JP2010067665A - Semiconductor device inspection method, and semiconductor device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device inspection method for highly reliably managing rewriting times in a test process concerning each semiconductor device, and to provide the semiconductor device. <P>SOLUTION: The method inspects an IC chip having a memory circuit 23 which rewrites data, and includes: a process for preparing a main storage area 31 used by a user and a storage area 33 for a test in the memory circuit 23, and performing a data rewriting test with respect to the main storage area 31; and a process for recording times of the actually performed data rewriting with respect to the main storage area 31 in the process for performing the rewriting test in the storage area 33 for the test. By the method, times of the data rewriting actually performed in the test process before delivery are correctly managed concerning each IC chip. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置の検査方法及び半導体装置に関し、特に、個々の半導体装置について、試験工程での書き換え回数を信頼性高く管理することを可能とした技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor device inspection method and a semiconductor device, and more particularly, to a technique that enables reliable management of the number of rewrites in a test process for each semiconductor device.

不揮発性メモリの一種として、EEPROM(erasable programmable read only memory)が知られている。EEPROMはデータの書き換え(即ち、再書き込み)が可能なROMであり、通常は、書き換え保証回数が10万回若しくはそれ以上の回数となっている。
一方で、不揮発性メモリを搭載する製品の中には、書き換えを頻繁に行う必要のない(例えば、数回程度の書き換えしか行わない)製品もある。このような製品には、書き換え保証回数が数回〜数十回程度であり、比較的安価に製造することができる不揮発性メモリを用いることが可能である。このような不揮発性メモリの一つとしてMTP(multiple time programmable memory)が知られている(例えば、特許文献1参照。)。MTPはユーザによる書き換え回数が数回〜10回程度で足りることを前提として作られており、例えば、液晶表示装置(LCD)を駆動、制御するためのドライバ回路の特性調整等に使用されることがある。
特開2007−103640号公報
As a kind of nonvolatile memory, an EEPROM (erasable programmable read only memory) is known. The EEPROM is a ROM in which data can be rewritten (that is, rewritten). Usually, the guaranteed number of rewrites is 100,000 times or more.
On the other hand, some products equipped with a non-volatile memory do not need to be rewritten frequently (for example, they are rewritten only several times). In such a product, it is possible to use a nonvolatile memory that has a guaranteed number of rewrites of several times to several tens of times and can be manufactured relatively inexpensively. As one of such nonvolatile memories, MTP (multiple time programmable memory) is known (for example, refer to Patent Document 1). The MTP is made on the assumption that the number of rewrites by the user is about several to 10 times, and is used, for example, for adjusting the characteristics of a driver circuit for driving and controlling a liquid crystal display (LCD). There is.
JP 2007-103640 A

ところで、MTPのような、書き換え保証回数が数回〜数十回数程度の不揮発性メモリにおいても、他の10万回程度の書き換えが可能な不揮発性メモリと同様、出荷前の検査処理で書き換え機能について試験(即ち、データの書き換え試験)が行われる。
ここで、MTPのような、書き換え保証回数が数回〜数十回数程度の不揮発性メモリにおいては、「書き換え保証回数」に対する「試験工程での書き換え回数」の割合が大きい。例えば、書き換え保証回数が10回のMTPについて、試験工程での書き換え回数が5回であれば、保証される残りの回数は5回となる。つまり、書き換え保証回数の半分が試験工程で費やされたことになる。このため、ユーザ側での書き換え可能な回数(即ち、出荷後の書き換え可能な回数)を信頼性高く保証するためには、試験工程で実際に行った書き換え回数を管理する必要がある。ここで、通常は、それぞれの試験工程で決まった回数の書き換えがなされるので、その決まった回数を実際に行った書き換え回数と見なしてよい。
By the way, even in a non-volatile memory having a guaranteed number of rewrites of several times to several tens of times such as MTP, the rewrite function can be performed by a pre-shipment inspection process in the same manner as other non-volatile memories that can be rewritten about 100,000 times. A test (that is, a data rewrite test) is performed.
Here, in a non-volatile memory having a guaranteed number of rewrites of several times to several tens of times such as MTP, the ratio of “the number of rewrites in the test process” to “the number of guaranteed rewrites” is large. For example, for an MTP with a guaranteed number of rewrites of 10, if the number of rewrites in the test process is 5, the remaining guaranteed number of times is 5. That is, half of the guaranteed number of rewrites is spent in the test process. For this reason, in order to guarantee with high reliability the number of times of rewriting on the user side (that is, the number of times of rewriting after shipment), it is necessary to manage the number of times of rewriting actually performed in the test process. Here, normally, since a fixed number of times of rewriting is performed in each test process, the determined number of times may be regarded as the number of times of rewriting actually performed.

しかしながら、試験工程で何らかのトラブル等が発生した場合には、ウエーハに形成されている個々のICチップについて、書き換え回数を正確に把握できなくなる可能性があった。例えば、1枚のウエーハについて書き換え試験を行っている途中で、検査装置が異常停止したときには、既に書き換え試験が行われたICチップと、未だ書き換え試験が行われていないICチップとの区別がつかなくなり、個々のICチップについて、その書き換え回数を正確に把握することができなくなる可能性があった。
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、個々の半導体装置について、試験工程での書き換え回数を信頼性高く管理できるようにした半導体装置の検査方法及び半導体装置の提供を目的とする。
However, when some trouble occurs in the test process, there is a possibility that the number of rewrites cannot be accurately grasped for each IC chip formed on the wafer. For example, when the inspection apparatus stops abnormally during the rewriting test for one wafer, it is possible to distinguish between an IC chip that has already been rewritten and an IC chip that has not yet been rewritten. Therefore, there is a possibility that the number of rewrites of each IC chip cannot be accurately grasped.
Accordingly, the present invention has been made in view of such circumstances, and provides a semiconductor device inspection method and a semiconductor device that can reliably manage the number of rewrites in a test process for each semiconductor device. With the goal.

