JP2010072370A - Optical waveguide - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical waveguide can adjust easily a difference of a refractive index between a core and a clad. <P>SOLUTION: This optical waveguide includes a core part for propagating light, and a clad part having a lower refractive index than the core part and positioned in contact with the core part. The core part is formed of a hardened material of an active radiation hardening polymer having a maleimide group, and a low molecular weight compound having a higher refractive index than the hardened material or a photoreaction residue of a polymer of the low molecular weight compound and the maleimide group exists in the hardened material of the active radiation hardening polymer having the maleimide group forming the core part. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、コアと、該コアより屈折率が低く、該コアを取り囲むクラッドからなる光導波路に関する。   The present invention relates to an optical waveguide including a core and a clad having a lower refractive index than that of the core and surrounding the core.

レーザー又は発光ダイオードのような光源から発生した光周波搬送波を使用するデータ移送がますます重要になっている。そのような光周波搬送波を一地点から他地点に導くための一つの手段が光導波路である。光導波路は、光周波搬送波の光に対して、実質的に透明な第一の媒体(コア)と、第一の媒体より低屈折率の第二の媒体(クラッド)とを有する。この第一の媒体は、第二の媒体によって取り囲まれているか、又は第二の媒体の内側に封入されている。第一の媒体の端部から導入された光は、第二の媒体との境界で内部全反射を起こし、これによって、第一の媒体の軸に沿って導かれる。この第一の媒体として頻繁に使用されているのは、細長く繊維状に形成されたガラスである。しかしながら、ガラス光ファイバーは、長距離のデータ輸送には便利であるが、回路の高密度化によって、使用上の問題を引き起こしたり、高コストになったりするので、煩雑な高密度回路には好ましくない。一方で、ポリマー材料は、合理的コストで、信頼性があり、受動的で実用的なコンポーネントを作成することができ、しかも、集積光学に必要な機能を実行できる点で、有望視されている。   Data transfer using optical frequency carriers generated from light sources such as lasers or light emitting diodes is becoming increasingly important. One means for guiding such an optical frequency carrier wave from one point to another is an optical waveguide. The optical waveguide includes a first medium (core) that is substantially transparent to light of an optical frequency carrier wave, and a second medium (cladding) having a lower refractive index than the first medium. The first medium is surrounded by the second medium or encapsulated inside the second medium. The light introduced from the end of the first medium undergoes total internal reflection at the boundary with the second medium, and is thereby guided along the axis of the first medium. Often used as the first medium is a glass formed into an elongated fiber shape. However, glass optical fiber is convenient for long-distance data transport, but it is not preferable for complicated high-density circuits because circuit density causes problems in use and costs. . On the other hand, polymer materials are promising because they can create components that are reasonably cost, reliable, passive and practical, yet perform the functions required for integrated optics. .

そのため、近年、光硬化法を利用してポリマー材料から、光導波路を形成するための研究が活発に行われている。光導波路には、特に、光配線で使用される波長領域(850nm付近)における良好な光学物性、更に、電気又は電子部品の実装工程を必要とする製品向けには、はんだ耐熱性などが要求される。特に、近年、環境保全の配慮から、はんだ鉛フリー化が求められており、はんだリフロー温度が高くなることから、高温でも賦形形状を維持できる耐熱性が必要となってきている。   Therefore, in recent years, research for forming an optical waveguide from a polymer material using a photocuring method has been actively conducted. Optical waveguides are particularly required to have good optical properties in the wavelength region (around 850 nm) used for optical wiring, and solder heat resistance for products that require mounting processes for electrical or electronic components. The In particular, in recent years, there has been a demand for solder lead-free due to environmental conservation considerations, and since the solder reflow temperature has increased, heat resistance that can maintain the shaped shape even at high temperatures has become necessary.

例えば、光学材料として、耐熱性、エッチング耐性、接着性等に優れるマレイミドとノルボルネンの共重合体が研究されている(特許文献1、特許文献2、特許文献3)。   For example, a copolymer of maleimide and norbornene, which is excellent in heat resistance, etching resistance, adhesiveness, and the like, has been studied as an optical material (Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3).

特開2001−200018号公報(特許請求の範囲)JP 2001-200018 A (Claims) 特開平11−228536号公報(特許請求の範囲)JP 11-228536 A (Claims) 特開平11−322855号公報(特許請求の範囲)JP-A-11-322855 (Claims)

このような従来の光導波路では、コア及びクラッドの屈折率が、コア形成用のポリマーの種類及びクラッド形成用のポリマーの種類に依存するため、コア形成用ポリマーとクラッド形成用ポリマーとの間の屈折率の差が、十分でない場合には、ポリマーの種類そのものを別のポリマーに変更して、屈折率の差を調節しなければならない。ところが、ポリマーの種類そのものを別のポリマーに変更しようとしても、屈折率以外の性能までも変化してしまうため、変更ができないという問題があった。   In such a conventional optical waveguide, the refractive index of the core and the clad depends on the type of polymer for core formation and the type of polymer for clad formation. If the difference in refractive index is not sufficient, the polymer type itself must be changed to another polymer to adjust the difference in refractive index. However, there is a problem that even if the type of polymer itself is changed to another polymer, the performance other than the refractive index is changed, so that the change cannot be made.

ところで、コア形成用のポリマーの硬化物とクラッド形成用のポリマーの硬化物とを、同一の構造又は似た構造のポリマーの硬化物にすると、コアとクラッドの線膨脹係数がほぼ同等の値を示すために、コアとクラッドとの間で応力が発生し難くなるので、硬化収縮によるクラックの発生が起こり難くなるという利点、類似の化学構造を取るために密着力又は接着力に優れるという利点を有することになるが、屈折率に十分な差を持たせるためには、コア形成用のポリマーの硬化物とクラッド形成用のポリマーの硬化物とを、同一の構造又は似た構造のポリマーの硬化物にすることはできなかった。   By the way, if the cured polymer of the core-forming polymer and the cured polymer of the cladding-forming polymer are made of a polymer having the same structure or a similar structure, the linear expansion coefficients of the core and the cladding are almost equal. For the sake of illustration, since stress is less likely to occur between the core and the clad, it is less likely to cause cracks due to curing shrinkage, and to have a similar chemical structure, it has the advantage of excellent adhesion or adhesion. In order to have a sufficient difference in refractive index, the cured polymer of the core forming polymer and the cured polymer of the cladding forming polymer are cured with the same structure or a similar structure. I couldn't make it.

従って、本発明の目的は、コアとクラッドとの間の屈折率の差の調節が容易な光導波路を提供することにある。更には、コアとクラッドとが、同一の構造又は似た構造のポリマーの硬化物を用いて形成されている光導波路を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical waveguide in which a difference in refractive index between a core and a clad can be easily adjusted. Furthermore, another object of the present invention is to provide an optical waveguide in which a core and a clad are formed by using a cured product of a polymer having the same structure or a similar structure.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意研究を重ねた結果、コア又はクラッドのいずれか、あるいは両方を、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物で形成し、且つ、マレイミド基に該硬化物とは屈折率が異なる低分子化合物を光反応させて、該硬化物中に、該硬化物とは屈折率が異なる低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基を存在させることにより、(1)コア及びクラッドの屈折率の差の調節が容易になること、(2)更には、コアとクラッドとを、同一の構造又は似た構造のポリマーを用いて形成することができるようになること等を見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention formed either the core or the clad or both of them with a cured product of an active radiation curable polymer having a maleimide group, and the maleimide group A low molecular weight compound having a refractive index different from that of the cured product is photoreacted, and a low molecular weight compound having a refractive index different from that of the cured product or a polymer of the low molecular weight compound and a maleimide group in the cured product. The presence of the photoreactive residue (1) facilitates the adjustment of the difference in refractive index between the core and the clad, and (2) the core and the clad have the same structure or a similar structure. The present invention has been completed by finding out that the film can be formed by using.

すなわち、本発明(1)は、光を伝搬するためのコア部と、該コア部に接し、該コア部より屈折率の低いクラッド部とを有する光導波路であって、
該コア部が、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物により形成されており、
該コア部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していること
を特徴とする光導波路を提供するものである。
That is, the present invention (1) is an optical waveguide having a core part for propagating light and a clad part in contact with the core part and having a refractive index lower than that of the core part,
The core part is formed of a cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group,
In the cured product of the active radiation curable polymer having a maleimide group forming the core part, a low molecular weight compound having a higher refractive index than the cured product, or a photoreactive residue of a polymer of the low molecular weight compound and a maleimide group The present invention provides an optical waveguide characterized by the presence of.

また、本発明(2)は、光を伝搬するためのコア部と、該コア部に接し、該コア部より屈折率の低いクラッド部とを有する光導波路であって、
該クラッド部が、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物により形成されており、
該クラッド部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が低い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していること
を特徴とする光導波路を提供するものである。
Further, the present invention (2) is an optical waveguide having a core part for propagating light and a clad part in contact with the core part and having a refractive index lower than that of the core part,
The cladding is formed of a cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group,
In the cured product of the actinic radiation curable polymer having a maleimide group forming the cladding part, a low molecular weight compound having a refractive index lower than that of the cured product, or a photoreactive residue of the polymer of the low molecular weight compound and the maleimide group The present invention provides an optical waveguide characterized by the presence of.

本発明によれば、コアとクラッドとの間の屈折率の差の調節が容易な光導波路を提供することができる。更には、コアとクラッドとが、同一の構造又は似た構造のポリマーを用いて形成されている光導波路を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical waveguide with easy adjustment of the difference of the refractive index between a core and a clad can be provided. Furthermore, it is possible to provide an optical waveguide in which a core and a clad are formed using polymers having the same structure or a similar structure.

本発明の光導波路について説明するが、以下では、本発明の光導波路に係るマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーを、活性放射線硬化性ポリマー(b)とも記載する。また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物より屈折率が高い低分子量化合物であり、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基と光反応することにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物より屈折率が高い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基を与える化合物を、低分子量化合物(a1)とも記載する。また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物より屈折率が低い低分子量化合物であり、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基と光反応することにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の該硬化物より屈折率が低い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基を与える化合物を、低分子量化合物(a2)とも記載する。つまり、該低分子量化合物(a1)は、マレイミド基と反応することにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を高くする化合物として作用し、一方、該低分子量化合物(a2)は、マレイミド基と反応することにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を低くする化合物として作用する。そして、該低分子量化合物(a1)及び(a2)を総称して、低分子量化合物(a)とも記載する。   The optical waveguide of the present invention will be described below. The active radiation curable polymer having a maleimide group according to the optical waveguide of the present invention is also referred to as an active radiation curable polymer (b). The active radiation curable polymer (b) is a low molecular weight compound having a refractive index higher than that of the cured product, and reacts with the maleimide group of the active radiation curable polymer (b) to thereby react with the active radiation curable polymer. The low molecular weight compound having a higher refractive index than the cured product of (b) or a compound that gives a photoreactive residue between a polymer of the low molecular weight compound and a maleimide group is also referred to as a low molecular weight compound (a1). Further, the active radiation curable polymer (b) is a low molecular weight compound having a refractive index lower than that of the cured product, and is photoreacted with the maleimide group of the active radiation curable polymer (b), thereby the active radiation curable polymer. The low molecular weight compound having a refractive index lower than that of the cured product of (b) or a compound that gives a photoreactive residue between a polymer of the low molecular weight compound and a maleimide group is also referred to as a low molecular weight compound (a2). That is, the low molecular weight compound (a1) acts as a compound that increases the refractive index of the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) by reacting with the maleimide group, while the low molecular weight compound (a2) ) Acts as a compound that lowers the refractive index of the cured product of the active radiation curable polymer (b) by reacting with the maleimide group. The low molecular weight compounds (a1) and (a2) are collectively referred to as a low molecular weight compound (a).

本発明の第一の形態の光導波路(以下、本発明の光導波路(1)とも記載する。)は、光を伝搬するためのコア部と、該コア部に接し、該コア部より屈折率の低いクラッド部とを有する光導波路であって、
該コア部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、
該コア部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している光導波路である。
The optical waveguide of the first embodiment of the present invention (hereinafter also referred to as the optical waveguide (1) of the present invention) is in contact with the core portion for propagating light, and has a refractive index from the core portion. An optical waveguide having a low cladding portion,
The core is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b);
In the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) forming the core part, a low molecular weight compound (a1) having a higher refractive index than the cured product or a polymer of the low molecular weight compound (a1) and a maleimide group It is an optical waveguide in which a photoreactive residue exists.

なお、本発明の光導波路(1)において、「該硬化物より屈折率が高い」とは、該低分子量化合物(a)を含有させずに該活性放射線硬化性ポリマー(b)を硬化させた場合に得られる硬化物より、屈折率が高いという意味である。   In the optical waveguide (1) of the present invention, “the refractive index is higher than that of the cured product” means that the active radiation curable polymer (b) is cured without containing the low molecular weight compound (a). This means that the refractive index is higher than the cured product obtained.

本発明の光導波路(1)は、例えば、以下に示す本発明の光導波路を製造するための第一の方法例(以下、本発明の光導波路を製造する方法例(1)とも記載する。)又は本発明の光導波路を製造するための第二の方法例(以下、本発明の光導波路を製造する方法例(2)とも記載する。)により製造される。   The optical waveguide (1) of the present invention is also described, for example, as a first method example (hereinafter, a method example (1) of manufacturing the optical waveguide of the present invention) for manufacturing the optical waveguide of the present invention shown below. ) Or a second method example for manufacturing the optical waveguide of the present invention (hereinafter also referred to as a method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention).

本発明の光導波路を製造する方法例(1)は、下層クラッドの上に、活性放射線を照射することにより硬化するコア部形成用のポリマー層を形成させ(コア部形成用ポリマー層作成工程)、次いで、該コア部形成用のポリマー層をマスクして活性放射線を照射し、露光部を硬化させ(コア部硬化工程)、次いで、未露光部を現像液で除去する現像を行い、該下層クラッドの上に、コア部のみを形成させ(現像工程)、次いで、該下層クラッド及び該コア部の上に、コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層を形成させ(コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層形成工程)、次いで、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層に活性放射線を照射し、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマーを硬化させること(コア部内封上層クラッド硬化工程)により、光導波路を得るという方法である。   In the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention, a polymer layer for forming a core portion that is cured by irradiation with actinic radiation is formed on a lower clad (core layer forming polymer layer forming step). Then, the polymer layer for forming the core portion is masked and irradiated with actinic radiation, the exposed portion is cured (core portion curing step), and then development is performed to remove the unexposed portion with a developer. Only the core part is formed on the clad (development process), and then a polymer layer for forming the core-encapsulating upper layer cladding is formed on the lower-layer clad and the core part (polymer for forming the core-encapsulating upper layer cladding) Layer forming step), and then irradiating the polymer layer for forming the core encapsulating upper layer clad with active radiation to cure the polymer for forming the core encapsulating upper layer cladding (hardening the core encapsulating upper layer cladding) The step), a method of obtaining an optical waveguide.

本発明の光導波路を製造する方法例(1)を用いて、本発明の光導波路(1)を製造する工程について、図1〜7を参照して説明する。図1〜図7は、本発明の光導波路を製造する方法例(1)を用いて、本発明の光導波路(1)を製造する工程の形態例を示す模式的な断面図である。なお、図1〜図7では、紙面の表裏方向が、光周波搬送波の光の移送方向である。   The process of manufacturing the optical waveguide (1) of the present invention using the method example (1) of manufacturing the optical waveguide of the present invention will be described with reference to FIGS. FIGS. 1-7 is typical sectional drawing which shows the form example of the process of manufacturing the optical waveguide (1) of this invention using the example (1) of manufacturing the optical waveguide of this invention. In FIG. 1 to FIG. 7, the front and back direction of the paper is the light transfer direction of the optical frequency carrier wave.

先ず、図1に示すように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)により形成されており、且つ、該低分子量化合物(a1)を含有する活性放射線硬化性ポリマー(b)層2(以下、活性放射線硬化性ポリマー(b)層2とも記載する。)を、下層クラッド1の上に形成させる。このとき、該下層クラッド1としては、後述するコア部7より屈折率が低いものを用いる。また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層2中に含有される該低分子量化合物(a1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層2を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物より、屈折率が高い低分子量化合物であり、且つ、活性放射線を照射することにより、マレイミド基と反応する化合物である。   First, as shown in FIG. 1, the actinic radiation curable polymer (b) layer 2 (hereinafter referred to as active) formed of the actinic radiation curable polymer (b) and containing the low molecular weight compound (a1). A radiation curable polymer (b) layer 2 is also described) is formed on the lower cladding 1. At this time, as the lower cladding 1, one having a refractive index lower than that of a core portion 7 described later is used. In addition, the low molecular weight compound (a1) contained in the active radiation curable polymer (b) layer 2 is the active radiation curable polymer (b) forming the active radiation curable polymer (b) layer 2. It is a low molecular weight compound having a higher refractive index than the cured product, and a compound that reacts with a maleimide group by irradiation with actinic radiation.

次いで、図2に示すように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層2の表面をフォトマスク3でマスクして、例えば紫外線4を照射する。このことにより、図3に示すように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層2のうち、紫外線4が照射された露光部5は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物となり、紫外線4が照射されなかった未露光部6は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のままである。また、該露光部5では、紫外線4の照射により、該低分子量化合物(a1)が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基と反応するので、該露光部5の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い該低分子量化合物(a1)とマレイミド基との光反応残基が存在することになる。また、該低分子量化合物(a1)の種類によっては、活性放射線の照射により、該低分子量化合物(a1)同士の重合反応も起こる。そして、該低分子量化合物(a1)同士の重合反応も起こる場合は、該露光部5では、該コア部硬化工程で活性放射線の照射中に、2つ以上の該低分子量化合物(a1)が重合して該低分子量化合物(a1)の重合物が生成し、生成した該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との反応も起こる。そのため、該露光部5の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在することになる。   Next, as shown in FIG. 2, the surface of the active radiation curable polymer (b) layer 2 is masked with a photomask 3 and, for example, ultraviolet rays 4 are irradiated. Thereby, as shown in FIG. 3, in the active radiation curable polymer (b) layer 2, the exposed portion 5 irradiated with the ultraviolet rays 4 becomes a cured product of the active radiation curable polymer (b). The unexposed portion 6 that has not been irradiated with the ultraviolet ray 4 remains the active radiation curable polymer (b). Moreover, in this exposure part 5, by irradiation with ultraviolet rays 4, the low molecular weight compound (a1) reacts with the maleimide group of the active radiation curable polymer (b). In the cured product of the polymer (b), a photoreactive residue between the low molecular weight compound (a1) having a refractive index higher than that of the cured product and a maleimide group is present. Depending on the type of the low molecular weight compound (a1), a polymerization reaction between the low molecular weight compounds (a1) may also occur by irradiation with actinic radiation. When the polymerization reaction between the low molecular weight compounds (a1) also occurs, two or more low molecular weight compounds (a1) are polymerized in the exposed portion 5 during the irradiation of active radiation in the core portion curing step. Thus, a polymer of the low molecular weight compound (a1) is produced, and a reaction between the produced polymer of the low molecular weight compound (a1) and a maleimide group also occurs. Therefore, in the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) of the exposed portion 5, the low molecular weight compound (a1) having a higher refractive index than the cured product or a polymer of the low molecular weight compound (a1) and There will be a photoreactive residue with the maleimide group.

次いで、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層2のうち、硬化しなかった該未露光部6を、現像液で除去し、図4に示すように、該下層クラッド1上に、コア部7のみを形成させる。   Next, in the actinic radiation curable polymer (b) layer 2, the unexposed portion 6 that has not been cured is removed with a developer, and the core portion 7 is formed on the lower cladding 1 as shown in FIG. Only form.

次いで、図5に示すように、該コア部7を取り囲むように、コア部内封上層クラッド形成用ポリマーを用いて、コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層8を形成させる。このとき、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層8を形成する該コア部内封上層クラッド形成用ポリマーとしては、硬化した時の硬化物の屈折率が、該コア部7の屈折率より低いものを用いる。   Next, as shown in FIG. 5, the core portion encapsulating upper layer clad forming polymer layer 8 is formed using the core portion encapsulating upper layer clad forming polymer so as to surround the core portion 7. At this time, the core encapsulating upper layer clad forming polymer for forming the core encapsulating upper layer clad forming polymer layer 8 has a refractive index of a cured product lower than the refractive index of the core 7 when cured. Is used.

次いで、該コア部内封クラッド形成用ポリマー層8に紫外線を照射して、該コア部内封クラッド形成用ポリマーを硬化させ、コア部内封上層クラッド9を形成させる(図6)。このことにより、コア部が、クラッド部により取り囲まれた光導波路10が形成される。   Next, the core encapsulating clad forming polymer layer 8 is irradiated with ultraviolet rays to cure the core encapsulating clad forming polymer, thereby forming the core encapsulating upper cladding 9 (FIG. 6). As a result, the optical waveguide 10 in which the core portion is surrounded by the cladding portion is formed.

なお、図7に示すように、該コア部内封上層クラッド9には、該コア部7の上に形成されている部分と、該コア部7の横に形成されている部分とがある。そして、図5及び図6に示すように、該コア部7の上に形成されている部分と、該コア部7の横に形成されている部分は、同時に形成されるため、図1〜図6に示す形態例では、両者には境目はないが、説明の都合上、図7中、点線で区切ったように、該コア部内封上層クラッド9のうち、該コア部7の上に形成される部分を、上層クラッド部12と記載し、該コア部7の横に形成され該下層クラッド1と該上層クラッド部12とに挟まれている部分を、中間層クラッド部11と記載する。   As shown in FIG. 7, the core-encapsulating upper layer cladding 9 has a portion formed on the core portion 7 and a portion formed beside the core portion 7. As shown in FIGS. 5 and 6, the portion formed on the core portion 7 and the portion formed on the side of the core portion 7 are formed at the same time. In the embodiment shown in FIG. 6, there is no boundary between the two, but for convenience of explanation, it is formed on the core portion 7 of the core portion encapsulating upper layer clad 9 as shown by the dotted line in FIG. This portion is referred to as an upper clad portion 12, and the portion formed beside the core portion 7 and sandwiched between the lower clad 1 and the upper clad portion 12 is referred to as an intermediate clad portion 11.

該光導波路10において、該コア部7中には、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を高くする化合物として作用する該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基とが光反応して生成する光反応残基が存在する。一方、該下層クラッド1、該中間層クラッド部11及び該上層クラッド部12は、該コア部7より屈折率が低い材料で形成されている。そのため、該コア部7は、該コア部7より屈折率の低い該下層クラッド1、該中間層クラッド部11及び該上層クラッド部12に取り囲まれることになるので、該光導波路10は、光周波搬送波の光を輸送する光導波路として機能する。   In the optical waveguide 10, in the core portion 7, the low molecular weight compound (a1) or the low molecular weight compound (a1) that acts as a compound that increases the refractive index of the cured product of the active radiation curable polymer (b). ) And a maleimide group are photoreactive residues produced by photoreaction. On the other hand, the lower clad 1, the intermediate clad portion 11, and the upper clad portion 12 are formed of a material having a refractive index lower than that of the core portion 7. Therefore, since the core portion 7 is surrounded by the lower layer cladding 1, the intermediate layer cladding portion 11, and the upper layer cladding portion 12 having a refractive index lower than that of the core portion 7, the optical waveguide 10 has an optical frequency. It functions as an optical waveguide that transports the light of the carrier wave.

本発明の光導波路を製造する方法例(2)は、下層クラッドの上に、該活性放射線硬化性ポリマー(b)により形成されており、且つ、該低分子量化合物(a)を含有する活性放射線硬化性ポリマー(b)層を作製する活性放射線硬化性ポリマー層作製工程と、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に、パターン形状のマスクをし、活性放射線を照射する第一の照射工程と、加熱下又は減圧下で、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層のうちの活性放射線が照射されなかった未露光部から、該低分子量化合物(a)を揮発させる低分子量化合物揮発工程と、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層全体に、活性放射線を照射し、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物層を得る第二の照射工程と、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物層の上に、上層クラッドを作製する上層クラッド作製工程と、を行い光導波路を得る方法である。   In the method (2) for producing the optical waveguide of the present invention, the active radiation is formed on the lower clad by the active radiation curable polymer (b) and contains the low molecular weight compound (a). An actinic radiation curable polymer layer producing step for producing a curable polymer (b) layer; a first irradiating step of irradiating actinic radiation with a mask having a pattern shape on the actinic radiation curable polymer (b) layer; A low molecular weight compound volatilization step for volatilizing the low molecular weight compound (a) from an unexposed portion of the actinic radiation curable polymer (b) layer that has not been irradiated with actinic radiation under heating or reduced pressure; A second irradiation step of irradiating the actinic radiation curable polymer (b) layer with actinic radiation to obtain a cured product layer of the actinic radiation curable polymer (b); and the actinic radiation curable polymer (b). Curing On the layer, a method of obtaining the upper cladding layer producing step of producing an upper clad, the optical waveguides do.

本発明の光導波路を製造する方法例(2)を用いて、本発明の光導波路(1)を製造する工程について、図8〜13を参照して説明する。図8〜図13は、本発明の光導波路を製造する方法例(2)を用いて、本発明の光導波路(1)を製造する工程の形態例の模式的な断面図である。なお、図8〜図13では、紙面の表裏方向が、光周波搬送波の光の移送方向である。   The process of manufacturing the optical waveguide (1) of the present invention using the method example (2) of manufacturing the optical waveguide of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8 to FIG. 13 are schematic cross-sectional views of a form example of a process of manufacturing the optical waveguide (1) of the present invention using the method example (2) of manufacturing the optical waveguide of the present invention. In FIGS. 8 to 13, the front and back direction of the paper is the light transfer direction of the optical frequency carrier wave.

先ず、図8に示すように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)により形成されており、且つ、該低分子量化合物(a1)を含有する活性放射線硬化性ポリマー(b)層22(以下、活性放射線硬化性ポリマー(b)層22とも記載する。)を、下層クラッド21の上に、形成させる(活性放射線硬化性ポリマー層作製工程)。このとき、該下層クラッド21としては、後述するコア部29より屈折率が低いものを用いる。また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22中に含有させる該低分子量化合物(a1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物より、屈折率が高い低分子量化合物であり、且つ、活性放射線を照射することにより、マレイミド基と反応する化合物である。   First, as shown in FIG. 8, the active radiation curable polymer (b) layer 22 (hereinafter referred to as active) formed of the active radiation curable polymer (b) and containing the low molecular weight compound (a1). A radiation curable polymer (b) layer 22 is also formed on the lower cladding 21 (active radiation curable polymer layer preparation step). At this time, the lower clad 21 has a refractive index lower than that of a core portion 29 described later. In addition, the low molecular weight compound (a1) contained in the active radiation curable polymer (b) layer 22 is the active radiation curable polymer (b) forming the active radiation curable polymer (b) layer 22. It is a low molecular weight compound having a higher refractive index than a cured product, and a compound that reacts with a maleimide group when irradiated with actinic radiation.

次いで、図9に示すように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22の表面を、フォトマスク23でマスクし、例えば、紫外線24を照射する(第一の照射工程)。このことにより、図10に示すように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22には、紫外線24が照射された部分、すなわち、露光部26と、紫外線24が照射されなかった部分、すなわち、未露光部25が存在することになる。そして、該露光部26では、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の一部のマレイミド基同士の架橋反応及び該低分子量化合物(a1)とマレイミド基の反応が起こるので、該低分子量化合物(a1)は、マレイミド基と反応して、該低分子量化合物(a1)とマレイミド基との光反応残基となることによって、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22に結合して強固に保持される。一方、該未露光部25では、該低分子量化合物(a1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22に結合することなく存在している。   Next, as shown in FIG. 9, the surface of the actinic radiation curable polymer (b) layer 22 is masked with a photomask 23 and, for example, irradiated with ultraviolet rays 24 (first irradiation step). As a result, as shown in FIG. 10, the active radiation curable polymer (b) layer 22 is irradiated with the ultraviolet ray 24, that is, the exposed portion 26, and the portion not irradiated with the ultraviolet ray 24, that is, Thus, the unexposed portion 25 exists. And in this exposure part 26, since the reaction of a part of maleimide groups of this actinic radiation curable polymer (b) and reaction of this low molecular weight compound (a1) and a maleimide group occur, this low molecular weight compound (a1 ) Reacts with the maleimide group to form a photoreactive residue between the low molecular weight compound (a1) and the maleimide group, thereby binding to the active radiation curable polymer (b) layer 22 and being firmly held. The On the other hand, in the unexposed portion 25, the low molecular weight compound (a1) is present without being bonded to the actinic radiation curable polymer (b) layer 22.

また、該第一の照射工程では、該低分子量化合物(a1)の種類によっては、活性放射線の照射により、該低分子量化合物(a1)同士の重合反応も起こる。そして、該低分子量化合物(a1)同士の重合反応も起こる場合は、該露光部26では、該第一の照射工程中に、2つ以上の該低分子量化合物(a1)が重合して該低分子量化合物(a1)の重合物が生成し、生成した該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応も起こる。そのため、該露光部26の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在することになる。   In the first irradiation step, depending on the type of the low molecular weight compound (a1), a polymerization reaction between the low molecular weight compounds (a1) occurs due to irradiation with actinic radiation. When the polymerization reaction of the low molecular weight compounds (a1) also occurs, in the exposed portion 26, two or more low molecular weight compounds (a1) are polymerized during the first irradiation step, and the low molecular weight compounds (a1) are polymerized. A polymer of the molecular weight compound (a1) is produced, and a photoreaction of the produced polymer of the low molecular weight compound (a1) and the maleimide group also occurs. Therefore, in the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) of the exposed portion 26, the low molecular weight compound (a1) having a higher refractive index than the cured product or a polymer of the low molecular weight compound (a1) and There will be a photoreactive residue with the maleimide group.

次いで、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22を該下層クラッド21ごと、加熱するか又は減圧下に置き、該未露光部25から、該低分子量化合物(a1)を揮発させる(低分子量化合物揮発工程)。このことにより、該未露光部25は、該低分子量化合物(a1)が揮発除去された未露光部27(以下、低分子量化合物除去未露光部27とも記載する。)になる(図11)。   Next, the actinic radiation curable polymer (b) layer 22 is heated together with the lower clad 21 or placed under reduced pressure to volatilize the low molecular weight compound (a1) from the unexposed portion 25 (low molecular weight compound). Volatilization process). As a result, the unexposed portion 25 becomes an unexposed portion 27 from which the low molecular weight compound (a1) has been volatilized and removed (hereinafter also referred to as a low molecular weight compound removed unexposed portion 27) (FIG. 11).

次いで、図12に示すように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22全体に、紫外線24を照射して、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22の全ての該活性放射線硬化性ポリマー(b)を硬化させる(第二の照射工程)。このことにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物層31となり、このとき、該露光部26は、コア部29になり、該低分子量化合物除去未露光部27は、中間層クラッド部28になる。   Next, as shown in FIG. 12, the entire actinic radiation curable polymer (b) layer 22 is irradiated with ultraviolet rays 24 to irradiate all the actinic radiation curable polymer (b) layer 22 with the actinic radiation curable polymer (b) layer 22. (B) is cured (second irradiation step). Accordingly, the actinic radiation curable polymer (b) layer 22 becomes a cured product layer 31 of the actinic radiation curable polymer (b), and at this time, the exposed portion 26 becomes the core portion 29, and The molecular weight compound-removed unexposed portion 27 becomes the intermediate layer cladding portion 28.

次いで、該中間層クラッド部28及び該コア部29の上に、該コア部29より屈折率が低い材料からなる上層クラッド30を作製して、光導波路40を得る。   Next, an upper clad 30 made of a material having a refractive index lower than that of the core portion 29 is formed on the intermediate layer clad portion 28 and the core portion 29 to obtain the optical waveguide 40.

該光導波路40において、該コア部29には、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を高くする化合物として作用する該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在する。一方、該中間層クラッド部28は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物のみで構成されているか、又は該中間層クラッド部28中に該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していたとしても、該コア部29に比べれば少量なので、該コア部29の屈折率は、該中間層クラッド部28の屈折率より高くなる。そして、該下層クラッド21及び該上層クラッド30は、該コア部29より屈折率が低い材料で形成されている。そのため、該コア部29は、該コア部29より屈折率の低い該下層クラッド21、該中間層クラッド部28及び該上層クラッド30に取り囲まれることになるので、該光導波路40は、光周波搬送波の光を輸送する光導波路として機能する。   In the optical waveguide 40, the core portion 29 has the low molecular weight compound (a1) or the low molecular weight compound (a1) that acts as a compound that increases the refractive index of the cured product of the active radiation curable polymer (b). There exists a photoreactive residue of a polymer of On the other hand, the intermediate layer clad portion 28 is composed only of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), or the low molecular weight compound (a1) or the low molecular weight compound is contained in the intermediate layer clad portion 28. Even if there is a photoreactive residue between the polymer (a1) and the maleimide group, the amount of the refractive index of the core portion 29 is smaller than that of the core portion 29. Higher than the rate. The lower clad 21 and the upper clad 30 are formed of a material having a refractive index lower than that of the core portion 29. Therefore, the core portion 29 is surrounded by the lower clad 21, the intermediate clad portion 28, and the upper clad 30, which have a lower refractive index than the core portion 29. It functions as an optical waveguide that transports light.

本発明の光導波路(1)では、該コア部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該コア部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該コア部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物より屈折率が高い低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している。そして、本発明の光導波路(1)では、該クラッド部は、該コア部より屈折率が低くなるように、適宜選択される。   In the optical waveguide (1) of the present invention, the core portion is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the actinic radiation curable polymer (b) that forms the core portion. In the cured product, a low molecular weight compound (a1) having a refractive index higher than that of the cured product of the active radiation curable polymer (b) forming the core portion, or a polymer and a maleimide group of the low molecular weight compound (a1) There are photoreactive residues. And in the optical waveguide (1) of this invention, this clad part is suitably selected so that a refractive index may become lower than this core part.

本発明の光導波路(1)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(1)で製造される形態例を表1に示す。表1に示す形態例は、図1〜図6で示した形態例において、該下層クラッド1及び該コア部内封上層クラッド9(該中間層クラッド部11及び該上層クラッド部12)を形成するためポリマーとして、種々のポリマーを選択することや、該活性放射線硬化性ポリマー(b)を用いることや、該活性放射線硬化性ポリマー(b)に該低分子量化合物(a2)を含有させて用いることにより、製造される。   Table 1 shows an example of an embodiment manufactured by the method example (1) for manufacturing the optical waveguide of the present invention out of the optical waveguide (1) of the present invention. The embodiment shown in Table 1 is the same as the embodiment shown in FIGS. 1 to 6 in order to form the lower cladding 1 and the core inner sealing upper cladding 9 (the intermediate cladding 11 and the upper cladding 12). By selecting various polymers as the polymer, using the actinic radiation curable polymer (b), or using the actinic radiation curable polymer (b) containing the low molecular weight compound (a2) Manufactured.

表1中、(A1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している材料である。(B1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物以外の材料により形成されており、且つ、コア部より屈折率が低い材料である。(C1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している材料である。(D1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基及び該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基のいずれも、存在していない材料である。なお、(D1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)中に該低分子量化合物(a2)を含有させて、光硬化させることにより、得られる。また、該下層クラッド及び該コア部内封上層クラッドのうちのいずれか又は両方が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されている場合、それらは、該コア部を形成している該活性放射線硬化性ポリマー(b)と同一の構造の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であっても、構造が異なる該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であってもよい。   In Table 1, (A1) is formed by a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the low molecular weight compound (a1) or the low molecular weight compound (a1) is contained in the cured product. This is a material in which a photoreactive residue of a polymer of the above and a maleimide group exists. (B1) is formed of a material other than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) and has a refractive index lower than that of the core portion. (C1) is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and in the cured product, the low molecular weight compound (a2) or a polymer of the low molecular weight compound (a2) It is a material in which a photoreactive residue with a maleimide group exists. (D1) is formed by a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and in the cured product, the low molecular weight compound (a1) or a polymer of the low molecular weight compound (a1) Neither the photoreactive residue with the maleimide group nor the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a2) or the polymer of the low molecular weight compound (a2) and the maleimide group is present. In addition, (D1) is obtained by containing the low molecular weight compound (a2) in the actinic radiation curable polymer (b) and photocuring it. When either or both of the lower clad and the core-encapsulating upper-layer clad are formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), they form the core The cured product of the actinic radiation curable polymer (b) having a structure different from that of the actinic radiation curable polymer (b) having the same structure as the actinic radiation curable polymer (b) Also good.

なお、本発明の光導波路(1)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(1)で製造される形態例は、表1に示すものに限定されるものではなく、例えば、該下層クラッド又は該コア部内封上層クラッドが、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中には、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在しているが、(A1)よりは、存在量が少ないため、該コア部より屈折率が低い材料等であるものも含まれる。   Of the optical waveguide (1) of the present invention, the embodiment manufactured by the method example (1) for manufacturing the optical waveguide of the present invention is not limited to the one shown in Table 1, but for example, The lower clad or the core encapsulating upper clad is formed of a cured product of the active radiation curable polymer (b), and the low molecular weight compound (a1) or the low molecular weight compound is contained in the cured product. Although the photoreactive residue of the polymer of (a1) and the maleimide group exists, since the abundance is smaller than that of (A1), a material having a refractive index lower than that of the core part is also included. .

また、本発明の光導波路(1)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(2)で製造される形態例を表2に示す。表2に示す形態例は、図8〜図13で示した形態例において、該下層クラッド21及び該上層クラッド30を形成するためのポリマーとして、種々のポリマーを選択することや、該活性放射線硬化性ポリマー(b)を用いることや、該活性放射線硬化性ポリマー(b)に該低分子量化合物(a1)を含有させて用いることにより、製造される。   Moreover, Table 2 shows an example of the embodiment manufactured by the method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention out of the optical waveguide (1) of the present invention. In the embodiment shown in Table 2, in the embodiment shown in FIGS. 8 to 13, various polymers can be selected as the polymer for forming the lower clad 21 and the upper clad 30, and the active radiation curing is performed. It can be produced by using a functional polymer (b) or using the actinic radiation curable polymer (b) containing the low molecular weight compound (a1).

表2中、(A2)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している材料である。(B2)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物以外の材料により形成されており、且つ、コア部より屈折率が低い材料である。(C2)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している材料である。(D2)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基及び該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基のいずれも、存在していない材料である。なお、(D2)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)中に該低分子量化合物(a2)を含有させて、光硬化させることにより、得られる。また、該下層クラッド及び該上層クラッドのうちのいずれか又は両方が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されている場合、それらは、該コア部を形成している該活性放射線硬化性ポリマー(b)と同一の構造の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であっても、構造が異なる該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であってもよい。   In Table 2, (A2) is formed by a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the low molecular weight compound (a1) or the low molecular weight compound (a1) is contained in the cured product. This is a material in which a photoreactive residue of a polymer of the above and a maleimide group exists. (B2) is formed of a material other than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) and has a refractive index lower than that of the core portion. (C2) is formed by a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and in the cured product, the low molecular weight compound (a2) or a polymer of the low molecular weight compound (a2) It is a material in which a photoreactive residue with a maleimide group exists. (D2) is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and in the cured product, the low molecular weight compound (a1) or a polymer of the low molecular weight compound (a1) Neither the photoreactive residue with the maleimide group nor the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a2) or the polymer of the low molecular weight compound (a2) and the maleimide group is present. (D2) can be obtained by allowing the actinic radiation curable polymer (b) to contain the low molecular weight compound (a2) and photocuring it. Further, when either or both of the lower clad and the upper clad are formed of a cured product of the active radiation curable polymer (b), they are the active forming the core part. It may be a cured product of the active radiation curable polymer (b) having the same structure as the radiation curable polymer (b) or a cured product of the active radiation curable polymer (b) having a different structure.

