、図1〜図4を参照して順次説明する。なお、図1〜図4を通じて同一または同様な部分については、同一の引用符号を付して、その詳細説明を省略することがある。   Hereinafter, Embodiments 1 to 4 according to a circuit wiring board and a manufacturing method thereof according to the present invention will be sequentially described with reference to FIGS. In addition, about the same or similar part through FIGS. 1-4, the same referential mark may be attached | subjected and the detailed description may be abbreviate | omitted.

[実施形態1]
図1(a)〜図1(h)は本発明の実施形態1に係わる回路配線基板の製造方法を示す工程別断面図であり、その図1(h)は実施形態1の回路配線基板の主要部分である本体部分の構造を示す断面図である。
[Embodiment 1]
FIG. 1A to FIG. 1H are cross-sectional views showing a method of manufacturing a circuit wiring board according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1H shows the circuit wiring board of the first embodiment. It is sectional drawing which shows the structure of the main-body part which is a main part.

まず、図1(h)を参照して、本実施形態1における回路配線基板の構造について説明すると、平板状の絶縁樹脂基板1は、その両面にそれぞれ第1主面1a(図中上面)及び第2主面1b(図中下面)を有し、例えばプリプレグ、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂から適宜選択された材料を用いて形成されている。また、電子機器の屈曲操作部位に回路配線基板が装着される場合などに対応するためには、前記絶縁樹脂基板1に例えばポリイミド樹脂(PI)や液晶ポリマー樹脂(LCP)などの可撓性に富んだフレキシブルフイルムを用い、その表面に接着層を設けて絶縁樹脂基板を構成しておくことが好ましい。   First, the structure of the circuit wiring board according to the first embodiment will be described with reference to FIG. 1 (h). The flat insulating resin substrate 1 has a first main surface 1a (upper surface in the drawing) and both surfaces thereof, respectively. It has the 2nd main surface 1b (lower surface in a figure), for example, is formed using the material suitably selected from the prepreg, the thermosetting resin, and the thermoplastic resin. Further, in order to cope with a case where a circuit wiring board is mounted on a bending operation site of an electronic device, the insulating resin substrate 1 is made flexible such as polyimide resin (PI) or liquid crystal polymer resin (LCP). It is preferable to use an abundant flexible film and provide an adhesive layer on the surface to constitute an insulating resin substrate.

前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a側には、互いに厚さの異なる第1導体層2及び第2導体層3が、前記第1主面1aに沿う方向に互いに並置した関係で埋設されている。前記並置関係にある第1及び第2導体層2、3は、各々のパターン設計に基づいてパターン化された形状を有していて、前記第1主面1a側に露出する各外表面(図中上表面)が互に同一面となるように埋設されている。   On the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1, a first conductor layer 2 and a second conductor layer 3 having different thicknesses are embedded in a relationship juxtaposed in the direction along the first main surface 1a. ing. The first and second conductor layers 2 and 3 in the juxtaposed relationship have shapes patterned on the basis of the respective pattern designs, and are exposed to the respective outer surfaces (see FIG. The middle and upper surfaces are embedded so that they are flush with each other.

従って、前記第1及び第2導体層2、3の各パターンは、厚さ方向に互いに重なり合うことなく、前記第1主面1aの平面内に相補的な関係をもって並置された関係とされている。また、厳密には、前記各外表面は前記第1主面1aを基準にして必ずしも同一高さの面一としなくてもよいが、ここでは、同一高さの面一となるように埋設されている。   Accordingly, the patterns of the first and second conductor layers 2 and 3 do not overlap each other in the thickness direction, and are arranged in a complementary relationship within the plane of the first main surface 1a. . Strictly speaking, the outer surfaces do not necessarily have to be flush with each other on the basis of the first main surface 1a, but here they are embedded so as to be flush with each other. ing.

ここでは、前記第1導体層2は信号用回路配線層として形成されるものであり、その配線密度を高めるために、配線ピッチや配線幅ができる限り小さくなるように例えばサブトラクティブ法などにより微細化(ファインパターン化)したパターンで形成されている。従って、前記第1導体層2は、前記微細化を主目的とした回路パターン化のために、例えば12μm以下の薄肉の厚さを有する銅箔からなる基材を用いて形成されている。   Here, the first conductor layer 2 is formed as a signal circuit wiring layer. In order to increase the wiring density, the first conductor layer 2 is finely formed by, for example, a subtractive method so as to reduce the wiring pitch and the wiring width as much as possible. The pattern is formed into a fine pattern. Therefore, the first conductor layer 2 is formed by using a base material made of a copper foil having a thin thickness of, for example, 12 μm or less, for circuit patterning mainly for the miniaturization.

一方、第2導体層3は、パワー用回路配線層或いはトランジスタやICなどの半導体素子(回路素子)を搭載する搭載部材や放熱体として形成される。また、前記第2導体層3は、前記信号用回路配線層に比して微細化をそれほど要求せず、大電流容量化や高放熱効率を主目的として、できるだけ大な断面積を得るために、前記第1導体層2よりも厚く、例えば18μm以上〜210μm以下の厚肉の厚さを有する銅箔或いは銅板からなる基材をパターン化して形成されている。このパターン形状は、パワー用回路配線の複雑な蛇行形状に限らず、搭載部材や放熱体用の矩形などの単純な形状をも含むものである。   On the other hand, the second conductor layer 3 is formed as a power circuit wiring layer or a mounting member or a radiator for mounting a semiconductor element (circuit element) such as a transistor or an IC. Further, the second conductor layer 3 does not require much miniaturization as compared with the signal circuit wiring layer, and in order to obtain as large a cross-sectional area as possible mainly for the purpose of increasing current capacity and high heat dissipation efficiency. The substrate is formed by patterning a copper foil or copper plate that is thicker than the first conductor layer 2 and has a thickness of, for example, 18 μm to 210 μm. This pattern shape is not limited to the complicated meandering shape of the power circuit wiring, but also includes a simple shape such as a mounting member or a rectangular shape for the radiator.

ところで、本実施形態1における回路配線基板は、その主要部分である前述のような本体部分を有するものであり、図示していないが、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a表面には、前記第1及び第2導体層2、3の外表面を覆うカバーレイフィルム或いはコートなどの絶縁被覆を施したり、第2導体層2の一部に回路素子を搭載したり、第1及び第2導体層2、3に外部引出用のランド部を設けて外部端子を設けたりすることができ、ユーザ要求に応じた部材を備えた構成とすることができる。   By the way, the circuit wiring board according to the first embodiment has the main body as described above, which is the main part, and is not shown, but on the surface of the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1, An insulating coating such as a cover lay film or a coat covering the outer surface of the first and second conductor layers 2 and 3 is applied, a circuit element is mounted on a part of the second conductor layer 2, and the first and second The conductor layers 2 and 3 can be provided with external lead lands to provide external terminals, and can be configured to include members according to user requirements.