〔発明1〕 上記目的を達成するために、発明1の半導体装置の検査方法は、データの書き換えが可能な不揮発性メモリを備える半導体装置の検査方法であって、前記不揮発性メモリに、ユーザによって使用される主記憶領域と、副記憶領域とを用意しておき、前記主記憶領域に対してデータの書き換え試験を行う工程と、前記書き換え試験を行う工程で前記主記憶領域に対して実際に行われたデータの書き換え回数を前記副記憶領域に記録する工程と、を含むことを特徴とするものである。ここで、「不揮発性メモリ」とは、電源の供給を停止した後も記憶内容を保持し続けるタイプの記憶装置のことである。   [Invention 1] In order to achieve the above object, an inspection method for a semiconductor device according to Invention 1 is an inspection method for a semiconductor device including a nonvolatile memory capable of rewriting data. A main storage area to be used and a secondary storage area are prepared, and a step of performing a data rewrite test on the main storage area and a step of performing the rewrite test are actually performed on the main storage area. And a step of recording the number of data rewrites performed in the secondary storage area. Here, the “nonvolatile memory” is a type of storage device that keeps stored contents even after the supply of power is stopped.

このような方法によれば、個々の半導体装置について、その出荷前の試験工程で実際に行われたデータの書き換え回数を正確に管理することができる。この管理は、ダイシング前も、ダイシング後も可能である。従って、個々の半導体装置について、ユーザによる「書き換え可能な回数」を信頼性高く保証することができる。
例えば、試験工程での再測定によりデータの書き換え回数が増えた場合や、データの書き換え回数が異なる半導体装置が1枚のウエーハの中に混在している場合でも、試験工程で実際に行われたデータの書き換え回数は半導体装置の一部である副記憶領域に記録されており、試験工程でのデータの書き換え回数と半導体装置とが常に紐付けされている。従って、データの書き換え回数をダイシング前は勿論のこと、ダイシング後も正確に把握することができる。
According to such a method, it is possible to accurately manage the number of data rewrites actually performed in the test process before shipment for each semiconductor device. This management can be performed before dicing or after dicing. Therefore, it is possible to reliably guarantee the “number of rewritable times” by the user for each semiconductor device.
For example, even when the number of data rewrites increased due to re-measurement in the test process, or when semiconductor devices with different data rewrite times are mixed in one wafer, it was actually performed in the test process. The number of data rewrites is recorded in a secondary storage area which is a part of the semiconductor device, and the number of data rewrites in the test process is always associated with the semiconductor device. Accordingly, the number of data rewrites can be accurately grasped not only before dicing but also after dicing.

〔発明2〕 発明2の半導体装置の検査方法は、発明1の半導体装置の検査方法において、前記副記憶領域に記録された前記データの書き換え回数に基づいて当該半導体装置の良否を判定する工程、をさらに備えることを特徴とするものである。
このような方法によれば、データの書き換え試験で、規定回数以上の書き換えが行われた半導体装置を不良品として処理することができる。
[Invention 2] The semiconductor device inspection method of Invention 2 is the semiconductor device inspection method of Invention 1, wherein the semiconductor device inspection method determines the quality of the semiconductor device based on the number of rewrites of the data recorded in the secondary storage area. Is further provided.
According to such a method, a semiconductor device that has been rewritten more than a specified number of times in a data rewrite test can be treated as a defective product.

〔発明3〕 発明3の半導体装置の検査方法は、発明1又は発明2の半導体装置の検査方法において、前記データの書き換え試験を行う工程は、前記主記憶領域に対して第1のデータを書き込む第1の試験工程と、前記主記憶領域に対して第2のデータを書き込む第2の試験工程と、を有し、前記データの書き換え回数を記録する工程は、前記第1の試験工程で前記主記憶領域に対して実際に行われた前記データの書き換え回数を前記副記憶領域の第1領域に記録する第1の記録工程と、前記第2の試験工程で前記主記憶領域に対して実際に行われた前記データの書き換え回数を前記副記憶領域の第2領域に記録する第2の記録工程と、を有することを特徴とするものである。ここで、「第1のデータ」と「第2のデータ」は同一のデータであっても良いし、異なるデータであっても良い。例えば、「第1のデータ」と「第2のデータ」は、2進法で0と1の配列が完全に一致するデータであっても良いし、一致しないデータであっても良い。   [Invention 3] The semiconductor device inspection method of Invention 3 is the semiconductor device inspection method of Invention 1 or Invention 2, wherein the step of performing the data rewrite test writes the first data to the main storage area. A first test step and a second test step of writing second data to the main storage area, and the step of recording the number of times data is rewritten is the first test step. The first recording step of recording the number of times of rewriting of the data actually performed on the main storage area in the first area of the secondary storage area, and the actual number of times for the main storage area in the second test step And a second recording step of recording the number of data rewrites performed in the second area of the secondary storage area. Here, the “first data” and the “second data” may be the same data or different data. For example, the “first data” and the “second data” may be data in which the arrangements of 0 and 1 are completely matched in binary, or may be data that do not match.

このような方法によれば、個々の半導体装置について、その試験工程1での書き換え回数と、その試験工程2での書き換え回数とが副記憶領域に別々に記録される。つまり、試験工程別に書き換え回数が記録され、書き換え回数の内訳が記録される。従って、データの書き換え回数をより詳細に管理することができ、ユーザによる「書き換え可能な回数」をより信頼性高く保証することができる。
また、上記の方法によれば、例えば、第1の試験工程で規定回数以上の書き換えが行われた場合は、その半導体装置を第2の試験工程で試験することなく不良品として処理することができる。これにより、検査処理の効率を高めることができるので、検査コストの低減に寄与することができる。
According to such a method, for each semiconductor device, the number of rewrites in the test step 1 and the number of rewrites in the test step 2 are recorded separately in the secondary storage area. That is, the number of rewrites is recorded for each test process, and a breakdown of the number of rewrites is recorded. Therefore, the number of data rewrites can be managed in more detail, and the “number of rewrites” by the user can be more reliably guaranteed.
Further, according to the above method, for example, when rewriting is performed more than a specified number of times in the first test process, the semiconductor device can be treated as a defective product without being tested in the second test process. it can. Thereby, since the efficiency of the inspection process can be increased, it is possible to contribute to the reduction of the inspection cost.

〔発明4〕 発明4の半導体装置は、データの書き換えが可能な不揮発性メモリを備える半導体装置であって、前記不揮発性メモリは、ユーザによって使用される主記憶領域と、前記主記憶領域に対してデータの書き換え試験を行う工程で当該主記憶領域に対して実際に行われたデータの書き換え回数を記録する副記憶領域と、を有することを特徴とするものである。
このような構成であれば、個々の半導体装置について、その出荷前の試験工程で実際に行われたデータの書き換え回数を正確に管理することができる。この管理は、ダイシング前も、ダイシング後も可能である。従って、個々の半導体装置について、ユーザによる「書き換え可能な回数」を信頼性高く保証することができる。
[Invention 4] A semiconductor device of Invention 4 is a semiconductor device including a nonvolatile memory capable of rewriting data, wherein the nonvolatile memory is connected to a main storage area used by a user and the main storage area. And a secondary storage area for recording the number of times data is actually rewritten in the main storage area in the step of performing the data rewrite test.
With such a configuration, it is possible to accurately manage the number of data rewrites actually performed in the test process before shipment for each semiconductor device. This management can be performed before dicing or after dicing. Therefore, it is possible to reliably guarantee the “number of rewritable times” by the user for each semiconductor device.

例えば、試験工程での再測定によりデータの書き換え回数が増えた場合や、データの書き換え回数が異なる半導体装置が1枚のウエーハの中に混在している場合でも、試験工程で実際に行われたデータの書き換え回数は半導体装置の一部である副記憶領域に記録されており、試験工程でのデータの書き換え回数と半導体装置とが常に紐付けされている。従って、データの書き換え回数をダイシング前は勿論のこと、ダイシング後も正確に把握することができる。   For example, even when the number of data rewrites increased due to re-measurement in the test process, or when semiconductor devices with different data rewrite times are mixed in one wafer, it was actually performed in the test process. The number of data rewrites is recorded in a secondary storage area which is a part of the semiconductor device, and the number of data rewrites in the test process is always associated with the semiconductor device. Accordingly, the number of data rewrites can be accurately grasped not only before dicing but also after dicing.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する各図において、同一の構成を有する部分には同一の符号を付し、その重複する説明は省略する。
図1は、本発明の実施形態に係る被検査物の構成例を示す図であり、図1(a)は複数個のICチップ11が形成されたウエーハ1の一例を示し、図1(b)はICチップ11の構成例を示し、図1(c)はICチップ11が有するメモリ回路23の構成例を示す。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that, in each drawing described below, parts having the same configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of an inspection object according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A illustrates an example of a wafer 1 on which a plurality of IC chips 11 are formed, and FIG. ) Shows a configuration example of the IC chip 11, and FIG. 1C shows a configuration example of the memory circuit 23 included in the IC chip 11.

図1(a)に示すように、本発明の実施形態に係るICチップ11は、例えばウエーハ1の表面に複数個形成されたものである。これらのICチップ11は、例えばプローブ検査が行われた後で、個々のチップに分割される(即ち、ダイシングされる)。また、図1(b)に示すように、これらICチップ11の一つ一つは、例えば、液晶表示装置(LCD)を駆動、制御するためのドライバ回路21と、このドライバ回路21の特性調整等に使用されるメモリ回路23と、その他の回路25とを含んで構成されている。   As shown in FIG. 1A, a plurality of IC chips 11 according to an embodiment of the present invention are formed on the surface of a wafer 1, for example. These IC chips 11 are divided (i.e., diced) into individual chips after, for example, probe inspection. As shown in FIG. 1B, each of these IC chips 11 includes, for example, a driver circuit 21 for driving and controlling a liquid crystal display (LCD), and adjusting the characteristics of the driver circuit 21. The memory circuit 23 used for the above and other circuits 25 are included.