なお、本発明の光導波路(1)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(2)で製造される形態例は、表2に示すものに限定されるものではなく、例えば、該低分子量化合物揮発工程の際に、少量の該低分子量化合物(a1)が残ってしまったために、該中間層クラッド部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中には、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在しているが、(A2)よりは、存在量が少ないため、該コア部より屈折率が低い材料等であるものも含まれる。   Of the optical waveguide (1) of the present invention, the embodiment manufactured by the method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention is not limited to the one shown in Table 2, and for example, Since a small amount of the low molecular weight compound (a1) remains during the low molecular weight compound volatilization step, the intermediate clad portion is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b). And in this hardened | cured material, although the photoreaction residue of the polymer of this low molecular weight compound (a1) or this low molecular weight compound (a1) and a maleimide group exists, it exists from (A2). Since the amount is small, a material having a refractive index lower than that of the core portion is also included.

本発明の光導波路(1)では、該コア部と、該クラッド部の全部又は一部とが、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されていることが、コア部とクラッド部の線膨脹係数がほぼ同等の値を示すために、コア部とクラッド部との間で応力が発生し難くなるので、硬化収縮によるクラックの発生が起こり難くなること、類似の化学構造を取るために密着力又は接着力に優れることという利点を有する点で好ましく、該コア部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物と、該クラッド部の全部又は一部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物とが、同一のマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物であることが、特に好ましい。例えば、本発明の光導波路(1)が、本発明の光導波路を製造する方法例(1)で製造された光導波路の場合、該コア部と、少なくとも該コア部内封上層クラッドとが、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されていることが好ましく、該コア部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物と、少なくとも該コア部内封上層クラッドを形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物とが、同一の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であることが特に好ましい。また、本発明の光導波路(1)が、本発明の光導波路を製造する方法例(2)で製造された光導波路の場合、該コア部と、該中間層クラッド部とは、同一の構造の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成される。そして、本発明の光導波路(1)では、該コア部及び該クラッド部の全部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されていることが好ましく、該コア部及び該クラッド部の全部が、同一構造の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されていることが特に好ましい。   In the optical waveguide (1) of the present invention, the core portion and the clad portion are formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b). Since the linear expansion coefficient of the part shows almost the same value, it is difficult for stress to occur between the core part and the clad part, so that cracking due to hardening shrinkage hardly occurs and a similar chemical structure is taken. Therefore, it is preferable in that it has an advantage of being excellent in adhesion or adhesive force, and is a cured product of the active radiation curable polymer (b) that forms the core part, and the part that forms all or part of the cladding part. The cured product of the actinic radiation curable polymer (b) is particularly preferably a cured product of the actinic radiation curable polymer having the same maleimide group. For example, when the optical waveguide (1) of the present invention is the optical waveguide manufactured by the method example (1) for manufacturing the optical waveguide of the present invention, the core portion and at least the core portion encapsulating upper layer cladding are Preferably, it is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and a cured product of the actinic radiation curable polymer (b) that forms the core portion, and at least the core-encapsulated upper layer cladding is formed. The cured product of the actinic radiation curable polymer (b) is particularly preferably the same cured product of the actinic radiation curable polymer (b). When the optical waveguide (1) of the present invention is the optical waveguide manufactured by the method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention, the core portion and the intermediate layer cladding portion have the same structure. Of the actinic radiation curable polymer (b). In the optical waveguide (1) of the present invention, it is preferable that the core part and the clad part are all formed of a cured product of the active radiation curable polymer (b). It is particularly preferable that all of the parts are formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b) having the same structure.

本発明の第二の形態の光導波路(以下、本発明の光導波路(2)とも記載する。)は、光を伝搬するためのコア部と、該コア部に接し、該コア部より屈折率の低いクラッド部とを有する光導波路であって、
該クラッド部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、
該クラッド部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該硬化物より屈折率が低い低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している光導波路である。
The optical waveguide of the second aspect of the present invention (hereinafter also referred to as the optical waveguide (2) of the present invention) is in contact with the core portion for propagating light, and has a refractive index from the core portion. An optical waveguide having a low cladding portion,
The cladding is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b);
In the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) forming the cladding part, a low molecular weight compound (a2) having a refractive index lower than that of the cured product or a polymer of the low molecular weight compound (a2) and a maleimide group It is an optical waveguide in which a photoreactive residue exists.

なお、本発明の光導波路(2)において、「該硬化物より屈折率が低い」とは、該低分子量化合物(a)を含有させずに該活性放射線硬化性ポリマー(b)を硬化させた場合に得られる硬化物より、屈折率が低いという意味である。   In the optical waveguide (2) of the present invention, “the refractive index is lower than that of the cured product” means that the active radiation curable polymer (b) is cured without containing the low molecular weight compound (a). This means that the refractive index is lower than the cured product obtained in some cases.

本発明の光導波路(2)では、該クラッド部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該クラッド部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している。そして、本発明の光導波路(2)では、該コア部は、該クラッド部より屈折率が高くなるように、適宜選択される。   In the optical waveguide (2) of the present invention, the clad portion is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the actinic radiation curable polymer (b) forming the clad portion. In the cured product, there is a photoreactive residue between the low molecular weight compound (a2) or a polymer of the low molecular weight compound (a2) and a maleimide group. And in the optical waveguide (2) of this invention, this core part is suitably selected so that a refractive index may become higher than this clad part.

本発明の光導波路(2)を製造する方法としては、本発明の光導波路を製造する方法例(1)及び本発明の光導波路を製造する方法例(2)が挙げられる。   Examples of the method for producing the optical waveguide (2) of the present invention include a method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention and a method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention.

例えば、本発明の光導波路を製造する方法例(1)において、該下層クラッド(図1〜図6中で示した形態例では、該下層クラッド1)を、該低分子量化合物(a2)を含有する該活性放射線硬化性ポリマー(b)を光硬化させて作製し、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー(図1〜図6中で示した形態例では、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層8を形成するためのポリマー)として、該低分子量化合物(a2)を含有する該活性放射線硬化性ポリマー(b)を用い、且つ、該コア部形成用のポリマー(図1〜図6中で示した形態例では、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層2を形成するためのポリマー)として、硬化後の屈折率が、該下層クラッド及び該コア部内封上層クラッドより高い活性放射線硬化性ポリマーを用いることにより、本発明の光導波路(2)を製造することができる。   For example, in the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention, the lower clad (the lower clad 1 in the embodiment shown in FIGS. 1 to 6) contains the low molecular weight compound (a2). The actinic radiation curable polymer (b) to be produced is photocured, and the core encapsulating upper layer clad forming polymer (in the embodiment shown in FIGS. 1 to 6, the core encapsulating upper layer clad forming polymer). The active radiation curable polymer (b) containing the low molecular weight compound (a2) is used as the polymer for forming the layer 8, and the polymer for forming the core (in FIGS. 1 to 6) In the illustrated embodiment, the active radiation curable polymer (b) is a polymer for forming the layer 2), and the refractive index after curing is higher than that of the lower cladding and the core inner sealing upper cladding. For The Rukoto, it is possible to manufacture an optical waveguide (2) of the present invention.

本発明の光導波路(2)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(1)により製造される形態例を表3に示す。   Table 3 shows an example of the embodiment manufactured by the method example (1) for manufacturing the optical waveguide of the present invention out of the optical waveguide (2) of the present invention.

表3中、(E1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している材料である。(F1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物以外の材料により形成されており、且つ、下層クラッド及びコア部内封上層クラッドより、屈折率が高い材料である。(G1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している材料である。(H1)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基及び該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基のいずれも、存在していない材料である。   In Table 3, (E1) is formed by a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the low molecular weight compound (a2) or the low molecular weight compound (a2) is contained in the cured product. This is a material in which a photoreactive residue of a polymer of the above and a maleimide group exists. (F1) is formed of a material other than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and has a higher refractive index than the lower cladding and the core-encapsulating upper cladding. (G1) is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and in the cured product, the low molecular weight compound (a1) or a polymer of the low molecular weight compound (a1) It is a material in which a photoreactive residue with a maleimide group exists. (H1) is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and in the cured product, the low molecular weight compound (a1) or a polymer of the low molecular weight compound (a1) Neither the photoreactive residue with the maleimide group nor the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a2) or the polymer of the low molecular weight compound (a2) and the maleimide group is present.

なお、本発明の光導波路(2)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(1)で製造される形態例は、表3に示すものに限定されるものではなく、例えば、該コア部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在しているが、(E1)よりは、存在量が少ないため、該下層クラッド及び該コア部内封上層クラッドより、屈折率が高い材料等であるものも含まれる。   In the optical waveguide (2) of the present invention, the embodiment manufactured by the method example (1) for manufacturing the optical waveguide of the present invention is not limited to the one shown in Table 3, for example, The core part is formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the low molecular weight compound (a2) or a polymer of the low molecular weight compound (a2) and a maleimide in the cured product Although a photoreactive residue with a group exists, since the abundance is smaller than that of (E1), a material having a refractive index higher than that of the lower cladding and the core-encapsulating upper cladding is also included. .

また、例えば、本発明の光導波路を製造する方法例(2)において、該下層クラッド(図8〜図13中で示した形態例では、該下層クラッド21)及び該上層クラッド(図8〜図13中で示した形態例では、該上層クラッド30)を、該低分子量化合物(a2)を含有する該活性放射線硬化性ポリマー(b)を光硬化させて作製し、且つ、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層形成用のポリマー(図8〜図13中で示した形態例では、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層22を形成するためのポリマー)として、該低分子量化合物(a2)を含有する該活性放射線硬化性ポリマー(b)を用いることにより、本発明の光導波路(2)を製造することができる。   Further, for example, in the method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention, the lower clad (the lower clad 21 in the embodiment shown in FIGS. 8 to 13) and the upper clad (FIGS. 8 to In the embodiment shown in 13, the upper clad 30) is prepared by photocuring the active radiation curable polymer (b) containing the low molecular weight compound (a2), and the active radiation curable As a polymer for forming a polymer (b) layer (in the embodiment shown in FIGS. 8 to 13), the low molecular weight compound (a2) is used as the polymer for forming the active radiation curable polymer (b) layer 22. By using the actinic radiation curable polymer (b) containing, the optical waveguide (2) of the present invention can be produced.

また、本発明の光導波路(2)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(2)により製造される形態例を表4に示す。   In addition, Table 4 shows an example of the embodiment manufactured by the method example (2) of manufacturing the optical waveguide of the present invention out of the optical waveguide (2) of the present invention.

表4中、(E2)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している材料である。(H2)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a1)又は低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基及び該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基のいずれも、存在していない材料である。   In Table 4, (E2) is formed by a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the low molecular weight compound (a2) or the low molecular weight compound (a2) is contained in the cured product. This is a material in which a photoreactive residue of a polymer of the above and a maleimide group exists. (H2) is formed by a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and in the cured product, the low molecular weight compound (a1) or a polymer of the low molecular weight compound (a1) and maleimide None of the photoreactive residue with the group and the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a2) or the polymer of the low molecular weight compound (a2) and the maleimide group are present.

なお、本発明の光導波路(2)のうち、本発明の光導波路を製造する方法例(2)で製造される形態例は、表4に示すものに限定されるものではなく、例えば、該低分子量化合物揮発工程の際に、少量の該低分子量化合物(a2)が残ってしまったために、該コア部が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されており、且つ、該硬化物中に、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在しているが、(E2)よりは存在量が少ないため、該下層クラッド、該中間層クラッド部及び該上層クラッドより屈折率が高い材料等であるものも含まれる。   In the optical waveguide (2) of the present invention, the embodiment manufactured by the method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention is not limited to the one shown in Table 4, for example, Since a small amount of the low molecular weight compound (a2) remains during the low molecular weight compound volatilization step, the core portion is formed of a cured product of the active radiation curable polymer (b), and In the cured product, there is a photoreactive residue between the low molecular weight compound (a2) or a polymer of the low molecular weight compound (a2) and a maleimide group, but the abundance is smaller than that of (E2). In addition, the lower clad, the intermediate clad portion, and the material having a higher refractive index than the upper clad are also included.

本発明の光導波路(2)では、該コア部と、該クラッド部とが、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物により形成されていることが、コア部とクラッド部の線膨脹係数がほぼ同等の値を示すために、コア部とクラッド部との間で応力が発生し難くなるので、硬化収縮によるクラックの発生が起こり難くなること、類似の化学構造を取るために密着力又は接着力に優れることという利点を有する点で好ましく、該コア部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物と、該クラッド部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物とが、同一の該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であることが、特に好ましい。   In the optical waveguide (2) of the present invention, the core part and the clad part are formed of a cured product of the actinic radiation curable polymer (b). Show almost the same value, it is difficult for stress to be generated between the core part and the clad part, so that cracking due to curing shrinkage is less likely to occur, adhesion force or It is preferable in that it has an advantage of excellent adhesive force, and is a cured product of the actinic radiation curable polymer (b) that forms the core part, and curing of the actinic radiation curable polymer (b) that forms the cladding part. It is particularly preferable that the product is a cured product of the same actinic radiation curable polymer (b).

本発明の光導波路に係る該活性放射線硬化性ポリマー(b)は、ポリマー分子中にマレイミド基を有する。そして、該活性放射線硬化性ポリマー(b)に、活性放射線を照射することにより、一つのポリマー中のマレイミド基が、他のポリマー中のマレイミド基と架橋反応して、二量化する。このことにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)は、マレイミド基の二量体により架橋されて、光硬化し、硬化物となる。   The active radiation curable polymer (b) according to the optical waveguide of the present invention has a maleimide group in the polymer molecule. Then, by irradiating the actinic radiation curable polymer (b) with actinic radiation, the maleimide group in one polymer undergoes a crosslinking reaction with the maleimide group in the other polymer to dimerize. As a result, the actinic radiation curable polymer (b) is crosslinked with a maleimide group dimer, photocured, and becomes a cured product.

該活性放射線硬化性ポリマー(b)としては、主鎖の全部又は一部としてシクロヘキサン骨格又はシクロペンタン骨格を有し且つ側鎖としてマレイミド基を有するポリマーであることが、850nm近傍における透明性に優れ、且つ柔軟性を兼ね備えた物性を示すため、マルチモード用ポリマー光導波路材料として好ましい。   The actinic radiation curable polymer (b) is a polymer having a cyclohexane skeleton or a cyclopentane skeleton as a whole or a part of the main chain and a maleimide group as a side chain, and has excellent transparency in the vicinity of 850 nm. In addition, since it exhibits physical properties with flexibility, it is preferable as a multimode polymer optical waveguide material.

そして、該活性放射線硬化性ポリマー(b)としては、下記一般式(1)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位と、下記一般式(3)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位とが、ランダムに共重合したポリマーであり、下記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比が、10〜100%であるポリマー(以下、このようなポリマーを、活性放射線硬化性ポリマー(b−1)とも記載する。)が、光硬化反応の際の架橋が十分に行われ、且つ導波路フィルムの靭性を高くすることができるという点で、好ましい。
一般式(1):
The actinic radiation curable polymer (b) is selected from one or more structural units selected from the structural units represented by the following general formula (1) and from the structural units represented by the following general formula (3). A polymer in which one or more structural units are randomly copolymerized and the molar ratio of the structural units represented by the following general formula (1) is 10 to 100% (hereinafter, such a polymer) Is also referred to as actinic radiation curable polymer (b-1).) Is preferable in that crosslinking during the photocuring reaction is sufficiently performed and the toughness of the waveguide film can be increased.
General formula (1):

(式中、Xは、−CH−、−CH−CH−又は−O−である。mは、0〜5の整数である。R、R、R及びRのうちの1つが、下記一般式(2): (In the formula, X, -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - or -O- .m, among .R 1, R 2, R 3 and R 4 is an integer from 0 to 5 Is one of the following general formula (2):

[式中、Aは、メチレン基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のヒドロカルビレン基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のハロヒドロカルビレン基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のパーハロカルビレン基;置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のヒドロカルビレン基;置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のハロヒドロカルビレン基;あるいは置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のパーハロカルビルレン基である。R及びRは、水素原子又は炭素数1〜4のヒドロカルビル基であり、同一であっても異なってもよく、R及びRで炭素数3〜8の環を形成してもよい。]
で表わされるマレイミド基である。R、R、R及びRの残りは、水素原子;直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基;直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のハロヒドロカルビル基;あるいは直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のパーハロカルビル基であり、同一であっても異なってもよい。)
一般式(3):
[In the formula, A represents a methylene group; a linear or branched hydrocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms; a linear or branched halohydrocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms; Or a branched perhalocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms; a substituted or unsubstituted cyclic or polycyclic hydrocarbylene group having 5 to 12 carbon atoms; a substituted or unsubstituted cyclic group having 5 to 12 carbon atoms Or a polycyclic halohydrocarbylene group; or a substituted or unsubstituted C5-C12 cyclic or polycyclic perhalocarbyl group. R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 4 carbon atoms, and may be the same or different, and R 5 and R 6 may form a ring having 3 to 8 carbon atoms. . ]
Is a maleimide group represented by: The rest of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom; a linear or branched hydrocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms; a linear or branched halohydrocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms. Or a linear or branched perhalocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms, which may be the same or different. )
General formula (3):

(式中、Yは、−CH−、−CH−CH−又は−O−である。nは、0〜5の整数である。R、R、R及びR10の少なくとも1つは、1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有する直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基;1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有する直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のハロヒドロカルビル基;1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有する直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のパーハロカルビル基;1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素数1〜25のアリール基;1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素数1〜25のアラルキルペンダント基;直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基;直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のハロヒドロカルビル基;直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のパーハロカルビル基;炭素数1〜25のアリール基;あるいは炭素数1〜25のアラルキルペンダント基である。R、R、R及びR10の残りは、水素原子である。) (Wherein, Y is, -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - or -O- .n is at least .R 7, R 8, R 9 and R 10 is an integer from 0 to 5 One is a linear, branched or cyclic C1-C25 hydrocarbyl group having a heteroatom selected from one or more oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms and silicon atoms; A linear, branched or cyclic halohydrocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms having a heteroatom selected from oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom and silicon atom; one or more oxygen atoms, nitrogen atom, A linear, branched or cyclic perhalocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms having a heteroatom selected from a sulfur atom and a silicon atom; selected from one or more oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms and silicon atoms Heteroatom An aryl group having 1 to 25 carbon atoms; an aralkyl pendant group having 1 to 25 carbon atoms having a hetero atom selected from one or more oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms, and silicon atoms; linear, branched Or a linear, branched or cyclic halohydrocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms; a linear, branched or cyclic perhalocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms; carbon An aryl group having 1 to 25 carbon atoms; or an aralkyl pendant group having 1 to 25 carbon atoms, and the remainder of R 7 , R 8 , R 9 and R 10 is a hydrogen atom.)

前記一般式(2)で表わされるマレイミド基としては、下記式(2−1):   As a maleimide group represented by the general formula (2), the following formula (2-1):

で表わされる構造が挙げられる。 The structure represented by is mentioned.

なお、本発明において、「ヒドロカルビル基」とは、各炭素原子が少なくとも1つの水素原子で適宜置換された炭素骨格を含む基である。つまり、該「ヒドロカルビル基」とは、炭化水素基、又は炭化水素基の一部の水素原子が窒素原子を有する置換基又は酸素原子を有する置換基等で置換された基である。   In the present invention, the “hydrocarbyl group” is a group containing a carbon skeleton in which each carbon atom is appropriately substituted with at least one hydrogen atom. That is, the “hydrocarbyl group” is a hydrocarbon group or a group in which a part of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group is substituted with a substituent having a nitrogen atom or a substituent having an oxygen atom.

