JP2010059540A - METHOD FOR PRODUCING Co-Fe BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND Co-Fe BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、軟磁性膜を形成するためのＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a Co—Fe based alloy sputtering target material for forming a soft magnetic film and a Co—Fe based alloy sputtering target material.
近年、高度情報化社会により磁気記録の高密度化が強く望まれている。この高密度化を実現する技術として、従来の面内磁気記録方式に代わり垂直磁気記録方式が実用化されている。 In recent years, high recording density has been strongly demanded by an advanced information society. As a technique for realizing this high density, a perpendicular magnetic recording system has been put into practical use instead of the conventional in-plane magnetic recording system.
垂直磁気記録方式とは、磁気記録層の磁化容易軸を媒体面に対して垂直に向けて記録するものであり、記録再生特性の低下が少ない高記録密度化に適した方式である。垂直磁気記録媒体は、基板／軟磁性裏打ち層／Ｒｕ中間層／ＣｏＰｔＣｒ−ＳｉＯ２磁性層／保護層からなる多層構造が一般的である（例えば、非特許文献１参照）。 The perpendicular magnetic recording method is a method in which the easy magnetization axis of the magnetic recording layer is recorded perpendicularly to the medium surface, and is a method suitable for increasing the recording density with little deterioration in recording / reproducing characteristics. A perpendicular magnetic recording medium generally has a multilayer structure including a substrate / soft magnetic backing layer / Ru intermediate layer / CoPtCr—SiO 2 magnetic layer / protective layer (see, for example, Non-Patent Document 1).
垂直記録媒体の軟磁性裏打ち層には優れた軟磁気特性が要求されることから、アモルファス軟磁性合金が採用されている。代表的な軟磁性裏打ち層用アモルファス合金として、Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ合金膜（例えば、特許文献１参照）やＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ合金膜（例えば、非特許文献２参照）などが既に実用化されている。しかしながら、Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ合金膜やＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ合金膜において、Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂの量が少ない場合には耐食性が低くなり、Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂの量が多い場合には飽和磁束密度が低くなる問題が指摘されている。そこで上記合金膜の代替候補として、飽和磁束密度と耐食性がともに高く、軟磁気特性に優れたＣｏ−Ｆｅ系合金膜が提案されている（例えば、特許文献２参照）。 An amorphous soft magnetic alloy is used because the soft magnetic backing layer of the perpendicular recording medium is required to have excellent soft magnetic characteristics. Co-Ta-Zr alloy films (for example, see Patent Document 1) and Co-Zr-Nb alloy films (for example, see Non-Patent Document 2) have already been put to practical use as typical amorphous alloys for soft magnetic backing layers. ing. However, in a Co—Ta—Zr alloy film or a Co—Zr—Nb alloy film, the corrosion resistance is low when the amount of Ta, Zr, Nb is small, and the saturation magnetic flux is high when the amount of Ta, Zr, Nb is large. The problem of low density has been pointed out. Accordingly, a Co—Fe-based alloy film having high saturation magnetic flux density and corrosion resistance and excellent soft magnetic properties has been proposed as an alternative candidate for the alloy film (see, for example, Patent Document 2).
一般的に、軟磁性裏打ち層の成膜にはマグネトロンスパッタリング法が用いられる。マグネトロンスパッタリング法とは、ターゲット材と呼ばれる母材の背面に永久磁石を配置し、ターゲット材の表面に磁束を漏洩させて、漏洩磁束領域にプラズマを収束し、高速成膜を可能とする方法である。マグネトロンスパッタリング法はターゲット材の表面に磁束を漏洩させることに特徴があるため、ターゲット材自身の透磁率が高い場合にはターゲット材のスパッタ表面にプラズマを収束させるのに必要な漏洩磁束を得ることが難しくなる。そこで、ターゲット材自身の透磁率を極力低減することが望まれている。 In general, a magnetron sputtering method is used to form a soft magnetic backing layer. The magnetron sputtering method is a method in which a permanent magnet is placed on the back of a base material called a target material, magnetic flux is leaked to the surface of the target material, plasma is focused on the leakage magnetic flux region, and high-speed film formation is possible. is there. Since the magnetron sputtering method is characterized by leakage of magnetic flux to the surface of the target material, when the magnetic permeability of the target material itself is high, the leakage magnetic flux necessary for converging the plasma on the sputtering surface of the target material is obtained. Becomes difficult. Therefore, it is desired to reduce the magnetic permeability of the target material itself as much as possible.