さらに、図1(c)に示すように、メモリ回路23は、ユーザによって使用される(例えば、ユーザによって、特性調整等のためのプログラムが書き込まれる)主記憶領域31と、この主記憶領域31に対して行われる試験の履歴を記録するための試験用記憶領域33と、を含んで構成されている。ここで、メモリ回路23は、書き換え可能な回数が数回〜数十回程度であり、書き換え回数が例えば10万回を超えるようなメモリと比べて、比較的安価に製造することのできる不揮発性メモリからなる。例えば、主記憶領域31及び試験用記憶領域33は、書き換え可能な回数が数回〜数十回程度のMTPからなる。
なお、図1(b)には示さないが、ドライバ回路21とメモリ回路23との間、メモリ回路23とその他の回路25との間、その他の回路25とドライバ回路21との間にはそれぞれ配線が設けられており、このような配線を介して各回路21、23、25は互いに信号を授受できるようになっている。次に、上述のICチップ11の検査方法について説明する。
Further, as shown in FIG. 1C, the memory circuit 23 is used by a user (for example, a main storage area 31 into which a program for adjusting characteristics and the like is written by the user), and the main storage area 31. And a test storage area 33 for recording a history of tests performed on the test. Here, the memory circuit 23 is a non-volatile memory that can be manufactured at a relatively low cost as compared with a memory that can be rewritten several times to several tens of times and has a number of rewrites exceeding 100,000, for example. Consists of memory. For example, the main storage area 31 and the test storage area 33 are composed of MTPs that can be rewritten several times to several tens of times.
Although not shown in FIG. 1 (b), between the driver circuit 21 and the memory circuit 23, between the memory circuit 23 and the other circuit 25, and between the other circuit 25 and the driver circuit 21, respectively. Wiring is provided, and each circuit 21, 23, 25 can exchange signals with each other through such wiring. Next, an inspection method for the above-described IC chip 11 will be described.

図2は、本発明の実施形態に係るICチップ11の検査方法を示すフローチャートである。ここでは、ウエーハ1に形成された複数個のICチップ11の一つ一つに対して、試験工程1、リペア/ベーク工程、試験工程2を含む検査処理を行い、その良否(即ち、製品として合格品か不合格品か)を判定する場合について説明する。
まず始めに、図2のステップ(S)1では、試験用記憶領域33の初期化(即ち、データのクリア)を行う。この初期化は、例えばウエーハ1に作り込まれた個々のICチップ11ごとに、その初回測定時に行う。次に、図2のステップ(S)2では、主記憶領域31に対して書き換え試験を行う。ここでは、主記憶領域31に試験用のデータ(第1のデータ)を実際に書き込む。
FIG. 2 is a flowchart showing an inspection method of the IC chip 11 according to the embodiment of the present invention. Here, each of a plurality of IC chips 11 formed on the wafer 1 is subjected to an inspection process including a test process 1, a repair / bake process, and a test process 2 to determine whether the product is good or bad (that is, as a product). The case of determining whether the product is a pass product or a reject product will be described.
First, in step (S) 1 of FIG. 2, the test storage area 33 is initialized (that is, data is cleared). This initialization is performed, for example, for each IC chip 11 built in the wafer 1 during the initial measurement. Next, in step (S) 2 of FIG. 2, a rewrite test is performed on the main storage area 31. Here, test data (first data) is actually written in the main storage area 31.

次に、図2のステップ(S)3では、主記憶領域31に対して実際に行われたデータの書き換え回数を試験用記憶領域33に記録する。ここでは、試験用記憶領域33内のデータを読出し、読み出したデータをインクリメント(即ち、1を加算する処理)して試験用記憶領域33に書き込む。例えば、任意のICチップ11について、ステップ(S)2の実施回数が1回の場合は、試験用記憶領域33から書き換え回数「0」を読み出し、読み出したデータ「0」に1を加算して、書き換え回数「1」を試験用記憶領域33に書き込む。   Next, in step (S) 3 of FIG. 2, the number of data rewrites actually performed on the main storage area 31 is recorded in the test storage area 33. Here, the data in the test storage area 33 is read, and the read data is incremented (that is, a process of adding 1) and written to the test storage area 33. For example, for an arbitrary IC chip 11, when the number of executions of step (S) 2 is one, the number of rewrites “0” is read from the test storage area 33, and 1 is added to the read data “0”. The rewrite count “1” is written in the test storage area 33.

図3は、試験用記憶領域33の構成例を示す図(その1)である。図3に示すように、試験用記憶領域33には、例えば、試験工程1における書き換え回数を記録するための第1領域41と、試験工程2における書き換え回数を記録するための第2領域42とが用意されている。図2のステップ(S)3では、試験用記憶領域33が有する第1領域41に、書き換え回数を書き込む。   FIG. 3 is a diagram (part 1) illustrating a configuration example of the test storage area 33. As shown in FIG. 3, the test storage area 33 includes, for example, a first area 41 for recording the number of rewrites in the test process 1 and a second area 42 for recording the number of rewrites in the test process 2. Is prepared. In step (S) 3 in FIG. 2, the number of rewrites is written in the first area 41 of the test storage area 33.

なお、第1領域41及び第2領域42には、試験工程1、2でそれぞれ想定される書き換え回数を十分に記録できるだけの容量を持たせておく。例えば、試験工程1で不良品と判定されることになる書き換え回数(即ち、後述の規定回数)が4の場合、第1領域41には10進数で0〜4を意味する情報を記録できるように、3ビット若しくはそれ以上の容量を持たせておく。例えば、第1領域41に3ビットの容量を持たせた場合は、書き換え回数「1」は2進法で001と書き込まれる。第2領域42についても同様であり、例えば、試験工程2の規定回数が3の場合、第2領域42には10進数で0〜3を意味する情報を記録できるように、2ビット若しくはそれ以上の容量を持たせておく。例えば、第2領域42に2ビットの容量を持たせた場合は、書き換え回数「1」は2進法で01と書き込まれる。また、第2領域42に3ビットの容量を持たせた場合は、書き換え回数「1」は2進法で001と書き込まれる。   The first area 41 and the second area 42 have a capacity sufficient to record the number of rewrites assumed in the test steps 1 and 2, respectively. For example, when the number of times of rewriting (that is, a specified number of times described later) to be determined as a defective product in the test process 1 is 4, information indicating 0 to 4 in decimal number can be recorded in the first area 41. And a capacity of 3 bits or more. For example, when the first area 41 has a capacity of 3 bits, the number of rewrites “1” is written as 001 in binary. The same applies to the second area 42. For example, when the specified number of times of the test process 2 is 3, the second area 42 is recorded with 2 bits or more so that information indicating 0 to 3 in decimal number can be recorded. Keep the capacity of. For example, when the second area 42 has a capacity of 2 bits, the number of rewrites “1” is written as 01 in binary. If the second area 42 has a capacity of 3 bits, the number of rewrites “1” is written as 001 in binary.

次に、図2のステップ(S)4では、試験用記憶領域33のうちの第1領域41に書き込まれた書き換え回数が規定回数以上か否かを判断する。この判断は、例えば、ウエーハ1に作り込まれた複数個のICチップ11を個々に検査する検査装置が行う。書き換え回数が規定回数未満の場合は、図2のステップ(S)5へ進む。また、書き換え回数が規定回数以上の場合は、図2のステップ(S)12へ進む。ここでは、試験工程1における規定回数が例えば4に設定されており、第1領域41に書き込まれた回数が1である場合を想定し、ステップ(S)5へ進むものとする。
なお、ステップ(S)12に進んだ場合は、当該ICチップ11を不合格品と認定することになる。試験工程1の結果に基づいて不合格品と認定されたICチップ11については、ステップ(S)6のリペア/ベーク工程と、ステップ(S)7〜10からなる試験工程2を省略することができるので、検査コストの低減に寄与することができる。
Next, in step (S) 4 of FIG. 2, it is determined whether or not the number of rewrites written in the first area 41 of the test storage area 33 is equal to or greater than the specified number. This determination is performed by, for example, an inspection apparatus that individually inspects a plurality of IC chips 11 built in the wafer 1. If the number of rewrites is less than the specified number, the process proceeds to step (S) 5 in FIG. If the number of rewrites is equal to or greater than the specified number, the process proceeds to step (S) 12 in FIG. Here, it is assumed that the specified number of times in the test process 1 is set to 4, for example, and the number of times written in the first area 41 is 1, and the process proceeds to step (S) 5.
In addition, when it progresses to step (S) 12, the said IC chip 11 will be recognized as a disqualified product. For the IC chip 11 certified as a rejected product based on the result of the test process 1, the repair / bake process in step (S) 6 and the test process 2 consisting of steps (S) 7 to 10 may be omitted. Therefore, it is possible to contribute to the reduction of the inspection cost.

次に、図2のステップ(S)5では、主記憶領域31に対して第1のデータの書き換えを再度行う必要があるか否かを判断する。この判断は、例えば、主記憶領域31に第1のデータが正しく書き込まれたか否かを調査し、その結果に基づいて判断する。或いは、ICチップ11に対して他の試験(例えば、ドライバ回路21の特性調整が適切か否かを調査する等)を実施し、その結果に基づいて再書き換えの要否を判断しても良い。さらに、試験工程1で何らかのトラブル等が発生しているか否かを調査し、その調査結果に基づいて再書き換えの要否を判断しても良い。このような判断は、例えば上記の検査装置が行う。ステップ(S)5で再書き換えが不要と判断した場合は、ステップ(S)1〜5からなる試験工程1を終了し、図2のステップ(S)6へ進む。   Next, in step (S) 5 of FIG. 2, it is determined whether or not it is necessary to rewrite the first data in the main storage area 31 again. This determination is made, for example, by examining whether or not the first data is correctly written in the main storage area 31 and determining based on the result. Alternatively, another test (for example, investigating whether or not the characteristic adjustment of the driver circuit 21 is appropriate) is performed on the IC chip 11, and the necessity of rewriting may be determined based on the result. . Furthermore, it is possible to investigate whether or not any trouble or the like has occurred in the test process 1, and to determine whether rewriting is necessary based on the investigation result. Such a determination is made, for example, by the above-described inspection apparatus. If it is determined in step (S) 5 that rewriting is unnecessary, the test process 1 including steps (S) 1 to 5 is terminated, and the process proceeds to step (S) 6 in FIG.

また、再書き換えが必要である判断した場合は、図2のステップ(S)2へ戻る。ステップ(S)2へ戻った場合は、主記憶領域31に対して、データの書き換え試験を再度行う。そして、これに続くステップ(S)3では、例えば、書き換え回数「1」をインクリメントして、書き換え回数「2」(例えば、2進法で011)を試験用記憶領域33の第1領域41に書き込むことになる。   When it is determined that rewriting is necessary, the process returns to step (S) 2 in FIG. When the process returns to step (S) 2, the data rewrite test is performed again on the main storage area 31. In the subsequent step (S) 3, for example, the number of rewrites “1” is incremented, and the number of rewrites “2” (for example, 011 in binary) is stored in the first area 41 of the test storage area 33. Will write.

