JP2010123169A - 磁気ヘッド、磁気記録装置及び磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】磁気記録媒体に対する磁界の印加位置と近接場光の照射位置とのずれを解消すると共に、磁界の印加位置に強い近接場光を照射し、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込み効率を向上する。
【解決手段】光源からの光を近接場光として磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部と、近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部とを有し、近接場光照射部は、磁極部の内部に埋設されている。
【選択図】 図２

Description

この発明は、磁気ヘッド、磁気記録装置及び磁気ヘッドの製造方法に関し、特に、磁気記録媒体に対する磁界の印加位置と近接場光の照射位置とのずれを解消すると共に、磁界の印加位置に強い近接場光を照射することができ、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込み効率を向上することができる磁気ヘッド、磁気記録装置及び磁気ヘッドの製造方法に関する。

近年、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｃ Ｄｒｉｖｅ）等の磁気記録装置の高記録密度化に伴って、磁気記録媒体である磁気ディスク及び磁気ディスクに対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドの更なる性能の向上が要求されている。磁気記録媒体側で高記録密度化を実現するためには、一般に、磁気記録媒体を構成する磁性微粒子を微小化する必要がある。ところが、磁性微粒子を過度に微小化すると、体積減少に伴う磁化の熱安定性の低下が問題となる。

磁化の熱安定性は、１つの目安として、ＫｕＶ／ｋＢＴで表される。ここで、Ｋｕは磁性微粒子の磁気異方性エネルギー、Ｖは１つの磁性微粒子の体積、ｋＢはボルツマン定数、Ｔは絶対温度である。磁性微粒子を微小化することは、体積Ｖを小さくすることを意味しており、そのままではＫｕＶ／ｋＢＴが小さくなり、磁気記録媒体側における磁化の熱安定性が低下する。この対策として、Ｋｕを大きくすることも考えられるが、このＫｕの増加は、磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋ（＝２Ｋｕ／Ｍｓ、Ｍｓは、飽和磁化）の増加をもたらす。これに対し、磁気ヘッドによる書き込み磁界の大きさは、磁気ヘッドの磁極部を構成する軟磁性材料の飽和磁束密度でほぼ決定される。したがって、磁気記録媒体側で磁気異方性エネルギーＫｕを増加させることによって、磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋが、磁気ヘッドによる書き込み磁界強度の限界から決まる許容値を超えると、磁気ヘッドから磁気ディスクへの磁気情報の書き込みが不可能となる。

かかる磁化の熱安定性の問題を解決する１つの方法として、いわゆる熱アシスト磁気記録方式が提案されている。この熱アシスト磁気記録方式では、磁気ヘッドによる書き込み磁界の印加直前に、磁気記録媒体に近接場光を照射して、この磁気記録媒体に熱を加えることによって、媒体の異方性磁界Ｈｋを予め小さくしてから書き込みを行う。

これまでに提案されている熱アシスト磁気記録方式として、例えば、特許文献１では、光源からの光から近接場光を発生する散乱体（近接場光照射部に相当）が、磁気記録媒体と垂直となるように、磁気記録媒体に磁界を印加する磁極部に接して形成された磁気ヘッドが開示されている。また、特許文献２では、磁気記録媒体側から見て、近接場光を照射する光発生端（近接場光照射部に相当）が、磁極部のリーディング側に隣接して配置された磁気ヘッドが開示されている。また、特許文献３においては、磁気記録媒体に磁界を印加する磁極部が、近接場光を発生する散乱体（近接場光照射部に相当）の上部に配置された磁気ヘッドが、開示されている。また、特許文献４では、磁気記録媒体側から見て、近接場光照射部の出射開口位置と、磁気記録媒体に磁界を印加する磁極部とが近接して配置された磁気ヘッドが開示されている。

特開２００４−１５８０６７号公報 特開２００７−２０７３４９号公報 特開２００７−１２８５７３号公報 特開２００６−３５１０９１号公報

しかしながら、特許文献１、２及び４に記載された磁気ヘッドでは、磁極部と近接場光照射部とが別個独立に配置されているため、磁気記録媒体に対する磁界の印加位置と、磁気記録媒体に対する近接場光の照射位置とがずれる。このため、磁気記録媒体に対する磁界の印加位置に照射される近接場光の強度が低下する。したがって、磁気記録媒体では、磁界の印加位置が、所望の温度まで加熱されず、異方性磁界Ｈｋの低下の程度が小さくなり、その結果、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込み効率が低下していた。

