JP2010083954A - Polymer microparticle, method for manufacturing the same, and electroconductive microparticle - Google Patents

Polymer microparticle, method for manufacturing the same, and electroconductive microparticle Download PDF

Info

Publication number
JP2010083954A
JP2010083954A JP2008253057A JP2008253057A JP2010083954A JP 2010083954 A JP2010083954 A JP 2010083954A JP 2008253057 A JP2008253057 A JP 2008253057A JP 2008253057 A JP2008253057 A JP 2008253057A JP 2010083954 A JP2010083954 A JP 2010083954A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
fine particles
particles
polymer fine
polymetalloxane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008253057A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5340686B2 (en
Inventor
Yoshikuni Sasaki
令晋 佐々木
Kazuaki Matsumoto
和明 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2008253057A priority Critical patent/JP5340686B2/en
Publication of JP2010083954A publication Critical patent/JP2010083954A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5340686B2 publication Critical patent/JP5340686B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a polymer microparticle which has a thin layer on the surface of a core particle, a small average-particle diameter and a uniform particle-size distribution, and the layer of which is flat and of a uniform thickness and high coverage; a method for manufacturing the same; and an electroconductive microparticle using the same. <P>SOLUTION: This polymer microparticle is a polymer microparticle which has a polymetalloxane layer containing a metal atom M on the surface of a Si atom-containing core particle P, wherein the core particle P has the surface bonded with the polymetalloxane layer by means of a structure containing -Si-O-M-. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、重合体微粒子、重合体微粒子の製造方法、および導電性微粒子に関する。   The present invention relates to polymer fine particles, a method for producing polymer fine particles, and conductive fine particles.

粒子の表面を改質する方法として、(1)表面にコーティングを行うコーティング法、(2)機械的作用を利用するメカノケミカル法、(3)化学反応を利用する化学的表面改質方法、などが知られている。   Methods for modifying the particle surface include (1) a coating method for coating the surface, (2) a mechanochemical method utilizing a mechanical action, and (3) a chemical surface modification method utilizing a chemical reaction, etc. It has been known.

しかし、平均粒子径の小さい微粒子の粒子表面に薄い被膜を効率的に形成する方法は知られていない。   However, a method for efficiently forming a thin film on the surface of fine particles having a small average particle diameter is not known.

コーティング法は、比較的大きな粒子を対象とする表面改質方法である。このため、コーティング法によって微粒子の粒子表面に薄い被膜を効率的に形成し難いという問題がある。   The coating method is a surface modification method for relatively large particles. For this reason, there is a problem that it is difficult to efficiently form a thin film on the particle surface of the fine particles by the coating method.

メカノケミカル法は、平均粒子径の小さい微粒子を対象とすることができる。しかし、機械的作用を利用するため、形成する被膜が平滑でないという問題や、薄い被膜を形成し難いという問題や、高い被覆率を有する被膜は形成し難いという問題がある(例えば、特許文献1、2参照)。   The mechanochemical method can target fine particles having a small average particle size. However, since the mechanical action is used, there are a problem that the formed film is not smooth, a problem that it is difficult to form a thin film, and a problem that it is difficult to form a film having a high coverage (for example, Patent Document 1). 2).

化学的表面改質方法は、平均粒子径の小さい微粒子を対象とすることができ、薄い被膜を形成できる場合がある。しかし、高い被覆率を有する被膜は形成し難いという問題や、均一な厚みの被膜を形成し難いという問題、粒度分布の揃った微粒子を形成し難いという問題がある(例えば、特許文献3参照)。
特開昭62−83029号公報 特開平5−170924号公報 特開2004−307837号公報
The chemical surface modification method can target fine particles having a small average particle diameter, and may form a thin film. However, there is a problem that it is difficult to form a film having a high coverage, a problem that it is difficult to form a film having a uniform thickness, and a problem that it is difficult to form fine particles having a uniform particle size distribution (see, for example, Patent Document 3). .
JP 62-83029 A Japanese Patent Laid-Open No. 5-170924 JP 2004-307837 A

本発明の課題は、コア粒子の表面に薄い被膜を有する重合体微粒子であって、平均粒子径が小さく、被膜が平滑であり、被膜の厚みが均一であり、被膜の被覆率が高く、粒度分布の揃った重合体微粒子を提供することにある。また、そのような重合体微粒子の製造方法を提供することにある。さらに、そのような重合体微粒子を用いた導電性微粒子を提供することにある。   An object of the present invention is a polymer fine particle having a thin coating on the surface of the core particle, the average particle diameter is small, the coating is smooth, the coating thickness is uniform, the coating coverage is high, and the particle size The object is to provide polymer fine particles having a uniform distribution. Another object of the present invention is to provide a method for producing such polymer fine particles. Furthermore, it is providing the electroconductive fine particle using such a polymer microparticle.

本発明の重合体微粒子は、Si原子を含むコア粒子Pの表面に金属原子Mを含むポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子であって、該コア粒子Pの表面に該ポリメタロキサン被膜が−Si−O−M−を含む構造によって結合されている。
好ましい実施形態においては、上記ポリメタロキサン被膜が、金属原子Siを含むポリシロキサン被膜である。
好ましい実施形態においては、上記重合体微粒子の平均粒子径が0.5〜100μmである。
好ましい実施形態においては、上記ポリメタロキサン被膜の被覆率が100%である。
好ましい実施形態においては、上記ポリメタロキサン被膜の厚みが1〜500nmであり、該厚みが上記コア粒子Pの表面上で実質的に均一である。
本発明の別の局面によれば重合体微粒子の製造方法が提供される。本発明の製造方法は、Si原子を含むコア粒子Pの表面に金属原子Mを含むポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子の製造方法であって、表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´が分散された溶媒に、加水分解可能な有機金属化合物またはその少なくとも一部が加水分解された縮合物を添加して、加水分解反応および/または縮合反応を行う。
好ましい実施形態においては、上記ポリメタロキサン被膜が、金属原子Siを含むポリシロキサン被膜である。
好ましい実施形態においては、上記加水分解可能な有機金属化合物が、一般式MXnで表される金属アルコキシド(ただし、Mは原子価数nの金属原子であり、Xはアルコキシ基である)である。
好ましい実施形態においては、上記加水分解可能な有機金属化合物が、一般式RpSiYqで表される有機ケイ素化合物(ただし、Rは置換基を有していても良い炭化水素基であり、Yは−OH基、−OR基、ハロゲン原子、水素原子のいずれかであり、Rはアルキル基、アシル基、アリール基、アラルキル基であり、pおよびqはp+q=4を満たす整数である)である。
本発明の別の局面によれば導電性微粒子が提供される。本発明の導電性微粒子は、本発明の重合体微粒子と金属層を含む。
好ましい実施形態においては、上記金属層が、無電解めっき法により形成された層である。
The polymer fine particles of the present invention are polymer fine particles having a polymetalloxane coating containing a metal atom M on the surface of a core particle P containing Si atoms, and the polymetalloxane coating is on the surface of the core particle P— They are bonded by a structure containing Si-OM-.
In a preferred embodiment, the polymetalloxane film is a polysiloxane film containing a metal atom Si.
In a preferred embodiment, the polymer fine particles have an average particle size of 0.5 to 100 μm.
In a preferred embodiment, the polymetalloxane coating has a coverage of 100%.
In a preferred embodiment, the polymetalloxane coating has a thickness of 1 to 500 nm, and the thickness is substantially uniform on the surface of the core particle P.
According to another aspect of the present invention, a method for producing polymer fine particles is provided. The production method of the present invention is a method for producing polymer fine particles having a polymetalloxane coating containing a metal atom M on the surface of a core particle P containing Si atoms, the core particle precursor having a -Si-OH group on the surface A hydrolyzable organometallic compound or a condensate obtained by hydrolyzing at least a part of the hydrolyzable organometallic compound is added to the solvent in which the body P ′ is dispersed to perform a hydrolysis reaction and / or a condensation reaction.
In a preferred embodiment, the polymetalloxane film is a polysiloxane film containing a metal atom Si.
In a preferred embodiment, the hydrolyzable organometallic compound is a metal alkoxide represented by the general formula MXn (where M is a metal atom having a valence of n and X is an alkoxy group).
In a preferred embodiment, the hydrolyzable organometallic compound is an organosilicon compound represented by the general formula R 1 pSiY 1 q (where R 1 is a hydrocarbon group which may have a substituent). Y 1 is an —OH group, —OR 2 group, a halogen atom, or a hydrogen atom, R 2 is an alkyl group, an acyl group, an aryl group, or an aralkyl group, and p and q satisfy p + q = 4 Is an integer).
According to another aspect of the present invention, conductive fine particles are provided. The conductive fine particles of the present invention include the polymer fine particles of the present invention and a metal layer.
In a preferred embodiment, the metal layer is a layer formed by an electroless plating method.

本発明によれば、コア粒子の表面に薄い被膜を有する重合体微粒子であって、平均粒子径が小さく、被膜が平滑であり、被膜の厚みが均一であり、被膜の被覆率が高く、粒度分布の揃った重合体微粒子を提供することができる。また、そのような重合体微粒子の製造方法を提供することができる。さらに、そのような重合体微粒子を用いた導電性微粒子を提供することができる。   According to the present invention, polymer fine particles having a thin coating on the surface of the core particles, the average particle diameter is small, the coating is smooth, the coating thickness is uniform, the coating coverage is high, and the particle size Polymer fine particles having a uniform distribution can be provided. In addition, a method for producing such polymer fine particles can be provided. Furthermore, conductive fine particles using such polymer fine particles can be provided.

〔重合体微粒子の製造方法〕
本発明の重合体微粒子の製造方法は、Si原子を含むコア粒子Pの表面に金属原子Mを含むポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子の製造方法であって、表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´が分散された有機溶媒に、加水分解可能な有機金属化合物またはその少なくとも一部が加水分解された縮合物を添加して、加水分解反応および/または縮合反応を行う。
[Production method of polymer fine particles]
The method for producing polymer fine particles of the present invention is a method for producing polymer fine particles having a polymetalloxane coating containing a metal atom M on the surface of a core particle P containing Si atoms, wherein a -Si-OH group is formed on the surface. A hydrolyzable organometallic compound or a condensate obtained by hydrolyzing at least a part thereof is added to an organic solvent in which the core particle precursor P ′ is dispersed, and a hydrolysis reaction and / or a condensation reaction is performed.

表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´は、任意の適切な方法によって製造し得る。コア粒子前駆体P´は、好ましくは、Si−OH基または加水分解によりSi−OH基を形成し得る基を有し、重合性不飽和結合を有するケイ素化合物および/またはポリシロキサン化合物を重合することにより得ることができる。
ここで、上述の加水分解によりSi−OH基を形成し得る基としては、OR基(R:アルキル基、アシル基、アリール基、アラルキル基)、ハロゲン原子、水素原子が好ましく、OR基におけるRがアルキル基であるアルコキシ基がより好ましい。すなわち、後述するRrSiZsで表される化合物または該化合物の加水分解縮合物からなるポリシロキサン化合物の存在下で重合することが好ましい形態である。
また、上述の製法において、該ケイ素化合物またはポリシロキサンが重合性不飽和結合を有するため、単独で重合することによっても、あるいは、重合性不飽和結合を有するモノマーの共存下で重合することによっても、コア粒子前駆体P´を得ることができる。
上述の製法において、重合の形態としては、例えば、懸濁重合法、乳化重合法、シード重合法、ゾルゲル重合法、ゾルゲルシード重合法、分散重合法、析出重合法が挙げられる。例えば、ゾルゲルシード重合で行うと、最終的に得られる重合体微粒子の粒子径の変動係数(CV値)を小さくすることが可能となり、各種基板間の隙間を均一にする隙間保持材としての用途に用いた場合、隙間距離を均一に保つといった有利な効果を発揮することができる。
表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´を製造する方法としては、具体的には、例えば、下記の(方法1)〜(方法4)が挙げられる。なお、表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´を製造するにあたって、表面にアルコキシシリル基を有するコア粒子前駆体P´´がまず得られる場合には、ポリメタロキサン被覆を行うための反応に先立って、任意の適切な方法によって、アルコキシシリル基を−Si−OH基に変換することが好ましい。
The core particle precursor P ′ having a —Si—OH group on the surface can be produced by any appropriate method. The core particle precursor P ′ preferably has a Si—OH group or a group capable of forming a Si—OH group by hydrolysis, and polymerizes a silicon compound and / or a polysiloxane compound having a polymerizable unsaturated bond. Can be obtained.
Here, as the group capable of forming a Si—OH group by the hydrolysis described above, an OR group (R: alkyl group, acyl group, aryl group, aralkyl group), a halogen atom, and a hydrogen atom are preferable. An alkoxy group in which is an alkyl group is more preferred. That is, the polymerization is preferably performed in the presence of a compound represented by R 3 rSiZs, which will be described later, or a polysiloxane compound comprising a hydrolysis condensate of the compound.
In the above-mentioned production method, since the silicon compound or polysiloxane has a polymerizable unsaturated bond, it can be polymerized alone or in the presence of a monomer having a polymerizable unsaturated bond. The core particle precursor P ′ can be obtained.
In the above-described production method, examples of polymerization forms include suspension polymerization, emulsion polymerization, seed polymerization, sol-gel polymerization, sol-gel seed polymerization, dispersion polymerization, and precipitation polymerization. For example, when it is performed by sol-gel seed polymerization, it is possible to reduce the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the finally obtained polymer fine particles, and it can be used as a gap holding material that makes the gaps between various substrates uniform. When used in the above, an advantageous effect of keeping the gap distance uniform can be exhibited.
Specific examples of the method for producing the core particle precursor P ′ having a —Si—OH group on the surface include the following (Method 1) to (Method 4). In addition, when producing the core particle precursor P ′ having —Si—OH group on the surface, when the core particle precursor P ″ having alkoxysilyl group on the surface is first obtained, polymetalloxane coating is performed. Prior to the reaction for this, it is preferred to convert the alkoxysilyl group to -Si-OH group by any suitable method.

(方法1)RrSiZsで表される化合物(ただし、Rは重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基)および/またはその少なくとも一部が加水分解された縮合物と重合性モノマーとの混合物を重合する方法。
方法1の好ましい具体的な重合形態としては、懸濁重合法、分散重合法、析出重合法が挙げられる。
(Method 1) Compound represented by R 3 rSiZs (wherein R 3 is a hydrocarbon group having a group containing a polymerizable unsaturated bond) and / or a condensate and a polymerizable monomer at least partly hydrolyzed To polymerize a mixture with.
Preferable specific polymerization forms of Method 1 include suspension polymerization method, dispersion polymerization method, and precipitation polymerization method.

(方法2)RrSiZsで表される化合物(ただし、Rは重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基)を含水有機溶媒中で加水分解縮合し、ポリシロキサン粒子とした後に、重合性モノマーを吸収させてから、重合する方法。
方法2の好ましい具体的な重合形態としては、ゾルゲルシード重合法が挙げられる。
(Method 2) After hydrolyzing and condensing a compound represented by R 3 rSiZs (where R 3 is a hydrocarbon group having a group containing a polymerizable unsaturated bond) in a water-containing organic solvent to form polysiloxane particles, A method of polymerizing after absorbing a polymerizable monomer.
A preferred specific form of polymerization in Method 2 is a sol-gel seed polymerization method.

(方法3)RrSiZsで表される化合物(ただし、Rは重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基)を含水有機溶媒中で加水分解縮合し、重合性ポリシロキサン粒子とした後に、重合する方法。
方法3の好ましい具体的な重合形態としては、ゾルゲル重合法が挙げられる。
(Method 3) A compound represented by R 3 rSiZs (where R 3 is a hydrocarbon group having a group containing a polymerizable unsaturated bond) is hydrolytically condensed in a water-containing organic solvent to obtain polymerizable polysiloxane particles. A method of polymerizing later.
A preferred specific form of polymerization in Method 3 is a sol-gel polymerization method.

(方法4)RrSiZsで表される化合物(ただし、Rは重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基)の加水分解縮合物(すなわち、重合性ポリシロキサン)を水性媒体中で重合する方法。
方法4の好ましい具体的な重合形態としては、懸濁重合法、乳化重合法、分散重合法、析出重合法が挙げられる。
(Method 4) Hydrolysis condensate (that is, polymerizable polysiloxane) of a compound represented by R 3 rSiZs (where R 3 is a hydrocarbon group having a group containing a polymerizable unsaturated bond) in an aqueous medium How to polymerize.
Preferable specific polymerization forms of Method 4 include suspension polymerization, emulsion polymerization, dispersion polymerization, and precipitation polymerization.

上記(方法1)および(方法2)において、上記Rは、重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基である。上記重合性不飽和結合を含む基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロキシ基が挙げられる。上記炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が挙げられる。 In the above (Method 1) and (Method 2), R 3 is a hydrocarbon group having a group containing a polymerizable unsaturated bond. Examples of the group containing a polymerizable unsaturated bond include a vinyl group and a (meth) acryloxy group. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, and an aralkyl group.

上記(方法3)および(方法4)において、上記Rは、重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基である。上記重合性不飽和結合を含む基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロキシ基が挙げられる。上記炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が挙げられる。 In the above (Method 3) and (Method 4), R 3 is a hydrocarbon group having a group containing a polymerizable unsaturated bond. Examples of the group containing a polymerizable unsaturated bond include a vinyl group and a (meth) acryloxy group. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, and an aralkyl group.

上記(方法1)〜(方法4)において、上記Zは−OH基、−OR基、ハロゲン原子、水素原子のいずれかであり、上記Rはアルキル基、アシル基、アリール基、アラルキル基である。上記Zとしては、好ましくは、−OH基、−OR基でRが炭素数1〜4のアルキル基の基、−OR基でRがアセチル基の基が挙げられる。 In the above (Method 1) to (Method 4), Z is any one of —OH group, —OR 4 group, halogen atom, and hydrogen atom, and R 4 is an alkyl group, acyl group, aryl group, aralkyl group. It is. The Z is preferably an —OH group, an —OR 4 group and a group in which R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a —OR 4 group and a group in which R 4 is an acetyl group.

上記(方法1)〜(方法4)において、上記rおよびsは、r+s=4を満たす整数であり、好ましくは、rが1〜3の整数であり、より好ましくはrが1または2である。   In the above (Method 1) to (Method 4), r and s are integers satisfying r + s = 4, preferably, r is an integer of 1 to 3, and more preferably, r is 1 or 2. .

上記(方法1)および(方法2)において、上記重合性モノマーとしては、重合性不飽和結合を有するモノマーであれば任意の適切なモノマーを採用し得る。例えば、スチレン、ジビニルベンゼンが挙げられる。   In the above (Method 1) and (Method 2), any appropriate monomer can be adopted as the polymerizable monomer as long as it is a monomer having a polymerizable unsaturated bond. Examples thereof include styrene and divinylbenzene.

上記(方法1)〜(方法4)において、上記重合の形態としては、任意の適切な重合形態を採用し得る。例えば、懸濁重合、シード重合、分散重合、ゾルゲルシード重合が挙げられる。好ましくは、懸濁重合、ゾルゲルシード重合であり、より好ましくはゾルゲルシード重合である。ゾルゲルシード重合で行うと、最終的に得られる重合体微粒子の粒子径の変動係数(CV値)を小さくすることが可能となり、導電性微粒子の原料として用いた際に粒子径の均一な導電性微粒子が得られ、該導電性微粒子を用いた電極間の電気的接続を行う場合には、接続信頼性が高くなるといった有利な効果を発揮することができる。   In the above (Method 1) to (Method 4), any appropriate polymerization form can be adopted as the form of the polymerization. Examples thereof include suspension polymerization, seed polymerization, dispersion polymerization, and sol-gel seed polymerization. Suspension polymerization and sol-gel seed polymerization are preferable, and sol-gel seed polymerization is more preferable. When the sol-gel seed polymerization is performed, it is possible to reduce the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the finally obtained polymer fine particles, and the conductivity is uniform when used as a raw material for the conductive fine particles. When fine particles are obtained and electrical connection between the electrodes using the conductive fine particles is performed, an advantageous effect that connection reliability is increased can be exhibited.

本発明の重合体微粒子の製造方法においては、表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´を1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   In the method for producing polymer fine particles of the present invention, only one type of core particle precursor P ′ having a —Si—OH group on the surface may be used, or two or more types may be used in combination.

表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´は、より具体的には、有機無機複合粒子であってもよい。本発明にいう有機無機複合粒子とは、無機質成分である無機質骨格と有機質成分であるビニル系重合体とを必須としてなる複合体粒子であって、無機質骨格は、(メタ)アクリロキシ基を有するシリコン化合物を必須とする無機化合物原料を加水分解・縮合してなるポリシロキサン骨格構造からなる骨格、すなわち、(メタ)アクリロキシ基を有するポリシロキサン骨格構造からなり、この無機質骨格を構成するポリシロキサン骨格構造中にビニル系重合体が含まれてなる粒子、つまり、該ポリシロキサン骨格間にビニル系重合体が存在している粒子である。   More specifically, the core particle precursor P ′ having —Si—OH groups on the surface may be organic-inorganic composite particles. The organic-inorganic composite particle referred to in the present invention is a composite particle essentially comprising an inorganic skeleton that is an inorganic component and a vinyl polymer that is an organic component, and the inorganic skeleton is silicon having a (meth) acryloxy group. A skeleton composed of a polysiloxane skeleton structure obtained by hydrolyzing and condensing an inorganic compound raw material essential for a compound, that is, a polysiloxane skeleton structure having a (meth) acryloxy group, and constituting this inorganic skeleton Particles containing a vinyl polymer therein, that is, particles in which a vinyl polymer is present between the polysiloxane skeletons.

本発明にいう有機無機複合粒子は、有機質成分のほとんどが無機質粒子の表面に被覆されてなる粒子や、有機質成分が無機質粒子の表面でグラフトされてなる粒子や、有機質部分と無機質部分とを有する重合性単量体を重合させてなる粒子、とは形態上異なる。本発明にいう有機無機複合粒子は、上述のような構成形態であることにより、硬度、破壊強度等の各種機械的特性に優れ、所望の粒子径および粒度分布にコントロールされた粒子となり得る。なお、有機無機複合粒子を得るにあたり、上記無機質骨格からなる粒子状物(無機質粒子)を製造することが好ましい。   The organic-inorganic composite particles referred to in the present invention include particles in which most of the organic components are coated on the surfaces of the inorganic particles, particles in which the organic components are grafted on the surfaces of the inorganic particles, and organic portions and inorganic portions. It differs in form from particles obtained by polymerizing a polymerizable monomer. The organic-inorganic composite particles referred to in the present invention are particles having excellent mechanical properties such as hardness and breaking strength, and can be controlled to have a desired particle size and particle size distribution because of the above-described configuration. In obtaining organic / inorganic composite particles, it is preferable to produce particulate matter (inorganic particles) composed of the inorganic skeleton.

上記無機質粒子の形状は、球状、針状、板状、鱗片状、粉砕状、俵状、まゆ状、金平糖状等の、任意の適切な粒子形状が採用され得る。   As the shape of the inorganic particles, any appropriate particle shape such as a spherical shape, a needle shape, a plate shape, a scale shape, a pulverized shape, a bowl shape, an eyebrows shape, a confetti shape and the like can be adopted.

上記無機質粒子の平均粒子径は、好ましくは0.1〜100μm、より好ましくは0.5〜50μm、最も好ましくは1〜30μmである。上記無機質粒子の平均粒子径が上記範囲内である場合は、後述する重合性モノマーの吸収が効率よく進行するといった有利な効果を発揮することができる。   The average particle diameter of the inorganic particles is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.5 to 50 μm, and most preferably 1 to 30 μm. When the average particle diameter of the inorganic particles is within the above range, it is possible to exert an advantageous effect that absorption of a polymerizable monomer described later proceeds efficiently.

上記無機質粒子の粒度分布のシャープさは、変動係数(CV値)で示し得る。上記変動係数(CV値)は、好ましくは20%以下、より好ましくは10%以下、最も好ましくは5%以下である。上記変動係数(CV値)が上記範囲内である場合は、後述する重合性モノマーの吸収が効率よく行えるといった有利な効果を発揮することができる。   The sharpness of the particle size distribution of the inorganic particles can be indicated by a coefficient of variation (CV value). The coefficient of variation (CV value) is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, and most preferably 5% or less. When the coefficient of variation (CV value) is within the above range, an advantageous effect that the polymerizable monomer described later can be efficiently absorbed can be exhibited.

上述した好ましい有機無機複合粒子の製造方法であるゾルゲルシード重合法(方法2の好ましい形態)に関して以下に説明する。
上記無機質粒子である(メタ)アクリロキシ基を有するポリシロキサン粒子は、例えば、以下に示す縮合工程を含む方法により得られることが好ましい。上記縮合工程とは、(メタ)アクリロキシ基を有する加水分解性シリコン化合物を必須とする加水分解性シリコン化合物群を用いて加水分解および縮合する工程であり、この縮合工程では、触媒としてアンモニア等の塩基性触媒を用いてもよい。
The sol-gel seed polymerization method (preferred form of Method 2), which is a preferable method for producing the organic-inorganic composite particles described above, will be described below.
It is preferable that the polysiloxane particle | grains which have the (meth) acryloxy group which are the said inorganic particles are obtained by the method including the condensation process shown below, for example. The condensation step is a step of hydrolysis and condensation using a hydrolyzable silicon compound group essentially comprising a hydrolyzable silicon compound having a (meth) acryloxy group. In this condensation step, ammonia or the like is used as a catalyst. A basic catalyst may be used.

上記加水分解性シリコン化合物群には、下記一般式(1)で示される(メタ)アクリロキシ基を有する加水分解性シリコン化合物(以下、シリコン化合物(1)と称することがある。)を必須成分として用い、必要に応じて、下記一般式(2)で示されるシリコン化合物(以下、シリコン化合物(2)と称することがある。)を併用してもよい。また、上記シリコン化合物(1)、(2)の誘導体を上記シリコン化合物(1)と併用してもよい。
(ここで、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは置換基を有していても良い炭素数1〜20の2価の有機基を示し、Rは、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、および炭素数2〜5のアシル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの1価基を示す。Rは、炭素数1〜5のアルキル基およびフェニル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの1価の基を示す。hは1または2であり、iは0または1である。)
(ここで、Rは、炭素数1〜20のアルキル基、エポキシ基を有する炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基からなる群から選ばれる少なくとも1つの1価基を示し、Rは、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、および炭素数2〜5のアシル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの1価基を示す。jは1〜3の整数である。)
In the hydrolyzable silicon compound group, a hydrolyzable silicon compound having a (meth) acryloxy group represented by the following general formula (1) (hereinafter sometimes referred to as silicon compound (1)) is an essential component. If necessary, a silicon compound represented by the following general formula (2) (hereinafter sometimes referred to as silicon compound (2)) may be used in combination. Moreover, you may use together the derivative | guide_body of the said silicon compounds (1) and (2) with the said silicon compound (1).
(Here, R a represents a hydrogen atom or a methyl group, R b represents an optionally substituted divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and R c represents a hydrogen atom or carbon number. And at least one monovalent group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms, wherein R d is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and a phenyl group. Represents at least one monovalent group selected, h is 1 or 2, and i is 0 or 1.)
(Wherein, R e is composed of an alkyl group, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms having 1 to 20 carbon atoms having an alkyl group, an epoxy group having 1 to 20 carbon atoms At least one monovalent group selected from the group, wherein R f is at least one monovalent group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms. (J is an integer of 1 to 3)

シリコン化合物(1)としては、具体的には、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、γ−メタクリロキシエトキシプロピルトリメトキシシラン(または、γ−トリメトキシシリルプロピル−β−メタクリロキシエチルエーテルともいう)、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等を挙げることができる。これらは1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   Specific examples of the silicon compound (1) include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-acryloxypropyltriethoxysilane. , Γ-methacryloxypropyltriacetoxysilane, γ-methacryloxyethoxypropyltrimethoxysilane (also referred to as γ-trimethoxysilylpropyl-β-methacryloxyethyl ether), γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ- Examples thereof include methacryloxypropylmethyldiethoxysilane and γ-acryloxypropylmethyldimethoxysilane. These may be used alone or in combination of two or more.

シリコン化合物(2)としては、具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラアセトキシシラン等の上記一般式(2)でn=0の4官能性シラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3,4−エポキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等の上記一般式(2)でn=1の3官能性シラン;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジフェニルジシランジオール等の上記一般式(2)でn=2の2官能性シラン;等を挙げることができる。これらは1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   Specific examples of the silicon compound (2) include tetrafunctional silanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraacetoxysilane, etc., where n = 0. Silane: methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri A trifunctional silane in which n = 1 in the above general formula (2) such as methoxysilane, 3,4-epoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane; Dimethyldimethoxysilane, dimethyl And the like can be given; diethoxysilane, diacetoxy dimethyl silane, difunctional silane of n = 2 in the above general formula such as diphenyl disilane diol (2). These may be used alone or in combination of two or more.

シリコン化合物(1)および(2)の誘導体としては、具体的には、例えば、シリコン化合物(1)および(2)が含有するOR基またはOR基に関してその少なくとも1つがβ−ジカルボニル基および/または他のキレート化合物を形成し得る基で置換された化合物と、シリコン化合物(1)および(2)および/またはそのキレート化合物を部分的に加水分解・縮合して得られた低縮合物と、からなる群より選ばれる少なくとも1つが好ましい。 Derivatives of silicon compound (1) and (2), specifically, for example, a silicon compound (1) and (2) at least one of which with respect to OR c group or OR f group containing the β- dicarbonyl group And / or a low-condensate obtained by partially hydrolyzing and condensing a compound substituted with a group capable of forming another chelate compound and the silicon compounds (1) and (2) and / or the chelate compound And at least one selected from the group consisting of:

上記無機質粒子(ポリシロキサン粒子)は、上記シリコン化合物群を、水を含む溶媒中で加水分解させ縮合させて得られる。加水分解および縮合については、一括、分割、連続等、任意の適切な方法を採用し得る。加水分解および縮合をさせるにあたり、アンモニア、尿素、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物等の触媒を用いてもよい。また、溶媒中には、水や触媒以外に有機溶剤が存在していてもよい。   The inorganic particles (polysiloxane particles) are obtained by hydrolyzing and condensing the silicon compound group in a solvent containing water. About hydrolysis and condensation, arbitrary appropriate methods, such as lump, division | segmentation, and a continuation, can be employ | adopted. In the hydrolysis and condensation, a catalyst such as ammonia, urea, ethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, alkali metal hydroxide, or alkaline earth metal hydroxide may be used. Further, in the solvent, an organic solvent may be present in addition to water and the catalyst.

上記有機溶剤としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸エチル等のエステル類;イソオクタン、シクロヘキサン等の(シクロ)パラフィン類;ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;などが好ましく挙げられる。これらは、1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   Specific examples of the organic solvent include methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, t-butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, and the like. Alcohols such as acetone and methyl ethyl ketone; esters such as ethyl acetate; (cyclo) paraffins such as isooctane and cyclohexane; ethers such as dioxane and diethyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; Etc. are preferred. These may be used alone or in combination of two or more.

上記加水分解および縮合は、例えば、上記シリコン化合物群および有機溶剤等を、水を含む溶媒に添加し、好ましくは0〜100℃、より好ましくは0〜70℃の温度範囲で、好ましくは30分〜100時間攪拌することによって行われる。また、上述のようにして得られた粒子を、種粒子として予め合成系に仕込んでおき、そこに上記シリコン化合物群を添加して上記種粒子を成長させることにより、無機質粒子を得ることもできる。このようにして、上記シリコン化合物群を、水を含む溶媒中で、任意の適切な条件下で、加水分解および縮合させることにより、粒子が析出しスラリーが生成する。析出した粒子は、上述の(メタ)アクリロキシ基を有するシリコン化合物(1)を必須成分として用いて得られるものであるため、(メタ)アクリロキシ基を有するポリシロキサン粒子が得られる。   In the hydrolysis and condensation, for example, the silicon compound group and an organic solvent are added to a solvent containing water, preferably in the temperature range of 0 to 100 ° C., more preferably in the temperature range of 0 to 70 ° C., preferably 30 minutes. It is carried out by stirring for ~ 100 hours. In addition, inorganic particles can be obtained by previously preparing particles obtained as described above as seed particles in a synthesis system and adding the silicon compound group thereto to grow the seed particles. . In this way, the silicon compound group is hydrolyzed and condensed under any appropriate conditions in a solvent containing water, whereby particles are precipitated and a slurry is generated. Since the precipitated particles are obtained by using the silicon compound (1) having the (meth) acryloxy group described above as an essential component, polysiloxane particles having a (meth) acryloxy group can be obtained.

上記加水分解および縮合を行うにあたっての任意の適切な条件は、例えば、得られたスラリーにおいて、シリコン化合物(1)およびシリコン化合物(2)の濃度が20重量%以下、水濃度が50%以上、触媒濃度が10重量%以下となるような条件が好ましい。   Arbitrary appropriate conditions for performing the hydrolysis and condensation are, for example, in the obtained slurry, the concentration of the silicon compound (1) and the silicon compound (2) is 20% by weight or less, the water concentration is 50% or more, Conditions such that the catalyst concentration is 10% by weight or less are preferred.

上記加水分解および縮合を行うにあたっての任意の適切な条件は、より好ましくは、水濃度が50〜99.99重量%、触媒濃度が0.01〜10重量%、有機溶剤濃度が0〜90重量%、上記シリコン化合物群の濃度が0.1〜30重量%、上記シリコン化合物群の添加時間が0.001〜500時間、反応温度が0〜100℃である。また、上記種粒子の濃度は、0〜10重量%に設定することが好ましい。   Any appropriate conditions for carrying out the hydrolysis and condensation are more preferably 50 to 99.99% by weight of water, 0.01 to 10% by weight of catalyst, and 0 to 90% by weight of organic solvent. %, The concentration of the silicon compound group is 0.1 to 30% by weight, the addition time of the silicon compound group is 0.001 to 500 hours, and the reaction temperature is 0 to 100 ° C. The concentration of the seed particles is preferably set to 0 to 10% by weight.

上記無機質粒子は、上述のように上記シリコン化合物群を原料無機化合物として得られるものであるため、この無機化合物中のケイ素原子に由来する無機質部分(ポリシロキサン骨格)を含んでなり、(メタ)アクリロキシ基などの有機基を有するものである。   Since the inorganic particles are obtained by using the silicon compound group as a raw material inorganic compound as described above, the inorganic particles include an inorganic portion (polysiloxane skeleton) derived from silicon atoms in the inorganic compound, and (meta) It has an organic group such as an acryloxy group.

上記無機質粒子は、該粒子中に、つまり、該粒子を構成するポリシロキサン骨格間に、後述する重合性モノマーを容易に吸収し、かつ、保持しておくことのできる粒子である。これは、無機質粒子が有している(メタ)アクリロキシ基が重合性モノマー等の有機化合物との相溶性に非常に優れているからであり、また、上記無機質粒子が重合性モノマーを吸収するのに好適な架橋度となっているからであるともいえる。この重合性モノマーが最終的に有機質成分であるビニル系重合体となる。   The inorganic particles are particles that can easily absorb and retain a polymerizable monomer described later in the particles, that is, between the polysiloxane skeletons constituting the particles. This is because the (meth) acryloxy group possessed by the inorganic particles is very compatible with organic compounds such as polymerizable monomers, and the inorganic particles absorb the polymerizable monomers. It can be said that this is because of a suitable degree of crosslinking. This polymerizable monomer finally becomes a vinyl polymer which is an organic component.

