JP2010129575A - Printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば白色系の印字の明確な視認性を確保するために黒色フォトソルダレジストのような有色の光硬化型ソルダレジスト層を配線層の上に形成してなるプリント配線板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a printed wiring board in which a colored photo-curing solder resist layer such as a black photo solder resist is formed on a wiring layer in order to ensure clear visibility of, for example, white printing, and its manufacture Regarding the method.
従来、この種のプリント配線板およびその製造方法では、白色系のインクで所望の印字が行われる場合が多いが、その印字された文字の視認性を向上させるために、その実質的な背景となるソルダレジストとして、黒色やその他の暗色系に着色された光硬化型ソルダレジストが用いられる。 Conventionally, in this type of printed wiring board and its manufacturing method, desired printing is often performed with white ink, but in order to improve the visibility of the printed characters, its substantial background and As the solder resist, a photocurable solder resist colored in black or other dark color system is used.
図3は、そのような従来のプリント配線板およびその製造方法における、黒色の光硬化型ソルダレジスト層の形成工程の主要な流れの一例を示したものである。
まず、図3(a)に示すように、例えばポリイミド樹脂フィルムのような高分子樹脂からなる絶縁性基材101の表面に、銅箔のような導電性の高い材質からなる導体箔を張り合わせ、それにパターン加工を施して、配線102aやパッド102b等を有する配線層102を形成する。
続いて、図3(b)に示すように、その配線層102の上および絶縁性基材101の表面上ほぼ全面に、最も代表的には黒色、または暗色系のような、有色の光硬化型ソルダレジスト層103を塗布する。
そして、図3(c)に示すように、露光・現像を行って、光硬化型ソルダレジスト層103における所定位置に開口部104を形成する。この開口部104から露出するパッド102bの表面105が、このプリント配線板の外部の例えば半導体装置(図示省略)等との接続端子部となる(以上、特許文献1参照)。
First, as shown in FIG. 3A, for example, a conductive foil made of a highly conductive material such as a copper foil is laminated on the surface of an
Subsequently, as shown in FIG. 3B, a colored photocuring such as a black or dark color system, most typically on the
Then, as shown in FIG. 3C, exposure / development is performed to form an
しかしながら、黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジストは一般に、光透過性が低い。これに起因して、光硬化型ソルダレジスト層103に所定のパターン加工を施すための露光プロセスにおいては、光硬化型ソルダレジスト層103の深部への露光が不十分なものとなり、その結果、露光〜現像後に、例えば図3(c)に示したような、いわゆるアンダーカット状のパターン形成不良106等が発生する虞が高い。このようなパターン形成不良106が発生すると、その部分で配線層102と光硬化型ソルダレジスト層103との密着性を確保することができなくなり、プリント配線板としての耐久性・信頼性が低下する。また、斯様なパターン形成不良106の部分に水分や微小塵埃等が残留しやすくなったリ、この部分から配線層102を構成する各種金属の異常析出等が進行しやすくなるなどして、プリント配線板としての耐久性・信頼性が低下する。
However, a colored photocurable solder resist such as a black or dark color system generally has low light transmittance. Due to this, in the exposure process for performing a predetermined pattern processing on the photocurable
このようなパターン形成不良106を回避するためには、露光時間を非常に長くすることで、黒色の光硬化型ソルダレジスト層103を十分に硬化させるという手法が有効であるようにも考えられる。ところが、基本的に光透過性の低い黒色や有色の光硬化型ソルダレジスト層103を十分に硬化させるためには、長い露光時間が必要となるので、生産性が著しく悪化することは避け難く、実際の生産ラインで採用する手法としては、現実的ではない。
In order to avoid such a
あるいは逆に、黒色や有色の光硬化型ソルダレジスト層103の膜厚を薄くすることに
より、露光時の光透過性を改善して、黒色の光硬化型ソルダレジスト層103を十分に硬化させるという手法が有効であるようにも考えられるが、この手法では光硬化型ソルダレジスト層103の膜厚を薄くすることになるので、配線層102を保護するという本来のソルダレジストとしての機能が損なわれてしまい、プリント配線板としての耐久性・信頼性が低下することとなるので、やはり現実的ではない。
Or, conversely, by reducing the film thickness of the black or colored photo-curable
このように、従来の、黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジスト103を用いたプリント配線板およびその製造方法では、露光の際にその光硬化型ソルダレジスト層103の深部まで十分な光が到達し難いことに起因してアンダーカット状のパターン形成不良106等が発生するという問題があった。また、そのようなパターン形成不良106の発生を回避しようとすると、極めて長い露光時間が必要となったリ、ソルダレジストとしての本来の機能が損なわれてしまうといった問題があった。
本発明は、このような問題に鑑みて成されたもので、その目的は、生産性とソルダレジストとしての耐久性・信頼性との両立を可能とした黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジストを用いたプリント配線板およびその製造方法を提供することにある。
As described above, in the conventional printed wiring board using the colored photo-curing solder resist 103 such as black or dark color and the manufacturing method thereof, the deep portion of the photo-curing
The present invention has been made in view of such problems, and its purpose is to provide a colored light such as a black or dark color system capable of achieving both productivity and durability / reliability as a solder resist. An object of the present invention is to provide a printed wiring board using a curable solder resist and a method for manufacturing the same.
本発明のプリント配線板は、絶縁性基材の表面に金属または導電体の配線を形成してなる配線層と、前記配線を保護するための光硬化型ソルダレジスト層とを有するプリント配線板であって、前記光硬化型ソルダレジスト層が、有色の光硬化型ソルダレジストを下層ソルダレジストとし、かつ透明な材質または前記有色の光硬化型ソルダレジストの硬化波長領域の光に対する透過性が前記有色の光硬化型ソルダレジストよりも高い材質からなる光硬化型ソルダレジストを上層ソルダレジストとして、前記下層ソルダレジストと前記上層ソルダレジストとの2層をこの順で前記配線層の上に積層してなるものであることを特徴としている。
本発明のプリント配線板の製造方法は、絶縁性基材の表面に金属または導電体からなる所望のパターンの配線を有する配線層を形成する工程と、前記配線を保護するための光硬化型ソルダレジスト層を形成する工程とを有するプリント配線板の製造方法であって、前記配線層を形成した後、下層ソルダレジストとして、有色の光硬化型ソルダレジストを塗布または着膜する工程と、前記下層ソルダレジストの上に、上層ソルダレジストとして、透明な材質または前記有色の光硬化型ソルダレジストの硬化波長領域の光に対する透過性が前記有色の光硬化型ソルダレジストよりも高い材質からなる光硬化型ソルダレジストを塗布または着膜する工程と、前記上層ソルダレジストと前記下層ソルダレジストとに、露光によるパターン加工を施して、前記上層ソルダレジストと前記下層ソルダレジストとを積層してなる光硬化型ソルダレジスト層を形成する工程とを含むことを特徴としている。
The printed wiring board of the present invention is a printed wiring board having a wiring layer formed by forming a metal or conductor wiring on the surface of an insulating substrate, and a photo-curable solder resist layer for protecting the wiring. The photo-curing solder resist layer is a colored photo-curing solder resist as a lower layer solder resist, and the transparent material or the transparency of the colored photo-curing solder resist with respect to light in the curing wavelength region is the colored A photo-curing solder resist made of a material higher than the photo-curing solder resist is used as an upper layer solder resist, and two layers of the lower layer solder resist and the upper layer solder resist are laminated on the wiring layer in this order. It is characterized by being.
The method for producing a printed wiring board according to the present invention includes a step of forming a wiring layer having a wiring of a desired pattern made of a metal or a conductor on the surface of an insulating substrate, and a photocurable solder for protecting the wiring. A method of manufacturing a printed wiring board having a step of forming a resist layer, the step of applying or depositing a colored photo-curable solder resist as a lower layer solder resist after forming the wiring layer, and the lower layer On top of the solder resist, as a top layer solder resist, a photo-curing type made of a transparent material or a material having higher transparency to the light in the curing wavelength range of the colored photo-curable solder resist than the colored photo-curable solder resist Applying or filming a solder resist, patterning by exposure is performed on the upper layer solder resist and the lower layer solder resist. It is characterized by a step of forming a photocurable solder resist layer formed by laminating a the lower solder resist and the upper solder resist.
本発明によれば、有色の光硬化型ソルダレジストを下層ソルダレジストとし、かつ透明な材質または下層ソルダレジストを構成している有色の光硬化型ソルダレジストの硬化波長領域の光に対する透過性がその有色の光硬化型ソルダレジストよりも高い材質からなる光硬化型ソルダレジストを上層ソルダレジストとして、下層ソルダレジストと上層ソルダレジストとをこの順で配線層の上に積層して光硬化型ソルダレジスト層を形成するようにしたので、その光硬化型ソルダレジスト層の露光プロセスで、光透過性の高い上層ソルダレジストを通してその下の下層ソルダレジストの深部まで光を到達させやすくなり、光硬化型ソルダレジスト層を短時間の露光で十分かつ確実に硬化させることが可能となる。その結果、黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジストを用いたプリント配線板における生産性と耐久性・信頼性との両立を達成することができる。 According to the present invention, the colored photo-curable solder resist is used as the lower layer solder resist, and the transparency of the colored photo-curable solder resist constituting the transparent material or the lower layer solder resist to light in the curing wavelength region is A photo-curing solder resist layer is formed by laminating a lower-layer solder resist and an upper-layer solder resist on the wiring layer in this order as a photo-curing solder resist made of a material higher than the colored photo-curing solder resist. In the exposure process of the photo-curable solder resist layer, it becomes easier for light to reach the deep part of the lower-layer solder resist under the light-transmitting upper solder resist, and the photo-curable solder resist It becomes possible to cure the layer sufficiently and reliably with a short exposure. As a result, it is possible to achieve both productivity and durability / reliability in a printed wiring board using a colored photo-curable solder resist such as a black or dark color system.
以下、本実施の形態に係るプリント配線板およびその製造方法について、図面を参照し
て説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係るプリント配線板の主要な構成を示す図、図2は、本発明の実施の形態に係るプリント配線板の製造方法の主要な工程の流れを示す図である。
Hereinafter, a printed wiring board and a manufacturing method thereof according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a main configuration of a printed wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a flow of main processes of the method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment of the present invention. It is.
このプリント配線板は、絶縁性基材1と、配線層2と、下層ソルダレジスト3および上層ソルダレジスト4を積層してなる光硬化型ソルダレジスト層5とから、その主要部が構成されている。
This printed wiring board is composed mainly of an
絶縁性基材1は、例えばポリイミド樹脂フィルムのような電気的絶縁性の高い材質の高分子樹脂からなるフレキシブルプリント配線板用基材である。この絶縁性基材1としては、その他にも、例えばガラスエポキシ基板のような、リジッドプリント配線板用の基板材料等も適用可能であることは勿論である。
The
配線層2は、絶縁性基材1の表面に張り合わされた、例えば銅箔のような金属または導電体からなる導体層にパターン加工を施して形成されたものである。この配線層2には、主に配線2aとパッド2bとが含まれている。
The
光硬化型ソルダレジスト層5は、配線2を機械的および電気的に保護するためのもので、下層ソルダレジスト3と上層ソルダレジスト4との2層をこの順で配線層2の上に積層してなるものである。
この光硬化型ソルダレジスト層5には、所定の位置ごとに開口部6が設けられており、その開口部6によってパッド2bの表面7が露出して、外部の例えば半導体装置や別のプリント配線板(いずれも図示省略)との接続端子部となるように設定されている。
The photocurable
The photo-curing
下層ソルダレジスト3は、黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジストからなるもので、配線層2を含めて絶縁性基材1の表面上に形成されたものである。
The lower
上層ソルダレジスト4は、透明な材質、または下層ソルダレジスト3を構成している有色の光硬化型ソルダレジストの硬化波長領域の光に対する透過性がその有色の光硬化型ソルダレジストよりも高い材質の、光硬化型ソルダレジストからなるもので、下層ソルダレジスト3の上に形成されている。
The upper
下層ソルダレジスト3の膜厚t1は、10μm以下とすることが望ましく、かつ上層ソ
ルダレジスト4の膜厚t2は、5μm以上とすることが望ましい。
これは、下記の実施例で具体的な実験結果に基づいて説明するが、要するに、有色の光硬化型ソルダレジストからなる下層ソルダレジスト3の膜厚t1が10μm超の厚さであ
ると、これを十分かつ確実に硬化させるための露光に極めて長い時間が掛かる虞や、アンダーカット等のパターン形成不良が発生する虞が高くなる傾向にあるからである。また、上層ソルダレジスト4の膜厚t2が5μm未満の厚さであると、この上層ソルダレジスト
4を含む光硬化型ソルダレジスト層5の全体の耐久性・信頼性を確保することが困難になる虞が高くなるからである。
ここで、下層ソルダレジスト3の膜厚t1は、配線層2の上面から下層ソルダレジスト
3の上面までの高さ方向の寸法を指すものとする。また、光硬化型ソルダレジスト層5の膜厚tは、配線層2の上面から光硬化型ソルダレジスト層5の上面までの高さ方向の寸法を指すものとする。
The film thickness t1 of the
This will be described based on specific experimental results in the following examples. In short, if the film thickness t1 of the lower layer solder resist 3 made of a colored photocurable solder resist is more than 10 μm, This is because the exposure to sufficiently and reliably cure the film tends to take a very long time and there is a high risk of pattern formation defects such as undercut. Further, if the film thickness t2 of the upper layer solder resist 4 is less than 5 μm, it becomes difficult to ensure the entire durability and reliability of the photocurable
Here, the
なお、下層ソルダレジスト3の膜厚t1の下限値としては、数値的に規定することは実
際上困難であるが、定性的には、この下層ソルダレジスト3の視覚的な濃度(または塗料的な観点で言えば塗覆性)が所定の濃度以上になるような厚さである。すなわち、光硬化型ソルダレジスト層5の表面に印字される例えば白色系インクのようなインクの視認性を
良好なものとすることができる程度の濃度を確保することが可能な膜厚が最低限必要である、ということである。
また、上層ソルダレジスト4の膜厚t2の上限値としては、下層ソルダレジスト3の膜
厚t1との兼ね合いで変化するので、数値的に規定することは実際上困難であるが、定性
的には、光硬化型ソルダレジスト層5の全体的な耐久性・信頼性を確保することができるような膜厚である。すなわち、上層ソルダレジスト4の膜厚も含めて光硬化型ソルダレジスト層5の全体の膜厚tを薄くしてしまうと、光硬化型ソルダレジスト層5の全体的な耐久性・信頼性が損なわれる虞が高くなるので、そのような不都合な事態を回避するために最小限必要な膜厚tを、この上層ソルダレジスト4の膜厚t2で確保する。従って、その
ような条件を満たすような厚さであればよく、それ以上の厚さにすると、露光時間が掛かり過ぎたり材料コスト等が徒に高額化するなどして、むしろデメリットの方が大きくなってしまう虞もある、ということである。
The lower limit of the film thickness t1 of the lower
Further, the upper limit value of the film thickness t2 of the upper layer solder resist 4 changes in consideration of the film thickness t1 of the lower
次に、本発明の実施の形態に係るプリント配線板の製造方法について説明する。
まず、図2(a)に示したように、絶縁性基材1の表面に、銅箔のような導体層をパターン加工して、所望のパターンの配線2a、パッド2b等を有する配線層2を形成する。
Next, a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described.
First, as shown in FIG. 2 (a), a conductive layer such as a copper foil is patterned on the surface of the insulating
配線層2を形成した後、図2(b)に示したように、下層ソルダレジスト3として、黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジスト3を、配線層2を含めて絶縁性基材1の表面上に塗布または着膜もしくはラミネート(張り合わせ)する。この下層ソルダレジスト3の膜厚t1は、10μm以下とすることが望ましいことは、上記の構造に関す
る説明で述べた通りである。
ここで、既存の設備等に対するプロセス整合性や、この塗布プロセスにおける生産性を考慮すると、この下層ソルダレジスト3は、スクリーン印刷法またはロールコート法によって塗布することが望ましい。
After forming the
Here, considering the process consistency with existing equipment and the productivity in the coating process, it is desirable to apply the lower layer solder resist 3 by a screen printing method or a roll coating method.
続いて、図2(c)に示したように、下層ソルダレジスト3の上に、上層ソルダレジスト4として、透明な材質または硬化波長領域の光に対する透過性が、下層ソルダレジスト3を構成している有色の光硬化型ソルダレジストよりも高い材質からなる光硬化型ソルダレジストを塗布または着膜もしくはラミネートする。この上層ソルダレジスト4の膜厚t2は、5μm以上とすることが望ましいことは、上記の構造に関する説明で述べた通りで
ある。
このプロセスでも、下層ソルダレジスト3の場合と同様の理由から、スクリーン印刷法またはロールコート法を用いることが望ましい。
Subsequently, as shown in FIG. 2C, the upper layer solder resist 4 is formed on the lower layer solder resist 3 so that the transparent material or the light transmittance in the curing wavelength region constitutes the lower layer solder resist 3. A photo-curing solder resist made of a material higher than the colored photo-curing solder resist is applied or deposited or laminated. The film thickness t2 of the upper layer solder resist 4 is desirably 5 μm or more as described in the explanation regarding the structure.
In this process, it is desirable to use a screen printing method or a roll coating method for the same reason as in the case of the lower layer solder resist 3.
そして、図2(d)に示したように、上層ソルダレジスト4と下層ソルダレジスト3とに、同時に一括露光を施し、現像を行って、所定の位置ごとにパッド2bの表面7を露出させる開口部6を設けて、上層ソルダレジスト4と下層ソルダレジスト3とを積層してなる光硬化型ソルダレジスト層5を完成する。
このようにして、本発明の実施の形態に係るプリント配線板の主要部、良好な生産性を以て製造することができる。
Then, as shown in FIG. 2 (d), the upper solder resist 4 and the lower solder resist 3 are simultaneously exposed to light and developed to expose the
Thus, the main part of the printed wiring board according to the embodiment of the present invention can be manufactured with good productivity.
以上のように、本発明の実態に係るプリント配線板およびその製造方法では、黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジストを用いて下層ソルダレジスト3を形成し、その上に、透明な材質または下層ソルダレジスト3を構成している有色の光硬化型ソルダレジストの硬化波長領域の光に対する透過性が、その下層ソルダレジスト3の透過性よりも高い材質からなる光硬化型ソルダレジストを用いて上層ソルダレジスト4を形成し、それら下層ソルダレジスト3と上層ソルダレジスト4との2層をこの順で積層することによって光硬化型ソルダレジスト層5を構成するようにしている。このようにすることにより、光硬化型ソルダレジスト層5の露光・現像プロセスにおける、有色の光硬化型ソルダ
レジストからなる下層ソルダレジスト3よりも光透過性の高い上層ソルダレジスト4への確実な露光による硬化は勿論のこと、その下の光透過性の低い下層ソルダレジスト3にも、上層ソルダレジスト4を透過させて十分な光を当てることができ、その下層ソルダレジスト3を短時間の露光で十分かつ確実に硬化させることが可能となる。また、それと共に、光硬化型ソルダレジスト層5の全体的な膜厚tは、上層ソルダレジスト4の膜厚t2を
5μm以上のような厚さにすることで確保することができるので、下層ソルダレジスト3の膜厚t1をアンダーカット等のパターン形成不良が発生することのないような膜厚にま
で薄くしても、光硬化型ソルダレジスト層5の全体的な耐久性・信頼性を確保することが可能となる。
すなわち、本発明の実施の形態に係るプリント配線板およびその製造方法によれば、黒色または暗色系のような有色の光硬化型ソルダレジストを用いたプリント配線板における、生産性と耐久性・信頼性とを両立させることが可能となる。
As described above, in the printed wiring board and the manufacturing method thereof according to the present invention, the lower layer solder resist 3 is formed using a colored photo-curing solder resist such as a black or dark color system, and a transparent solder resist is formed thereon. A photo-curing solder resist made of a material having a higher transparency to light in the curing wavelength region of the colored photo-curing solder resist constituting the lower layer solder resist 3 The upper layer solder resist 4 is formed by using the two layers, and the lower layer solder resist 3 and the upper layer solder resist 4 are laminated in this order to form the photocurable solder resist
That is, according to the printed wiring board and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present invention, productivity, durability, and reliability in a printed wiring board using a colored photo-curable solder resist such as black or dark color system. It is possible to achieve both compatibility.
上記の実施の形態で説明したようなプリント配線板を作製し、その耐久性・信頼性について実験的に確認した。また、それとの比較のために、上記の実施の形態で説明した設定とは敢えて異ならせた設定でプリント配線板を作製し、その耐久性・信頼性についても実施例の場合と同様の実験を行って、その比較例と実施例との実験結果を比較・検討した。それらのプリント配線板の設定および種別を纏めて表1に示す。 A printed wiring board as described in the above embodiment was manufactured, and its durability and reliability were experimentally confirmed. In addition, for comparison with that, a printed wiring board is manufactured with settings that are different from the settings described in the above embodiment, and the durability and reliability of the same experiment as in the case of the example is performed. The experimental results of the comparative example and the example were compared and examined. Table 1 summarizes the settings and types of these printed wiring boards.
(実施例)
絶縁性基材1としては、宇部興産製の厚さ25μmのユピセル(登録商標)を用いた。配線2を形成するための銅箔(導体層)としては、三井金属製の厚さ18μmの電解銅箔SQ−VLPを用いた。また、アサヒ化学製の光硬化型ソルダレジストを用いて、黒色の下層ソルダレジスト3と透明の上層ソルダレジスト4を調製し、印刷法により絶縁性基材1の表面にそれらを下層ソルダレジスト3、上層ソルダレジスト4の順で塗布した。下層ソルダレジスト3の膜厚t1は5μm(≦10μm;望ましい数値的態様)とした。また
、上層ソルダレジスト4の膜厚t2は10μm(≧5μm;望ましい数値的態様)とした
。
このような設定で作製した本実施例に係るプリント配線板は、500mJ/cm2で2
0秒間という、少ない光量かつ短時間の露光でも、光硬化型ソルダレジスト層5の開口部6の周囲にアンダーカット等のパターン形成不良が発生することなく、パッド2bや配線2aと光硬化型ソルダレジスト層5との密着性も良好なものとなることが確認された。そしてさらに、THB試験を実施したところ、1000時問以上の耐久性・信頼性を備えていることが実証された。
(Example)
As the insulating
The printed wiring board according to the present example manufactured in such a setting is 2 at 500 mJ / cm 2 .
Even with a small amount of light and a short exposure of 0 second, pattern formation defects such as undercuts do not occur around the
(比較例)
上記のような本発明の実施例に係るプリント配線板およびその製造方法との比較のために、黒色の下層ソルダレジスト3の膜厚t1を10μmよりも厚くした場合と、透明の上
層ソルダレジスト4の膜厚t2を5μmよりも薄くした場合とについても、そのそれぞれ
についてプリント配線板を作製して上記と同様の実験を行った。
その結果、黒色の下層ソルダレジスト3の膜厚t1を10μmよりも厚くすると、上記
実施例に係るプリント配線板の場合と同様の少ない光量かつ短時間の露光では、現像後には開口部6の周囲にアンダーカット状のパターン形成不良等が多発して、配線層2と光硬化型ソルダレジスト層5との密着性を確保することが不可能となった。また、表1に示したように、光硬化型ソルダレジスト層5を黒色の光硬化型ソルダレジストのみからなるt=15μmの膜厚のものとした場合には、光量を実施例の2倍の1000mJ/cm2とすると共に露光時間を実施例の2倍の40秒にしてもなお、その露光・現像後には開口部6の周囲にアンダーカット状のパターン形成不良等が多発して、配線層2と光硬化型ソルダレジスト層5との密着性を確保することが不可能となった。
また、透明な上層ソルダレジスト4の膜厚t2を5μmよりも薄くすると、その上層ソ
ルダレジスト4と厚さ5μmの下層ソルダレジスト3との合計の(つまり光硬化型ソルダレジスト層5の全体の)膜厚tが薄くなり過ぎて、THB試験では1000時間の耐久性・信頼性が確保できなくなることが確認された。
(Comparative example)
For comparison with the printed wiring board according to the embodiment of the present invention as described above and the manufacturing method thereof, the case where the film thickness t1 of the black lower layer solder resist 3 is thicker than 10 μm and the transparent upper layer solder resist 4 Also in the case where the film thickness t2 of the film was made thinner than 5 μm, a printed wiring board was produced for each of them and the same experiment as described above was performed.
As a result, when the film thickness t1 of the black lower layer solder resist 3 is thicker than 10 μm, the exposure around the
If the film thickness t2 of the transparent upper layer solder resist 4 is made thinner than 5 μm, the total of the upper layer solder resist 4 and the lower layer solder resist 3 having a thickness of 5 μm (that is, the entire photocurable solder resist layer 5). It was confirmed that the film thickness t becomes too thin, and the durability / reliability of 1000 hours cannot be secured in the THB test.
このような比較例による実験結果と、本発明の実施例による実験結果とを考え合わせると、短い露光時間で配線層2と光硬化型ソルダレジスト層5との密着性を確保して、生産性と耐久性・信頼性とを両立させるためには、黒色の下層ソルダレジスト3を10μm以下にすると共に、透明の上層ソルダレジスト4の膜厚を5μm以上にすることが望ましいということが判明した。
Considering the experimental results of the comparative example and the experimental results of the example of the present invention, the adhesion between the
なお、上記の実施例では、下層ソルダレジスト3として黒色の光硬化型ソルダレジストを用いる場合について説明したが、そのいわゆる色味は、黒色のみには限定されないことは勿論である。この他にも、例えば暗褐色系や暗灰色系などのような、白色系の印字の背景として、その印字の視認性を良好なものとすることができるような色調の光硬化型ソルダレジストを用いる場合についても本発明は適用可能である。 In the above-described embodiment, the case where a black photocurable solder resist is used as the lower layer solder resist 3 has been described. However, the so-called color is not limited to black. In addition, as a background of white printing, such as dark brown or dark gray, for example, a photocurable solder resist having a color tone that can improve the visibility of the printing is used. The present invention can also be applied to the case where it is used.
1 絶縁性基材
2 配線層
3 下層ソルダレジスト
4 上層ソルダレジスト
5 光硬化型ソルダレジスト層
6 開口部
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記光硬化型ソルダレジスト層が、有色の光硬化型ソルダレジストを下層ソルダレジストとし、かつ透明な材質または前記有色の光硬化型ソルダレジストの硬化波長領域の光に対する透過性が前記有色の光硬化型ソルダレジストよりも高い材質からなる光硬化型ソルダレジストを上層ソルダレジストとして、前記下層ソルダレジストと前記上層ソルダレジストとをこの順で前記配線層の上に積層してなるものである
ことを特徴とするプリント配線板。 A printed wiring board having a wiring layer formed by forming a metal or conductor wiring on the surface of an insulating substrate, and a photo-curable solder resist layer for protecting the wiring,
The photo-curing solder resist layer has a colored photo-curing solder resist as a lower layer solder resist, and the transparent material or the light-curing wavelength region of the colored photo-curing solder resist is transparent to the light. A photo-curing type solder resist made of a material higher than the type solder resist is used as an upper layer solder resist, and the lower layer solder resist and the upper layer solder resist are laminated on the wiring layer in this order. Printed wiring board.
前記下層ソルダレジストが、黒色の光硬化型ソルダレジストからなるものである
ことを特徴とするプリント配線板。 The printed wiring board according to claim 1,
The printed wiring board, wherein the lower layer solder resist is made of a black photocurable solder resist.
前記下層ソルダレジストの膜厚が10μm以下であり、
かつ前記上層ソルダレジストの膜厚が5μm以上である
ことを特徴とするプリント配線板。 In the printed wiring board according to claim 1 or 2,
The film thickness of the lower layer solder resist is 10 μm or less,
And the film thickness of the said upper layer solder resist is 5 micrometers or more, The printed wiring board characterized by the above-mentioned.
前記配線層を形成した後、下層ソルダレジストとして、有色の光硬化型ソルダレジストを塗布または着膜する工程と、
前記下層ソルダレジストの上に、上層ソルダレジストとして、透明な材質または前記有色の光硬化型ソルダレジストの硬化波長領域の光に対する透過性が前記有色の光硬化型ソルダレジストよりも高い材質からなる光硬化型ソルダレジストを塗布または着膜する工程と、
前記上層ソルダレジストと前記下層ソルダレジストとに、露光によるパターン加工を施して、前記上層ソルダレジストと前記下層ソルダレジストとを積層してなる光硬化型ソルダレジスト層を形成する工程と
を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 Printed wiring having a step of forming a wiring layer having a wiring of a desired pattern made of a metal or a conductor on the surface of an insulating substrate, and a step of forming a photocurable solder resist layer for protecting the wiring A method of manufacturing a board,
After forming the wiring layer, as a lower layer solder resist, a step of applying or depositing a colored photocurable solder resist;
On the lower layer solder resist, as an upper layer solder resist, a light made of a transparent material or a material having higher transparency to light in the curing wavelength region of the colored photocurable solder resist than the colored photocurable solder resist. Applying or depositing a curable solder resist; and
Forming a photocurable solder resist layer formed by laminating the upper layer solder resist and the lower layer solder resist by performing pattern processing by exposure on the upper layer solder resist and the lower layer solder resist. A method for producing a printed wiring board.
前記下層ソルダレジストとして、黒色の光硬化型ソルダレジストを用いる
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board of Claim 4,
A method for producing a printed wiring board, wherein a black photocurable solder resist is used as the lower layer solder resist.
前記下層ソルダレジストの膜厚を10μm以下とし、
かつ前記上層ソルダレジストの膜厚を5μm以上とする
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board of Claim 4 or 5,
The film thickness of the lower layer solder resist is 10 μm or less,
And the film thickness of the said upper layer solder resist shall be 5 micrometers or more, The manufacturing method of the printed wiring board characterized by the above-mentioned.
前記下層ソルダレジストの上に前記上層ソルダレジストを形成した後、当該下層ソルダレジストと当該上層ソルダレジストとに、同時に一括露光を施して、所望のパターンを備えた光硬化型ソルダレジスト層を形成する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board as described in any one of Claims 4 thru | or 6,
After forming the upper layer solder resist on the lower layer solder resist, the lower layer solder resist and the upper layer solder resist are simultaneously subjected to collective exposure to form a photocurable solder resist layer having a desired pattern. A printed wiring board manufacturing method characterized by the above.
前記上層ソルダレジストおよび前記下層ソルダレジストを、スクリーン印刷法またはロールコート法によって塗布する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board as described in any one of Claims 4 thru | or 7,
A method for producing a printed wiring board, wherein the upper layer solder resist and the lower layer solder resist are applied by a screen printing method or a roll coating method.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2008
- 2008-11-25 JP JP2008299390A patent/JP2010129575A/en active Pending
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