また、特許文献３に記載された磁気ヘッドでは、磁極部が散乱体の上部に配置されているため、光源からの光が散乱体へ入射する際に、磁極部の内部を通過する必要がある。このため、多くの光が磁極部に吸収され、散乱体から出射する近接場光の強度が低下する。したがって、磁気記録媒体では、磁界の印加位置が、所望の温度まで加熱されず、異方性磁界Ｈｋの低下の程度が小さくなり、その結果、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込み効率が低下していた。

開示の技術は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、磁気記録媒体に対する磁界の印加位置と近接場光の照射位置とのずれを解消すると共に、磁界の印加位置に強い近接場光を照射することができ、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込み効率を向上することができる磁気ヘッド、磁気記録装置及び磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本願の開示する磁気ヘッドは、一つの態様において、磁気記録媒体に対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドであって、光源からの光を近接場光として前記磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部と、前記近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、前記磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部とを有し、前記近接場光照射部は、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする。

この態様によれば、磁気記録媒体に対する磁界の印加位置と近接場光の照射位置とのずれを解消すると共に、磁界の印加位置に強い近接場光を照射することができ、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込み効率を向上することができる。

なお、本願の開示する磁気ヘッドの構成要素、表現または構成要素の任意の組合せを、方法、装置、システム、コンピュータプログラム、記録媒体、データ構造などに適用したものも上述した課題を解決するために有効である。

本願の開示する磁気記録媒体の製造方法の一つの態様によれば、磁気記録媒体に対する磁界の印加位置と近接場光の照射位置とのずれを解消すると共に、磁界の印加位置に強い近接場光を照射することができ、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込み効率を向上することができるという効果を奏する。

以下に添付図面を参照して、本願の開示する磁気ヘッド、磁気記録装置及び磁気ヘッドの製造方法の好適な実施の形態を詳細に説明する。

まず、図１を参照して、実施例１に係る磁気ヘッドを備えた磁気記録装置の構成について説明する。図１は、実施例１に係る磁気記録装置１の構成を示す外観図である。図１に示すように、磁気記録装置１は、磁気ディスク２と、磁気ヘッド３と、スライダ４と、サスペンションアーム５と、ロータリアクチュエータ６とを有する。

磁気ディスク２は、各種の磁気情報を高記録密度に記録する磁気記録媒体であり、図示しないスピンドルモータにより回転駆動される。

磁気ヘッド３は、スライダ４に搭載されており、磁気ディスク２に対して磁気情報の読み書きを行う。また、磁気ヘッド３は、磁気ディスク２の回転によって生じる揚力によって、磁気ディスク２の表面からわずかに浮いた状態を維持しつつ、磁気情報の読み書きを実行する。

なお、サスペンションアーム５は、スライダ４を支持し、ロータリアクチュエータ６は、サスペンションアーム５を磁気ディスク２の半径方向に駆動制御する。

次に、本実施例に係る磁気ヘッド３の構成について説明する。図２は、本実施例に係る磁気ヘッド３の縦断面図である。図３は、図２に示す磁気ヘッド３の底面図である。なお、図２では、図中の矢印の方向に回転している磁気ディスク２に、磁気ヘッド３が対向している状態を示している。図３では、磁気ヘッド３の磁気ディスク２に対向する面である媒体対向面９側から、磁気ヘッド３を見た態様を示している。また、磁気ディスク２は、非磁性材料からなる基板５２上に、軟磁性材料からなる裏打層５４及び磁性材料からなる記録層５６とを順次成膜したものとする。

本実施例に係る磁気ヘッド３は、図２に示すように、近接場光照射部１０と、磁極部１２と、コイル１４と、レーザ１６と、導波路部１８と、反射ミラー２０と、書き込みシールド部２２とを有する。なお、図示を省略するが、磁気ヘッド３は、上記の構成に加えて、磁気ディスク２から磁気情報を読み出すための磁気抵抗効果型素子（ＧＭＲ）又はトンネル磁気抵抗効果型素子（ＴＭＲ）を有している。また、上記の各部材間は、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３等の透光性材料により形成されているものとする。