また、マグネトロンスパッタ法では、プラズマが収束する部分が集中的に侵食されるため、ごく一部しか消費されないままターゲット材を交換しなければならない。特に、Ｃｏ−Ｆｅ系合金のような強磁性体からなるターゲット材では、ターゲット材の背面に設置した磁石から発生する磁束の大半がターゲット材内部に侵入し、ターゲット材の表面には僅かな磁束しか発生しないため、局部的に深く消耗し、ターゲット材の寿命が極端に短くなるという問題がある。とりわけ、膜厚が１５０〜２００ｎｍと極端に厚い前記垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層の形成に際しては、ターゲット材寿命が極端に短いことは深刻な問題となっており、ターゲット材の交換頻度を減らすために、出来る限りターゲット材の厚さを厚く設定しつつ十分な漏洩磁束を得るという矛盾した要求を満たさなければならない。 Further, in the magnetron sputtering method, the portion where the plasma converges is eroded intensively, so the target material must be replaced while only a small portion is consumed. In particular, in a target material made of a ferromagnetic material such as a Co—Fe-based alloy, most of the magnetic flux generated from a magnet installed on the back surface of the target material penetrates into the target material, and a slight amount of magnetic flux enters the surface of the target material. However, since it occurs only locally, there is a problem that it is locally consumed and the life of the target material becomes extremely short. In particular, in the formation of the soft magnetic backing layer of the perpendicular magnetic recording medium having an extremely thick film thickness of 150 to 200 nm, it is a serious problem that the target material life is extremely short. In order to reduce, the conflicting requirement of obtaining sufficient leakage flux while setting the thickness of the target material as thick as possible must be satisfied.
また、Ｃｏ−Ｆｅ系合金ターゲットの透磁率を低減する方法としては、例えば、透磁率が高いのはＦｅ、Ｆｅ５０原子％近傍であることを見出し、これらの組成を避けたＦｅ−Ｃｏ合金粉末同士を焼結することによって、単一の合金組成よりも透磁率を低下させるＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲットの製造方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。 In addition, as a method for reducing the magnetic permeability of a Co—Fe based alloy target, for example, it has been found that the high magnetic permeability is in the vicinity of Fe and Fe 50 atomic%, and Fe—Co alloy powders avoiding these compositions There has been proposed a method for producing a Co—Fe based alloy target in which the magnetic permeability is reduced as compared with a single alloy composition (see, for example, Patent Document 3).
上述したＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材の製造方法は、Ｃｏ−Ｆｅ系合金の透磁率に着目し、焼結前の混合粉末の透磁率を低減することで、ターゲット材の透磁率を低減する有効な方法である。しかしながら、厚さが５ｍｍを超えるようなターゲット材をマグネトロンスパッタリングする際には、透磁率の低減が十分ではなく、安定的な漏洩磁束を得るためには、なお課題を有している。
本発明の目的は、強い漏洩磁束が得られ透磁率が低く、マグネトロンスパッタリングにおける使用効率が高いＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびその製造方法によって製造されるＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材を提供することである。
The above-described method for producing a Co—Fe based alloy target material pays attention to the magnetic permeability of the Co—Fe based alloy and is effective in reducing the magnetic permeability of the target material by reducing the magnetic permeability of the mixed powder before sintering. It is a simple method. However, when magnetron sputtering is performed on a target material having a thickness exceeding 5 mm, the permeability is not sufficiently reduced, and there is still a problem to obtain a stable leakage magnetic flux.
