JP2010118682A - セラミックス回路基板 - Google Patents
セラミックス回路基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010118682A JP2010118682A JP2010014396A JP2010014396A JP2010118682A JP 2010118682 A JP2010118682 A JP 2010118682A JP 2010014396 A JP2010014396 A JP 2010014396A JP 2010014396 A JP2010014396 A JP 2010014396A JP 2010118682 A JP2010118682 A JP 2010118682A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit board
- metal
- ceramic
- thickness
- ceramic circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Abstract
【解決手段】セラミックス基板上に複数の金属回路板が設けられ、このセラミックス基板の反対面側には前記金属回路板と同一の金属から構成された金属板が設けられてなるセラミックス回路基板であって、前記セラミックス回路基板が前記金属回路板側に凸状形状に反っており、(イ)前記金属回路板の厚さが0.25〜1mmであり、(ロ)前記金属板の厚さが前記金属回路板の厚さの0.5〜0.8倍であり、(ハ)その反り量が前記セラミックス回路基板の長手方向の長さの0.15〜0.30%であることを特徴とする、セラミックス回路基板。
【選択図】図1
Description
セラミックス回路基板を例えば産業用機械などに搭載する場合には特に高い実装信頼性が要求されるが、上記理由によりこの要求を満たすことは容易ではなかった。
図1は、本発明によるセラミックス回路基板の好ましい一具体例の断面を示すすものである。このセラミックス回路基板1は、セラミックス基板2上に金属回路板3が設けられ、このセラミックス基板1の前記金属回路板3の反対面側には金属板4が設けられてなるものであり、このセラミックス回路板1は、前記金属回路板3側に凸状形状に反っており、その反り量Aは前記セラミックス回路基板の長手方向の長さBの0.15〜0.30%となっている。このように反り量Aは金属回路板を接合後の反り量を示すものである。セラミックス回路基板の長手方向とは、セラミックス基板の縦横に対し長い方を示すものである。また、セラミックス回路基板の長手方向の長さBとは接合後のセラミックス基板の端部から端部までの距離を示すものである。このとき簡易的には金属回路板接合前の実質的に反りがないセラミックス基板の長手方向の長さを長さBとして適用してもよい。なぜなら本発明は(反り量A/セラミックス回路基板の長手方向の長さB)×100が0.15〜0.30%と小さいからであり実測においての影響は少ないからである。
表1に示した材質を主成分とするセラミックス基板の縦50mm×横50mm×厚さ0.635mm、金属回路板を縦30mm×横10mm×厚さ0.25mmの銅板を2枚(接合時の間隔は1mm)、裏金属板を縦40mm×横40mm×厚さ0.20mmの銅板とし、直接接合法または活性金属法により所定の反り量Aを有するセラミックス回路基板を作製した。
次に金属回路板と裏金属板の厚さおよび面積率とを関係を検討する。縦60mm×横40mm×厚さ0.8mmの酸化アルミニウム基板を用意した。これに対し、板厚および面積率[(面積(1)/面積(2))×100(%)]を表2のように変えたときの反り量を測定した。
表2から分かる通り、金属回路板の厚さ>裏金属板の厚さ、(金属回路板の面積(1)/裏金属板の面積(2))×100(%)=50〜95%のものは、(反り量A/基板の長手方向の長さB)×100(%)を0.15〜0.30(%)にできることが判明した。
それに対し、比較例4のものは裏金属板側に凸状に反ってしまい反りが発生する方向が逆になってしまった。
セラミックス基板として、窒化アルミニウム基板(厚さ0.635mm)と窒化珪素基板(厚さ0.35mm)を用意した。金属回路板(厚さ0.35mm)および裏金属板(厚さ0.25mm)としてAl‐6wt%Si合金板を用意した。
本発明によるセラミックス回路基板は、電子素子が実装される金属回路板側に凸状形状に反っており、その反り量が前記セラミックス回路基板の長手方向の長さの0.15〜0.30%であることから、電子素子の実装時のはんだフロー性が良好になり、はんだが金属回路板上で局在化するのが抑制される。
2 セラミックス基板
3 金属回路板
4 金属板(裏金属板)
A 反り量
B セラミックス回路基板の長手方向の長さ
Claims (6)
- セラミックス基板上に複数の金属回路板が設けられ、このセラミックス基板の反対面側には前記金属回路板と同一の金属から構成された金属板が設けられてなるセラミックス回路基板であって、前記セラミックス回路基板が前記金属回路板側に凸状形状に反っており、
(イ)前記金属回路板の厚さが0.25〜1mmであり、(ロ)前記金属板の厚さが前記金属回路板の厚さの0.5〜0.8倍であり、(ハ)その反り量が前記セラミックス回路基板の長手方向の長さの0.15〜0.30%であることを特徴とする、セラミックス回路基板。 - 前記の複数の金属回路板の面積が前記金属板の面積の40〜95%である、請求項1に記載のセラミックス回路基板。
- 前記金属回路板上にはんだを介して電子素子を実装するためのものである、請求項1または2に記載のセラミックス回路基板。
- 前記セラミックス基板が、窒化アルミニウム、窒化珪素、酸化アルミニウム、および酸化アルミニウムと酸化ジルコニウムとの化合物のいずれかからなるものである、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のセラミックス回路基板。
- 前記金属回路板が、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金の少なくとも1種からなるものである、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載のセラミックス回路基板。
- 前記金属回路板が2枚または3枚である、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載のセラミックス回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010014396A JP5047315B2 (ja) | 2010-01-26 | 2010-01-26 | セラミックス回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010014396A JP5047315B2 (ja) | 2010-01-26 | 2010-01-26 | セラミックス回路基板 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000272045A Division JP4557398B2 (ja) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | 電子素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010118682A true JP2010118682A (ja) | 2010-05-27 |
JP5047315B2 JP5047315B2 (ja) | 2012-10-10 |
Family
ID=42306097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010014396A Expired - Fee Related JP5047315B2 (ja) | 2010-01-26 | 2010-01-26 | セラミックス回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5047315B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150041187A1 (en) * | 2012-03-19 | 2015-02-12 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Manufacturing method of radiator-integrated substrate and radiator-integrated substrate |