近接場光照射部１０は、光源であるレーザ１６からの光を近接場光として磁気ディスク２に照射し、この磁気ディスク２を加熱する。また、近接場光照射部１０は、外観視で三角形状、より詳しくは、磁気ヘッド３の媒体対向面９に向かって先細りした形状の平板である。近接場光照射部１０の材料としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等、表面プラズモンを発生し得る金属材料が用いられる。ここで、表面プラズモンとは、光の照射された金属中で、自由電子が集団的に振動することにより生じる疎密波である。近接場光照射部１０は、レーザ１６からの光の照射を受けると、表面プラズモンを励起し、この表面プラズモンを、磁気ヘッド３の媒体対向面９側の端部である先端部１０ａから近接場光として磁気ディスク２に照射する。本実施例では、近接場光照射部１０の形状が三角形状であるため、近接場光照射部１０は、三角形の頂点である先端部１０ａから近接場光を照射する。この近接場光によって、磁気ディスク２が加熱される。

磁極部１２は、近接場光照射部１０によって加熱された磁気ディスク２に、磁気情報に応じた磁界を印加する。磁界は、磁極部１２の磁気ディスク２に対向する端面、すなわち、磁極部１２の媒体対向面９側の端面から、磁気ディスク２の記録層５６へ印加される。これにより、記録層５６に対する磁気情報の記録が行われる。磁極部１２の材料としては、例えば、ＦｅＮi，ＦｅＣｏ等、飽和磁束密度Ｂｓの比較的に大きい軟磁性材料が用いられる。

コイル１４は、図示しない電流供給回路に接続されており、この電流供給回路から供給される駆動電流によって、磁極部１２に所望の磁界を発生させる。

レーザ１６は、レーザ光を発生する熱アシスト用の光源であり、導波路部１８及び反射ミラー２０を介して、近接場光照射部１０へレーザ光を照射する。

導波路部１８は、レーザ１６からの光を、反射ミラー２０へと導くための光路である。導波路部１８は、磁気ディスク２の回転方向に磁極部１２と並列した状態で配置されている。導波路部１８は、一端から入射したレーザ１６からの光を他端側へ出射するコア部１８ａと、コア部１８ａの周囲を囲繞するクラッド部１８ｂとを有する。

反射ミラー２０は、導波路部１８から出射する光を反射し、近接場光照射部１０へと導く。反射ミラー２０の材料としては、ＡｌやＡｇ等が用いられる。書き込みシールド部２２は、磁気ディスク２に磁気情報を書き込む際に、磁極部１２から発する磁界を急峻に形成するための部材であり、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａの近傍に配設される。

このように構成された磁気ヘッド３では、特に、近接場光照射部１０は、磁極部１２の内部に埋設されている。より具体的には、近接場光照射部１０は、図３に示すように、磁極部１２の磁気ディスク２に対向する端面から、近接場光を照射する先端部１０ａを露出させた状態で、磁極部１２の内部に埋設されている。この態様では、近接場光照射部１０の先端部１０ａは、媒体対向面９側から見て、磁極部１２によって周囲を囲繞されている。上述したように、近接場光は、近接場光照射部１０の先端部１０ａから磁気ディスク２に照射され、磁界は、磁極部１２の磁気ディスク２に対向する端面、すなわち、磁極部１２の媒体対向面９側の端面から磁気ディスク２に照射される。したがって、近接場光照射部１０を磁極部１２の内部に埋設することによって、磁気ディスク２に対する磁極部１２による磁界の印加位置と、磁気ディスク２に対する近接場光照射部１０による近接場光の照射位置とをほぼ一致させることができる。

また、本実施例の磁気ヘッド３では、近接場光照射部１０は、近接場光を照射する先端部１０ａが、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａに近づく方向に、傾斜した状態で、磁極部１２の内部に埋設されている。近接場光照射部１０の傾斜によって、近接場光照射部１０の先端部１０ａは、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａの近傍に配置される。一般に、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａから放出される磁界は、磁極部１２の他の部分から放出される磁界よりも、磁気ディスク２の記録層５６におけるビットの磁化反転に大きく寄与する。近接場光照射部１０の先端部１０ａが、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａの近傍に配置されると、近接場光照射部１０の先端部１０ａからの近接場光は、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａの下方へ照射される。したがって、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａから放出される磁界の磁気ディスク２に対する印加位置に、近接場光照射部１０の先端部１０ａからの近接場光を直接的に照射することができる。その結果、磁気ディスク２の記録層５６におけるビットの磁化反転を安定的に実行できる。