An object of the present invention is to provide a method for producing a Co—Fe alloy sputtering target material having a strong leakage magnetic flux, a low magnetic permeability, and a high use efficiency in magnetron sputtering, and a Co—Fe alloy sputtering target produced by the production method. Is to provide materials.
本発明者は、粉末焼結法によるＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の透磁率をさらに低減するために種々の検討を行った結果、加圧焼結に利用する原料粉末の組成制御をすることで、Ｃｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材の透磁率を低減でき、強い漏洩磁束が得られることを見出し本発明に到達した。 As a result of various investigations to further reduce the magnetic permeability of the Co-Fe alloy sputtering target material by the powder sintering method, the present inventor performs composition control of the raw material powder used for pressure sintering. Thus, the inventors have found that the magnetic permeability of the Co—Fe based alloy target material can be reduced and a strong leakage magnetic flux can be obtained, and the present invention has been achieved.
すなわち、本発明は、原子比における組成式が（ＣｏＸ−Ｆｅ１００−Ｘ）１００−Ｙ−Ｍ１Ｙ、２０≦Ｘ≦９０、５≦Ｙ≦１５で表され、前記組成式のＭ１元素が（Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ）から選ばれる２種以上の元素であるＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法であって、
原子比における組成式がＦｅ１００−α−Ｍ１α、１０≦α≦２０で表され、Ｍ１元素が２種以上含まれるＦｅ合金粉末を粉末Ａ、
Ｃｏおよび／または１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末を粉末Ｂ、
としたとき、粉末Ａおよび粉末Ｂを前記組成式を満たすように混合した混合粉末を加圧焼結するＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法である。
That is, the present invention provides a composition formula in atomic ratio is represented by (Co X -Fe 100-X) 100-Y -M1 Y, 20 ≦ X ≦ 90,5 ≦ Y ≦ 15, M1 element of the composition formula A method for producing a Co—Fe based alloy sputtering target material that is two or more elements selected from (Zr, Nb, Ta, Hf),
A composition formula in atomic ratio is represented by Fe 100-α -M1 α , 10 ≦ α ≦ 20, and Fe alloy powder containing two or more kinds of M1 elements is powder A,
Co alloy powder containing Co and / or one or more M1 elements is powder B,
Is a method for producing a Co—Fe based alloy sputtering target material, in which a mixed powder obtained by mixing powder A and powder B so as to satisfy the composition formula is pressure-sintered.
本発明のスパッタリングターゲット材においては、（Ｃｒ、Ｂ、Ａｌ）から選ばれる１種または２種以上のＭ２元素を５原子％以下含有することができる。この場合は、前記粉末Ａあるいは前記粉末Ｂのいずれか若しくは両方に、Ｍ２元素が前記範囲となるように含有させればよい。
また、本発明は、前記Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法で製造した最大透磁率は２５０以下であるＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材である。
また、本発明は、前記Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法で製造したＰＴＦは１０％以上であるＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材である。
In the sputtering target material of the present invention, 5 atomic% or less of one or more M2 elements selected from (Cr, B, Al) can be contained. In this case, the M2 element may be contained in either or both of the powder A and the powder B so as to fall within the above range.
Moreover, this invention is a Co-Fe type | system | group alloy sputtering target material whose maximum magnetic permeability manufactured with the manufacturing method of the said Co-Fe type alloy sputtering target material is 250 or less.
Moreover, this invention is a Co-Fe type | system | group sputtering target material whose PTF manufactured with the manufacturing method of the said Co-Fe type alloy sputtering target material is 10% or more.
本発明によれば、安定したマグネトロンスパッタリングが行える軟磁性膜形成用のＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材を提供でき、垂直磁気記録媒体のようにＣｏ−Ｆｅ系合金の軟磁性膜を必要とする工業製品を製造する上で極めて有効な技術となる。 According to the present invention, it is possible to provide a Co—Fe alloy sputtering target material for forming a soft magnetic film capable of performing stable magnetron sputtering, and a Co—Fe alloy soft magnetic film as in a perpendicular magnetic recording medium is required. This is an extremely effective technique for manufacturing industrial products.
上述したように、本発明の最も重要な特徴は、原子比における組成式が（ＣｏＸ−Ｆｅ１００−Ｘ）１００−Ｙ−Ｍ１Ｙ、２０≦Ｘ≦９０、５≦Ｙ≦１５で表され、前記組成式のＭ１元素が（Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ）から選ばれる２種以上の元素であるＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の透磁率を低減するために、粉末焼結法において最適な原料粉末の組成と組合せを見出したことである。 As described above, the most important feature of the present invention, a composition formula in atomic ratio is represented by (Co X -Fe 100-X) 100-Y -M1 Y, 20 ≦ X ≦ 90,5 ≦ Y ≦ 15 In order to reduce the magnetic permeability of the Co—Fe based alloy sputtering target material in which the M1 element of the composition formula is two or more elements selected from (Zr, Nb, Ta, Hf), it is optimal in the powder sintering method. The composition and combination of the raw material powder was found.
本発明においては、上記組成のＣｏとＦｅの両方を含むＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の透磁率をより低減する製造方法を検討し、粉末焼結法を適用すること、そして、粉末焼結をする際の原料粉末の組成とその最適な組合せを以下の通り、見出したものである。
一般的に、多結晶体の透磁率には磁気モーメントが大きく影響し、磁気モーメントが大きい場合には高透磁率になり、磁気モーメントが小さい場合には低透磁率になる。特に本発明のようにＣｏとＦｅを両方含む合金においては、磁気モーメントが増大するのを防止するためにＣｏとＦｅの合金化を抑制する必要がある。さらには、強磁性元素であるＣｏ、Ｆｅ自身の磁気モーメントを低減することも重要である。そこで、本発明においては、まず、ＣｏとＦｅの合金化を抑制するため、Ｃｏを実質的に含まないＦｅ合金粉末である粉末Ａと、Ｆｅを実質的に含まないＣｏ合金粉末あるいはＣｏ粉末である粉末Ｂの混合粉末を焼結原料に用いる。
In the present invention, a manufacturing method for further reducing the magnetic permeability of a Co—Fe based alloy sputtering target material containing both Co and Fe having the above composition is studied, a powder sintering method is applied, and powder sintering is performed. The composition of the raw material powder and the optimum combination thereof are found as follows.
In general, the magnetic moment has a large influence on the permeability of the polycrystalline body, and when the magnetic moment is large, the magnetic permeability is high, and when the magnetic moment is small, the magnetic permeability is low. In particular, in an alloy containing both Co and Fe as in the present invention, it is necessary to suppress alloying of Co and Fe in order to prevent an increase in magnetic moment. It is also important to reduce the magnetic moments of the ferromagnetic elements Co and Fe themselves. Therefore, in the present invention, first, in order to suppress alloying of Co and Fe, a powder A that is an Fe alloy powder that does not substantially contain Co, and a Co alloy powder or Co powder that does not substantially contain Fe. A mixed powder of a certain powder B is used as a sintering raw material.
さらに、粉末Ａとしては、遷移金属元素中で磁気モーメントが最大であるＦｅに対してＭ１元素を積極的に添加することで、原料粉末としての磁気モーメントを低減したＦｅ合金粉末とし、原子比における組成式がＦｅ１００−α−Ｍ１α、１０≦α≦２０で表され、Ｍ１元素が２種以上含まれるＦｅ合金粉末とする。それは、ＣｏとＦｅとの対比で、より磁気モーメントが大きいＦｅの磁気モーメントを大幅に低減させることが可能となるためである。ここで、Ｍ１元素の添加量を１０≦α≦２０としたのは、添加量αが１０原子％より少ないとＦｅの磁気モーメントの低減に効果が少なく、添加量αが２０原子％より多いとＦｅ−Ｍ１合金の液相温度が高くなり、合金粉末の製造が困難になるためである。 Furthermore, as the powder A, an Fe alloy powder having a reduced magnetic moment as a raw material powder is obtained by positively adding M1 element to Fe, which has the maximum magnetic moment among transition metal elements. The composition formula is represented by Fe 100-α -M1 α , 10 ≦ α ≦ 20, and an Fe alloy powder containing two or more M1 elements is used. This is because the magnetic moment of Fe having a larger magnetic moment can be significantly reduced by comparing Co and Fe. Here, the amount of addition of the M1 element is set to 10 ≦ α ≦ 20 because when the addition amount α is less than 10 atomic%, the effect of reducing the magnetic moment of Fe is small, and when the addition amount α is larger than 20 atomic%. This is because the liquidus temperature of the Fe-M1 alloy becomes high and it becomes difficult to produce the alloy powder.
また、粉末Ｂとしては、Ｃｏ粉末および／または１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末とする。それは、Ｃｏ粉末は、室温領域では結晶磁気異方性の大きいＨＣＰが安定であるが、他元素と合金化が進むと結晶磁気異方性の小さいＦＣＣ構造になる場合がある。よって、Ｃｏ粉末のまま使用することで、ターゲットのミクロ組織にＨＣＰ−Ｃｏ相を生成でき、結晶磁気異方性を増大させることができるため、透磁率を低減することが可能となる。また、１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末を使用した場合は、Ｃｏの磁気モーメントを低減させることが可能である。
なお、粉末Ｂとしては、Ｃｏ粉末のみを使用して結晶磁気異方性を増大させた方が望ましい。ただし、粉末ＡのＦｅ合金粉末側に添加しきれなかったＭ１元素は、Ｃｏに含有させて、Ｃｏの磁気モーメントを低減させた方が望ましい。
また、１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末としては、Ｍ１元素を３０原子％以下含有することがより望ましい。ここで、Ｍ１元素の含有量を３０原子％以下としたのは、Ｍ１元素を３０原子％含有量させたＣｏ合金粉末の磁気モーメントがほぼ零になることを確認できたため、粉末ＡのＦｅ合金粉末側の磁気モーメント低減とのバランスを考慮して３０原子％を上限とするのが望ましいためである。
The powder B is a Co powder and / or a Co alloy powder containing one or more M1 elements. As for Co powder, HCP having a large magnetocrystalline anisotropy is stable in a room temperature region, but when alloying with other elements proceeds, an FCC structure having a small magnetocrystalline anisotropy may be obtained. Therefore, by using the Co powder as it is, an HCP-Co phase can be generated in the microstructure of the target and the magnetocrystalline anisotropy can be increased, so that the magnetic permeability can be reduced. In addition, when a Co alloy powder containing one or more M1 elements is used, the magnetic moment of Co can be reduced.
As the powder B, it is desirable to increase the magnetocrystalline anisotropy using only Co powder. However, it is desirable that the M1 element that could not be added to the Fe alloy powder side of the powder A is contained in Co to reduce the magnetic moment of Co.
Moreover, as Co alloy powder containing 1 or more types of M1 element, it is more desirable to contain 30 atomic% or less of M1 element. Here, the content of the M1 element was set to 30 atomic% or less because it was confirmed that the magnetic moment of the Co alloy powder containing 30 M% of the M1 element was almost zero. This is because it is desirable to set the upper limit to 30 atomic% in consideration of the balance with the magnetic moment reduction on the powder side.
また、本発明のスパッタリングターゲット材の化学組成は、原子比における組成式がＣｏＸ−Ｆｅ１００−Ｘ）１００−Ｙ−Ｍ１Ｙ、２０≦Ｘ≦９０、５≦Ｙ≦１５で表され、前記組成式のＭ１元素が（Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ）から選ばれる２種以上の元素からなるものである。
ＣｏとＦｅとの組成比Ｘを２０≦Ｘ≦９０としたのは、Ｃｏ−Ｆｅ二元系合金膜において、Ｃｏ含有量を原子比で２０〜９０％にすることで高い飽和磁化を持ち軟磁気特性に優れた薄膜を生成できるためである。
Ｍ１元素（Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ）から選ばれる２種以上の元素の添加量Ｙを５≦Ｙ≦１５としたのは、Ｍ１元素から選ばれる２種以上の元素をこの範囲で添加することで、薄膜のアモルファス化を促進させる効果があるためである。さらに磁歪が低減し、軟磁気特性を向上させる効果や耐食性を向上させる効果があるためである。
The chemical composition of the sputtering target material of the present invention, a composition formula in atomic ratio is represented by Co X -Fe 100-X) 100 -Y -M1 Y, 20 ≦ X ≦ 90,5 ≦ Y ≦ 15, wherein The M1 element in the composition formula is composed of two or more elements selected from (Zr, Nb, Ta, Hf).
The reason why the composition ratio X of Co and Fe is set to 20 ≦ X ≦ 90 is that in a Co—Fe binary alloy film, the Co content is set to 20 to 90% by atomic ratio so that high saturation magnetization and softness are achieved. This is because a thin film having excellent magnetic properties can be produced.
The addition amount Y of two or more elements selected from M1 elements (Zr, Nb, Ta, Hf) is set to 5 ≦ Y ≦ 15 because two or more elements selected from M1 elements are added within this range. This is because there is an effect of promoting the amorphization of the thin film. This is because magnetostriction is further reduced, and soft magnetic characteristics are improved and corrosion resistance is improved.
また、本発明のＡ粉末およびＢ粉末は、所望の組成に成分調整した合金溶湯を鋳造したインゴットを粉砕して作製する方法、合金溶湯を不活性ガスを用いて噴霧することで粉末を形成するガスアトマイズ法によって作製することが可能である。なお、粉末の作製方法としては、不純物の混入が少なく、充填率が高く焼結に適した球状粉末が得られるガスアトマイズ法が好ましい。また、粉末の粒径としては、組織の粗大化を抑制するために平均粒径２５０μm以下とすることが好ましい。さらに粉末の充填率を高くし、焼結性を向上されるために、さらに好ましくは１５０μm以下である。 The A powder and B powder of the present invention are formed by pulverizing an ingot obtained by casting a molten alloy whose components are adjusted to a desired composition, and forming the powder by spraying the molten alloy using an inert gas. It can be produced by a gas atomization method. As a method for producing the powder, a gas atomizing method is preferable, in which a spherical powder having a small filling ratio and a high filling rate and suitable for sintering can be obtained. The particle size of the powder is preferably set to an average particle size of 250 μm or less in order to suppress coarsening of the structure. Further, in order to increase the filling rate of the powder and improve the sinterability, it is more preferably 150 μm or less.
また、混合粉末の加圧焼結方法としては、ホットプレス、熱間静水圧プレス、通電加圧焼結、熱間押し出しなどの方法を適用することができる。中でも熱間静水圧プレスは加圧圧力が高く、最高温度を低く抑えて拡散層の生成を抑制しても、緻密な焼結体が得られるため、特に好ましい。
なお、加圧焼結時の最高温度は８００℃以上、１２００℃以下の温度に設定することが好ましい。この理由は焼結温度が８００℃を下回ると、緻密な焼結体が得られ難く、１２００℃を超えると焼結中に合金粉末が溶解する場合があるためである。さらに、最高温度が高過ぎると、粉末粒子同士の拡散が進み、Ｃｏ−Ｆｅ拡散相が形成され、磁気モーメントが増加するため、さらに好ましくは９００℃から１１００℃の範囲に設定すると良い。
また、加圧焼結時の最高圧力は２０ＭＰａ以上に設定することが好ましい。その理由は最高圧力が２０ＭＰａを下回ると緻密な焼結体が得られないためである。
In addition, as a pressure sintering method for the mixed powder, methods such as hot pressing, hot isostatic pressing, energizing pressure sintering, and hot extrusion can be applied. Among them, the hot isostatic press is particularly preferable because the pressurization pressure is high and a dense sintered body can be obtained even if the maximum temperature is kept low to suppress the formation of the diffusion layer.
The maximum temperature during pressure sintering is preferably set to a temperature of 800 ° C. or higher and 1200 ° C. or lower. This is because when the sintering temperature is below 800 ° C., a dense sintered body is difficult to obtain, and when it exceeds 1200 ° C., the alloy powder may be dissolved during sintering. Furthermore, if the maximum temperature is too high, diffusion between the powder particles proceeds, a Co—Fe diffusion phase is formed, and the magnetic moment is increased. Therefore, the temperature is preferably set in the range of 900 ° C. to 1100 ° C.
The maximum pressure during pressure sintering is preferably set to 20 MPa or more. The reason is that if the maximum pressure is less than 20 MPa, a dense sintered body cannot be obtained.
本発明のスパッタリングターゲット材の化学組成は、（Ｃｒ、Ｂ、Ａｌ）から選ばれる１種または２種以上のＭ２元素が５原子％以下、好ましくは１原子％以上含有することが好ましい。
Ｍ２元素（Ｃｒ、Ｂ、Ａｌ）から選らばれる１種または２種以上の元素の添加することで、薄膜の耐食性の向上がさらに期待できるためである。
そして、本発明においては、Ｍ２元素をＡ粉末、Ｂ粉末のどちらに含有させてもよい。Ｍ２元素をＡ粉末に含有させた場合は、Ｆｅの磁気モーメントを低減させる効果があり、また、Ｍ２元素をＢ粉末に含有させた場合は、Ｃｏの磁気モーメントを低減させる効果があるためである。
なお、Ｍ２元素をＡ粉末あるいはＢ粉末に含有させる場合には、それぞれの粉末に１０原子％以上含有させることが望ましい。それは、Ｍ２元素を１０原子％以上含有させることでＦｅあるいはＣｏの磁気モーメントを十分に低減できるためである。
As for the chemical composition of the sputtering target material of the present invention, it is preferable that one or two or more kinds of M2 elements selected from (Cr, B, Al) are contained in an amount of 5 atomic% or less, preferably 1 atomic% or more.
This is because the addition of one or more elements selected from M2 elements (Cr, B, Al) can further improve the corrosion resistance of the thin film.
In the present invention, the M2 element may be contained in either the A powder or the B powder. This is because when the M2 element is contained in the A powder, there is an effect of reducing the magnetic moment of Fe, and when the M2 element is contained in the B powder, there is an effect of reducing the magnetic moment of Co. .
In addition, when M2 element is contained in A powder or B powder, it is desirable to contain 10 atomic% or more in each powder. This is because the magnetic moment of Fe or Co can be sufficiently reduced by containing 10 atomic% or more of the M2 element.
また、本発明においては、Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材の最大透磁率は２５０以下であることが望ましい。それは、最大透磁率が２５０以下であると、マグネトロンスパッタリング法で安定してスパッタリング放電するためである。さらに好ましくは２００以下である。 In the present invention, it is desirable that the maximum permeability of the Fe—Co alloy sputtering target material is 250 or less. This is because when the maximum permeability is 250 or less, sputtering discharge is stably performed by the magnetron sputtering method. More preferably, it is 200 or less.