次に、前記回路配線基板の製造方法について説明すると、図1(a)に示すように、フィルム状の第1転写基材4の片側全面に、第1導体層2形成用の第1導体層基材2aを剥離可能に張り合わせて銅張積層板を形成する。前記第1導体層基材2aには、信号用回路配線層としての前記第1導体層2のファインパターン化のために、厚さ12μm以下の薄肉の銅箔が用いられている。   Next, the manufacturing method of the circuit wiring board will be described. As shown in FIG. 1A, the first conductor layer for forming the first conductor layer 2 is formed on the entire surface of one side of the film-like first transfer substrate 4. The base material 2a is detachably bonded to form a copper clad laminate. A thin copper foil having a thickness of 12 μm or less is used for the first conductor layer base material 2a for fine patterning of the first conductor layer 2 as a signal circuit wiring layer.

前記第1転写基材4としては樹脂粘着フィルムが用いられる。そして、前記樹脂粘着フィルムの本体には、以降のパターニング工程におけるサブトラクティブ法のエッチング液などの薬液や例えば表面実装工程や前記各導体層のラミネート工程などにおける加熱に対して安定な材料であることが必要であり、ポリイミド樹脂(PI)、液晶ポリマー樹脂(LCP)或いはポリエチレンテレフタレート(PET)などの可撓性を有する絶縁性のフィルム基材を用いることができる。   As the first transfer substrate 4, a resin adhesive film is used. The main body of the resin adhesive film is a material that is stable against heating in a chemical solution such as a subtractive etching solution in a subsequent patterning step, or in a surface mounting step, a laminating step of each conductor layer, or the like. And a flexible insulating film base material such as polyimide resin (PI), liquid crystal polymer resin (LCP), or polyethylene terephthalate (PET) can be used.

また、前記樹脂粘着フィルム(第1転写基材4)の表面を構成する粘着材は、前記絶縁性のフィルム基材の片側表面に被着されていて、前述と同様に以降の工程における薬液や熱に対して安定であり、以降の転写基材の剥離工程において、他の部材に過度の引っ張りまたは剥離応力を及ぼさないような適度のピール強度をもって確実に剥離することができることを必要な条件としている。   Moreover, the adhesive material which comprises the surface of the said resin adhesive film (1st transfer base material 4) is adhere | attached on the one-side surface of the said insulating film base material, As a necessary condition, it is stable against heat and can be reliably peeled off with an appropriate peel strength that does not exert excessive tensile or peeling stress on other members in the subsequent peeling process of the transfer substrate. Yes.

この条件に適した粘着材としては、微粘着樹脂、UV硬化樹脂、UV消滅樹脂及び熱発泡樹脂の群から選択された材料であることが好ましい。このような粘着材は例えばソマール株式会社から販売されたものを使用することができる。また、前記粘着材の条件が整っていれば、第1転写基材4の本体を前記絶縁性のフィルム基材に代えて金属製のフィルム基材とすることもできる。前述の適度のピール強度は、転写基材への粘着対象となる部材(回路配線用の導体層)の材質や重さ(厚さ)及び転写先である回路配線基板用の絶縁樹脂基板の材質や種類などに応じて前記粘着材の材料の種類や組成を調整することによって容易に得ることができる。   The pressure-sensitive adhesive material suitable for this condition is preferably a material selected from the group of a light-adhesive resin, a UV curable resin, a UV extinguishing resin, and a thermally foamed resin. As such an adhesive material, for example, one sold by Somar Co., Ltd. can be used. Moreover, if the conditions of the said adhesive material are prepared, the main body of the 1st transfer base material 4 can be replaced with the said insulating film base material, and can also be used as a metal film base material. The above-mentioned moderate peel strength is the material and weight (thickness) of the member (conductor layer for circuit wiring) to be adhered to the transfer substrate and the material of the insulating resin substrate for the circuit wiring board as the transfer destination. It can be easily obtained by adjusting the type and composition of the material of the adhesive material according to the type and the like.

次に、図1(b)の工程では、一般的なサブトラクティブ法を適用して、薄肉の銅箔からなる前記第1導体層基材2a表面に感光性フィルムを被着してフォトリソグラフィにより、前記信号用回路配線層に対応したパターンのエッチングマスクを形成する。そして、エッチング液(薬液)による化学的エッチングを施すことによって不要な銅箔部分をエッチング除去して信号用回路配線層としての回路パターンを有する第1導体層2を形成する。このとき、前記第1導体層2は小信号電流を受容できるだけの設計値と同等の小断面積に形成される。   Next, in the step of FIG. 1B, a general subtractive method is applied, and a photosensitive film is deposited on the surface of the first conductor layer base 2a made of a thin copper foil, and is subjected to photolithography. Then, an etching mask having a pattern corresponding to the signal circuit wiring layer is formed. Then, by performing chemical etching with an etching solution (chemical solution), unnecessary copper foil portions are removed by etching to form the first conductor layer 2 having a circuit pattern as a signal circuit wiring layer. At this time, the first conductor layer 2 is formed to have a small cross-sectional area equivalent to a design value capable of receiving a small signal current.

一方、図1(c)の工程では、フィルム状の第2転写基材5の片側全面に、第2導体層3形成用の第2導体層基材3aを剥離可能に張り合わせて銅張積層板を形成する。前記第2導体層基材3aには、パワー用回路配線層或いは回路素子用の搭載部や放熱体としての前記第2導体層3の大電流容量化或いは高放熱化のために、厚さ18μm以上〜210μm以下の厚肉の銅箔が用いられている。   On the other hand, in the process of FIG. 1C, the second conductor layer base material 3a for forming the second conductor layer 3 is detachably bonded to the entire surface of one side of the film-like second transfer base material 5 so as to be a copper clad laminate. Form. The second conductor layer base material 3a has a thickness of 18 μm in order to increase the current capacity or increase the heat dissipation of the second conductor layer 3 as a power circuit wiring layer or a circuit element mounting portion or a radiator. A thick copper foil having a thickness of ˜210 μm or less is used.

図1(d)の工程では、前記第1導体層2のパターンニングの場合と同様に、厚肉の銅箔からなる前記第2導体層基材3aにサブトラクティブ法を適用して、不要な銅箔部分をエッチング除去してパワー用回路配線層としての回路パターン或いは回路素子搭載部や放熱体としてのパターンを有する第2導体層3を形成する。   In the step of FIG. 1D, as in the case of the patterning of the first conductor layer 2, a subtractive method is applied to the second conductor layer substrate 3a made of a thick copper foil, which is unnecessary. The copper foil portion is removed by etching to form a second conductor layer 3 having a circuit pattern as a power circuit wiring layer or a pattern as a circuit element mounting portion or a radiator.

このとき、前記第2導体層3は、第1導体層2に比較してパワー用の大電流を受容できるだけの設計値と同等の大断面積に形成される。   At this time, the second conductor layer 3 is formed to have a large cross-sectional area equivalent to a design value capable of receiving a large current for power as compared with the first conductor layer 2.

