JP2010119921A - 水素分離体及び水素分離体の製造方法 - Google Patents
水素分離体及び水素分離体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010119921A JP2010119921A JP2008293755A JP2008293755A JP2010119921A JP 2010119921 A JP2010119921 A JP 2010119921A JP 2008293755 A JP2008293755 A JP 2008293755A JP 2008293755 A JP2008293755 A JP 2008293755A JP 2010119921 A JP2010119921 A JP 2010119921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- titania
- hydrogen
- porous layer
- pores
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Abstract
【解決手段】表面がチタニア(TiO2)を主成分とするチタニア多孔質層5で構成された多孔質基材3の細孔20内にパラジウム溶液32が充填された状態で、チタニア多孔質層5の表面での紫外線31の照射光強度が0.1〜1000W/m2となるようにチタニア多孔質層5に対して紫外線31を照射し、紫外線31により惹起されたチタニア多孔質層5を構成するチタニアの光触媒作用により、パラジウム溶液32中のパラジウム又はパラジウムと他の金属成分を析出させることで、細孔20をパラジウム11又はパラジウム合金11の充填により閉塞させてパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を形成する工程を有する水素分離体1の製造方法を用いる。
【選択図】図7
Description
A‐1.本発明の水素分離体の概要:
本発明の水素分離体は、図1〜3の断面図にて示す水素分離体1のように、全て又は一部の表面がチタニア(TiO2)を主成分とするチタニア多孔質層5で構成されて細孔20を有する多孔質基材3に水素分離膜2が設けられたものである。さらに、この水素分離体1に設けられた水素分離膜2は、パラジウム11(Pd)又はパラジウムを含む合金11(以下、パラジウム合金11)からなり、図3を参照して説明すると、チタニア多孔質層5の表面上を被覆率99%以下にて堆積する堆積部8と、チタニア多孔質層5の少なくとも表面から深さ0.1μmまでのチタニア多孔質層5の細孔20がパラジウム11又はパラジウム合金11の充填により閉塞されている構造の充填部9とにより構成されるパラジウム‐チタニア複合膜4からなる。
以下、本発明の水素分離体を構成する各要素について詳しく説明する。まず、「多孔質基材」と「チタニア多孔質層」について説明した後、この多孔質基材の表層に形成される「水素分離膜」について説明する。
本発明の水素分離体1を構成する多孔質基材3は、微細な細孔20を有する材質からなり、チタニア多孔質層5と基盤層6から構成される(図1及び2)。この多項質基材3は、チタニア多孔質層5が配設された側の面から反対側の面まで三次元的に連続した細孔20を有する。なお、基盤層6は、チタニアを主成分とする多孔質体から構成されてもよく、この場合の多孔質基材3は、チタニア多孔質5と基盤層6とが同質のものとなる。
多孔質基材3の基盤層6は、原料流体とその生成物又は水素を内部に流通させるものであれば特に限定されないが(図2参照)、耐食性や耐熱性などに優れているため、セラミック及び/又は金属を主成分とすることが好ましい。
本発明の水素分離体1を構成する多孔質基材3は、その全部又は一部の表面がチタニア多孔質層5から構成される(図1及び2)。チタニア多孔質層5は、チタニア(酸化チタン、TiO2)を主成分とする多孔質構造である。
本発明の水素分離体1が備える水素分離膜2は、多孔質基材3のチタニア多孔質層5の表面7上にパラジウム11又はパラジウム合金11が堆積した堆積部8と、多孔質基材3のチタニア多孔質層5の表層の細孔20がパラジウム11又はパラジウム合金11の充填によって閉塞されている構造の充填部9とからなるパラジウム‐チタニア複合膜4から構成される(図3)。
B‐1.本発明の水素分離体の製造方法の概要:
本発明の水素分離体の製造方法は、図6に示される状態から図7に示される状態への変遷にてあらわすように、表面がチタニア(TiO2)を主成分とするチタニア多孔質層5で構成された多孔質基材3の細孔20内にパラジウム溶液32が充填された状態で、チタニア多孔質層5の表面での紫外線31の照射光強度が0.1〜1000W/m2となるようにチタニア多孔質層5に対して紫外線31を照射し、紫外線31により惹起されたチタニア多孔質層5を構成するチタニアの光触媒作用により、パラジウム溶液32中のパラジウム又はパラジウムと他の金属成分を析出させて、細孔20をパラジウム11又はパラジウム合金11の充填により閉塞させることでパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を形成する工程を有する。
TiO2+hν→TiO2(e−+h+)
4TiO2(e−+h+)+2H2O→4TiO2(e−)+4H++O2
2TiO2(e−)+PdCl2(Pd2++2Cl−)→2TiO2+Pd+2Cl−
本発明の水素分離体の製造方法において、図1の断面図にて示される水素分離体1から理解されるように、チタニア多孔質から構成されない基盤層6を用いる場合、基盤層6の全部又は一部の表面にチタニア多孔質層5を形成する必要がある。