なお、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａと磁極部１２のリーディング側縁部１２ｂとの幅Ｌ１が１００〜２００ｎｍであるとすると、近接場光照射部１０の先端部１０ａと磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａとの距離Ｌ２は、５０ｎｍ以下であることが好ましい。距離Ｌ２が、５０ｎｍを超える場合は、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａから放出される磁界の磁気ディスク２に対する印加位置と、近接場光照射部１０の先端部１０ａからの近接場光の照射位置とが大きくずれる。このため、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａから放出される磁界の磁気ディスク２に対する印加位置に、強い近接場光を照射することができない。したがって、近接場光照射部１０の先端部１０ａと磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａとの距離Ｌ２が、５０ｎｍ以下となるように、近接場光照射部１０の先端部１０ａを、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａの近傍に配置することが好ましい。

ところで、本実施例の磁気ヘッド３では、上述したように、近接場光照射部１０を磁極部１２の内部に埋設しているため、磁極部１２の体積が、近接場光照射部１０の体積分だけ減少している。磁極部１２の体積が減少すると、磁気ディスク２に対して磁極部１２の印加し得る磁界の絶対値が減少し、その結果、磁気ディスク２の記録層５６におけるビットの磁化反転が困難となる恐れがある。

そこで、かかる問題を解消すべく、本実施例の磁気ヘッド３では、磁極部１２を図３に示す構成とした。すなわち、図３に示すように、磁極部１２の磁気ディスク２に対向する端面の形状は、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａ及び磁極部１２のリーディング側縁部１２ｂをそれぞれ長辺及び短辺とした逆台形から、磁極部１２のリーディング側縁部１２ｂを底辺とした三角形を除外した形状である。磁極部１２の磁気ディスク２に対向する端面には、磁極部１２のリーディング側縁部１２ｂから磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａへ向かう方向に閉じたＶ状縁部１２ｃが形成されている。Ｖ状縁部１２ｃは、いわゆる形状エッジ効果により、磁気ディスク２の記録層５６に対して、斜め成分の磁界を印加する。斜め成分の磁界は、一般に、ビットの磁化反転を促進する。

このように、本実施例では、磁極部１２の磁気ディスク２に対向する端面の形状を上記の形状とすることにより、磁気ディスク２の記録層５６に対して、斜め成分の磁界を印加することができる。このため、磁極部１２の磁界の絶対値が減少した場合であっても、その減少分を斜め成分の磁界で補填することができ、その結果、磁気ディスク２の記録層５６におけるビットの磁化反転を安定的に実行することができる。

次に、本実施例に係る磁気ヘッド３の製造方法について説明する。図４−１〜図４−６は、本実施例に係る磁気ヘッド３の製造方法を説明するための図である。磁気ヘッド３の製造工程は、近接場光照射部形成工程と、磁極部形成工程とを含む。

近接場光照射部形成工程は、近接場光照射部１０を、透光性基板３２上に形成する工程であり、図４−１〜図４−４に示される。図４−１に示すように、近接場光照射部形成工程では、図示を省略するが、ＧＭＲやＴＭＲ等の磁気情報の読み出し用の素子、導波路部１８、反射ミラー２０等を、内部に形成した透光性基板３２を用意する。透光性基板３２の材質としては、Ａｌ_２Ｏ_３やＳｉＯ_２等の非磁性体を使用している。

次いで、図４−２に示すように、透光性基板３２にエッチングを施し、テーパ面３２ａを形成する。ここで、テーパ面３２ａは、後の工程で近接場光照射部１０を形成する部分である。したがって、テーパ面３２ａの傾斜角は、近接場光照射部１０の先端部が磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａに近づく方向に、近接場光照射部１０を傾斜させるように設定する。

次いで、図４−３に示すように、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等、表面プラズモンを発生し得る金属材料からなる金属膜３４を、透光性基板３２のテーパ面３２ａ側の面上に形成する。

次いで、図４−４に示すように、金属膜３４にエッチングを施し、三角形状の近接場光照射部１０を形成する。ここで、媒体対向面９から、近接場光照射部１０の先端部１０ａが露出するように、金属膜３４にエッチングを施す。同時に、透光性基板３２を加工して、不要部分を除去し、最終的に磁極部１２のＶ状縁部１２ｃを形成するためのテーパ面３２ａを形成する。このようにして、透光性基板３２上に、近接場光照射部１０が形成される。

近接場光照射部形成工程を終了すると、磁極部形成工程を実行する。磁極部形成工程は、磁極部１２を、この磁極部１２の内部に近接場光照射部１０を埋設した状態で、透光性基板３２上に形成する工程であり、図４−５〜図４−６に示される。

図４−５に示すように、磁極部形成工程では、例えば、ＦｅＮ、ＦｅＣｏ等、飽和磁束密度Ｂｓの比較的に大きい軟磁性材料からなる軟磁性膜３６を、近接場光照射部１０を覆うようにして、透光性基板３２上に形成する。軟磁性膜３６は、後の工程で磁極部１２となるものである。そして、軟磁性膜３６にイオンミリングを施すことによって、媒体対向面９に向かって先細り形状となるように、軟磁性膜３６を加工する。

次いで、図４−６に示すように、軟磁性膜３６に所定のレジストパターンをマスクとしたイオンミリングを施すことによって、不要部分を除去し、磁極部１２を形成する。ここで、近接場光照射部１０の先端部１０ａが、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａの近傍に配置されるように、イオンミリングを施す。なお、近接場光照射部１０の先端部１０ａと磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａとの距離については、既に述べたので説明を省略する。また、磁極部１２の媒体対向面９側の端面の形状が、磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａ及び磁極部１２のリーディング側縁部１２ｂをそれぞれ長辺及び短辺とした逆台形から、磁極部１２のリーディング側縁部１２ｂを底辺とした三角形を除外した形状となるように、イオンミリングを施す。このようにして、近接場光照射部１０を内部に埋設した状態で、磁極部１２が、透光性基板３２上に形成される。その後、コイル１４や書き込みシールド部２２が形成されることによって、最終的に、図２に示す磁気ヘッド３が完成する。

以上説明してきたように、本実施例に係る磁気ヘッド３では、近接場光照射部１０が、磁極部１２の内部に埋設されている。このため、磁気ディスク２に対する磁界の印加位置と近接場光の照射位置とのずれを解消すると共に、磁界の印加位置に強い近接場光を照射することができる。したがって、磁気ディスク２に対する磁界の印加位置を、所望の温度まで急速に加熱することができるため、磁気ディスク２の異方性磁界Ｈｋを確実に低下することができる。その結果、磁気ディスク２に対する磁気情報の書き込み効率を向上することができる。

特に、本実施例に係る磁気ヘッド３では、近接場光照射部１０は、近接場光を照射する先端部１０ａが磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａに近づく方向に、傾斜した状態で、磁極部１２の内部に埋設されている。このため、ビットの磁化反転に大きく寄与する磁界を放出する磁極部１２のトレーリング側縁部１２ａの下方へ、近接場光照射部１０の先端部１０ａからの近接場光を直接的に照射することができる。したがって、磁気ディスク２の記録層５６におけるビットの磁化反転を安定的に実行することができる。

次に、実施例２に係る磁気ヘッド７の構成について説明する。図５は、実施例２に係る磁気ヘッド７の縦断面図である。図６は、図５に示す磁気ヘッド７の底面図である。なお、図５では、図中の矢印の方向に回転している磁気ディスク２に、磁気ヘッド７が対向している状態を示している。図６では、磁気ヘッド７の磁気ディスク２に対向する面である媒体対向面９側から、磁気ヘッド７を見た態様を示している。

本実施例に係る磁気ヘッド７が実施例１に係る磁気ヘッド３と異なる点は、近接場光照射部１０と磁極部１２との間に、絶縁部２４が介設されている点である。その他の構成は、基本的に実施例１と同様であるので、図５及び図６にて図２及び図３と同一物には同一符号を付して、その詳しい説明を省略することとする。