上記重合性モノマーとしては、分子内に少なくとも1個以上のエチレン性不飽和基を含有する化合物であればよい。具体的には、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキブチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する単量体類;メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、等のポリエチレングリコール成分を有する単量体類;(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸ラウリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル等のアルキル(メタ)アクリレート類;トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ペンタンフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロアミル(メタ)アクリレート等のフッ素原子含有(メタ)アクリレート類;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルマン、α−クロロスチレン、0−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、p−エチルスチレン等の芳香族ビニル化合物;グリシジル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリルアミド;(メタ)アクリロニトリル;等が挙げられる。   The polymerizable monomer may be a compound containing at least one ethylenically unsaturated group in the molecule. Specifically, for example, monomers having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate Monomers having a polyethylene glycol component such as, butyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isoamyl acrylate, lauryl (meth) acrylate, benzyl methacrylate, methacryl Alkyl (meth) acrylates such as tetrahydrofurfuryl acid; trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, pentanefluoropropyl (meth) acrylate, octafluoroamyl (meth) acrylate, etc. Elemental atom-containing (meth) acrylates; aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyl tolman, α-chlorostyrene, 0-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, p-ethylstyrene; glycidyl (Meth) acrylate; (meth) acrylic acid; (meth) acrylamide; (meth) acrylonitrile;

上記重合性モノマーは、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   The said polymerizable monomer may be used independently and may use 2 or more types together.

上記無機質粒子に上記重合性モノマーを吸収させる際に、例えば、あらかじめ上記重合性モノマーを乳化分散させエマルションを生成させておく場合には、安定なエマルションとするため、疎水性の重合性モノマーを好適に用いることができる。
重合性モノマーを吸収させる際には、上述の乳化分散させてなるエマルション中に、ラジカル重合開始剤を含有させておくことが好ましい。該重合開始剤の量は、通常、重合性モノマー総量に対して、0.01〜10重量%が好ましい。該重合開始剤は、従来公知のラジカル重合開始剤を使用することができる。
When the polymerizable monomer is absorbed by the inorganic particles, for example, when the polymerizable monomer is preliminarily emulsified and dispersed to form an emulsion, a hydrophobic polymerizable monomer is preferably used in order to obtain a stable emulsion. Can be used.
When the polymerizable monomer is absorbed, it is preferable to contain a radical polymerization initiator in the emulsion obtained by emulsification and dispersion. The amount of the polymerization initiator is usually preferably 0.01 to 10% by weight with respect to the total amount of polymerizable monomers. As the polymerization initiator, a conventionally known radical polymerization initiator can be used.

得られるコア粒子前駆体P´における機械的特性に関する効果を容易に調節するようにするため、架橋性モノマーを用いても良い。上記架橋性モノマーとしては、例えば、ジビニルベンゼン、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジアリルフタレートおよびその異性体、トリアリルイソシアヌレートおよびその誘導体、等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
上述した重合性モノマー、好ましくは乳化分散させてなるエマルションを無機質粒子(ポリシロキサン粒子)が分散してなるスラリーと混合し、好ましくは、0.1〜5時間撹拌することにより、無機質粒子に重合性モノマーが吸収されてなる複合粒子前駆体が形成される。吸収時における温度は、吸収過程において重合性モノマーの重合が開始し難い点から、50℃以下が好ましく、40℃以下がより好ましく、10〜40℃がさらに好ましい。
上述の複合粒子前駆体が分散したスラリーを、重合可能な温度、好ましくは50℃以上に加熱保持することにより、本発明におけるコア粒子前駆体P´として好ましい有機無機複合粒子が分散してなるスラリーが得られる。上記重合温度は、用いる重合開始剤にもよるが、通常、60〜100℃で行われることが好ましい。また、加熱保持時間は、通常、0.1〜10時間であることが好ましい。
In order to easily adjust the effect on the mechanical properties of the obtained core particle precursor P ′, a crosslinkable monomer may be used. Examples of the crosslinkable monomer include divinylbenzene, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meta) ) Acrylate, tetramethylol methane tri (meth) acrylate, tetramethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, diallyl phthalate and isomers thereof, triallyl isocyanurate and derivatives thereof, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
The above-mentioned polymerizable monomer, preferably an emulsion emulsified and dispersed, is mixed with a slurry in which inorganic particles (polysiloxane particles) are dispersed, and preferably polymerized to inorganic particles by stirring for 0.1 to 5 hours. A composite particle precursor formed by absorbing the functional monomer is formed. The temperature at the time of absorption is preferably 50 ° C. or less, more preferably 40 ° C. or less, and further preferably 10 to 40 ° C. from the point that polymerization of the polymerizable monomer is difficult to start in the absorption process.
A slurry in which the organic / inorganic composite particles preferable as the core particle precursor P ′ in the present invention are dispersed by heating and holding the slurry in which the composite particle precursor is dispersed at a polymerizable temperature, preferably 50 ° C. or higher. Is obtained. Although the said polymerization temperature is based also on the polymerization initiator to be used, it is preferable to carry out normally at 60-100 degreeC. The heating and holding time is usually preferably 0.1 to 10 hours.

上述した有機無機複合粒子の製造方法において、重合性不飽和結合を有するシリコン化合物を必須成分として加水分解・縮合して得られたポリシロキサン粒子を同様に得た後、重合性モノマーを吸収させることなく、ラジカル重合することによっても、有機無機複合粒子を得ることができる(方法3の好ましい形態)。具体的には、上記重合性ポリシロキサン粒子からなるスラリーを、好ましくはラジカル重合開始剤の共存下で、加熱することにより達成される。あるいは、重合性ポリシロキサン粒子をスラリーから単離し、気相中で加熱することによっても達成することができる。   In the above-described organic-inorganic composite particle production method, polysiloxane particles obtained by hydrolysis / condensation using a silicon compound having a polymerizable unsaturated bond as an essential component are similarly obtained, and then the polymerizable monomer is absorbed. Alternatively, organic-inorganic composite particles can also be obtained by radical polymerization (a preferred form of Method 3). Specifically, it is achieved by heating a slurry composed of the polymerizable polysiloxane particles, preferably in the presence of a radical polymerization initiator. Alternatively, it can also be achieved by isolating polymerizable polysiloxane particles from the slurry and heating in the gas phase.

本発明におけるコア粒子前駆体P´として好ましい有機無機複合粒子は、また、Si−OH基または加水分解によりSi−OH基を形成し得る基を有して重合性不飽和結合を有するケイ素化合物および/またはポリシロキサン化合物を、重合性モノマーと混合した重合性単量体組成物を、水性媒体に懸濁し、加熱する方法(懸濁重合法)によっても得ることができる(方法1の好ましい形態)。Si−OH基または加水分解によりSi−OH基を形成し得る基を有して重合性不飽和結合を有するケイ素化合物としては、上記RrSiZsで表される化合物(ただし、Rは重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基)を用いることが好ましい。重合性不飽和結合を有するポリシロキサン化合物としては、上記化合物を加水分解・縮合してなる縮合物を用いることが好ましい。中でも、前述の、重合性単量体組成物の安定な液滴からなる懸濁物を得て、凝集のない有機無機複合粒子を得るためには、Zがアルコキシ基であるRrSiZsで表される化合物(ただし、Rは重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基)を用いることが好ましい。また、重合性単量体組成物には、重合開始剤を、該組成物100重量%に対して、0.01〜10重量%含有させることが好ましい。懸濁重合法としては、従来公知の方法を採用し得る。重合のための加熱温度は、用いる重合開始剤にもよるが、通常、60〜100℃が好ましい。加熱保持時間は、通常、0.1〜10時間が好ましい。
上述の懸濁重合法で得られた有機無機複合粒子の場合、特に、ケイ素化合物としてZがアルコキシ基であるRrSiZsで表される化合物(ただし、Rは重合性不飽和結合を含む基を有する炭化水素基)を用いた場合には、得られる粒子においてアルコキシ基の状態が残存しているため、アルコキシシリル基をSi−OH基に変換する処理を行うことが好ましい。この処理により、ポリメタロキサン被膜の形成反応において、粒子表面に選択的に、ポリメタロキサンの形成反応が起こり、均一性に優れる被膜形成が行われるため好ましい。
懸濁重合法で得られる粒子は、通常、粒度分布がブロードであるため、分級することにより粒度分布の揃った粒子とすることが好ましい。
アルコキシシリル基をSi−OH基に変換する処理は、例えば、塩基性または酸性の水性媒体中に粒子を浸漬することにより達成できる。好ましくは、さらに加熱処理を行う。例えば、懸濁重合後の有機無機複合粒子のスラリーに、アルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物や炭酸塩、アンモニア、アミンなどを添加し、塩基性に調整した後、過熱する方法などを採用し得る。加熱温度、加熱時間にもよるが、経済的な温度、時間で該処理を行うためには、塩基性に調整する際、水性媒体のpHが9以上となるようにすることが好ましく、10以上となるようにすることがより好ましく、10〜11.8となるようにすることがさらに好ましい。酸性に調整する際には、水性媒体のpHが5以下となるようにすることが好ましく、4.5以下となるようにすることがより好ましく、2〜4.5となるようにすることがさらに好ましい。重合体粒子の機械的な強度特性を損なわずに、アルコキシ基からSi−OH基への変換反応のみを行うためには、塩基性下で行うことが好ましく、pH調整に用いる化合物を除去しやすい点から、アンモニアを用いて塩基性に調整することが好ましい。加熱温度は、工業的に安価に行うためには、10〜100℃が好ましい。加熱保持時間は、工業的に安価に行うためには、0.1〜10時間が好ましい。また、撹拌下で行うことが好ましい。なお、アルコキシシリル基をSi−OH基に変換する処理は、懸濁重合法により得られる粒子のみに行うとは限らず、前述した他の方法によって得られる粒子にも採用し得る。
The organic-inorganic composite particles preferable as the core particle precursor P ′ in the present invention also have a silicon compound having a polymerizable unsaturated bond having a Si—OH group or a group capable of forming a Si—OH group by hydrolysis, and It can also be obtained by a method (suspension polymerization method) in which a polymerizable monomer composition obtained by mixing a polysiloxane compound with a polymerizable monomer is suspended in an aqueous medium and heated (preferred form of Method 1). . As a silicon compound having a Si—OH group or a group capable of forming a Si—OH group by hydrolysis and having a polymerizable unsaturated bond, a compound represented by the above R 3 rSiZs (provided that R 3 is polymerizable) It is preferable to use a hydrocarbon group having a group containing an unsaturated bond. As the polysiloxane compound having a polymerizable unsaturated bond, it is preferable to use a condensate obtained by hydrolysis and condensation of the above compound. Among them, in order to obtain a suspension composed of stable droplets of the polymerizable monomer composition described above and to obtain organic-inorganic composite particles having no aggregation, it is represented by R 3 rSiZs where Z is an alkoxy group. It is preferable to use a compound (wherein R 3 is a hydrocarbon group having a group containing a polymerizable unsaturated bond). Further, the polymerizable monomer composition preferably contains a polymerization initiator in an amount of 0.01 to 10% by weight with respect to 100% by weight of the composition. A conventionally known method can be adopted as the suspension polymerization method. Although the heating temperature for superposition | polymerization is based also on the polymerization initiator to be used, 60-100 degreeC is preferable normally. The heating and holding time is usually preferably from 0.1 to 10 hours.
In the case of the organic-inorganic composite particles obtained by the suspension polymerization method described above, in particular, a compound represented by R 3 rSiZs in which Z is an alkoxy group as a silicon compound (provided that R 3 is a group containing a polymerizable unsaturated bond). In the case of using a hydrocarbon group having a hydroxyl group, it is preferable to perform a treatment for converting an alkoxysilyl group into a Si—OH group because the state of the alkoxy group remains in the obtained particles. This treatment is preferable because a polymetalloxane formation reaction occurs selectively on the particle surface in the formation reaction of the polymetalloxane film, and a film formation with excellent uniformity is performed.
Since particles obtained by the suspension polymerization method generally have a broad particle size distribution, it is preferable to classify the particles to obtain particles having a uniform particle size distribution.
The treatment for converting alkoxysilyl groups into Si—OH groups can be achieved, for example, by immersing the particles in a basic or acidic aqueous medium. Preferably, a heat treatment is further performed. For example, a method in which alkali metal, alkaline earth metal hydroxide or carbonate, ammonia, amine, etc. are added to the slurry of organic-inorganic composite particles after suspension polymerization, adjusted to basic, and then heated, etc. Can be adopted. Although depending on the heating temperature and heating time, in order to perform the treatment at an economical temperature and time, it is preferable that the pH of the aqueous medium is 9 or more when adjusting to basic, 10 or more. More preferably, it is more preferably 10 to 11.8. When adjusting to acidity, the pH of the aqueous medium is preferably 5 or less, more preferably 4.5 or less, and preferably 2 to 4.5. Further preferred. In order to perform only the conversion reaction from the alkoxy group to the Si-OH group without impairing the mechanical strength characteristics of the polymer particles, it is preferably performed under basic conditions, and the compound used for pH adjustment can be easily removed. From this point, it is preferable to adjust the basicity using ammonia. The heating temperature is preferably 10 to 100 ° C. in order to be industrially inexpensive. The heating and holding time is preferably 0.1 to 10 hours in order to be industrially inexpensive. Moreover, it is preferable to carry out under stirring. In addition, the process which converts an alkoxy silyl group into a Si-OH group is not necessarily performed only on particles obtained by a suspension polymerization method, and may be employed on particles obtained by other methods described above.

上記有機無機複合粒子は、無機質骨格構造中にビニル系重合体が含まれてなる粒子である。上記有機無機複合粒子の平均粒子径は、上述のように無機質粒子の骨格構造中にビニル系重合体が含まれ複合化された状態での平均粒子径のことであり、具体的には、好ましくは0.1〜200μm、より好ましくは0.5〜100μm、さらにより好ましくは1〜50μmである。上記平均粒子径が上記範囲内である場合は、無機質粒子由来の無機成分とビニル系重合体由来の有機成分の比率を幅広く変化させることが可能であり、例えば、同一の平均粒子径であっても、粒子の硬度、破壊強度などの機械的特性を様々に変化させるといった有利な効果を発揮し得る。
上記有機無機複合粒子は、上記無機質粒子の構造中に含むビニル系重合体の量を調節することにより、所望の粒子径にすることができる。上記有機無機複合粒子の粒度分布のシャープさは、粒子径の変動係数(CV値)で示すこととし、具体的には、好ましくは20%以下、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下である。上記変動係数(CV値)が上記範囲内である場合は、例えば、導電性微粒子の原料として用いた際に粒子径の均一な導電性微粒子が得られ、該導電性微粒子を用いた電極間の電気的接続を行う場合には、接続信頼性が高くなるといった有利な効果を発揮することができる。
上記有機無機複合粒子において、無機質骨格の有する(メタ)アクリロキシ基は、すべて単独で存在している形態であっても良いし、少なくとも1つが他の反応基および/または重合体と結合していても良い。上記結合している形態としては、例えば、ビニル系重合体と結合している形態、無機質骨格中の少なくとも1つの他の反応基と反応して結合または重合している形態、該形態でビニル系重合体と結合している形態、等が挙げられる。なかでも、ビニル系重合体と結合している形態の場合は、ビニル系重合体が無機質骨格の構造中にさらにしっかりと固定され、有機質成分であるビニル系重合体と無機質成分との構成比率、および、所望の粒子径や粒度分布のシャープさを、より確実に保持し、長期間安定した機械的特性を有することが可能である。同様に、上記結合により、重合体粒子の形状がより真球状に近くなり得る。
The organic-inorganic composite particles are particles in which a vinyl polymer is contained in an inorganic skeleton structure. The average particle diameter of the organic-inorganic composite particles is an average particle diameter in a state where the vinyl polymer is included in the skeleton structure of the inorganic particles and combined as described above, and specifically, preferably Is 0.1 to 200 μm, more preferably 0.5 to 100 μm, and even more preferably 1 to 50 μm. When the average particle size is within the above range, the ratio of the inorganic component derived from the inorganic particles and the organic component derived from the vinyl polymer can be widely changed, for example, the same average particle size However, advantageous effects such as various changes in mechanical properties such as particle hardness and breaking strength can be exhibited.
The organic-inorganic composite particles can have a desired particle diameter by adjusting the amount of the vinyl polymer contained in the structure of the inorganic particles. The sharpness of the particle size distribution of the organic-inorganic composite particles is indicated by a coefficient of variation (CV value) of the particle diameter, and specifically, preferably 20% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 5%. It is as follows. When the coefficient of variation (CV value) is within the above range, for example, when used as a raw material for conductive fine particles, conductive fine particles having a uniform particle diameter are obtained, and between the electrodes using the conductive fine particles. When electrical connection is performed, an advantageous effect that connection reliability is increased can be exhibited.
In the organic-inorganic composite particles, the (meth) acryloxy group of the inorganic skeleton may be present in a single form, or at least one of them may be bonded to another reactive group and / or polymer. Also good. Examples of the bonded form include a form bonded to a vinyl polymer, a form bonded or polymerized by reacting with at least one other reactive group in the inorganic skeleton, and a vinyl type in this form. The form etc. which are couple | bonded with the polymer are mentioned. Among these, in the case of a form bonded to a vinyl polymer, the vinyl polymer is more firmly fixed in the structure of the inorganic skeleton, and the composition ratio of the vinyl polymer and the inorganic component, which are organic components, In addition, it is possible to maintain the desired particle diameter and sharpness of the particle size distribution more reliably and to have stable mechanical characteristics for a long period of time. Similarly, the above bonding can make the shape of the polymer particles more nearly spherical.

上記有機無機複合粒子の硬度は、例えば、10%圧縮弾性率が、好ましくは1000N/mm以上、より好ましくは2000N/mm以上、さらに好ましくは3000N/mm以上である。 As for the hardness of the organic-inorganic composite particles, for example, a 10% compression elastic modulus is preferably 1000 N / mm 2 or more, more preferably 2000 N / mm 2 or more, and further preferably 3000 N / mm 2 or more.