本発明の水素分離体の製造方法では、図6及び7の模式図にて示されるように、パラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2の主成分の1つであるパラジウム11又はパラジウム合金11の原料が、パラジウム溶液32から供給される。
本発明の水素分離体の製造方法において、パラジウムのみをチタニアの光触媒作用で析出させる場合、パラジウム溶液32は、例えば、塩化パラジウム(PdCl2)、硝酸パラジウム(Pd(NO3)2)、酢酸パラジウム(Pd(OAc)2)等の水溶性のパラジウム塩を水等の溶媒に溶解させて得ることができる。
本発明の水素分離体の製造方法において、チタニア多孔質層5の細孔を閉塞するために充填するパラジウム合金11は、パラジウムと他の金属を析出させた後に生成させる。そのため、パラジウム合金11を析出させる場合、パラジウム溶液32は、パラジウムと「他の金属」が溶解したものを用いる。なお、本明細書においては、パラジウム溶液32からパラジウムと他の金属を析出させた後に、熱処理によってパラジウム合金11を生成させる場合も、「パラジウム合金11を析出させる」と表記する。以下では、「他の金属」を銀(Ag)とするいわゆるパラジウムと銀の合金(以下、Pd‐Ag合金)を析出させる場合を例に挙げて、パラジウム合金11を析出させる手法を説明する。
本発明の水素分離体の製造方法では、上述のように調製したパラジウム溶液32をチタニア多孔質層5の細孔20内に充填する。このパラジウム溶液32の充填には、多孔質基材3をパラジウム(Pd)のイオンが溶解したパラジウム溶液32に浸漬する手法、又は、チタニア多孔質層5の表面にパラジウム溶液32を塗布する手法のいずれを採用してもよい。
本発明の水素分離体の製造方法では、図6の模式図にて示される状態となるように、パラジウム溶液32に多孔質基材3を浸漬する場合、少なくともパラジウム溶液32を充填するチタニア多孔質層5の細孔20がパラジウム溶液32に浸漬されるようにすればよい。例えば、パラジウム溶液32を入れた浴槽を用意し、ここに多孔質基材3を浸漬する。更に、チタニア多孔質層5の細孔20へパラジウム溶液32が完全に浸透するように、多孔質基材3がパラジウム溶液32に浸漬された状態で真空脱気操作を行うことが好ましい。
パラジウム溶液32をチタニア多孔質層5の表面に塗布する場合、チタニア多孔質層5の表面に対して適当量のパラジウム溶液32をスプレーなどで吹き付けるあるいは刷毛などで塗りつければよい。上述のいずれの手法を採用する場合でも、パラジウム溶液32をチタニア多孔質層5の表面に塗布する際には、チタニア多孔質層5の細孔20内にパラジウム溶液3を充填するだけの液量、さらには紫外線31の照射時までに水分が十分保たれる液量となるように留意する。
本発明の水素分離体の製造方法では、図6の模式図にて示されるように、上述の手法を経てパラジウム溶液32が細孔20内に充填されているチタニア多孔質層5に対して紫外線31を照射する。この紫外線31の照射によって、チタニア多孔質層5のチタニア基材粒子12の主成分であるチタニアでは、上述の反応を担う光触媒作用が惹起される。このチタニアの光触媒作用によって、図6にて示される状態から図7にて示される状態への変遷から理解されるように、チタニア多孔質層5の細孔20内では、パラジウム溶液32中のパラジウム又はパラジウムと他の金属とが析出することで、パラジウム11又はパラジウム合金11が細孔20内に充填されて、細孔20が閉塞する。これにより、チタニア多孔質層5に、パラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2が形成される。
本発明の水素分離体の製造方法では、上述の手法によってパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を形成した後、このパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を300〜600℃で1〜100時間熱処理を行うことが好ましい。
以上に述べた本発明の水素分離体の製造方法によって、図1〜3の断面図にて示される水素分離体1のように、全て又は一部の表面がチタニア(TiO2)を主成分とするチタニア多孔質層5で構成されて細孔を有する多孔質基材3に水素分離膜2が設けられた水素分離体1であり、この水素分離膜2が、パラジウム(Pd)又はパラジウムを含む合金からなり、前記チタニア多孔質層の表面上を被覆率99%以下にて堆積する堆積部と、前記チタニア多孔質層の少なくとも前記表面から深さ0.1μmまでの前記チタニア多孔質層の前記細孔がパラジウム又はパラジウムを含む合金の充填により閉塞されている構造の充填部とにより構成されるパラジウム‐チタニア複合膜からなるものを得ることができる。この製造方法で得られる水素分離体1は、先に「水素分離体」の説明で詳しく述べた、膜厚が薄く且つ低温使用時にも水素脆化による欠陥が生じにくいパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を有する。
