JP2010100682A - Heat-dissipating resin composition, substrate for led mounting, and reflector - Google Patents

Heat-dissipating resin composition, substrate for led mounting, and reflector Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-dissipating resin composition for forming a molded product having well balanced heat dissipation, heat resistance, impact resistance, electrical insulation, water resistance and light reflection properties; and to provide a substrate for LED mounting and a reflector. <P>SOLUTION: The composition contains [A] a polyamide resin, [B] a boron nitride particle having a specific particle size, [C] a glass fiber, [D] a titanium oxide particle, and [E] a hindered amine-based light stabilizer of formula, wherein the component [A] contains ≥30 mass% of a polyamide having a repeating unit derived from a hexamethylene terephthalamide, based on the total amount of the component [A]. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、放熱性樹脂組成物、LED実装用基板及びリフレクターに関し、更に詳しくは、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れた成形品を与える放熱性樹脂組成物、この放熱性樹脂組成物を含むLED実装用基板及びリフレクターに関する。   The present invention relates to a heat-dissipating resin composition, an LED mounting substrate, and a reflector, and more specifically, molding excellent in balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance and light reflection characteristics. The present invention relates to a heat dissipating resin composition that gives a product, an LED mounting substrate including the heat dissipating resin composition, and a reflector.

従来、LED素子は、小型であり、長寿命であり、省電力性に優れることから、表示灯等の光源として利用されている。また、近年、より輝度の高いLED素子が比較的安価に製造されるようになったことから、蛍光ランプ及び白熱電球に替わる光源としての利用が検討されている。このような光源に適用する場合、大きな照度を得るために、表面実装型LEDパッケージ、即ち、例えば、アルミニウム等の金属製のベース基板(LED実装用基板)上に複数のLED素子を配置し、各LED素子の周りに光を所定方向に反射させるリフレクターを配設する方式が多用されている。しかし、LED素子は発光時に発熱を伴うため、このような方式のLED照明装置では、LED素子の発光時の温度上昇が、輝度の低下、LED素子の短寿命化等を招くこととなる。そこで、放熱性の高い金属からなるベース基板上にLED素子のベアチップを実装して、発光時の発熱をベース基板に拡散するような構造のLED照明装置が提案されている(例えば特許文献1及び2)。
そして、特許文献3には、共重合ポリエステル、鱗片状窒化ホウ素等を含有する、LED実装用基板、又は、該LED実装用基板に配設されるリフレクターの形成に用いられる放熱性樹脂組成物が開示されている。
また、特許文献4には、ポリアミド4,6と、窒化ホウ素、窒化珪素、アルミナ等からなる熱伝導性充填材と、セラミック繊維、ガラス繊維等の繊維状強化材とを含有するポリアミド樹脂組成物が開示されている。
Conventionally, an LED element is used as a light source such as an indicator lamp because it is small in size, has a long life, and is excellent in power saving. In recent years, LED elements with higher luminance have been manufactured at a relatively low cost, and their use as light sources to replace fluorescent lamps and incandescent lamps has been studied. When applying to such a light source, in order to obtain a large illuminance, a plurality of LED elements are arranged on a surface mount type LED package, that is, a base substrate made of metal such as aluminum (LED mounting substrate), for example, A method of arranging a reflector that reflects light in a predetermined direction around each LED element is frequently used. However, since LED elements generate heat during light emission, in such a type of LED lighting device, a temperature increase during light emission of the LED elements leads to a decrease in luminance, a shortened life of the LED elements, and the like. Therefore, an LED lighting device having a structure in which a bare chip of an LED element is mounted on a base substrate made of a metal having high heat dissipation property and heat generated during light emission is diffused to the base substrate has been proposed (for example, Patent Document 1 and 2).
And in patent document 3, the thermal radiation resin composition used for formation of the board | substrate for LED mounting containing a copolyester, scale-like boron nitride, or the reflector arrange | positioned by this board | substrate for LED mounting. It is disclosed.
Patent Document 4 discloses a polyamide resin composition containing polyamides 4 and 6, a thermally conductive filler made of boron nitride, silicon nitride, alumina or the like, and a fibrous reinforcing material such as ceramic fiber or glass fiber. Is disclosed.

特開昭62−149180号公報JP-A-62-149180 特開2002−344031号公報JP 2002-344031 A 国際公開2008−53753号公報International Publication No. 2008-53753 特開平3−79663号公報JP-A-3-79663

ポリアミド樹脂は、機械的特性、耐熱性等に優れた成形品を与えることは知られており、特に、放熱性が要求される電子部品等を構成する成形品においては、上記特許文献4に示される組成物が広く用いられている。しかしながら、ポリアミド4,6を含有する組成物は、熱伝導性、耐熱性、光に対する反射特性等において、一定の改良効果を示すものの、未だ十分ではなく、耐衝撃性、耐水性等においても改良が求められていた。特に、ポリアミド4,6を含有する組成物を、LEDを実装する基板や、リフレクター等の、放熱部材の形成に用いた場合には、組成物の耐水性が優れると、即ち、低吸水性であると、例えば、リフロー半田の際に、ブリスターの発生を抑制することができる。また、光に対する反射特性が優れ、更に、耐久性に優れると、輝度が安定したLED照明装置等が得られることが予想される。そこで、組成物を構成する、好ましいポリアミド樹脂、熱伝導性材料及び光安定剤の最適化が求められていた。
本発明は、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れた成形品を与える放熱性樹脂組成物、この放熱性樹脂組成物を含むLED実装用基板及びリフレクターを提供することを目的とする。
Polyamide resins are known to give molded products with excellent mechanical properties, heat resistance, and the like. In particular, molded products constituting electronic parts and the like that require heat dissipation are shown in Patent Document 4 above. Such compositions are widely used. However, although the composition containing polyamide 4 or 6 shows a certain improvement effect in thermal conductivity, heat resistance, light reflection characteristics, etc., it is still not sufficient, and improved in impact resistance, water resistance, etc. Was demanded. In particular, when a composition containing polyamide 4 or 6 is used for forming a heat dissipation member such as a substrate on which an LED is mounted or a reflector, the composition has excellent water resistance, that is, low water absorption. For example, the occurrence of blisters can be suppressed during reflow soldering. Moreover, it is anticipated that the LED lighting apparatus etc. with which the brightness | luminance was stabilized will be obtained when the reflection characteristic with respect to light is excellent and also it is excellent in durability. Therefore, optimization of preferred polyamide resins, heat conductive materials and light stabilizers constituting the composition has been demanded.
The present invention relates to a heat dissipating resin composition that gives a molded product having a good balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance and light reflection characteristics, and an LED including the heat dissipating resin composition An object is to provide a mounting substrate and a reflector.

本発明は、以下の通りである。
1.〔A〕ポリアミド樹脂、〔B〕窒化ホウ素粒子、〔C〕ガラス繊維、〔D〕酸化チタン粒子及び〔E〕光安定剤を含有する放熱性樹脂組成物であって、上記ポリアミド樹脂〔A〕は、ヘキサメチレンテレフタルアミドから誘導される繰り返し単位を有するポリアミドを、このポリアミド樹脂〔A〕全体に対して30質量%以上含み、上記窒化ホウ素粒子〔B〕は、粒度分布の測定により得られた累計体積が10%及び90%であるときの粒子径D10及びD90が、それぞれ、4〜6μm及び35〜50μmであり、且つ、D10とD90との比D90/D10が7〜11であり、上記光安定剤〔E〕は、下記構造を含むヒンダードアミン系化合物であり、

Figure 2010100682
〔式中、R、R、R、R及びRは、互いに、同一又は異なって、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又は、炭素数7〜20のアラルキル基である。〕
上記ポリアミド樹脂〔A〕及び上記窒化ホウ素粒子〔B〕の合計量を100質量%とした場合、ポリアミド樹脂〔A〕の割合が15〜95質量%、窒化ホウ素粒子〔B〕の割合が5〜85質量%であり、上記ポリアミド樹脂〔A〕及び上記窒化ホウ素粒子〔B〕の合計量を100質量部とした場合、上記ガラス繊維〔C〕の含有量が1〜50質量部であり、上記酸化チタン粒子〔D〕の含有量が0.1〜50質量部であり、上記光安定剤〔E〕の含有量が0.01〜10質量部であることを特徴とする放熱性樹脂組成物。
2.上記酸化チタン粒子〔D〕が、シロキサン処理された酸化チタン粒子である上記1に記載の放熱性樹脂組成物。
3.上記1又は2に記載の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とするLED実装用基板。
4.上記1又は2に記載の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とするリフレクター。
5.上記1又は2に記載の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とする、リフレクター部を備えるLED実装用基板。 The present invention is as follows.
1. [A] Polyamide resin, [B] Boron nitride particles, [C] Glass fibers, [D] Titanium oxide particles and [E] A heat-dissipating resin composition comprising the above polyamide resin [A] Contains 30% by mass or more of polyamide having a repeating unit derived from hexamethylene terephthalamide with respect to the entire polyamide resin [A], and the boron nitride particles [B] were obtained by measuring the particle size distribution. The particle diameters D 10 and D 90 when the cumulative volume is 10% and 90% are 4 to 6 μm and 35 to 50 μm, respectively, and the ratio D 90 / D 10 between D 10 and D 90 is 7 To 11 and the light stabilizer [E] is a hindered amine compound having the following structure:
Figure 2010100682
[In formula, R < 1 >, R < 2 >, R < 3 >, R < 4 > and R < 5 > are mutually the same or different, and a C1-C10 alkyl group, a C6-C20 aryl group, or C7. -20 aralkyl groups. ]
When the total amount of the polyamide resin [A] and the boron nitride particles [B] is 100% by mass, the ratio of the polyamide resin [A] is 15 to 95% by mass, and the ratio of the boron nitride particles [B] is 5 to 5%. When the total amount of the polyamide resin [A] and the boron nitride particles [B] is 100 parts by mass, the content of the glass fiber [C] is 1 to 50 parts by mass, The content of titanium oxide particles [D] is 0.1 to 50 parts by mass, and the content of the light stabilizer [E] is 0.01 to 10 parts by mass. .
2. 2. The heat-dissipating resin composition as described in 1 above, wherein the titanium oxide particles [D] are siloxane-treated titanium oxide particles.
3. An LED mounting substrate comprising the heat-dissipating resin composition as described in 1 or 2 above.
4). A reflector comprising the heat dissipating resin composition as described in 1 or 2 above.
5). An LED mounting substrate comprising a reflector portion, comprising the heat-dissipating resin composition according to 1 or 2 above.

本発明の放熱性樹脂組成物によれば、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れた成形品を与えることができる。即ち、熱放射率は、0.7以上であり、熱伝導率が3.5W/(m・K)以上であり、熱変形温度が270℃以上であり、シャルピー衝撃強度が1.0kJ/m以上であり、表面固有抵抗が1×1013Ω以上であり、吸水率が0.15%以下であり、且つ、耐光試験後の光線反射率が80%以上であるものとすることができる。一般に、樹脂成形品が光曝露した場合、光線反射率は、初期値に比べると大きく低下するが、本発明の放熱性樹脂組成物からなる成形品が光曝露した場合、上記のように、光線反射率を80%以上と、その低下を抑制することができるので、LED照明装置の構成部材として、耐久性に優れたLED実装用基板、リフレクター等の形成に好適である。
上記酸化チタン粒子〔D〕が、シロキサン処理された酸化チタン粒子である場合には、耐光試験後の光線反射率が更に向上する。
According to the heat-dissipating resin composition of the present invention, it is possible to give a molded product having an excellent balance among heat-dissipating property, heat resistance, impact resistance, insulating properties, water resistance and light reflection characteristics. That is, the thermal emissivity is 0.7 or more, the thermal conductivity is 3.5 W / (m · K) or more, the thermal deformation temperature is 270 ° C. or more, and the Charpy impact strength is 1.0 kJ / m. 2 or more, the surface resistivity is 1 × 10 13 Ω or more, the water absorption is 0.15% or less, and the light reflectance after the light resistance test is 80% or more. . In general, when the resin molded product is exposed to light, the light reflectance is greatly reduced compared to the initial value, but when the molded product comprising the heat-dissipating resin composition of the present invention is exposed to light, as described above, Since the reflectance can be suppressed to 80% or more, the reduction thereof can be suppressed, so that it is suitable for forming LED mounting substrates, reflectors, and the like having excellent durability as constituent members of LED lighting devices.
When the titanium oxide particles [D] are siloxane-treated titanium oxide particles, the light reflectance after the light resistance test is further improved.

本発明のLED実装用基板によれば、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れる。また、このLED実装用基板に、LED素子等を配設する場合にも、例えば、リフロー半田を行う際に、ブリスターの発生や、変形等を伴うことがないので、寸法安定性に優れたLED照明装置を与えることができる。そして、このLED照明装置は、LED素子における、発光効率の低下、及び、輝度の低下が抑制され、長期間の使用が可能である。   According to the LED mounting substrate of the present invention, the balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance and light reflection characteristics is excellent. In addition, even when an LED element or the like is disposed on this LED mounting board, for example, when reflow soldering is performed, no blistering or deformation is involved, so that an LED having excellent dimensional stability. A lighting device can be provided. And this LED illuminating device can suppress the fall of the luminous efficiency in a LED element, and the fall of a brightness | luminance, and can be used for a long period of time.

本発明のリフレクターによれば、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れる。また、このリフレクターに、LED素子等を配設する場合にも、例えば、リフロー半田を行う際に、ブリスターの発生や、変形等を伴うことがないので、寸法安定性に優れたLED複合部材を与えることができる。そして、このLED複合部材は、LED素子における、発光効率の低下、及び、輝度の低下が抑制され、長期間の使用が可能である。   According to the reflector of the present invention, the balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance, and light reflection characteristics is excellent. In addition, even when an LED element or the like is disposed on this reflector, for example, when reflow soldering is performed, no blisters are generated or deformed, so an LED composite member with excellent dimensional stability is provided. Can be given. And this LED composite member can suppress the fall of the luminous efficiency in a LED element, and the fall of a brightness | luminance, and can be used for a long period of time.

本発明のリフレクター部を備えるLED実装用基板によれば、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れる。また、このリフレクター部を備えるLED実装用基板に、LED素子等を配設する場合にも、例えば、リフロー半田を行う際に、ブリスターの発生や、変形等を伴うことがないので、寸法安定性に優れたLED照明装置を与えることができる。そして、このLED照明装置は、LED素子における、発光効率の低下、及び、輝度の低下が抑制され、長期間の使用が可能である。   According to the LED mounting substrate provided with the reflector portion of the present invention, the balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance and light reflection characteristics is excellent. In addition, even when an LED element or the like is disposed on an LED mounting substrate provided with this reflector portion, for example, when performing reflow soldering, there is no occurrence of blisters, deformation, etc., so dimensional stability It is possible to provide an excellent LED lighting device. And this LED illuminating device can suppress the fall of the luminous efficiency in a LED element, and the fall of a brightness | luminance, and can be used for a long period of time.