US10109555B2 (en) | 2015-02-02 | 2018-10-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Silicon nitride circuit board and electronic component module using the same |
US10160690B2 (en) | 2015-09-28 | 2018-12-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Silicon nitride circuit board and semiconductor module using the same |
WO2019039883A1 (ko) * | 2017-08-24 | 2019-02-28 | 주식회사 아모센스 | 세라믹 기판 제조방법 및 세라믹 기판 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06275923A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-09-30 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 銅回路を有する窒化アルミニウム基板 |
-
2010
- 2010-01-26 JP JP2010014396A patent/JP5047315B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06275923A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-09-30 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 銅回路を有する窒化アルミニウム基板 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150041187A1 (en) * | 2012-03-19 | 2015-02-12 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Manufacturing method of radiator-integrated substrate and radiator-integrated substrate |
US9474146B2 (en) * | 2012-03-19 | 2016-10-18 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Manufacturing method of radiator-integrated substrate and radiator-integrated substrate |
US10109555B2 (en) | 2015-02-02 | 2018-10-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Silicon nitride circuit board and electronic component module using the same |
US10366938B2 (en) | 2015-02-02 | 2019-07-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Silicon nitride circuit board and electronic component module using the same |
US10160690B2 (en) | 2015-09-28 | 2018-12-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Silicon nitride circuit board and semiconductor module using the same |
WO2019039883A1 (ko) * | 2017-08-24 | 2019-02-28 | 주식회사 아모센스 | 세라믹 기판 제조방법 및 세라믹 기판 |
US11355355B2 (en) | 2017-08-24 | 2022-06-07 | Amosense Co., Ltd. | Method for producing ceramic substrate, and ceramic substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5047315B2 (ja) | 2012-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5598522B2 (ja) | 回路基板及びこれを用いた半導体モジュール、回路基板の製造方法 | |
JP4969738B2 (ja) | セラミックス回路基板およびそれを用いた半導体モジュール | |
JP5871081B2 (ja) | 接合体、パワーモジュール用基板、パワーモジュール、及び、接合体の製造方法 | |
JP6319643B2 (ja) | セラミックス−銅接合体およびその製造方法 | |
JP6742073B2 (ja) | セラミックス回路基板 | |
JP2016208010A (ja) | 接合体、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク、及び、接合体の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンクの製造方法 | |
JP6670240B2 (ja) | セラミックス回路基板及びその製造方法 | |
JP2011129880A (ja) | 電子機器用放熱板およびその製造方法 | |
JP2015062953A (ja) | 接合体及びパワーモジュール用基板 | |
JP2014112732A (ja) | ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール | |
JP5047315B2 (ja) | セラミックス回路基板 | |
JP2016051778A (ja) | 金属−セラミックス接合基板 | |
JP3834351B2 (ja) | セラミックス回路基板 | |
JP4360847B2 (ja) | セラミック回路基板、放熱モジュール、および半導体装置 | |
JP4557398B2 (ja) | 電子素子 | |
JP6904094B2 (ja) | 絶縁回路基板の製造方法 | |
JP3887645B2 (ja) | セラミックス回路基板の製造方法 | |
JP2004253736A (ja) | ヒートスプレッダモジュール | |
JP2008147309A (ja) | セラミックス基板およびこれを用いた半導体モジュール | |
JP5016756B2 (ja) | 窒化物系セラミックス部材と金属部材の接合体およびそれを用いた窒化物系セラミックス回路基板 | |
JP2017065935A (ja) | セラミックス回路基板 | |
JPH08102570A (ja) | セラミックス回路基板 | |
JP2006229247A (ja) | 回路基板及びその製造方法 | |
JP3833410B2 (ja) | セラミックス回路基板 | |
JP2013149912A (ja) | 配線基板および電子装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111118 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120622 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120717 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150727 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5047315 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |