JP2010066415A - 露光パワーのキャリブレーション方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の光供給素子群のうち、特定の光供給素子の周辺に位置する周辺光供給素子から光を供給し、周辺光供給素子の光量を固定した状態で、当該特定の光供給素子の光量を第1の光量レベルから第2の光量レベルへと変化させる。このようにして特定の光供給素子の光量を変化させたときの光供給素子群から供給される光の光量分布の変化量を計測することによって、特定の光供給素子の光量のみを変化させたときの光供給素子群から供給される光の光量分布の変化量を表すプロファイル関数を生成し、当該プロファイル関数に基づいて、各光供給素子を駆動するための制御値を較正する。
【選択図】図10
Description
10 ステージ移動機構
11 ステージ
20 基板
30 描画ヘッド
31 光変調器
32 反射板(リボン)
32a 固定リボン
32b 可動リボン
33 支持台
40 受光素子
41a,41b ガイドレール
42 モータ
43 ボールネジ
44 センサ処理部
45 センサステージ
50 調整部
60 変調制御部
Claims (11)
- ライン状に並んだ光供給素子群から対象物に向けて光を発するように構成された露光装置において各光供給素子から供給される光量を補正するキャリブレーション方法であって、
前記光供給素子群のうち、特定の光供給素子の周辺に位置する周辺光供給素子から光を供給する周辺発光工程と、
前記周辺光供給素子の光量を固定した状態で、前記特定の光供給素子の光量を第1の光量レベルから第2の光量レベルへと変化させる光量変化工程と、
前記光量変化工程において前記特定の光供給素子の光量を変化させたときの前記光供給素子群から供給される光の光量分布の変化量を計測することによって、前記特定の光供給素子の光量のみを変化させたときの前記光供給素子群から供給される光の光量分布の変化量を表すプロファイル関数を生成して記憶装置に記憶するプロファイル関数生成工程と、
各光供給素子を駆動するための制御値を前記プロファイル関数に基づいて較正する較正工程とを備えた、キャリブレーション方法。 - 前記光量変化工程では、前記周辺光供給素子の光量を中間調に固定した状態で、前記特定の光供給素子の光量を第1の光量レベルから第2の光量レベルへと変化させることを特徴とする、請求項1に記載のキャリブレーション方法。
- 前記較正工程は、
前記プロファイル関数に基づいて補正用関数を決定する補正用関数決定工程と、
各光供給素子を予め定められた個別の制御値でそれぞれ駆動することによって前記光供給素子群から光を供給する発光工程と、
前記光供給素子群から供給される光の光量分布を計測する光量分布計測工程と、
前記光量分布計測工程において計測された光量分布と目標光量分布との差分を計算する差分計算工程と、
前記差分と前記補正用関数の畳み込み積分によって、各光供給素子の制御値の補正量をそれぞれ計算する補正量計算工程と、
前記発光工程で用いた各光供給素子の制御値を前記補正量計算工程において算出された各光供給素子の制御値の補正量に応じて補正することによって、前記目標光量分布を実現するための各光供給素子の制御値を更新する制御値更新工程とを含むことを特徴とする、請求項1に記載のキャリブレーション方法。 - 前記補正用関数決定工程は、予め用意された複数の補正用関数の中から、前記プロファイル関数に応じた補正用関数を自動的に選択する補正用係数自動選択工程を含む、請求項3に記載のキャリブレーション方法。
- 前記補正用関数決定工程は、予め用意された複数の典型プロファイル関数の中から前記プロファイル関数に応じた典型プロファイル関数を選択する第1工程と、前記選択された典型プロファイル関数に予め関連付けられた補正用関数を前記プロファイル関数に応じた補正用関数として決定する第2工程とを含む、請求項3に記載のキャリブレーション方法。
- 前記補正用関数決定工程は、前記第2工程において決定された補正用関数を、前記プロファイル関数に応じて補正する第3工程をさらに含む、請求項5に記載のキャリブレーション方法。
- 前記制御値更新工程によって更新された制御値で各光供給素子をそれぞれ駆動することによって前記光供給素子群から光を供給する再発光工程と、
前記光供給素子群から供給される光の光量分布を計測する光量分布再計測工程と、
前記光量分布再計測工程において計測された光量分布に基づいて、前記目標光量分布を実現するための各光供給素子の制御値を再更新する必要があるか否かを判定する較正結果評価工程とを更に備え、
前記較正結果評価工程において各光供給素子の制御値を再度更新する必要があると判定されたときに、前記光量分布計測工程において計測された光量分布に代わりに前記光量分布再計測工程において計測された光量分布を用いて、前記差分計算工程、前記補正量計算工程および前記制御値更新工程を再実行することを特徴とする、請求項3に記載のキャリブレーション方法。 - 前記制御値更新工程によって更新された制御値で各光供給素子をそれぞれ駆動することによって前記光供給素子群から光を供給する再発光工程と、
前記光供給素子群から供給される光の光量分布を計測する光量分布再計測工程と、
前記光量分布再計測工程において計測された光量分布に基づいて、前記補正用関数決定工程において決定した補正用関数が適切であるか否かを判定する補正用関数評価工程と、
前記補正用関数評価工程において前記補正用関数が適切でないと判定されたときに補正用関数を変更する補正用関数変更工程とをさらに備え、