前記第2導体層3のパターンは、その周囲が前記第1導体層2のパターンに予め設けらた平面スペースS(図1(b)参照)の内周から側方に離間し、前記第1導体層2とは重なり合わず、前記第1主面1aの平面内に相補的な関係をもって並置できるような形状とされている。   The pattern of the second conductor layer 3 is spaced from the inner periphery of the planar space S (see FIG. 1B) provided in advance in the pattern of the first conductor layer 2 to the side. The conductor layer 2 does not overlap with each other and is shaped so as to be juxtaposed in a complementary relationship within the plane of the first main surface 1a.

ところで、前記第2転写基材5には前記第1転写基材4と同一或いは同様な材料を用いることができる。また、前記第2導体層3が第1導体層2よりも大きな厚さ及び重量であるので、第2転写基材5用の樹脂粘着フィルムを構成する絶縁性フィルムの厚さやその表面の粘着材のピール強度は、必要に応じて第1転写基材4のそれよりも大きめに調整した材料とすることができる。なお、前記エッチングは化学的エッチングに限らず、化学的エッチングに比してサイドエッチング量の少ないプラズマエッチング法を適用することも可能である。   Incidentally, the second transfer substrate 5 can be made of the same or similar material as the first transfer substrate 4. Further, since the second conductor layer 3 has a thickness and weight larger than those of the first conductor layer 2, the thickness of the insulating film constituting the resin adhesive film for the second transfer substrate 5 and the adhesive material on the surface thereof. The peel strength can be a material adjusted to be larger than that of the first transfer substrate 4 as required. Note that the etching is not limited to chemical etching, and it is also possible to apply a plasma etching method with a small amount of side etching compared to chemical etching.

このように、前記第2導体層3は、第2転写基材5に粘着して支持されているので、特許文献1の金属個片3のような金属の複層材を用いることなく、第1導体層2と同様に銅箔などの単一種の材料で構成できるので、低材料コスト化することができる。   Thus, since the second conductor layer 3 is supported by being adhered to the second transfer substrate 5, the second conductor layer 3 can be obtained without using a metal multilayer material such as the metal piece 3 of Patent Document 1. Since it can be composed of a single kind of material such as a copper foil as in the case of the one conductor layer 2, the material cost can be reduced.

図1(e)の工程では、前記各転写基材4、5のフィルム外形と同等の平面外形を有する絶縁樹脂基板1を用意する。前記絶縁樹脂基板1は、その両面にそれぞれ第1主面1a及び第2主面1bを有し、例えばプリプレグ、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂から適宜選択された材料が用いられている。   In the step of FIG. 1E, an insulating resin substrate 1 having a planar outer shape equivalent to the film outer shape of each of the transfer base materials 4 and 5 is prepared. The insulating resin substrate 1 has a first main surface 1a and a second main surface 1b on both sides thereof, and a material appropriately selected from, for example, a prepreg, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin is used.

そして、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1aに、図1(b)の工程で形成された第1転写基材4の第1導体層2を位置合わせして重ね合わせ、加熱加圧条件下でラミネートする。前記ラミネートによって、前記第1導体層2は、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層に埋設して接着されているが、その外表面が前記第1主面1aの表面と同一高さの面一となるように埋設されている。   Then, the first conductor layer 2 of the first transfer substrate 4 formed in the step of FIG. 1B is aligned and superposed on the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1, and the heating and pressing conditions are set. Laminate below. The first conductor layer 2 is embedded and bonded to the surface layer on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1 by the lamination, but the outer surface thereof is the same as the surface of the first main surface 1a. It is buried so as to be flush with the height.

また、前記位置合わせを精度よく確実に行うために、前記絶縁樹脂基板1及び第1転写基材4には、相互の位置合わせ用のアライメントマーク(図示せず)がそれぞれ予め形成されている。前記第1転写基材4へのアライメントマークの形成は、図1(b)の工程に示された第1導体層2形成のためのパターニング工程中に、同時に、前記第1導体基材2aの一部をアライメントマークとして残存させるようにパターニングすることによって行うのが望ましい。   In addition, in order to perform the alignment accurately and reliably, alignment marks (not shown) for mutual alignment are respectively formed in advance on the insulating resin substrate 1 and the first transfer base 4. The alignment marks are formed on the first transfer substrate 4 at the same time during the patterning process for forming the first conductor layer 2 shown in the step of FIG. 1B. It is desirable to perform patterning so that a part remains as an alignment mark.

図1(f)の工程では、前記第1転写基材4を前記絶縁樹脂基板1の第1主面1aから剥離除去することによって、信号用回路配線層用の前記第1導体層2を、その外表面(図中上面側)を露出させた状態にして、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層へ転写する工程(第1転写工程)が完了する。   In the step of FIG. 1F, the first conductor layer 2 for the signal circuit wiring layer is removed by peeling and removing the first transfer base material 4 from the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1. With the outer surface (upper surface side in the figure) exposed, the step of transferring to the surface layer on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1 (first transfer step) is completed.

次に、図1(g)の工程では、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1aに、図1(d)の工程で形成された第2転写基材5の第2導体層3を位置合わせして重ね合わせ、加熱加圧条件下でラミネートする。前記ラミネートによって、前記第2導体層3は、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層に埋設して接着されているが、その外表面が前記第1主面1aの表面及び第1導体層2の外表面と同一高さの面一となるように埋設されている。   Next, in the step of FIG. 1G, the second conductor layer 3 of the second transfer substrate 5 formed in the step of FIG. 1D is positioned on the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1. Laminate together and laminate under heat and pressure conditions. The second conductor layer 3 is embedded and bonded to the surface layer on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1 by the lamination, and the outer surface thereof is the surface of the first main surface 1a and the second main layer 1a. 1 conductor layer 2 is embedded so as to be flush with the outer surface of the conductor layer 2.

前記第2導体層3の埋設に際しては、図1(e)の工程で用意する前記絶縁樹脂基板1に、前記第2導体層3のパターン形状に対応する貫通孔または有底の凹穴(図示せず)を予め形成しておき、前記第2導体層3を前記貫通孔または凹穴に挿入或いは嵌め込み、比較的小さな加圧力により容易に埋設できるようにしてもよい。この場合は、前記第2導体層3の周壁は前記貫通孔または凹穴との間に前記絶縁樹脂基板1に含まれる樹脂を熱により流動させて埋め込み接着させることができる。   When embedding the second conductor layer 3, the insulating resin substrate 1 prepared in the step of FIG. 1E is provided with a through hole or a bottomed concave hole corresponding to the pattern shape of the second conductor layer 3 (see FIG. (Not shown) may be formed in advance, and the second conductor layer 3 may be inserted or fitted into the through hole or the recessed hole so that it can be easily embedded with a relatively small pressure. In this case, the resin contained in the insulating resin substrate 1 can be flown by heat and embedded between the peripheral wall of the second conductor layer 3 and the through hole or the recessed hole.

前記位置合わせは、前記第2導体層3が前記第1導体層2のパターンの平面スペースS内に配置され、前記第2導体層3のパターン外周が、第1導体層2のパターンの平面スペースSの内周から側方に離間し、前記第1導体層2とは重なり合わず、前記第1主面1aの平面内に相補的な関係をもって並置されるように行われる。   In the alignment, the second conductor layer 3 is disposed in the plane space S of the pattern of the first conductor layer 2, and the pattern outer periphery of the second conductor layer 3 is the plane space of the pattern of the first conductor layer 2. S is laterally separated from the inner periphery of S, and does not overlap with the first conductor layer 2 but is juxtaposed in a complementary relationship in the plane of the first main surface 1a.

このように、前記第2導体層3は、前記第1導体層2と厚さ方向に重ねられるものではないので、特許文献1の金属個片3を金属膜2にはんだ付けなどの格別な接合を要せず、製造コストを低減できる。また、特許文献1における金属個片3と金属膜2との重ねずれによる電気的特性の設計値からのずれの問題に対比してみると、本実施形態における前記第1、第2導体層2、3は、互いに重ならないために、各々の設計値通りの電流容量値を維持できる。   Thus, since the second conductor layer 3 is not overlapped with the first conductor layer 2 in the thickness direction, the metal piece 3 of Patent Document 1 is specially bonded to the metal film 2 by soldering or the like. The manufacturing cost can be reduced. Further, when compared with the problem of deviation from the design value of the electrical characteristics due to the overlap deviation between the metal piece 3 and the metal film 2 in Patent Document 1, the first and second conductor layers 2 in the present embodiment are described. 3 are not overlapped with each other, and can maintain current capacity values as designed.

ところで、前記第2転写基材5にも、絶縁樹脂基板1及び第1転写基材4と同様に相互の位置合わせ用のアライメントマーク(図示せず)が予め形成されている。前記第2転写基材5へのアライメントマークの形成は、図1(d)の工程に示された第2導体層3形成のパターニング工程中に、同時に、前記第2導体層基材3aの一部をアライメントマークとして残存させるようにパターニングすることによって行うのが望ましい。   Incidentally, an alignment mark (not shown) for mutual alignment is also formed in advance on the second transfer base 5 in the same manner as the insulating resin substrate 1 and the first transfer base 4. The alignment marks are formed on the second transfer substrate 5 at the same time as one of the second conductor layer substrates 3a during the patterning process of forming the second conductor layer 3 shown in the step of FIG. It is desirable to perform patterning so that the portion remains as an alignment mark.

図1(h)の工程では、前記第2転写基材4を前記絶縁樹脂基板1の第1主面1aから剥離除去することによって、パワー回路配線層(或いは回路素子搭載部や放熱体)用の前記第2導体層3を、その外表面(図中上面側)を露出させた状態にして、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層へ転写する工程(第2転写工程)が完了する。   In the step of FIG. 1 (h), the second transfer base 4 is peeled and removed from the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1 so as to be used for a power circuit wiring layer (or a circuit element mounting portion or a radiator). The second conductor layer 3 is transferred to the surface layer on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1 with the outer surface (upper surface side in the drawing) exposed (second transfer step). Is completed.

なお、本実施形態1における前述の工程を経て製造された回路配線基板の主要部である前記本体部分をもって回路配線基板として称してもよい。また、図示していないが、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a表面に、前記第1、第2導体層2、3の外表面を覆うカバーレイフィルム或いはコートなどの絶縁被覆を施したもの、第2導体層2の一部に回路素子を搭載して電子部品を実装したもの、或いは第1、第2導体層2、3に外部引出用のランド部を設けて外部端子を設けたものなども回路配線基板と称して取り扱うこともできる。   The main body portion, which is the main part of the circuit wiring board manufactured through the above-described steps in Embodiment 1, may be referred to as a circuit wiring board. Although not shown, the surface of the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1 is provided with an insulating coating such as a coverlay film or a coat that covers the outer surfaces of the first and second conductor layers 2 and 3. A circuit element is mounted on a part of the second conductor layer 2 and an electronic component is mounted thereon, or an external terminal is provided on the first and second conductor layers 2 and 3 with external terminals. A thing etc. can also be handled as a circuit wiring board.

本実施形態1の回路配線基板の構造や製造方法によれば、信号用回路配線層及びパワー用回路配線層や回路素子搭載を構成する互いに異なる厚さの第1及び第2導体層2、3を、一般的な配線材料や簡単な転写技術を用いて同一基板に設けることができる。   According to the structure and manufacturing method of the circuit wiring board of the first embodiment, the first and second conductor layers 2, 3 having different thicknesses constituting the signal circuit wiring layer, the power circuit wiring layer, and the circuit element mounting. Can be provided on the same substrate using a general wiring material or a simple transfer technique.

また、個々にパターン化して互いに並置され、絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設された前記第1及び第2導体層は、特許文献1のような金属個片3と金属膜2との格別な重ね合わせ接合や複層材料からなる金属個片3を用いる必要がなく、いずれも単一種の金属材料で形成できるので、低材料コスト及び低製造コストの回路配線基板が得られる。   Further, the first and second conductor layers individually patterned and juxtaposed to each other and embedded on the first main surface side of the insulating resin substrate are formed by the metal piece 3 and the metal film 2 as in Patent Document 1. Since it is not necessary to use a special piece of metal 3 made of a superposition bonding or a multilayer material, both can be formed of a single kind of metal material, so that a circuit wiring board with a low material cost and a low manufacturing cost can be obtained.

更に、互いに並置される前記第1と第2導体層との位置合わせは、特許文献1における金属個片3と金属膜2との重ね合わせの場合ほどの精度を要することなく容易に行え、回路配線基板の製造工程が簡素化される。   Further, the alignment of the first and second conductor layers juxtaposed with each other can be easily performed without requiring the same accuracy as in the case of the superposition of the metal piece 3 and the metal film 2 in Patent Document 1. The manufacturing process of the wiring board is simplified.

また、第1、第2導体層は、いずれも所定の電流容量などの電気的特性を有するようにパターン設計されているが、特許文献1のような金属個片3と金属膜2との重ね合わせずれなどの問題がないから、本発明の回路配線基板は、前記第1、第2導体層の各回路パターン設計値通りの電気的特性を容易に得ることができるなど種々の効果を有する。   The first and second conductor layers are both designed to have electrical characteristics such as a predetermined current capacity, but the metal piece 3 and the metal film 2 are overlapped as in Patent Document 1. Since there is no problem such as misalignment, the circuit wiring board of the present invention has various effects such as easily obtaining electrical characteristics according to the circuit pattern design values of the first and second conductor layers.