上記有機無機複合粒子の破壊強度は、例えば、好ましくは1mN以上、より好ましくは3mN以上、さらに好ましくは5mN以上である。   The breaking strength of the organic-inorganic composite particles is, for example, preferably 1 mN or more, more preferably 3 mN or more, and further preferably 5 mN or more.

上記有機無機複合粒子において、無機質骨格に由来するポリシロキサン骨格を構成するSiOの量は、例えば、好ましくは0.1〜80重量%、より好ましくは0.5〜70重量%、さらに好ましくは1.0〜60重量%である。 In the organic-inorganic composite particles, the amount of SiO 2 which constitutes the polysiloxane backbone derived from inorganic backbone, for example, preferably 0.1 to 80 wt%, more preferably 0.5 to 70 wt%, more preferably 1.0 to 60% by weight.

上記有機無機複合粒子が(メタ)アクリロキシ基を有するポリシロキサン骨格からなる無機質骨格からなる3次元網目状の構造中にビニル系重合体が含まれてなる粒子であることを確認するには種々の方法が適用できるが、例えば、得られた粒子をトルエン等の有機溶剤で加熱抽出し、加熱抽出前後で粒子の粒子径および重量が変化しないことでビニル系重合体が無機質骨格で形成される3次元網目状構造内部(構造中)に取り込まれて存在していることを確認する方法、または、得られた粒子を切断し、その断面を観察することで無機質骨格で形成される3次元網目状構造内部(構造中)にビニル系重合体が含まれてなることを確認する方法などが挙げられる。   In order to confirm that the organic-inorganic composite particles are particles in which a vinyl polymer is contained in a three-dimensional network structure composed of an inorganic skeleton composed of a polysiloxane skeleton having a (meth) acryloxy group. Although the method can be applied, for example, the obtained particles are subjected to heat extraction with an organic solvent such as toluene, and the particle size and weight of the particles are not changed before and after the heat extraction, whereby the vinyl polymer is formed with an inorganic skeleton. A method for confirming that it is incorporated inside (in the structure) of a three-dimensional network structure, or a three-dimensional network formed with an inorganic skeleton by cutting the obtained particles and observing the cross section Examples thereof include a method for confirming that a vinyl polymer is contained in the structure (in the structure).

上記有機無機複合粒子の形状は、特に限定されるわけではなく、具体的には、例えば、球状、針状、板状、鱗片状、紛砕状、偏状、まゆ状、こんぺい糖状などの形状を挙げることができる。
上記有機無機複合粒子は、好ましくは、ポリシロキサン骨格を構成するケイ素原子の少なくとも1つがSi−OH基を有することを特徴とする。
The shape of the organic-inorganic composite particles is not particularly limited, and specifically, for example, spherical, needle-like, plate-like, flaky, crushed, uneven, eyebrows, candy sugar, etc. Can be mentioned.
The organic-inorganic composite particles are preferably characterized in that at least one of silicon atoms constituting the polysiloxane skeleton has a Si—OH group.

以下、ポリメタロキサン被膜を形成する方法について説明する。
加水分解可能な有機金属化合物としては、任意の適切な加水分解可能な有機金属化合物を採用し得る。具体的には、例えば、一般式MXnで表される金属アルコキシド(ただし、Mは原子価数nの金属原子であり、Xはアルコキシ基である)、一般式RpSiYqで表される有機ケイ素化合物(ただし、Rは置換基を有していても良い炭化水素基であり、Yは−OH基、−OR基、ハロゲン原子、水素原子のいずれかであり、Rはアルキル基、アシル基、アセチル基、アリール基、アラルキル基であり、pおよびqはp+q=4を満たす整数である)が好ましく挙げられる。
Hereinafter, a method for forming a polymetalloxane coating will be described.
Any appropriate hydrolyzable organometallic compound may be employed as the hydrolyzable organometallic compound. Specifically, for example, a metal alkoxide represented by the general formula MXn (where M is a metal atom having a valence of n and X is an alkoxy group), and represented by a general formula R 1 pSiY 1 q Organosilicon compound (wherein R 1 is a hydrocarbon group which may have a substituent, Y 1 is any one of —OH group, —OR 2 group, halogen atom and hydrogen atom, and R 2 is An alkyl group, an acyl group, an acetyl group, an aryl group, and an aralkyl group, and p and q are integers satisfying p + q = 4).

上記金属アルコキシドMXnにおいて、Mは原子価数nの金属原子であり、好ましくは、Si、Ti、Ar、Alである。   In the metal alkoxide MXn, M is a metal atom having a valence number n, preferably Si, Ti, Ar, or Al.

上記金属アルコキシドMXnにおいて、Xはアルコキシ基であり、好ましくは、炭素数1〜10のアルコキシ基、より好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基、さらに好ましくは炭素数1〜3のアルコキシ基である。   In the metal alkoxide MXn, X is an alkoxy group, preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and still more preferably an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. .

上記有機ケイ素化合物RpSiYqにおいて、Rは置換基を有していても良い炭化水素基であり、好ましくは、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアラルキル基である。 In the organosilicon compound R 1 pSiY 1 q, R 1 is a hydrocarbon group which may have a substituent, preferably an alkyl group which may have a substituent, or a substituent. An alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and an aralkyl group which may have a substituent.

上記有機ケイ素化合物RpSiYqにおいて、Yは−OH基、−OR基、ハロゲン原子、水素原子のいずれかであり、Rはアルキル基、アシル基、アセチル基、アリール基、アラルキル基である。上記Yは、好ましくは、−OH基、−OR基でRが炭素数1〜4のアルキル基の基、−OR基でRがアセチル基の基であり、より好ましくは、−OH基、−OR基でRがメチル基の基(メトキシ基)、−OR基でRがエチル基の基(エトキシ基)である。 In the organosilicon compound R 1 pSiY 1 q, Y 1 is any one of —OH group, —OR 2 group, halogen atom and hydrogen atom, and R 2 is alkyl group, acyl group, acetyl group, aryl group, aralkyl. It is a group. Y 1 is preferably an —OH group, —OR 2 group and R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, —OR 2 group and R 2 is an acetyl group, and more preferably, An —OH group, —OR 2 group and R 2 is a methyl group (methoxy group), and —OR 2 group and R 2 is an ethyl group (ethoxy group).

上記有機ケイ素化合物RpSiYqにおいて、pおよびqは、p+q=4を満たす整数であり、好ましくは、pが0〜3の整数であり、より好ましくはpが0〜2の整数であり、さらに好ましくはpが0である。 In the organosilicon compound R 1 pSiY 1 q, p and q are integers satisfying p + q = 4, preferably, p is an integer of 0 to 3, more preferably p is an integer of 0 to 2. More preferably, p is 0.

上記有機ケイ素化合物RpSiYqにおいて、p=0の化合物とp=1または2の化合物との混合物を用いることも好ましい。この場合、p=0の化合物とp=1または2の化合物との比率は、モル比で、好ましくは10:0〜1:9、より好ましくは10:0〜5:5、さらに好ましくは10:0〜8:2である。 In the organosilicon compound R 1 pSiY 1 q, it is also preferable to use a mixture of a compound with p = 0 and a compound with p = 1 or 2. In this case, the ratio of the compound of p = 0 and the compound of p = 1 or 2 is a molar ratio, preferably 10: 0 to 1: 9, more preferably 10: 0 to 5: 5, still more preferably 10 : 0 to 8: 2.

本発明の重合体微粒子の製造方法においては、上記加水分解可能な有機金属化合物を1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。例えば、上記金属アルコキシドMXnを1種のみ用いても良いし、上記金属アルコキシドMXnを2種以上併用しても良いし、上記有機ケイ素化合物RpSiYqを1種のみ用いても良いし、上記有機ケイ素化合物RpSiYqを2種以上併用しても良いし、上記金属アルコキシドMXnの1種以上と上記有機ケイ素化合物RpSiYqの1種以上を併用しても良い。特に、本発明の重合体微粒子の屈折率などを調整したり、本発明の重合体微粒子の金属との密着力を調整したりする上で、上記金属アルコキシドMXnの1種以上と上記有機ケイ素化合物RpSiYqの1種以上を併用することは好ましい形態である。 In the method for producing polymer fine particles of the present invention, only one kind of the hydrolyzable organometallic compound may be used, or two or more kinds may be used in combination. For example, only one kind of the metal alkoxide MXn may be used, two or more kinds of the metal alkoxide MXn may be used in combination, or only one kind of the organosilicon compound R 1 pSiY 1 q may be used, Two or more of the organosilicon compounds R 1 pSiY 1 q may be used in combination, or one or more of the metal alkoxides MXn and one or more of the organosilicon compounds R 1 pSiY 1 q may be used in combination. In particular, one or more of the above metal alkoxides MXn and the above organosilicon compound are used for adjusting the refractive index of the polymer fine particles of the present invention or adjusting the adhesion of the polymer fine particles of the present invention to a metal. It is a preferred form to use one or more of R 1 pSiY 1 q in combination.

本発明の重合体微粒子の製造方法においては、表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´が分散された溶媒に、加水分解可能な有機金属化合物またはその少なくとも一部が加水分解された縮合物を添加して、加水分解反応および/または縮合反応を行う。   In the method for producing polymer fine particles of the present invention, a hydrolyzable organometallic compound or at least a part thereof is hydrolyzed in a solvent in which a core particle precursor P ′ having a —Si—OH group is dispersed on the surface. The condensation product is added to conduct a hydrolysis reaction and / or a condensation reaction.

上記加水分解反応および縮合反応については、一括、分割、連続等、任意の適切な方法を採用し得る。加水分解反応および縮合反応をさせるにあたり、アンモニア、尿素、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物等の触媒を用いてもよい。   About the said hydrolysis reaction and condensation reaction, arbitrary appropriate methods, such as lump, a division | segmentation, and a continuation, can be employ | adopted. In performing the hydrolysis reaction and the condensation reaction, a catalyst such as ammonia, urea, ethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, alkali metal hydroxide, or alkaline earth metal hydroxide may be used.

上記溶媒としては、具体的には、例えば、水;メタノール、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸エチル等のエステル類;イソオクタン、シクロヘキサン等の(シクロ)パラフィン類;ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;などが好ましく挙げられる。これらは、1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   Specific examples of the solvent include water; methanol, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, t-butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4- Alcohols such as butanediol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; esters such as ethyl acetate; (cyclo) paraffins such as isooctane and cyclohexane; ethers such as dioxane and diethyl ether; aromatic carbonization such as benzene and toluene Preferred examples include hydrogens. These may be used alone or in combination of two or more.

上記加水分解反応および縮合反応は、好ましくは0〜100℃、より好ましくは10〜70℃の温度範囲で、好ましくは30分〜100時間攪拌することによって行われる。   The hydrolysis reaction and the condensation reaction are preferably performed by stirring in a temperature range of 0 to 100 ° C., more preferably 10 to 70 ° C., and preferably 30 minutes to 100 hours.

上記加水分解および縮合を行うにあたっての任意の適切な条件は、より好ましくは、触媒濃度が0.01〜10重量%、水濃度が0.5〜50重量%、水以外の溶媒濃度が1〜90重量%、コア粒子前駆体P´の濃度が0.1〜30重量%、加水分解可能な有機金属化合物またはその少なくとも一部が加水分解された縮合物の添加時間が0.001〜500時間、反応温度が0〜100℃である。   Any appropriate conditions for performing the hydrolysis and condensation are more preferably 0.01 to 10% by weight of catalyst concentration, 0.5 to 50% by weight of water concentration, and 1 to 1 concentration of solvent other than water. 90% by weight, concentration of core particle precursor P ′ is 0.1-30% by weight, addition time of hydrolyzable organometallic compound or condensate hydrolyzed at least partly is 0.001-500 hours The reaction temperature is 0 to 100 ° C.

〔重合体微粒子〕
好ましくは上記製造方法により、本発明の重合体微粒子が得られる。本発明の重合体微粒子は、Si原子を含むコア粒子Pの表面に金属原子Mを含むポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子であって、該コア粒子Pの表面に該ポリメタロキサン被膜が−Si−O−M−を含む構造によって結合されている。
(Polymer fine particles)
Preferably, the polymer fine particles of the present invention are obtained by the above production method. The polymer fine particles of the present invention are polymer fine particles having a polymetalloxane coating containing a metal atom M on the surface of a core particle P containing Si atoms, and the polymetalloxane coating is on the surface of the core particle P— They are bonded by a structure containing Si-OM-.

本発明の重合体微粒子において、上記ポリメタロキサン被膜は、任意の適切なメタロキサン結合の繰り返しからなる骨格から構成される。好ましくは、金属原子Siを含むポリシロキサン被膜である。   In the polymer fine particles of the present invention, the polymetalloxane coating is composed of a skeleton formed by repeating any suitable metalloxane bond. A polysiloxane film containing a metal atom Si is preferable.

上記ポリシロキサン被膜は、一般式RtYuSiOvで表される被膜である。 The polysiloxane film is a film represented by the general formula R 5 tY 2 uSiOv.

上記ポリシロキサン被膜RtYuSiOvにおいて、Rは置換基を有していても良い炭化水素基であり、好ましくは、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアラルキル基である。 In the polysiloxane coating R 5 tY 2 uSiOv, R 5 is a hydrocarbon group which may have a substituent, preferably an alkyl group which may have a substituent, or a substituent. An alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and an aralkyl group which may have a substituent.

上記ポリシロキサン被膜RtYuSiOvにおいて、Yは−OH基、−OR基、ハロゲン原子、水素原子のいずれかであり、Rはアルキル基、アシル基、アセチル基、アリール基、アラルキル基である。上記Yは、好ましくは、−OH基、−OR基でRが炭素数1〜4のアルキル基の基、−OR基でRがアセチル基の基であり、より好ましくは、−OH基、−OR基でRがメチル基の基(メトキシ基)、−OR基でRがエチル基の基(エトキシ基)である。 In the polysiloxane coating R 5 tY 2 uSiOv, Y 2 is any one of —OH group, —OR 6 group, halogen atom and hydrogen atom, and R 6 is alkyl group, acyl group, acetyl group, aryl group, aralkyl. It is a group. Y 2 is preferably an —OH group, —OR 6 group and R 6 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, —OR 6 group and R 6 is an acetyl group, and more preferably, An —OH group, —OR 6 group, R 6 is a methyl group (methoxy group), and —OR 6 group, R 6 is an ethyl group (ethoxy group).

上記ポリシロキサン被膜RtYuSiOvにおいて、t、u、vは、v=(4−t−u)/2を満たす数である。 In the polysiloxane coating R 5 tY 2 uSiOv, t, u, and v are numbers satisfying v = (4-t−u) / 2.

上記ポリシロキサン被膜RtYuSiOvにおいて、tは、好ましくは0≦t<3であり、より好ましくは0≦t≦2、さらに好ましくは0≦t≦1、特に好ましくは0≦t≦0.5である。 In the polysiloxane coating R 5 tY 2 uSiOv, t is preferably 0 ≦ t <3, more preferably 0 ≦ t ≦ 2, more preferably 0 ≦ t ≦ 1, particularly preferably 0 ≦ t ≦ 0 .5.

上記ポリシロキサン被膜RtYuSiOvにおいて、uは、好ましくは0≦u<3であり、より好ましくは0<u≦2.5、さらに好ましくは0≦u≦2、特に好ましくは0≦u≦1.5である。 In the polysiloxane film R 5 tY 2 uSiOv, u is preferably 0 ≦ u <3, more preferably 0 <u ≦ 2.5, still more preferably 0 ≦ u ≦ 2, and particularly preferably 0 ≦ u. ≦ 1.5.

本発明の重合体微粒子の平均粒子径は、好ましくは0.5〜100μm、より好ましくは1〜30μm、さらに好ましくは2〜20μmである。本発明の重合体微粒子の平均粒子径が上記範囲を外れると、本発明の効果が十分に発現できないおそれがある。   The average particle diameter of the polymer fine particles of the present invention is preferably 0.5 to 100 μm, more preferably 1 to 30 μm, and still more preferably 2 to 20 μm. If the average particle size of the polymer fine particles of the present invention is out of the above range, the effects of the present invention may not be sufficiently exhibited.

本発明の重合体微粒子においては、粒子径の変動係数(CV値)が、好ましくは35%以下、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは25%以下、さらに好ましくは20%以下、特に好ましくは10%以下、最も好ましくは5%以下である。上記変動係数(CV値)が上記範囲内である場合は、例えば、導電性微粒子の原料として用いた際に粒子径の均一な導電性微粒子が得られ、該導電性微粒子を用いた電極間の電気的接続を行う場合には、接続信頼性が高くなるといった有利な効果を発揮することができる。   In the polymer fine particles of the present invention, the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter is preferably 35% or less, more preferably 30% or less, still more preferably 25% or less, still more preferably 20% or less, particularly preferably. 10% or less, most preferably 5% or less. When the coefficient of variation (CV value) is within the above range, for example, when used as a raw material for conductive fine particles, conductive fine particles having a uniform particle diameter are obtained, and between the electrodes using the conductive fine particles. When electrical connection is performed, an advantageous effect that connection reliability is increased can be exhibited.

本発明の重合体微粒子においては、上記ポリメタロキサン被膜の被覆率(本発明の重合体微粒子の全表面中におけるコア粒子Pの外表面が露出していない部分の割合)が、好ましくは50%以上、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは95%以上、特に好ましくは100%である。上記ポリメタロキサン被膜の被覆率が上記範囲を外れると、本発明の効果が十分に発現できないおそれがある。   In the polymer fine particles of the present invention, the coverage of the polymetalloxane coating (ratio of the portion where the outer surface of the core particle P is not exposed in the entire surface of the polymer fine particles of the present invention) is preferably 50%. Above, more preferably 80% or more, still more preferably 95% or more, particularly preferably 100%. If the coverage of the polymetalloxane coating is out of the above range, the effects of the present invention may not be sufficiently exhibited.

本発明の重合体微粒子においては、上記ポリメタロキサン被膜の厚みが、好ましくは1〜500nmであり、より好ましくは5〜400nmであり、さらに好ましくは10〜300nmである。上記ポリメタロキサン被膜の厚みが上記範囲を外れると、本発明の効果が十分に発現できないおそれがある。また、上記ポリメタロキサン被膜の厚みが小さすぎると、ポリメタロキサン被膜の化学的安定性が低下するおそれがあり、表面硬度も十分に確保できないおそれがある。また、上記ポリメタロキサン被膜の厚みが大きすぎると、加熱や冷却時のコア粒子Pとの熱膨張係数の差に基づく割れやクラックや剥離が生じるおそれがある。   In the polymer fine particles of the present invention, the thickness of the polymetalloxane coating is preferably 1 to 500 nm, more preferably 5 to 400 nm, and still more preferably 10 to 300 nm. When the thickness of the polymetalloxane coating is out of the above range, the effects of the present invention may not be sufficiently exhibited. Moreover, when the thickness of the polymetalloxane coating is too small, the chemical stability of the polymetalloxane coating may be lowered, and the surface hardness may not be sufficiently secured. On the other hand, if the thickness of the polymetalloxane coating is too large, cracks, cracks and peeling based on the difference in thermal expansion coefficient from the core particles P during heating and cooling may occur.

本発明の重合体微粒子においては、上記ポリメタロキサン被膜の厚みが前記コア粒子Pの表面上で実質的に均一であることが好ましい。上記ポリメタロキサン被膜の厚みが前記コア粒子Pの表面上で実質的に均一であることにより、本発明の効果を十分に発現することが可能となる。ここで、上記「実質的に均一である」とは、前記コア粒子Pの表面上における任意の部分の上記ポリメタロキサン被膜の厚みの振れが、好ましくは±20%以内、より好ましくは±10%以内、さらに好ましくは±5%以内、最も好ましくは±3%以内であることを意味する。   In the polymer fine particle of the present invention, it is preferable that the thickness of the polymetalloxane coating is substantially uniform on the surface of the core particle P. When the thickness of the polymetalloxane coating is substantially uniform on the surface of the core particle P, the effects of the present invention can be sufficiently exhibited. Here, “substantially uniform” means that the fluctuation of the thickness of the polymetalloxane coating in an arbitrary portion on the surface of the core particle P is preferably within ± 20%, more preferably ± 10. %, More preferably within ± 5%, most preferably within ± 3%.

〔導電性微粒子〕
本発明の導電性微粒子は、本発明の重合体微粒子と金属層を含む。好ましくは、本発明の導電性微粒子は、本発明の重合体微粒子と金属めっき層を含む。
[Conductive fine particles]
The conductive fine particles of the present invention include the polymer fine particles of the present invention and a metal layer. Preferably, the conductive fine particles of the present invention include the polymer fine particles of the present invention and a metal plating layer.

従来の金属めっきされた導電性微粒子は、基材粒子と金属めっき層との間の密着性が悪く、そのため、基材粒子を多孔質化させたり、エッチングにより基材粒子の表面に凹凸を発生させたりして、アンカー効果をもたせる等の必要がある。しかし、基材粒子を多孔質化させたり、エッチングにより基材粒子の表面に凹凸を発生させたりすると、基材粒子の強度が著しく低下し、電極端子に圧着する際に、基材粒子が破壊したり、圧縮変形したまま回復しない等の問題があり、導通が不安定になることがある。また、電極端子に圧着する際に、金属めっき層が割れたり、剥離したりして、導通不良が発生し、接続信頼性が低下するという問題がある。   Conventional metal-plated conductive fine particles have poor adhesion between the substrate particles and the metal plating layer, so that the substrate particles are made porous, or the surface of the substrate particles is uneven by etching. It is necessary to give an anchor effect. However, if the substrate particles are made porous or if irregularities are generated on the surface of the substrate particles by etching, the strength of the substrate particles is significantly reduced, and the substrate particles are destroyed when they are crimped to the electrode terminals. And there is a problem that it does not recover while being compressed and deformed, and conduction may become unstable. Moreover, when crimping | bonding to an electrode terminal, a metal plating layer is cracked or peeled, and there exists a problem that a connection defect generate | occur | produces and connection reliability falls.

本発明の導電性微粒子は、基材粒子が均一に形成されたポリメタロキサン層を有するために、異方導電材料に好適な硬さ/軟らかさが制御され、金属層の密着性に優れる。このため、使用時に破壊され難い導電性微粒子となり得る。   Since the conductive fine particles of the present invention have a polymetalloxane layer in which the base particles are uniformly formed, the hardness / softness suitable for the anisotropic conductive material is controlled, and the adhesion of the metal layer is excellent. For this reason, it can become electroconductive fine particles which are hard to be destroyed at the time of use.

上記金属層に用いる金属としては、任意の適切な金属を採用し得る。例えば、金、銀、銅、白金、鉄、鉛、アルミニウム、クロム、パラジウム、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム、スズ、コバルト、インジウムなどの金属や、ニッケル−リン、ニッケル−ホウ素などの合金が挙げられる。   Arbitrary appropriate metals can be employ | adopted as a metal used for the said metal layer. For example, metals such as gold, silver, copper, platinum, iron, lead, aluminum, chromium, palladium, nickel, rhodium, ruthenium, antimony, bismuth, germanium, tin, cobalt, indium, nickel-phosphorus, nickel-boron, etc. These alloys are mentioned.

上記金属層は、好ましくは、任意の適切なめっき法で形成することができる(例えば、特開2003−208813号公報、特開2005−325382号公報、特開2007−184278号公報参照)。具体的には、例えば、無電解めっき法;置換めっき法;金属微粉を単独またはバインダーに混ぜて得られるペーストを基材粒子(本発明の重合体微粒子)にコーティングする方法;真空蒸着、イオンプレーティング、イオンスパッタリング等の物理的蒸着法;などが挙げられる。   The metal layer can be preferably formed by any appropriate plating method (see, for example, JP 2003-208813 A, JP 2005-325382 A, and JP 2007-184278 A). Specifically, for example, an electroless plating method; a displacement plating method; a method of coating a base particle (polymer fine particles of the present invention) with a metal powder alone or mixed with a binder; vacuum deposition, ion plating And physical vapor deposition methods such as coating and ion sputtering.

本発明においては、上記めっき法の中でも、無電解めっき法が好ましい。大掛かりな装置を必要とせず、導電膜の厚みが制御された導電性金属膜を形成することができるからである。   In the present invention, among the above plating methods, the electroless plating method is preferable. This is because a conductive metal film in which the thickness of the conductive film is controlled can be formed without requiring a large-scale apparatus.

通常、無電解めっき法は、(1)親水化工程(エッチング)、(2)触媒化工程、(3)無電解めっき工程、の3工程からなる。本発明の重合体微粒子は、表面にポリメタロキサン被膜を有するため、親水化工程(エッチング)を行わずに、無電解めっきを行うことが可能となる。   In general, the electroless plating method includes three steps: (1) a hydrophilization step (etching), (2) a catalyst step, and (3) an electroless plating step. Since the polymer fine particles of the present invention have a polymetalloxane coating on the surface, it becomes possible to perform electroless plating without performing a hydrophilic step (etching).

上記親水化工程(エッチング)は、基材粒子の表面に微小な凹凸を形成して、金属めっき層の密着を良くするために行われる。上記親水化工程(エッチング)は、例えば、クロム酸、硫酸−クロム酸混液、過マンガン酸溶液等の酸化剤;塩酸、硫酸等の強酸;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカリ溶液;などを用いて、基材粒子の表面に微小な凹凸を形成する。   The hydrophilization step (etching) is performed in order to improve the adhesion of the metal plating layer by forming minute irregularities on the surface of the substrate particles. The hydrophilization step (etching) includes, for example, an oxidizing agent such as chromic acid, sulfuric acid-chromic acid mixed solution, permanganic acid solution; strong acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid; strong alkaline solution such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; Is used to form minute irregularities on the surface of the substrate particles.

上記触媒化工程は、基材粒子の表面に無電解めっき工程の起点となり得る触媒層を形成するために行われる。触媒層を形成する方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、無電解めっき用として市販されている触媒化試薬などを用いて行うことができる。このような市販されている触媒化試薬としては、例えば、ピンクシューマー(日本カニゼン株式会社製)、レッドシューマー(日本カニゼン株式会社製)などが挙げられる。触媒層を形成する方法としては、具体的には、例えば、塩化パラジウムと塩化スズとからなる溶液に基材粒子を浸漬した後、硫酸、塩酸等の強酸や水酸化ナトリウム等の強アルカリ溶液で活性化してパラジウムを基材粒子表面に析出させる方法;硫酸パラジウム溶液に基材粒子を浸漬した後、ジメチルアミンボラン等の還元剤を含む溶液で活性化してパラジウムを基材粒子表面に析出させる方法;などが挙げられる。   The catalyzing step is performed in order to form a catalyst layer that can serve as a starting point for the electroless plating step on the surface of the substrate particles. Any appropriate method can be adopted as a method of forming the catalyst layer. For example, it can be carried out using a catalytic reagent etc. commercially available for electroless plating. Examples of such commercially available catalyzing reagents include pink summers (manufactured by Nippon Kanisen Co., Ltd.) and red summers (manufactured by Nippon Kanisen Co., Ltd.). As a method for forming the catalyst layer, specifically, for example, after immersing the substrate particles in a solution composed of palladium chloride and tin chloride, a strong acid such as sulfuric acid or hydrochloric acid or a strong alkali solution such as sodium hydroxide is used. Method of activating and precipitating palladium on the surface of the base particle; Method of activating palladium with a solution containing a reducing agent such as dimethylamine borane after immersing the base particle in a palladium sulfate solution and precipitating palladium on the surface of the base particle And so on.

上記無電解めっき工程においては、好ましくは、基材粒子を水性媒体に十分に分散させ、水性スラリーを調製する。ここで、基材粒子は水性媒体に十分に分散させておくことが好ましい。基材粒子が凝集した状態で金属めっき層が形成すると、未処理面が露出するおそれがある。基材粒子の分散は、任意の適切な分散方法を採用し得る。例えば、通常撹拌、高速撹拌、コロイドミルやホモジナイザーのようなせん断分散装置を用いた分散、などが挙げられる。分散の際に、超音波照射を併用しても良い。また、分散の際に、界面活性剤などの分散剤を用いても良い。次いで、金属塩、還元剤、錯化剤などを含んだ無電解めっき浴に、上記分散処理した基材粒子スラリーを添加し、無電解めっきを行う。   In the electroless plating step, preferably, the base particles are sufficiently dispersed in an aqueous medium to prepare an aqueous slurry. Here, the base particles are preferably sufficiently dispersed in an aqueous medium. If the metal plating layer is formed in a state where the base particles are aggregated, the untreated surface may be exposed. Arbitrary appropriate dispersion methods can be employ | adopted for dispersion | distribution of a base particle. For example, normal stirring, high speed stirring, dispersion using a shearing dispersion device such as a colloid mill or a homogenizer, and the like can be mentioned. When dispersing, ultrasonic irradiation may be used in combination. Moreover, you may use dispersing agents, such as surfactant, in the case of dispersion | distribution. Next, the dispersion-treated substrate particle slurry is added to an electroless plating bath containing a metal salt, a reducing agent, a complexing agent, etc., and electroless plating is performed.

上記金属塩としては、例えば、ニッケル塩を用いる場合、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル等が挙げられる。   As said metal salt, when using nickel salt, nickel chloride, nickel sulfate, nickel acetate, etc. are mentioned, for example.

上記還元剤としては、次亜燐酸ナトリウム、ジメチルアミンボラン、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ヒドラジンなどが挙げられる。   Examples of the reducing agent include sodium hypophosphite, dimethylamine borane, sodium borohydride, potassium borohydride, hydrazine and the like.

上記錯化剤としては、例えば、クエン酸、ヒドロキシ酢酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、またはそれらのアルカリ金属塩やアンモニウム塩などのカルボン酸塩、グリシンなどのアミノ酸、エチレンジアミン、アルキルアミンなどのアミン酸、アンモニウム化合物、EDTA、ピロリン酸(塩)などが挙げられる。上記錯化剤は、1種のみを用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   Examples of the complexing agent include citric acid, hydroxyacetic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, carboxylates such as alkali metal salts and ammonium salts thereof, amino acids such as glycine, ethylenediamine, alkylamine, and the like. Aminic acid, ammonium compound, EDTA, pyrophosphoric acid (salt) and the like. Only 1 type may be used for the said complexing agent and it may use 2 or more types together.

上記無電解めっき法におけるめっき浴のpHは、好ましくは4〜14である。   The pH of the plating bath in the electroless plating method is preferably 4-14.

無電解めっき法においては、基材粒子のスラリーを添加すると、速やかに反応が始まり、水素ガスの発生を伴う。無電解めっき法における、無電解めっき工程の終了は、その水素ガスの発生が完全に認められなくなった時点をもって終了とする。   In the electroless plating method, when a slurry of base material particles is added, the reaction starts quickly and is accompanied by generation of hydrogen gas. The end of the electroless plating process in the electroless plating method ends when the generation of hydrogen gas is no longer recognized.

本発明の導電性微粒子は、基材粒子(本発明の重合体微粒子)が均一に形成されたポリメタロキサン層を有するため、エッチング等の表面化学処理を行うことなく基材粒子と金属層との間に強固の密着性を有する。このため、圧縮強度や圧縮後の変形回復性能等の各種物性に優れ、圧着処理を行っても導電性微粒子の破壊や永久変形を来すことなく導通性を維持することができる。   Since the conductive fine particles of the present invention have a polymetalloxane layer in which the base particles (polymer fine particles of the present invention) are uniformly formed, the base particles and the metal layer are formed without performing surface chemical treatment such as etching. It has strong adhesion between the two. For this reason, it is excellent in various physical properties such as compressive strength and deformation recovery performance after compression, and electrical conductivity can be maintained without causing breakage or permanent deformation of the conductive fine particles even when a pressure-bonding process is performed.

本発明の導電性微粒子において、基材粒子(本発明の重合体微粒子)と金属層との間に強固の密着性が発現される理由としては、基材粒子(本発明の重合体微粒子)の表面にポリメタロキサン層が均一に形成されているため、メタロキサン結合を表面に有するので、基材粒子(本発明の重合体微粒子)と金属層との界面において配位力やイオン力等による様々な結合力が生じるためと推察される。   In the conductive fine particles of the present invention, the reason why strong adhesion is developed between the base particles (polymer fine particles of the present invention) and the metal layer is that the base particles (polymer fine particles of the present invention) Since the polymetalloxane layer is uniformly formed on the surface, it has a metalloxane bond on the surface. Therefore, various coordinating powers, ionic forces, etc. are caused at the interface between the base particle (polymer fine particles of the present invention) and the metal layer. It is presumed that a strong binding force occurs.

本発明の導電性微粒子は、異方性導電材料の構成材料として好適である。上記異方性導電材料とは、さまざまな形態により相対向する基板同士や電極端子同士を電気的に接続するものである。   The conductive fine particles of the present invention are suitable as a constituent material of an anisotropic conductive material. The anisotropic conductive material is used to electrically connect opposing substrates and electrode terminals in various forms.

上記異方性導電材料を用いて電極同士を電気的に接続する方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、絶縁性のバインダー樹脂中に本発明の導電性微粒子を分散させて異方性導電接着剤を作製したうえで、この異方性導電接着剤により接続する方法;絶縁性のバインダー樹脂と本発明の導電性微粒子とを別々に使用して接続する方法;等が挙げられる。   Any appropriate method can be adopted as a method of electrically connecting the electrodes using the anisotropic conductive material. For example, a method in which the conductive fine particles of the present invention are dispersed in an insulating binder resin to produce an anisotropic conductive adhesive, and then the anisotropic conductive adhesive is connected; the insulating binder resin and the book And a method of connecting the conductive fine particles of the invention separately.

上記バインダー樹脂としては、任意の適切なバインダー樹脂を採用し得る。例えば、アクリレート樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体等の熱可塑性樹脂;グリシジル基を有するモノマーやオリゴマー及びイソシアネート等の硬化剤との反応により得られる硬化性樹脂組成物等の光や熱による硬化性樹脂組成物;等が挙げられる。   Any appropriate binder resin can be adopted as the binder resin. For example, thermoplastic resins such as acrylate resins, ethylene-vinyl acetate resins, styrene-butadiene block copolymers; curable resin compositions obtained by reaction with curing agents such as monomers and oligomers having glycidyl groups and isocyanate Examples thereof include a curable resin composition by light and heat.

上記異方性導電接着剤としては、任意の適切な異方性導電接着剤を採用し得る。例えば、異方性導電フィルム、異方性導電ペースト、異方性導電インク等が挙げられる。上記異方性導電フィルムは、例えば、異方性導電接着剤に溶媒を加えて溶液状にし、この溶液を離型フィルム上に流し込んだ後、溶媒を蒸発させて異方性導電接着剤を被膜状にすることにより得られる。得られた異方性導電フィルムは、例えば、接着すべき電極上に配置され、配置された異方性導電膜上に対向電極を重ね合わせ、加熱圧縮することにより電極間の接続に使用される。   Any appropriate anisotropic conductive adhesive can be adopted as the anisotropic conductive adhesive. For example, an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive paste, an anisotropic conductive ink, etc. are mentioned. For example, the anisotropic conductive film is made into a solution by adding a solvent to the anisotropic conductive adhesive, and after pouring the solution onto the release film, the solvent is evaporated to coat the anisotropic conductive adhesive. It is obtained by making it into a shape. The obtained anisotropic conductive film is disposed on, for example, electrodes to be bonded, and is used for connection between the electrodes by superposing a counter electrode on the disposed anisotropic conductive film and compressing by heating. .

上記異方性導電ペーストは、例えば、異方性導電接着剤をペースト状にすることにより得られる。得られた異方性導電ペーストは、例えば、適当なディスペンサーに入れられ、接続すべき電極上に所望の厚さに塗工され、塗工された異方性導電ペースト上に対向電極を重ね合わせ、加熱するとともに加圧して樹脂を硬化させることにより、電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive paste is obtained, for example, by making an anisotropic conductive adhesive into a paste. The obtained anisotropic conductive paste is put in, for example, a suitable dispenser, applied to a desired thickness on the electrode to be connected, and the counter electrode is superimposed on the coated anisotropic conductive paste. It is used for connection between electrodes by heating and pressurizing to cure the resin.

上記異方性導電インクは、例えば、異方性導電接着剤に溶媒を加えて印刷に適した粘度にすることにより得られる。得られた異方性導電インクは、例えば、接着すべき電極上にスクリーン印刷し、その溶媒を蒸発させた後、印刷された異方性導電インクの上に対向電極を重ね合わせ、加熱圧縮することにより電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive ink can be obtained, for example, by adding a solvent to the anisotropic conductive adhesive to obtain a viscosity suitable for printing. The obtained anisotropic conductive ink is, for example, screen-printed on the electrode to be bonded, the solvent is evaporated, the counter electrode is superimposed on the printed anisotropic conductive ink, and the resultant is heated and compressed. Therefore, it is used for the connection between the electrodes.

上記異方性導電材料におけるフィルム膜厚、塗工膜厚及び印刷膜厚は、含有する導電性微粒子の平均粒子径と接続すべき電極の仕様とから計算し、接続すべき電極間に導電性微粒子が挟持され、接続すべき電極が形成された接合基板同士の空隙がバインダー樹脂層により充分に満たされるよう設定することが好ましい。   The film thickness, coating film thickness and printed film thickness in the anisotropic conductive material are calculated from the average particle diameter of the conductive fine particles contained and the specifications of the electrodes to be connected. It is preferable to set so that the gap between the bonding substrates on which the fine particles are sandwiched and the electrodes to be connected are formed is sufficiently filled with the binder resin layer.

本発明の導電性微粒子を用いた異方性導電材料は、高い導電性を示すばかりでなく、加重圧縮した際にも金属層が剥離、破壊されず、相対向する電極基板間の電気的な接続を確保することができる。また、経時安定性にも優れるので、長期間の使用においてもメッキ割れ等による導電性の低下を来すことなく、電極基板間の電気的な接続を堅持し信頼性の向上を図ることができる。   The anisotropic conductive material using the conductive fine particles of the present invention not only exhibits high conductivity, but the metal layer does not peel or break even when subjected to weight compression, and the electrical conductivity between the opposing electrode substrates Connection can be secured. In addition, since it is excellent in stability over time, it is possible to maintain electrical connection between electrode substrates and improve reliability without causing deterioration in conductivity due to plating cracking or the like even during long-term use. .

以下に、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。なお、以下では、便宜上、「重量部」を単に「部」と記すことがある。また、「重量%」を「wt%」と記すことがある。なお、各種評価は下記のように行った。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples. In the following, “parts by weight” may be simply referred to as “parts” for convenience. In addition, “wt%” may be described as “wt%”. Various evaluations were performed as follows.

<導電性微粒子のめっき割れの評価>
導電性微粒子について、走査電子顕微鏡(SEM、HITACHI社製、S−3500N)により、測定倍率1000倍で導電性微粒子の表面を観察し、金属めっき層の割れが観察個数の0.1%を超えた場合は「×(不良)」、金属めっき層の割れが観察個数の0.1%以下の場合は「○(良)」として評価した。なお、観察個数は10000個とした。
<Evaluation of plating cracks in conductive fine particles>
For the conductive fine particles, the surface of the conductive fine particles was observed with a scanning electron microscope (SEM, manufactured by HITACHI, S-3500N) at a measurement magnification of 1000 times, and cracks in the metal plating layer exceeded 0.1% of the number of observations. In this case, the evaluation was “X (good)”, and when the crack of the metal plating layer was 0.1% or less of the number of observations, the evaluation was “◯ (good)”. The number of observations was 10,000.

<導電性微粒子のめっき欠陥の評価>
導電性微粒子について、走査電子顕微鏡(SEM、HITACHI社製、S−3500N)により、測定倍率1000倍で導電性微粒子の表面を観察し、一部にでも金属めっき層が被覆されていない部分が存在する場合は「×(不良)」、金属めっき層が被覆されていない部分が存在しない場合は「○(良)」として評価した。なお、観察個数は10000個とした。
<Evaluation of plating defects of conductive fine particles>
For the conductive fine particles, the surface of the conductive fine particles is observed with a scanning electron microscope (SEM, manufactured by HITACHI, S-3500N) at a measurement magnification of 1000 times, and there is a portion that is not covered with a metal plating layer. In the case of “x (defect)”, the evaluation was made as “◯ (good)” when there was no portion not covered with the metal plating layer. The number of observations was 10,000.

<異方性導電材料の評価>
導電性微粒子1gをエポキシ樹脂(三井化学製、ストラクトボンド(登録商標)、XN−5A)100gに混ぜて分散させ、導電性接着ペーストを作製した。その後、このペースト0.1mgを、内面にITO透明電極膜が形成された2枚のガラス基板で挟み、プレス機により、13.7MPaの圧力をかけつつ、150℃で30分間熱圧着して、試験片を作製した。作製した試験片に対してPCT試験を行い、PCT試験前後の電極間の抵抗値およびその変化(抵抗値上昇率)を測定した。
<Evaluation of anisotropic conductive material>
1 g of conductive fine particles was mixed and dispersed in 100 g of an epoxy resin (manufactured by Mitsui Chemicals, Structbond (registered trademark), XN-5A) to prepare a conductive adhesive paste. Thereafter, 0.1 mg of this paste was sandwiched between two glass substrates with an ITO transparent electrode film formed on the inner surface, and was subjected to thermocompression bonding at 150 ° C. for 30 minutes while applying a pressure of 13.7 MPa by a press. A test piece was prepared. A PCT test was performed on the prepared test piece, and the resistance value between the electrodes before and after the PCT test and the change (resistance value increase rate) were measured.

〔実施例1〕:コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(1)
(コア粒子前駆体の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、界面活性剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製、ハイテノールNF−08)を2部溶解したイオン交換水の水溶液150部を仕込んだ。そこへ、予め調製しておいたスチレン80部、ジビニルベンゼン10部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン10部からなる単量体組成物、および、重合開始剤として2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)2部を仕込み、TKホモミキサー(特殊機化工業社製)により5000rpmで5分間乳化分散させ、懸濁液を調製した。この懸濁液にイオン交換水250部を加え、窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、精密分級を行い、窒素雰囲気下40℃で2時間真空乾燥し、コア粒子前駆体(1)を得た。コア粒子前駆体(1)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は4.83μm、変動係数(CV)は4.5%であった。
続いて、コア粒子前駆体(1)の表面に残ったアルコキシシリル基を加水分解して−Si−OH基とするため、得られたコア粒子前駆体(1)50部に25%アンモニア水5部、エタノール200部を加え、10分間超音波分散を行った後、室温で12時間撹拌した。次に、得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでエタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下40℃で2時間真空乾燥し、コア粒子前駆体(1´)を得た。
(重合体微粒子の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、乾燥したコア粒子前駆体(1´)30部、エタノール300部、25%アンモニア水6部、イオン交換水30部を加え、35℃で撹拌しながら、別途調製したテトラエトキシシラン30部、エタノール30部の混合液を、滴下ロートを用いて添加した。添加終了後、さらに10時間撹拌を行い、反応を終了させた。得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥し、コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(1)を得た。重合体微粒子(1)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は4.89μm、変動係数(CV)は4.5%であった。ポリメタロキサン被膜の厚みは0.03μmであった。
結果を表1、表2にまとめた。
[Example 1]: Polymer fine particles having a polymetalloxane coating on the surface of core particles (1)
(Preparation of core particle precursor)
Dissolve 2 parts of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Hightenol NF-08) as a surfactant in a four-necked flask equipped with a condenser, thermometer, and dripping port. 150 parts of an ion exchange water solution was charged. Thereto, a monomer composition composed of 80 parts of styrene, 10 parts of divinylbenzene, 10 parts of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane prepared in advance, and 2,2′-azobis (2 , 4-dimethylvaleronitrile) (V-65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the mixture was emulsified and dispersed at 5000 rpm for 5 minutes using a TK homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.) to prepare a suspension. . To this suspension, 250 parts of ion-exchanged water was added, the temperature was raised to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere, and the mixture was held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the resulting emulsion is separated into solid and liquid, and the resulting cake is washed with ion-exchanged water and then with methanol, followed by precision classification, followed by vacuum drying at 40 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. A particle precursor (1) was obtained. When the particle size of the core particle precursor (1) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 4.83 μm and the coefficient of variation (CV) was 4.5%.
Subsequently, in order to hydrolyze the alkoxysilyl group remaining on the surface of the core particle precursor (1) to form —Si—OH group, 25 parts of aqueous ammonia 5% was added to 50 parts of the obtained core particle precursor (1). And 200 parts of ethanol were added and subjected to ultrasonic dispersion for 10 minutes, followed by stirring at room temperature for 12 hours. Next, the obtained suspension was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then with ethanol, and then vacuum-dried at 40 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to obtain a core particle precursor (1 ′ )
(Preparation of polymer fine particles)
To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dripping port, add 30 parts of the dried core particle precursor (1 ′), 300 parts of ethanol, 6 parts of 25% ammonia water, and 30 parts of ion-exchanged water, and 35 While stirring at ° C, a separately prepared mixed liquid of 30 parts of tetraethoxysilane and 30 parts of ethanol was added using a dropping funnel. After completion of the addition, stirring was further performed for 10 hours to complete the reaction. The resulting suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to form a polymetalloxane coating on the surface of the core particles. Polymer fine particles (1) were obtained. When the particle diameter of the polymer fine particles (1) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle diameter was 4.89 μm and the coefficient of variation (CV) was 4.5%. The thickness of the polymetalloxane coating was 0.03 μm.
The results are summarized in Tables 1 and 2.

〔実施例2〕:コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(2)
(コア粒子前駆体の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、界面活性剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製、ハイテノールNF−08)を2部溶解したイオン交換水の水溶液150部を仕込んだ。そこへ、予め調製しておいたスチレン60部、ジビニルベンゼン10部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン30部からなる単量体組成物、および、重合開始剤として2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)2部を仕込み、TKホモミキサー(特殊機化工業社製)により5000rpmで5分間乳化分散させ、懸濁液を調製した。この懸濁液にイオン交換水250部を加え、窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、精密分級を行い、窒素雰囲気下40℃で2時間真空乾燥し、コア粒子前駆体(2)を得た。コア粒子前駆体(2)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.63μm、変動係数(CV)は4.2%であった。
続いて、コア粒子前駆体(2)の表面に残ったアルコキシシリル基を加水分解して−Si−OH基とするため、得られたコア粒子前駆体(2)50部に25%アンモニア水5部、エタノール200部を加え、10分間超音波分散を行った後、室温で12時間撹拌した。次に、得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでエタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下40℃で2時間真空乾燥し、コア粒子前駆体(2´)を得た。
(重合体微粒子の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、乾燥したコア粒子前駆体(2´)30部、エタノール300部、25%アンモニア水6部、イオン交換水30部を加え、35℃で撹拌しながら、別途調製したテトラエトキシシラン30部、エタノール30部の混合液を、滴下ロートを用いて添加した。添加終了後、さらに10時間撹拌を行い、反応を終了させた。得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥し、コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(2)を得た。重合体微粒子(2)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.73μm、変動係数(CV)は4.2%であった。ポリメタロキサン被膜の厚みは0.05μmであった。
結果を表1、表2にまとめた。
[Example 2]: Polymer fine particles (2) having a polymetalloxane coating on the surface of core particles
(Preparation of core particle precursor)
Dissolve 2 parts of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Hightenol NF-08) as a surfactant in a four-necked flask equipped with a condenser, thermometer, and dripping port. 150 parts of an ion exchange water solution was charged. Thereto, a monomer composition composed of 60 parts of styrene, 10 parts of divinylbenzene, 30 parts of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane prepared in advance, and 2,2′-azobis (2 , 4-dimethylvaleronitrile) (V-65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the mixture was emulsified and dispersed at 5000 rpm for 5 minutes using a TK homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.) to prepare a suspension. . To this suspension, 250 parts of ion-exchanged water was added, the temperature was raised to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere, and the mixture was held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the resulting emulsion is separated into solid and liquid, and the resulting cake is washed with ion-exchanged water and then with methanol, followed by precision classification, followed by vacuum drying at 40 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. A particle precursor (2) was obtained. When the particle size of the core particle precursor (2) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 3.63 μm and the coefficient of variation (CV) was 4.2%.
Subsequently, the alkoxysilyl group remaining on the surface of the core particle precursor (2) is hydrolyzed to -Si-OH groups, so that 50 parts of the obtained core particle precursor (2) is mixed with 25% aqueous ammonia 5 And 200 parts of ethanol were added and subjected to ultrasonic dispersion for 10 minutes, followed by stirring at room temperature for 12 hours. Next, the obtained suspension was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then with ethanol, and then vacuum-dried at 40 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to obtain a core particle precursor (2 ′ )
(Preparation of polymer fine particles)
To a four-necked flask equipped with a cooling tube, a thermometer, and a dropping port, 30 parts of a dried core particle precursor (2 ′), 300 parts of ethanol, 6 parts of 25% aqueous ammonia, and 30 parts of ion-exchanged water are added, and 35 While stirring at ° C, a separately prepared mixed liquid of 30 parts of tetraethoxysilane and 30 parts of ethanol was added using a dropping funnel. After completion of the addition, stirring was further performed for 10 hours to complete the reaction. The resulting suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to form a polymetalloxane coating on the surface of the core particles. Polymer fine particles (2) were obtained. When the particle diameter of the polymer fine particles (2) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle diameter was 3.73 μm and the coefficient of variation (CV) was 4.2%. The thickness of the polymetalloxane coating was 0.05 μm.
The results are summarized in Tables 1 and 2.

〔実施例3〕:コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(3)
(コア粒子前駆体の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水400部、25%アンモニア水6部、メタノール180部を入れ、攪拌しながらこの溶液に3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン50部を滴下口から添加して、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解・縮合を行って、オルガノポリシロキサン粒子を調製した。次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製、ハイテノールNF−08)0.75部をイオン交換水175部で溶解した溶液に、スチレン110部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート40部、2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)4部を溶解した溶液を加え、TKホモミキサー(特殊機化工業社製)により6000rpmで5分間乳化分散させてモノマーエマルションを調製した。反応開始から2時間後、モノマーエマルションをオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに撹拌を行った。モノマーエマルション添加から2時間後、反応液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、オルガノポリシロキサン粒子がモノマーを吸収して肥大化していることが確認された。次いで、反応液を窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに窒素雰囲気下80℃で12時間真空乾燥させて、コア粒子前駆体(3)を得た。コア粒子前駆体(3)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.52μm、変動係数(CV)は3.8%であった。
(重合体微粒子の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、乾燥したコア粒子前駆体(3)30部、エタノール300部、25%アンモニア水6部、イオン交換水30部を加え、35℃で撹拌しながら、別途調製したテトラエトキシシラン30部、エタノール30部の混合液を、滴下ロートを用いて添加した。添加終了後、さらに10時間撹拌を行い、反応を終了させた。得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥し、コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(3)を得た。重合体微粒子(3)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.60μm、変動係数(CV)は3.8%であった。ポリメタロキサン被膜の厚みは0.04μmであった。
結果を表1、表2にまとめた。
また、得られた重合体微粒子(3)の電界放射型電子顕微鏡(日立製、FE−SEM、S−4800)による断面電子像を図1、図2、図3、図4に示す。図1は透過電子像、図3は図1のポリメタロキサン被膜部分を拡大した断面電子像、図2は反射電子像、図4は図2のポリメタロキサン被膜部分を拡大した断面電子像である。
[Example 3]: Polymer fine particles having a polymetalloxane coating on the surface of core particles (3)
(Preparation of core particle precursor)
In a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dripping port, 400 parts of ion-exchanged water, 6 parts of 25% aqueous ammonia, and 180 parts of methanol are placed, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is added to this solution while stirring. 50 parts was added from the dropping port, and hydrolysis / condensation of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was performed to prepare organopolysiloxane particles. Next, 110 parts of styrene, 1 part of styrene in a solution of 0.75 part of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Hytenol NF-08) as an emulsifier with 175 parts of ion-exchanged water, , 6-hexanediol dimethacrylate 40 parts, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-65) 4 parts dissolved solution was added, TK homomixer ( A monomer emulsion was prepared by emulsifying and dispersing at 6000 rpm for 5 minutes using a special machine manufacturer. Two hours after the start of the reaction, the monomer emulsion was added to the emulsion of organopolysiloxane particles and further stirred. Two hours after the addition of the monomer emulsion, the reaction solution was sampled and observed with a microscope. As a result, it was confirmed that the organopolysiloxane particles were enlarged by absorbing the monomer. Next, the reaction solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere and held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the obtained emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then methanol, and further dried under vacuum at 80 ° C. for 12 hours under a nitrogen atmosphere to obtain a core particle precursor ( 3) was obtained. When the particle size of the core particle precursor (3) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 3.52 μm and the coefficient of variation (CV) was 3.8%.
(Preparation of polymer fine particles)
To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dropping port, 30 parts of dried core particle precursor (3), 300 parts of ethanol, 6 parts of 25% ammonia water, and 30 parts of ion-exchanged water were added, and the temperature was 35 ° C. While stirring at, a separately prepared mixed liquid of 30 parts of tetraethoxysilane and 30 parts of ethanol was added using a dropping funnel. After completion of the addition, stirring was further performed for 10 hours to complete the reaction. The resulting suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to form a polymetalloxane coating on the surface of the core particles. Polymer fine particles (3) were obtained. When the particle size of the polymer fine particles (3) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 3.60 μm and the coefficient of variation (CV) was 3.8%. The thickness of the polymetalloxane coating was 0.04 μm.
The results are summarized in Tables 1 and 2.
Moreover, the cross-sectional electron image by the field emission electron microscope (Hitachi, FE-SEM, S-4800) of the obtained polymer microparticles | fine-particles (3) is shown in FIG.1, FIG.2, FIG.3, FIG. 1 is a transmission electron image, FIG. 3 is an enlarged cross-sectional electron image of the polymetalloxane film portion of FIG. 1, FIG. 2 is a reflected electron image, and FIG. 4 is an enlarged cross-sectional electron image of the polymetalloxane film portion of FIG. is there.

〔実施例4〕:コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(4)
(コア粒子前駆体の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水400部、25%アンモニア水6部、メタノール180部を入れ、攪拌しながらこの溶液に3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン50部を滴下口から添加して、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解・縮合を行って、オルガノポリシロキサン粒子を調製した。次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製、ハイテノールNF−08)0.75部をイオン交換水175部で溶解した溶液に、スチレン110部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート30部、ヒドロキシエチルメタクリレート10部、2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)4部を溶解した溶液を加え、TKホモミキサー(特殊機化工業社製)により6000rpmで5分間乳化分散させてモノマーエマルションを調製した。反応開始から2時間後、モノマーエマルションをオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに撹拌を行った。モノマーエマルション添加から2時間後、反応液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、オルガノポリシロキサン粒子がモノマーを吸収して肥大化していることが確認された。次いで、反応液を窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに窒素雰囲気下80℃で12時間真空乾燥させて、コア粒子前駆体(4)を得た。コア粒子前駆体(4)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.81μm、変動係数(CV)は3.5%であった。
(重合体微粒子の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、乾燥したコア粒子前駆体(4)30部、エタノール300部、25%アンモニア水6部、イオン交換水30部を加え、35℃で撹拌しながら、別途調製したテトラエトキシシラン30部、エタノール30部の混合液を、滴下ロートを用いて添加した。添加終了後、さらに10時間撹拌を行い、反応を終了させた。得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥し、コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(4)を得た。重合体微粒子(4)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.93μm、変動係数(CV)は3.5%であった。ポリメタロキサン被膜の厚みは0.06μmであった。
結果を表1、表2にまとめた。
[Example 4]: Polymer fine particles having a polymetalloxane coating on the surface of core particles (4)
(Preparation of core particle precursor)
In a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dripping port, 400 parts of ion-exchanged water, 6 parts of 25% aqueous ammonia, and 180 parts of methanol are placed, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is added to this solution while stirring. 50 parts was added from the dropping port, and hydrolysis / condensation of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was performed to prepare organopolysiloxane particles. Next, 110 parts of styrene, 1 part of styrene in a solution of 0.75 part of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Hytenol NF-08) as an emulsifier with 175 parts of ion-exchanged water, , 6-hexanediol dimethacrylate 30 parts, hydroxyethyl methacrylate 10 parts, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-65) 4 parts dissolved in a solution In addition, a monomer emulsion was prepared by emulsifying and dispersing at 6000 rpm for 5 minutes using a TK homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.). Two hours after the start of the reaction, the monomer emulsion was added to the emulsion of organopolysiloxane particles and further stirred. Two hours after the addition of the monomer emulsion, the reaction solution was sampled and observed with a microscope. As a result, it was confirmed that the organopolysiloxane particles were enlarged by absorbing the monomer. Next, the reaction solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere and held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the obtained emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then methanol, and further dried under vacuum at 80 ° C. for 12 hours under a nitrogen atmosphere to obtain a core particle precursor ( 4) was obtained. When the particle size of the core particle precursor (4) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 3.81 μm and the coefficient of variation (CV) was 3.5%.
(Preparation of polymer fine particles)
To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dropping port, 30 parts of dried core particle precursor (4), 300 parts of ethanol, 6 parts of 25% ammonia water, and 30 parts of ion-exchanged water were added, and the temperature was 35 ° C. While stirring at, a separately prepared mixed liquid of 30 parts of tetraethoxysilane and 30 parts of ethanol was added using a dropping funnel. After completion of the addition, stirring was further performed for 10 hours to complete the reaction. The resulting suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to form a polymetalloxane coating on the surface of the core particles. Polymer fine particles (4) were obtained. When the particle diameter of the polymer fine particles (4) was measured by a Coulter Multinizer type III (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle diameter was 3.93 μm, and the coefficient of variation (CV) was 3.5%. The thickness of the polymetalloxane coating was 0.06 μm.
The results are summarized in Tables 1 and 2.

〔実施例5〕:コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(5)
(コア粒子前駆体の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水400部、25%アンモニア水20部、メタノール180部を入れ、攪拌しながらこの溶液に3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン50部を滴下口から添加して、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解・縮合を行って、オルガノポリシロキサン粒子を調製した。次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製、ハイテノールNF−08)0.75部をイオン交換水175部で溶解した溶液に、ジビニルベンゼン35部、2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)4部を溶解した溶液を加え、TKホモミキサー(特殊機化工業社製)により6000rpmで5分間乳化分散させてモノマーエマルションを調製した。反応開始から2時間後、モノマーエマルションをオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに撹拌を行った。モノマーエマルション添加から2時間後、反応液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、オルガノポリシロキサン粒子がモノマーを吸収して肥大化していることが確認された。次いで、反応液を窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに窒素雰囲気下80℃で12時間真空乾燥させて、コア粒子前駆体(5)を得た。コア粒子前駆体(5)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.15μm、変動係数(CV)は3.9%であった。
(重合体微粒子の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、乾燥したコア粒子前駆体(5)30部、エタノール300部、25%アンモニア水6部、イオン交換水30部を加え、35℃で撹拌しながら、別途調製したテトラエトキシシラン30部、エタノール30部の混合液を、滴下ロートを用いて添加した。添加終了後、さらに10時間撹拌を行い、反応を終了させた。得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥し、コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(5)を得た。重合体微粒子(5)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.31μm、変動係数(CV)は3.9%であった。ポリメタロキサン被膜の厚みは0.08μmであった。
結果を表1、表2にまとめた。
[Example 5]: Polymer fine particles (5) having a polymetalloxane coating on the surface of core particles
(Preparation of core particle precursor)
In a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dripping port, 400 parts of ion-exchanged water, 20 parts of 25% aqueous ammonia and 180 parts of methanol are placed, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is added to this solution while stirring. 50 parts was added from the dropping port, and hydrolysis / condensation of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was performed to prepare organopolysiloxane particles. Subsequently, 35 parts of divinylbenzene was dissolved in 0.75 part of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Hytenol NF-08) as an emulsifier in 175 parts of ion-exchanged water, A solution in which 4 parts of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-65) is dissolved is added, and 6000 rpm by a TK homomixer (Special Machine Industries Co., Ltd.). A monomer emulsion was prepared by emulsifying and dispersing for 5 minutes. Two hours after the start of the reaction, the monomer emulsion was added to the emulsion of organopolysiloxane particles and further stirred. Two hours after the addition of the monomer emulsion, the reaction solution was sampled and observed with a microscope. As a result, it was confirmed that the organopolysiloxane particles were enlarged by absorbing the monomer. Next, the reaction solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere and held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the obtained emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then methanol, and further dried under vacuum at 80 ° C. for 12 hours under a nitrogen atmosphere to obtain a core particle precursor ( 5) was obtained. When the particle size of the core particle precursor (5) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 3.15 μm and the coefficient of variation (CV) was 3.9%.
(Preparation of polymer fine particles)
To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dropping port, 30 parts of dried core particle precursor (5), 300 parts of ethanol, 6 parts of 25% ammonia water, and 30 parts of ion-exchanged water were added, and the temperature was 35 ° C. While stirring at, a separately prepared mixed liquid of 30 parts of tetraethoxysilane and 30 parts of ethanol was added using a dropping funnel. After completion of the addition, stirring was further performed for 10 hours to complete the reaction. The resulting suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to form a polymetalloxane coating on the surface of the core particles. Polymer fine particles (5) were obtained. When the particle diameter of the polymer fine particles (5) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle diameter was 3.31 μm and the coefficient of variation (CV) was 3.9%. The thickness of the polymetalloxane coating was 0.08 μm.
The results are summarized in Tables 1 and 2.

〔実施例6〕:コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(6)
(コア粒子前駆体の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水400部、25%アンモニア水6部、メタノール180部を入れ、攪拌しながらこの溶液に3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン50部を滴下口から添加して、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解・縮合を行って、オルガノポリシロキサン粒子を調製した。次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製、ハイテノールNF−08)0.75部をイオン交換水175部で溶解した溶液に、スチレン110部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート30部、ヒドロキシエチルメタクリレート10部、2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)4部を溶解した溶液を加え、TKホモミキサー(特殊機化工業社製)により6000rpmで5分間乳化分散させてモノマーエマルションを調製した。反応開始から2時間後、モノマーエマルションをオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに撹拌を行った。モノマーエマルション添加から2時間後、反応液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、オルガノポリシロキサン粒子がモノマーを吸収して肥大化していることが確認された。次いで、反応液を窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに窒素雰囲気下80℃で12時間真空乾燥させて、コア粒子前駆体(6)を得た。コア粒子前駆体(6)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.81μm、変動係数(CV)は3.5%であった。
(重合体微粒子の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、乾燥したコア粒子前駆体(6)10部、エタノール300部、25%アンモニア水20部、イオン交換水30部を加え、35℃で撹拌しながら、別途調製したテトラエトキシシラン30部、エタノール30部の混合液を、滴下ロートを用いて添加した。添加終了後、さらに10時間撹拌を行い、反応を終了させた。得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥し、コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(6)を得た。重合体微粒子(6)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は4.21μm、変動係数(CV)は3.6%であった。ポリメタロキサン被膜の厚みは0.20μmであった。
結果を表1、表2にまとめた。
[Example 6]: Polymer fine particles having a polymetalloxane coating on the surface of core particles (6)
(Preparation of core particle precursor)
In a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dripping port, 400 parts of ion-exchanged water, 6 parts of 25% aqueous ammonia, and 180 parts of methanol are placed, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is added to this solution while stirring. 50 parts was added from the dropping port, and hydrolysis / condensation of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was performed to prepare organopolysiloxane particles. Next, 110 parts of styrene, 1 part of styrene in a solution of 0.75 part of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Hytenol NF-08) as an emulsifier with 175 parts of ion-exchanged water, , 6-hexanediol dimethacrylate 30 parts, hydroxyethyl methacrylate 10 parts, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-65) 4 parts dissolved in a solution In addition, a monomer emulsion was prepared by emulsifying and dispersing at 6000 rpm for 5 minutes using a TK homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.). Two hours after the start of the reaction, the monomer emulsion was added to the emulsion of organopolysiloxane particles and further stirred. Two hours after the addition of the monomer emulsion, the reaction solution was sampled and observed with a microscope. As a result, it was confirmed that the organopolysiloxane particles were enlarged by absorbing the monomer. Next, the reaction solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere and held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the obtained emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then methanol, and further dried under vacuum at 80 ° C. for 12 hours under a nitrogen atmosphere to obtain a core particle precursor ( 6) was obtained. When the particle size of the core particle precursor (6) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 3.81 μm and the coefficient of variation (CV) was 3.5%.
(Preparation of polymer fine particles)
To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dropping port, 10 parts of the dried core particle precursor (6), 300 parts of ethanol, 20 parts of 25% ammonia water, and 30 parts of ion-exchanged water are added, and the temperature is 35 ° C. While stirring at, a separately prepared mixed liquid of 30 parts of tetraethoxysilane and 30 parts of ethanol was added using a dropping funnel. After completion of the addition, stirring was further performed for 10 hours to complete the reaction. The resulting suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to form a polymetalloxane coating on the surface of the core particles. Polymer fine particles (6) were obtained. When the particle size of the polymer fine particles (6) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle size was 4.21 μm and the coefficient of variation (CV) was 3.6%. The thickness of the polymetalloxane coating was 0.20 μm.
The results are summarized in Tables 1 and 2.

〔比較例1〕:コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(C1)
(コア粒子前駆体の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、界面活性剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製、ハイテノールNF−08)を2部溶解したイオン交換水の水溶液150部を仕込んだ。そこへ、予め調製しておいたスチレン90部、ジビニルベンゼン10部からなる単量体組成物、および、重合開始剤として2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)2部を仕込み、TKホモミキサー(特殊機化工業社製)により5000rpmで5分間乳化分散させ、懸濁液を調製した。この懸濁液にイオン交換水250部を加え、窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下40℃で2時間真空乾燥し、コア粒子前駆体(C1)を得た。コア粒子前駆体(C1)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.63μm、変動係数(CV)は29.5%であった。
(重合体微粒子の作製)
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、乾燥したコア粒子前駆体(C1)30部、エタノール300部、25%アンモニア水6部、イオン交換水30部を加え、35℃で撹拌しながら、別途調製したテトラエトキシシラン30部、エタノール30部の混合液を、滴下ロートを用いて添加した。添加終了後、さらに10時間撹拌を行い、反応を終了させた。得られた懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥し、コア粒子の表面にポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子(C1)を得た。重合体微粒子(C1)の粒子径をコールターマルチナイザーIII型(ベックマンコールター社製)により測定したところ、平均粒子径は3.64μm、変動係数(CV)は29.5%であった。ポリメタロキサン被膜の厚みは0.005μmであった。
結果を表1、表2にまとめた。
[Comparative Example 1]: Polymer fine particles (C1) having a polymetalloxane coating on the surface of the core particles
(Preparation of core particle precursor)
Dissolve 2 parts of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Hightenol NF-08) as a surfactant in a four-necked flask equipped with a condenser, thermometer, and dripping port. 150 parts of an ion exchange water solution was charged. Thereto, a monomer composition consisting of 90 parts of styrene and 10 parts of divinylbenzene prepared in advance, and 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (Wako Pure Chemical) as a polymerization initiator 2 parts of V-65) manufactured by Kogyo Co., Ltd. were charged and emulsified and dispersed at 5000 rpm for 5 minutes using a TK homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.) to prepare a suspension. To this suspension, 250 parts of ion-exchanged water was added, the temperature was raised to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere, and the mixture was held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the obtained emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 40 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to obtain a core particle precursor (C1 ) When the particle diameter of the core particle precursor (C1) was measured by Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle diameter was 3.63 μm and the coefficient of variation (CV) was 29.5%.
(Preparation of polymer fine particles)
To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dropping port, 30 parts of a dried core particle precursor (C1), 300 parts of ethanol, 6 parts of 25% ammonia water, and 30 parts of ion-exchanged water are added, and the temperature is 35 ° C. While stirring at, a separately prepared mixed liquid of 30 parts of tetraethoxysilane and 30 parts of ethanol was added using a dropping funnel. After completion of the addition, stirring was further performed for 10 hours to complete the reaction. The resulting suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to form a polymetalloxane coating on the surface of the core particles. Polymer fine particles (C1) were obtained. When the particle diameter of the polymer fine particles (C1) was measured by a Coulter Multinizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the average particle diameter was 3.64 μm and the coefficient of variation (CV) was 29.5%. The thickness of the polymetalloxane coating was 0.005 μm.
The results are summarized in Tables 1 and 2.

〔実施例7〕:導電性微粒子(1)
ビーカーに「ピンクシューマー」(日本カニゼン株式会社製)50部とイオン交換水400部を入れ、混合して混合液を得た。別途、実施例1で得られた重合体微粒子(1)10部にイオン交換水50部を加えて超音波分散を行ったものを準備し、上記混合液に投入し、30℃で10分間撹拌した後、懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下100℃で2時間真空乾燥した。
次に、「レッドシューマー」(日本カニゼン株式会社製)100部とイオン交換水350部を入れ、混合して混合液を得た。別途、上記で得られた乾燥粒子10部にイオン交換水50部を加えて超音波分散を行ったものを準備し、上記混合液に投入し、30℃で10分間撹拌した後、懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した後、窒素雰囲気下100℃で2時間真空乾燥した。
以上の操作により、重合体微粒子(1)の表面にパラジウムが吸着された。
上記で得られたパラジウム活性重合体微粒子をイオン交換水500部に添加し、超音波分散処理を30分間行い、粒子を十分に分散させて懸濁液を得た。この懸濁液を50℃で撹拌しながら、硫酸ニッケル6水和物50g/L、次亜リン酸ナトリウム1水和物20g/L、ジメチルアミンボラン2.5g/L、クエン酸50g/Lからなる無電解めっき液(pH=7.5)を徐々に懸濁液に添加して、無電解ニッケルめっきを行った。
めっき処理中の粒子を経時的にサンプリングして走査電子顕微鏡(SEM、HITACHI社製、「S−3500N」)による観察を行いながら、任意の10個の粒子径を測定し、めっき処理前の重合体微粒子(1)の粒子径測定結果との差からめっき厚みを算出し、めっき厚みが0.1μmになった時点で無電解めっき液の添加をやめた。得られた導電性微粒子を濾別し、イオン交換水で洗浄した後、さらにメタノールで洗浄し、その後、60℃で12時間真空乾燥を行い、導電性微粒子(1)を得た。
得られた導電性微粒子(1)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(1)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Example 7]: Conductive fine particles (1)
In a beaker, 50 parts of “Pink Summer” (manufactured by Nippon Kanisen Co., Ltd.) and 400 parts of ion-exchanged water were mixed to obtain a mixed solution. Separately, 10 parts of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1 were added with 50 parts of ion-exchanged water and subjected to ultrasonic dispersion, and the mixture was put into the above mixture and stirred at 30 ° C. for 10 minutes. After that, the suspension was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 100 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere.
Next, 100 parts of “Red Schumer” (manufactured by Nippon Kanisen Co., Ltd.) and 350 parts of ion-exchanged water were added and mixed to obtain a mixed solution. Separately, 10 parts of the dry particles obtained above were added with 50 parts of ion-exchanged water and subjected to ultrasonic dispersion, and the mixture was put into the liquid mixture and stirred at 30 ° C. for 10 minutes, and then the suspension. The cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol, and then vacuum-dried at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere.
Through the above operation, palladium was adsorbed on the surface of the polymer fine particles (1).
The palladium active polymer fine particles obtained above were added to 500 parts of ion-exchanged water and subjected to ultrasonic dispersion for 30 minutes to sufficiently disperse the particles, thereby obtaining a suspension. While stirring this suspension at 50 ° C., from nickel sulfate hexahydrate 50 g / L, sodium hypophosphite monohydrate 20 g / L, dimethylamine borane 2.5 g / L, citric acid 50 g / L An electroless plating solution (pH = 7.5) was gradually added to the suspension for electroless nickel plating.
While sampling the particles during the plating process over time and observing them with a scanning electron microscope (SEM, manufactured by HITACHI, “S-3500N”), arbitrary 10 particle diameters are measured, and the weight before the plating process is measured. The plating thickness was calculated from the difference from the particle diameter measurement result of the coalesced fine particles (1), and the addition of the electroless plating solution was stopped when the plating thickness reached 0.1 μm. The obtained conductive fine particles were separated by filtration, washed with ion exchange water, further washed with methanol, and then vacuum dried at 60 ° C. for 12 hours to obtain conductive fine particles (1).
The obtained conductive fine particles (1) were evaluated for plating cracking and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (1). The results are summarized in Table 4.

〔実施例8〕:導電性微粒子(2)
実施例1で得られた重合体微粒子(1)の代わりに、実施例2で得られた重合体微粒子(2)を用いた以外は、実施例6と同様に行い、導電性微粒子(2)を得た。
得られた導電性微粒子(2)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(2)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Example 8]: Conductive fine particles (2)
Conductive fine particles (2) were obtained in the same manner as in Example 6 except that the polymer fine particles (2) obtained in Example 2 were used instead of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1. Got.
The obtained conductive fine particles (2) were evaluated for plating cracks and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (2). The results are summarized in Table 4.

〔実施例9〕:導電性微粒子(3)
実施例1で得られた重合体微粒子(1)の代わりに、実施例3で得られた重合体微粒子(3)を用いた以外は、実施例6と同様に行い、導電性微粒子(3)を得た。
得られた導電性微粒子(3)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(3)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Example 9]: Conductive fine particles (3)
Conductive fine particles (3) were prepared in the same manner as in Example 6 except that the polymer fine particles (3) obtained in Example 3 were used instead of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1. Got.
The obtained conductive fine particles (3) were evaluated for plating cracking and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (3). The results are summarized in Table 4.

〔実施例10〕:導電性微粒子(4)
実施例1で得られた重合体微粒子(1)の代わりに、実施例4で得られた重合体微粒子(4)を用いた以外は、実施例6と同様に行い、導電性微粒子(4)を得た。
得られた導電性微粒子(4)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(4)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Example 10]: Conductive fine particles (4)
Conductive fine particles (4) were obtained in the same manner as in Example 6 except that the polymer fine particles (4) obtained in Example 4 were used instead of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1. Got.
The obtained conductive fine particles (4) were evaluated for plating cracking and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (4). The results are summarized in Table 4.

〔実施例11〕:導電性微粒子(5)
実施例1で得られた重合体微粒子(1)の代わりに、実施例5で得られた重合体微粒子(5)を用いた以外は、実施例6と同様に行い、導電性微粒子(5)を得た。
得られた導電性微粒子(5)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(5)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Example 11]: Conductive fine particles (5)
Conductive fine particles (5) were prepared in the same manner as in Example 6 except that the polymer fine particles (5) obtained in Example 5 were used instead of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1. Got.
The obtained conductive fine particles (5) were evaluated for plating cracking and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (5). The results are summarized in Table 4.

〔比較例2〕:導電性微粒子(C1)
実施例1で得られた重合体微粒子(1)の代わりに、比較例1で得られた重合体微粒子(C1)を用いた以外は、実施例6と同様に行い、導電性微粒子(C1)を得た。
得られた導電性微粒子(C1)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(C1)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Comparative Example 2]: Conductive fine particles (C1)
Conductive fine particles (C1) were obtained in the same manner as in Example 6 except that the polymer fine particles (C1) obtained in Comparative Example 1 were used instead of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1. Got.
The obtained conductive fine particles (C1) were evaluated for plating cracking and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (C1). The results are summarized in Table 4.

〔比較例3〕:導電性微粒子(C2)
実施例1で得られた重合体微粒子(1)の代わりに、実施例1で得られたコア粒子前駆体(1)を用いた以外は、実施例6と同様に行い、導電性微粒子(C2)を得た。
得られた導電性微粒子(C2)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(C2)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Comparative Example 3]: Conductive fine particles (C2)
Conductive fine particles (C2) were prepared in the same manner as in Example 6 except that the core particle precursor (1) obtained in Example 1 was used instead of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1. )
The obtained conductive fine particles (C2) were evaluated for plating cracking and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (C2). The results are summarized in Table 4.

〔比較例4〕:導電性微粒子(C3)
実施例1で得られた重合体微粒子(1)の代わりに、実施例3で得られたコア粒子前駆体(3)を用いた以外は、実施例6と同様に行い、導電性微粒子(C3)を得た。
得られた導電性微粒子(C3)について、めっき割れの評価、めっき欠陥の評価を行った。結果を表3にまとめた。
また、得られた導電性微粒子(C3)について、異方性導電材料の評価を行った。結果を表4にまとめた。
[Comparative Example 4]: Conductive fine particles (C3)
Conductive fine particles (C3) were prepared in the same manner as in Example 6 except that the core particle precursor (3) obtained in Example 3 was used instead of the polymer fine particles (1) obtained in Example 1. )
The obtained conductive fine particles (C3) were evaluated for plating cracks and plating defects. The results are summarized in Table 3.
Moreover, anisotropic conductive material was evaluated about the obtained electroconductive fine particles (C3). The results are summarized in Table 4.

本発明の重合体微粒子を含む本発明の導電性微粒子は、異方性導電材料の構成材料として好適である。   The conductive fine particles of the present invention including the polymer fine particles of the present invention are suitable as a constituent material of an anisotropic conductive material.

重合体微粒子(3)の電界放射型電子顕微鏡による断面の透過電子像である。It is a transmission electron image of the cross section by a field emission electron microscope of a polymer fine particle (3). 重合体微粒子(3)の電界放射型電子顕微鏡による断面の反射電子像である。It is a reflected electron image of the cross section of a polymer microparticle (3) by the field emission electron microscope. 図1の電子像におけるポリメタロキサン被膜部分を拡大した電子像である。It is the electronic image which expanded the polymetalloxane film | membrane part in the electronic image of FIG. 図2の電子像におけるポリメタロキサン被膜部分を拡大した電子像である。It is the electronic image which expanded the polymetalloxane film | membrane part in the electronic image of FIG.

Claims (11)

Si原子を含むコア粒子Pの表面に金属原子Mを含むポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子であって、
該コア粒子Pの表面に該ポリメタロキサン被膜が−Si−O−M−を含む構造によって結合されている、
重合体微粒子。
Polymer fine particles having a polymetalloxane coating containing metal atoms M on the surface of core particles P containing Si atoms,
The polymetalloxane coating is bonded to the surface of the core particle P by a structure containing -Si-OM-
Polymer fine particles.
前記ポリメタロキサン被膜が、金属原子Siを含むポリシロキサン被膜である、請求項1に記載の重合体微粒子。   The polymer fine particle according to claim 1, wherein the polymetalloxane coating is a polysiloxane coating containing a metal atom Si. 前記重合体微粒子の平均粒子径が0.5〜100μmである、請求項1または2に記載の重合体微粒子。   The polymer fine particles according to claim 1 or 2, wherein an average particle size of the polymer fine particles is 0.5 to 100 µm. 前記ポリメタロキサン被膜の被覆率が100%である、請求項1から3までのいずれかに記載の重合体微粒子。   The polymer fine particle according to any one of claims 1 to 3, wherein a coverage of the polymetalloxane coating is 100%. 前記ポリメタロキサン被膜の厚みが1〜500nmであり、該厚みが前記コア粒子Pの表面上で実質的に均一である、請求項1から4までのいずれかに記載の重合体微粒子。   5. The polymer fine particle according to claim 1, wherein the polymetalloxane coating has a thickness of 1 to 500 nm, and the thickness is substantially uniform on the surface of the core particle P. 6. Si原子を含むコア粒子Pの表面に金属原子Mを含むポリメタロキサン被膜を有する重合体微粒子の製造方法であって、
表面に−Si−OH基を有するコア粒子前駆体P´が分散された溶媒に、加水分解可能な有機金属化合物またはその少なくとも一部が加水分解された縮合物を添加して、加水分解反応および/または縮合反応を行う、
重合体微粒子の製造方法。
A method for producing polymer fine particles having a polymetalloxane coating containing a metal atom M on the surface of a core particle P containing Si atoms,
A hydrolyzable organometallic compound or a condensate obtained by hydrolyzing at least a part thereof is added to a solvent in which a core particle precursor P ′ having a —Si—OH group on the surface is dispersed, / Or conduct a condensation reaction,
A method for producing polymer fine particles.
前記ポリメタロキサン被膜が、金属原子Siを含むポリシロキサン被膜である、請求項6に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 6, wherein the polymetalloxane coating is a polysiloxane coating containing a metal atom Si. 前記加水分解可能な有機金属化合物が、一般式MXnで表される金属アルコキシド(ただし、Mは原子価数nの金属原子であり、Xはアルコキシ基である)である、請求項6または7に記載の製造方法。   The hydrolyzable organometallic compound is a metal alkoxide represented by the general formula MXn (wherein M is a metal atom having a valence of n and X is an alkoxy group). The manufacturing method as described. 前記加水分解可能な有機金属化合物が、一般式RpSiYqで表される有機ケイ素化合物(ただし、Rは置換基を有していても良い炭化水素基であり、Yは−OH基、−OR基、ハロゲン原子、水素原子のいずれかであり、Rはアルキル基、アシル基、アリール基、アラルキル基であり、pおよびqはp+q=4を満たす整数である)である、請求項6または7に記載の製造方法。 The hydrolyzable organometallic compound is an organosilicon compound represented by the general formula R 1 pSiY 1 q (where R 1 is an optionally substituted hydrocarbon group, and Y 1 is —OH group, -OR 2 group is either a halogen atom, a hydrogen atom, R 2 is an alkyl group, an acyl group, an aryl group, an aralkyl group, p and q are the integers) satisfying p + q = 4 The manufacturing method according to claim 6 or 7. 請求項1から5までのいずれかに記載の重合体微粒子と金属層を含む、導電性微粒子。   Conductive fine particles comprising the polymer fine particles according to any one of claims 1 to 5 and a metal layer. 前記金属層が、無電解めっき法により形成された層である、請求項10に記載の導電性微粒子。
The conductive fine particles according to claim 10, wherein the metal layer is a layer formed by an electroless plating method.
JP2008253057A 2008-09-30 2008-09-30 Polymer fine particles, method for producing polymer fine particles, and conductive fine particles Active JP5340686B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008253057A JP5340686B2 (en) 2008-09-30 2008-09-30 Polymer fine particles, method for producing polymer fine particles, and conductive fine particles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008253057A JP5340686B2 (en) 2008-09-30 2008-09-30 Polymer fine particles, method for producing polymer fine particles, and conductive fine particles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010083954A true JP2010083954A (en) 2010-04-15
JP5340686B2 JP5340686B2 (en) 2013-11-13

Family

ID=42248235

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008253057A Active JP5340686B2 (en) 2008-09-30 2008-09-30 Polymer fine particles, method for producing polymer fine particles, and conductive fine particles

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5340686B2 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012007059A (en) * 2010-06-24 2012-01-12 Denki Kagaku Kogyo Kk Composite particle and method of manufacturing the same
JP2014160647A (en) * 2013-01-24 2014-09-04 Sekisui Chem Co Ltd Base particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2014160648A (en) * 2013-01-24 2014-09-04 Sekisui Chem Co Ltd Base particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2015044987A (en) * 2013-08-02 2015-03-12 積水化学工業株式会社 Base particle, conductive particle, conductive material, and connection structure
JP2015110743A (en) * 2013-10-28 2015-06-18 積水化学工業株式会社 Method of producing organic inorganic hybrid particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2020064833A (en) * 2018-10-19 2020-04-23 株式会社日本触媒 Base particles for conductive particles and use thereof
CN111813263A (en) * 2020-07-10 2020-10-23 业成科技(成都)有限公司 Thermoformed repair particles and method

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6462475A (en) * 1987-09-01 1989-03-08 Shiseido Co Ltd Composite material and its production and method for precipitating metal
JPH03281538A (en) * 1990-02-23 1991-12-12 Toshiba Silicone Co Ltd Silicone aqueous emulsion composition and production of silicone particulate matter using the same composition
JPH03281536A (en) * 1990-02-23 1991-12-12 Toshiba Silicone Co Ltd Production of emulsion type silicone composition and silicone fine particle
JPH03281537A (en) * 1990-02-23 1991-12-12 Toshiba Silicone Co Ltd Silicone aqueous emulsion composition and production of silicone fine powder using the same composition
JP2002133948A (en) * 2000-10-20 2002-05-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Metal-coated powder and its manufacturing method
JP2008045039A (en) * 2006-08-17 2008-02-28 Kaneka Corp Silicone-based polymer particle and silicone-based composition containing the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6462475A (en) * 1987-09-01 1989-03-08 Shiseido Co Ltd Composite material and its production and method for precipitating metal
JPH03281538A (en) * 1990-02-23 1991-12-12 Toshiba Silicone Co Ltd Silicone aqueous emulsion composition and production of silicone particulate matter using the same composition
JPH03281536A (en) * 1990-02-23 1991-12-12 Toshiba Silicone Co Ltd Production of emulsion type silicone composition and silicone fine particle
JPH03281537A (en) * 1990-02-23 1991-12-12 Toshiba Silicone Co Ltd Silicone aqueous emulsion composition and production of silicone fine powder using the same composition
JP2002133948A (en) * 2000-10-20 2002-05-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Metal-coated powder and its manufacturing method
JP2008045039A (en) * 2006-08-17 2008-02-28 Kaneka Corp Silicone-based polymer particle and silicone-based composition containing the same

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012007059A (en) * 2010-06-24 2012-01-12 Denki Kagaku Kogyo Kk Composite particle and method of manufacturing the same
JP2020043080A (en) * 2013-01-24 2020-03-19 積水化学工業株式会社 Base material particle, conductive particle, conductive material, and connection structure
JP2014160648A (en) * 2013-01-24 2014-09-04 Sekisui Chem Co Ltd Base particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2018101629A (en) * 2013-01-24 2018-06-28 積水化学工業株式会社 Base material particle, conductive particle, conductive material, and connection structure
JP2018101630A (en) * 2013-01-24 2018-06-28 積水化学工業株式会社 Base material particle, conductive particle, conductive material, and connection structure
JP2014160647A (en) * 2013-01-24 2014-09-04 Sekisui Chem Co Ltd Base particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2015044987A (en) * 2013-08-02 2015-03-12 積水化学工業株式会社 Base particle, conductive particle, conductive material, and connection structure
JP2018150537A (en) * 2013-08-02 2018-09-27 積水化学工業株式会社 Base material particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2020037705A (en) * 2013-08-02 2020-03-12 積水化学工業株式会社 Base material particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2015110743A (en) * 2013-10-28 2015-06-18 積水化学工業株式会社 Method of producing organic inorganic hybrid particle, conductive particle, conductive material and connection structure
JP2020064833A (en) * 2018-10-19 2020-04-23 株式会社日本触媒 Base particles for conductive particles and use thereof
JP7220548B2 (en) 2018-10-19 2023-02-10 株式会社日本触媒 Substrate particles for conductive particles and use thereof
CN111813263A (en) * 2020-07-10 2020-10-23 业成科技(成都)有限公司 Thermoformed repair particles and method
CN111813263B (en) * 2020-07-10 2022-09-20 业成科技(成都)有限公司 Thermoformed repair particles and method

Also Published As

Publication number Publication date
JP5340686B2 (en) 2013-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5563232B2 (en) Core-shell type organic-inorganic composite particle production method, core-shell type organic-inorganic composite particle, and conductive fine particle
JP5340686B2 (en) Polymer fine particles, method for producing polymer fine particles, and conductive fine particles
JP5957042B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive materials
WO2014115468A1 (en) Base material particle, conductive particle, conductive material, and connection structure
JP5583647B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
WO2012102199A1 (en) Conductive microparticle, resin particle, and anisotropic conductive material using same
JP5583712B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5629641B2 (en) Conductive fine particles and method for producing the same
JP5581166B2 (en) Conductive fine particles, insulating resin-coated conductive fine particles, and anisotropic conductive materials
JP6613326B2 (en) Base particle, conductive particle, conductive material, and connection structure
JP5856379B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5466022B2 (en) Conductive fine particles, anisotropic conductive adhesive composition, and anisotropic conductive molded body
JP2011065750A (en) Insulating fine particle-coated conductive particle, anisotropic conductive adhesive composition, and anisotropic conductive molding
JP2013125645A (en) Conductive fine particle and anisotropic conductive material
JP5951977B2 (en) Conductive fine particles
JP2013062069A (en) Insulating fine particle, insulating fine particle covered conductive fine particle, anisotropic conductive adhesive composition, and anisotropic conductive molding
JP2013120658A (en) Conductive fine particle and anisotropic conductive material including the same
JP5554077B2 (en) Insulating fine particle-coated conductive fine particle, anisotropic conductive adhesive composition, and anisotropic conductive molded body
JP5694671B2 (en) Method for producing metal-coated particles
JP6630378B2 (en) Substrate particles, conductive particles, conductive material and connection structure
JP2013125649A (en) Conductive fine particle and anisotropic conductive material
JP5917318B2 (en) Conductive fine particles
JP5296362B2 (en) Conductive silica particles, method for producing the same, and use thereof
JP7414404B2 (en) Base material particles for conductive particles, their use and manufacturing method
JP5883283B2 (en) Conductive particles and anisotropic conductive materials

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100924

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110513

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130717

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130807

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5340686

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150