外径10mm、長さ100mmの多孔質アルミナ支持体(基盤層6)(平均細孔径0.1μm)の表面に、チテンテトライソプロポキシドを原料として用いたゾル−ゲル法によって作製したゾルを塗布し450℃で焼成することによって、まず、平均細孔径20nmとなるチタニア多孔質層5を形成した。さらにこの平均細孔径20nmとなるチタニア多孔質層5の上に平均細孔径3nmとなるチタニア多孔質層5(膜厚0.2μm)を形成することで、多孔質基材3を作製した(図1、図5中の符号1)。続いて、水を溶媒としメタノールを添加したパラジウム溶液32(塩化Pd:0.003mol/L,メタノール:30vol%)の入った浴槽にこの多孔質基材3を設置することで、多孔質基材3をパラジウム溶液32に浸漬した。パラジウム溶液32の入った浴槽に配置された状態でUVランプ(東芝社製、品番GL4−A)を用いてチタニア多孔質層5が配設されている側の多孔質基材3の周囲から紫外線31(波長254nm)を3.5時間照射し、パラジウムを析出させた。これにより、チタニア多孔質層5の表層の細孔20がパラジウムの充填により閉塞されている構造の充填部9を有するパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を備える水素分離体1を作製した。多孔質基材3のチタニア多孔質層5の表面での紫外線31の照射光強度は200W/m2であった。この水素分離体1を水素分離装置21に設置する際には、水素分離体1の両端を金属製の封止部材26で封止した(図5)。なお、この封止部材26の一方の端部に用いたものは、水素分離膜2を透過した水素を抽出できるように開口部を備えたものとした。
実施例1と同様の手順で作製した水素分離体1を、さらに空気中450℃で20時間の熱処理をして、実施例2の水素分離体1を得た。
(実施例3)
水を溶媒とし、メタノールを添加した銀を含むパラジウム溶液32(硝酸Pd:0.003mol/L,硝酸Ag:0.001mol/L,メタノール:30vol%)を用いた以外は、実施例1と同様の手順により、チタニア多孔質層5の細孔20がPdとAgの充填により閉塞されている構造からなる充填部9から構成されるパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を備える水素分離体1を作製した。この水素分離体1を、さらに空気中450℃で20時間の熱処理をして、実施例3の水素分離体1を得た。
チタニア多孔質層5の表面での紫外線31の照射光強度を2000W/m2とした以外は、実施例1と同様にして水素分離体1の作製を行い、比較例1の水素分離体1を得た。
実施例1においてパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を形成する前の多孔質基材3(チタニア多孔質層5が形成されたのみ、図6参照)を比較例2の水素分離体1とした。
実施例1,3及び比較例1の水素分離膜1について、電子顕微鏡を用いて微構造の観察を行った。その結果、実施例1の水素分離体1では、チタニア多孔質層5の細孔20内にパラジウム11(実施例1)もしくはPd‐Ag合金(実施例3)が析出しており、パラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2がチタニア多孔質層5の表層部に形成されていた(図9は実施例1の電子顕微鏡写真)。これらのパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2は、パラジウムもしくはPd‐Ag合金とチタニアとが複合化して緻密化していた。一方で、比較例1の水素分離体1では、チタニア多孔質層5の最表層上に非常に薄く緻密なパラジウム膜が形成されていた(電子顕微鏡による観察データは示さず、図8参照)。
(2‐1)ガス透過試験の手順:
実施例1〜3、比較例1,2の水素分離体1を用いてガス透過試験を行った。ガス透過試験は以下の手順で実施した。両端を金属製の封止部材26で封止した水素分離体1をステンレス反応容器22中に保持し、反応容器22を加熱することによって、水素分離体1を窒素雰囲気中で200℃まで昇温した。その後、大気圧(0.1MPa)の純水素及び純窒素を個別に反応容器22に導入し、水素分離体1の内側を真空ポンプで減圧(10−3MPa)とした際の、水素分離膜2(比較例2ではチタニア多孔質層5のみを有する多孔質基材3)を透過したガスの流量を測定することによって透過特性(水素選択性)の評価を行った。測定結果を表1に示す。
実施例1〜3、比較例2の水素分離体1は、200℃でのガス透過試験において試験時のガス透過量は安定していた。一方、比較例1の水素分離体1は、200℃で純水素の透過試験を行った際に急激な水素透過量の増加が観察され、最終的に表1に示す値に落ちついた。電子顕微鏡による観察から、比較例1の水素分離体1では水素透過試験によって、パラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2の破断が起こっていることが確認された。
実施例1と実施例2とを比較すると、実施例2の方が水素/窒素透過率比(水素選択性)が高い結果となった(実施例1:水素/窒素透過率比 5.2、実施例2:水素/窒素透過率比 29)。この結果の理由としては、紫外線照射の後に450℃で熱処理することにより、実施例2の水素分離体のパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2では膜内にわずかに存在した粒界細孔が閉塞されているため、実施例2の水素/窒素透過率比(水素選択性)の方が高い値を示したと考えられる。