次に、図2のステップ(S)6では、ICチップ11に例えばリペア、又は/及び、ベーク処理を施す。ここで、リペアとは、例えばドライバ回路21の特性をトリミングで調整する工程のことである。また、ベークとは、メモリ回路23に書き込まれたデータが正しく保持され続けることを保証、確認するための加速試験のことであり、ウエーハ1を一定時間の間、一定温度まで加熱することにより行う。このようなリペア/ベーク工程は、例えば、ウエーハ1に作り込まれた複数個のICチップ11の全てについて試験工程1を行った後で行うことができる。また、図2のステップ(S)7〜10からなる試験工程2は、リペア/ベーク工程を行った後で、個々のICチップ11に対して行うことができる。   Next, in step (S) 6 of FIG. 2, the IC chip 11 is subjected to, for example, repair or / and baking. Here, the repair is a step of adjusting the characteristics of the driver circuit 21 by trimming, for example. Baking is an acceleration test for guaranteeing and confirming that data written in the memory circuit 23 is kept correctly, and is performed by heating the wafer 1 to a certain temperature for a certain time. . Such a repair / bake process can be performed, for example, after the test process 1 is performed on all of the plurality of IC chips 11 formed in the wafer 1. Moreover, the test process 2 which consists of step (S) 7-10 of FIG. 2 can be performed with respect to each IC chip 11 after performing a repair / baking process.

次に、図2のステップ(S)7では、主記憶領域31に対して書き換え試験を行う。ここでは、主記憶領域31に試験用のデータ(第2のデータ)を実際に書き込む。なお、上述の「第1のデータ」と「第2のデータ」は同一のデータであっても良いし、異なるデータであっても良い。例えば、「第1のデータ」と「第2のデータ」は、2進法で0と1の配列が完全に一致するデータであっても良いし、一致しないデータであっても良い。   Next, in step (S) 7 of FIG. 2, a rewrite test is performed on the main storage area 31. Here, the test data (second data) is actually written in the main storage area 31. The above-mentioned “first data” and “second data” may be the same data or different data. For example, the “first data” and the “second data” may be data in which the arrangements of 0 and 1 are completely matched in binary, or may be data that do not match.

次に、図2のステップ(S)8では、主記憶領域31に対して実際に行われたデータの書き換え回数を試験用記憶領域33に記録する。ここでは、例えば図3に示したように、試験用記憶領域33のうちの第2領域42からデータを読出し、読み出したデータをインクリメントして第2領域42に書き込む。例えば、任意のICチップ11について、ステップ(S)7の実施回数が1回の場合は、第2領域42から書き換え回数「0」を読み出し、読み出したデータ「0」に1を加算して、書き換え回数「1」(例えば、2進法で001)を第2領域42に書き込む。   Next, in step (S) 8 of FIG. 2, the number of data rewrites actually performed on the main storage area 31 is recorded in the test storage area 33. Here, for example, as shown in FIG. 3, data is read from the second area 42 in the test storage area 33, and the read data is incremented and written to the second area 42. For example, for an arbitrary IC chip 11, when the number of executions of step (S) 7 is one, the number of rewrites “0” is read from the second area 42, 1 is added to the read data “0”, The number of rewrites “1” (for example, 001 in binary) is written in the second area 42.

次に、図2のステップ(S)9では、第2領域42に書き込まれた書き換え回数が規定回数以上か否かを判断する。この判断は、例えば上記の検査装置が行う。書き換え回数が規定回数未満の場合は、図2のステップ(S)10へ進む。また、書き換え回数が規定回数以上の場合は、ステップ(S)12へ進む。ここでは、試験工程2における規定回数が例えば3に設定されており、第2領域42に書き込まれた回数が1である場合を想定し、ステップ(S)10へ進むものとする。   Next, in step (S) 9 of FIG. 2, it is determined whether or not the number of rewrites written in the second area 42 is equal to or more than a specified number. This determination is performed by, for example, the inspection apparatus described above. If the number of rewrites is less than the specified number, the process proceeds to step (S) 10 in FIG. If the number of rewrites is equal to or greater than the specified number, the process proceeds to step (S) 12. Here, it is assumed that the specified number of times in the test process 2 is set to 3, for example, and the number of times written in the second area 42 is 1, and the process proceeds to step (S) 10.

次に、図2のステップ(S)10では、主記憶領域31に対して第2のデータの書き換えを再度行う必要があるか否かを判断する。この判断は、例えば、主記憶領域31に第2のデータが正しく書き込まれたか否かを調査し、その結果に基づいて判断する。或いは、ICチップ11に対して他の試験(例えば、ドライバ回路21の特性調整が適切か否かを調査する等)を実施し、その結果に基づいて再書き換えの要否を判断しても良い。さらに、試験工程2で何らかのトラブル等が発生しているか否かを調査し、その調査結果に基づいて再書き換えの要否を判断しても良い。このような判断は、例えば上記の検査装置が行う。ステップ(S)10で再書き換えが不要と判断した場合は、ステップ(S)7〜10からなる試験工程2を終了し、図2のステップ(S)11へ進む。   Next, in step (S) 10 of FIG. 2, it is determined whether or not the second data needs to be rewritten to the main storage area 31. This determination is made, for example, by examining whether or not the second data has been correctly written in the main storage area 31 and determining based on the result. Alternatively, another test (for example, investigating whether or not the characteristic adjustment of the driver circuit 21 is appropriate) is performed on the IC chip 11, and the necessity of rewriting may be determined based on the result. . Furthermore, it may be investigated whether or not any trouble or the like has occurred in the test process 2, and it may be determined whether or not rewriting is necessary based on the investigation result. Such a determination is made, for example, by the above-described inspection apparatus. If it is determined in step (S) 10 that rewriting is unnecessary, the test process 2 including steps (S) 7 to 10 is terminated, and the process proceeds to step (S) 11 in FIG.