そして、後述する図1(f)及び(h)に示された転写基材の剥離工程の際に、第1、第2導体層2、3の絶縁樹脂基板1への接着強度の低下や剥離を起こさせず、剥離工程までの間、転写基材4、5との安定した接着状態を維持させるには、その維持に必要なピール強度を得るために、前記粘着材の材料選択やその組成の調整をすればよい。この粘着材の材料選択及び組成調整は、このような粘着材を使用する概念のない特許文献1における金属膜3の転写用基材1表面の粗度調節や転写用基材1への金属膜3のめっき処理に比較して、遙かに容易かつ簡便である。   Then, during the transfer substrate peeling step shown in FIGS. 1 (f) and (h), which will be described later, a decrease in the adhesive strength of the first and second conductor layers 2 and 3 to the insulating resin substrate 1 and peeling. In order to maintain a stable adhesive state with the transfer base materials 4 and 5 until the peeling step, the material selection and composition of the adhesive material are required in order to obtain the peel strength necessary for the maintenance. You just have to make adjustments. The material selection and composition adjustment of this pressure-sensitive adhesive material are performed by adjusting the roughness of the surface of the transfer substrate 1 of the metal film 3 and the metal film on the transfer substrate 1 in Patent Document 1 without the concept of using such a pressure-sensitive adhesive material. Compared with the plating process of No. 3, it is much easier and simpler.

[実施形態2]
図2(a)〜図2(h)は本発明の実施形態2に係わる回路配線基板の製造方法を示す工程別断面図であり、その図2(h)は実施形態2の回路素子搭載形の回路配線基板の構造を示す断面図である。
[Embodiment 2]
2 (a) to 2 (h) are cross-sectional views showing the manufacturing method of the circuit wiring board according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 2 (h) is a circuit element mounting type according to the second embodiment. It is sectional drawing which shows the structure of this circuit wiring board.

図2(a)及び図(b)の工程では、前記実施形態1に係わる図1(a)及び図1(b)に示された工程と同様の方法で、第1転写基材4に薄肉銅箔からなるの第1導体層基材2aを張り合わせた銅張積層板を用い、前記第1導体層基材2aにパターニングを施して信号回路配線層用の第1導体層2を形成する。この時、以降の工程における位置合わせのためのアライメントマークがパターニングされる。   2A and 2B, the first transfer substrate 4 is thinned by the same method as the process shown in FIGS. 1A and 1B according to the first embodiment. The first conductor layer 2 for the signal circuit wiring layer is formed by patterning the first conductor layer substrate 2a using a copper clad laminate on which the first conductor layer substrate 2a made of copper foil is bonded. At this time, alignment marks for alignment in subsequent processes are patterned.

図2(c)の工程では、前記第1転写基材4のフィルム外形と同等の平面外形を有する銅箔或いは銅板の単一導体材料からなる厚肉の第2導体層3形成用の第2導体層基材3aを用意する。前記第2導体層基材3aは、搭載される回路素子が大電力素子である場合などに、その大電流容量や高放熱性に対応できるように第1導体層2よりも厚い厚肉な材料が用いられている。   In the step of FIG. 2 (c), a second second conductor layer 3 for forming a thick second conductor layer 3 made of a single conductor material of copper foil or copper plate having a planar outer shape equivalent to the film outer shape of the first transfer substrate 4 is used. A conductor layer substrate 3a is prepared. The second conductor layer base material 3a is a thick material thicker than the first conductor layer 2 so as to cope with its large current capacity and high heat dissipation when the mounted circuit element is a high power element. Is used.

図2(d)の工程では、厚肉の前記第2導体層基材3aを打ち抜き加工によってパターン化されたパワー用の第2導体層3を形成する。パターニングにおいてサブトラクティブ法による化学エッチングを適用すると、前記第2導体層3が厚肉になるほどに、サイドエッチングによる断面積の減少の虞がみられるので、打ち抜き加工の方が、第2導体層3の側壁をその上下面に対して直角に切り立たせることができて、パワー用の大電流を受容できるだけの設計値と同等の大断面積を確保することができるという利点がある。   In the step of FIG. 2D, the second conductor layer 3 for power patterned by punching the thick second conductor layer base material 3a is formed. When chemical etching by a subtractive method is applied in patterning, there is a risk that the cross-sectional area may be reduced by side etching as the second conductor layer 3 becomes thicker. Therefore, the punching process is more suitable for the second conductor layer 3. There is an advantage that a large cross-sectional area equivalent to a design value capable of receiving a large current for power can be secured.

ところで、前記第2導体層基材3aを打ち抜き加工する際に、前記第2導体層3のパターンを構成する複数の部分が分離し、各部分相互の位置関係(全体パターン)を維持できなくなることを防止する必要がある。そのために、前記隣り合う各部分の間に仮支持用の細いブリッジ(図示せず)を残存させるように打ち抜き加工しておく。或いは、前記第2導体層3のパターンの周囲に仮支持用の枠パターン(図示せず)及びこの枠パターンと隣り合う前記各部分との間に細いブリッジ(図示せず)を残すように打ち抜き加工して各部分相互の位置関係を仮固定しておく。   By the way, when the second conductor layer base material 3a is punched, a plurality of parts constituting the pattern of the second conductor layer 3 are separated, and the positional relationship (overall pattern) between the parts cannot be maintained. Need to prevent. For this purpose, punching is performed so that a thin bridge (not shown) for temporary support remains between the adjacent portions. Alternatively, punching is performed so as to leave a temporary support frame pattern (not shown) around the pattern of the second conductor layer 3 and a thin bridge (not shown) between the frame pattern and each of the adjacent parts. Process and temporarily fix the positional relationship between the parts.

図2(e)の工程では、前記第1転写基材4に設けられたアライメントマークにより位置合わせして、前記第1導体層2のパターンの平面スペースSの位置において、前記第1導体層2に対して側方に並置される関係で、前記第2導体層3を前記第1転写基材4の表面に接着してラミネート(仮ラミネートといってもよい)する。前記ラミネート後、前記ブリッジを除去することによって、前記第2導体層3のパターンの複数の各部分を本来の形状に独立させ、前記第1転写基材4によって、前記各部分相互の位置関係を設計通りに維持する。   In the step shown in FIG. 2E, the first conductor layer 2 is aligned with the alignment mark provided on the first transfer substrate 4 and the first conductor layer 2 is positioned at the plane space S of the pattern of the first conductor layer 2. Thus, the second conductor layer 3 is adhered to the surface of the first transfer substrate 4 and laminated (may be called a temporary laminate). After the lamination, by removing the bridge, each of the plurality of portions of the pattern of the second conductor layer 3 is made independent of the original shape, and the positional relationship between the portions is determined by the first transfer substrate 4. Maintain as designed.

図2(f)の工程では、実施形態1における図1(e)の工程と同様の絶縁樹脂基板1を用意する。そして、前記絶縁樹脂基板1と第1転写基板4とを各アライメントマークにより位置合わせして前記絶縁樹脂基板1の第1主面1aに、パターン化された前記第1及び第2導体層2、3を同時に重ね合わせ、加熱圧着してラミネートする。   In the step of FIG. 2F, an insulating resin substrate 1 similar to that in the step of FIG. Then, the first and second conductor layers 2 patterned on the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1 by aligning the insulating resin substrate 1 and the first transfer substrate 4 with each alignment mark, 3 are laminated at the same time and laminated by thermocompression bonding.