実施例1〜3では水素選択比が5以上の値を示した。特に紫外線31の照射によるパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2の形成後に熱処理を行った実施例2,3では、水素選択比が21〜29と良好であった。パラジウムを成分に含む水素分離膜を備えた水素分離体では、水素分離膜の水素脆化を防止するために、通常350℃以上の条件下で水素透過を実施する。実施例1〜3の水素分離体1では、通常では水素脆化が懸念されている低温域にある200℃で水素透過を実施しても安定した水素分離性能を示した。なお、比較例1の水素分離体1の水素分離膜2の破断は200℃の条件下での水素脆化に起因するものと推察される。パラジウム‐チタニア複合膜からなる水素分離膜においては、パラジウムがチタニア多孔質層の細孔中に閉塞された形で保持されるため、200℃で水素に晒された場合でも、水素の吸蔵によるパラジウムの膨張が抑制される。そのため、パラジウムの膨張・収縮によって引き起こされる水素脆化による膜の欠陥が生じににくくなると推察される。従来の水素分離膜では、多孔質基材上にパラジウム膜が存在するため、200℃で水素に晒された場合、パラジウムの膨張・収縮が容易に起こり、水素脆化によって膜に欠陥が生じる。以上から、本発明の水素分離体の製造方法により得られた水素分離体1(本発明の水素分離体1)は、薄い膜厚であり且つ低温使用時にも水素脆化による欠陥が生じにくい非常に優れたパラジウム‐チタニア複合膜4からなる水素分離膜2を備えたものであることが実際に確かめられた。
Claims (6)
- 全て又は一部の表面がチタニア(TiO2)を主成分とするチタニア多孔質層で構成されて細孔を有する多孔質基材に水素分離膜が設けられ、
前記水素分離膜は、パラジウム(Pd)又はパラジウムを含む合金からなり、前記チタニア多孔質層の表面上を被覆率99%以下にて堆積する堆積部と、前記チタニア多孔質層の少なくとも前記表面から深さ0.1μmまでの前記チタニア多孔質層の前記細孔がパラジウム又はパラジウムを含む合金の充填により閉塞されている構造の充填部とにより構成されるパラジウム‐チタニア複合膜からなる、水素分離体。 - 前記充填部の厚さが0.1〜0.5μmである、請求項1に記載の水素分離体。
- 前記チタニア多孔質層の表層の細孔径が0.5〜30nmである、請求項1又は2に記載の水素分離体。
- 表面がチタニア(TiO2)を主成分とするチタニア多孔質層で構成された多孔質基材の細孔内にパラジウム溶液が充填された状態で、前記チタニア多孔質層の表面での紫外線の照射光強度が0.1〜1000W/m2となるように前記チタニア多孔質層に対して紫外線を照射し、前記紫外線により惹起された前記チタニア多孔質層を構成するチタニアの光触媒作用により、前記パラジウム溶液中のパラジウム又はパラジウムと他の金属成分を析出させて、前記細孔を前記パラジウム又はパラジウム合金の充填により閉塞させてパラジウム‐チタニア複合膜からなる水素分離膜を形成する工程を有する、水素分離体の製造方法。
- 前記紫外線が、200〜380nmの波長の光を含む、請求項4に記載の水素分離体の製造方法。
- 前記水素分離膜の形成後、前記水素分離膜に対して300〜600℃で1〜100時間の熱処理を行う工程を有する、請求項4又は5に記載の水素分離体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008293755A JP5405087B2 (ja) | 2008-11-17 | 2008-11-17 | 水素分離体及び水素分離体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008293755A JP5405087B2 (ja) | 2008-11-17 | 2008-11-17 | 水素分離体及び水素分離体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010119921A true JP2010119921A (ja) | 2010-06-03 |
JP5405087B2 JP5405087B2 (ja) | 2014-02-05 |
Family
ID=42321742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008293755A Active JP5405087B2 (ja) | 2008-11-17 | 2008-11-17 | 水素分離体及び水素分離体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5405087B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012141492A2 (ko) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
JP2016059902A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 東京瓦斯株式会社 | 水素分離装置および水素分離方法 |
KR20170028342A (ko) * | 2017-03-02 | 2017-03-13 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
KR101776222B1 (ko) * | 2017-03-02 | 2017-09-07 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