前記補正用関数変更工程において変更された新たな補正用関数を用いて、前記発光工程、前記光量分布計測工程、前記差分計算工程、前記補正量計算工程および前記制御値更新工程を再実行することを特徴とする、請求項3に記載のキャリブレーション方法。 - 前記露光装置は、前記光供給素子群から前記対象物に向けてコヒーレント光を発するものであることを特徴とする、請求項1に記載のキャリブレーション方法。
- 前記露光装置は、前記光供給素子群として回折格子光変調素子を含む、請求項1に記載のキャリブレーション方法。
- ライン状に並んだ光供給素子群から対象物に向けて光を発するように構成された露光装置であって、請求項1〜10のいずれか1つに記載のキャリブレーション方法により各光供給素子から供給される光量を補正するキャリブレーション手段を備えた、露光装置。
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011066087A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Tohoku Univ | 露光装置および露光方法 |
| JP2013197148A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 検査装置、露光装置及び検査方法 |
| JP2014174287A (ja) * | 2013-03-07 | 2014-09-22 | V Technology Co Ltd | 走査露光装置及び走査露光方法 |
| JP2016071135A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 株式会社Screenホールディングス | 描画方法 |
| JP2021152496A (ja) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | 株式会社Screenホールディングス | 光変調器の検査方法および検査装置 |
| CN115801115A (zh) * | 2022-10-31 | 2023-03-14 | 武汉联特科技股份有限公司 | Pid区域校准的方法、系统、电子设备和存储介质 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1110942A (ja) * | 1997-06-23 | 1999-01-19 | Futaba Corp | 発光ドットの光量測定および光量補正方法、および、プリンタ用光源 |
| JP2002059584A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-26 | Minolta Co Ltd | 露光手段の光量補正方法および画像形成装置 |
| JP2002356007A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-12-10 | Fuji Xerox Co Ltd | プリントヘッド及び露光量補正方法 |
| JP2007121998A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置および画像記録方法 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1110942A (ja) * | 1997-06-23 | 1999-01-19 | Futaba Corp | 発光ドットの光量測定および光量補正方法、および、プリンタ用光源 |
| JP2002059584A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-26 | Minolta Co Ltd | 露光手段の光量補正方法および画像形成装置 |
| JP2002356007A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-12-10 | Fuji Xerox Co Ltd | プリントヘッド及び露光量補正方法 |
| JP2007121998A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置および画像記録方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011066087A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Tohoku Univ | 露光装置および露光方法 |
| JP2013197148A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 検査装置、露光装置及び検査方法 |
| JP2014174287A (ja) * | 2013-03-07 | 2014-09-22 | V Technology Co Ltd | 走査露光装置及び走査露光方法 |
| JP2016071135A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 株式会社Screenホールディングス | 描画方法 |
| JP2021152496A (ja) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | 株式会社Screenホールディングス | 光変調器の検査方法および検査装置 |
| CN115801115A (zh) * | 2022-10-31 | 2023-03-14 | 武汉联特科技股份有限公司 | Pid区域校准的方法、系统、电子设备和存储介质 |
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