JP2010085232A - Testing system and testing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、テスト装置およびテスト方法に関し、特に、複数のテスト対象デバイスを試験するテスト装置およびテスト方法に関する。 The present invention relates to a test apparatus and a test method, and more particularly to a test apparatus and a test method for testing a plurality of devices to be tested.
複数のテスト対象の半導体装置(DUT:Device Under Test)をソケット等を介して着脱可能に装着し、並行して試験を行なうテスト装置が開発されている。たとえば、特許文献1には、バーンイン試験等の不良検出試験を適切に行なうことが可能な半導体装置が開示されている。
ところで、上記のようなテスト装置では、テスト装置から各DUTへ共通の電源電圧を印加することにより、各DUTの電気的特性を並行して試験する。ここで、テスト装置に装着された各DUTの基準電位にずれが生じている場合には、テスト装置からは共通の電源電圧が印加されているにも関わらず、各DUTにおける電源電圧が異なってしまう。そうすると、正常なDUTが不良品であると誤判定されてしまう場合がある。 By the way, in the test apparatus as described above, the common power supply voltage is applied from the test apparatus to each DUT, thereby testing the electrical characteristics of each DUT in parallel. Here, when there is a deviation in the reference potential of each DUT mounted on the test apparatus, the power supply voltage at each DUT is different even though a common power supply voltage is applied from the test apparatus. End up. As a result, a normal DUT may be erroneously determined to be defective.
このような問題点を解決するために、たとえば、半導体装置の内部にグランド電位を制御するための回路を設ける構成が考えられる。しかしながら、このような構成では、1台のテスト装置から各DUTへ共通の電源電圧を印加することにより、各DUTの電気的特性を並行して試験する場合において、各DUTにおける電源電圧のばらつきを低減することは困難である。 In order to solve such problems, for example, a configuration in which a circuit for controlling the ground potential is provided inside the semiconductor device is conceivable. However, in such a configuration, when a common power supply voltage is applied to each DUT from one test apparatus, when the electrical characteristics of each DUT are tested in parallel, variations in the power supply voltage in each DUT can be avoided. It is difficult to reduce.
さらに、このような構成では、半導体装置の回路規模が増大してしまう。また、半導体装置の内部回路の制限により、グランド電位を補正できる範囲が制限されてしまう。 Furthermore, with such a configuration, the circuit scale of the semiconductor device increases. Further, the range in which the ground potential can be corrected is limited due to the limitation of the internal circuit of the semiconductor device.
それゆえに、本発明の目的は、半導体装置の回路規模を増大させることなく、複数の半導体装置を並行して安定に試験することが可能なテスト装置およびテスト方法を提供することである。 Therefore, an object of the present invention is to provide a test apparatus and a test method capable of stably testing a plurality of semiconductor devices in parallel without increasing the circuit scale of the semiconductor device.
本発明の一実施例の形態のテスト装置は、要約すれば、基準電位測定回路は、基準半導体装置の基準電位レベルを測定する。電源電圧供給回路は、測定された基準電位レベルに基づいて複数の半導体装置に共通の電源電圧を供給する。そして、基準電位制御回路は、各半導体装置に対応して設けられ、対応の半導体装置の基準電位レベルを検知し、基準電位レベルを共通の所定値に制御する。 In summary, the test apparatus according to the embodiment of the present invention measures the reference potential level of the reference semiconductor device. The power supply voltage supply circuit supplies a common power supply voltage to the plurality of semiconductor devices based on the measured reference potential level. The reference potential control circuit is provided corresponding to each semiconductor device, detects the reference potential level of the corresponding semiconductor device, and controls the reference potential level to a common predetermined value.
本発明の一実施例の形態のテスト方法は、要約すれば、各半導体装置の基準電位レベルを検知し、各半導体装置の基準電位レベルを共通の所定値に制御するステップと、複数の半導体装置の一部である1または複数の基準半導体装置の基準電位レベルを測定するステップと、測定したレベルに基づいて複数の半導体装置に共通の電源電圧を供給するステップとを含む。 In summary, a test method according to an embodiment of the present invention includes a step of detecting a reference potential level of each semiconductor device and controlling the reference potential level of each semiconductor device to a common predetermined value, and a plurality of semiconductor devices Measuring a reference potential level of one or a plurality of reference semiconductor devices that are a part of the reference semiconductor device, and supplying a common power supply voltage to the plurality of semiconductor devices based on the measured level.