前記ラミネートによって、前記第1、第2導体層2、3は、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層に埋設して接着されているが、それらの各外表面が前記第1主面1aの表面と同一高さの面一となるように埋設される。この状態は、図1(g)の工程の場合と同様である。前記絶縁樹脂基板1には、実施形態1の場合と同様に、前記第2導体層3を挿入或いは嵌め込むための貫通孔または有底凹穴を予め形成しておいてもよい。   By the laminating, the first and second conductor layers 2 and 3 are embedded and bonded to the surface layer on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1, and each outer surface thereof is bonded to the first surface. It is embedded so as to be flush with the surface of the main surface 1a. This state is the same as in the case of the process of FIG. As in the case of the first embodiment, the insulating resin substrate 1 may be previously formed with a through hole or a bottomed recessed hole for inserting or fitting the second conductor layer 3.

図2(g)の工程では、前記第1転写基材4を前記絶縁樹脂基板1の第1主面1aから剥離除去することによって、信号用及びパワー用の前記第1、第2導体層2、3を、各外表面(図中上面側)を露出させた状態にして、前記絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層へ転写する工程が完了する。   In the step of FIG. 2G, the first and second conductor layers 2 for signal and power are removed by peeling and removing the first transfer base material 4 from the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1. 3 is transferred to the surface layer on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1 with each outer surface (upper surface side in the figure) exposed.

図2(h)の工程では、前記第2導体層3の一部を搭載部として用い、その搭載部に半導体チップのような回路素子Eをマウントし、前記第1導体層2の一部に設けられたランド部或いはパッド部と前記回路素子の電極との間をワイヤWによりボンディングして電気的に接続し、回路素子搭載型の回路配線基板を提供する。前記搭載部は回路素子Eに対する放熱体としても機能することができる。   2H, a part of the second conductor layer 3 is used as a mounting part, a circuit element E such as a semiconductor chip is mounted on the mounting part, and a part of the first conductor layer 2 is mounted. The provided land portion or pad portion and the electrode of the circuit element are electrically connected by bonding with a wire W to provide a circuit wiring board mounted with a circuit element. The mounting portion can also function as a heat radiator for the circuit element E.

このような実施形態2の回路配線基板及び製造方法は、前記実施形態1の場合と同様な効果を有すると共に、第2導体層3の厚さが厚くなるほど、打ち抜き加工の採用により、第2導体層3の断面積を設計値と同等の大きさに大断面積化することができる。また、転写基材が前記実施形態1の場合よりも少ない枚数で済む。   Such a circuit wiring board and manufacturing method according to the second embodiment have the same effects as those of the first embodiment, and the second conductor layer 3 can be formed by adopting a punching process as the thickness of the second conductor layer 3 increases. The cross-sectional area of the layer 3 can be increased to the same size as the design value. Further, the number of transfer substrates may be less than that in the first embodiment.

[実施形態3]
本実施形態3の回路配線基板は、図3に示すように実施形態1、2における第1及び第2導体層2、3の厚さの中間の厚さを有する中肉厚の第3導体層6を追加した一例である。この場合、前記第1導体層2は最も薄肉で信号回路配線層として設けられ、前記第2導体層3は最も厚肉でパワー回路素子Eの搭載部或いは放熱体として設けられ、中間厚の前記第3導体層6はパワー用回路配線層として設けられている。
[Embodiment 3]
As shown in FIG. 3, the circuit wiring board according to the third embodiment has a middle-thickness third conductor layer having an intermediate thickness between the first and second conductor layers 2 and 3 according to the first and second embodiments. This is an example in which 6 is added. In this case, the first conductor layer 2 is the thinnest and is provided as a signal circuit wiring layer, and the second conductor layer 3 is the thickest and is provided as a mounting portion or a radiator of the power circuit element E, and the intermediate thickness of the first conductor layer 2 is provided. The third conductor layer 6 is provided as a power circuit wiring layer.

前記第3導体層6のパターン形成は、実施形態1における図1(a)〜図1(d)の工程や実施形態2における図2(a)〜図1(d)の工程と同様な手法を採用できる。   The pattern formation of the third conductor layer 6 is performed in the same manner as the steps of FIGS. 1A to 1D in the first embodiment and the steps of FIGS. 2A to 1D in the second embodiment. Can be adopted.

そして、パターン化された前記第3導体層6を絶縁樹脂基板1の第1主面1a側に、他の導体層と並置して埋設するには、実施形態1及び2の製造工程をいずれも採用できる。即ち、実施形態1に準じる場合は、第3の転写基材に粘着した第3導体層6を予め用意しておいて絶縁樹脂基板1の第1主面1aに転写すればよい。実施形態2の製造工程に準じる場合は、打ち抜き加工によりパターニングされた第3導体層6を、図2(d)のように、他の導体層と並置して第1転写基材4に仮ラミネートしておき、絶縁樹脂基板1の第1主面1a転写すればよい。   In order to embed the patterned third conductor layer 6 on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1 in parallel with other conductor layers, the manufacturing steps of Embodiments 1 and 2 are both performed. Can be adopted. That is, when conforming to the first embodiment, the third conductor layer 6 adhered to the third transfer substrate may be prepared in advance and transferred to the first main surface 1 a of the insulating resin substrate 1. When conforming to the manufacturing process of the second embodiment, the third conductor layer 6 patterned by punching is juxtaposed with another conductor layer as shown in FIG. In addition, the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1 may be transferred.

ここでは、パワー回路素子搭載形の回路配線基板の一例が示されていて、第3導体層6のランド部と前記回路素子Eの電極とがワイヤWによってボンディング接続されている。そして、この実施形態は、小電流用、中電流用或いは大電流用の回路配線層など、回路要求に応じた厚さの異なる多種類の導体層が同一の回路配線基板に併設できることを意図しており、本実施形態においても実施形態1及び2の場合と同様な効果が得られる。   Here, an example of a circuit board mounted with a power circuit element is shown, and the land portion of the third conductor layer 6 and the electrode of the circuit element E are bonded and connected by a wire W. This embodiment is intended to allow multiple types of conductor layers with different thicknesses such as circuit wiring layers for small current, medium current, or large current to be provided on the same circuit wiring board. In this embodiment, the same effects as those in the first and second embodiments can be obtained.

[実施形態4]
図4(a)〜図4(i)は本発明の実施形態4に係わる回路配線基板の製造方法を示す工程別断面図であり、その図4(i)は実施形態4の電子部品内蔵形の回路配線基板の構造を示す断面図である。
[Embodiment 4]
4 (a) to 4 (i) are cross-sectional views showing the method of manufacturing a circuit wiring board according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 4 (i) is an electronic component built-in type according to the fourth embodiment. It is sectional drawing which shows the structure of this circuit wiring board.

図4(a)及び図4(b)の工程における第1転写基材4表面へのパターン化された第1導体層2の形成は、実施形態1の場合とは第1導体層のパターン形状が異なっているが、図1(a)及び図1(b)の工程と同様の手法で行われる。   The formation of the patterned first conductor layer 2 on the surface of the first transfer substrate 4 in the steps of FIGS. 4A and 4B is different from the first embodiment in the pattern shape of the first conductor layer. Are different in the same manner as in the steps of FIGS. 1 (a) and 1 (b).

図4(c)の工程では、薄肉の前記第1導体層2の一部に設けたランド部に、例えば表面実装法により、抵抗チップやチップコンデンサなどの電子部品Pをはんだ付けにより実装する。   In the step of FIG. 4C, an electronic component P such as a resistor chip or a chip capacitor is mounted by soldering on a land portion provided on a part of the thin first conductor layer 2 by, for example, a surface mounting method.

一方、図4(d)及び図4(e)の工程における第2転写基材5表面へのパターン化された厚肉の第2導体層3の形成は、実施形態1に係わる図1(c)及び図1(d)に示された工程と同様の手法で行われる。   On the other hand, the formation of the patterned thick second conductor layer 3 on the surface of the second transfer substrate 5 in the steps of FIGS. 4D and 4E is performed as shown in FIG. ) And the process shown in FIG. 1 (d).

図4(f)の工程では、絶縁樹脂基板1の第1主面1aに、図4(c)の工程で形成された第1転写基材4上の第1導体層2及び電子部品Pを位置合わせして重ね合わせ、加熱加圧条件下でラミネートする。このラミネートによって、前記第1導体層2は絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層に埋設して接着されるが、その外表面が前記第1主面1a側表面と同一高さの面一となるように埋設される。また、前記電子部品Pは、絶縁樹脂基板1内部の深い位置に内蔵される。   In the step of FIG. 4F, the first conductor layer 2 and the electronic component P on the first transfer base 4 formed in the step of FIG. 4C are formed on the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1. Align and overlap and laminate under heat and pressure conditions. By this lamination, the first conductor layer 2 is embedded and bonded to the surface layer on the first main surface 1a side of the insulating resin substrate 1, but the outer surface thereof is the same height as the surface of the first main surface 1a side. Buried to be flush with each other. The electronic component P is built in a deep position inside the insulating resin substrate 1.

図4(g)の工程では、第1転写基材4を実施形態1に係わる図1(f)の工程と同様な手法で剥離し、前記第1導体層2を絶縁樹脂基板1に転写する(第1転写)。   In the step of FIG. 4G, the first transfer base 4 is peeled by the same method as in the step of FIG. 1F according to the first embodiment, and the first conductor layer 2 is transferred to the insulating resin substrate 1. (First transfer).

図4(h)の工程では、絶縁樹脂基板1の第1主面1aに、図4(e)の工程で形成された第2転写基材5上のパターン化された第2導体層3を、実施形態1に係わる図1(g)の工程で述べた手法と同様に位置合わせして重ね合わせ、加熱加圧条件下でラミネートする。このラミネートによって、前記第2導体層3は絶縁樹脂基板1の第1主面1a側の表層に埋設して接着されるが、その外表面が前記第1主面1a側表面と同一高さの面一となるように埋設される。   In the step of FIG. 4 (h), the patterned second conductor layer 3 on the second transfer base 5 formed in the step of FIG. 4 (e) is formed on the first main surface 1a of the insulating resin substrate 1. In the same manner as the method described in the step of FIG. 1 (g) according to the first embodiment, the alignment is performed, and the layers are laminated under heating and pressing conditions. By this lamination, the second conductor layer 3 is embedded and bonded to the surface layer of the insulating resin substrate 1 on the first main surface 1a side, but its outer surface is the same height as the surface of the first main surface 1a side. Buried to be flush with each other.

なお、前記図4(f)の工程で用意される絶縁樹脂基板1に、前記第2導体層3及び電子部品Pに対応する部分に貫通孔または有底凹穴を予め形成しておけば、前記第2導体層3及び電子部品Pの埋設が容易である。   In addition, if a through hole or a bottomed recessed hole is formed in advance in a portion corresponding to the second conductor layer 3 and the electronic component P in the insulating resin substrate 1 prepared in the step of FIG. It is easy to embed the second conductor layer 3 and the electronic component P.

図4(i)の工程では、第2転写基材5を実施形態1に係わる図1(h)の工程と同様な手法で剥離し、前記第2導体層3を絶縁樹脂基板1に転写する(第2転写)。   In the step of FIG. 4I, the second transfer base material 5 is peeled by the same method as in the step of FIG. 1H according to the first embodiment, and the second conductor layer 3 is transferred to the insulating resin substrate 1. (Second transfer).

以上のようにして電子部品内蔵形の回路配線基板が作製される。そして、本実施形態においても、実施形態2や3に示された回路素子を前記第2導体層3上に搭載してもよい。   As described above, a circuit wiring board with a built-in electronic component is manufactured. In this embodiment, the circuit elements shown in Embodiments 2 and 3 may be mounted on the second conductor layer 3.

本実施形態によれば、電子部品Pを転写技術及び一般的な表面実装技術(SMT)によって容易に実装し回路配線基板内に内蔵させることができると共に前記各実施形態と同様な効果を得ることができる。   According to this embodiment, the electronic component P can be easily mounted by a transfer technique and a general surface mounting technique (SMT) and can be built in the circuit wiring board, and the same effects as those of the above embodiments can be obtained. Can do.

本発明の実施形態1に係る回路配線基板及びその製造方法を(a)〜(h)に示して説明するための工程別断面図である。It is sectional drawing according to process for showing and explaining the circuit wiring board which concerns on Embodiment 1 of this invention, and its manufacturing method to (a)-(h). 本発明の実施形態2に係る回路配線基板及びその製造方法を(a)〜(h)に示して説明するための工程別断面図である。It is sectional drawing according to process for showing and explaining the circuit wiring board which concerns on Embodiment 2 of this invention, and its manufacturing method to (a)-(h). 本発明の実施形態3に係る回路配線基板の断面図である。It is sectional drawing of the circuit wiring board which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施形態4に係る回路配線基板及びその製造方法を(a)〜(i)に示して説明するための工程別断面図である。It is sectional drawing according to process for showing and explaining the circuit wiring board which concerns on Embodiment 4 of this invention, and its manufacturing method to (a)-(i).

