JP2010129587A - 化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】サセプタの成長面と基板の成長面との間に生じる段差をウェハ面内の膜厚均一性に影響しないレベルに抑えることのできる化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置を提供する。
【解決手段】水平な方向にガス流路が形成される反応管2の上部壁にサセプタ用開口2aを形成し、そのサセプタ用開口2aに、基板3を設置した円盤状のサセプタ4を、その成長面4a側がガス流路に臨むように設けると共にその中心軸廻りに水平に回転自在に設け、そのサセプタ4の成長面4aとは反対の面側にヒーター5を設けた化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1において、サセプタ4の成長面4aに対して基板3の成長面3aの位置を任意に変更できるホルダ6を介して基板3を、サセプタ4に設置するようにしたものである。
【選択図】図1
【解決手段】水平な方向にガス流路が形成される反応管2の上部壁にサセプタ用開口2aを形成し、そのサセプタ用開口2aに、基板3を設置した円盤状のサセプタ4を、その成長面4a側がガス流路に臨むように設けると共にその中心軸廻りに水平に回転自在に設け、そのサセプタ4の成長面4aとは反対の面側にヒーター5を設けた化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1において、サセプタ4の成長面4aに対して基板3の成長面3aの位置を任意に変更できるホルダ6を介して基板3を、サセプタ4に設置するようにしたものである。
【選択図】図1
Description
本発明は、複数の基板(ウェハ)に化合物半導体結晶を気相エピタキシャル成長させる化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置に関するものである。
近年、光ピックアップ用光源として用いられる半導体レーザーや、携帯電話用受信アンテナなどに用いられるHEMTなどに化合物半導体の需要が増大しており、それに伴って低価格で高品質な化合物半導体が得られる技術が求められている。このため、有機金属成長法(MOVPE法)を用いて1度に多数枚のエピタキシャルウェハを製造できる技術が必要となっている。
化合物半導体をエピタキシャル成長させるには、例えばIII−V族化合物半導体の場合には、III族原料ガス、V族原料ガス、ドーパント原料ガスなどをリアクタ内に導入し、サセプタ上に設置されたヒーターで加熱された基板上に、これらの原料ガスを供給し熱分解させることで、基板表面にGaAsなどの化合物半導体結晶を気相成長させる。
図4は、従来のMOVPE法を用いた化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置を示す図であり、図4(a)は、その断面図であり、図4(b)は、図4(a)のB部拡大図であり、図4(c)は、サセプタを反応管側から見た図である。
図4(a)〜(c)に示すように、化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置41は、複数の基板42が周方向に沿って設置された円盤状のサセプタ43と、サセプタ43を、その中心軸廻りに水平に回転させるターンテーブル44からなる回転機構と、サセプタ43の成長面43aと反対の面側に設けられ、基板42を加熱するためのヒーター45と、サセプタ43の成長面43a側にサセプタ用開口46aを有し、サセプタ43に設置された基板42の成長面42aに対して水平な方向に原料ガス流路(図示矢印)を形成し、気相エピタキシャル成長させる反応管46と、反応管46を支持する反応管ステージ47とをリアクタ48内に備えて構成される。
図示左側の原料ガス導入口49より原料ガスが導入され、ヒーター45によって熱分解され、分解された物質が基板42上でエピタキシャル成長する。サセプタ43は、その成長面43aと反対側の面に、径方向で対向して形成された2本のサセプタフック43bで回転機構を構成するターンテーブル44に吊下されており、ターンテーブル44が自転することでサセプタ43も自転して、基板42はサセプタ43の周方向に公転しながら、上述のエピタキシャル成長がなされる仕組みになっている。
この化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置41において、エピタキシャル成長中の原料ガスの流れを乱さないため、図4(b)に示すように、サセプタ43の成長面43aと基板42の成長面42aとを同一平面上に配置させる必要がある。
図4(c)に示すように、基板42は、サセプタ43に形成され基板42を設置するためのポケット43cに、1ポケット毎6ヶある突起43dで支持されており、この突起43dの上に置くことで、サセプタ43の成長面43aと基板42の成長面42aとを同一平面上に配置させている。
しかしながら、エピタキシャル成長を繰り返すことで、サセプタ43の成長面43aにデポ(堆積物)が嵩み、サセプタ43の成長面43aと基板42の成長面42aとの間にデポ厚の分だけ段差が生じてしまう。
この段差が増大すると、基板42の成長面42a上での原料ガスの流れが乱れていき、ウェハ面内の膜厚均一性が悪くなってしまう。ウェハ面内の膜厚が不均一な化合物半導体エピタキシャルウェハを用いて発光ダイオードやレーザーダイオードなどの発光デバイスを作製した場合、得られたデバイスには光学特性や電気的特性の不均一に伴い、歩留が大幅に低下する問題が生じる。
そのため、ウェハ面内の膜厚均一性が悪くなる前に、サセプタ43を交換している。サセプタ43を交換すると、エピタキシャル層の成長条件の合わせこみ作業が生じるため、スループットが低下してしまう。
そこで、本発明の目的は、スループットを低下させることなく(サセプタを交換することなく)、エピタキシャルウェハの膜厚がウェハ面内で不均一になることを防ぐため、サセプタの成長面と基板の成長面との間に生じる段差をウェハ面内の膜厚均一性に影響しないレベル(許容レベル)に抑えることのできる化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置を提供することにある。
本発明は上記目的を達成するために創案されたものであり、請求項1の発明は、水平な方向にガス流路が形成される反応管の上部壁にサセプタ用開口を形成し、そのサセプタ用開口に、基板を設置した円盤状のサセプタを、その成長面側がガス流路に臨むように設けると共にその中心軸廻りに水平に回転自在に設け、そのサセプタの成長面とは反対の面側にヒーターを設けた化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置において、前記サセプタの成長面に対して前記基板の成長面の位置を任意に変更できるホルダを介して前記基板を、前記サセプタに設置するようにした化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置である。
請求項2の発明は、前記ホルダは、円筒状のホルダ本体と、そのホルダ本体の上端部外周面に形成されサセプタに嵌合する鍔部と、前記ホルダ本体の下端部に設けられ前記基板をその成長面が水平となるように保持する複数の突起とで構成される請求項1に記載の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置である。
請求項3の発明は、前記基板の成長面の位置の変更は、前記ホルダを、ホルダ本体の高さ長が異なる他のホルダに変更することにより行う請求項2に記載の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置である。
請求項4の発明は、前記サセプタには昇降機構が設けられ、その昇降機構で前記反応管の上部内壁面と前記サセプタの成長面および前記基板の成長面とが一致するように昇降される請求項1〜3のいずれかに記載の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置である。
本発明によれば、サセプタの成長面と基板の成長面との間に生じる段差を、サセプタを交換することなく抑えることができ、エピタキシャルウェハの膜厚がウェハ面内で不均一になることを防げる。また、本発明により製造されたエピタキシャルウェハを用いることで発光デバイスの歩留低下を防ぐことができる。
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面にしたがって説明する。
図1は、本発明の好適な一実施の形態を示す化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置を示す図であり、図1(a)は、その断面図であり、図1(b)は、図1(a)のA部拡大図であり、図1(c)は、サセプタを反応管側から見た図であり、図1(d)は、基板を設置するホルダの断面図である。
図1(a)、(b)に示すように、本実施の形態に係る化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1は、水平な方向にガス流路(図示矢印)が形成される反応管2の上部壁にサセプタ用開口2aを形成し、そのサセプタ用開口2aに、基板3を設置した円盤状のサセプタ4を、その成長面4a側がガス流路に臨むように設けると共にその中心軸廻りに水平に回転自在に設け、そのサセプタ4の成長面4aとは反対の面側にヒーター5を設けて構成されたものであり、サセプタ4の成長面4aに対して基板3の成長面3aの位置を任意に変更できるホルダ6を介して基板3を、サセプタ4に設置するようにした点に特徴がある。また、この化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1は、直方体形状のリアクタ7内に収容されてなる。
反応管2は、例えば、幅よりも高さが短い扁平筒状に形成され、リアクタ7内を直線的に横断している。反応管2の一端(図1(a)では左側)には、原料ガスを供給するための導入口8が形成され、他端(図1(a)では右側)には、原料ガスを排出する排出口9が形成される。
導入口8、排出口9の位置と対応するリアクタ7の外壁には、それぞれ原料ガスを供給するための外部配管(図示せず)、原料ガスを排出するための外部配管(図示せず)が接続される。
また、反応管2には、基板3が設置されたサセプタ4を反応管2内の原料ガス流路に臨ませるべく、サセプタ4の成長面4aを回転可能に収容するサセプタ用開口2aが形成される。反応管2は、石英ガラスなど、不純物を含まず、エピタキシャル層の高純度化に適した材料で構成するとよい。
さらに、反応管2は、反応管ステージ10に支持されており、図示しない昇降モーターにより反応管2と一体に昇降するようにされる。