CN109628898A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-04-16 | 有研工程技术研究院有限公司 | 一种多孔载体表面钯银/氧化钛复合薄膜及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000117072A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-25 | Korea Res Inst Of Chem Technol | 無機複合膜の製造方法 |
JP2005013853A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離体及びその製造方法 |
JP2006181568A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-07-13 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離体及びその製造方法 |
JP2006265076A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素精製分離方法 |
JP2008212872A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Osaka Univ | 触媒およびその製造方法ならびに過酸化水素の製造方法 |
-
2008
- 2008-11-17 JP JP2008293755A patent/JP5405087B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000117072A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-25 | Korea Res Inst Of Chem Technol | 無機複合膜の製造方法 |
JP2005013853A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離体及びその製造方法 |
JP2006181568A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-07-13 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離体及びその製造方法 |
JP2006265076A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素精製分離方法 |
JP2008212872A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Osaka Univ | 触媒およびその製造方法ならびに過酸化水素の製造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6012042836; Journal of Membrane Science Vol.282, 2006, pp.1-6 * |
JPN6012042838; Desalination Vol.192, 2006, pp.117-124 * |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012141492A2 (ko) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
WO2012141492A3 (ko) * | 2011-04-14 | 2013-03-07 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
US20140127093A1 (en) * | 2011-04-14 | 2014-05-08 | Sogang University Research Foundation | Hydrogen ion transport membrane, membrane for generating hydrogen, and method for manufacturing same |
US9186621B2 (en) * | 2011-04-14 | 2015-11-17 | Sogang University Research Foundation | Hydrogen ion transport membrane, membrane for generating hydrogen, and method for manufacturing same |
JP2016059902A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 東京瓦斯株式会社 | 水素分離装置および水素分離方法 |
KR20170028342A (ko) * | 2017-03-02 | 2017-03-13 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
KR101724547B1 (ko) | 2017-03-02 | 2017-04-07 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
KR101776222B1 (ko) * | 2017-03-02 | 2017-09-07 | 서강대학교산학협력단 | 수소 이온 수송 멤브레인, 수소 생성용 멤브레인, 및 이의 제조 방법 |
CN109628898A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-04-16 | 有研工程技术研究院有限公司 | 一种多孔载体表面钯银/氧化钛复合薄膜及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5405087B2 (ja) | 2014-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7727596B2 (en) | Method for fabricating a composite gas separation module | |
JP4959804B2 (ja) | ガス分離膜システムおよびナノスケール金属材料を使用してこれを作製する方法 | |
Ma et al. | Thin composite palladium and palladium/alloy membranes for hydrogen separation | |
JP5405087B2 (ja) | 水素分離体及び水素分離体の製造方法 | |
US7255726B2 (en) | Composite gas separation modules having high Tamman temperature intermediate layers | |
US20040237779A1 (en) | Composite gas separation modules having intermediate porous metal layers | |
Ayturk et al. | Synthesis of composite Pd-porous stainless steel (PSS) membranes with a Pd/Ag intermetallic diffusion barrier | |
US20040237780A1 (en) | Method for fabricating composite gas separation modules | |
US8366805B2 (en) | Composite structures with porous anodic oxide layers and methods of fabrication | |
US20090277331A1 (en) | Hydrogen separation composite membrane module and the method of production thereof | |
US20090120293A1 (en) | Method of making a leak stable gas separation membrane system | |
EP1603660B1 (en) | Method for curing defects in the fabrication of a composite membrane gas separation module | |
JP7212618B2 (ja) | 膜反応器用の高度な二重スキン膜 | |
CN104010719B (zh) | 使用机械表面活化制备钯-银合金气体分离膜的方法 | |
JP2006265076A (ja) | 水素精製分離方法 | |
JP2011206629A (ja) | 無欠陥化水素分離膜、無欠陥化水素分離膜の製造方法及び水素分離方法 | |
JP2009022843A (ja) | 高耐久性水素分離膜及びその製造方法 | |
WO2008041969A2 (en) | Gas-selective permeable membrane system, and method of its production | |
TWI442966B (zh) | 多孔基材及無機選擇膜製造方法 | |
JP6561334B2 (ja) | 水素分離膜の製造方法 | |
WO2005075060A1 (en) | Composite structure for high efficiency hydrogen separation and its associated methods of manufacture and use | |
JP2005118767A (ja) | 水素選択性ガス分離膜、水素選択性ガス分離材及びこれらの製造方法 | |
JP2015147208A (ja) | 水素分離膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110817 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120321 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120821 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121022 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130723 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130912 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131008 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131030 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5405087 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |