JP2010107981A5 - - Google Patents
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Description
本発明の方法は、特定のエラストマーバインダーを有する光重合可能な要素の前駆体から、デジタルワークフローおよび熱現像を用いて、印刷用雄型を製造することに中心がおかれているが、印刷用雄型は、他の代替の従来の方法工程、例えば、熱処理の代わりに溶液現像および/またはイン・サイチュのマスクを用いたデジタルワークフローの代わりにフォトツールを用いたアナログワークフローおよび/または光化学補強およびレーザー彫刻によりレリーフパターンを形成することにより、光重合可能な要素から製造してよいものと考えられる。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] a)1つ以上の非エラストマーブロックと1,2−結合単位を有するポリブタジエンの1つ以上のエラストマーブロックとを有する少なくとも1つのエラストマーブロックコポリマーと、エチレン化不飽和化合物と、光開始剤とを含む組成物層であって、部分的に液化可能な組成物層を含む光重合可能な要素を提供し、
b)前記光重合可能な要素を、大気酸素の存在下、化学線に像様露光し、
c)前記b)の要素を、前記層の一部を液化させるのに十分な温度まで加熱し、
d)前記光重合可能な要素の外側表面を現像媒体と接触させて、前記液化した層の少なくとも一部を前記現像媒体により除去することを含み、
前記1,2−結合ブタジエン単位が、1つ以上のポリブタジエンブロックの15重量%未満を構成し、前記エラストマーブロックコポリマーが、前記組成物の総重量に基づいて、少なくとも30重量%である、光重合可能な要素から印刷用雄型を製造する方法。
[2] 前記1,2−結合ブタジエン単位が、前記1つ以上のポリブタジエンブロックの5〜10重量パーセントである[1]に記載の方法。
[3] 前記エラストマーブロックコポリマーの分子量が、80,000〜200,000である[1]に記載の方法。
[4] 前記エラストマーブロックコポリマーのスチレン含量が、前記ブロックコポリマーに基づいて、15〜35重量%である[1]に記載の方法。
[5] 前記エラストマーブロックコポリマーが、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンのトリ−ブロックコポリマーとポリスチレン−ポリブタジエンのジ−ブロックコポリマーの混合物を含み、前記ジ−ブロックコポリマーが、前記エラストマーバインダーの重量に基づいて、20重量%未満である[1]に記載の方法。
[6] 前記エラストマーブロックコポリマーが、前記組成物の総重量に基づいて、30〜80重量%である[1]に記載の方法。
[7] 前記光重合可能な組成物が、スチレンとブタジエンのブロックコポリマーおよびスチレンとイソプレンのブロックコポリマーからなる群から選択される付加ブロックコポリマーをさらに含む[1]に記載の方法。
[8] 前記付加ブロックコポリマーが、前記組成物の5〜30重量%である[7]に記載の方法。
[9] 前記光重合可能な組成物が、前記組成物の1〜30重量%の可塑剤をさらに含む[1]に記載の方法。
[10] 前記光重合可能な組成物が、脂肪族炭化水素油および液体ポリジエンからなる群から選択される可塑剤をさらに含む[1]に記載の方法。
[11] 前記光重合可能な組成物が、ポリジエンの60〜90重量%のビニル含量を有する液体ポリジエンをさらに含む[1]に記載の方法。
[12] 前記エラストマーブロックコポリマーが、前記エラストマーブロックコポリマーの重量に基づいて、1重量%未満のスチレン−ブタジエン−ジ−ブロックと、前記エラストマーブロックコポリマーの重量に基づいて、22〜26重量%のスチレンと、前記1つ以上のポリブタジエンブロックに基づいて、10重量%未満の1,2−結合ブタジエン単位と、約100,000〜150,000g/モルの分子量とを有するスチレン−ブタジエン−スチレントリ−ブロックコポリマーである[1]に記載の方法。
[13] 工程d)の後、前記光重合可能な要素はレリーフ表面を有し、方法が、前記レリーフ表面を前記化学線に全体露光することにより、前記光重合可能な要素を後露光することをさらに含む[1]に記載の方法。
[14] 工程d)の後、前記光重合可能な要素はレリーフ表面を有し、方法が、前記光重合可能な要素の前記レリーフ表面を200〜300nmの放射線に露光することをさらに含む[1]に記載の方法。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] a)1つ以上の非エラストマーブロックと1,2−結合単位を有するポリブタジエンの1つ以上のエラストマーブロックとを有する少なくとも1つのエラストマーブロックコポリマーと、エチレン化不飽和化合物と、光開始剤とを含む組成物層であって、部分的に液化可能な組成物層を含む光重合可能な要素を提供し、
b)前記光重合可能な要素を、大気酸素の存在下、化学線に像様露光し、
c)前記b)の要素を、前記層の一部を液化させるのに十分な温度まで加熱し、
d)前記光重合可能な要素の外側表面を現像媒体と接触させて、前記液化した層の少なくとも一部を前記現像媒体により除去することを含み、
前記1,2−結合ブタジエン単位が、1つ以上のポリブタジエンブロックの15重量%未満を構成し、前記エラストマーブロックコポリマーが、前記組成物の総重量に基づいて、少なくとも30重量%である、光重合可能な要素から印刷用雄型を製造する方法。
[2] 前記1,2−結合ブタジエン単位が、前記1つ以上のポリブタジエンブロックの5〜10重量パーセントである[1]に記載の方法。
[3] 前記エラストマーブロックコポリマーの分子量が、80,000〜200,000である[1]に記載の方法。
[4] 前記エラストマーブロックコポリマーのスチレン含量が、前記ブロックコポリマーに基づいて、15〜35重量%である[1]に記載の方法。
[5] 前記エラストマーブロックコポリマーが、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンのトリ−ブロックコポリマーとポリスチレン−ポリブタジエンのジ−ブロックコポリマーの混合物を含み、前記ジ−ブロックコポリマーが、前記エラストマーバインダーの重量に基づいて、20重量%未満である[1]に記載の方法。
[6] 前記エラストマーブロックコポリマーが、前記組成物の総重量に基づいて、30〜80重量%である[1]に記載の方法。
[7] 前記光重合可能な組成物が、スチレンとブタジエンのブロックコポリマーおよびスチレンとイソプレンのブロックコポリマーからなる群から選択される付加ブロックコポリマーをさらに含む[1]に記載の方法。
[8] 前記付加ブロックコポリマーが、前記組成物の5〜30重量%である[7]に記載の方法。
[9] 前記光重合可能な組成物が、前記組成物の1〜30重量%の可塑剤をさらに含む[1]に記載の方法。
[10] 前記光重合可能な組成物が、脂肪族炭化水素油および液体ポリジエンからなる群から選択される可塑剤をさらに含む[1]に記載の方法。
[11] 前記光重合可能な組成物が、ポリジエンの60〜90重量%のビニル含量を有する液体ポリジエンをさらに含む[1]に記載の方法。