1.放熱性樹脂組成物
本発明の放熱性樹脂組成物は、〔A〕ポリアミド樹脂(以下、「成分〔A〕」ともいう。)、〔B〕窒化ホウ素粒子(以下、「成分〔B〕」ともいう。)、〔C〕ガラス繊維(以下、「成分〔C〕」ともいう。)、〔D〕酸化チタン粒子(以下、「成分〔D〕」ともいう。)及び〔E〕光安定剤(以下、「成分〔E〕」ともいう。)を含有する組成物であって、上記成分〔A〕は、ヘキサメチレンテレフタルアミドから誘導される繰り返し単位を有するポリアミドを、この成分〔A〕全体に対して30質量%以上含み、上記成分〔B〕は、粒度分布の測定により得られた累計体積が10%及び90%であるときの粒子径D10及びD90が、それぞれ、4〜6μm及び35〜50μmであり、且つ、D10とD90との比D90/D10が7〜11であり、上記成分〔E〕は、下記構造を含むヒンダードアミン系化合物であり、上記成分〔A〕及び上記成分〔B〕の合計量を100質量%とした場合、成分〔A〕の割合が15〜95質量%、成分〔B〕の割合が5〜85質量%であり、上記成分〔A〕及び上記成分〔B〕の合計量を100質量部とした場合、上記成分〔C〕の含有量が1〜50質量部であり、上記成分〔D〕の含有量が0.1〜50質量部であり、上記成分〔E〕の含有量が0.01〜10質量部であることを特徴とする。

Figure 2010100682
〔式中、R、R、R、R及びRは、互いに、同一又は異なって、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又は、炭素数7〜20のアラルキル基である。〕 1. Heat-dissipating resin composition The heat-dissipating resin composition of the present invention comprises [A] polyamide resin (hereinafter also referred to as “component [A]”), [B] boron nitride particles (hereinafter also referred to as “component [B]”). ), [C] glass fiber (hereinafter also referred to as “component [C]”), [D] titanium oxide particles (hereinafter also referred to as “component [D]”), and [E] light stabilizer ( (Hereinafter also referred to as “component [E]”), wherein the component [A] contains a polyamide having a repeating unit derived from hexamethylene terephthalamide as a whole in this component [A]. In contrast, the component [B] contains 30% by mass or more, and the particle size D 10 and D 90 when the cumulative volume obtained by measuring the particle size distribution is 10% and 90% are 4 to 6 μm and a 35~50Myuemu, and the ratio of D 10 and D 90 90 / D 10 is 7 to 11, the component [E], when a hindered amine compound containing the following structure, in which the total amount of the components [A] and the component [B] is 100 mass%, When the ratio of the component [A] is 15 to 95% by mass, the ratio of the component [B] is 5 to 85% by mass, and the total amount of the component [A] and the component [B] is 100 parts by mass, The content of the component [C] is 1 to 50 parts by mass, the content of the component [D] is 0.1 to 50 parts by mass, and the content of the component [E] is 0.01 to 10 parts. It is a mass part.
Figure 2010100682
[In formula, R < 1 >, R < 2 >, R < 3 >, R < 4 > and R < 5 > are mutually the same or different, and a C1-C10 alkyl group, a C6-C20 aryl group, or C7. -20 aralkyl groups. ]

1−1.ポリアミド樹脂〔A〕
この成分〔A〕は、ヘキサメチレンテレフタルアミドから誘導される繰り返し単位を有するポリアミド(以下、「ポリアミド(A1)」という。)を、上記成分〔A〕全体に対して30質量%以上含む樹脂である。即ち、上記成分〔A〕は、ポリアミド(A1)のみであってよいし、このポリアミド(A1)と、他のポリアミドとの組合せであってもよい。
1-1. Polyamide resin [A]
This component [A] is a resin containing a polyamide having a repeating unit derived from hexamethylene terephthalamide (hereinafter referred to as “polyamide (A1)”) in an amount of 30% by mass or more based on the entire component [A]. is there. That is, the component [A] may be only the polyamide (A1) or a combination of this polyamide (A1) and another polyamide.

上記ポリアミド(A1)は、ヘキサメチレンテレフタルアミドから誘導される繰り返し単位(以下、「繰り返し単位(a1)」という。)を有するポリアミドであり、通常、ヘキサメチレンジアミンを含むジアミンと、テレフタル酸を含むジカルボン酸との縮重合反応により製造された、ホモポリアミド又はコポリアミドである。   The polyamide (A1) is a polyamide having a repeating unit derived from hexamethylene terephthalamide (hereinafter referred to as “repeating unit (a1)”), and usually contains a diamine containing hexamethylene diamine and terephthalic acid. It is a homopolyamide or a copolyamide produced by a condensation polymerization reaction with a dicarboxylic acid.

上記ジアミンに含まれるヘキサメチレンジアミンの含有割合は、好ましくは30〜100質量%、より好ましくは70〜100質量%である。他のジアミンとしては、脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン及び芳香族ジアミンが挙げられ、これらは、単独で用いてよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。具体例としては、テトラメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、トリデカメチレンジアミン、1,9−ノナンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン等が挙げられる。
また、上記ジカルボン酸に含まれるテレフタル酸の含有割合は、好ましくは30〜100質量%、より好ましくは70〜100質量%である。他のジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸が挙げられ、これらは、単独で用いてよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。具体例としては、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、1,1,3−トリデカン二酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ダイマー酸等が挙げられる。
The content ratio of hexamethylenediamine contained in the diamine is preferably 30 to 100% by mass, more preferably 70 to 100% by mass. Examples of other diamines include aliphatic diamines, alicyclic diamines, and aromatic diamines, which may be used alone or in combination of two or more. Specific examples include tetramethylene diamine, undecamethylene diamine, dodecamethylene diamine, tridecamethylene diamine, 1,9-nonane diamine, 2-methyl-1,8-octane diamine, 2,2,4-trimethylhexamethylene diamine. 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 1,3-bisaminomethylcyclohexane, 1,4-bisaminomethylcyclohexane, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-xylylene Examples include range amine and p-xylylenediamine.
Moreover, the content rate of the terephthalic acid contained in the said dicarboxylic acid becomes like this. Preferably it is 30-100 mass%, More preferably, it is 70-100 mass%. Examples of other dicarboxylic acids include aliphatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and aromatic dicarboxylic acids, and these may be used alone or in combination of two or more. Specific examples include adipic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, 1,1,3-tridecanedioic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, dimer acid, and the like. Can be mentioned.

上記ポリアミド(A1)が、ヘキサメチレンジアミンのみからなるジアミンと、テレフタル酸のみからなるジカルボン酸との縮重合反応により製造されたポリアミドである場合、このポリアミドは、ヘキサメチレンテレフタルアミドから誘導される繰り返し単位(a)を100モル%含むポリアミド6,Tである。上記ポリアミド(A1)は、ポリアミド6,Tであってよいし、繰り返し単位(a1)と、ヘキサメチレンイソフタルアミド、2−メチルペンタメチレンテレフタルアミド、ヘキサメチレンアジパミド、カプロアミド等から選ばれた1種以上の他の繰り返し単位と、からなる変性ポリアミド6,Tであってもよい。変性ポリアミド6,Tに含まれる繰り返し単位(a1)の含有割合は、好ましくは20モル%以上100モル%未満、より好ましくは30〜95モル%、更に好ましくは40〜80モル%、特に好ましくは50〜70モル%である。
上記ポリアミド(A1)として、ポリアミド6,Tと、変性ポリアミド6,Tとを組み合わせて用いることもできる。
上記成分〔A〕が、上記構成のポリアミド(A1)を含むことにより、耐熱性、耐衝撃性、光に対する反射特性及び耐水性に優れた成形品を得ることができる。
When the polyamide (A1) is a polyamide produced by a polycondensation reaction between a diamine composed solely of hexamethylenediamine and a dicarboxylic acid composed solely of terephthalic acid, the polyamide is a repeating derivative derived from hexamethylene terephthalamide. Polyamide 6, T containing 100 mol% of unit (a). The polyamide (A1) may be polyamide 6, T, or 1 selected from the repeating unit (a1), hexamethylene isophthalamide, 2-methylpentamethylene terephthalamide, hexamethylene adipamide, caproamide and the like. It may be modified polyamide 6, T composed of other repeating units of species or more. The content of the repeating unit (a1) contained in the modified polyamide 6, T is preferably 20 mol% or more and less than 100 mol%, more preferably 30 to 95 mol%, still more preferably 40 to 80 mol%, particularly preferably. It is 50-70 mol%.
As the polyamide (A1), polyamide 6, T and modified polyamide 6, T can be used in combination.
When the component [A] contains the polyamide (A1) having the above-described configuration, a molded product having excellent heat resistance, impact resistance, light reflection characteristics, and water resistance can be obtained.

上記成分〔A〕に含まれるポリアミド(A1)の含有割合は、上記成分〔A〕全体に対して30質量%以上であり、好ましくは50〜100質量%、より好ましくは80〜100質量%である。上記ポリアミド(A1)の含有量が上記範囲にあると、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れた成形品を得ることができる。   The content ratio of the polyamide (A1) contained in the component [A] is 30% by mass or more, preferably 50 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass with respect to the entire component [A]. is there. When the content of the polyamide (A1) is in the above range, a molded product having an excellent balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance and light reflection characteristics can be obtained.

上記成分〔A〕が、他のポリアミドを含む場合、他のポリアミドとしては、ポリマー主鎖の繰り返し単位中にアミド結合〔−NH−C(=O)−〕を有する樹脂であれば、特に限定されず、ホモポリアミド及びコポリアミドのいずれでもよく、また、これらを組み合わせて用いてもよい。他のポリアミドとしては、ヘキサメチレンジアミンを含まないジアミンと、テレフタル酸を含むジカルボン酸との縮重合;ヘキサメチレンジアミンを含むジアミンと、テレフタル酸を含まないジカルボン酸との縮重合;ヘキサメチレンジアミンを含まないジアミンと、テレフタル酸を含まないジカルボン酸との縮重合;ラクタム化合物の開環重合;アミノカルボン酸の重縮合等によって得られた樹脂を用いることができ、ポリアミド6、ポリアミド6,6、ポリアミド4,6、ポリアミド11,ポリアミド12,ポリアミド6,10、ポリアミド6,12、ポリアミド6/6,6、ポリアミド6/6,12、ポリアミドMXD(m−キシリレンジアミン),6、ポリアミド6,I、ポリアミド6/6,I、ポリアミド6,6/6,I、ポリアミド6/12/6,I、ポリアミド6,6/12/6,I,ポリアミド9,T等が挙げられる。   When the component [A] contains other polyamide, the other polyamide is particularly limited as long as it is a resin having an amide bond [—NH—C (═O) —] in the repeating unit of the polymer main chain. However, either a homopolyamide or a copolyamide may be used, or a combination thereof may be used. Other polyamides include polycondensation of a diamine not containing hexamethylene diamine and a dicarboxylic acid containing terephthalic acid; a polycondensation of a diamine containing hexamethylene diamine and a dicarboxylic acid not containing terephthalic acid; Resins obtained by polycondensation of diamine not containing carboxylic acid and dicarboxylic acid not containing terephthalic acid; ring-opening polymerization of lactam compound; polycondensation of aminocarboxylic acid, etc. can be used. Polyamide 6, Polyamide 6, 6, Polyamide 4,6, Polyamide 11, Polyamide 12, Polyamide 6,10, Polyamide 6,12, Polyamide 6 / 6,6, Polyamide 6 / 6,12, Polyamide MXD (m-xylylenediamine), 6, Polyamide 6, I, polyamide 6/6, I, polyamide 6, 6/6, I, poly De 6/12/6, I, polyamide 6,6 / 12/6, I, polyamide 9, T, and the like.

上記成分〔A〕が、他のポリアミドを含む場合、他のポリアミドの含有割合は、上記成分〔A〕全体に対して30質量%以下であり、好ましくは0〜20質量%、より好ましくは0〜10質量%である。上記他のポリアミドの含有量が上記範囲にあると、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れた成形品を得ることができる。   When the said component [A] contains another polyamide, the content rate of another polyamide is 30 mass% or less with respect to the said whole component [A], Preferably it is 0-20 mass%, More preferably, it is 0. -10 mass%. When the content of the other polyamide is in the above range, a molded product having an excellent balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance and light reflection characteristics can be obtained.

1−2.窒化ホウ素粒子〔B〕
この成分〔B〕は、六方晶構造(h−BN)、閃亜鉛鉱構造(c−BN)、ウルツ鉱構造(w−BN)、菱面体晶構造(r−BN)等の安定構造を有する窒化ホウ素からなる粒子であれば、特に限定されない。本発明においては、いずれの窒化ホウ素も用いることができるが、六方晶構造の窒化ホウ素からなる粒子が好ましい。六方晶構造の窒化ホウ素粒子を含む組成物は、他の構造の窒化ホウ素粒子を含む組成物に比べて、放熱性、熱伝導性、耐熱性及び絶縁性に優れる。従って、例えば、本発明の放熱性樹脂組成物を用いてLED実装用基板とした場合、及び、リフレクターとした場合、のいずれにおいても、上記効果が顕著となる。また、六方晶構造の窒化ホウ素粒子を含む組成物は、各種成形品を得る際に用いる金型の摩耗を低減することができる。
上記成分〔B〕の純度は、好ましくは98%以上、より好ましくは99%以上である。
1-2. Boron nitride particles [B]
This component [B] has a stable structure such as a hexagonal structure (h-BN), a zinc blende structure (c-BN), a wurtzite structure (w-BN), and a rhombohedral structure (r-BN). If it is a particle | grains which consist of boron nitride, it will not specifically limit. In the present invention, any boron nitride can be used, but particles composed of hexagonal boron nitride are preferred. A composition containing boron nitride particles having a hexagonal crystal structure is superior in heat dissipation, thermal conductivity, heat resistance, and insulation compared to a composition containing boron nitride particles having another structure. Therefore, for example, the above-described effect becomes remarkable both when the heat-dissipating resin composition of the present invention is used as the LED mounting substrate and when the reflector is used. Moreover, the composition containing boron nitride particles having a hexagonal crystal structure can reduce wear of a mold used when various molded articles are obtained.
The purity of the component [B] is preferably 98% or more, more preferably 99% or more.

上記成分〔B〕の体積平均粒子径は、放熱性、熱伝導性、耐熱性及び絶縁性の観点から、好ましくは2〜100μm、より好ましくは3〜50μm、更に好ましくは5〜30μm、特に好ましくは12〜20μmである。特に、体積平均粒子径が12〜20μmの範囲にある窒化ホウ素粒子を用いると、組成物の流動性に優れ、成形品の加工性に優れ、得られる成形品の放熱性、熱伝導性及び耐熱性が特に優れる。尚、上記体積平均粒子径は、レーザー回折法、液相沈降法(光透過法)等により測定することができる。   The volume average particle diameter of the component [B] is preferably 2 to 100 μm, more preferably 3 to 50 μm, still more preferably 5 to 30 μm, particularly preferably from the viewpoints of heat dissipation, thermal conductivity, heat resistance and insulation. Is 12-20 μm. In particular, when boron nitride particles having a volume average particle diameter in the range of 12 to 20 μm are used, the composition has excellent fluidity, excellent workability of the molded product, and heat dissipation, thermal conductivity and heat resistance of the resulting molded product. The property is particularly excellent. The volume average particle diameter can be measured by a laser diffraction method, a liquid phase precipitation method (light transmission method) or the like.

また、放熱性、耐熱性、熱伝導性及び絶縁性の観点から、上記成分〔B〕の粒度分布を測定して得られた累積体積が10%であるときの粒子径D10は、好ましくは3〜8μm、より好ましくは4〜8μm、更に好ましくは4〜7μm、特に好ましくは4〜6μmであり、同累積体積が90%であるときの粒子径D90は、好ましくは10μm以上、より好ましくは20〜60μm、更に好ましくは30〜55μm、特に好ましくは35〜50μmである。また、D10とD90の比D90/D10は、好ましくは3〜15、より好ましくは6〜12、更に好ましくは7〜11である。これにより、更に優れた放熱性、熱伝導性、耐熱性及び絶縁性を得ることができる。 Further, heat radiation, from the viewpoints of heat resistance, thermal conductivity and insulating properties, particle diameter D 10 of the cumulative volume obtained by measuring the particle size distribution of the component [B] is 10%, preferably 3-8 μm, more preferably 4-8 μm, still more preferably 4-7 μm, particularly preferably 4-6 μm, and the particle diameter D 90 when the cumulative volume is 90% is preferably 10 μm or more, more preferably Is 20 to 60 μm, more preferably 30 to 55 μm, and particularly preferably 35 to 50 μm. The ratio D 90 / D 10 of D 10 and D 90 is preferably 3 to 15, more preferably 6 to 12, more preferably from 7 to 11. Thereby, the further outstanding heat dissipation, heat conductivity, heat resistance, and insulation can be obtained.

上記成分〔B〕の比表面積は、放熱性、熱伝導性、耐熱性及び絶縁性の観点から、好ましくは8m/g以下、より好ましくは1〜4m/g、更に好ましくは1.5〜3m/gである。
また、上記成分〔B〕のアスペクト比は、好ましくは3以上、より好ましくは4以上、更に好ましくは5〜10である。
また、上記成分〔B〕のタップ密度は、好ましくは0.5g/cm以上、より好ましくは0.7g/cm以上である。
更に、上記成分〔B〕のL値は、好ましくは93以上、より好ましくは95以上である。
上記成分〔B〕の物性が、上記各範囲にあることにより、放熱性、熱伝導性、及び光に対する反射特性に優れた成形品を得ることができる。尚、上記各範囲を構成するものであれば、異なる種類の窒化ホウ素粒子を組み合わせて用いてもよい。
本発明においては、上記成分〔B〕は、一次粒子が凝集している凝集タイプのものより、分散しているものの方が好ましい。
The specific surface area of the component [B], heat dissipation, thermal conductivity, in view of heat resistance and insulation properties, preferably not more than 8m 2 / g, more preferably 1 to 4 m 2 / g, more preferably 1.5 ˜3 m 2 / g.
The aspect ratio of the component [B] is preferably 3 or more, more preferably 4 or more, and still more preferably 5 to 10.
The tap density of the component [B] is preferably 0.5 g / cm 3 or more, more preferably 0.7 g / cm 3 or more.
Furthermore, the L value of the component [B] is preferably 93 or more, more preferably 95 or more.
When the physical properties of the component [B] are in the above ranges, a molded product excellent in heat dissipation, thermal conductivity, and light reflection characteristics can be obtained. Note that different types of boron nitride particles may be used in combination as long as they constitute each of the above ranges.
In the present invention, the component [B] is more preferably dispersed than the aggregated type in which primary particles are aggregated.

本発明の放熱性樹脂組成物に含有される成分〔A〕及び〔B〕の含有割合は、これらの合計を100質量%とした場合に、15〜95質量%及び5〜85質量%であり、好ましくは30〜75質量%及び25〜70質量%、より好ましくは40〜70質量%及び30〜60質量%、更に好ましくは50〜65質量%及び35〜50質量%である。成分〔A〕及び〔B〕の含有割合が、上記範囲にあると、得られる成形品は、放熱性、熱伝導性、絶縁性及び耐熱性に優れる。   The content ratio of the components [A] and [B] contained in the heat-dissipating resin composition of the present invention is 15 to 95% by mass and 5 to 85% by mass when the total of these components is 100% by mass. , Preferably 30 to 75 mass% and 25 to 70 mass%, more preferably 40 to 70 mass% and 30 to 60 mass%, still more preferably 50 to 65 mass% and 35 to 50 mass%. When the content ratios of the components [A] and [B] are in the above range, the obtained molded product is excellent in heat dissipation, thermal conductivity, insulation, and heat resistance.

1−3.ガラス繊維〔C〕
この成分〔C〕は、公知のものであれば、特に限定されない。原料ガラスとしては、珪酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、燐酸塩ガラス等が挙げられ、ガラスの種類としては、Eガラス、Cガラス、Aガラス、Sガラス、Mガラス、ARガラス、Lガラス等が挙げられる。上記成分〔C〕としては、Eガラス及びCガラスが好ましい。
また、この成分〔C〕は、公知の合成樹脂エマルジョン、水溶性合成樹脂、カップリング剤(アミン系、シラン系、エポキシ系等)、フィルム形成剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤等を含有するサイジング剤により表面処理されたものであってもよい。
1-3. Glass fiber [C]
If this component [C] is a well-known thing, it will not specifically limit. Examples of the raw glass include silicate glass, borosilicate glass, and phosphate glass. Examples of the glass include E glass, C glass, A glass, S glass, M glass, AR glass, and L glass. It is done. As said component [C], E glass and C glass are preferable.
In addition, this component [C] is a known synthetic resin emulsion, water-soluble synthetic resin, coupling agent (amine, silane, epoxy, etc.), film forming agent, lubricant, surfactant, antistatic agent, etc. Surface treatment with a sizing agent containing

上記成分〔C〕の長さは、特に限定されず、長繊維タイプ(ロービング)及び短繊維タイプ(チョップドストランド)のいずれでもよい。これらを組み合わせて用いることもできる。また、上記成分〔C〕の断面形状も特に限定されない。
本発明の放熱性樹脂組成物の製造に用いられる上記成分〔C〕の平均長さは、好ましくは1〜10mm、より好ましくは2〜6mmであり、平均径は、好ましくは5〜25μm、より好ましくは8〜20μmである。そして、本発明の放熱性樹脂組成物を用いて得られた成形品に含まれる成分〔C〕の残存平均繊維長は、好ましくは150〜1,000μm、より好ましくは200〜800μm、更に好ましくは250〜700μmである。残存平均繊維長が上記の範囲にあると、得られる成形品の剛性が一段と優れる。
尚、上記残存平均繊維長は、例えば、成形品の一部を切り出し、これを800℃に加熱して樹脂成分を分解した後、残ったガラス繊維の繊維長を画像分析することにより測定される。
The length of the component [C] is not particularly limited, and may be either a long fiber type (roving) or a short fiber type (chopped strand). A combination of these can also be used. The cross-sectional shape of the component [C] is not particularly limited.
The average length of the component [C] used in the production of the heat-dissipating resin composition of the present invention is preferably 1 to 10 mm, more preferably 2 to 6 mm, and the average diameter is preferably 5 to 25 μm. Preferably it is 8-20 micrometers. The residual average fiber length of the component [C] contained in the molded product obtained using the heat-dissipating resin composition of the present invention is preferably 150 to 1,000 μm, more preferably 200 to 800 μm, still more preferably. 250-700 μm. If the residual average fiber length is in the above range, the rigidity of the obtained molded product is further improved.
The residual average fiber length is measured, for example, by cutting out a part of a molded product, heating it to 800 ° C. to decompose the resin component, and then image-analyzing the fiber length of the remaining glass fiber. .

本発明の放熱性樹脂組成物において、上記成分〔C〕の含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、1〜50質量部であり、好ましくは5〜30質量部、より好ましくは5〜25質量部、更に好ましくは8〜20質量部である。上記成分〔C〕の含有量が上記範囲にあると、例えば、リフロー炉内等の高温下(例えば、250℃〜280℃)における成形品の剛性を維持することができ、樹脂成形品の耐衝撃性にも優れる。上記成分〔C〕の含有量が少なすぎると、耐熱性が低下する傾向にある。   In the heat-dissipating resin composition of the present invention, the content of the component [C] is 1 to 50 parts by mass when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass, preferably Is 5 to 30 parts by mass, more preferably 5 to 25 parts by mass, and still more preferably 8 to 20 parts by mass. When the content of the component [C] is in the above range, for example, the rigidity of the molded product at a high temperature (for example, 250 ° C. to 280 ° C.) such as in a reflow furnace can be maintained. Excellent impact. When there is too little content of said component [C], it exists in the tendency for heat resistance to fall.

1−4.酸化チタン粒子〔D〕
この成分〔D〕は、特に限定されず、ルチル型構造であってよいし、アナターゼ構造であってもよい。また、各構造を有する酸化チタン粒子を組み合わせて用いてもよい。
上記成分〔D〕としては、シリカ、アルミナ、リン酸アルミニウム、ジルコニア等の無機化合物からなる被覆部を有する粒子や、この被覆部の有無に限らない酸化チタン粒子に、シラノール、シランカップリング剤等の有機シラン化合物、シロキサン、アミノシラン、チタンカップリング剤、アルコールアミン、ポリエチレングリコール等のポリオール等の有機化合物を用いて表面処理された粒子又はこの有機化合物からなる被覆部を有する粒子を用いることもできる。
尚、上記有機シラン化合物が、例えば、一般式R−Si−(OR’)4−n〔式中、Rはアルキル基、ビニル基及びメタクリル基のうちの少なくとも1種を含む炭素数10以下の有機基であり、R’はメチル基又はエチル基であり、nは1〜3の整数である。〕で表される場合、この化合物を用いて表面処理された粒子は、通常、この化合物におけるアルコキシ基が加水分解されてシラノールになったもの、シラノールどうしが更に縮重合し、シロキサン結合を有するオリゴマーやポリマーになったもの、これらの混合物、等を含む被覆部を有する粒子である。
本発明においては、長期に渡って、光に対する反射特性に優れることから、シロキサン処理された酸化チタン粒子を用いることが好ましい。
1-4. Titanium oxide particles [D]
This component [D] is not specifically limited, A rutile type structure may be sufficient and an anatase structure may be sufficient. Moreover, you may use in combination the titanium oxide particle which has each structure.
As said component [D], a silanol, a silane coupling agent, etc. to the particle | grains which have a coating part which consists of inorganic compounds, such as a silica, an alumina, aluminum phosphate, a zirconia, and the titanium oxide particle which is not restricted to the presence or absence of this coating part Organic silane compounds, siloxanes, aminosilanes, titanium coupling agents, particles surface-treated with organic compounds such as polyols such as alcohol amines and polyethylene glycols, or particles having a coating portion made of these organic compounds can also be used. .
Incidentally, the organic silane compound, for example, the general formula R n -Si- (OR ') 4 -n wherein, R represents an alkyl group, to 10 carbon atoms containing at least one vinyl group and methacryl group R ′ is a methyl group or an ethyl group, and n is an integer of 1 to 3. ], The particles surface-treated with this compound are usually those in which the alkoxy group in this compound is hydrolyzed to form silanol, and the silanols are further polycondensed to form an oligomer having a siloxane bond. Or a polymer, a mixture thereof, or the like.
In the present invention, it is preferable to use siloxane-treated titanium oxide particles because of excellent light reflection characteristics over a long period of time.

上記成分〔D〕の数平均粒子径は、光に対する反射特性に優れることから、好ましくは0.1〜0.26μm、より好ましくは0.12〜0.24μmである。この数平均粒子径が小さすぎると、反射特性が低下する傾向にある。一方、大きすぎると、耐衝撃性が低下する傾向にある。   The number average particle diameter of the component [D] is preferably 0.1 to 0.26 μm, and more preferably 0.12 to 0.24 μm, because of excellent light reflection characteristics. When this number average particle diameter is too small, the reflection characteristics tend to be lowered. On the other hand, if it is too large, the impact resistance tends to decrease.

本発明の放熱性樹脂組成物において、上記成分〔D〕の含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、0.1〜50質量部であり、好ましくは1〜40質量部、より好ましくは5〜30質量部、更に好ましくは7〜25質量部である。上記成分〔D〕の含有量が上記範囲にあると、得られる成形品において、光に対する反射特性に優れる。上記成分〔D〕の含有量が少なすぎると、上記効果が得られない場合がある。一方、多すぎると、耐衝撃性が低下する場合がある。   In the heat-dissipating resin composition of the present invention, the content of the component [D] is 0.1 to 50 parts by mass when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. Preferably, it is 1-40 mass parts, More preferably, it is 5-30 mass parts, More preferably, it is 7-25 mass parts. When the content of the component [D] is in the above range, the resulting molded article is excellent in light reflection characteristics. If the content of the component [D] is too small, the above effect may not be obtained. On the other hand, if the amount is too large, the impact resistance may decrease.

1−5.光安定剤〔E〕
この成分〔E〕は、下記構造を含むヒンダードアミン系化合物である。

Figure 2010100682
〔式中、R、R、R、R及びRは、互いに、同一又は異なって、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又は、炭素数7〜20のアラルキル基である。〕 1-5. Light stabilizer [E]
This component [E] is a hindered amine compound containing the following structure.
Figure 2010100682
[In formula, R < 1 >, R < 2 >, R < 3 >, R < 4 > and R < 5 > are mutually the same or different, and a C1-C10 alkyl group, a C6-C20 aryl group, or C7. -20 aralkyl groups. ]

上記構造を含むヒンダードアミン系化合物としては、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−n−ブチル−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)マロネート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルメタクリレート、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチル−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)マロネート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールと、β,β,β’,β’−テトラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)ジエタノールとの縮合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと、トリデシルアルコールとの縮合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと、β,β,β’,β’−テトラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)ジエタノールとの縮合物等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてよいし、組み合わせて用いてもよい。また、これらのうち、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールと、β,β,β’,β’−テトラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)ジエタノールとの縮合物が好ましい。   Examples of the hindered amine compound containing the above structure include tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, bis (1,2,2, 6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -2-n-butyl-bis (1,2,2,6,6-pentamethyl) -4-piperidyl) malonate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate, 2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butyl-bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) malonate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl Condensate of benzene and β, β, β ′, β′-tetramethyl-3,9- (2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane) diethanol, 1,2, A condensate of 3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and tridecyl alcohol, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1 , 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β, β, β ′, β′-tetramethyl-3,9- (2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] And a condensate with undecane) diethanol. These compounds may be used alone or in combination. Of these, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol, and β, β, β ′, β′-tetramethyl-3 , 9- (2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane) diethanol is preferred.

本発明の放熱性樹脂組成物において、上記成分〔E〕の含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、0.01〜10質量部であり、好ましくは0.05〜10質量部、より好ましくは0.1〜5質量部、更に好ましくは0.2〜5質量部である。上記成分〔E〕の含有量が上記範囲にあると、得られる成形品において、光に対する反射特性に優れる。上記成分〔E〕の含有量が少なすぎると、上記効果が得られない場合がある。一方、多すぎると、耐熱性が低下する場合がある。   In the heat-dissipating resin composition of the present invention, the content of the component [E] is 0.01 to 10 parts by mass when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. Preferably, it is 0.05-10 mass parts, More preferably, it is 0.1-5 mass parts, More preferably, it is 0.2-5 mass parts. When the content of the component [E] is in the above range, the resulting molded article is excellent in light reflection characteristics. When there is too little content of said component [E], the said effect may not be acquired. On the other hand, when too much, heat resistance may fall.

1−6.添加剤
本発明の放熱性樹脂組成物は、目的、用途等に応じて、添加剤を含有していてもよい。この添加剤としては、充填剤、着色剤、他の光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、老化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、離型剤、抗菌剤、結晶核剤、流動改質剤、衝撃改質剤等が挙げられ、いずれも公知の化合物を用いることができる。尚、本発明の放熱性樹脂組成物を、LED実装用基板、リフレクター等、白色系に呈色された成形品の形成に用いる場合には、組成物がその色を維持できるように、添加剤が選択される。
1-6. Additive The heat-dissipating resin composition of the present invention may contain an additive depending on the purpose and application. This additive includes fillers, colorants, other light stabilizers, heat stabilizers, antioxidants, UV absorbers, anti-aging agents, antistatic agents, plasticizers, lubricants, flame retardants, mold release agents, Antibacterial agents, crystal nucleating agents, flow modifiers, impact modifiers and the like can be mentioned, and any known compounds can be used. In addition, when using the heat-radiating resin composition of the present invention for forming a molded product colored in white, such as an LED mounting substrate or a reflector, an additive is used so that the composition can maintain its color. Is selected.

上記充填剤は、粒状充填剤や、上記成分〔C〕を除く他の繊維状充填剤等を用いることができる。他の繊維状充填剤としては、セラミックウィスカー等の無機繊維、並びに、炭素繊維、アラミド繊維等の有機繊維が挙げられる。
本発明の放熱性樹脂組成物が、充填剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは5〜35質量部、より好ましくは10〜30質量部、更に好ましくは10〜20質量部である。
As the filler, a granular filler, other fibrous fillers excluding the component [C], and the like can be used. Other fibrous fillers include inorganic fibers such as ceramic whiskers and organic fibers such as carbon fibers and aramid fibers.
When the heat-radiating resin composition of the present invention contains a filler, the content is preferably 5 to 35 parts by mass when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. More preferably, it is 10-30 mass parts, More preferably, it is 10-20 mass parts.