該ヒドロカルビル基としては、具体的には、例えば、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のアルキル基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜24のアルケニル基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜24のアルキニル基;直鎖状又は分岐状の基を有する炭素数5〜25のシクロアルキル基;炭素数6〜24のアリール基;炭素数7〜24のアラルキル基等が挙げられ、更に具体的にはベンジル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナルチルエチル基等が挙げられる。   Specific examples of the hydrocarbyl group include a linear or branched alkyl group having 1 to 25 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms; a linear or branched group. An alkynyl group having 2 to 24 carbon atoms; a cycloalkyl group having 5 to 25 carbon atoms having a linear or branched group; an aryl group having 6 to 24 carbon atoms; an aralkyl group having 7 to 24 carbon atoms; More specifically, benzyl group, phenylpropyl group, naphthylmethyl group, naltylethyl group and the like can be mentioned.

また、本発明において、「ハロヒドロカルビル基」とは、該ヒドロカルビル基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)が、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等のハロゲン原子で置換された基である。該ハロヒドロカルビル基としては、具体的には、例えば、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のアルキル基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)がハロゲン原子で置換された基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜24のアルケニル基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)がハロゲン原子で置換された基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜24のアルキニル基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)がハロゲン原子で置換された基;直鎖状又は分岐状の基を有する炭素数5〜25のシクロアルキル基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)がハロゲン原子で置換された基;炭素数6〜24のアリール基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)がハロゲン原子で置換された基;炭素数7〜24のアラルキル基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。   In the present invention, the “halohydrocarbyl group” means that at least one hydrogen atom (but not all hydrogen atoms) of the hydrocarbyl group is a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a fluorine atom. A group substituted with an atom. As the halohydrocarbyl group, specifically, for example, at least one hydrogen atom (but not all hydrogen atoms) of a linear or branched alkyl group having 1 to 25 carbon atoms is a halogen atom. A substituted group; a group in which at least one hydrogen atom (but not all hydrogen atoms) of a linear or branched alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms is substituted with a halogen atom; A group in which at least one hydrogen atom (but not all of the hydrogen atoms) of the branched alkynyl group having 2 to 24 carbon atoms is substituted with a halogen atom; a carbon number of 5 having a linear or branched group A group in which at least one hydrogen atom (but not all hydrogen atoms) of a cycloalkyl group of ˜25 is substituted with a halogen atom; at least one hydrogen atom of an aryl group having 6 to 24 carbon atoms A group in which (but not all hydrogen atoms) is substituted with a halogen atom; at least one hydrogen atom (but not all hydrogen atoms) in an aralkyl group having 7 to 24 carbon atoms is substituted with a halogen atom Group.

また、本発明において、「パーハロカルビル基」とは、該ヒドロカルビル基の全ての水素原子が、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等のハロゲン原子で置換された基である。該パーハロカルビル基としては、具体的には、例えば、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のアルキル基の全ての水素原子がハロゲン原子で置換された基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜24のアルケニル基の全ての水素原子がハロゲン原子で置換された基;直鎖状又は分岐状の炭素数2〜24のアルキニル基の全ての水素原子がハロゲン原子で置換された基;直鎖状又は分岐状の基を有する炭素数5〜25のシクロアルキル基の全ての水素原子がハロゲン原子で置換された基;炭素数6〜24のアリール基の全ての水素原子がハロゲン原子で置換された基;炭素数7〜24のアラルキル基の全ての水素原子がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。   In the present invention, the “perhalocarbyl group” is a group in which all hydrogen atoms of the hydrocarbyl group are substituted with halogen atoms such as a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and a fluorine atom. Specific examples of the perhalocarbyl group include, for example, a group in which all hydrogen atoms of a linear or branched alkyl group having 1 to 25 carbon atoms are substituted with halogen atoms; linear or branched carbon A group in which all hydrogen atoms of the alkenyl group having 2 to 24 are substituted with halogen atoms; a group in which all hydrogen atoms of the linear or branched alkynyl group having 2 to 24 carbon atoms are substituted with halogen atoms; A group in which all the hydrogen atoms of a cycloalkyl group having 5 to 25 carbon atoms having a linear or branched group are substituted with a halogen atom; and all the hydrogen atoms in an aryl group having 6 to 24 carbon atoms are halogen atoms. A substituted group; a group in which all the hydrogen atoms of an aralkyl group having 7 to 24 carbon atoms are substituted with halogen atoms.

該ヒドロカルビル基に係る該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基及びドデシル基等が挙げられるが、これらに限定されない。また、該ヒドロカルビル基に係る該アルケニル基としては、ビニル基、アリル基及びプロペニル基等が挙げられるが、これらに限定されない。また、該ヒドロカルビル基に係る該アルキニル基としては、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基及び2−ブチニル基等が挙げられるが、これらに限定されない。また、該ヒドロカルビル基に係る該シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロオクチル基等が挙げられるが、これらに限定されない。また、該ヒドロカルビル基に係る該アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基等が挙げられるが、これらに限定されない。該ヒドロカルビル基に係る該アラルキル基としては、ベンジル基及びフェネチル基等が挙げられるが、これらに限定されない。そして、該ハロヒドロカルビル基は、これらの基の少なくとも1つの水素原子(ただし、全ての水素原子ではない。)がハロゲン原子で置換された基であり、また、該パーハロカルビル基は、これらの基の全ての水素原子がハロゲン原子で置換された基である。   Examples of the alkyl group related to the hydrocarbyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, Examples include, but are not limited to, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, and a dodecyl group. In addition, examples of the alkenyl group related to the hydrocarbyl group include, but are not limited to, a vinyl group, an allyl group, and a propenyl group. Examples of the alkynyl group related to the hydrocarbyl group include, but are not limited to, an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 2-propynyl group, a 1-butynyl group, and a 2-butynyl group. Examples of the cycloalkyl group related to the hydrocarbyl group include, but are not limited to, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the aryl group related to the hydrocarbyl group include, but are not limited to, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group. Examples of the aralkyl group related to the hydrocarbyl group include, but are not limited to, a benzyl group and a phenethyl group. The halohydrocarbyl group is a group in which at least one hydrogen atom (but not all hydrogen atoms) of these groups is substituted with a halogen atom, and the perhalocarbyl group is a group of these groups. A group in which all hydrogen atoms are substituted with halogen atoms.

また、1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有するヒドロカルビル基とは、1又は2以上のヘテロ原子によって置換された炭素原子を有するヒドロカルビル基である。例えば、エーテル基、グリシジルエーテル基、アルコール基、カルボン酸基、エステル基、アクリル基、トリアルコキシシリル基、シリル基及びシロキシ基等の基を有するヒドロカルビル基が挙げられる。また、1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有するハロヒドロカルビル基及びパーハロカルビル基についても、ハロゲン原子での置換の有無又は数が異なること以外は、該1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有するヒドロカルビル基と同様である。   Moreover, the hydrocarbyl group having a heteroatom selected from one or more oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms and silicon atoms is a hydrocarbyl group having a carbon atom substituted by one or more heteroatoms. . Examples thereof include hydrocarbyl groups having groups such as ether groups, glycidyl ether groups, alcohol groups, carboxylic acid groups, ester groups, acrylic groups, trialkoxysilyl groups, silyl groups, and siloxy groups. In addition, the halohydrocarbyl group and the perhalocarbyl group having a heteroatom selected from one or more oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms and silicon atoms, except for the presence or number of substitution with halogen atoms, It is the same as the hydrocarbyl group having a hetero atom selected from the one or more oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms and silicon atoms.

また、本発明において、「ヒドロカルビレン基」とは、ヒドロカルビル基が1価の基であるのに対し、ヒドロカルビレン基が2価の基であること以外は、ヒドロカルビル基と同様である。同様に、本発明において、「ハロヒドロカルビレン基」とは、ハロヒドロカルビル基が1価の基であるのに対し、ハロヒドロカルビレン基が2価の基であること以外は、ハロヒドロカルビル基と同様である。同様に、本発明において、「パーハロカルビレン基」とは、パーハロカルビル基が1価の基であるのに対し、パーハロカルビレン基が2価の基であること以外は、パーハロカルビル基と同様である。   In the present invention, the “hydrocarbylene group” is the same as the hydrocarbyl group except that the hydrocarbyl group is a monovalent group, whereas the hydrocarbylene group is a divalent group. Similarly, in the present invention, the “halohydrocarbylene group” means a halohydrocarbyl group, except that the halohydrocarbyl group is a monovalent group, whereas the halohydrocarbylene group is a divalent group. It is the same. Similarly, in the present invention, the “perhalocarbylene group” is the same as the perhalocarbyl group except that the perhalocarbyl group is a monovalent group, whereas the perhalocarbylene group is a divalent group. It is.

また、本発明において、「アラルキルペンダント基」とは、アリール基で置換されている低級アルキル基を指し、例えば、ベンジル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナルチルメチル基である。   In the present invention, the “aralkyl pendant group” refers to a lower alkyl group substituted with an aryl group, such as a benzyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group, or a naltylmethyl group.

該活性放射線硬化性ポリマー(b−1)中の前記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比(%)は、「{前記一般式(1)で表わされる構造単位に該当する構造単位の合計のモル/(前記一般式(1)で表わされる構造単位に該当する構造単位の合計のモル+前記一般式(3)で表わされる構造単位に該当する構造単位の合計のモル)}×100」であり、10〜100%、好ましくは20〜60%、特に好ましくは20〜50%である。該活性放射線硬化性ポリマー(b−1)中の前記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比が、上記範囲内にあることにより、光硬化反応の際の架橋が十分に行われ、且つ導波路フィルムの靭性を高くすることができる。   The molar ratio (%) of the structural unit represented by the general formula (1) in the active radiation curable polymer (b-1) is “{the structural unit corresponding to the structural unit represented by the general formula (1). Of the total of the structural units corresponding to the structural unit represented by the general formula (1) + the total number of the structural units corresponding to the structural unit represented by the general formula (3)} × 100 ", 10 to 100%, preferably 20 to 60%, particularly preferably 20 to 50%. When the molar ratio of the structural unit represented by the general formula (1) in the active radiation curable polymer (b-1) is within the above range, crosslinking during the photocuring reaction is sufficiently performed. In addition, the toughness of the waveguide film can be increased.

また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)としては、前記一般式(1)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位と、下記式(4)で表わされる構造単位とが、ランダムに共重合したポリマーであり、前記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比が、10〜100%であるポリマー(以下、このようなポリマーを、活性放射線硬化性ポリマー(b−2)とも記載する。)が挙げられる。
式(4):
The actinic radiation curable polymer (b) includes at least one structural unit selected from the structural units represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the following formula (4): A polymer copolymerized at random, wherein the molar ratio of the structural unit represented by the general formula (1) is 10 to 100% (hereinafter, such a polymer is referred to as an actinic radiation curable polymer (b-2). ))).
Formula (4):

該活性放射線硬化性ポリマー(b−2)中の前記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比(%)は、「{前記一般式(1)で表わされる構造単位に該当する構造単位の合計のモル/(前記一般式(1)で表わされる構造単位に該当する構造単位の合計のモル+前記一般式(4)で表わされる構造単位に該当する構造単位の合計のモル)}×100」であり、10〜100%、好ましくは20〜60%、特に好ましくは20〜50%である。該活性放射線硬化性ポリマー(b−2)中の前記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比が、上記範囲内にあることにより、光硬化反応の際の架橋が十分に行われ、且つ導波路フィルムの靭性を高くすることができる。   The molar ratio (%) of the structural unit represented by the general formula (1) in the active radiation curable polymer (b-2) is “{the structural unit corresponding to the structural unit represented by the general formula (1). Of the total of the structural units corresponding to the structural unit represented by the general formula (1) + the total number of the structural units corresponding to the structural unit represented by the general formula (4)} × 100 ", 10 to 100%, preferably 20 to 60%, particularly preferably 20 to 50%. When the molar ratio of the structural unit represented by the general formula (1) in the active radiation curable polymer (b-2) is within the above range, crosslinking during the photocuring reaction is sufficiently performed. In addition, the toughness of the waveguide film can be increased.

また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)としては、下記一般式(5)で表わされる構造単位が重合したポリマー(以下、このようなポリマーを、活性放射線硬化性ポリマー(b−3)とも記載する。)が挙げられる。下記一般式(5)で表わされる構造単位中のR、R、R及びRは、前記一般式(1)で表わされる構造単位中のR、R、R及びRと同様である。
一般式(5):
The actinic radiation curable polymer (b) is a polymer obtained by polymerizing a structural unit represented by the following general formula (5) (hereinafter, such a polymer is also referred to as an actinic radiation curable polymer (b-3)). ). R 1 in the structural unit represented by the following general formula (5), R 2, R 3 and R 4, R 1, R 2, R 3 and R 4 in the structural unit represented by the general formula (1) It is the same.
General formula (5):

(式中、R、R、R及びRのうちの1つが、前記一般式(2)で表わされるマレイミド基である。R、R、R及びRの残りは、水素原子;直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基;直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のハロヒドロカルビル基;あるいは直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のパーハロカルビル基であり、同一であっても異なってもよい。) (In the formula, one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a maleimide group represented by the general formula (2). The rest of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is A hydrogen atom; a linear or branched hydrocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms; a linear or branched halohydrocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms; or a linear or branched group having 1 to 25 carbon atoms Perhalocarbyl group, which may be the same or different.)

また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)としては、前記一般式(1)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位、又は前記一般式(5)で表わされる構造単位を有するオレフィン重合ポリマーであり、前記一般式(1)で表わされる構造単位又は前記一般式(5)で表わされる構造単位の重合割合が、重合モノマー換算で、全オレフィン重合モノマーに対するモル比で10〜100%、好ましくは20〜60%、特に好ましくは20〜50%であるポリマーが挙げられる。なお、オレフィン重合ポリマーとは、重合モノマーとしてオレフィン類を用い、該オレフィン類を重合させて得られるポリマーのことである。   The actinic radiation curable polymer (b) has one or more structural units selected from the structural units represented by the general formula (1) or the structural units represented by the general formula (5). It is an olefin polymerization polymer, and the polymerization ratio of the structural unit represented by the general formula (1) or the structural unit represented by the general formula (5) is 10 to 100 in terms of a polymerization monomer in terms of a molar ratio to the total olefin polymerization monomer. %, Preferably 20-60%, particularly preferably 20-50%. The olefin polymerized polymer is a polymer obtained by using olefins as polymerization monomers and polymerizing the olefins.

該活性放射線硬化性ポリマー(b)の分子量は、特に制限されないが、好ましくは重量平均分子量(Mw)で60000〜150000であり、特に好ましくは80000〜120000である。   The molecular weight of the actinic radiation curable polymer (b) is not particularly limited, but is preferably 60000 to 150,000 in weight average molecular weight (Mw), particularly preferably 80000 to 120,000.

該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率は、好ましくは1.54〜1.60、特に好ましくは1.55〜1.59である。該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率が上記範囲内にあることにより、屈折率の調整が容易となる。   The refractive index of the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) is preferably 1.54 to 1.60, particularly preferably 1.55 to 1.59. When the refractive index of the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) is within the above range, the refractive index can be easily adjusted.

本発明の光導波路に係る該低分子量化合物(a)は、活性放射線を照射することにより、マレイミド基と反応する化合物(反応性モノマー)であり、例えば、ビニルエーテル類、チオール類、(メタ)アクリレート類が挙げられる。該低分子量化合物(a)としての該ビニルエーテル類は、ビニルエーテル基(CH=CH−O−)を有する化合物である。また、該低分子量化合物(a)としての該チオール類は、チオール基(−SH)を有する化合物である。また、該低分子量化合物(a)としての該(メタ)アクリレート類は、アクリレート基(CH=CH−CO−O−)又はメタクリレート基(CH−CH=CH−CO−O−)を有する化合物である。 The low molecular weight compound (a) according to the optical waveguide of the present invention is a compound (reactive monomer) that reacts with a maleimide group when irradiated with actinic radiation, such as vinyl ethers, thiols, and (meth) acrylates. Kind. The vinyl ethers as the low molecular weight compound (a) are compounds having a vinyl ether group (CH 2 ═CH—O—). The thiols as the low molecular weight compound (a) are compounds having a thiol group (—SH). The (meth) acrylates as the low molecular weight compound (a) have an acrylate group (CH 2 ═CH—CO—O—) or a methacrylate group (CH 3 —CH═CH—CO—O—). A compound.

該低分子量化合物(a)は、マレイミド基と光反応する反応基と共に、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を変化させるのに寄与する置換基又は元素を有する。該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を高くするのに寄与する置換基又は元素としては、例えば、フェニル基、アラルキルペンダント基等の置換基や、硫黄、鉄、鉛、金、白金、銀、銅、クロム、カドミウム、水銀、亜鉛、ヒ素、マンガン、コバルト、ニッケル、モリブデン、タングステン、錫、ビスマス等の元素が挙げられる。また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を低くするのに寄与する置換基又は元素としては、例えば、シラノール基等の置換基や、フッ素等の元素が挙げられる。なお、該チオール類中のチオール基(−SH基)は、マレイミド基と光反応する反応基であり、且つ、チオール基が反応した後のチオール基由来の硫黄元素は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率を高くする元素として機能する。   The low molecular weight compound (a) has a substituent or an element that contributes to changing the refractive index of the cured product of the active radiation curable polymer (b) together with a reactive group that photoreacts with the maleimide group. Examples of substituents or elements that contribute to increasing the refractive index of the cured product of the active radiation curable polymer (b) include substituents such as phenyl groups and aralkyl pendant groups, sulfur, iron, lead, gold , Platinum, silver, copper, chromium, cadmium, mercury, zinc, arsenic, manganese, cobalt, nickel, molybdenum, tungsten, tin, bismuth and the like. Examples of the substituent or element that contributes to lowering the refractive index of the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) include a substituent such as a silanol group and an element such as fluorine. In addition, the thiol group (-SH group) in the thiols is a reactive group that photoreacts with the maleimide group, and the sulfur element derived from the thiol group after the thiol group has reacted is the active radiation curable polymer. It functions as an element that increases the refractive index of the cured product (b).

なお、本発明の光導波路において、該低分子量化合物(a)は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基と光反応した後の構造で、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中に存在する。また、該低分子量化合物(a)が、活性放射線を照射することにより、該低分子量化合物(a)同士で重合反応する該低分子量化合物(a)の場合、該低分子量化合物(a)の重合物は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基と光反応した後の構造で、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中に存在する。   In the optical waveguide of the present invention, the low molecular weight compound (a) has a structure after photoreacting with the maleimide group of the actinic radiation curable polymer (b), and the actinic radiation curable polymer (b) is cured. It exists in things. In the case of the low molecular weight compound (a) in which the low molecular weight compound (a) undergoes a polymerization reaction between the low molecular weight compounds (a) by irradiation with actinic radiation, the polymerization of the low molecular weight compound (a) is performed. The product exists in the cured product of the active radiation curable polymer (b) in a structure after photoreacting with the maleimide group of the active radiation curable polymer (b).

該低分子量化合物(a)には、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が低いものと、高いものがあるため、該低分子量化合物(a)のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が高いものは、該低分子量化合物(a1)として用いられ、一方、該低分子量化合物(a)のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が低いものは、該低分子量化合物(a2)として用いられる。例えば、該低分子量化合物(a)としての該ビニルエーテル類は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が高いものと、低いものがあるため、該ビニルエーテル類のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が高いものは、該低分子量化合物(a1)として用いられ、一方、該ビニルエーテル類のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が低いものは、該低分子量化合物(a2)として用いられる。また、該低分子量化合物(a)としての該チオール類には、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が高いものと、低いものがあるため、該チオール類のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が高いものは、該低分子量化合物(a1)として用いられ、一方、該チオール類のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が低いものは、該低分子量化合物(a2)として用いられる。また、該低分子量化合物(a)としての該(メタ)アクリレート類には、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が高いものと、低いものがあるため、該(メタ)アクリレート類のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が高いものは、該低分子量化合物(a1)として用いられ、一方、該(メタ)アクリレート類のうち、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物よりも屈折率が低いものは、該低分子量化合物(a2)として用いられる。   Since the low molecular weight compound (a) has a lower refractive index and a higher refractive index than the cured product of the active radiation curable polymer (b), the active radiation is included in the low molecular weight compound (a). Those having a higher refractive index than the cured product of the curable polymer (b) are used as the low molecular weight compound (a1), while the active radiation curable polymer (b) of the low molecular weight compound (a). Those having a refractive index lower than that of the cured product are used as the low molecular weight compound (a2). For example, the vinyl ethers as the low molecular weight compound (a) have a higher refractive index and a lower refractive index than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b). Those having a higher refractive index than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) are used as the low molecular weight compound (a1), while among the vinyl ethers, the actinic radiation curable polymer (b) is cured. Those having a refractive index lower than that of the product are used as the low molecular weight compound (a2). Further, the thiols as the low molecular weight compound (a) include those having a higher refractive index than those of the cured product of the active radiation curable polymer (b) and those having a lower refractive index. Those having a higher refractive index than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) are used as the low molecular weight compound (a1), while among the thiols, the actinic radiation curable polymer (b) Those having a refractive index lower than that of the cured product are used as the low molecular weight compound (a2). In addition, the (meth) acrylates as the low molecular weight compound (a) include those having a higher refractive index and those having a lower refractive index than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b). ) Among the acrylates, those having a higher refractive index than the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) are used as the low molecular weight compound (a1), while among the (meth) acrylates, Those having a refractive index lower than that of the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) are used as the low molecular weight compound (a2).

また、該低分子量化合物(a)の分子量は、40〜800、好ましくは60〜500、特に好ましくは100〜200である。   The molecular weight of the low molecular weight compound (a) is 40 to 800, preferably 60 to 500, particularly preferably 100 to 200.

ここで、該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基との光反応残基について、説明する。例えば、該低分子量化合物(a)が該チオール類(R’−SH)の場合、下記反応式(A)に示すように、R’−SHを含有させた該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に活性放射線を照射すると、該活性放射線硬化性ポリマー(b)中のマレイミド基(X)(下記反応式(A)の点線で囲んだ部分)と、R’−SHとが光反応して、R’−SHとマレイミド基との光反応残基(Y1)(下記反応式(A)の点線で囲んだ部分)が生じる。このように、本発明では、該低分子量化合物(a)とマレイミド基との光反応残基とは、マレイミド基と該低分子量化合物(a)とが光反応することによって生じたものであり、言い換えると、マレイミド基に該低分子量化合物(a)を光反応させて得られる基である。つまり、該低分子量化合物(a)とマレイミド基との光反応残基は、マレイミド基の光反応後の構造及び該マレイミド基の光反応後の構造に結合する該低分子量化合物(a)の光反応後の構造からなる基であり、該低分子量化合物(a)の光反応後の構造が、マレイミド基の反応後の基に結合した基である。
反応式(A):
Here, the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a) or a polymer of the low molecular weight compound (a) and a maleimide group will be described. For example, when the low molecular weight compound (a) is the thiols (R′-SH), the active radiation curable polymer (b) containing R′-SH as shown in the following reaction formula (A) When the layer is irradiated with actinic radiation, the maleimide group (X) in the actinic radiation curable polymer (b) (the portion surrounded by the dotted line in the following reaction formula (A)) and R′-SH react with each other. , A photoreactive residue (Y1) of R′-SH and a maleimide group (a portion surrounded by a dotted line in the following reaction formula (A)) is generated. As described above, in the present invention, the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a) and the maleimide group is generated by photoreaction of the maleimide group and the low molecular weight compound (a). In other words, it is a group obtained by photoreacting the low molecular weight compound (a) to a maleimide group. That is, the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a) and the maleimide group is a photoreaction residue of the low molecular weight compound (a) that binds to the structure after the photoreaction of the maleimide group and the structure after the photoreaction of the maleimide group. It is a group consisting of a structure after the reaction, and the structure after the photoreaction of the low molecular weight compound (a) is a group bonded to the group after the reaction of the maleimide group.
Reaction formula (A):

(反応式(A)中、*は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)に結合していることを指す。) (In the reaction formula (A), * indicates that it is bonded to the actinic radiation curable polymer (b).)

なお、上記反応式(A)では、該低分子量化合物(a)とマレイミド基との光反応残基が、マレイミド基と該チオール類とのエン−チオール反応により生成する旨を説明したが、本発明では、反応形態はこれに限定されず、該低分子量化合物(a)とマレイミド基との光反応残基としては、例えば、該低分子量化合物(a)が該ビニルエーテル類、該アクリレート類又は該メタクリレート類の場合、これらの化合物が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)中のマレイミド基の二重結合と光反応することにより生じる、該ビニルエーテル類、該アクリレート類又は該メタクリレート類とマレイミド基の二重結合との光反応残基が挙げられる。また、該低分子量化合物(a)とマレイミド基との光反応残基としては、例えば、該ビニルエーテル類、該アクリレート類又は該メタクリレート類の光重合物が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)中のマレイミド基の二重結合に光反応することにより生じる光反応残基等が挙げられる。よって、反応形態を問わず、低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基とが光反応することによって生じるものは、該該低分子量化合物(a)とマレイミド基との光反応残基に含まれる。   In the above reaction formula (A), it has been explained that the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a) and the maleimide group is generated by an ene-thiol reaction between the maleimide group and the thiols. In the invention, the reaction form is not limited to this, and examples of the photoreactive residue of the low molecular weight compound (a) and the maleimide group include the low molecular weight compound (a), the vinyl ethers, the acrylates, and the In the case of methacrylates, these vinyl ethers, the acrylates, or the methacrylates and maleimide groups formed by photoreacting these compounds with double bonds of maleimide groups in the active radiation curable polymer (b). Examples include photoreactive residues with double bonds. Examples of the photoreactive residue of the low molecular weight compound (a) and the maleimide group include photopolymers of the vinyl ethers, acrylates or methacrylates in the active radiation curable polymer (b). And photoreactive residues generated by photoreaction with the double bond of the maleimide group. Therefore, regardless of the reaction form, the low molecular weight compound (a) or a polymer of the low molecular weight compound (a) and a maleimide group are photoreacted to produce the low molecular weight compound (a) and the maleimide group. It is included in the photoreactive residue.

該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中の該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基との光反応残基の量は、反応前の該低分子量化合物(a)の屈折率や該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の屈折率をどの程度変化させるかによって、適宜選択されるが、反応前の該活性放射線硬化性ポリマー(b)及び該低分子量化合物(a)の合計に対する該低分子量化合物(a)の量を、2〜50質量%として反応させた量が好ましく、5〜30質量%として反応させた量が特に好ましい。   The amount of the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a) or the polymer of the low molecular weight compound (a) and the maleimide group in the cured product of the active radiation curable polymer (b) is low before the reaction. The actinic radiation curable polymer (b) before the reaction is appropriately selected depending on how much the refractive index of the molecular weight compound (a) and the refractive index of the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) are changed. The amount of the low molecular weight compound (a) is preferably 2 to 50% by mass, and the amount of 5 to 30% by mass is particularly preferable.

該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物は、マレイミド基同士の光架橋反応を促進させるために、光伝播損失が増大しない範囲で、光ラジカル発生剤等の光反応促進剤を含有することができる。該光ラジカル発生剤としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド等が挙げられる。
また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物は、光架橋反応の感光波長領域を拡大するために、光伝播損失が増大しない範囲で、光増感剤を含有することができる。該光増感剤としては、2−クロルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロプロポキシチオキサントン等のチオキサントンや、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン、アントラキノン等のキノン類が挙げられる。
The cured product of the actinic radiation curable polymer (b) contains a photoreaction accelerator such as a photoradical generator as long as the light propagation loss does not increase in order to promote the photocrosslinking reaction between maleimide groups. Can do. Examples of the photo radical generator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, and the like. Is mentioned.
In addition, the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) can contain a photosensitizer within a range where the light propagation loss does not increase in order to expand the photosensitive wavelength region of the photocrosslinking reaction. Examples of the photosensitizer include thioxanthone such as 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone and 2-chloropropoxythioxanthone, and quinones such as 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone and anthraquinone.

また、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物は、必要に応じて、密着助剤、酸化防止剤、溶解促進剤等の添加剤を含有してもよい。該密着助剤としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルノルボルネン、トリエトキシノルボルネン、トリメトキシシリルエチルノルボルネン等のシランカップリング剤が挙げられる。   Moreover, the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) may contain additives such as an adhesion aid, an antioxidant, and a dissolution accelerator, if necessary. Examples of the adhesion assistant include vinyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylnorbornene. And silane coupling agents such as triethoxynorbornene and trimethoxysilylethylnorbornene.

本発明の光導波路の該コア部及び該クラッド部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物以外の材料としては、光導波路のコア部又はクラッド部の材料として用いることができるものであれば、特に制限されないが、透明性が高く、耐熱性、耐吸水特性に優れ、更には、機械的強度が高く、該活性放射性硬化性ポリマー(b)の硬化物と密着性に優れるものが好ましい。なお、該コア部及び該クラッド部を形成する該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物以外の材料は、光導波路のどの部分に使用するのか、コア部として使用する場合は、クラッド部より屈折率をどの程度高くするのか、クラッド部として使用する場合は、コア部より屈折率をどの程度低くするのか等を考慮して、適宜選択される。   As a material other than the cured product of the active radiation curable polymer (b) forming the core part and the clad part of the optical waveguide of the present invention, a material that can be used as a material for the core part or the clad part of the optical waveguide. Is not particularly limited, but has high transparency, excellent heat resistance and water absorption resistance, and further has high mechanical strength and excellent adhesion to the cured product of the active radiation curable polymer (b). Is preferred. The material other than the cured product of the active radiation curable polymer (b) that forms the core part and the clad part is used in which part of the optical waveguide. When the refractive index is to be increased, and when used as a cladding portion, the refractive index is appropriately selected in consideration of how much the refractive index is to be lower than the core portion.

このような材料としては、例えば、光重合性のノルボルネン系樹脂、光重合性のアクリル酸系樹脂、光重合性のメタクリル酸系樹脂、光重合性のエポキシ樹脂、光重合性のオキセタン系樹脂、光重合性のスチレン系樹脂等が挙げられ、これらのうち、特に透明性に優れるという点で、光重合性の脂環式エポキシ樹脂が好ましい。また、これらは、1種でも2種以上の組合せでもよい。   Examples of such materials include a photopolymerizable norbornene resin, a photopolymerizable acrylic acid resin, a photopolymerizable methacrylic acid resin, a photopolymerizable epoxy resin, a photopolymerizable oxetane resin, Photopolymerizable styrenic resins and the like can be mentioned, and among these, a photopolymerizable alicyclic epoxy resin is preferable because it is particularly excellent in transparency. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該下層クラッドは、従来より公知の方法により作製される。通常、任意の基板、例えば、ガラス基板、シリコンウェハー等の上に、該下層クラッド形成用の活性放射線硬化性ポリマーを溶解させたワニスを塗布し、溶剤を除去後、光硬化させて、該基板上に該下層クラッドを作製する。   The lower clad according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention is produced by a conventionally known method. Usually, a varnish in which the actinic radiation curable polymer for forming the lower clad is dissolved is applied onto an arbitrary substrate, for example, a glass substrate, a silicon wafer, etc. The lower cladding is formed on the top.

本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該活性放射線硬化性ポリマー層作成工程において、該下層クラッド上に、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層を作製する方法としては、例えば、先ず、該活性放射線硬化性ポリマー(b)及び該低分子量化合物(a)を、溶媒に溶解又は分散させて、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層作製用ワニスを作成し、このワニスを該下層クラッド上に、ドクターブレード、円コーター、スプレーコーター、ダイコーター、コンマコーター等により塗布し、次いで、該ワニスから該溶剤を揮発させて、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層を作製する方法が挙げられる。この方法において、該溶剤は、該低分子量化合物(a)より沸点が低いものであればよく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレンが挙げられる。また、該ワニスには、必要に応じて、該光反応促進剤、該光増感剤、該添加剤を添加することができる。   In the actinic radiation curable polymer layer preparation step according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention, as a method for producing the actinic radiation curable polymer (b) layer on the lower clad, for example, First, the actinic radiation curable polymer (b) and the low molecular weight compound (a) are dissolved or dispersed in a solvent to prepare a varnish for preparing the actinic radiation curable polymer (b) layer. On the lower clad, it is applied with a doctor blade, a circular coater, a spray coater, a die coater, a comma coater or the like, and then the solvent is volatilized from the varnish to produce the active radiation curable polymer (b) layer. A method is mentioned. In this method, the solvent only needs to have a lower boiling point than the low molecular weight compound (a), and examples thereof include toluene, xylene, and mesitylene. Moreover, this photoreaction accelerator, this photosensitizer, and this additive can be added to this varnish as needed.

本発明の光導波路を製造する方法例(2)係る該第一の照射工程は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に、パターン形状のマスクをし、活性放射線を照射する工程である。   The first irradiation step according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention is a step of irradiating the active radiation curable polymer (b) layer with a pattern mask and irradiating with active radiation.

該第一の照射工程において、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に照射する活性放射線としては、光反応を生じさせることができるものであればよく、例えば、可視光線、紫外線、赤外線、レーザー光線、電子線、X線等が挙げられる。これらのうち、紫外線、レーザー光線が好ましい。   In the first irradiation step, the active radiation to be applied to the active radiation curable polymer (b) layer may be any radiation that can cause a photoreaction, and examples thereof include visible light, ultraviolet light, infrared light, and laser light. , Electron beam, X-ray and the like. Of these, ultraviolet rays and laser beams are preferred.

該マスクは、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に、活性放射線が照射されないようにするためのものである。そして、該低分子量化合物(a)として、該低分子量化合物(a1)を用いる場合、該第一の照射工程で活性放射線が照射された露光部はコア部となり、活性放射線が照射されなかった未露光部は中間層クラッド部となるので、該マスクのパターン形状を、中間層クラッド部のパターン形状となるようにする。一方、該低分子量化合物(a)として、該低分子量化合物(a2)を用いる場合、該第一の照射工程で活性放射線が照射された露光部は中間層クラッド部となり、活性放射線が照射されなかった未露光部はコア部となるので、該マスクのパターン形状を、コア部のパターン形状となるようにする。   The mask is for preventing the active radiation curable polymer (b) layer from being irradiated with active radiation. When the low molecular weight compound (a1) is used as the low molecular weight compound (a), the exposed portion irradiated with the active radiation in the first irradiation step becomes a core portion, and the active radiation is not irradiated. Since the exposed portion becomes the intermediate layer cladding portion, the pattern shape of the mask is made to be the pattern shape of the intermediate layer cladding portion. On the other hand, when the low molecular weight compound (a2) is used as the low molecular weight compound (a), the exposed portion irradiated with actinic radiation in the first irradiation step becomes an intermediate clad portion and is not irradiated with actinic radiation. Since the unexposed portion becomes the core portion, the pattern shape of the mask is made to be the pattern shape of the core portion.

該第一の照射工程において、活性放射線の照射量は、適宜選択されるが、該第一の照射工程では、該低分子量化合物(a)がマレイミド基と反応する程度の照射量を選択すればよい。該第一の照射工程は、該低分子量化合物(a)をマレイミド基と反応させることにより、該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物を該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基と反応させることが目的であるので、該第二の照射工程で、マレイミド基同士の架橋反応により、該活性放射線硬化性ポリマー(b)を硬化させるための照射量よりも、照射量が少なくてもよい。例えば、活性放射線が紫外線の場合、200〜450nmを含む光源、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプを使用して、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に、500〜2000mJ/cmの紫外線を照射する。また、活性放射線の照射量は、活性放射線の照射強度及び照射時間により、調節できる。例えば、照射強度が10〜40mW/cmの紫外線を、100〜300秒間照射する。 In the first irradiation step, the irradiation amount of the active radiation is appropriately selected. In the first irradiation step, if the irradiation amount is such that the low molecular weight compound (a) reacts with the maleimide group. Good. In the first irradiation step, the low molecular weight compound (a) is reacted with a maleimide group, whereby the low molecular weight compound (a) or a polymer of the low molecular weight compound (a) is converted into the active radiation curable polymer ( Since the purpose is to react with the maleimide group of b), in the second irradiation step, by the crosslinking reaction between maleimide groups, the irradiation dose for curing the actinic radiation curable polymer (b), The irradiation amount may be small. For example, when the actinic radiation is ultraviolet, a light source containing 200 to 450 nm, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, or a metal halide lamp is used, and the actinic radiation curable polymer (b) layer is 500 to 2000 mJ / cm. Irradiate 2 ultraviolet rays. Moreover, the irradiation amount of actinic radiation can be adjusted with the irradiation intensity and irradiation time of actinic radiation. For example, ultraviolet rays having an irradiation intensity of 10 to 40 mW / cm 2 are irradiated for 100 to 300 seconds.

そして、該第一の照射工程では、該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物がマレイミド基と結合することによって、活性放射線が照射された露光部では、該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物が、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基と反応して、該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基との光反応残基が生成する。   In the first irradiation step, the low molecular weight compound (a) or a polymer of the low molecular weight compound (a) is bonded to a maleimide group, so that the low molecular weight is exposed in the exposed area irradiated with active radiation. The polymer of the compound (a) or the low molecular weight compound (a) reacts with the maleimide group of the actinic radiation curable polymer (b) to form the low molecular weight compound (a) or the low molecular weight compound (a). A photoreactive residue between the polymer and the maleimide group is generated.

本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該低分子量化合物揮発工程では、加熱下又は減圧下で、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層のうちの活性放射線が照射されなかった未露光部から、該低分子量化合物(a)を揮発させる。なお、加熱下又は減圧下でとは、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層を、加熱すること、減圧下に置くこと、又は加熱しながら減圧することを指す。   In the low molecular weight compound volatilization step according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention, the active radiation in the active radiation curable polymer (b) layer was not irradiated under heating or under reduced pressure. The low molecular weight compound (a) is volatilized from the unexposed area. The term “under heating or under reduced pressure” refers to heating the active radiation curable polymer (b) layer, placing it under a reduced pressure, or reducing the pressure while heating.

該低分子量化合物揮発工程において、加熱温度又は減圧度は、未露光部の該活性放射線硬化性ポリマー(b)層中の該低分子量化合物(a)の含有量が、所定の含有量以下となるように、該活性放射線硬化性ポリマー(b)及び該低分子量化合物(a)の種類等により、適宜選択されるが、該加熱温度は、好ましくは50〜180℃、特に好ましくは80〜150℃であり、また、減圧度は、通常0.1〜0.5kPa、好ましくは0.1〜0.3kPaである。また、加熱時間又は減圧時間は、未露光部の該活性放射線硬化性ポリマー(b)層中の該低分子量化合物(a)の含有量が、所定の含有量以下となるように、適宜選択される。   In the low molecular weight compound volatilization step, the heating temperature or the degree of reduced pressure is such that the content of the low molecular weight compound (a) in the actinic radiation curable polymer (b) layer in the unexposed area is not more than a predetermined content. As described above, the heating temperature is preferably 50 to 180 ° C., particularly preferably 80 to 150 ° C., depending on the type of the active radiation curable polymer (b) and the low molecular weight compound (a). The degree of vacuum is usually 0.1 to 0.5 kPa, preferably 0.1 to 0.3 kPa. Further, the heating time or the reduced pressure time is appropriately selected so that the content of the low molecular weight compound (a) in the actinic radiation curable polymer (b) layer in the unexposed part is not more than a predetermined content. The

活性放射線が照射されなかった未露光部の該活性放射線硬化性ポリマー(b)層中では、該低分子量化合物(a)は、マレイミド基とは結合していないので、加熱下又は減圧下で、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層から揮発する。そのため、該低分子量化合物揮発工程を行うことにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層中に、該活性放射線硬化性ポリマー層作製工程で作製した該活性放射線硬化性ポリマー(b)層中の含有量と同程度の量の該低分子量化合物(a)の光反応物を含有する部分と、該低分子量化合物(a)の光反応物を含有しない又は含有量が低減された部分とを形成させることができる。   In the actinic radiation curable polymer (b) layer in the unexposed area that has not been irradiated with actinic radiation, since the low molecular weight compound (a) is not bonded to a maleimide group, under heating or under reduced pressure, Volatilizes from the active radiation curable polymer (b) layer. Therefore, by performing the low molecular weight compound volatilization step, the active radiation curable polymer (b) layer prepared in the active radiation curable polymer layer preparation step is added to the active radiation curable polymer layer (b) layer. Forming a portion containing the photoreactant of the low molecular weight compound (a) in the same amount as the content and a portion not containing the photoreactant of the low molecular weight compound (a) or having a reduced content Can be made.

本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該第二の照射工程では、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層全体に、活性放射線を照射して、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層全体のマレイミド基に、架橋反応を起こさせることにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)を硬化する工程である。   In the second irradiation step according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention, the active radiation curable polymer (b) layer is irradiated with active radiation to the active radiation curable polymer ( b) A step of curing the actinic radiation curable polymer (b) by causing a crosslinking reaction in the maleimide groups of the entire layer.

該第二の照射工程において、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に照射する活性放射線は、該第一の照射工程において、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に照射する活性放射線と同様である。該第二の照射工程において、活性放射線の照射量は、適宜選択され、該活性放射線硬化性ポリマー(b)のマレイミド基同士が架橋反応を起こして、該活性放射線硬化性ポリマー(b)が光硬化するような照射量が選択される。例えば、活性放射線が紫外線の場合、200〜450nmを含む光源、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプを使用して、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層に、2000〜10000mJ/cmの紫外線を照射する。例えば、照射強度が20〜40mW/cmの紫外線を、100〜300秒間照射する。 In the second irradiation step, the active radiation applied to the active radiation curable polymer (b) layer is the same as the active radiation applied to the active radiation curable polymer (b) layer in the first irradiation step. It is. In the second irradiation step, the irradiation amount of the actinic radiation is appropriately selected, the maleimide groups of the actinic radiation curable polymer (b) undergo a crosslinking reaction, and the actinic radiation curable polymer (b) is irradiated with light. A dose that cures is selected. For example, when the actinic radiation is ultraviolet, a light source including 200 to 450 nm, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, or a metal halide lamp is used, and the actinic radiation curable polymer (b) layer is coated with 2000 to 10,000 mJ / cm. Irradiate 2 ultraviolet rays. For example, ultraviolet rays having an irradiation intensity of 20 to 40 mW / cm 2 are irradiated for 100 to 300 seconds.

そして、該第二の照射工程を行うことにより、該活性放射線硬化性ポリマー(b)層は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物層になる。   And by performing this 2nd irradiation process, this actinic radiation curable polymer (b) layer becomes a hardened | cured material layer of this actinic radiation curable polymer (b).

本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該上層クラッド作製工程では、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物層の上に、上層クラッドを作製して、光導波路を得る。   In the upper-layer cladding manufacturing step according to the method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention, an upper-layer cladding is manufactured on the cured layer of the active radiation curable polymer (b) to obtain an optical waveguide. .

本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該下層クラッドは、本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該下層クラッドと同様である。   The lower cladding according to the method example (1) for manufacturing the optical waveguide of the present invention is the same as the lower cladding according to the method example (2) for manufacturing the optical waveguide of the present invention.

本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該コア部形成用ポリマー層作成工程において、該下層クラッドの上に、該活性放射線を照射することにより硬化するコア部形成用のポリマー層を形成させる方法は、ポリマー層の形成に、該コア部形成用のポリマーを用いる以外は、本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該活性放射線硬化性ポリマー層作成工程と同様である。   In the core layer forming polymer layer forming step according to the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention, the core layer forming polymer layer is cured by irradiating the active radiation on the lower clad. The method of forming an active radiation curable polymer layer according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention is the same as the method for producing the optical waveguide of the present invention except that the polymer for forming the core part is used for forming the polymer layer. It is.

本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該コア部硬化工程は、活性放射線を照射することにより、該露光部の該コア部形成用のポリマーを光硬化する工程であるので、活性放射線を照射する対象が、該コア部形成用のポリマー層であること及び該フォトマスクを用いること以外は、本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該第二の照射工程と同様である。   Since the core portion curing step according to the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention is a step of photocuring the polymer for forming the core portion of the exposed portion by irradiating actinic radiation, The second irradiation step according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention, except that the target to be irradiated with actinic radiation is the polymer layer for forming the core part and the photomask is used. It is the same.

そして、該コア部硬化工程を行うことにより、該コア部形成用のポリマー層の露光部が、硬化物となる。   And by performing this core part hardening process, the exposure part of the polymer layer for this core part formation turns into hardened | cured material.

本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該現像工程は、該未露光部を現像液で除去する工程である。なお、該現像液としては、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、リモネン、デカリン等の有機溶剤が挙げられる。これらの有機溶剤は、1種でも2種以上の組合せでもよい。また、該現像液の溶解性をコントロールするために、水や、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類のような貧溶媒を、該有機溶剤に添加することもできる。   The developing step according to the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention is a step of removing the unexposed portion with a developer. Examples of the developer include organic solvents such as toluene, xylene, mesitylene, tetrahydrofuran, cyclohexane, cyclopentanone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, limonene, and decalin. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. In order to control the solubility of the developer, a poor solvent such as water or alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol can be added to the organic solvent.

本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層形成工程において、該下層クラッド及び該コア部の上に、コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層を形成させる方法は、ポリマー層の形成に、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマーを用いる以外は、本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該活性放射線硬化性ポリマー層作成工程と同様である。   In the polymer layer forming step for forming the core encapsulating upper layer clad according to the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention, a polymer layer for forming the core encapsulating upper layer cladding is formed on the lower layer cladding and the core portion. The method of forming the active radiation curable polymer layer according to the method example (2) for producing the optical waveguide of the present invention, except that the polymer for forming the polymer layer is formed by using the core-encapsulating upper layer clad forming polymer. It is the same.

そして、本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層形成工程を行うことにより、該下層クラッド及び該コア部の上に、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層を形成させる。   Then, by performing the polymer layer forming step for forming the core-encapsulated upper layer clad according to the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention, the core-encapsulated upper layer is formed on the lower clad and the core unit. A polymer layer for forming a clad is formed.

本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該コア部内封上層クラッド硬化工程は、活性放射線を照射することにより、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマーを硬化する工程であるので、活性放射線を照射する対象が、該コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層であること以外は、本発明の光導波路を製造する方法例(2)に係る該第二の照射工程と同様である。   Since the core part encapsulating upper layer clad curing step according to the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention is a process of curing the core encapsulating upper layer clad forming polymer by irradiating with active radiation, It is the same as that of this 2nd irradiation process which concerns on the example (2) of methods of manufacturing the optical waveguide of this invention except that the object which irradiates actinic radiation is the polymer layer for this core part encapsulating upper layer clad formation.

そして、本発明の光導波路を製造する方法例(1)に係る該コア部内封上層クラッド硬化工程を行うことにより、該下層クラッド及び該コア部の上に、該コア部内封上層クラッドを形成させて、光導波路を得る。   Then, the core-encapsulating upper-layer cladding is formed on the lower-layer cladding and the core by performing the core-encapsulating upper-layer cladding curing step according to the method example (1) for producing the optical waveguide of the present invention. Thus, an optical waveguide is obtained.

本発明の光導波路(1)及び(2)では、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の種類、該低分子量化合物(a)の種類及び該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基との光反応残基の存在量を、適宜選択することにより、コア部とクラッド部との屈折率の差を調整することができる。該コア部と該クラッド部との屈折率の差は、特に限定されないが、好ましくは0.3〜4.0%、特に好ましくは0.5〜2.5%である。なお、該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基との光反応残基の存在量は、光反応前の該活性放射線硬化性ポリマー(b)中の該低分子量化合物(a)の含有量により調節される。   In the optical waveguides (1) and (2) of the present invention, the kind of the active radiation curable polymer (b), the kind of the low molecular weight compound (a), the low molecular weight compound (a) or the low molecular weight compound (a The refractive index difference between the core portion and the clad portion can be adjusted by appropriately selecting the abundance of the photoreactive residue between the polymer and the maleimide group. The difference in refractive index between the core portion and the clad portion is not particularly limited, but is preferably 0.3 to 4.0%, particularly preferably 0.5 to 2.5%. In addition, the abundance of the photoreactive residue between the low molecular weight compound (a) or the polymer of the low molecular weight compound (a) and the maleimide group is the amount of the actinic radiation curable polymer (b) before the photoreaction. It is adjusted by the content of the low molecular weight compound (a).

本発明の光導波路(1)及び(2)では、コア部を形成する硬化物中又はクラッド部を構成する硬化物中のいずれか、あるいは、両方には、該硬化物の屈折率を変化させる該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している。そのため、本発明の光導波路(1)及び(2)では、該低分子量化合物(a)の種類や該低分子量化合物(a)又は該低分子量化合物(a)の重合物とマレイミド基との光反応残基の存在量を選択することにより、光導波路のコア部とクラッド部との屈折率の差を調節することができるので、コア部及びクラッド部の形成用のポリマーの種類だけで調節する場合に比べ、光導波路のコア部とクラッド部との屈折率の差の調節が容易である。   In the optical waveguides (1) and (2) of the present invention, the refractive index of the cured product is changed either in the cured product forming the core part or in the cured product forming the cladding part, or both. A photoreactive residue between the low molecular weight compound (a) or a polymer of the low molecular weight compound (a) and a maleimide group exists. Therefore, in the optical waveguides (1) and (2) of the present invention, the kind of the low molecular weight compound (a) and the light of the low molecular weight compound (a) or the polymer of the low molecular weight compound (a) and the maleimide group By selecting the abundance of the reactive residue, the difference in refractive index between the core and cladding of the optical waveguide can be adjusted, so adjustment is made only by the type of polymer for forming the core and cladding. Compared to the case, it is easy to adjust the difference in refractive index between the core portion and the clad portion of the optical waveguide.

また、コア部及びクラッド部の形成用のポリマーの種類だけでコア部とクラッド部との屈折率の差を調節した従来の光導波路では、コア部を形成するためのポリマーとクラッド部を形成するためのポリマーを、同一の構造又は似た構造を有するポリマーにすることはできなかったが、本発明の光導波路では、コア部を形成するためのポリマーとクラッド部を形成するためのポリマーを、同一の構造又は似た構造を有するポリマーにすることができる。   Further, in the conventional optical waveguide in which the difference in refractive index between the core part and the clad part is adjusted only by the kind of polymer for forming the core part and the clad part, the polymer and the clad part for forming the core part are formed. However, in the optical waveguide of the present invention, the polymer for forming the core portion and the polymer for forming the cladding portion are not able to be made into a polymer having the same structure or a similar structure. It can be a polymer having the same structure or a similar structure.

上記では、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物の用途が、光導波路の場合について説明したが、例えば、ホログラフィー、ポリマー光ファイバー、マイクロレンズ、プリズム等の用途等、種々のポリマー材料としても適用可能である。   In the above description, the use of the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) has been described for the case of an optical waveguide. However, various polymer materials such as holography, polymer optical fiber, microlens, prism, etc. Applicable.

すなわち、本発明の活性放射線硬化性ポリマーの硬化物は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であり、且つ、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該低分子量化合物(a1)又は該低分子量化合物(a1)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している活性放射線硬化性ポリマーの硬化物である。また、本発明の活性放射線硬化性ポリマーの硬化物は、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物であり、且つ、該活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物中には、該低分子量化合物(a2)又は該低分子量化合物(a2)の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在している活性放射線硬化性ポリマーの硬化物である。これらの本発明の活性放射線硬化性ポリマーの硬化物は、ホログラフィー、ポリマー光ファイバー、マイクロレンズ、プリズム等の用途に、好適に用いられる。   That is, the cured product of the actinic radiation curable polymer of the present invention is a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) This is a cured product of an actinic radiation curable polymer in which a photoreactive residue between a molecular weight compound (a1) or a polymer of the low molecular weight compound (a1) and a maleimide group exists. The cured product of the actinic radiation curable polymer of the present invention is a cured product of the actinic radiation curable polymer (b), and the cured product of the actinic radiation curable polymer (b) This is a cured product of an actinic radiation curable polymer in which a photoreactive residue between a polymer of the molecular weight compound (a2) or the low molecular weight compound (a2) and a maleimide group exists. These cured products of the actinic radiation curable polymer of the present invention are suitably used for applications such as holography, polymer optical fiber, microlens, and prism.

以下、本発明の実施例を比較例と対比して説明し、その効果を実証する。なお、これらの実施例は本発明の一実施態様を示すものであり、本発明はこれらに限定されない。   Examples of the present invention will be described below in comparison with comparative examples to demonstrate the effects. In addition, these Examples show one embodiment of this invention, and this invention is not limited to these.

(実施例1)
(1)活性放射線硬化性ポリマーの合成
水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、デシルノルボルネン(DeNB)8.4g(35.9mmol)、フェニルエチルノルボルネン(PENB)5.3g(27.0mmol)およびジメチルマレイミドノルボルネン(DMMINB)6.2g(27.0mmol)を500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
次に、100mLバイアルビン中に下記化学式(6)で表わされるNi触媒1.74g(3.6mmol)と脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
この下記化学式(6)で表わされるNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記3種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン(THF)60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g(濃度30%)、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30%水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60℃に設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、ジメチルマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマー#1(下記式(7−1)で表わされる構造単位と、下記式(7−2)で表わされる構造単位と、下記式(7−3)で表わされる構造単位とが、ランダムに共重合したポリマー)を得た。ポリマー#1の分子量分布は、GPC測定によりMw=10万、Mn=4万、ポリマー#1中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、デシルノルボルネン構造単位(下記式(7−1))が40mol%、フェニルエチルノルボルネン構造単位(下記式(7−2))が30mol%、ジメチルマレイミドノルボルネン構造単位(下記式(7−3))が30mol%であり、屈折率はメトリコンにより1.56(測定波長;633nm)であった。
化学式(6):
Example 1
(1) Synthesis of actinic radiation curable polymer 8.4 g (35.9 mmol) of decylnorbornene (DeNB), phenylethyl in a glove box whose moisture and oxygen concentrations were both controlled to 1 ppm or less and filled with dry nitrogen Weigh 5.3 g (27.0 mmol) of norbornene (PENB) and 6.2 g (27.0 mmol) of dimethylmaleimide norbornene (DMMINB) into a 500 mL vial, add 60 g of dehydrated toluene and 11 g of ethyl acetate, and add a silicon sealer. Covered and sealed the top.
Next, 1.74 g (3.6 mmol) of Ni catalyst represented by the following chemical formula (6) and 10 mL of dehydrated toluene are weighed in a 100 mL vial, put a stirrer chip and sealed, and the catalyst is thoroughly stirred to completely Dissolved in.
When 1 mL of the Ni catalyst solution represented by the following chemical formula (6) is accurately weighed with a syringe, and quantitatively injected into the vial bottle in which the above three types of norbornene are dissolved and stirred at room temperature for 1 hour, a marked increase in viscosity occurs. Was confirmed. At this point, the stopper was removed, 60 g of tetrahydrofuran (THF) was added, and the mixture was stirred to obtain a reaction solution.
In a 100 mL beaker, 9.5 g of acetic anhydride, 18 g of hydrogen peroxide (concentration 30%) and 30 g of ion-exchanged water were added and stirred to prepare an aqueous solution of peracetic acid on the spot. Next, the total amount of this aqueous solution was added to the above reaction solution and stirred for 12 hours to reduce Ni.
Next, the treated reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower aqueous layer was removed, and then 100 mL of a 30% aqueous solution of isopropyl alcohol was added and vigorously stirred. The aqueous layer was removed after standing and completely separating the two layers. After repeating this water washing process three times in total, the oil layer was dropped into a large excess of acetone to reprecipitate the polymer produced, separated from the filtrate by filtration, and then in a vacuum dryer set at 60 ° C. By performing heat drying for 12 hours, actinic radiation curable polymer # 1 having a dimethylmaleimide group (a structural unit represented by the following formula (7-1), a structural unit represented by the following formula (7-2), A polymer in which a structural unit represented by the following formula (7-3) was randomly copolymerized was obtained. The molecular weight distribution of the polymer # 1 is Mw = 100,000, Mn = 40,000 by GPC measurement, and the molar ratio of each structural unit in the polymer # 1 is decylnorbornene structural unit (the following formula (7-1) )) Is 40 mol%, phenylethylnorbornene structural unit (the following formula (7-2)) is 30 mol%, dimethylmaleimide norbornene structural unit (the following formula (7-3)) is 30 mol%, and the refractive index is 1 according to Metricon. .56 (measurement wavelength; 633 nm).
Chemical formula (6):

式(7−1)〜(7−3): Formulas (7-1) to (7-3):

なお、上記式(7−1)〜(7−3)中、各構造単位のカッコの右下の数字は、ポリマー中の各構造単位のmol%を表わすのであって、各構造単位が連続していることを表わすものではない。   In the above formulas (7-1) to (7-3), the numbers on the lower right of the parentheses of each structural unit represent mol% of each structural unit in the polymer, and each structural unit is continuous. It does not represent what you are doing.

(2)活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV1の調製
精製した上記ポリマー#1 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキシルアクリレートモノマー(大阪有機化学工業製 V#155、CAS#3066−71−5、分子量154、沸点200℃/101kPa)0.1gを加え、均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV1を得た。
このとき、シクロヘキシルアクリレートモノマーの反応基(アクリレート基)のモル数に対するマレイミド基のモル数の比は、0.05であった。
(2) Preparation of actinic radiation curable polymer layer forming varnish V1 10 g of the purified polymer # 1 was weighed into a 100 mL glass container, 40 g of mesitylene, 0.01 g of antioxidant Irganox 1076 (manufactured by Ciba Geigy), cyclohexyl Add 0.1 g of acrylate monomer (Osaka Organic Chemical Co., Ltd. V # 155, CAS # 3066-71-5, molecular weight 154, boiling point 200 ° C./101 kPa) and uniformly dissolve, then filter through 0.2 μm PTFE filter To obtain a clean varnish V1 for forming an active radiation curable polymer layer.
At this time, the ratio of the number of moles of maleimide groups to the number of moles of reactive groups (acrylate groups) of the cyclohexyl acrylate monomer was 0.05.

(3)下層クラッドの作製
シリコンウエハ上に感光性ノルボルネン樹脂組成物(Avatrel2000Pワニス)をドクターブレードにより均一に塗布した後、45℃の乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、塗布された全面に紫外線を100mJ照射し、乾燥機中120℃で1時間加熱して、塗膜を硬化させて、下層クラッドを形成させた。形成された下層クラッドは、厚みが20μmであり、無色透明であり、屈折率は1.52(測定波長;633nm)であった。
(3) Production of lower layer clad A photosensitive norbornene resin composition (Avatrel 2000P varnish) was uniformly applied on a silicon wafer with a doctor blade, and then placed in a dryer at 45 ° C. for 15 minutes. After completely removing the solvent, the entire coated surface was irradiated with 100 mJ of ultraviolet light and heated in a dryer at 120 ° C. for 1 hour to cure the coating film to form a lower clad. The formed lower clad had a thickness of 20 μm, was colorless and transparent, and had a refractive index of 1.52 (measurement wavelength: 633 nm).