エピタキシャル成長を行う際には、反応管2の導入口8および排出口9が、上述した原料ガスを供給するための外部配管および排出するための外部配管と対応する位置に設置されるようにする。
サセプタ4は、ターンテーブル11からなる回転機構に吊下されており、上述のように、その中心軸廻りに水平に回転するようになっている。
サセプタ4の外周には、サセプタ4を反応管2内のガス流路に臨ませたときに、サセプタ4が反応管2内に落下しないように、サセプタ用開口2aの外周面に沿った鍔部4bが形成される。
また、サセプタ4には、基板3を設置するためのポケット4cがサセプタ4の周方向に沿って複数形成されており、そのポケット4cにホルダ6を介して基板3が設置される。
さらに、サセプタ4は、その成長面4aと反対側の面に、径方向で対向した一対のサセプタフック4d,4dが形成される。このサセプタフック4d,4dは、サセプタ4を回転機構、すなわちターンテーブル11に係合させるためのものである。
ターンテーブル11は、サセプタ4を支持する円盤状のテーブル部11aと、そのテーブル部11aの中心軸上に形成され、サセプタ4を回転させるための回転軸部11bとからなる。回転軸部11bは、図示しない回転モーターにより支持されており、回転モーターの回転力をサセプタ4に伝達するものである。また、ターンテーブル11は、図示しない昇降モーター(昇降機構)により昇降するようになっている。
この昇降機構でサセプタ4を昇降させ、反応管2の上部内壁面2bとサセプタ4の成長面4aおよび基板3の成長面3aとが一致するようにされる。
また、ヒーター5は、ヒーターハウジング12により、基板3を効果的に加熱できるようになっている。
さて、本発明の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1は、上述したように、サセプタ4の成長面4aに対して基板3の成長面3aの位置を任意に変更できるホルダ6を介して基板3を、サセプタ4に設置するようにした点に特徴がある。
図1(b)に示すように、ホルダ6は、円筒状のホルダ本体6aと、そのホルダ本体6aの上端部外周面に形成されサセプタ4のポケット4cに嵌合する鍔部6bと、ホルダ本体6aの下端部に設けられ基板3をその成長面3aが水平となるように保持する複数の突起6cとで構成される。
図1(c)に示すように、基板3は、ホルダ6の突起6c上に設置される。これにより、サセプタ4の成長面4aと基板3の成長面3aとを同一平面上に配置させている。
基板3の成長面3aの位置の変更は、図1(d)に示すように、ホルダ6を、ホルダ本体6aの高さ長Hが異なる他のホルダに変更することにより行う。
次に、化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1の作用を説明する。
膜厚が均一なエピタキシャルウェハを得るためには、エピタキシャル成長中の原料ガスの流れを乱さないため、図1(b)に示すように、反応管2の上部内壁面2bとサセプタ4の成長面4aと基板3の成長面3aとを同一平面上に配置させる必要がある。
ところが、エピタキシャル成長を繰り返すことで、サセプタ4の成長面4aにデポが嵩み、サセプタ4の成長面4aと基板3の成長面3aとの間にデポ厚の分だけ段差が生じてしまう。
この段差が増大すると、基板3の成長面3a上での原料ガスの流れが乱れていき、ウェハ面内の膜厚均一性が悪くなってしまう。ウェハ面内の膜厚が不均一な化合物半導体エピタキシャルウェハを用いて発光ダイオードやレーザーダイオードなどの発光デバイスを作製した場合、得られたデバイスには光学特性や電気的特性の不均一に伴い、歩留が大幅に低下する問題が生じる。
そのため、従来、ウェハ面内の膜厚均一性が悪くなる前に、サセプタ4を交換しているが、サセプタ4を交換すると、エピタキシャル層の成長条件の合わせこみ作業が生じるため、スループットが低下してしまう。
本発明の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1では、サセプタ4の成長面4aに対して基板3の成長面3aの位置を任意に変更できるホルダ6を介して基板3を、サセプタ4に設置するようにしているため、デポが嵩みウェハ面内の膜厚均一性が悪くなる前に、ホルダ6を、ホルダ本体6aの高さ長Hがデポ厚さ分だけ長い他のホルダに変更することで、エピタキシャル成長を繰り返してもサセプタ4の成長面4aと基板3の成長面3aとを同一平面上に配置させることができる。
さらに、基板3とヒーター5との距離を、ホルダ6交換前と合わせるため、サセプタ4の位置をホルダ6の高さ長Hの変更分だけ、ターンテーブル11の昇降機構により上昇させる。これにより、上部内壁面2bとサセプタ4の成長面4aおよび基板3の成長面3aとを同一平面上に配置させることができる。
そのため、化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1により製造されたエピタキシャルウェハは、ウェハ面内の膜厚がウェハ面内で均一となり、このエピタキシャルウェハを用いることで発光デバイスの歩留を向上させることができる。
図1(a)〜(d)に示した本発明の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1と、図4(a)〜(c)に示した従来の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置41を用い、エピタキシャル成長実験を行った。
実験内容は、図2に示すエピタキシャル構造のエピタキシャルウェハを30回繰り返しエピタキシャル成長したときのウェハ面内の膜厚分布の変化の推移を比較する内容である。
図2に示すように、本実験で用いたエピタキシャル構造20は、GaAs基板21上に膜厚50nmのun−Al0.5GaAs層22を成長させ、そのun−Al0.5GaAs層22上に膜厚1000nmのun−AlGaAs層23を成長させたものである。ここで、un−はアンドープを示す。
実験結果を表1、2および図3、5に示す。
表1は、本発明の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1を用いて作製したエピタキシャルウェハの厚さの推移を示し、表2は、従来の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置41を用いて作製したエピタキシャルウェハの厚さの推移を示す。
図3、5は、それぞれ表1、2の結果をグラフ化したものである。
表2、図5に示すように、従来の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置41を用いたエピタキシャル成長では、21回目からウェハ面内の膜厚均一性が許容レベル(2%)を超えてしまったのに対して、表1、図3に示すように、本発明の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1を用いたエピタキシャル成長においては、21回目から、サセプタ4の成長面4aのデポ厚さ分だけ高さ長Hを変更したホルダに交換することで30回目までウェハ面内の膜厚均一性を許容レベル以下に抑えることができた。
以上より、本発明の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置1によれば、サセプタの成長面と基板の成長面との間に生じる段差をウェハ面内の膜厚均一性に影響しないレベルに抑えられることが分かる。
1 化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置
2 反応管
2a サセプタ用開口
3 基板
3a 基板の成長面
4 サセプタ
4a サセプタの成長面
5 ヒーター
6 ホルダ
2 反応管
2a サセプタ用開口
3 基板
3a 基板の成長面
4 サセプタ
4a サセプタの成長面
5 ヒーター
6 ホルダ
Claims (4)
- 水平な方向にガス流路が形成される反応管の上部壁にサセプタ用開口を形成し、そのサセプタ用開口に、基板を設置した円盤状のサセプタを、その成長面側がガス流路に臨むように設けると共にその中心軸廻りに水平に回転自在に設け、そのサセプタの成長面とは反対の面側にヒーターを設けた化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置において、
前記サセプタの成長面に対して前記基板の成長面の位置を任意に変更できるホルダを介して前記基板を、前記サセプタに設置するようにしたことを特徴とする化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置。 - 前記ホルダは、円筒状のホルダ本体と、そのホルダ本体の上端部外周面に形成されサセプタに嵌合する鍔部と、前記ホルダ本体の下端部に設けられ前記基板をその成長面が水平となるように保持する複数の突起とで構成される請求項1に記載の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置。
- 前記基板の成長面の位置の変更は、前記ホルダを、ホルダ本体の高さ長が異なる他のホルダに変更することにより行う請求項2に記載の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置。
- 前記サセプタには昇降機構が設けられ、その昇降機構で前記反応管の上部内壁面と前記サセプタの成長面および前記基板の成長面とが一致するように昇降される請求項1〜3のいずれかに記載の化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置。
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---|---|---|---|
JP2008299633A JP2010129587A (ja) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 化合物半導体エピタキシャルウェハ製造装置 |
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Cited By (2)
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CN102477546A (zh) * | 2010-11-25 | 2012-05-30 | 绿种子能源科技股份有限公司 | 具有冷却模块的薄膜沉积装置 |
CN108106412A (zh) * | 2017-11-16 | 2018-06-01 | 山东国晶新材料有限公司 | 一种高效率刹车盘生产设备及应用 |
-
2008
- 2008-11-25 JP JP2008299633A patent/JP2010129587A/ja active Pending
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