[12] 前記エラストマーブロックコポリマーが、前記エラストマーブロックコポリマーの重量に基づいて、1重量%未満のスチレン−ブタジエン−ジ−ブロックと、前記エラストマーブロックコポリマーの重量に基づいて、22〜26重量%のスチレンと、前記1つ以上のポリブタジエンブロックに基づいて、10重量%未満の1,2−結合ブタジエン単位と、約100,000〜150,000g/モルの分子量とを有するスチレン−ブタジエン−スチレントリ−ブロックコポリマーである[1]に記載の方法。
[13] 工程d)の後、前記光重合可能な要素はレリーフ表面を有し、方法が、前記レリーフ表面を前記化学線に全体露光することにより、前記光重合可能な要素を後露光することをさらに含む[1]に記載の方法。
[14] 工程d)の後、前記光重合可能な要素はレリーフ表面を有し、方法が、前記光重合可能な要素の前記レリーフ表面を200〜300nmの放射線に露光することをさらに含む[1]に記載の方法。
Claims (4)
- a)1つ以上の非エラストマーブロックと1,2−結合単位を有するポリブタジエンの1つ以上のエラストマーブロックとを有する少なくとも1つのエラストマーブロックコポリマーと、エチレン化不飽和化合物と、光開始剤とを含む組成物層であって、部分的に液化可能な組成物層を含む光重合可能な要素を提供し、
b)前記光重合可能な要素を、大気酸素の存在下、化学線に像様露光し、
c)前記b)の要素を、前記層の一部を液化させるのに十分な温度まで加熱し、
d)前記光重合可能な要素の外側表面を現像媒体と接触させて、前記液化した層の少なくとも一部を前記現像媒体により除去する
ことを含み、
前記1,2−結合ブタジエン単位が、1つ以上のポリブタジエンブロックの15重量%未満を構成し、前記エラストマーブロックコポリマーが、前記組成物の総重量に基づいて、少なくとも30重量%である、光重合可能な要素から印刷用雄型を製造する方法。 - 前記光重合可能な組成物が、前記組成物の1〜30重量%の可塑剤をさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記光重合可能な組成物が、ポリジエンの60〜90重量%のビニル含量を有する液体ポリジエンをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 工程d)の後、前記光重合可能な要素はレリーフ表面を有し、方法が、前記レリーフ表面を前記化学線に全体露光することにより、前記光重合可能な要素を後露光することをさらに含む請求項1に記載の方法。
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WO2014091941A1 (ja) * | 2012-12-10 | 2014-06-19 | 日本ゼオン株式会社 | 有機エレクトロニクスデバイス封止用樹脂組成物、及び有機エレクトロニクスデバイス |
US20140318398A1 (en) * | 2013-04-26 | 2014-10-30 | Chemence, Inc. | Photopolymeric Craft Stamp Indexing Images and Method of Making |
US10668711B2 (en) * | 2015-06-02 | 2020-06-02 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor, a process for making the precursor, and a method for preparing a printing form from the precursor |
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Family Cites Families (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US3380831A (en) | 1964-05-26 | 1968-04-30 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements |
CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
JPS55135838A (en) | 1979-04-12 | 1980-10-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate |
US4427759A (en) | 1982-01-21 | 1984-01-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4460675A (en) | 1982-01-21 | 1984-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4753865A (en) | 1986-01-22 | 1988-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive compositions containing microgels |
US4726877A (en) | 1986-01-22 | 1988-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods of using photosensitive compositions containing microgels |
US4806506A (en) | 1987-09-14 | 1989-02-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for detackifying photopolymer flexographic printing plates |
US4894315A (en) | 1988-08-30 | 1990-01-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making flexographic printing plates with increased flexibility |
US5215859A (en) | 1990-07-26 | 1993-06-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Backside ionizing irradiation in a flexographic printing plate process |
US5175072A (en) | 1990-07-26 | 1992-12-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexographic printing plate process |
US5015556A (en) | 1990-07-26 | 1991-05-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexographic printing plate process |
EP0469735B1 (en) | 1990-07-31 | 1998-06-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Device for forming flexographic printing plate |
EP0525206B1 (en) * | 1991-02-15 | 1998-04-29 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive elastomer composition |
US5292617A (en) | 1992-03-31 | 1994-03-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having support with adjustable adhesion |
US5607814A (en) | 1992-08-07 | 1997-03-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process and element for making a relief image using an IR sensitive layer |
US5719009A (en) | 1992-08-07 | 1998-02-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser ablatable photosensitive elements utilized to make flexographic printing plates |
US5262275A (en) | 1992-08-07 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate |
US5301610A (en) | 1993-04-30 | 1994-04-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for making spiral wound sleeves for printing cylinders and product thereof |
JP3257867B2 (ja) * | 1993-06-25 | 2002-02-18 | 東京応化工業株式会社 | 現像液組成物 |
US5506086A (en) | 1995-05-01 | 1996-04-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making a flexographic printing plate |
US6238837B1 (en) | 1995-05-01 | 2001-05-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic element having an infrared ablatable layer |
US5766819A (en) | 1995-11-29 | 1998-06-16 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Donor elements, assemblages, and associated processes with flexible ejection layer(s) for laser-induced thermal transfer |
US5889116A (en) * | 1995-12-06 | 1999-03-30 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Photosensitive composition from copolymers of ethylenic phosphorous monomer(s) and elastomer |
US6143451A (en) | 1996-11-26 | 2000-11-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Imaged laserable assemblages and associated processes with high speed and durable image-transfer characteristics for laser-induced thermal transfer |
US5840463A (en) | 1997-07-14 | 1998-11-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive donor element assemblages and associated process for laser-induced thermal transfer |
US6797454B1 (en) | 1999-09-07 | 2004-09-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for thermal processing a photosensitive element |
JP2001147520A (ja) | 1999-11-22 | 2001-05-29 | Nippon Denshi Seiki Kk | 感光性樹脂着色薄膜と感光性樹脂層を積層してなる感光性樹脂フレキソ版材 |
US7122295B2 (en) * | 2000-05-17 | 2006-10-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate |
US6773859B2 (en) | 2001-03-06 | 2004-08-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making a flexographic printing plate and a photosensitive element for use in the process |
JP4044313B2 (ja) | 2001-10-22 | 2008-02-06 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 凸版印刷用感光性樹脂組成物 |
DE10241851A1 (de) | 2002-09-09 | 2004-03-18 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen durch thermische Entwicklung |
JP2004163533A (ja) | 2002-11-11 | 2004-06-10 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂積層体 |
JP2004246247A (ja) | 2003-02-17 | 2004-09-02 | Asahi Kasei Chemicals Corp | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
DE10353762A1 (de) * | 2003-11-17 | 2005-06-23 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen durch thermische Entwicklung |
US7960088B2 (en) * | 2004-06-11 | 2011-06-14 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin for flexographic printing plate |
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