ステップ(S)11では、試験工程1、2の結果に基づいて、当該ICチップ11を合格品と認定する。合格品は、例えば、試験工程1での書き換え回数が3以下で、且つ、試験工程2での書き換え回数が2以下のICチップ11のみである。本実施の形態では、このような合格品のみが次の出荷工程へ進むことになる。
このように本発明の実施形態によれば、個々のICチップ11について、その出荷前の試験工程で実際に行われたデータの書き換え回数を正確に管理することができる。この管理は、ウエーハ1をダイシングする前も、ウエーハ1をダイシングした後も可能である。従って、個々のICチップ11について、ユーザによる「書き換え可能な回数」を信頼性高く保証することができる。例えば、試験工程での再測定によりデータの書き換え回数が増えた場合や、データの書き換え回数が異なるICチップ11が1枚のウエーハ1の中に混在している場合でも、試験工程で実際に行われたデータの書き換え回数はICチップ11の一部である試験用記憶領域33に記録されており、試験工程でのデータの書き換え回数とICチップ11とが常に紐付けされている。従って、データの書き換え回数をダイシング前は勿論のこと、ダイシング後も正確に把握することができる。
In step (S) 11, the IC chip 11 is certified as an acceptable product based on the results of the test steps 1 and 2. The accepted product is, for example, only the IC chip 11 in which the number of rewrites in the test process 1 is 3 or less and the number of rewrites in the test process 2 is 2 or less. In the present embodiment, only such an acceptable product proceeds to the next shipping process.
As described above, according to the embodiment of the present invention, it is possible to accurately manage the number of data rewrites actually performed in the test process before shipment for each IC chip 11. This management can be performed before dicing the wafer 1 or after dicing the wafer 1. Therefore, it is possible to reliably guarantee the “number of rewritable times” by the user for each IC chip 11. For example, even when the number of data rewrites increases due to re-measurement in the test process, or even when IC chips 11 having different data rewrite times are mixed in one wafer 1, it is actually performed in the test process. The number of times data is rewritten is recorded in the test storage area 33 that is a part of the IC chip 11, and the number of times data is rewritten in the test process is always associated with the IC chip 11. Accordingly, the number of data rewrites can be accurately grasped not only before dicing but also after dicing.

また、上記の実施形態によれば、個々のICチップ11について、試験工程1での書き換え回数が試験用記憶領域33の第1領域41に記録され、試験工程2での書き換え回数が試験用記憶領域33の第2領域42に記録されている。つまり、データの書き換え回数が試験工程別に記録されており、書き換え回数の内訳が記録されている。従って、データの書き換え回数をより詳細に管理することができ、ユーザによる「書き換え可能な回数」をより信頼性高く保証することができる。
また、上記の実施形態によれば、例えば、第1の試験工程で規定回数以上の書き換えが行われた場合は、そのICチップ11を第2の試験工程で試験することなく不良品として処理することができる。これにより、検査処理の効率を高めることができるので、検査コストの低減に寄与することができる。
Further, according to the above embodiment, for each IC chip 11, the number of rewrites in the test process 1 is recorded in the first area 41 of the test storage area 33, and the number of rewrites in the test process 2 is stored in the test memory. It is recorded in the second area 42 of the area 33. That is, the number of data rewrites is recorded for each test process, and a breakdown of the number of rewrites is recorded. Therefore, the number of data rewrites can be managed in more detail, and the “number of rewrites” by the user can be more reliably guaranteed.
Further, according to the above embodiment, for example, when rewriting is performed more than a specified number of times in the first test process, the IC chip 11 is processed as a defective product without being tested in the second test process. be able to. Thereby, since the efficiency of the inspection process can be increased, it is possible to contribute to the reduction of the inspection cost.

この実施形態では、ICチップ11が本発明の「半導体装置」に対応し、メモリ回路23が本発明の「不揮発性メモリ」に対応し、試験用記憶領域33が本発明の「副記憶領域」に対応している。
なお、上記の実施形態では、例えば図2に示したように、リペア/ベーク処理を挟んで2つの試験工程1、2を行う場合について説明したが、本発明はこれに限られることはない。例えば、試験工程は1つでも良いし、3つ以上であっても良い。
In this embodiment, the IC chip 11 corresponds to the “semiconductor device” of the present invention, the memory circuit 23 corresponds to the “nonvolatile memory” of the present invention, and the test storage area 33 corresponds to the “secondary storage area” of the present invention. It corresponds to.
In the above embodiment, for example, as shown in FIG. 2, the case where the two test steps 1 and 2 are performed with the repair / bake process interposed therebetween is described, but the present invention is not limited to this. For example, the number of test steps may be one, or three or more.

また、上記の実施形態では、試験工程別にデータの書き換え回数を記録する場合について説明したが、本発明はこれに限られることはない。例えば、試験工程1での書き換え回数と、試験工程2での書き換え回数を累積し、その累積値を試験用記憶領域33に記録しても良い。その場合は、ICチップ11の良否判定の基準となる規定回数を、例えば「試験工程1での規定回数は3回、試験工程2での規定回数は5回」というように、後の試験工程になるほど数を増やすように設定すると良い。このような方法でも、不良品を早い段階で選別することができるので、上記の実施形態と同様、検査処理の効率を高めることができる。   In the above embodiment, the case where the number of data rewrites is recorded for each test process has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the number of rewrites in the test process 1 and the number of rewrites in the test process 2 may be accumulated, and the accumulated value may be recorded in the test storage area 33. In that case, the specified number of times that is a criterion for determining the quality of the IC chip 11 is, for example, “the specified number of times in the test step 1 is three times, and the specified number of times in the test step 2 is five times”. It is better to set the number to increase as Even with such a method, defective products can be sorted out at an early stage, so that the efficiency of the inspection process can be increased as in the above embodiment.

或いは、例えば図4に示すように、試験用記憶領域33のうちの領域41、42、43、44…に試験工程1、2、3、4…における書き換え回数をそれぞれ記録すると共に、これら各試験工程1、2、3、4…における書き換え回数の累積値を試験用記憶領域のうちの領域51に記録するようにしても良い。図4に示すように、試験用記憶領域33のうちの領域41、42、43、44…、51の各容量は3ビットに限定されず、2ビットでも4ビットでも良いが、領域51に記録される値は、領域41、42、43、44…に記録される値よりも大きな値となるので、領域51の容量は少なくとも領域41、42、43、44…の容量以上に設定しておくことが好ましい。   Alternatively, for example, as shown in FIG. 4, the number of rewrites in the test steps 1, 2, 3, 4... Is recorded in the areas 41, 42, 43, 44. The cumulative value of the number of rewrites in steps 1, 2, 3, 4,... May be recorded in the area 51 of the test storage area. As shown in FIG. 4, the capacities of the areas 41, 42, 43, 44... 51 in the test storage area 33 are not limited to 3 bits, but may be 2 bits or 4 bits. .. Is larger than the value recorded in the areas 41, 42, 43, 44..., So that the capacity of the area 51 is set to at least the capacity of the areas 41, 42, 43, 44. It is preferable.

本発明の実施形態に係る被検査物の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the to-be-inspected object which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るICチップ11の検査方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the test | inspection method of IC chip 11 which concerns on embodiment of this invention. 試験用記憶領域33の構成例を示す図(その1)。The figure which shows the structural example of the memory area 33 for a test (the 1). 試験用記憶領域33の構成例を示す図(その2)。The figure which shows the structural example of the memory area 33 for a test (the 2).

符号の説明Explanation of symbols

1 ウエーハ、11 ICチップ、21 ドライバ回路、23 メモリ回路、25 その他の回路、31 主記憶領域、33 試験用記憶領域、41〜44、51 領域(試験用記憶領域のうちの一領域)   1 Wafer, 11 IC chip, 21 Driver circuit, 23 Memory circuit, 25 Other circuit, 31 Main storage area, 33 Test storage area, 41 to 44, 51 area (One area of test storage area)

Claims (4)

データの書き換えが可能な不揮発性メモリを備える半導体装置の検査方法であって、
前記不揮発性メモリに、ユーザによって使用される主記憶領域と、副記憶領域とを用意しておき、
前記主記憶領域に対してデータの書き換え試験を行う工程と、
前記書き換え試験を行う工程で前記主記憶領域に対して実際に行われたデータの書き換え回数を前記副記憶領域に記録する工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の検査方法。
A method for inspecting a semiconductor device including a nonvolatile memory capable of rewriting data,
In the nonvolatile memory, a main storage area used by a user and a secondary storage area are prepared,
Performing a data rewrite test on the main storage area;
And a step of recording the number of data rewrites actually performed on the main storage area in the step of performing the rewrite test in the sub storage area.
前記副記憶領域に記録された前記データの書き換え回数に基づいて当該半導体装置の良否を判定する工程、をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の検査方法。   The method for inspecting a semiconductor device according to claim 1, further comprising: determining whether the semiconductor device is acceptable based on the number of times of rewriting the data recorded in the secondary storage area. 前記データの書き換え試験を行う工程は、
前記主記憶領域に対して第1のデータを書き込む第1の試験工程と、
前記主記憶領域に対して第2のデータを書き込む第2の試験工程と、を有し、
前記データの書き換え回数を記録する工程は、
前記第1の試験工程で前記主記憶領域に対して実際に行われた前記データの書き換え回数を前記副記憶領域の第1領域に記録する第1の記録工程と、
前記第2の試験工程で前記主記憶領域に対して実際に行われた前記データの書き換え回数を前記副記憶領域の第2領域に記録する第2の記録工程と、を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の検査方法。
The step of performing the data rewrite test includes:
A first test step of writing first data to the main storage area;
A second test step of writing second data to the main storage area,
The step of recording the number of rewrites of the data,
A first recording step of recording the number of rewrites of the data actually performed on the main storage area in the first test step in the first area of the sub storage area;
A second recording step of recording the number of times of rewriting of the data actually performed on the main storage area in the second test step in the second area of the sub storage area. A method for inspecting a semiconductor device according to claim 1.
データの書き換えが可能な不揮発性メモリを備える半導体装置であって、
前記不揮発性メモリは、
ユーザによって使用される主記憶領域と、
前記主記憶領域に対してデータの書き換え試験を行う工程で当該主記憶領域に対して実際に行われたデータの書き換え回数を記録する副記憶領域と、を有することを特徴とする半導体装置。
A semiconductor device including a nonvolatile memory capable of rewriting data,
The nonvolatile memory is
Main storage used by the user;
And a secondary storage area for recording the number of data rewrites actually performed on the main storage area in the step of performing a data rewrite test on the main storage area.
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