本発明の一実施例の形態によれば、各半導体装置の基準電位レベルが共通の所定値になるように制御される。したがって、半導体装置の回路規模を増大させることなく、複数の半導体装置を並行して安定に試験することができる。 According to the embodiment of the present invention, the reference potential level of each semiconductor device is controlled to be a common predetermined value. Therefore, a plurality of semiconductor devices can be stably tested in parallel without increasing the circuit scale of the semiconductor device.
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.
図1は、本発明の実施の形態に係るテスト装置の全体概略構成を示す外観図である。
図1を参照して、テスト装置101は、テスタ本体51と、テストヘッド52と、ケーブル8〜10とを備える。テストヘッド52は、複数のインタフェース基板3と、複数のピンカード6,7とを含む。
FIG. 1 is an external view showing an overall schematic configuration of a test apparatus according to an embodiment of the present invention.
With reference to FIG. 1, a
ピンカード6,7は、テスタ本体51とインタフェース基板3に装着されるDUT1との間のインタフェース機能を有する。たとえば、ピンカード6,7は、テスタ本体51とインタフェース基板3との間の信号経路の導通および非導通を切り替えるリレーを含む。
The pin cards 6 and 7 have an interface function between the tester
図2は、本発明の実施の形態に係るテスト装置の図1におけるII−II断面を概略的に示す図である。図2は、図1に示すA方向から見た本発明の実施の形態に係るテスト装置の概略断面を示している。 2 is a diagram schematically showing a II-II cross section in FIG. 1 of the test apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a schematic cross section of the test apparatus according to the embodiment of the present invention viewed from the direction A shown in FIG.
図2を参照して、テスタ本体51は、基準電位測定回路41と、電源電圧供給回路42とを含む。テストヘッド52は、ソケット2A,2B,2C,2Dと、インタフェース基板3A,3B,3C,3Dと、グランドプレート4A,4B,4C,4Dと、ねじ5A,5B,5C,5Dと、ピンカード6A,6B,6C,6D,7A,7B,7C,7Dと、マザーボード11と、ケーブル12A,12B,12Dと、モジュール基板53A,53B,53C,53Dとを含む。
Referring to FIG. 2,
本発明の実施の形態では、DUT1A,1B,1C,1Dの各々をDUT1と称する場合がある。また、ソケット2A,2B,2C,2Dの各々をソケット2と称する場合がある。また、インタフェース基板3A,3B,3C,3Dの各々をインタフェース基板3と称する場合がある。また、グランドプレート4A,4B,4C,4Dの各々をグランドプレート4と称する場合がある。また、ねじ5A,5B,5C,5Dの各々をねじ5と称する場合がある。また、ピンカード6A,6B,6C,6Dの各々をピンカード6と称する場合がある。また、ピンカード7A,7B,7C,7Dの各々をピンカード7と称する場合がある。また、ケーブル12A,12B,12Dの各々をケーブル12と称する場合がある。また、モジュール基板53A,53B,53C,53Dの各々をモジュール基板53と称する場合がある。
In the embodiment of the present invention, each of the
本発明の実施の形態に係るテスト装置では、DUT1A,1B,1C,1Dのうちの少なくともいずれか1つが基準DUTに設定されている。ここでは、DUT1Cが基準DUTであると仮定して説明する。
In the test apparatus according to the embodiment of the present invention, at least one of the
ソケット2は、インタフェース基板3に対応して設けられ、対応のインタフェース基板3に実装されている。インタフェース基板3には、ソケット2によって対応のDUT1が着脱可能に装着される。
The
ケーブル12A,12B,12Dは、基準DUT1Cの基準電位ノードと、基準DUT1C以外のDUT1A,1B,1Dに対応する基準電位制御回路61すなわちモジュール基板53A,53B,53Dとを電気的に接続する。
The
ケーブル9は、基準DUT1Cに対応するインタフェース基板3Cとテスタ本体51における基準電位測定回路41とを電気的に接続する。
The
基準電位測定回路41は、ケーブル9を介して基準DUT1Cの基準電位HGNDのレベルを測定する。
The reference
電源電圧供給回路42は、基準電位測定回路41によって測定された基準電位HGNDのレベルに基づいて、ケーブル8A,8B,8C,8D経由でDUT1A,1B,1C,1Dに共通の電源電圧を供給する。これにより、各DUT1へ供給される電源電圧の均一化を図っている。なお、ケーブル8A,8B,8C,8Dは、それぞれ電源電圧ラインと、電源電圧ラインとペアになるグランドラインとを含んでいる。
The power supply
また、グランドプレート4A,4B,4C,4Dはそれぞれ独立に設けられており、インタフェース基板3A,3B,3C,3Dのグランド層は、対応のねじ5A,5B,5C,5Dを介してグランドプレート4A,4B,4C,4Dと接続されている。
The
図3は、本発明の実施の形態に係るテスト装置におけるモジュール基板の構成を示す図である。 FIG. 3 is a diagram showing a configuration of the module substrate in the test apparatus according to the embodiment of the present invention.
図3を参照して、モジュール基板53は、基板31と、コネクタ32と、電子部品33とを含む。基板31は、コネクタ32を介してインタフェース基板3に装着されている。基板31および電子部品33により、基準電位制御回路61が形成されている。
With reference to FIG. 3, the
図4は、本発明の実施の形態に係るテスト装置におけるモジュール基板の基準電位制御回路の回路図である。 FIG. 4 is a circuit diagram of the reference potential control circuit of the module substrate in the test apparatus according to the embodiment of the present invention.
図4を参照して、基準電位制御回路61は、抵抗R1〜R3と、検出回路SN1と、比較回路CMP1と、D/AコンバータDAC1とを含む。 Referring to FIG. 4, reference potential control circuit 61 includes resistors R1 to R3, detection circuit SN1, comparison circuit CMP1, and D / A converter DAC1.
基準電位制御回路61は、対応のDUT1の基準電位レベルを検知し、この基準電位レベルを共通の所定値に制御する。 The reference potential control circuit 61 detects the reference potential level of the corresponding DUT 1 and controls the reference potential level to a common predetermined value.
たとえば、基準DUT1Cに対応する基準電位制御回路61は、所定レベルになるように基準DUT1Cの基準電位HGNDのレベルを制御する。そして、基準DUT1C以外のDUT1A,1B,1Dに対応する基準電位制御回路61は、ケーブル12A,12B,12Dによって伝達される基準DUT1Cの基準電位HGNDのレベルになるように対応のDUT1A,1B,1Dの基準電位レベルを制御する。
For example, the reference potential control circuit 61 corresponding to the reference DUT1C controls the level of the reference potential HGND of the reference DUT1C so as to be a predetermined level. Then, the reference potential control circuits 61 corresponding to the
また、基準電位制御回路61は、コネクタ32、インタフェース基板3およびソケット2を介して対応のDUT1の基準電位レベルの検知および制御を行なう。
The reference potential control circuit 61 detects and controls the reference potential level of the corresponding DUT 1 via the
より詳細には、検出回路SN1は、対応のDUT1の基準電位レベルを検出する。たとえば、DUT1が装着されたソケット2直下の基準電位レベルが検出される。
More specifically, the detection circuit SN1 detects the reference potential level of the corresponding DUT1. For example, the reference potential level immediately below the
補正電圧出力回路DAC1は、比較回路CMP1の一方入力端子にレベル補正電圧を出力する。 The correction voltage output circuit DAC1 outputs a level correction voltage to one input terminal of the comparison circuit CMP1.
比較回路CMP1は、一方入力端子におけるレベル補正電圧と他方入力端子におけるたとえば基準電位HGNDのレベルとの差を検出し、この差が0になるように出力電圧の値を変更する。比較回路CMP1の出力電圧が検出回路SN1にフィードバックされることによって帰還ループが形成され、対応のDUT1の基準電位レベルが基準DUT1Cの基準電位HGNDのレベルに近づくように制御される。 The comparison circuit CMP1 detects the difference between the level correction voltage at one input terminal and the level of the reference potential HGND at the other input terminal and changes the value of the output voltage so that this difference becomes zero. A feedback loop is formed by feeding back the output voltage of the comparison circuit CMP1 to the detection circuit SN1, and the reference potential level of the corresponding DUT1 is controlled to approach the level of the reference potential HGND of the reference DUT1C.
図5は、本発明の実施の形態に係るテスト装置が半導体装置の試験を行なう際の動作手順を定めたフローチャートである。 FIG. 5 is a flowchart defining an operation procedure when the test apparatus according to the embodiment of the present invention tests a semiconductor device.
図5を参照して、まず、基準電位制御回路61は、対応のDUT1の基準電位レベルを検知し(ステップS1)、この基準電位レベルを共通の所定値に制御する(ステップS2)。 Referring to FIG. 5, first, reference potential control circuit 61 detects the reference potential level of corresponding DUT 1 (step S1), and controls this reference potential level to a common predetermined value (step S2).
次に、基準電位測定回路41は、ケーブル9を介して基準DUT1Cの基準電位HGNDのレベルを測定する(ステップS3)。
Next, the reference
次に、電源電圧供給回路42は、基準電位測定回路41によって測定された基準電位HGNDのレベルに基づいて、ケーブル8A,8B,8C,8D経由でDUT1A,1B,1C,1Dに共通の電源電圧を供給する(ステップS4)。
Next, the power supply
図6は、図1に示すB方向から見た本発明の実施の形態に係るテスト装置の概略断面を示す図である。 FIG. 6 is a diagram showing a schematic cross section of the test apparatus according to the embodiment of the present invention viewed from the B direction shown in FIG.
図6を参照して、テストヘッド52では、ピンカード6,7下部に複数のグランドプレート24が設けられており、これらがケーブル等によって互いに接続されている。そして、各グランドプレート24のうちの少なくともいずれか1つがケーブル10を介してテスタ本体51のグランドと接続されている。
Referring to FIG. 6, in
このように、テストヘッド52では、各グランドプレートがケーブル等で接続されているため、このケーブル等が高抵抗をもってしまい、グランドプレート間で電位差が発生してしまう。これにより、インタフェース基板3A,3B,3C,3Dのグランド層の電位にばらつきが生じる。
Thus, in the
さらに、グランドプレート24が共通のプレートで形成されているとしても、インタフェース基板3A,3B,3C,3Dのグランド層は、対応のねじ5A,5B,5C,5Dを介してグランドプレート4A,4B,4C,4Dと接続されているだけであるため、各グランドプレート4間で電位差が発生し、インタフェース基板3A,3B,3C,3Dのグランド層の電位にばらつきが生じる。
Furthermore, even if the
図7は、本発明の実施の形態に係るテスト装置が基準電位制御回路を備えない構成であると仮定した場合において、テスタ本体51と各DUT1とでグランド電位(基準電位)にばらつきが生じている例を示す図である。図7は、8つのDUTA,DUTB,DUTC,DUTD,DUTE,DUTF,DUTG,DUTHのうち、DUTBが基準DUTである場合を示している。
FIG. 7 shows that the ground potential (reference potential) varies between the
図7を参照して、テスト装置101が基準電位制御回路61を備えない場合には、前述の理由により、各DUTでグランド電位がばらつく。すなわち、DUTA,DUTB,DUTC,DUTD,DUTE,DUTF,DUTG,DUTHの基準電位はぞれぞれ−0.12mV、0.00mV、0.49mV、1.40mV、14.17mV、13.95mV、13.61mV、13.05mVである。
Referring to FIG. 7, when the
このため、電源電圧供給回路42がたとえば2.50Vの電源電圧を各DUTに共通に供給しても、DUTBには2.5Vの電源電圧が供給されるが、DUTB以外の各DUTには2.5Vとは異なる電源電圧が供給されてしまう。図7に示す例では、特にDUTE,DUTF,DUTG,DUTHの電源電圧が2.5Vから大きく離れてしまう。
For this reason, even if the power supply
しかしながら、本発明の実施の形態に係るテスト装置は、基準電位制御回路61を備える。すなわち、基準DUT1C以外のDUT1A,1B,1Dに対応する基準電位制御回路61は、ケーブル12A,12B,12Dによって伝達される基準DUT1Cの基準電位HGNDのレベルになるように対応のDUT1A,1B,1Dの基準電位レベルを制御する。そして、基準電位測定回路41は、ケーブル9を介して基準DUT1Cの基準電位HGNDのレベルを測定する。電源電圧供給回路42は、基準電位測定回路41によって測定された基準電位HGNDのレベルに基づいて、ケーブル8A,8B,8C,8D経由でDUT1A,1B,1C,1Dに共通の電源電圧を供給する。
However, the test apparatus according to the embodiment of the present invention includes the reference potential control circuit 61. That is, the reference potential control circuit 61 corresponding to the
このような構成により、DUTに印加される電圧の設定値からの誤差を低減することができるため、正しい条件でDUTの試験を行なうことができる。また、複数のDUT間で印加電位が異なっている場合でも、DUT間の差を従来と比べて小さく制御することができる。また、より正しい印加電圧で試験することができるため、歩留まりが改善される。 With such a configuration, an error from the set value of the voltage applied to the DUT can be reduced, so that the DUT can be tested under correct conditions. Further, even when the applied potential is different among the plurality of DUTs, the difference between the DUTs can be controlled to be smaller than that in the conventional case. Further, since the test can be performed with a more correct applied voltage, the yield is improved.
したがって、本発明の実施の形態に係るテスト装置では、半導体装置の回路規模を増大させることなく、複数の半導体装置を並行して安定に試験することができる。 Therefore, the test apparatus according to the embodiment of the present invention can stably test a plurality of semiconductor devices in parallel without increasing the circuit scale of the semiconductor device.
なお、本発明の実施の形態に係るテスト装置は、シリコンウエハ上に半導体チップが搭載されている状態で行なわれる試験(ウエハテスト)、シリコンウエハ上の半導体チップをダイシング等してパッケージ化された状態で行なわれる試験(ファイナルテスト)およびデバイスに対して通常動作時よりも高い外部電源電圧が供給される高温動作試験(バーンイン試験)等に適用することができる。 The test apparatus according to the embodiment of the present invention is packaged by a test (wafer test) performed in a state where a semiconductor chip is mounted on a silicon wafer, a semiconductor chip on the silicon wafer being diced, or the like. The present invention can be applied to a test performed in a state (final test), a high-temperature operation test (burn-in test) in which a higher external power supply voltage is supplied to the device than during normal operation, and the like.
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
2A,2B,2C,2D ソケット、3,3A,3B,3C,3D インタフェース基板、4A,4B,4C,4D グランドプレート、5A,5B,5C,5D ねじ、6,7,6A,6B,6C,6D,7A,7B,7C,7D ピンカード、8〜10 ケーブル、11 マザーボード、12A,12B,12D ケーブル、24 グランドプレート、31 基板、32 コネクタ、33 電子部品、41 基準電位測定回路、42 電源電圧供給回路、51 テスタ本体、52 テストヘッド、53A,53B,53C,53D モジュール基板、61 基準電位制御回路、101 テスト装置、R1〜R3 抵抗、SN1 検出回路、CMP1 比較回路、DAC1 D/Aコンバータ。 2A, 2B, 2C, 2D socket, 3, 3A, 3B, 3C, 3D interface board, 4A, 4B, 4C, 4D ground plate, 5A, 5B, 5C, 5D screw, 6, 7, 6A, 6B, 6C, 6D, 7A, 7B, 7C, 7D pin card, 8-10 cable, 11 motherboard, 12A, 12B, 12D cable, 24 ground plate, 31 board, 32 connector, 33 electronic component, 41 reference potential measurement circuit, 42 power supply voltage Supply circuit, 51 tester main body, 52 test head, 53A, 53B, 53C, 53D module substrate, 61 reference potential control circuit, 101 test device, R1 to R3 resistors, SN1 detection circuit, CMP1 comparison circuit, DAC1 D / A converter.
Claims (4)
前記複数の半導体装置の一部である1または複数の基準半導体装置の基準電位レベルを測定する基準電位測定回路と、
前記測定されたレベルに基づいて前記複数の半導体装置に共通の電源電圧を供給する電源電圧供給回路と、
前記半導体装置に対応して設けられ、対応の前記半導体装置の基準電位レベルを検知し、前記基準電位レベルを共通の所定値に制御する複数の基準電位制御回路とを備えるテスト装置。 A test apparatus for testing a plurality of semiconductor devices,
A reference potential measuring circuit for measuring a reference potential level of one or more reference semiconductor devices that are part of the plurality of semiconductor devices;
A power supply voltage supply circuit for supplying a common power supply voltage to the plurality of semiconductor devices based on the measured level;
A test apparatus comprising a plurality of reference potential control circuits provided corresponding to the semiconductor device, detecting a reference potential level of the corresponding semiconductor device, and controlling the reference potential level to a common predetermined value.
前記基準半導体装置の基準電位ノードと前記基準半導体装置以外の前記半導体装置に対応する前記基準電位制御回路とを電気的に接続するケーブルを備え、
前記基準半導体装置以外の前記半導体装置に対応する前記基準電位制御回路は、前記ケーブルによって伝達される前記基準半導体装置の基準電位レベルになるように対応の前記半導体装置の基準電位レベルを制御する請求項1に記載のテスト装置。 The test device comprises:
A cable for electrically connecting a reference potential node of the reference semiconductor device and the reference potential control circuit corresponding to the semiconductor device other than the reference semiconductor device;
The reference potential control circuit corresponding to the semiconductor device other than the reference semiconductor device controls a reference potential level of the corresponding semiconductor device so as to be a reference potential level of the reference semiconductor device transmitted by the cable. Item 2. The test apparatus according to Item 1.
前記半導体装置に対応して設けられ、対応の前記半導体装置が着脱可能に装着される複数のインタフェース基板を備え、
各前記基準電位制御回路は、対応の前記インタフェース基板に装着され、前記インタフェース基板を介して対応の前記半導体装置の基準電位レベルの検知および制御を行ない、
前記テスト装置は、さらに、
前記基準半導体装置に対応する前記インタフェース基板と前記基準電位測定回路とを電気的に接続するケーブルを備え、
前記基準電位測定回路は、前記ケーブルを介して前記基準半導体装置の基準電位レベルを測定する請求項1に記載のテスト装置。 The test apparatus further includes:
A plurality of interface boards provided corresponding to the semiconductor device, to which the corresponding semiconductor device is detachably mounted;
Each of the reference potential control circuits is mounted on the corresponding interface board, and detects and controls the reference potential level of the corresponding semiconductor device via the interface board.
The test apparatus further includes:
A cable for electrically connecting the interface board corresponding to the reference semiconductor device and the reference potential measurement circuit;
The test apparatus according to claim 1, wherein the reference potential measurement circuit measures a reference potential level of the reference semiconductor device via the cable.
各前記半導体装置の基準電位レベルを検知し、各前記半導体装置の基準電位レベルを共通の所定値に制御するステップと、
前記複数の半導体装置の一部である1または複数の基準半導体装置の基準電位レベルを測定するステップと、
前記測定したレベルに基づいて前記複数の半導体装置に共通の電源電圧を供給するステップとを含むテスト方法。 A test method for testing a plurality of semiconductor devices,
Detecting a reference potential level of each of the semiconductor devices and controlling the reference potential level of each of the semiconductor devices to a common predetermined value;
Measuring a reference potential level of one or more reference semiconductor devices that are part of the plurality of semiconductor devices;
Supplying a common power supply voltage to the plurality of semiconductor devices based on the measured level.
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