(4)コア部及び中間層クラッド部の形成
上記下層クラッド上に活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV1をドクターブレードによって均一に塗布した後、45℃の乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を2000mJ/cm照射した(照射強度20mW/cmの紫外線を100秒照射)。マスクを取り去り、乾燥機中45℃で30分、85℃で30分、150℃で1時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。
次に、活性放射線硬化性ポリマー層全面に紫外線を5000mJ/cm照射し(照射強度20mW/cmの紫外線を250秒照射)、150℃で1時間加熱して、活性放射線硬化性ポリマー層を硬化させて、厚みが50μmのコア部及び中間層クラッド部を形成させた。このとき、コア部は、無色透明であり、屈折率は1.55であり、また、中間層クラッド部は、無色透明であり、屈折率は1.54であった。
(4) Formation of core part and intermediate | middle layer clad part After apply | coating the actinic radiation curable polymer layer forming varnish V1 uniformly on the said lower layer clad with a doctor blade, it was thrown into a 45 degreeC drying machine for 15 minutes. After completely removing the solvent, a photomask was pressure-bonded and irradiated with ultraviolet rays of 2000 mJ / cm 2 (irradiation with ultraviolet rays having an irradiation intensity of 20 mW / cm 2 for 100 seconds). The mask was removed, and heating was performed in three stages in a dryer at 45 ° C. for 30 minutes, 85 ° C. for 30 minutes, and 150 ° C. for 1 hour. It was confirmed that a very clear waveguide pattern appeared after heating.
Next, the entire surface of the actinic radiation curable polymer layer was irradiated with ultraviolet rays at 5000 mJ / cm 2 (irradiated with ultraviolet rays having an irradiation intensity of 20 mW / cm 2 for 250 seconds) and heated at 150 ° C. for 1 hour to form an active radiation curable polymer layer. Curing was performed to form a core portion and an intermediate layer cladding portion having a thickness of 50 μm. At this time, the core part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.55, and the intermediate layer cladding part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.54.

(5)上層クラッドの形成
ポリエーテルスルホン(PES)フィルム上に、予め乾燥厚み20μmになるようにAvatrel2000Pを積層させたドライフィルムを、上記コア部及び中間層クラッド部に貼り合わせ、140℃に設定された真空ラミネーターに投入して熱圧着を行った後、紫外線を100mJ全面照射し乾燥機中120℃で1時間加熱して、Avatrel2000Pを硬化させて、上層クラッドを形成させ、光導波路を得た。このとき、上層クラッドは、無色透明であり、屈折率は1.52であった。
(5) Formation of upper layer clad A dry film in which Avatrel 2000P was laminated in advance so as to have a dry thickness of 20 μm on a polyethersulfone (PES) film was bonded to the core part and the intermediate layer clad part, and set to 140 ° C. After being put into the vacuum laminator and thermocompression bonded, the entire surface was irradiated with ultraviolet rays at 100 mJ and heated in a dryer at 120 ° C. for 1 hour to cure Avatrel 2000P to form an upper clad to obtain an optical waveguide . At this time, the upper clad was colorless and transparent, and the refractive index was 1.52.

(6)光導波路の損失評価
850nmVCSEL(面発光レーザー)より発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して上記光導波路に導入し、200μmφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。尚、測定にはカットバック法を採用した。導波路長を横軸にとり、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失は0.03dB/cmと算出することができた。
(6) Loss Evaluation of Optical Waveguide Light emitted from an 850 nm VCSEL (surface emitting laser) was introduced into the optical waveguide via a 50 μmφ optical fiber, and received by a 200 μmφ optical fiber to measure the light intensity. In addition, the cutback method was employ | adopted for the measurement. When the waveguide length is plotted on the horizontal axis and the insertion loss is plotted on the vertical axis, the measured values are neatly arranged on a straight line, and the propagation loss can be calculated as 0.03 dB / cm from the inclination.

(実施例2)
(1)活性放射線硬化性ポリマーの合成
公知の手法(例えば特開2003−252963号公報)を用いて、DMMINBモノマーの開環メタセシス重合を行い、ジメチルマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマー#2(下記式(8)で表わされる構造単位が重合したポリマー)を得た。
式(8):
(Example 2)
(1) Synthesis of actinic radiation curable polymer Using known methods (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-252963), ring-opening metathesis polymerization of DMMINB monomer is performed, and actinic radiation curable polymer # 2 having a dimethylmaleimide group ( A polymer in which the structural unit represented by the following formula (8) was polymerized was obtained.
Formula (8):

ポリマー#2の分子量分布は、GPC測定によりMw=8万、Mn=3万、屈折率はメトリコンにより1.57(測定波長;633nm)であった。   The molecular weight distribution of Polymer # 2 was Mw = 80,000, Mn = 30,000 by GPC measurement, and the refractive index was 1.57 (measurement wavelength: 633 nm) by Metricon.

(2)活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV2の調製
精製した上記ポリマー#2 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキシルアクリレートモノマー(大阪有機化学工業製 V#155、CAS#3066−71−5、分子量154、沸点200℃/101kPa)0.1gを加え、均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV2を得た。
このとき、シクロヘキシルアクリレートモノマーの反応基(アクリレート基)のモル数に対するマレイミド基のモル数の比は、0.2であった。
(2) Preparation of varnish V2 for forming actinic radiation curable polymer layer 10 g of the purified polymer # 2 was weighed into a 100 mL glass container, 40 g of mesitylene, 0.01 g of an antioxidant Irganox 1076 (manufactured by Ciba Geigy), cyclohexyl Add 0.1 g of acrylate monomer (Osaka Organic Chemical Co., Ltd. V # 155, CAS # 3066-71-5, molecular weight 154, boiling point 200 ° C./101 kPa) and uniformly dissolve, then filter through 0.2 μm PTFE filter To obtain a clean varnish V2 for forming an active radiation curable polymer layer.
At this time, the ratio of the number of moles of maleimide groups to the number of moles of reactive groups (acrylate groups) of the cyclohexyl acrylate monomer was 0.2.

(3)下層クラッドの作製
実施例1と同様にして行った。
(3) Preparation of lower clad It carried out similarly to Example 1.

(4)コア部及び中間層クラッド部の形成
上記下層クラッド上に活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV2をドクターブレードによって均一に塗布を行った後、45℃の乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を2000mJ/cm照射した(照射強度20mW/cmの紫外線を100秒照射)。マスクを取り去り、乾燥機中45℃で30分、85℃で30分、150℃で1時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。
次に、活性放射線硬化性ポリマー層全面に紫外線を5000mJ/cm照射し(照射強度20mW/cmの紫外線を250秒照射)、150℃で1時間加熱して、活性放射線硬化性ポリマー層を硬化させて、厚みが50μmのコア部及び中間層クラッド部を形成させた。このとき、コア部は、無色透明であり、屈折率は1.56であり、また、中間層クラッド部は、無色透明であり、屈折率は1.55であった。
(4) Formation of core part and intermediate | middle layer clad part After apply | coating the active radiation curable polymer layer forming varnish V2 on the said lower layer clad with a doctor blade uniformly, it injected | threw-in to 45 degreeC drying machine for 15 minutes. After completely removing the solvent, a photomask was pressure-bonded and irradiated with ultraviolet rays of 2000 mJ / cm 2 (irradiation with ultraviolet rays having an irradiation intensity of 20 mW / cm 2 for 100 seconds). The mask was removed, and heating was performed in three stages in a dryer at 45 ° C. for 30 minutes, 85 ° C. for 30 minutes, and 150 ° C. for 1 hour. It was confirmed that a very clear waveguide pattern appeared after heating.
Next, the entire surface of the actinic radiation curable polymer layer was irradiated with ultraviolet rays at 5000 mJ / cm 2 (irradiated with ultraviolet rays having an irradiation intensity of 20 mW / cm 2 for 250 seconds) and heated at 150 ° C. for 1 hour to form an active radiation curable polymer layer. Curing was performed to form a core portion and an intermediate layer cladding portion having a thickness of 50 μm. At this time, the core part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.56, and the intermediate layer cladding part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.55.

(5)上層クラッドの形成
実施例1と同様の方法で行い、光導波路を得た。
(5) Formation of upper clad It carried out by the method similar to Example 1, and obtained the optical waveguide.

(6)光導波路の損失評価
実施例1と同様の方法で行ったところ、伝搬損失は0.04dB/cmと算出することができた。
(6) Optical waveguide loss evaluation When the same method as in Example 1 was used, the propagation loss could be calculated as 0.04 dB / cm.

(実施例3)
(1)活性放射線硬化性ポリマーの合成
実施例1と同様にして、活性放射線硬化性ポリマー#1を得た。
(Example 3)
(1) Synthesis of actinic radiation curable polymer In the same manner as in Example 1, actinic radiation curable polymer # 1 was obtained.

(2)活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV3の調製
精製した上記ポリマー#1 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、2−エチルへキシル−(3−メルカプトプロピオネート)(丸善石油化学社製、CAS#50448−95−8、分子量218.36、沸点145℃/5.3kPa)0.05gを加え、均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV3を得た。
このとき、2−エチルへキシル−(3−メルカプトプロピオネート)の反応基(メルカプト基(−SH))のモル数に対するマレイミド基のモル数の比は、0.13であった。
(2) Preparation of varnish V3 for forming actinic radiation curable polymer layer 10 g of the purified polymer # 1 was weighed into a 100 mL glass container, and 40 g of mesitylene, an antioxidant Irganox 1076 (manufactured by Ciba Geigy) 0.01 g, 2 0.05 g of ethylhexyl- (3-mercaptopropionate) (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd., CAS # 50448-95-8, molecular weight 218.36, boiling point 145 ° C./5.3 kPa) is added and dissolved uniformly. Then, filtration was performed with a 0.2 μm PTFE filter to obtain a clean actinic radiation curable polymer layer forming varnish V3.
At this time, the ratio of the number of moles of the maleimide group to the number of moles of the reactive group (mercapto group (—SH)) of 2-ethylhexyl- (3-mercaptopropionate) was 0.13.

(3)下層クラッドの作製
実施例1と同様にして行った。
(3) Preparation of lower clad It carried out similarly to Example 1.

(4)コア部及び中間層クラッド部の形成
上記下層クラッド上に活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV3をドクターブレードによって均一に塗布した後、45℃の乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を1000mJ/cm照射した(照射強度10mW/cmの紫外線を100秒照射)。マスクを取り去り、乾燥機中45℃で30分、85℃で30分、150℃で1時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。
次に、活性放射線硬化性ポリマー層全面に紫外線を6000mJ/cm照射し(照射強度25mW/cmの紫外線を240秒照射)、150℃で1時間加熱して、活性放射線硬化性ポリマー層を硬化させて、厚みが50μmのコア部及び中間層クラッド部を形成させた。このとき、コア部は、無色透明であり、屈折率は1.55であり、また、中間層クラッド部は、無色透明であり、屈折率は1.54であった。
(4) Formation of core part and intermediate | middle layer clad part After apply | coating varnish V3 for actinic radiation curable polymer layer formation uniformly with a doctor blade on the said lower layer clad, it injected | thrown-in to the 45 degreeC drying machine for 15 minutes. After completely removing the solvent, a photomask was pressure-bonded and irradiated with ultraviolet rays at 1000 mJ / cm 2 (irradiation with ultraviolet rays having an irradiation intensity of 10 mW / cm 2 for 100 seconds). The mask was removed, and heating was performed in three stages in a dryer at 45 ° C. for 30 minutes, 85 ° C. for 30 minutes, and 150 ° C. for 1 hour. It was confirmed that a very clear waveguide pattern appeared after heating.
Next, the entire surface of the actinic radiation curable polymer layer was irradiated with ultraviolet rays at 6000 mJ / cm 2 (irradiated with ultraviolet rays having an irradiation intensity of 25 mW / cm 2 for 240 seconds) and heated at 150 ° C. for 1 hour to form an active radiation curable polymer layer. Curing was performed to form a core portion and an intermediate layer cladding portion having a thickness of 50 μm. At this time, the core part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.55, and the intermediate layer cladding part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.54.

(5)上層クラッドの形成
実施例1と同様にして行い、光導波路を得た。
(5) Formation of upper layer clad It carried out similarly to Example 1 and obtained the optical waveguide.

(6)光導波路の損失評価
実施例1と同様にして行ったところ、伝搬損失は0.03dB/cmと算出することができた。
(6) Loss evaluation of optical waveguide When performed in the same manner as in Example 1, the propagation loss was calculated to be 0.03 dB / cm.

(比較例1)
(1)活性放射線硬化性ポリマーの合成
水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、デシルノルボルネン(DeNB)6.7g(28.7mmol)、フェニルエチルノルボルネン(PENB)13.3g(66.9mmol)を500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
次に、100mLバイアルビン中に前記化学式(6)で表わされるNi触媒1.85g(3.8mmol)と脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。
この前記化学式(6)で表わされるNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、THF60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g(濃度30%)、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。
次に、処理の完了した反応液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30%水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60℃に設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、活性放射線硬化性ポリマー#3(下記式(9−1)で表わされる構造単位と、下記式(9−2)で表わされる構造単位とが、ランダムに共重合したポリマー)を得た。ポリマー#3の分子量分布はGPC測定によりMw=12万、Mn=5万、ポリマー#3中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、デシルノルボルネン構造単位(下記式(9−1))が30mol%、フェニルエチルノルボルネン構造単位(下記式(9−2))が70mol%であり、屈折率はメトリコンにより1.55(測定波長;633nm)であった。
式(9−1)〜(9−2):
(Comparative Example 1)
(1) Synthesis of actinic radiation curable polymer 6.7 g (28.7 mmol) of decylnorbornene (DeNB), phenylethyl in a glove box whose water and oxygen concentrations were both controlled to 1 ppm or less and filled with dry nitrogen 13.3 g (66.9 mmol) of norbornene (PENB) was weighed into a 500 mL vial, 60 g of dehydrated toluene and 11 g of ethyl acetate were added, and the top was sealed with a silicon sealer.
Next, 1.85 g (3.8 mmol) of the Ni catalyst represented by the chemical formula (6) and 10 mL of dehydrated toluene are weighed in a 100 mL vial, put a stirrer chip and sealed, and the catalyst is thoroughly stirred to completely Dissolved in.
When 1 mL of the Ni catalyst solution represented by the chemical formula (6) is accurately weighed with a syringe, and quantitatively injected into the vial bottle in which the two types of norbornene are dissolved and stirred at room temperature for 1 hour, a marked increase in viscosity occurs. Was confirmed. At this point, the stopper was removed, and 60 g of THF was added and stirred to obtain a reaction solution.
In a 100 mL beaker, 9.5 g of acetic anhydride, 18 g of hydrogen peroxide (concentration 30%) and 30 g of ion-exchanged water were added and stirred to prepare an aqueous solution of peracetic acid on the spot. Next, the total amount of this aqueous solution was added to the above reaction solution and stirred for 12 hours to reduce Ni.
Next, the treated reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower aqueous layer was removed, and then 100 mL of a 30% aqueous solution of isopropyl alcohol was added and vigorously stirred. The aqueous layer was removed after standing and completely separating the two layers. After repeating this water washing process three times in total, the oil layer was dropped into a large excess of acetone to reprecipitate the polymer produced, separated from the filtrate by filtration, and then in a vacuum dryer set at 60 ° C. By conducting heat drying for 12 hours, actinic radiation curable polymer # 3 (a structural unit represented by the following formula (9-1) and a structural unit represented by the following formula (9-2) are randomly copolymerized. Polymer). The molecular weight distribution of polymer # 3 is Mw = 120,000, Mn = 50,000 by GPC measurement, and the molar ratio of each structural unit in polymer # 3 is decylnorbornene structural unit (following formula (9-1) ) Was 30 mol%, phenylethyl norbornene structural unit (the following formula (9-2)) was 70 mol%, and the refractive index was 1.55 (measurement wavelength: 633 nm) by metricon.
Formulas (9-1) to (9-2):

なお、上記式(9−1)〜(9−2)中、各構造単位のカッコの右下の数字は、ポリマー中の各構造単位のmol%を表わすのであって、各構造単位が連続していることを表わすものではない。   In the above formulas (9-1) to (9-2), the numbers on the lower right of the parentheses of each structural unit represent mol% of each structural unit in the polymer, and each structural unit is continuous. It does not represent what you are doing.

(2)活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV4の調製
精製した上記ポリマー#3 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキシルアクリレートモノマー(大阪有機化学工業製 V#155、CAS#3066−71−5、分子量154、沸点200℃/101kPa)1g、ラジカル発生剤イカルガキュア651(長瀬産業製、CAS#24650−42−8)0.01gを加え、均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV4を得た。
(2) Preparation of varnish V4 for forming actinic radiation curable polymer layer 10 g of the purified polymer # 3 was weighed into a 100 mL glass container, 40 g of mesitylene, 0.01 g of an antioxidant Irganox 1076 (manufactured by Ciba Geigy), cyclohexyl Acrylate monomer (Osaka Organic Chemical Industry V # 155, CAS # 3066-71-5, molecular weight 154, boiling point 200 ° C./101 kPa) 1 g, radical generator Icargacure 651 (Nagase Sangyo, CAS # 24650-42-8) 0.01 g was added and uniformly dissolved, followed by filtration with a 0.2 μm PTFE filter to obtain a clean varnish V4 for forming an active radiation curable polymer layer.

(3)下層クラッドの作製
実施例1と同様と同様にして行った。
(3) Production of lower clad It was carried out in the same manner as in Example 1.

(4)コア部及び中間層クラッド部の形成
上記下層クラッド上に活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV4をドクターブレードによって均一に塗布した後、45℃の乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を2000mJ/cm照射した。マスクを取り去り、乾燥機中45℃で30分、85℃で30分、200℃で1時間と三段階で加熱を行った。加熱後、導波路パターンはうっすらとしか観測されなかった。
次に、活性放射線硬化性ポリマー層全面に紫外線を5000mJ/cm照射し、150℃で1時間加熱し、厚みが50μmのコア部及び中間層クラッドを得た。このとき、コア部は、無色透明であり、屈折率は1.550であり、また、中間層クラッド部は、無色透明であり、屈折率は1.547であった。
(4) Formation of core part and intermediate | middle layer clad part After apply | coating the active radiation curable polymer layer forming varnish V4 on the said lower layer clad with a doctor blade uniformly, it injected | threw-in to 45 degreeC drying machine for 15 minutes. After completely removing the solvent, a photomask was pressed and irradiated with ultraviolet rays at 2000 mJ / cm 2 . The mask was removed, and heating was performed in three stages: 45 ° C. for 30 minutes, 85 ° C. for 30 minutes, and 200 ° C. for 1 hour. After heating, the waveguide pattern was only slightly observed.
Next, the entire surface of the actinic radiation curable polymer layer was irradiated with ultraviolet rays at 5000 mJ / cm 2 and heated at 150 ° C. for 1 hour to obtain a core portion and an intermediate layer clad having a thickness of 50 μm. At this time, the core part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.550, and the intermediate layer cladding part was colorless and transparent, and the refractive index was 1.547.

(5)上層クラッドの形成
実施例1と同様にして行い、光導波路を得た。
(5) Formation of upper layer clad It carried out similarly to Example 1 and obtained the optical waveguide.

(6)光導波路の損失評価
実施例1と同様にして行ったところ、伝搬損失は5dB/cmであった。
(6) Loss evaluation of optical waveguide When performed in the same manner as in Example 1, the propagation loss was 5 dB / cm.

(比較例2)
(1)活性放射線硬化性ポリマーの合成
実施例1と同様にして、活性放射線硬化性ポリマー#1を得た。
(Comparative Example 2)
(1) Synthesis of actinic radiation curable polymer In the same manner as in Example 1, actinic radiation curable polymer # 1 was obtained.