符号の説明Explanation of symbols

1 絶縁樹脂基板
1a、1b 絶縁樹脂基板の第1、第2主面
2 第1導体層
2a 第1導体層基材
3 第2導体層
3a 第2導体層基材
4 第1転写基材
5 第2転写基材
6 第3導体層
E 回路素子
S 第1導体層パターンの平面スペース
P 電子部品
W ワイヤ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulation resin board | substrate 1a, 1b The 1st, 2nd main surface 2 of an insulation resin board | substrate 1st conductor layer 2a 1st conductor layer base material 3 2nd conductor layer 3a 2nd conductor layer base material 4 1st transfer base material 5 1st 2 Transfer base material 6 Third conductor layer E Circuit element S Plane space P of first conductor layer pattern Electronic component W Wire

Claims (11)

第1主面及び第2主面を有する絶縁樹脂基板と、前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設され互いに厚さの異なる第1及び第2導体層とを備え、前記第1及び第2導体層は、前記第1主面に沿う方向に互いに並置される関係でそれぞれパターン化され、前記第1主面側に位置する各外表面が相互に同一面となるように埋設されていることを特徴とする回路配線基板。   An insulating resin substrate having a first main surface and a second main surface; and first and second conductor layers embedded in the first main surface side of the insulating resin substrate and having different thicknesses. The two conductor layers are patterned so as to be juxtaposed with each other in the direction along the first main surface, and are embedded so that the outer surfaces located on the first main surface side are flush with each other. A circuit wiring board characterized by that. 前記第1及び第2導体層は信号用回路配線層及びパワー用回路配線層としてそれぞれ形成され、前記第1導体層の厚さはファインパターン化に適した薄肉とされ、これに対して前記第2導体層の厚さは大電流容量化に適した厚肉とされていることを特徴とする請求項1に記載の回路配線基板。   The first and second conductor layers are formed as a signal circuit wiring layer and a power circuit wiring layer, respectively, and the thickness of the first conductor layer is thin enough for fine patterning. 2. The circuit wiring board according to claim 1, wherein the thickness of the two conductor layers is a thickness suitable for increasing the current capacity. 前記第1導体層の内表面の一部に電子部品が実装され、前記電子部品が前記絶縁樹脂基板内部に埋設されていることを特徴とする請求項2に記載の回路配線基板。   The circuit wiring board according to claim 2, wherein an electronic component is mounted on a part of an inner surface of the first conductor layer, and the electronic component is embedded in the insulating resin substrate. 前記第1導体層よりも厚い厚さの前記第2導電層は、回路素子が搭載された放熱体であることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の回路配線基板。   4. The circuit wiring board according to claim 2, wherein the second conductive layer having a thickness greater than that of the first conductor layer is a heat radiating body on which circuit elements are mounted. 5. 前記第1及び第2導電層とは厚さの異なる第3導体層が前記絶縁樹脂基板の第1主面に沿って並置して埋設され、前記第3導体層は、その外表面が前記第1、第2導体層の外表面と同一面となるように埋設されていることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1つに記載の回路配線基板。   A third conductor layer having a thickness different from that of the first and second conductive layers is embedded in parallel along the first main surface of the insulating resin substrate, and the outer surface of the third conductor layer is the first conductor layer. The circuit wiring board according to claim 1, wherein the circuit wiring board is embedded so as to be flush with the outer surface of the first and second conductor layers. 前記絶縁樹脂基板として可撓性材料を用いたフレキシブル回路配線基板からなることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1つに記載の回路配線基板。   The circuit wiring board according to claim 1, comprising a flexible circuit wiring board using a flexible material as the insulating resin substrate. (A)第1導体層基材をフィルム状の第1転写基材に剥離可能に接着し、前記第1導体層基材にパターニングを施して信号用回路配線層としてのパターン化された第1導体層を形成する工程と、
(B)前記第1導体層よりも厚い厚肉のパターン化された第2導体層を形成する工程と、
(C)前記第1及び第2導体層を、第1及び第2主面を有する平板状の絶縁樹脂基板の前記第1主面に沿って互いに並置させて前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設する工程と、
(D)前記転写基材を剥離して前記第1及び第2導体層の前記第1主面側に位置する各外表面を露出させる工程と、
を備えていることを特徴とする回路配線基板の製造方法。
(A) The first conductor layer base material is releasably adhered to the film-like first transfer base material, and the first conductor layer base material is patterned to form a patterned first circuit wiring layer. Forming a conductor layer;
(B) forming a thick patterned second conductor layer thicker than the first conductor layer;
(C) The first main surface of the insulating resin substrate in which the first and second conductor layers are juxtaposed with each other along the first main surface of the flat insulating resin substrate having the first and second main surfaces. Embedding on the side,
(D) peeling the transfer substrate to expose each outer surface located on the first main surface side of the first and second conductor layers;
A method of manufacturing a circuit wiring board, comprising:
前記(B)工程は、
(B−1)第2導体層基材をフィルム状の第2転写基材に剥離可能に接着し、前記第2導体層基材をエッチングによりパターニングして第2導体層を形成する工程を有し、
前記(C)工程は、
(C−1)前記第1及び第2転写基材と前記絶縁樹脂基板との位置合わせをそれぞれ行い、パターン化された前記第1及び第2導体層を前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設する工程を有すること
を特徴とする請求項7に記載の回路配線基板の製造方法。
The step (B)
(B-1) A step of bonding the second conductor layer substrate to the film-like second transfer substrate so as to be peelable and patterning the second conductor layer substrate by etching to form a second conductor layer. And
The step (C)
(C-1) The first and second transfer base materials and the insulating resin substrate are respectively aligned, and the patterned first and second conductor layers are arranged on the first main surface side of the insulating resin substrate. The method of manufacturing a circuit wiring board according to claim 7, further comprising a step of embedding in the circuit board.
前記(B)工程は、
(B−2)板状または箔状の単一導体材料からなる第2導体層基材を打ち抜き加工によりパターニングしてパターン化された第2導体層を形成する工程を有し、
前記(C)工程は、
(C−2)前記第1転写基材の前記第1導体層が接着された面に、前記第2導体層を前記第1導体層とは並置して剥離可能に接着した後、前記第1及び第2導体層を前記絶縁樹脂基板の第1主面側に埋設する工程を有すること
を特徴とする請求項7に記載の回路配線基板の製造方法。
The step (B)
(B-2) having a step of forming a patterned second conductor layer by patterning a second conductor layer base material made of a plate-like or foil-like single conductor material by punching,
The step (C)
(C-2) After the second conductor layer is juxtaposed with the first conductor layer on the surface of the first transfer substrate to which the first conductor layer is adhered, the first conductor layer is peeled and adhered. The method of manufacturing a circuit wiring board according to claim 7, further comprising a step of embedding the second conductor layer on the first main surface side of the insulating resin substrate.
前記転写基材として樹脂粘着フィルムを用いることを特徴とする請求項7〜請求項9のいずれか1つに記載の回路配線基板の製造方法。   The method for manufacturing a circuit wiring board according to claim 7, wherein a resin adhesive film is used as the transfer base material. 前記樹脂粘着フィルムの表面を構成する粘着材は、微粘着樹脂、UV硬化樹脂、UV消滅樹脂及び熱発泡樹脂の群から選択された材料であることを特徴とする請求項10に記載の回路配線基板の製造方法。   11. The circuit wiring according to claim 10, wherein the adhesive material constituting the surface of the resin adhesive film is a material selected from the group consisting of a slightly adhesive resin, a UV curable resin, a UV extinguishing resin, and a thermally foamed resin. A method for manufacturing a substrate.
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