上記着色剤としては、上記成分〔D〕を除く無機顔料や、有機顔料及び染料のいずれを用いてもよい。また、これらを組み合わせて用いてもよい。また、通常、充填剤等として用いられる白色系化合物である、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、チタン酸カルシウム等を用いてもよい。
本発明の放熱性樹脂組成物が、着色剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは5〜30質量部、より好ましくは5〜25質量部、更に好ましくは10〜20質量部である。
As the colorant, any of inorganic pigments, organic pigments and dyes excluding the component [D] may be used. Moreover, you may use combining these. In addition, zinc oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, aluminum nitride, silicon nitride, calcium titanate, and the like, which are usually white compounds used as fillers, may be used.
When the heat-radiating resin composition of the present invention contains a colorant, the content is preferably 5 to 30 parts by mass when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. More preferably, it is 5-25 mass parts, More preferably, it is 10-20 mass parts.

上記他の光安定剤としては、1,6−ヘキサメチレンビス−(N,N−ジメチルセミカルバジド)、1,1,1’,1’−テトラメチル−4,4’−(メチレンジ−p−フェニレン)ジセミカルバジド等のセミカルバゾン系化合物等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the other light stabilizer include 1,6-hexamethylenebis- (N, N-dimethylsemicarbazide), 1,1,1 ′, 1′-tetramethyl-4,4 ′-(methylenedi-p-phenylene). ) Semicarbazone compounds such as disemicarbazide. These can be used alone or in combination of two or more.

上記熱安定剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、ホスファイト系化合物、チオエーテル系化合物等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらのうち、ヒンダードフェノール系化合物が好ましい。尚、ヒンダードフェノール系化合物及びホスファイト系化合物は、酸化防止剤としても作用する。   Examples of the heat stabilizer include hindered phenol compounds, phosphite compounds, and thioether compounds. These can be used alone or in combination of two or more. Of these, hindered phenol compounds are preferred. The hindered phenol compound and the phosphite compound also act as an antioxidant.

ヒンダードフェノール系化合物としては、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、グリセリントリス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、2,4−ジメチル−6−(1−メチルペンタデシル)フェノール、ジエチル[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ホスフォネート、カルシウムジエチルビス[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ホスフォネート、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート]、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3,5−トリス[(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−キシリル)メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、2,6−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノール、3,9−ビス{2−[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてよいし、組み合わせて用いてもよい。   Examples of hindered phenol compounds include 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert -Butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], glycerol tris [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol tetrakis [3- (3,5- Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, thiodiethylenebis [3- (3,5-di-tert -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N′-he San-1,6-diylbis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], 2,4-dimethyl-6- (1-methylpentadecyl) phenol, diethyl [[ 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate, calcium diethylbis [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,3,5-tris (3 -Di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,3,5-tris [(4-tert-butyl -3-hydroxy-2,6-xylyl) methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 2,6-tert-butyl-4- (4 6-bis (octylthio) -1,3,5-triazin-2-ylamino) phenol, 3,9-bis {2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy ] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like. These compounds may be used alone or in combination.

また、ホスファイト系化合物としては、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル亜リン酸、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスフォナイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビスステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチル−1−フェニルオキシ)(2−エチルヘキシルオキシ)ホスホラス、テトラ(トリデシル)−4,4’−ブチリデン−ビス(2−tert−ブチル−5−メチルフェニル)ジホスファイト、ヘキサトリデシル−1,1,3−トリス(3−tert−ブチル−6−メチル−4−オキシフェニル)−3−メチルプロパントリホスファイト、モノ(ジノニルフェニル)モノ−p−ノニルフェニルホスファイト、トリス(モノノニルフェニル)ホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、トリスデシルホスファイト、トリフェニルホスファイト等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてよいし、組み合わせて用いてもよい。   Examples of the phosphite compound include tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, and bis [2,4- Bis (1,1-dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl ester phosphorous acid, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphos Phonite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bisstearyl pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2′- Methylenebis (4,6-di-tert-butyl-1-phenyloxy) (2-ethylhexene) Ruoxy) phosphorus, tetra (tridecyl) -4,4′-butylidene-bis (2-tert-butyl-5-methylphenyl) diphosphite, hexatridecyl-1,1,3-tris (3-tert-butyl-6) -Methyl-4-oxyphenyl) -3-methylpropane triphosphite, mono (dinonylphenyl) mono-p-nonylphenyl phosphite, tris (monononylphenyl) phosphite, diphenylisodecyl phosphite, trisdecyl phosphite And triphenyl phosphite. These compounds may be used alone or in combination.

本発明の放熱性樹脂組成物が、熱安定剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは0.1〜5.0質量部、より好ましくは0.5〜3.0質量部、更に好ましくは0.5〜2.0質量部である。熱安定剤をこの範囲で用いると、加工時及び長期使用時においても、変色、劣化等が発生しにくい成形品を得ることができる。   When the heat-radiating resin composition of the present invention contains a heat stabilizer, the content is preferably 0.1 to 0.1 when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. 5.0 parts by mass, more preferably 0.5 to 3.0 parts by mass, still more preferably 0.5 to 2.0 parts by mass. When the heat stabilizer is used in this range, it is possible to obtain a molded product that hardly undergoes discoloration, deterioration, etc. during processing and long-term use.

上記酸化防止剤としては、ヒンダードアミン化合物、ハイドロキノン化合物、ヒンダードフェノール化合物、ホスファイト系化合物、硫黄含有化合物等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the antioxidant include hindered amine compounds, hydroquinone compounds, hindered phenol compounds, phosphite compounds, and sulfur-containing compounds. These can be used alone or in combination of two or more.

上記紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、サリシレート系化合物、シアノアクリレート系化合物、安息香酸系化合物、シュウ酸アニリド系化合物、ニッケル化合物の金属錯塩等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone compounds, benzotriazole compounds, triazine compounds, salicylate compounds, cyanoacrylate compounds, benzoic acid compounds, oxalic acid anilide compounds, nickel metal complex salts, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

ベンゾフェノン系化合物としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノンと他の4置換ベンゾフェノンとの混合物、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン3水和物、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、4−ドデシロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸等が挙げられる。   Examples of benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2 , 2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone and other 4-substituted benzophenones, 2-hydroxy-4-methoxy-2'-carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone 3 Hydrates, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, bis (5-benzoyl-4-hydroxy-2) -Methoxyphenyl) methane, 2 Hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid and the like.

ベンゾトリアゾール系化合物としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−(3",4",5",6"−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5’−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレンビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール〕、ベンゾトリアゾール誘導体等が挙げられる。   Examples of the benzotriazole compounds include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5 Chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3' (3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl] benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl)- 6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], benzotriazole derivatives and the like.

トリアジン系化合物としては、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−トリデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソオクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−(2’−エチル)ヘキシル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−6−(2,4−ビスブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(1−オクチルオキシカルボニルエトキシ)フェニル]−4,6−ビス(4−フェニルフェニル)−1,3,5−トリアジン、これらのうちの1種以上を用いてなる変性物、重合物、誘導体等が挙げられる。
変性物としては、2−(4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−ヒドロキシフェニルと、オキシラン(例えば、炭素数10〜16のアルキルオキシメチルオキシラン)との反応生成物、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと、(2−エチルヘキシル)グリシド酸エステルとの反応生成物等が挙げられる。
Examples of triazine compounds include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol, 2- [4-[(2-hydroxy- 3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3- Tridecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6 -(2-hydroxy-4-isooctyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3- (2'-ethyl) hexyl) oxy] -2-hydroxyphenyl ]- 4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -6- (2,4-bisbutoxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (1-octyloxycarbonylethoxy) phenyl] -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine, these Examples include modified products, polymers, derivatives and the like using one or more of them.
Examples of the modified product include 2- (4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl) -5-hydroxyphenyl and oxirane (for example, having 10 to 16 carbon atoms). Product of 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and (2- And a reaction product with ethylhexyl) glycidic acid ester.

サリシレート系化合物としては、サリチル酸フェニル、サリチル酸p−tert−ブチルフェニル、サリチル酸p−オクチルフェニル等が挙げられる。
シアノアクリレート系化合物としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エチル、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸イソオクチル等が挙げられる。
安息香酸系化合物としては、o−ベンゾイル安息香酸メチル、レゾルシノール−モノベンゾエート、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、パラアミノ安息香酸、パラアミノ安息香酸モノグリセリンエステル、N,N−ジプロポキシパラアミノ安息香酸エチル、N,N−ジエトキシパラアミノ安息香酸エチル、N,N−ジメチルパラアミノ安息香酸メチル、N,N−ジメチルパラアミノ安息香酸エチル、N,N−ジメチルパラアミノ安息香酸ブチル等が挙げられる。
シュウ酸アニリド系化合物としては、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エチルシュウ酸ビスアニリド、2−エトキシ−2−エチルシュウ酸ビスアニリド等が挙げられる。
Examples of salicylate compounds include phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, and p-octylphenyl salicylate.
Examples of cyanoacrylate compounds include 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, ethyl α-cyano-β, β-diphenylacrylate, α- Examples include cyano-β, β-diphenyl acrylate isooctyl.
Examples of benzoic acid compounds include methyl o-benzoylbenzoate, resorcinol-monobenzoate, 2,4-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, paraaminobenzoic acid, paraamino Benzoic acid monoglycerol ester, ethyl N, N-dipropoxyparaaminobenzoate, ethyl N, N-diethoxyparaaminobenzoate, methyl N, N-dimethylparaaminobenzoate, ethyl N, N-dimethylparaaminobenzoate, N, N-dimethyl paraamino butyl benzoate etc. are mentioned.
Examples of the oxalic acid anilide compound include 2-ethoxy-5-tert-butyl-2′-ethyl bisanilide, 2-ethoxy-2-ethyl oxalic acid bisanilide, and the like.

金属錯塩としては、ニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、[2,2’−チオビス(4−tert−オクチルフェノレート)]−n−ブチルアミンニッケル、[2,2’−チオビス(4−tert−オクチルフェノレート)]−2−エチルヘキシルアミンニッケル、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、エチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ハイドロオキシベンジルリン酸のニッケル塩、ニッケルチオビスフェノール複合体等のニッケル化合物等が挙げられる。   Examples of the metal complex salts include nickel bis-octylphenylsulfamide, [2,2′-thiobis (4-tert-octylphenolate)]-n-butylamine nickel, [2,2′-thiobis (4-tert-octylpheno). Rate)]-2-ethylhexylamine nickel, nickel dibutyldithiocarbamate, nickel salt of ethyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphate, nickel compounds such as nickel thiobisphenol complex, etc. It is done.

本発明の放熱性樹脂組成物が、紫外線吸収剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは0.5〜3.0質量部、より好ましくは0.5〜2.5質量部、更に好ましくは1.0〜2.0質量部である。紫外線吸収剤をこの範囲で用いると、光に対する反射特性に優れた成形品を得ることができる。   When the heat-radiating resin composition of the present invention contains an ultraviolet absorber, the content is preferably 0.5 to when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. 3.0 mass parts, More preferably, it is 0.5-2.5 mass parts, More preferably, it is 1.0-2.0 mass parts. When the ultraviolet absorber is used in this range, a molded product having excellent light reflection characteristics can be obtained.

上記老化防止剤としては、例えば、ナフチルアミン系化合物、ジフェニルアミン系化合物、p−フェニレンジアミン系化合物、キノリン系化合物、ヒドロキノン誘導体系化合物、モノフェノール系化合物、ビスフェノール系化合物、トリスフェノール系化合物、ポリフェノール系化合物、チオビスフェノール系化合物、ヒンダードフェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、イミダゾール系化合物、ジチオカルバミン酸ニッケル塩系化合物、リン酸系化合物等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の放熱性樹脂組成物が、老化防止剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは0.5〜3.0質量部、より好ましくは0.5〜2.5質量部、更に好ましくは1.0〜2.0質量部である。
Examples of the anti-aging agent include naphthylamine compounds, diphenylamine compounds, p-phenylenediamine compounds, quinoline compounds, hydroquinone derivative compounds, monophenol compounds, bisphenol compounds, trisphenol compounds, polyphenol compounds. Thiobisphenol compound, hindered phenol compound, phosphite compound, imidazole compound, nickel dithiocarbamate salt compound, phosphate compound and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
When the heat-radiating resin composition of the present invention contains an anti-aging agent, the content thereof is preferably 0.5 to when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. 3.0 mass parts, More preferably, it is 0.5-2.5 mass parts, More preferably, it is 1.0-2.0 mass parts.

上記可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ブチルオクチルフタレート、ジ−(2−エチルヘキシル)フタレート、ジイソオクチルフタレート、ジイソデシルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジ−(2−エチルヘキシル)アジペート、ジイソオクチルアジペート、ジイソデシルアジペート、オクチルデシルアジペート、ジ−(2−エチルヘキシル)アゼレート、ジイソオクチルアゼレート、ジイソブチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ−(2−エチルヘキシル)セバケート、ジイソオクチルセバケート等の脂肪酸エステル類;トリメリット酸イソデシルエステル、トリメリット酸オクチルエステル、トリメリット酸n−オクチルエステル、トリメリット酸系イソノニルエステル等のトリメリット酸エステル類;ジ−(2−エチルヘキシル)フマレート、ジエチレングリコールモノオレート、グリセリルモノリシノレート、トリラウリルホスフェート、トリステアリルホスフェート、トリ−(2−エチルヘキシル)ホスフェート、エポキシ化大豆油、ポリエーテルエステル等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の放熱性樹脂組成物が、可塑剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは0.5〜3.0質量部、より好ましくは0.5〜2.5質量部、更に好ましくは1.0〜2.0質量部である。
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, butyl octyl phthalate, di- (2-ethylhexyl) phthalate, diisooctyl phthalate, and diisodecyl phthalate; dimethyl adipate , Diisobutyl adipate, di- (2-ethylhexyl) adipate, diisooctyl adipate, diisodecyl adipate, octyl decyl adipate, di- (2-ethylhexyl) azelate, diisooctyl azelate, diisobutyl azelate, dibutyl sebacate, di- Fatty acid esters such as (2-ethylhexyl) sebacate, diisooctyl sebacate; trimellitic acid isodecyl ester, trimellitic acid octy Esters, trimellitic acid esters such as trimellitic acid n-octyl ester, trimellitic acid isononyl ester; di- (2-ethylhexyl) fumarate, diethylene glycol monooleate, glyceryl monoricinolate, trilauryl phosphate, tristearyl phosphate , Tri- (2-ethylhexyl) phosphate, epoxidized soybean oil, polyether ester and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
When the heat-radiating resin composition of the present invention contains a plasticizer, the content is preferably 0.5 to 3 when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. 0.0 part by mass, more preferably 0.5 to 2.5 parts by mass, and still more preferably 1.0 to 2.0 parts by mass.

上記滑剤としては、脂肪酸エステル、炭化水素樹脂、パラフィン、高級脂肪酸、オキシ脂肪酸、脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミド、脂肪族ケトン、脂肪酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル、脂肪族アルコール、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロール、金属石鹸、シリコーン、変性シリコーン等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の放熱性樹脂組成物が、滑剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは0.1〜3.5質量部、より好ましくは0.1〜2.0質量部、更に好ましくは0.3〜1.0質量部である。
Examples of the lubricant include fatty acid ester, hydrocarbon resin, paraffin, higher fatty acid, oxy fatty acid, fatty acid amide, alkylene bis fatty acid amide, aliphatic ketone, fatty acid lower alcohol ester, fatty acid polyhydric alcohol ester, fatty acid polyglycol ester, aliphatic Examples include alcohol, polyhydric alcohol, polyglycol, polyglycerol, metal soap, silicone, and modified silicone. These can be used alone or in combination of two or more.
When the heat-radiating resin composition of the present invention contains a lubricant, the content thereof is preferably 0.1 to 3 when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. 5 mass parts, More preferably, it is 0.1-2.0 mass parts, More preferably, it is 0.3-1.0 mass part.

上記難燃剤としては、有機系難燃剤、無機系難燃剤、反応系難燃剤等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
有機系難燃剤としては、臭素化エポキシ系化合物、臭素化アルキルトリアジン化合物、臭素化ビスフェノール系エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール系フェノキシ樹脂、臭素化ビスフェノール系ポリカーボネート樹脂、臭素化ポリスチレン樹脂、臭素化架橋ポリスチレン樹脂、臭素化ビスフェノールシアヌレート樹脂、臭素化ポリフェニレンエーテル、デカブロモジフェニルオキサイド、テトラブロモビスフェノールA及びそのオリゴマー等のハロゲン系難燃剤;トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリプロピルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリペンチルホスフェート、トキヘキシルホスフェート、トリシクロヘキシルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ジクレジルフェニルホスフェート、ジメチルエチルホスフェート、メチルジブチルホスフェート、エチルジプロピルホスフェート、ヒドロキシフェニルジフェニルホスフェート等のリン酸エステルやこれらを各種置換基で変性した化合物、各種の縮合型のリン酸エステル化合物、リン元素及び窒素元素を含むホスファゼン誘導体等のリン系難燃剤;ポリテトラフルオロエチレン、グアニジン塩、シリコーン系化合物、ホスファゼン系化合物等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the flame retardant include organic flame retardants, inorganic flame retardants, and reactive flame retardants. These can be used alone or in combination of two or more.
Organic flame retardants include brominated epoxy compounds, brominated alkyltriazine compounds, brominated bisphenol epoxy resins, brominated bisphenol phenoxy resins, brominated bisphenol polycarbonate resins, brominated polystyrene resins, brominated crosslinked polystyrene resins Halogenated flame retardants such as brominated bisphenol cyanurate resin, brominated polyphenylene ether, decabromodiphenyl oxide, tetrabromobisphenol A and oligomers thereof; trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tripropyl phosphate, tributyl phosphate, tripentyl phosphate, toki Hexyl phosphate, tricyclohexyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate Phosphate esters such as phosphate, cresyl diphenyl phosphate, dicresyl phenyl phosphate, dimethyl ethyl phosphate, methyl dibutyl phosphate, ethyl dipropyl phosphate, hydroxyphenyl diphenyl phosphate, compounds modified with these substituents, various condensed types Phosphorus ester compounds, phosphorus flame retardants such as phosphazene derivatives containing phosphorus element and nitrogen element; polytetrafluoroethylene, guanidine salts, silicone compounds, phosphazene compounds, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

無機系難燃剤としては、水酸化アルミニウム、酸化アンチモン、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、ジルコニウム系化合物、モリブデン系化合物、スズ酸亜鉛等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
反応系難燃剤としては、テトラブロモビスフェノールA、ジブロモフェノールグリシジルエーテル、臭素化芳香族トリアジン、トリブロモフェノール、テトラブロモフタレート、テトラクロロ無水フタル酸、ジブロモネオペンチルグリコール、ポリ(ペンタブロモベンジルポリアクリレート)、クロレンド酸(ヘット酸)、無水クロレンド酸(無水ヘット酸)、臭素化フェノールグリシジルエーテル、ジブロモクレジルグリシジルエーテル等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the inorganic flame retardant include aluminum hydroxide, antimony oxide, magnesium hydroxide, zinc borate, zirconium compound, molybdenum compound, and zinc stannate. These can be used alone or in combination of two or more.
Reactive flame retardants include tetrabromobisphenol A, dibromophenol glycidyl ether, brominated aromatic triazine, tribromophenol, tetrabromophthalate, tetrachlorophthalic anhydride, dibromoneopentyl glycol, poly (pentabromobenzyl polyacrylate) , Chlorendic acid (hett acid), chlorendic anhydride (hett acid anhydride), brominated phenol glycidyl ether, dibromocresyl glycidyl ether and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

本発明の放熱性樹脂組成物が、難燃剤を含有する場合、その含有量は、上記成分〔A〕及び〔B〕の合計量を100質量部とした場合に、好ましくは5〜15質量部、より好ましくは10〜15質量部である。
尚、本発明の放熱性樹脂組成物に難燃剤を含有させる場合には、難燃助剤を用いることが好ましい。この難燃助剤としては、三酸化二アンチモン、四酸化二アンチモン、五酸化二アンチモン、アンチモン酸ナトリウム、酒石酸アンチモン等のアンチモン化合物や、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、水和アルミナ、酸化ジルコニウム、ポリリン酸アンモニウム、酸化スズ等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
When the heat-radiating resin composition of the present invention contains a flame retardant, the content is preferably 5 to 15 parts by mass when the total amount of the components [A] and [B] is 100 parts by mass. More preferably, it is 10-15 mass parts.
In addition, when making a heat dissipation resin composition of this invention contain a flame retardant, it is preferable to use a flame retardant adjuvant. As this flame retardant aid, antimony trioxide, antimony tetroxide, antimony pentoxide, sodium antimonate, antimony tartrate and other antimony compounds, zinc borate, barium metaborate, hydrated alumina, zirconium oxide, Examples include ammonium polyphosphate and tin oxide. These can be used alone or in combination of two or more.

1−7.組成物の製造方法
本発明の放熱性樹脂組成物は、上記の成分〔A〕、〔B〕、〔C〕、〔D〕、〔E〕、及び、必要に応じて用いられる添加剤を、上記所定の含有量となるように秤量し、押出機、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール、フィーダールーダー等に供給し、混練することにより製造することができる。原料成分の供給方法は特に限定されず、各々の成分を一括配合して混練してもよく、多段、分割配合して混練してもよい。
尚、混練温度は、上記熱可塑性樹脂の種類、及び、上記熱伝導性フィラーの含有量により選択されるが、通常、290℃〜330℃である。
1-7. Production method of composition The heat-dissipating resin composition of the present invention comprises the above-mentioned components [A], [B], [C], [D], [E], and additives used as necessary. It can be manufactured by weighing it so as to have the predetermined content, supplying it to an extruder, a Banbury mixer, a kneader, a roll, a feeder ruder, and kneading. The method for supplying the raw material components is not particularly limited, and the respective components may be mixed and kneaded in a lump, or may be kneaded in multiple stages and divided.
In addition, although kneading | mixing temperature is selected by the kind of the said thermoplastic resin, and content of the said heat conductive filler, it is 290 degreeC-330 degreeC normally.

1−8.組成物の性質
本発明の放熱性樹脂組成物は、上記成分〔A〕をマトリックスとして、上記成分〔B〕、〔C〕、〔D〕及び添加剤が均一に分散しており、各成分の含有割合によらず、成形加工性に優れ、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れた成形品を得ることができる。即ち、後述される条件により測定された、熱放射率が0.7以上であり、25℃における熱伝導率が3.5W/(m・K)以上であり、ISO75に準ずる熱変形温度が270℃以上であり、ISO179に準ずるシャルピー衝撃強度が1.0kJ/m以上であり、後述される条件により測定された、表面固有抵抗が1×1013Ω以上であり、吸水率が0.15%以下であり、且つ、耐光試験後の光線反射率が80%以上であるものとすることができる。
本発明の放熱性樹脂組成物は、以上のような優れた性質を有することから、LED実装用基板、LED実装用基板に配設されるリフレクター等の形成に好適である。
1-8. Properties of the composition The heat-dissipating resin composition of the present invention comprises the component [A] as a matrix, the components [B], [C], [D] and additives are uniformly dispersed. Regardless of the content ratio, it is possible to obtain a molded article excellent in molding processability and excellent in balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance and light reflection characteristics. That is, the thermal emissivity measured under the conditions described later is 0.7 or more, the thermal conductivity at 25 ° C. is 3.5 W / (m · K) or more, and the thermal deformation temperature according to ISO 75 is 270. ° C or higher, Charpy impact strength according to ISO 179 is 1.0 kJ / m 2 or higher, surface resistivity measured by the conditions described later is 1 × 10 13 Ω or higher, and water absorption is 0.15 % And the light reflectivity after the light resistance test can be 80% or more.
Since the heat-dissipating resin composition of the present invention has excellent properties as described above, it is suitable for forming an LED mounting substrate, a reflector disposed on the LED mounting substrate, and the like.

2.成形品
本発明のLED実装用基板は、上記本発明の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とする。また、本発明のリフレクターは、上記本発明の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とする。
本発明のLED実装用基板及びリフレクターは、表面実装型LEDパッケージの構成要素であり、ワイヤーボンディング実装の形態の場合の概略断面図(図1〜図3)を用いて説明することができる。
図1及び図2の表面実装型LEDパッケージ1は、LED実装用基板11aと、リフレクター12と、LED素子13と、電極14と、LED素子13及び電極14を接続するリード線15と、透明封止部(又は空隙部)16と、レンズ17とを備える。
2. Molded Article The LED mounting substrate of the present invention includes the heat-dissipating resin composition of the present invention. Moreover, the reflector of this invention is characterized by including the heat-radiating resin composition of the said invention.
The board | substrate for LED mounting and reflector of this invention are the components of a surface mount type LED package, and can be demonstrated using the schematic sectional drawing (FIGS. 1-3) in the case of the form of wire bonding mounting.
1 and 2 includes an LED mounting substrate 11a, a reflector 12, an LED element 13, an electrode 14, a lead wire 15 connecting the LED element 13 and the electrode 14, and a transparent seal. A stop (or gap) 16 and a lens 17 are provided.

2−1.LED実装用基板
本発明のLED実装用基板の形状は、通常、角形、円形等の平板状である。断面形状は、一様に平坦であってよいし、LED素子を配設する側の面には、目的、用途等に応じて凹部、凸部、貫通孔等を備えてもよい。例えば、図1によると、基板11aの一方の面(図面の上方側)に凹部を備え、この凹部の底面にLED素子13を配設している。
また、上記基板11aの、LED素子13が配設されていない側の面には、表面積を大きくすることにより放熱性を改良する等のために、溝等が設けられていてもよい。
2-1. LED Mounting Substrate The shape of the LED mounting substrate of the present invention is usually a flat plate shape such as a square or a circle. The cross-sectional shape may be uniformly flat, and the surface on which the LED element is disposed may be provided with a concave portion, a convex portion, a through hole, or the like according to the purpose, application, or the like. For example, according to FIG. 1, a concave portion is provided on one surface (upper side of the drawing) of the substrate 11a, and the LED element 13 is disposed on the bottom surface of the concave portion.
Further, a groove or the like may be provided on the surface of the substrate 11a where the LED element 13 is not provided in order to improve heat dissipation by increasing the surface area.

本発明のLED実装用基板は、複数のLED素子を備えることができる大型の基板であってもよいが、1つのLED素子を備えることができる小型の基板であってもよい。従って、本発明のLED実装用基板の大きさは、目的、用途等に応じて選択される。
また、本発明のLED実装用基板の厚さ(凹部、凸部等を備えない部分の厚さ)は、目的、用途等に応じて選択される。
The LED mounting substrate of the present invention may be a large substrate that can include a plurality of LED elements, but may be a small substrate that can include one LED element. Therefore, the size of the LED mounting substrate of the present invention is selected according to the purpose, application, and the like.
The thickness of the LED mounting substrate of the present invention (thickness of a portion not provided with a concave portion, a convex portion, etc.) is selected according to the purpose, application, and the like.

図1及び図2の表面実装型LEDパッケージ1は、LED実装用基板11aと、発光したLED素子13の周りに光を所定方向に反射させるリフレクター12とを別々に準備し、組み付けた態様である。図3に示すような表面実装型LEDパッケージとすることもできる。即ち、図3の表面実装型LEDパッケージ1は、リフレクター部12bを備えるLED実装用基板11bと、LED素子13と、電極14と、LED素子13及び電極14を接続するリード線15と、透明封止部(又は空隙部)16と、レンズ17とを備える態様である。尚、リフレクター部12bの形状等については、図1及び図2におけるリフレクター12と同様であり、後述の「2−2.リフレクター」において説明する。
図3から明らかなように、本発明のLED実装用基板は、図1でいうLED実装用基板11a及びリフレクター12が連続相となっているLED実装用基板(リフレクター部12bを備えるLED実装用基板)11bとすることもできる。このリフレクター部を備えるLED実装用基板11bであれば、従来の製造方法に比べ、少ない部品点数、少ない製造工程により表面実装型LEDパッケージを得ることができ、性能面及びコスト面において優れる。
The surface-mounted LED package 1 of FIGS. 1 and 2 is an embodiment in which an LED mounting substrate 11a and a reflector 12 that reflects light in a predetermined direction around a light emitting LED element 13 are separately prepared and assembled. . A surface-mount type LED package as shown in FIG. 3 may be used. That is, the surface-mounted LED package 1 of FIG. 3 includes an LED mounting substrate 11b having a reflector portion 12b, an LED element 13, an electrode 14, a lead wire 15 connecting the LED element 13 and the electrode 14, and a transparent seal. In this embodiment, a stop (or gap) 16 and a lens 17 are provided. In addition, about the shape of the reflector part 12b, it is the same as that of the reflector 12 in FIG.1 and FIG.2, and it demonstrates in the below-mentioned "2-2. Reflector."
As is apparent from FIG. 3, the LED mounting substrate of the present invention is an LED mounting substrate in which the LED mounting substrate 11a and the reflector 12 shown in FIG. 1 are in a continuous phase (an LED mounting substrate including a reflector portion 12b). ) 11b. If it is the board | substrate 11b for LED mounting provided with this reflector part, compared with the conventional manufacturing method, a surface mount type LED package can be obtained with a small number of parts and a small manufacturing process, and it is excellent in a performance surface and a cost surface.

2−2.リフレクター(リフレクター部)
本発明のリフレクター12は、本発明のLED実装用基板11aと組み合わせて用いてよいし、他の材料からなるLED実装用基板と組み合わせて用いてもよい。
本発明のリフレクター12、及び、上記LED実装用基板11bにおけるリフレクター部12bは、主として、その内面において、LED素子13からの光をレンズ17の方へ反射させる作用を有する。
これらの形状は、通常、レンズ17の端部(接合部)の形状に準じており、通常、角形、円形、楕円形等の筒状又は輪状である。図1及び図2の概略断面図においては、リフレクター12は、いずれも、筒状体(輪状体)であり、図1においては、リフレクター12のすべての端面がLED実装用基板11aの表面に接触、固定されている。一方、図2においては、リフレクター12の端部122(図面の右側)がLED実装用基板11aに接触、固定されており、リフレクター12の端部121(図面の左側)がLED実装用基板11aの側面に接触、固定されている。尚、本発明のリフレクター12、及び、上記LED実装用基板11bにおけるリフレクター部12bの内面は、LED素子13からの光の指向性を高めるために、テーパー状に上方に広げられていてもよい(図1参照)。
また、本発明のリフレクター12、及び、上記LED実装用基板11bにおけるリフレクター部12bは、レンズ17側の端部を、レンズ17の形状に応じた形に加工された場合には、レンズホルダーとしても機能させることができる。
2-2. Reflector (reflector part)
The reflector 12 of the present invention may be used in combination with the LED mounting substrate 11a of the present invention, or may be used in combination with an LED mounting substrate made of other materials.
The reflector 12 of the present invention and the reflector portion 12b in the LED mounting substrate 11b mainly have an action of reflecting light from the LED element 13 toward the lens 17 on the inner surface thereof.
These shapes generally conform to the shape of the end portion (joint portion) of the lens 17 and are usually cylindrical or circular such as a square, a circle, or an ellipse. 1 and 2, the reflector 12 is a cylindrical body (annular body). In FIG. 1, all end faces of the reflector 12 are in contact with the surface of the LED mounting substrate 11a. It has been fixed. On the other hand, in FIG. 2, the end portion 122 (right side of the drawing) of the reflector 12 is in contact with and fixed to the LED mounting substrate 11a, and the end portion 121 (left side of the drawing) of the reflector 12 is fixed to the LED mounting substrate 11a. It is in contact with and fixed to the side. In addition, in order to improve the directivity of the light from the LED element 13, the inner surface of the reflector 12 of this invention and the reflector part 12b in the said board | substrate 11b for LED mounting may be expanded upward in the taper shape ( (See FIG. 1).
Further, the reflector 12 of the present invention and the reflector portion 12b in the LED mounting substrate 11b can be used as a lens holder when the end portion on the lens 17 side is processed into a shape corresponding to the shape of the lens 17. Can function.

本発明のリフレクター12、及び、上記LED実装用基板11bにおけるリフレクター部12bは、目的、用途等に応じて凹部、凸部、貫通孔等を備えてもよい。例えば、図2によると、リフレクター121には貫通孔を備え、この貫通孔を通じて電極14を配設している。
また、本発明のリフレクター12、及び、上記LED実装用基板11bにおけるリフレクター部12bは、上記本発明の放熱性樹脂組成物が高い白色度を有する場合には、発光したLED素子の光に対する高い反射特性を得ることができるが、更に高い反射特性を得るために、内壁面に、光反射層を形成したものであってもよい。上記光反射層の厚さは、熱抵抗を低くする等の観点から、好ましくは25μm以下、より好ましくは20μm以下、更に好ましくは15μm以下である。
The reflector 12 of the present invention and the reflector portion 12b in the LED mounting substrate 11b may include a concave portion, a convex portion, a through-hole, and the like depending on the purpose and application. For example, according to FIG. 2, the reflector 121 includes a through hole, and the electrode 14 is disposed through the through hole.
Moreover, when the reflector 12 of the present invention and the reflector portion 12b of the LED mounting substrate 11b have a high degree of whiteness, the LED element substrate 11b has a high reflectance with respect to the light emitted from the LED element. Although a characteristic can be obtained, in order to obtain a higher reflection characteristic, a light reflection layer may be formed on the inner wall surface. The thickness of the light reflecting layer is preferably 25 μm or less, more preferably 20 μm or less, and still more preferably 15 μm or less, from the viewpoint of reducing thermal resistance.

2−3.表面実装型LEDパッケージ
本発明のLED実装用基板及びリフレクターを用いて、図1〜図3のような、ワイヤーボンディング実装形態の表面実装型LEDパッケージを容易に得ることができる。
LED素子13は、放射光(一般に、白色光LEDにおいてはUV又は青色光)を放出する、例えば、AlGaAs、AlGaInP、GaP又はGaNからなる活性層を、n型及びp型のクラッド層により挟んだダブルヘテロ構造を有する半導体チップ(発光体)であり、例えば、一辺の長さが0.5mm程度の六面体の形状をしている。尚、上記のように、ワイヤーボンディング実装の形態でない場合には、リード線15を用いず、バンプを介して、LED素子13の近くに配設された配線パターンにフリップチップ実装される形態とすることができる。
電極14は、駆動電圧を供給する接続端子であり、本発明のリフレクター12、又は、上記LED実装用基板11bにおけるリフレクター部12bに設けられた貫通孔等を通して配設されている。
リード線15は、LED素子13と電極14とを電気的に接続するものであり、透明封止部16を有する場合には、この透明封止部16中に埋設されている。
レンズ17は、通常、樹脂製であり、目的、用途等により様々な構造とすることができ、着色されていてもよい。
2-3. Surface Mount Type LED Package Using the LED mounting substrate and reflector of the present invention, a surface mount type LED package in a wire bonding mounting form as shown in FIGS. 1 to 3 can be easily obtained.
The LED element 13 emits radiant light (generally UV or blue light in a white light LED), for example, an active layer made of AlGaAs, AlGaInP, GaP or GaN sandwiched between n-type and p-type cladding layers. A semiconductor chip (light emitter) having a double heterostructure, for example, has a hexahedral shape with a side length of about 0.5 mm. As described above, when not in the form of wire bonding mounting, the lead wire 15 is not used and the chip is flip-chip mounted on the wiring pattern disposed near the LED element 13 via the bump. be able to.
The electrode 14 is a connection terminal for supplying a drive voltage, and is disposed through the reflector 12 of the present invention or a through hole provided in the reflector portion 12b of the LED mounting substrate 11b.
The lead wire 15 electrically connects the LED element 13 and the electrode 14. When the lead wire 15 has the transparent sealing portion 16, the lead wire 15 is embedded in the transparent sealing portion 16.
The lens 17 is usually made of resin, can have various structures depending on the purpose, application, etc., and may be colored.

また、図1〜図3における符号16で表される部分は、透明封止部であってよいし、必要により空隙部であってもよい。この部分は、通常、透光性及び絶縁性を与える材料等が充填された透明封止部であり、ワイヤーボンディング実装において、リード線15に直接接触することにより加わる力、及び、間接的に加わる振動、衝撃等により、LED素子13との接続部、及び/又は、電極14との接続部からリード線15が外れたり、切断したり、短絡したりすることによって生じる電気的な不具合を防止することができる。また、同時に、湿気、塵埃等からLED素子13を保護し、長期間に渡って信頼性を維持することができる。
尚、上記透明封止部は、必要に応じて、LED素子から発せられた光の波長を所定の波長に変換する、無機系及び/又は有機系の蛍光物質を含んでもよい。
Moreover, the part represented with the code | symbol 16 in FIGS. 1-3 may be a transparent sealing part, and may be a space | gap part as needed. This portion is usually a transparent sealing portion filled with a material that provides translucency and insulation, and is applied by a direct contact with the lead wire 15 and indirectly applied in wire bonding mounting. Prevents electrical problems caused by the lead wire 15 being disconnected, disconnected, or short-circuited from the connection portion with the LED element 13 and / or the connection portion with the electrode 14 due to vibration, impact, or the like. be able to. At the same time, the LED element 13 can be protected from moisture, dust, etc., and the reliability can be maintained over a long period of time.
In addition, the said transparent sealing part may also contain the inorganic type and / or organic type fluorescent substance which converts the wavelength of the light emitted from the LED element into a predetermined wavelength as needed.

この透光性及び絶縁性を与える材料(透明封止剤組成物)は、通常、シリコーン、エポキシシリコーン、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等を含む。これらのうち、耐熱性、耐候性、低収縮性及び耐変色性の観点から、シリコーンが特に好ましい。また、これらの成分は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。この透明封止剤組成物は、上記成分のうちの硬化可能な成分と、該成分を硬化させる硬化剤と、必要に応じて、硬化触媒等を配合した組成物であることが好ましい。
また、上記透明封止剤組成物は、蛍光物質、反応抑制剤、酸化防止剤、光安定剤、変色防止剤等を含有してもよい。
The material (transparent encapsulant composition) that imparts light-transmitting properties and insulating properties usually includes silicone, epoxy silicone, epoxy resin, acrylic resin, polyimide resin, polycarbonate resin, and the like. Among these, silicone is particularly preferable from the viewpoints of heat resistance, weather resistance, low shrinkage, and discoloration resistance. Moreover, these components can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The transparent sealant composition is preferably a composition in which a curable component among the above components, a curing agent that cures the component, and a curing catalyst, if necessary, are blended.
The transparent sealant composition may contain a fluorescent substance, a reaction inhibitor, an antioxidant, a light stabilizer, a discoloration inhibitor, and the like.

シリコーンを含有する透明封止剤組成物について説明する。シリコーンは、ゴム及び樹脂のいずれでもよい。また、組成物は、付加反応硬化型、縮合反応硬化型、UV硬化型等のいずれでもよいが、速やかに硬化させることができる点で、付加反応硬化型組成物が好ましい。なかでも、室温硬化型又は加熱硬化型の組成物が好ましい。
付加反応硬化型組成物は、シリコーンと、該シリコーンを硬化させる硬化剤と、必要に応じて、硬化触媒等を配合した組成物であることが好ましい。この組成物は、通常、ビニル基等の官能基を有するシリコーンと、分子中にSi−H結合を有する重合体と、硬化触媒(白金系触媒、パラジウム系触媒等)とからなる組成物である。例えば、東レ・ダウコーニング社等の製品を用いることができる。
The transparent sealant composition containing silicone will be described. Silicone may be either rubber or resin. The composition may be any of an addition reaction curable type, a condensation reaction curable type, a UV curable type, and the like, but an addition reaction curable composition is preferable in that it can be quickly cured. Of these, room temperature curable or heat curable compositions are preferred.
The addition reaction curable composition is preferably a composition in which silicone, a curing agent that cures the silicone, and a curing catalyst, if necessary, are blended. This composition is usually a composition comprising a silicone having a functional group such as a vinyl group, a polymer having a Si-H bond in the molecule, and a curing catalyst (platinum catalyst, palladium catalyst, etc.). . For example, products such as Toray Dow Corning can be used.

上記のシリコーンを含有する透明封止剤組成物において、必要に応じて配合される他の成分は、上記のとおりであるが、組成物は、硬化阻害物質を含有しないように調製される。また、上記本発明の放熱性樹脂組成物からなる成形品に、硬化阻害物質が含まれると、透明封止剤組成物を用いたときに、付加反応が進行しない場合、又は、進行しにくい場合がある。その結果、上記成形品との接着性が低下することとなる。例えば、上記本発明の放熱性樹脂組成物がリン系難燃剤を含有する場合、又は、該組成物が下記構造を含むヒンダードアミン系光安定剤を含有する場合には、透明封止剤組成物の硬化が十分でないことがある。

Figure 2010100682
〔式中、R、R、R及びRは、互いに、同一又は異なって、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又は、炭素数7〜20のアラルキル基である。〕
従って、放熱性樹脂組成物に、添加剤を配合する場合には、硬化阻害物質ではない添加剤が選択される。尚、硬化阻害物質は、通常、硬化触媒の種類に依存するものであり、例えば、アミン化合物、アミド化合物、ニトリル化合物、シアナート化合物、オキシモ化合物、ニトロソ化合物、ヒドラゾ化合物、アゾ化合物、キレート化合物等の窒素元素を含む有機化合物;ホスフィン化合物、亜リン酸エステル等のリン元素を含む有機化合物;硫化物、チオ化合物等の硫黄元素を含む有機化合物;錫元素、ヒ素元素、アンチモン元素、セレン元素、テルル元素、鉛元素等を含むイオン性化合物;アセチレン等の多重結合を有する有機化合物等が知られている。 In the transparent sealant composition containing the above-mentioned silicone, other components added as necessary are as described above, but the composition is prepared so as not to contain a curing inhibitor. In addition, when a curing inhibitor is contained in the molded product composed of the heat-dissipating resin composition of the present invention, when the transparent sealant composition is used, the addition reaction does not proceed or is difficult to proceed. There is. As a result, the adhesiveness with the molded product is lowered. For example, when the heat-dissipating resin composition of the present invention contains a phosphorus flame retardant, or when the composition contains a hindered amine light stabilizer having the following structure, the transparent encapsulant composition: Curing may not be sufficient.
Figure 2010100682
[In formula, R < 1 >, R < 2 >, R < 4 > and R < 5 > are mutually the same or different, and a C1-C10 alkyl group, a C6-C20 aryl group, or C7-C20. Aralkyl group. ]
Therefore, when an additive is added to the heat-dissipating resin composition, an additive that is not a curing inhibitor is selected. The curing inhibitor usually depends on the type of curing catalyst. For example, amine compounds, amide compounds, nitrile compounds, cyanate compounds, oximo compounds, nitroso compounds, hydrazo compounds, azo compounds, chelate compounds, etc. Organic compounds containing nitrogen elements; Organic compounds containing phosphorus elements such as phosphine compounds and phosphites; Organic compounds containing sulfur elements such as sulfides and thio compounds; Tin elements, arsenic elements, antimony elements, selenium elements, tellurium Ionic compounds containing elements, lead elements, etc .; organic compounds having multiple bonds such as acetylene are known.

以下に、ワイヤーボンディング実装形態の表面実装型LEDパッケージ(図1)の製造方法の一例について説明する。
まず、上記本発明の放熱性樹脂組成物を、所定形状のキャビティ空間を備える金型を用いた射出成形等により、凹部を有する平板状のLED実装用基板11a、及び、筒状(輪状)であり且つ電極14を内面から外面に嵌挿可能な貫通孔を有するリフレクター12を成形する。その後、別途、準備したLED素子13、電極14及びリード線を、接着剤又は接合部材によりLED実装用基板11a及びリフレクター12に固定する。次いで、LED実装用基板11a及びリフレクター12により形成された凹部に、シリコーン等を含む透明封止剤組成物を注入し、加熱、乾燥等により硬化させて透明封止部16とする。その後、透明封止部16の上にレンズ17を配設して、図1に示す表面実装型LEDパッケージが得られる。また、透明封止剤組成物が未硬化の状態でレンズ17を載置してから、組成物を硬化させてもよい。
Below, an example of the manufacturing method of the surface mounting type LED package (FIG. 1) of a wire bonding mounting form is demonstrated.
First, the heat-dissipating resin composition of the present invention is formed into a flat plate-shaped LED mounting substrate 11a having a recess and a cylindrical shape (annular shape) by injection molding using a mold having a cavity space with a predetermined shape. A reflector 12 having a through hole in which the electrode 14 can be inserted from the inner surface to the outer surface is formed. Thereafter, separately prepared LED elements 13, electrodes 14 and lead wires are fixed to the LED mounting substrate 11a and the reflector 12 with an adhesive or a bonding member. Next, a transparent sealing agent composition containing silicone or the like is injected into the recess formed by the LED mounting substrate 11 a and the reflector 12, and is cured by heating, drying, or the like to form the transparent sealing portion 16. Then, the lens 17 is arrange | positioned on the transparent sealing part 16, and the surface mount type LED package shown in FIG. 1 is obtained. Alternatively, the composition may be cured after the lens 17 is placed in an uncured state of the transparent sealant composition.

2−4.LED照明装置
本発明のLED実装用基板を有する表面実装型LEDパッケージ、本発明のリフレクターを有する表面実装型LEDパッケージ、又は、本発明の、リフレクター部を備えるLED実装用基板を有する表面実装型LEDパッケージを用いて、LED照明装置とすることができる。図1の表面実装型LEDパッケージを用いたLED照明装置の概略断面図を図4に示す。
図4のLED照明装置2は、2つの表面実装型LEDパッケージを備える態様であり、図1の表面実装型LEDパッケージと、このパッケージを構成する電極14と、LED素子を発光させるためのバイアス電圧印加用電源(図示せず)とを接続する配線パターン22と、この配線パターン22を含む照明装置用基板21と、を備える。更に、これらの表面実装型LEDパッケージ及び照明装置用基板21を覆うためのハウジングを備えてもよい。
2-4. LED Lighting Device Surface-Mounted LED Package Having LED Mounting Substrate of the Present Invention, Surface-Mounted LED Package Having Reflector of the Present Invention, or Surface-Mounted LED Having LED Mounting Substrate with Reflector Section of the Present Invention An LED lighting device can be obtained using the package. FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of an LED lighting device using the surface-mount type LED package of FIG.
The LED lighting device 2 of FIG. 4 is an aspect including two surface-mount LED packages, the surface-mount LED package of FIG. 1, the electrodes 14 constituting the package, and a bias voltage for causing the LED elements to emit light. A wiring pattern 22 for connecting an application power source (not shown) and a lighting device substrate 21 including the wiring pattern 22 are provided. Furthermore, you may provide the housing for covering these surface mount type LED packages and the board | substrate 21 for illuminating devices.

照明装置用基板21の構成は、特に限定されないが、例えば、図4のように、基板211(好ましくは樹脂製絶縁放熱板)及び基板212(好ましくは樹脂製絶縁放熱板)の2層型とし、基板211が配線パターンを含む態様とすることができる。尚、図4においては、(図1の)表面実装型LEDパッケージが、放熱性及び絶縁性に優れたLED実装用基板11aを備えることから、基板211及び基板212における、上記LED実装用基板11aの下方の部分は、貫通孔とする等開口させている。   Although the structure of the board | substrate 21 for illuminating devices is not specifically limited, For example, as FIG. 4, it is set as the 2 layer type | mold of the board | substrate 211 (preferably resin-made heat sink) and the board | substrate 212 (preferably resin-made heat sink). The substrate 211 may include a wiring pattern. In FIG. 4, since the surface-mount LED package (of FIG. 1) includes the LED mounting substrate 11a having excellent heat dissipation and insulation, the LED mounting substrate 11a in the substrate 211 and the substrate 212 is provided. The part below is opened as a through hole.

以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の主旨を超えない限り、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。尚、実施例中において部及び%は、特に断らない限り質量基準である。   EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to such examples as long as the gist of the present invention is not exceeded. In the examples, parts and% are based on mass unless otherwise specified.

1.放熱性樹脂組成物の原料成分
組成物の調製に用いる原料成分を以下に示す。
1−1.ポリアミド樹脂〔A〕
(1)A1
三井化学社製変性ポリアミド6,T「アーレンAE4200」(商品名)を用いた。融点は320℃である。
(2)A2
ディー・エス・エムジャパン社製ポリアミド4,6「スタニールTS300」(商品名)を用いた。融点は295℃である。
1. Raw material components of heat-dissipating resin composition The raw material components used for the preparation of the composition are shown below.
1-1. Polyamide resin [A]
(1) A1
Modified polyamide 6, T “Aren AE4200” (trade name) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. was used. The melting point is 320 ° C.
(2) A2
Polyamide 4,6 “Stanyl TS300” (trade name) manufactured by DSM Japan Ltd. was used. The melting point is 295 ° C.

1−2.窒化ホウ素粒子〔B〕
(1)B1
電気化学工業社製「デンカボロンナイトライド粉末SGP」(商品名)を用いた。六方晶構造であり、比表面積は2m/g、タップ密度は0.8g/cm、液相沈降法による体積平均粒子径は18.0μmである。また、粒度分布の測定により得られた累計体積が10%及び90%であるときの粒子径D10及びD90は、それぞれ、5.4μm及び41.6μmである(D90/D10=7.7)である。
(2)B2
電気化学工業社製「デンカボロンナイトライド粉末HGP」(商品名)を用いた。六方晶構造であり、比表面積は11m/g、タップ密度は0.4g/cm、液相沈降法による体積平均粒子径は5.0μmである。また、粒子径D10及びD90は、それぞれ、1.9μm及び10.6μmである(D90/D10=5.6)である。
(3)B3
電気化学工業社製「デンカボロンナイトライド粉末SGPS」(商品名)を用いた。六方晶構造であり、比表面積は2m/g、タップ密度は0.5g/cm、液相沈降法による体積平均粒子径は12.0μmである。また、粒子径D10及びD90は、それぞれ、4.3μm及び27.0μmである(D90/D10=6.3)である。
1-2. Boron nitride particles [B]
(1) B1
“Denkaboron nitride powder SGP” (trade name) manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. was used. It has a hexagonal structure, a specific surface area of 2 m 2 / g, a tap density of 0.8 g / cm 3 , and a volume average particle size by liquid phase precipitation method of 18.0 μm. The particle diameters D 10 and D 90 when the cumulative volume obtained by measuring the particle size distribution is 10% and 90% are 5.4 μm and 41.6 μm, respectively (D 90 / D 10 = 7 7).
(2) B2
“Denkaboron nitride powder HGP” (trade name) manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. was used. It has a hexagonal structure, a specific surface area of 11 m 2 / g, a tap density of 0.4 g / cm 3 , and a volume average particle size by liquid phase precipitation method of 5.0 μm. The particle diameters D 10 and D 90 are 1.9 μm and 10.6 μm, respectively (D 90 / D 10 = 5.6).
(3) B3
“Denkaboron nitride powder SGPS” (trade name) manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. was used. It has a hexagonal structure, a specific surface area of 2 m 2 / g, a tap density of 0.5 g / cm 3 , and a volume average particle size by liquid phase precipitation method of 12.0 μm. The particle diameters D 10 and D 90 are 4.3 μm and 27.0 μm, respectively (D 90 / D 10 = 6.3).

1−3.ガラス繊維〔C〕
エヌエスジー・ヴェトロテックス社製チョップドストランドガラス繊維「マイクログラス RES03−TP89Z」(商品名)を用いた。ガラス繊維径は13μm、表面処理にシラン系カップリング剤が用いられ、集束剤としてアクリル系重合体が用いられている。
1−4.酸化チタン粒子〔D〕
(1)D1
石原産業社製シロキサン処理された酸化チタン「タイペークPF691」(商品名)を用いた。ルチル型構造であり、平均粒子径は0.21μmである。
(2)D2
石原産業社製シロキサン処理されていない酸化チタン「タイペークCR−60−2」(商品名)を用いた。ルチル型構造であり、平均粒子径は0.21μmである。
1-3. Glass fiber [C]
A chopped strand glass fiber “Microglass RES03-TP89Z” (trade name) manufactured by NSV Vetrotex was used. The glass fiber diameter is 13 μm, a silane coupling agent is used for the surface treatment, and an acrylic polymer is used as the sizing agent.
1-4. Titanium oxide particles [D]
(1) D1
A siloxane-treated titanium oxide “Taipaque PF691” (trade name) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. was used. The rutile structure has an average particle diameter of 0.21 μm.
(2) D2
Titanium oxide “Taipaque CR-60-2” (trade name) not treated with siloxane by Ishihara Sangyo Co., Ltd. was used. The rutile structure has an average particle diameter of 0.21 μm.

1−5.光安定剤〔E〕
(1)E1
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールと、β,β,β’,β’−テトラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)ジエタノールとの縮合物(商品名「アデカスタブ LA−63P」、ADEKA社製)を用いた。
(2)E2
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(商品名「アデカスタブ LA−77」、ADEKA社製)を用いた。
1-5. Light stabilizer [E]
(1) E1
1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol, β, β, β ′, β′-tetramethyl-3,9- (2, 4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane) condensate with diethanol (trade name “Adekastab LA-63P”, manufactured by ADEKA) was used.
(2) E2
Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate (trade name “ADK STAB LA-77”, manufactured by ADEKA) was used.

1−6.他の成分
(1)熱伝導性フィラー
アドマテックス社製アルミナ「AC9500」(商品名)を用いた。平均粒子径は7.4μmである。
(2)熱安定剤
3,9−ビス{2−[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン(商品名「アデカスタブ AO−80」、ADEKA社製)を用いた。
1-6. Other components (1) Thermally conductive filler Alumina “AC9500” (trade name) manufactured by Admatechs Corporation was used. The average particle size is 7.4 μm.
(2) Thermal stabilizer 3,9-bis {2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8 , 10-tetraoxaspiro [5,5] undecane (trade name “ADK STAB AO-80”, manufactured by ADEKA) was used.

2.放熱性樹脂組成物の製造及び評価
実施例1−1〜1−6及び比較例1−1〜1−9
複合体の製造に用いる放熱性樹脂組成物は、上記の原料成分を、表1〜表3に示された配合割合に基づいてヘンシェルミキサーにより混合した後、弱練りタイプのスクリューを備えるプラスチック光学研究所製二軸押出機「BT−40−S2−30−L」(型式名)を用いて、スクリュー回転数100rpmとして温度310℃で溶融混練し、ペレット(放熱性樹脂組成物)を得た。
2. Production and Evaluation of Heat Dissipating Resin Composition Examples 1-1 to 1-6 and Comparative Examples 1-1 to 1-9
The heat-dissipating resin composition used for manufacturing the composite is a plastic optical research equipped with the above-mentioned raw material components by a Henschel mixer based on the blending ratios shown in Tables 1 to 3, and then equipped with a weakly kneaded screw. Using a twin screw extruder “BT-40-S2-30-L” (model name), melt screw kneading was performed at a temperature of 310 ° C. with a screw rotation speed of 100 rpm to obtain pellets (heat dissipating resin composition).

各組成物について、以下の評価を行った。その結果を表1〜表3に併記した。
2−1.熱放射率
上記ペレットを、金型を用いた射出成形に供して、大きさ150×150×3mmの試験片を作製した。その後、この試験片の熱放射率を、ジャパンセンサー社製サーモスポットセンサー「TSS−5X」(型式名)を用い、赤外線検出による反射エネルギー測定方式により、雰囲気温度25℃で測定した。尚、射出成形時のペレットの溶融温度は310℃、金型の温度は150℃である。
2−2.熱伝導率
上記ペレットを310℃で溶融させた溶融物を、直径10mm及び長さ50mmのキャビティ空間を有する金型の下方から射出して、直径10mm及び長さ50mmの円柱体を作製した。尚、上記金型の温度は、150℃である。
その後、円柱体のほぼ中央部において、厚さが1.5mmの円板となるように切り出し、これを試験片(直径10mm及び厚さ1.5mm)とした。熱伝導率を放熱性樹脂組成物の流動方向に対して測定するために、この試験片における、上面及び下面の各表面にプローブを当て、アルバック理工社製レーザーフラッシュ法熱定数測定装置「TR−7000R」(型式名)を用い、25℃で測定した。
2−3.熱変形温度
ISO75に準じて、荷重1.80MPaの条件にて測定した。
2−4.シャルピー衝撃強さ
ISO179に準じて、室温におけるシャルピー衝撃強さ(Edgewise Impact、ノッチ付き)を測定した。測定条件は、以下の通りである。
試験片タイプ : Type 1
ノッチタイプ : Type A
荷重 : 2J
2−5.線膨張係数
シャルピー衝撃強さの測定用試験片(大きさ80×10×4mm)の中央部から、40×10×4mmの大きさに切削加工し、これを線膨張係数測定用試験片とした。この試験片を、サンメック社製線膨張係数測定装置に供して、温度20℃〜70℃における線膨張を測定した。
2−6.表面固有抵抗
上記ペレットを、金型を用いた射出成形に供して、直径200mm及び厚さ2mmの円形の試験片を作製した。次いで、この試験片の表面固有抵抗をAgilent Technologies社製ハイ・レジスタンス・メータ「4339B」(型式名)を用いて測定した。尚、射出成形時のペレットの溶融温度は310℃、金型の温度は150℃である。
2−7.光線反射率
上記熱伝導率の測定に用いた試験片について、紫外線(波長460nm)に対する反射率を、日本分光社製紫外可視近赤外分光光度計「V−670」(型式名)により、入射角60度で測定した。
また、スガ試験機社製紫外線ロングライフ・フェードメーター「FAL−5H・B」(型式名)を用いて、上記熱伝導率の測定に用いたと同じ試験片を、135V、16A、温度83℃、雨無しの条件で400時間曝露(光照射)した。この曝露試験片の光線反射率についても上記と同様にして測定した。
2−8.絶縁破壊特性
上記ペレットを、金型を用いた射出成形に供して、大きさ100×100×1mmの試験片を作製した。次いで、この試験片を温度23℃及び相対湿度62%に調節された恒温恒湿槽に48時間放置した後、ASTM D149に準じて、絶縁破壊特性を測定した。尚、射出成形時のペレットの溶融温度は310℃、金型の温度は150℃である。
2−9.耐ブリスター性
上記ペレットを、金型を用いた射出成形に供して、大きさ127×12.7×0.8mmの試験片を作製した。次いで、この試験片を、温度23℃の水に24時間浸漬し、浸漬後、厚さ1.6mmのガラスエポキシ基板に固定した。尚、射出成形時のペレットの溶融温度は310℃、金型の温度は150℃である。
その後、この一体化物を、予熱部の温度を150℃±3℃とし、リフロー部の最高温度を任意に調整した卓上型遠赤外式リフロー炉内を通過させた(予熱部における通過時間:120秒、リフロー部の通過時間:60秒)。そして、リフロー部を通過後の試験片の表面を目視観察し、ブリスターが発生したときのリフロー部の温度を測定した。
2−10.耐水性
上記ペレットを、金型を用いた射出成形に供して、射出成形にて直径50mm及び厚さ3.2mmの円形の試験片を作製した。次いで、この試験片を絶乾状態として、温度23℃の水中に24時間浸漬し、浸漬前後の重量変化量を算出し、増加量を吸水率とし、耐水性を評価した。尚、射出成形時のペレットの溶融温度は310℃、金型の温度は150℃である。
Each composition was evaluated as follows. The results are shown in Tables 1 to 3.
2-1. Thermal Emissivity The pellet was subjected to injection molding using a mold to prepare a test piece having a size of 150 × 150 × 3 mm. Thereafter, the thermal emissivity of the test piece was measured at an ambient temperature of 25 ° C. by a reflection energy measurement method by infrared detection using a thermo spot sensor “TSS-5X” (model name) manufactured by Japan Sensor. In addition, the melting temperature of the pellet at the time of injection molding is 310 ° C., and the temperature of the mold is 150 ° C.
2-2. Thermal conductivity A melt obtained by melting the above pellets at 310 ° C. was injected from below a mold having a cavity space having a diameter of 10 mm and a length of 50 mm to produce a cylindrical body having a diameter of 10 mm and a length of 50 mm. The temperature of the mold is 150 ° C.
Then, it cut out so that it might become a disk with a thickness of 1.5 mm in the substantially center part of the cylindrical body, and this was made into the test piece (diameter 10mm and thickness 1.5mm). In order to measure the thermal conductivity with respect to the flow direction of the heat-dissipating resin composition, a probe was applied to each of the upper and lower surfaces of the test piece, and a laser flash method thermal constant measuring device “TR- 7000R "(model name) and measured at 25 ° C.
2-3. Thermal deformation temperature Measured under conditions of a load of 1.80 MPa according to ISO75.
2-4. Charpy impact strength Charpy impact strength (Edgewise Impact, with notch) at room temperature was measured according to ISO179. The measurement conditions are as follows.
Specimen type: Type 1
Notch type: Type A
Load: 2J
2-5. Linear expansion coefficient Charpy impact strength measurement test piece (size 80 × 10 × 4 mm) was cut into a size of 40 × 10 × 4 mm from the center, and this was used as a linear expansion coefficient measurement test piece. . The test piece was subjected to a linear expansion coefficient measuring device manufactured by Sanmec Co., and the linear expansion at a temperature of 20 ° C. to 70 ° C. was measured.
2-6. Surface Specific Resistance The pellet was subjected to injection molding using a mold to produce a circular test piece having a diameter of 200 mm and a thickness of 2 mm. Subsequently, the surface specific resistance of this test piece was measured using a high resistance meter “4339B” (model name) manufactured by Agilent Technologies. In addition, the melting temperature of the pellet at the time of injection molding is 310 ° C., and the temperature of the mold is 150 ° C.
2-7. Light reflectance With respect to the test piece used for the measurement of the thermal conductivity, the reflectance with respect to ultraviolet rays (wavelength 460 nm) was incident on an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer “V-670” (model name) manufactured by JASCO Corporation. Measurements were made at an angle of 60 degrees.
In addition, using the UV long life fade meter “FAL-5H • B” (model name) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the same test piece used for the measurement of the thermal conductivity was 135 V, 16 A, temperature 83 ° C., Exposure (light irradiation) was performed for 400 hours under conditions without rain. The light reflectance of this exposed test piece was also measured in the same manner as described above.
2-8. Dielectric Breakdown Characteristics The pellets were subjected to injection molding using a mold to produce test pieces having a size of 100 × 100 × 1 mm. Next, this test piece was left for 48 hours in a constant temperature and humidity chamber adjusted to a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 62%, and then dielectric breakdown characteristics were measured according to ASTM D149. In addition, the melting temperature of the pellet at the time of injection molding is 310 ° C., and the temperature of the mold is 150 ° C.
2-9. Blister resistance The pellets were subjected to injection molding using a mold to prepare test pieces having a size of 127 × 12.7 × 0.8 mm. Next, this test piece was immersed in water at a temperature of 23 ° C. for 24 hours, and after the immersion, it was fixed to a glass epoxy substrate having a thickness of 1.6 mm. In addition, the melting temperature of the pellet at the time of injection molding is 310 ° C., and the temperature of the mold is 150 ° C.
Thereafter, the integrated product was passed through a desktop far-infrared reflow furnace in which the temperature of the preheating part was 150 ° C. ± 3 ° C. and the maximum temperature of the reflowing part was arbitrarily adjusted (passing time in the preheating part: 120 Second, passage time of reflow part: 60 seconds). And the surface of the test piece after passing through the reflow part was visually observed, and the temperature of the reflow part when the blister was generated was measured.
2-10. Water resistance The pellets were subjected to injection molding using a mold, and circular test pieces having a diameter of 50 mm and a thickness of 3.2 mm were produced by injection molding. Next, the test piece was completely dried, immersed in water at a temperature of 23 ° C. for 24 hours, the amount of change in weight before and after immersion was calculated, the increased amount was taken as the water absorption rate, and the water resistance was evaluated. In addition, the melting temperature of the pellets at the time of injection molding is 310 ° C., and the temperature of the mold is 150 ° C.

Figure 2010100682
Figure 2010100682

Figure 2010100682
Figure 2010100682

Figure 2010100682
Figure 2010100682

表1〜表3から、以下のことが分かる。
比較例1−1は、本発明の範囲外の窒化ホウ素粒子(B2)を含む組成物を用いた例であり、熱伝導率が低く放熱性が十分ではなく、耐熱性も劣っていた。比較例1−2は、本発明の範囲外の窒化ホウ素粒子(B3)を含む組成物を用いた例であり、熱伝導率が低く放熱性が十分ではなく、耐熱性も劣っていた。比較例1−3は、窒化ホウ素粒子を含有しない組成物を用いた例であり、熱放射率、熱伝導率、耐熱性、耐光試験後の光線反射率及び絶縁破壊特性が劣っていた。比較例1−4は、ガラス繊維を含有しない組成物を用いた例であり、耐熱性が劣っていた。比較例1−5は、光安定剤を含有しない組成物を用いた例であり、耐光試験後の光線反射率が劣っていた。比較例1−6は、窒化ホウ素粒子(B1)の含有量が本発明の範囲外で多い例であり、耐衝撃性が劣っていた。比較例1−7は、ポリアミド6,Tを含まず、ポリアミド4,6を用いた例であり、耐水性及び耐光試験後の光線反射率が劣っていた。比較例1−8は、本発明の範囲外の光安定剤(E2)を含む組成物を用いた例であり、耐光試験後の光線反射率が劣っていた。比較例1−9は、本発明に係る窒化ホウ素粒子に代えて熱伝導性フィラーを含む組成物を用いた例であり、熱伝導率が低く放熱性が十分ではなく、耐衝撃性及び耐光試験後の光線反射率も劣っていた。
一方、実施例1−1〜1−6は、本発明の放熱性樹脂組成物を用いた例であり、熱伝導率が3.5W/(m・K)以上であり、熱変形温度が270℃以上であり、シャルピー衝撃強度が1.0kJ/m以上であり、表面固有抵抗が1×1013Ω以上であり、吸水率が0.15%以下であり、耐光試験後の光線反射率が80%以上であり、優れた性能を示した。なかでも、実施例1−1〜1−4は、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性の間のバランスに優れていた。
From Tables 1 to 3, the following can be understood.
Comparative Example 1-1 is an example using a composition containing boron nitride particles (B2) outside the scope of the present invention, and the heat conductivity was low, the heat dissipation property was not sufficient, and the heat resistance was also inferior. Comparative Example 1-2 is an example using a composition containing boron nitride particles (B3) outside the scope of the present invention, and the heat conductivity was low, the heat dissipation property was not sufficient, and the heat resistance was also inferior. Comparative Example 1-3 is an example using a composition containing no boron nitride particles, and was inferior in thermal emissivity, thermal conductivity, heat resistance, light reflectance after light resistance test, and dielectric breakdown characteristics. Comparative example 1-4 is an example using the composition which does not contain glass fiber, and heat resistance was inferior. Comparative Example 1-5 is an example in which a composition containing no light stabilizer was used, and the light reflectance after the light resistance test was inferior. Comparative Example 1-6 was an example in which the content of boron nitride particles (B1) was large outside the scope of the present invention, and the impact resistance was poor. Comparative Example 1-7 was an example using polyamide 4 and 6 without including polyamide 6 and T, and the light reflectance after the water resistance and light resistance test was inferior. Comparative Example 1-8 is an example using a composition containing a light stabilizer (E2) outside the scope of the present invention, and the light reflectance after the light resistance test was inferior. Comparative Example 1-9 is an example using a composition containing a thermally conductive filler instead of the boron nitride particles according to the present invention, the thermal conductivity is low and the heat dissipation is not sufficient, and the impact resistance and light resistance test Later light reflectance was also poor.
On the other hand, Examples 1-1 to 1-6 are examples using the heat-dissipating resin composition of the present invention, the thermal conductivity is 3.5 W / (m · K) or more, and the thermal deformation temperature is 270. ° C or higher, Charpy impact strength of 1.0 kJ / m 2 or higher, surface specific resistance of 1 × 10 13 Ω or higher, water absorption of 0.15% or lower, light reflectance after light resistance test Was 80% or more, indicating excellent performance. In particular, Examples 1-1 to 1-4 were excellent in balance among heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance, and light reflection characteristics.

3.LED実装用基板の製造
実施例2−1
実施例1−1の放熱性樹脂組成物からなるペレットを310℃で溶融させ、この溶融物を、長方形であって、中央部に円形の凹部を形成するようなキャビティ空間を有する金型に射出(金型温度;150℃)し、図1に示すようなLED実装用基板11a(縦約7mm、横約4mm、厚さ約1mm)を得た。
3. Production of LED mounting substrate Example 2-1
The pellet made of the heat-dissipating resin composition of Example 1-1 was melted at 310 ° C., and this melt was injected into a mold having a cavity space that was rectangular and formed a circular recess at the center. (Mold temperature: 150 ° C.) to obtain an LED mounting substrate 11a (about 7 mm long, about 4 mm wide, about 1 mm thick) as shown in FIG.

実施例2−2〜2−6
実施例1−2〜1−6の放熱性樹脂組成物からなる各ペレットを用いた以外は、実施例2−1と同様にして、図1に示すようなLED実装用基板11aを得た。
Examples 2-2 to 2-6
Except having used each pellet which consists of a heat-radiating resin composition of Examples 1-2 to 1-6, it carried out similarly to Example 2-1, and obtained the board | substrate 11a for LED mounting as shown in FIG.

実施例2−7
実施例1−1の放熱性樹脂組成物からなるペレットを310℃で溶融させ、この溶融物を、円筒状に張り出しており、張り出した内壁にLED素子に接続する電極を嵌挿させるための貫通孔を形成させ、更に、長方形であって、中央部より端側に、円形の凹部を形成するようなキャビティ空間を有する金型に射出(金型温度;150℃)し、図3に示すような、リフレクター部を備えるLED実装用基板11b(縦約10mm、横約4mm、リフレクター部における最大高さ約2mm)を得た。
Example 2-7
A pellet made of the heat-dissipating resin composition of Example 1-1 was melted at 310 ° C., and this melt was extended into a cylindrical shape, and a penetration for inserting an electrode connected to the LED element into the extended inner wall A hole is formed, and is injected into a mold having a rectangular shape and a cavity space that forms a circular recess on the end side from the center (mold temperature: 150 ° C.), as shown in FIG. In addition, an LED mounting substrate 11b (about 10 mm in length, about 4 mm in width, and about 2 mm in maximum height in the reflector portion) having a reflector portion was obtained.

実施例2−8〜2−12
実施例1−2〜1−6の放熱性樹脂組成物からなる各ペレットを用いた以外は、実施例2−7と同様にして、図3に示すようなリフレクター部を備えるLED実装用基板11bを得た。
Examples 2-8 to 2-12
Except that each pellet made of the heat-dissipating resin composition of Examples 1-2 to 1-6 was used, in the same manner as Example 2-7, LED mounting substrate 11b having a reflector portion as shown in FIG. Got.

4.リフレクターの製造
実施例3−1
実施例1−1の放熱性樹脂組成物からなるペレットを310℃で溶融させ、この溶融物を、円筒状であって、一方の開口部に向かって内面がテーパー状となり、LED素子に接続する電極を嵌挿させるための貫通孔を形成するようなキャビティ空間を有する金型に射出(金型温度;150℃)し、図1に示すような略円筒状リフレクター12(直径約3mm、肉厚約0.5mm)を得た。
4). Production of reflector Example 3-1
The pellet made of the heat-dissipating resin composition of Example 1-1 was melted at 310 ° C., and the melt was cylindrical and the inner surface was tapered toward one opening, and connected to the LED element. A substantially cylindrical reflector 12 (diameter: about 3 mm, wall thickness) as shown in FIG. 1 is injected into a mold having a cavity space for forming a through hole for inserting an electrode (mold temperature: 150 ° C.). About 0.5 mm).

実施例3−2〜3−6
実施例1−2〜1−6の放熱性樹脂組成物からなる各ペレットを用いた以外は、実施例2−7と同様にして、図1に示すような略円筒状リフレクター12を得た。
Examples 3-2 to 3-6
A substantially cylindrical reflector 12 as shown in FIG. 1 was obtained in the same manner as in Example 2-7, except that each pellet made of the heat-dissipating resin composition of Examples 1-2 to 1-6 was used.

本発明の放熱性樹脂組成物は、LED照明装置の構成部材であって、放熱性、耐熱性、耐衝撃性、絶縁性、耐水性及び光に対する反射特性を要求される部材の形成に好適である。
そして、本発明のLED実装用基板及びリフレクターは、LED素子を備える発光装置、照明装置等の形成に好適である。
The heat-dissipating resin composition of the present invention is a constituent member of an LED lighting device and is suitable for forming a member that requires heat dissipation, heat resistance, impact resistance, insulation, water resistance, and light reflection characteristics. is there.
And the board | substrate for LED mounting and reflector of this invention are suitable for formation of a light-emitting device, an illuminating device, etc. provided with an LED element.

本発明のLED実装用基板及びリフレクターを備える表面実装型LEDパッケージの断面構造の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the cross-sectional structure of a surface mount type LED package provided with the board | substrate for LED mounting of this invention, and a reflector. 本発明のLED実装用基板及びリフレクターを備える表面実装型LEDパッケージの断面構造の他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of the cross-section of a surface mount type LED package provided with the board | substrate for LED mounting of this invention, and a reflector. 本発明のLED実装用基板(リフレクター部を備えるLED実装用基板)を備える表面実装型LEDパッケージの断面構造の他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of the cross-section of a surface mount type LED package provided with the board | substrate for LED mounting (LED mounting board provided with a reflector part) of this invention. 表面実装型LEDパッケージを備えるLED照明装置の断面構造の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the cross-section of an LED illuminating device provided with a surface mount type LED package.

符号の説明Explanation of symbols

1;表面実装型LEDパッケージ
11a;LED実装用基板
11b;リフレクター部を備えるLED実装用基板
11c;金属製LED実装用基板
12;リフレクター
12b;リフレクター部
13;LED素子
14;電極
15;リード線
16;透明封止部(又は空隙部)
17;レンズ
18;絶縁性台座
2;LED照明装置
21;照明装置用基板
22;配線パターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1; Surface mount type LED package 11a; LED mounting board | substrate 11b; LED mounting board | substrate 11c provided with a reflector part; Metal LED mounting board | substrate 12; Reflector 12b; Reflector part 13; LED element 14; Electrode 15; ; Transparent sealing part (or void part)
17; Lens 18; Insulating base 2; LED illumination device 21; Illumination device substrate 22;

Claims (5)

〔A〕ポリアミド樹脂、〔B〕窒化ホウ素粒子、〔C〕ガラス繊維、〔D〕酸化チタン粒子及び〔E〕光安定剤を含有する放熱性樹脂組成物であって、
上記ポリアミド樹脂〔A〕は、ヘキサメチレンテレフタルアミドから誘導される繰り返し単位を有するポリアミドを、該ポリアミド樹脂〔A〕全体に対して30質量%以上含み、
上記窒化ホウ素粒子〔B〕は、粒度分布の測定により得られた累計体積が10%及び90%であるときの粒子径D10及びD90が、それぞれ、4〜6μm及び35〜50μmであり、且つ、D10とD90との比D90/D10が7〜11であり、
上記光安定剤〔E〕は、下記構造を含むヒンダードアミン系化合物であり、
Figure 2010100682
〔式中、R、R、R、R及びRは、互いに、同一又は異なって、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又は、炭素数7〜20のアラルキル基である。〕
上記ポリアミド樹脂〔A〕及び上記窒化ホウ素粒子〔B〕の合計量を100質量%とした場合、該ポリアミド樹脂〔A〕の割合が15〜95質量%、該窒化ホウ素粒子〔B〕の割合が5〜85質量%であり、
上記ポリアミド樹脂〔A〕及び上記窒化ホウ素粒子〔B〕の合計量を100質量部とした場合、上記ガラス繊維〔C〕の含有量が1〜50質量部であり、上記酸化チタン粒子〔D〕の含有量が0.1〜50質量部であり、上記光安定剤〔E〕の含有量が0.01〜10質量部であることを特徴とする放熱性樹脂組成物。
[A] polyamide resin, [B] boron nitride particles, [C] glass fibers, [D] titanium oxide particles and [E] a heat-dissipating resin composition comprising a light stabilizer,
The polyamide resin [A] includes a polyamide having a repeating unit derived from hexamethylene terephthalamide, in an amount of 30% by mass or more based on the whole polyamide resin [A],
The boron nitride particles [B] have a particle diameter D 10 and D 90 of 4 to 6 μm and 35 to 50 μm, respectively, when the cumulative volume obtained by measuring the particle size distribution is 10% and 90%, and the ratio D 90 / D 10 of D 10 and D 90 of a 7 to 11,
The light stabilizer [E] is a hindered amine compound containing the following structure:
Figure 2010100682
[In formula, R < 1 >, R < 2 >, R < 3 >, R < 4 > and R < 5 > are mutually the same or different, and a C1-C10 alkyl group, a C6-C20 aryl group, or C7. -20 aralkyl groups. ]
When the total amount of the polyamide resin [A] and the boron nitride particles [B] is 100% by mass, the ratio of the polyamide resin [A] is 15 to 95% by mass, and the ratio of the boron nitride particles [B] is 5 to 85% by mass,
When the total amount of the polyamide resin [A] and the boron nitride particles [B] is 100 parts by mass, the content of the glass fiber [C] is 1 to 50 parts by mass, and the titanium oxide particles [D] The heat-radiating resin composition is characterized in that the content of the light stabilizer [E] is 0.01 to 10 parts by mass.
上記酸化チタン粒子〔D〕が、シロキサン処理された酸化チタン粒子である請求項1に記載の放熱性樹脂組成物。   The heat-dissipating resin composition according to claim 1, wherein the titanium oxide particles [D] are siloxane-treated titanium oxide particles. 請求項1又は2に記載の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とするLED実装用基板。   An LED mounting substrate comprising the heat-dissipating resin composition according to claim 1. 請求項1又は2に記載の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とするリフレクター。   A reflector comprising the heat dissipating resin composition according to claim 1. 請求項1又は2に記載の放熱性樹脂組成物を含むことを特徴とする、リフレクター部を備えるLED実装用基板。   An LED mounting substrate comprising a reflector portion, comprising the heat-dissipating resin composition according to claim 1.
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