JP2010115132A - ルシフェリン−ルシフェラーゼ反応における発光強度の低下を抑制するための組成物及び方法 - Google Patents
ルシフェリン−ルシフェラーゼ反応における発光強度の低下を抑制するための組成物及び方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】少なくとも1種のアニオン性界面活性剤を含む、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制するための組成物、及びアニオン性界面活性剤の存在下でウミホタルルシフェラーゼとルシフェリンとを反応させることを特徴とする、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制する方法。
【選択図】なし
Description
項1.少なくとも1種のアニオン性界面活性剤を含む、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制するための組成物。
項2.更に、少なくとも1種非イオン性の界面活性剤を含む、項1に記載の組成物。
項3.該アニオン性界面活性剤がドデシル硫酸ナトリウムである、項1に記載の組成物。
項4.該非イオン性界面活性剤がポリエチレングリコール−p−オクチルフェニルエーテル(NP−40)及び/又はポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(Triton X−100)である、項1に記載の組成物。
項5.少なくとも1種のアニオン性界面活性剤の存在下でウミホタルルシフェラーゼとルシフェリンとを反応させることを特徴とする、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制する方法。
項6.ウミホタルルシフェラーゼとルシフェリンとの反応において、少なくとも1種の非イオン性界面活性剤がさらに存在することを特徴とする、項5に記載の方法。
項7.該アニオン性界面活性剤が、ドデシル硫酸ナトリウムである、項5に記載の方法。
項8.非イオン性の界面活性剤がポリエチレングリコール−p−オクチルフェニルエーテル(NP−40)及び/又はポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(Triton X−100)である、項6に記載の方法。
項9.アニオン性界面活性剤を含む、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下抑制剤。
10ng/mlのウミホタルルシフェラーゼを含む、8種類のTris-HCl緩衝液(0.1M)を下記に従って、調製した。
緩衝液1:0.1 M Tris-HCl pH7.4
緩衝液2:0.1 M Tris-HCl pH7.4 , 0.2wt% Triton X-100
緩衝液3:0.1 M Tris-HCl pH7.4 , 0.2wt% NP-40
緩衝液4:0.1 M Tris-HCl pH7.4 , 0.2wt% SDS
緩衝液5:0.1 M Tris-HCl pH7.4 , 0.2wt% SDS , 0.2wt% Triton X-100
緩衝液6:0.1 M Tris-HCl pH7.4 , 0.2wt% SDS , 0.2wt% NP-40
緩衝液7:0.1 M Tris-HCl pH7.4 , 0.2wt% SDS , 0.2wt% Triton X-100, 25mM CaCl2
緩衝液8:0.1 M Tris-HCl pH7.4 , 0.2wt% SDS , 0.2wt% NP-40, 25mM CaCl2
Triton X-100、NP-40及びSDSは、和光純薬工業(株)から購入した。ルシフェリン−ルシフェラーゼ反応は、ルシフェリンを各緩衝液に、終濃度0.5μMで添加し、撹拌することによって反応を開始した。各緩衝液における発光強度をルミノメーターを用いて測定した。結果を下記の表1及び図1に示す。
I3:反応開始から3分後における発光強度
I15:反応開始から15分後の発光強度
表1及ぶ図1に示される緩衝液1と4についての結果を比較することにより、アニオン性界面活性剤が存在しない場合(緩衝液1)は、発光強度が反応開始直後から急激に低下するのに対し、アニオン性界面活性剤の存在により(緩衝液4)、その低下が抑制ないし緩和されることが分かる。この抑制効果は、非イオン性の界面活性剤がアニオン性の界面活性剤と共存する場合に増強される(緩衝液5及び6)。
10ng/mlのウミホタルルシフェラーゼ、0.2重量%のSDS、及び0.2重量%のNP−40を含むTris-HCl緩衝液(0.1M、pH7.4)を実施例1と同様に調製した。またコントロールとして、10ng/mlのウミホタルルシフェラーゼを含むが界面活性剤を含まないTris-HCl緩衝液(0.1M、pH7.4)を調製した。各緩衝液をそれぞれ別個の96ウェルに分配し、さらにウミホタルルシフェリンを終濃度0.5μMとなるよう添加した。ルシフェリンは、1Aウェルから1Hウェル、次いで2Hウェルから2Aウェル、さらに3Aウェルから3Hウェルという順番で12Aウェルまで順に添加した。全てのウェルにルシフェリンを添加した後、ルミノメーターを用いて各ウェルにおける発光強度を測定した。この際の各ウェルについての積算時間は20秒であった。SDSとNP40とを含む本発明の組成物を添加した緩衝液についての結果を図2に示す。一方、コントロールの結果を図3に示す。図2及び図3の結果を比較することにより、本発明の組成物により、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的な低下が顕著に抑制されることが分かる。
Claims (9)
- 少なくとも1種のアニオン性界面活性剤を含む、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制するための組成物。
- 更に、少なくとも1種の非イオン性界面活性剤を含む、請求項1に記載の組成物。
- 該アニオン性界面活性剤がドデシル硫酸ナトリウムである、請求項1に記載の組成物。
- 該非イオン性界面活性剤がポリエチレングリコール−p−オクチルフェニルエーテル(NP−40)及び/又はポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(Triton X−100)である、請求項1に記載の組成物。
- 少なくとも1種のアニオン性界面活性剤の存在下でウミホタルルシフェラーゼとルシフェリンとを反応させることを特徴とする、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制する方法。
- ウミホタルルシフェラーゼとルシフェリンとの反応において、少なくとも1種の非イオン性界面活性剤がさらに存在することを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 該アニオン性界面活性剤が、ドデシル硫酸ナトリウムである、請求項5に記載の方法。
- 非イオン性の界面活性剤がポリエチレングリコール−p−オクチルフェニルエーテル(NP−40)及び/又はポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(Triton X−100)である、請求項6に記載の方法。
- アニオン性界面活性剤を含む、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下抑制剤。
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JP2015528691A (ja) * | 2012-05-16 | 2015-10-01 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア | 細胞および/または組織を可溶化するための組成物 |
US9814422B2 (en) | 2007-08-06 | 2017-11-14 | The Regents Of The University Of California | Compositions for solubilizing cells and/or tissue |
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JP2008532517A (ja) * | 2005-03-07 | 2008-08-21 | ワリア,ラーンピヤリ・ラージヤ | 発光シグナルの増強 |
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