絶縁部２４は、Ａｌ_２Ｏ_３やＳｉＯ_２等の非磁性体から形成されており、近接場光照射部１０と磁極部１２との間に介設されている。すなわち、近接場光照射部１０の、光源であるレーザ１６からの光を受ける面（受光面）と反対側の面に、この面を覆うように、絶縁部２４が配設されている。ここで、レーザ１６からの光の照射を受けたときに近接場光照射部１０で励起された表面プラズモンは、近接場光照射部１０の受光面と反対側の面から、磁極部１２へ漏洩することがある。絶縁部２４は、近接場光照射部１０で励起された表面プラズモンの磁極部１２への漏洩を遮断する。したがって、近接場光照射部１０で励起された表面プラズモンを無駄なく近接場光照射部１０の先端部１０ａへ集めることができ、より強度の強い近接場光を発生することができる。その結果、磁気ディスク２をより効率よく加熱することができ、磁気ディスク２に対する磁気情報の書き込み効率をさらに向上することができる。

次に、本実施例に係る磁気ヘッド７の製造方法について説明する。図７−１〜図７−４は、本実施例に係る磁気ヘッド７の製造方法を説明するための図である。本実施例に係る磁気ヘッド７の製造工程が実施例１と異なる点は、絶縁部２４を形成する工程を含む点である。その他の工程は基本的に実施例１と同様であるので、実施例１と同一の工程である図４−１〜図４−３にて既に説明した工程については、その詳しい説明を省略する。

本実施例に係る磁気ヘッド７の製造工程では、図４−３にて既に説明した工程を経た後、図７−１に示す工程を実行する。すなわち、近接場光照射部形成工程では、図７−１に示すように、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３やＳｉＯ_２等の非磁性体からなる絶縁膜３８を、金属膜３４上に形成する。

次いで、図７−２に示すように、金属膜３４及び絶縁膜３８にエッチングを施し、三角形状の近接場光照射部１０及び絶縁部２４をそれぞれ形成する。同時に、透光性基板３２を加工して、不要部分を除去し、最終的に磁極部１２のＶ状縁部１２ｃを形成するためのテーパ面３２ａを形成する。このようにして、透光性基板３２上に、近接場光照射部１０及び絶縁部２４がこの順序で形成される。

近接場光照射部形成工程を終了すると、磁極部形成工程を実行する。図７−３に示すように、磁極部形成工程では、例えば、ＦｅＮ、ＦｅＣｏ等、飽和磁束密度Ｂｓの比較的に大きい軟磁性材料からなる軟磁性膜３６を、絶縁部２４を介して、近接場光照射部１０を覆うようにして、透光性基板３２上に形成する。軟磁性膜３６は、後の工程で磁極部１２となるものである。そして、軟磁性膜３６にイオンミリングを施すことによって、媒体対向面９に向かって先細り形状となるように、軟磁性膜３６を加工する。

次いで、図７−４に示すように、軟磁性膜３６に所定のレジストパターンをマスクとしたイオンミリングを施すことによって、不要部分を除去し、磁極部１２を形成する。このようにして、近接場光照射部１０を内部に埋設した状態で、かつ、近接場光照射部１０と磁極部１２との間に、絶縁部２４を介設した状態で、磁極部１２が、透光性基板３２上に形成される。その後、コイル１４や書き込みシールド部２２が形成されることによって、最終的に、図５に示す磁気ヘッド７が完成する。

以上説明してきたように、本実施例に係る磁気ヘッド７では、近接場光照射部１０と磁極部１２との間に、非磁性体からなる絶縁部２４が介設されている。このため、近接場光照射部１０で励起された表面プラズモンを無駄なく近接場光照射部１０の先端部１０ａへ集めることができ、より強度の強い近接場光を発生することができる。その結果、磁気ディスク２をより効率よく加熱することができ、磁気ディスク２に対する磁気情報の書き込み効率をさらに向上することができる。

さて、これまで本発明の実施例について説明したが、本発明は上述した実施例以外にも、上記特許請求の範囲に記載した技術的思想の範囲内において種々の異なる実施例にて実施されてもよいものである。

例えば、上記実施例では、近接場光照射部１０の形状を、三角形状としたが、この形状に限らず、近接場光照射部１０に励起される表面プラズモンを、近接場光照射部１０の先端部１０ａに効率よく集めて、近接場光照射部１０の先端部１０ａからの近接場光の強度を向上し得る形状であれば如何なる形状であっても良い。

以上の実施例を含む実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。

（付記１）磁気記録媒体に対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドであって、
光源からの光を近接場光として前記磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部と、
前記近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、前記磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部とを有し、
前記近接場光照射部は、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする磁気ヘッド。

（付記２）前記近接場光照射部は、
前記近接場光を照射する先端部が前記磁極部のトレーリング側縁部に近づく方向に、傾斜した状態で、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする付記１に記載の磁気ヘッド。

（付記３）前記磁極部の前記磁気記録媒体に対向する端面の形状は、前記磁極部のトレーリング側縁部及び前記磁極部のリーディング側縁部をそれぞれ長辺及び短辺とした逆台形から、前記磁極部のリーディング側縁部を底辺とした三角形を除外した形状であることを特徴とする付記１又は２に記載の磁気ヘッド。

（付記４）前記近接場光照射部と前記磁極部との間に、非磁性体からなる絶縁部が介設されていることを特徴とする付記１〜３のいずれか１つに記載の磁気ヘッド。

（付記５）磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体に対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドとを有する磁気記録装置であって、
前記磁気ヘッドは、
光源からの光を近接場光として前記磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部と、
前記近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、前記磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部とを有し、
前記近接場光照射部は、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする磁気記録装置。

（付記６）前記近接場光照射部は、
前記近接場光を照射する先端部が前記磁極部のトレーリング側縁部に近づく方向に、傾斜した状態で、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする付記５に記載の磁気記録装置。

（付記７）前記磁極部の前記磁気記録媒体に対向する端面の形状は、前記磁極部のトレーリング側縁部及び前記磁極部のリーディング側縁部をそれぞれ長辺及び短辺とした逆台形から、前記磁極部のリーディング側縁部を底辺とした三角形を除外した形状であることを特徴とする付記５又は６に記載の磁気記録装置。

（付記８）前記近接場光照射部と前記磁極部との間に、非磁性体からなる絶縁部が介設されていることを特徴とする付記５〜７のいずれか１つに記載の磁気記録装置。

（付記９）磁気記録媒体に対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドの製造方法であって、
光源からの光を近接場光として前記磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部を、透光性基板上に形成する工程と、
前記近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、前記磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部を、当該磁極部の内部に前記近接場光照射部を埋設した状態で、前記透光性基板上に形成する工程と
を含む磁気ヘッドの製造方法。

実施例１に係る磁気記録装置の構成を示す外観図である。 実施例１に係る磁気ヘッドの縦断面図である。 図２に示す磁気ヘッドの底面図である。 実施例１に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例１に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例１に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例１に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例１に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例１に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例２に係る磁気ヘッドの縦断面図である。 図５に示す磁気ヘッドの底面図である。 実施例２に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例２に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例２に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 実施例２に係る磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。

符号の説明

１ 磁気記録装置
２ 磁気記録媒体（磁気ディスク）
３ 磁気ヘッド
７ 磁気ヘッド
９ 媒体対向面
１０ 近接場光照射部
１０ａ 先端部
１２ 磁極部
１２ａ トレーリング側縁部
１２ｂ リーディング側縁部
１６ 光源（レーザ）
２４ 絶縁部
３２ 透光性基板

Claims (5)

1. 磁気記録媒体に対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドであって、
   光源からの光を近接場光として前記磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部と、
   前記近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、前記磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部とを有し、
   前記近接場光照射部は、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 前記近接場光照射部は、
   前記近接場光を照射する先端部が前記磁極部のトレーリング側縁部に近づく方向に、傾斜した状態で、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。
3. 前記磁極部の前記磁気記録媒体に対向する端面の形状は、前記磁極部のトレーリング側縁部及び前記磁極部のリーディング側縁部をそれぞれ長辺及び短辺とした逆台形から、前記磁極部のリーディング側縁部を底辺とした三角形を除外した形状であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ヘッド。
4. 磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体に対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドとを有する磁気記録装置であって、
   前記磁気ヘッドは、
   光源からの光を近接場光として前記磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部と、
   前記近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、前記磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部とを有し、
   前記近接場光照射部は、前記磁極部の内部に埋設されていることを特徴とする磁気記録装置。
5. 磁気記録媒体に対して磁気情報の読み書きを行う磁気ヘッドの製造方法であって、
   光源からの光を近接場光として前記磁気記録媒体に照射し、当該磁気記録媒体を加熱する近接場光照射部を、透光性基板上に形成する工程と、
   前記近接場光照射部によって加熱された磁気記録媒体に、前記磁気情報に応じた磁界を印加する磁極部を、当該磁極部の内部に前記近接場光照射部を埋設した状態で、前記透光性基板上に形成する工程と
   を含む磁気ヘッドの製造方法。

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