(2)活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV5の調製
精製した上記ポリマー#1 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキサン(CAS#110−82−7)1gを加え、均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV5を得た。
(2) Preparation of varnish V5 for forming actinic radiation curable polymer layer 10 g of the purified polymer # 1 was weighed into a 100 mL glass container, and 40 g of mesitylene, 0.01 g of antioxidant Irganox 1076 (manufactured by Ciba Geigy), cyclohexane After adding 1 g of (CAS # 110-82-7) and dissolving it uniformly, it was filtered through a 0.2 μm PTFE filter to obtain clean actinic radiation curable polymer layer forming varnish V5.

(3)下層クラッドの作製
実施例1と同様にして行った。
(3) Preparation of lower clad It carried out similarly to Example 1.

(4)中間硬化物層の形成
上記下層クラッド上に活性放射線硬化性ポリマー層形成用ワニスV5をドクターブレードによって均一に塗布した後、45℃の乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を2000mJ/cm照射した。マスクを取り去り、乾燥機中45℃で30分、85℃で30分、120℃で1時間と三段階で加熱を行った。加熱後、導波路パターンは全く観測されなかった。
次に、活性放射線硬化性ポリマー層全面に紫外線を5000mJ/cm照射し、150℃で1時間加熱して、活性放射線硬化性ポリマー層を硬化させて、厚みが50μmの硬化物層を形成させた。
(4) Formation of Intermediate Cured Product Layer After the actinic radiation curable polymer layer forming varnish V5 was uniformly applied on the lower clad by a doctor blade, it was put into a dryer at 45 ° C. for 15 minutes. After completely removing the solvent, a photomask was pressed and irradiated with ultraviolet rays at 2000 mJ / cm 2 . The mask was removed, and heating was performed in three stages in a dryer at 45 ° C. for 30 minutes, 85 ° C. for 30 minutes, and 120 ° C. for 1 hour. After heating, no waveguide pattern was observed.
Next, the entire surface of the actinic radiation curable polymer layer is irradiated with ultraviolet rays at 5000 mJ / cm 2 and heated at 150 ° C. for 1 hour to cure the actinic radiation curable polymer layer to form a cured product layer having a thickness of 50 μm. It was.

(5)上層クラッドの形成
実施例1と同様にして行い、光導波路を得た。
(5) Formation of upper layer clad It carried out similarly to Example 1 and obtained the optical waveguide.

(6)光導波路の損失評価
導波路構造が確認できなかったため測定を行わなかった。
(6) Evaluation of optical waveguide loss Measurement was not performed because the waveguide structure could not be confirmed.

本発明の光導波路を製造する方法例(1)の形態例を示す模式的な断面図(1)である。It is typical sectional drawing (1) which shows the form example of the method example (1) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(1)の形態例を示す模式的な断面図(2)である。It is typical sectional drawing (2) which shows the example of a method example (1) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(1)の形態例を示す模式的な断面図(3)である。It is typical sectional drawing (3) which shows the form example of the method example (1) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(1)の形態例を示す模式的な断面図(4)である。It is typical sectional drawing (4) which shows the form example of the method example (1) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(1)の形態例を示す模式的な断面図(5)である。It is typical sectional drawing (5) which shows the form example of the method example (1) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(1)の形態例を示す模式的な断面図(6)である。It is typical sectional drawing (6) which shows the form example of the method example (1) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(1)の形態例を示す模式的な断面図(7)である。It is typical sectional drawing (7) which shows the form example of the method example (1) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(2)の形態例を示す模式的な断面図(1)である。It is typical sectional drawing (1) which shows the form example of the method example (2) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(2)の形態例を示す模式的な断面図(2)である。It is typical sectional drawing (2) which shows the example of a method example (2) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(2)の形態例を示す模式的な断面図(3)である。It is typical sectional drawing (3) which shows the example of a method example (2) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(2)の形態例を示す模式的な断面図(4)である。It is typical sectional drawing (4) which shows the example of a method example (2) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(2)の形態例を示す模式的な断面図(5)である。It is typical sectional drawing (5) which shows the example of a method example (2) which manufactures the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路を製造する方法例(2)の形態例を示す模式的な断面図(6)である。It is typical sectional drawing (6) which shows the form example of the method example (2) which manufactures the optical waveguide of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、21 下層クラッド
2、22 活性放射線硬化性ポリマー(b)層
3、23 フォトマスク
4、24 紫外線
5、26 露光部
6、25 未露光部
7、29 コア部
8 コア部内封上層クラッド形成用ポリマー層
9 コア部内封上層クラッド
10、40 光導波路
11 中間層クラッド部
12 上層クラッド部
27 低分子量化合物除去未露光部
28 中間層クラッド部
29 コア部
30 上層クラッド
31 活性放射線硬化性ポリマー(b)の硬化物層
1, 21 Lower clad 2, 22 Active radiation curable polymer (b) Layer 3, 23 Photomask 4, 24 UV 5, 26 Exposed part 6, 25 Unexposed part 7, 29 Core part 8 Polymer layer 9 Core-encapsulated upper-layer cladding 10, 40 Optical waveguide 11 Intermediate-layer cladding 12 Upper-layer cladding 27 Low-molecular weight compound removal unexposed portion 28 Intermediate-layer cladding 29 Core-portion 30 Upper-layer cladding 31 Active radiation curable polymer (b) Hardened material layer

本発明によれば、コア部とクラッド部との屈折率の調整が容易となる。   According to the present invention, it is easy to adjust the refractive indexes of the core part and the clad part.

Claims (16)

光を伝搬するためのコア部と、該コア部に接し、該コア部より屈折率の低いクラッド部とを有する光導波路であって、
該コア部が、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物により形成されており、
該コア部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していること
を特徴とする光導波路。
An optical waveguide having a core part for propagating light and a clad part in contact with the core part and having a lower refractive index than the core part,
The core part is formed of a cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group,
In the cured product of the active radiation curable polymer having a maleimide group forming the core part, a low molecular weight compound having a higher refractive index than the cured product, or a photoreactive residue of a polymer of the low molecular weight compound and a maleimide group An optical waveguide characterized by the presence of
光を伝搬するためのコア部と、該コア部に接し、該コア部より屈折率の低いクラッド部とを有する光導波路であって、
該クラッド部が、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物により形成されており、
該クラッド部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が低い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していること
を特徴とする光導波路。
An optical waveguide having a core part for propagating light and a clad part in contact with the core part and having a lower refractive index than the core part,
The cladding is formed of a cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group,
In the cured product of the actinic radiation curable polymer having a maleimide group forming the cladding part, a low molecular weight compound having a refractive index lower than that of the cured product, or a photoreactive residue of the polymer of the low molecular weight compound and the maleimide group An optical waveguide characterized by the presence of
前記クラッド部の全部又は一部が、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物により形成されていることを特徴とする請求項1記載の光導波路。   2. The optical waveguide according to claim 1, wherein all or part of the clad portion is formed of a cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group. 前記クラッド部の全部又は一部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が低い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していることを特徴とする請求項3記載の光導波路。   In the cured product of the active radiation curable polymer having a maleimide group that forms all or part of the cladding part, a low molecular weight compound having a lower refractive index than the cured product or a polymer of the low molecular weight compound and a maleimide group 4. The optical waveguide according to claim 3, wherein the photoreactive residue is present. 前記コア部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物と、前記クラッド部の全部又は一部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物とが、同一のマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物であることを特徴とする請求項3又は4いずれか1項記載の光導波路。   The cured product of the active radiation curable polymer having a maleimide group forming the core portion and the cured product of the active radiation curable polymer having a maleimide group forming all or part of the cladding portion are the same maleimide group. 5. The optical waveguide according to claim 3, wherein the optical waveguide is a cured product of an actinic radiation curable polymer having the following properties. 前記コア部が、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物により形成されていることを特徴とする請求項2記載の光導波路。   3. The optical waveguide according to claim 2, wherein the core portion is formed of a cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group. 前記コア部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していることを特徴とする請求項6記載の光導波路。   In the cured product of the active radiation curable polymer having a maleimide group forming the core part, a low molecular weight compound having a higher refractive index than the cured product, or a photoreactive residue of the polymer of the low molecular weight compound and the maleimide group The optical waveguide according to claim 6, wherein the optical waveguide is present. 前記コア部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物と、前記クラッド部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物とが、同一のマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物であることを特徴とする請求項6又は7いずれか1項記載の光導波路。   The active radiation curable polymer cured product of the active radiation curable polymer having maleimide groups forming the core portion and the cured product of the active radiation curable polymer having maleimide groups forming the clad portion have the same maleimide group. The optical waveguide according to claim 6, wherein the optical waveguide is a cured product of a conductive polymer. 前記マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーが、主鎖の全部又は一部としてシクロヘキサン骨格又はシクロペンタン骨格を有し且つ側鎖としてマレイミド基を有するポリマーであることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項記載の光導波路。   The active radiation curable polymer having a maleimide group is a polymer having a cyclohexane skeleton or a cyclopentane skeleton as a whole or a part of a main chain and a maleimide group as a side chain. The optical waveguide according to any one of claims. 前記マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーが、下記一般式(1)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位、又は下記一般式(5)で表わされる構造単位を有するオレフィン重合ポリマーであり、下記一般式(1)で表わされる構造単位又は下記一般式(5)で表わされる構造単位の重合割合が、重合モノマー換算で、全オレフィン重合モノマーに対するモル比で10〜100%であることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項記載の光導波路。
一般式(1):

(式中、Xは、−CH−、−CH−CH−又は−O−である。mは、0〜5の整数である。R、R、R及びRのうちの1つが、下記一般式(2):

[式中、Aは、メチレン基、あるいは直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基、あるいは置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基である。R及びRは、水素原子又は炭素数1〜4のヒドロカルビル基であり、同一であっても異なってもよく、R及びRで炭素数3〜8の環を形成してもよい。]
で表わされるマレイミド基である。R、R、R及びRの残りは、水素原子、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基又はパーハロカルビル基であり、同一であっても異なってもよい。)
一般式(5):

(式中、R、R、R及びRのうちの1つが、下記一般式(2):

[式中、Aは、メチレン基、あるいは直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基、あるいは置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基である。R及びRは、水素原子又は炭素数1〜4のヒドロカルビル基であり、同一であっても異なってもよく、R及びRで炭素数3〜8の環を形成してもよい。]
で表わされるマレイミド基である。R、R、R及びRの残りは、水素原子、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基又はパーハロカルビル基であり、同一であっても異なってもよい。)
Olefin polymerization in which the active radiation curable polymer having a maleimide group has one or more structural units selected from structural units represented by the following general formula (1), or structural units represented by the following general formula (5) The polymerization ratio of the structural unit represented by the following general formula (1) or the structural unit represented by the following general formula (5), which is a polymer, is 10 to 100% in terms of a polymerization monomer in terms of a molar ratio to the total olefin polymerization monomer. The optical waveguide according to claim 1, wherein the optical waveguide is provided.
General formula (1):

(In the formula, X, -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - or -O- .m, among .R 1, R 2, R 3 and R 4 is an integer from 0 to 5 Is one of the following general formula (2):

[In the formula, A represents a methylene group, a linear or branched hydrocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms, a halohydrocarbylene group or a perhalocarbylene group, or a substituted or unsubstituted carbon number of 5; -12 cyclic or polycyclic hydrocarbylene groups, halohydrocarbylene groups or perhalocarbylene groups. R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 4 carbon atoms, and may be the same or different, and R 5 and R 6 may form a ring having 3 to 8 carbon atoms. . ]
Is a maleimide group represented by: The rest of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom, a linear or branched C 1-25 hydrocarbyl group, halohydrocarbyl group or perhalocarbyl group, which may be the same or different. Also good. )
General formula (5):

(In the formula, one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is represented by the following general formula (2):

[In the formula, A represents a methylene group, a linear or branched hydrocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms, a halohydrocarbylene group or a perhalocarbylene group, or a substituted or unsubstituted carbon number of 5; -12 cyclic or polycyclic hydrocarbylene groups, halohydrocarbylene groups or perhalocarbylene groups. R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 4 carbon atoms, and may be the same or different, and R 5 and R 6 may form a ring having 3 to 8 carbon atoms. . ]
Is a maleimide group represented by: The rest of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom, a linear or branched C 1-25 hydrocarbyl group, halohydrocarbyl group or perhalocarbyl group, which may be the same or different. Also good. )
前記マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーが、下記一般式(1)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位と、下記一般式(3)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位とが、ランダムに共重合したポリマーであり、下記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比が、10〜100%であることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項記載の光導波路。
一般式(1):

(式中、Xは、−CH−、−CH−CH−又は−O−である。mは、0〜5の整数である。R、R、R及びRのうちの1つが、下記一般式(2):

[式中、Aは、メチレン基、あるいは直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基、あるいは置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基である。R及びRは、水素原子又は炭素数1〜4のヒドロカルビル基であり、同一であっても異なってもよく、R及びRで炭素数3〜8の環を形成してもよい。]
で表わされるマレイミド基である。R、R、R及びRの残りは、水素原子、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基又はパーハロカルビル基であり、同一であっても異なってもよい。)
一般式(3):

(式中、Yは、−CH−、−CH−CH−又は−O−である。nは、0〜5の整数である。R、R、R及びR10の少なくとも1つは、1又は2以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びケイ素原子から選択されるヘテロ原子を有する直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基、パーハロカルビル基、アリール基又はアラルキルペンダント基、あるいは、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基、パーハロカルビル基、アリール基又はアラルキルペンダント基である。R、R、R及びR10の残りは、水素原子である。)
The active radiation curable polymer having a maleimide group is selected from one or more structural units selected from structural units represented by the following general formula (1) and a structural unit represented by the following general formula (3): 1 or more types of structural units are the polymers copolymerized at random, The molar ratio of the structural unit represented by following General formula (1) is 10 to 100%, It is characterized by the above-mentioned. The optical waveguide according to any one of claims.
General formula (1):

(In the formula, X, -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - or -O- .m, among .R 1, R 2, R 3 and R 4 is an integer from 0 to 5 Is one of the following general formula (2):

[In the formula, A represents a methylene group, a linear or branched hydrocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms, a halohydrocarbylene group or a perhalocarbylene group, or a substituted or unsubstituted carbon number of 5; -12 cyclic or polycyclic hydrocarbylene groups, halohydrocarbylene groups or perhalocarbylene groups. R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 4 carbon atoms, and may be the same or different, and R 5 and R 6 may form a ring having 3 to 8 carbon atoms. . ]
Is a maleimide group represented by: The rest of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom, a linear or branched C 1-25 hydrocarbyl group, halohydrocarbyl group or perhalocarbyl group, which may be the same or different. Also good. )
General formula (3):

(Wherein, Y is, -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - or -O- .n is at least .R 7, R 8, R 9 and R 10 is an integer from 0 to 5 One is a linear, branched or cyclic C1-C25 hydrocarbyl group, halohydrocarbyl group having a heteroatom selected from one or more oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms and silicon atoms, perhalocarbyl group, an aryl group or an aralkyl pendent group or a linear, branched or cyclic hydrocarbyl group having 1 to 25 carbon atoms, halohydrocarbyl group, perhalocarbyl group, .R 7 is an aryl group or an aralkyl pendent radical, R 8 , the rest of R 9 and R 10 are hydrogen atoms.)
前記マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーが、下記一般式(1)で表わされる構造単位から選択される1種以上の構造単位と、下記式(4)で表わされる構造単位とが、ランダムに共重合したポリマーであり、下記一般式(1)で表わされる構造単位のモル比が、10〜100%であることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項記載の光導波路。
一般式(1):

(式中、Xは、−CH−、−CH−CH−又は−O−である。mは、0〜5の整数である。R、R、R及びRのうちの1つが、下記一般式(2):

[式中、Aは、メチレン基、あるいは直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基、あるいは置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基である。R及びRは、水素原子又は炭素数1〜4のヒドロカルビル基であり、同一であっても異なってもよく、R及びRで炭素数3〜8の環を形成してもよい。]
で表わされるマレイミド基である。R、R、R及びRの残りは、水素原子、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基又はパーハロカルビル基であり、同一であっても異なってもよい。)
式(4):
The active radiation curable polymer having a maleimide group is randomly selected from at least one structural unit selected from structural units represented by the following general formula (1) and structural units represented by the following formula (4): The optical waveguide according to any one of claims 1 to 8, wherein the optical waveguide is a copolymerized polymer, and a molar ratio of a structural unit represented by the following general formula (1) is 10 to 100%.
General formula (1):

(In the formula, X, -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - or -O- .m, among .R 1, R 2, R 3 and R 4 is an integer from 0 to 5 Is one of the following general formula (2):

[In the formula, A represents a methylene group, a linear or branched hydrocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms, a halohydrocarbylene group or a perhalocarbylene group, or a substituted or unsubstituted carbon number of 5; -12 cyclic or polycyclic hydrocarbylene groups, halohydrocarbylene groups or perhalocarbylene groups. R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 4 carbon atoms, and may be the same or different, and R 5 and R 6 may form a ring having 3 to 8 carbon atoms. . ]
Is a maleimide group represented by: The rest of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom, a linear or branched C 1-25 hydrocarbyl group, halohydrocarbyl group or perhalocarbyl group, which may be the same or different. Also good. )
Formula (4):
前記マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーが、下記一般式(5)で表わされる構造単位が重合したポリマーであることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項記載の光導波路。
一般式(5):

(式中、R、R、R及びRのうちの1つが、下記一般式(2):

[式中、Aは、メチレン基、あるいは直鎖状又は分岐状の炭素数2〜6のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基、あるいは置換又は非置換の炭素数5〜12の環状又は多環式のヒドロカルビレン基、ハロヒドロカルビレン基又はパーハロカルビレン基である。R及びRは、水素原子又は炭素数1〜4のヒドロカルビル基であり、同一であっても異なってもよく、R及びRで炭素数3〜8の環を形成してもよい。]
で表わされるマレイミド基である。R、R、R及びRの残りは、水素原子、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜25のヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基又はパーハロカルビル基であり、同一であっても異なってもよい。)
9. The optical waveguide according to claim 1, wherein the actinic radiation curable polymer having a maleimide group is a polymer in which a structural unit represented by the following general formula (5) is polymerized.
General formula (5):

(In the formula, one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is represented by the following general formula (2):

[In the formula, A represents a methylene group, a linear or branched hydrocarbylene group having 2 to 6 carbon atoms, a halohydrocarbylene group or a perhalocarbylene group, or a substituted or unsubstituted carbon number of 5; -12 cyclic or polycyclic hydrocarbylene groups, halohydrocarbylene groups or perhalocarbylene groups. R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 4 carbon atoms, and may be the same or different, and R 5 and R 6 may form a ring having 3 to 8 carbon atoms. . ]
Is a maleimide group represented by: The rest of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom, a linear or branched C 1-25 hydrocarbyl group, halohydrocarbyl group or perhalocarbyl group, which may be the same or different. Also good. )
前記低分子量化合物が、ビニルエーテル類、チオール類又は(メタ)アクリレート類であることを特徴とする請求項1〜13いずれか1項記載の光導波路。   The optical waveguide according to claim 1, wherein the low molecular weight compound is vinyl ethers, thiols, or (meth) acrylates. マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物であり、該マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していることを特徴とする活性放射線硬化性ポリマーの硬化物。   A cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group, and a cured product of the actinic radiation curable polymer having a maleimide group has a low molecular weight compound having a higher refractive index than the cured product or polymerization of the low molecular weight compound A cured product of an actinic radiation curable polymer, wherein a photoreactive residue between the product and a maleimide group exists. マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物であり、該マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が低い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していることを特徴とする活性放射線硬化性ポリマーの硬化物。   A cured product of an actinic radiation curable polymer having a maleimide group, and the cured product of the actinic radiation curable polymer having a maleimide group has a low molecular weight compound having a lower refractive index than the cured product or polymerization of the low molecular weight compound A cured product of an actinic radiation curable polymer, wherein a photoreactive residue between the product and a maleimide group is present.
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