また、本発明においては、Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材のＰＴＦは１０％以上であることが望ましい。
ＰＴＦとは、ターゲット材の漏洩磁束（Ｐａｓｓ−Ｔｈｒｏｕｇｈ−Ｆｌｕｘ、以下ＰＴＦと記す）である。このＰＴＦの測定は、ターゲット材の裏面に永久磁石を配置し、ターゲット材表面に漏洩する磁束を測定する方法で、マグネトロンスパッタ装置に近い状態の漏洩磁束を定量的に測定できる方法である。実際の測定はＡＳＴＭ Ｆ１７６１−００（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｐａｓｓ Ｔｈｒｏｕｇｈ Ｆｌｕｘ ｏｆ Ｃｉｒｃｕｌａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ Ｔａｒｇｅｔｓ）に基づいて行い、ＰＴＦは次式より求められる。
（ＰＴＦ）＝１００×（ターゲット材を置いた状態での磁束の強さ）÷（ターゲット材を置かない状態での磁束の強さ）（％）
なお、ＰＴＦは、スパッタリングターゲットの厚さとの相関があり、マグネトロンスパッタリングにおいては、スパッタリングの際の放電を安定させるために、一定以上の値が必要とされる。本発明者の検討によれば、ＰＴＦが１０％以上とすることによりマグネトロンスパッタリングにおいて安定した放電を得ることが可能となることを確認した。
In the present invention, the PTF of the Fe—Co alloy sputtering target material is desirably 10% or more.
The PTF is a leakage magnetic flux (Pass-Through-Flux, hereinafter referred to as PTF) of the target material. This PTF measurement is a method in which a permanent magnet is disposed on the back surface of the target material, and the magnetic flux leaking to the surface of the target material is measured, and the leakage magnetic flux close to the magnetron sputtering apparatus can be measured quantitatively. Actual measurement is performed based on ASTM F1761-00 (Standard Test Method for Pass Through Flux of Circular Magnetic Sputtering Targets), and PTF is obtained from the following equation.
(PTF) = 100 × (Magnetic strength with target material placed) ÷ (Magnetic strength with no target material placed) (%)
Note that PTF has a correlation with the thickness of the sputtering target, and in magnetron sputtering, a value of a certain level or more is required to stabilize the discharge during sputtering. According to the study of the present inventor, it was confirmed that a stable discharge can be obtained in magnetron sputtering by setting the PTF to 10% or more.
以下の実施例で本発明をさらに詳しく説明する。
以下の実施例では合金組成は全て（Ｃｏ６０−Ｆｅ４０）９２−（Ｚｒ６２．５―Ｔａ３７．５）８（原子％）とした。表１に示す各粉末をＡｒガスを用いたガスアトマイズ法によって作製した後、得られたアトマイズ粉末を２５０メッシュのふるいで分級した。それぞれのアトマイズ粉末を表１の組み合わせで混合粉末の組成が（Ｃｏ６０−Ｆｅ４０）９２−（Ｚｒ６２．５―Ｔａ３７．５）８（原子％）となるように、秤量し、混合した後、軟鋼カプセルに充填して脱気封止した。次いで、圧力１２２ＭＰａ、温度９５０℃、保持時間１時間の条件で熱間静水圧プレス法により焼結体を作製し、機械加工により直径１９０ｍｍ、厚さ７ｍｍのＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材を得た。
また、溶解鋳造により同一組成のインゴットを作製した後、機械加工を施して直径１９０ｍｍ、厚さ７ｍｍのＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材を得た。
The following examples further illustrate the present invention.
In the following examples all the alloy compositions (Co 60 -Fe 40) 92 - was (Zr 62.5 -Ta 37.5) 8 (atomic%). Each powder shown in Table 1 was produced by a gas atomizing method using Ar gas, and then the obtained atomized powder was classified with a 250 mesh sieve. Each atomized powder composition of the mixed powder in combination Table 1 (Co 60 -Fe 40) 92 - so that (Zr 62.5 -Ta 37.5) 8 (atomic%), were weighed and mixed Thereafter, it was filled in a mild steel capsule and degassed and sealed. Next, a sintered body was produced by hot isostatic pressing under conditions of a pressure of 122 MPa, a temperature of 950 ° C., and a holding time of 1 hour, and a Co—Fe based alloy target material having a diameter of 190 mm and a thickness of 7 mm was obtained by machining. .
Moreover, after producing the ingot of the same composition by melt casting, it machined and obtained the Co-Fe type-alloy target material of diameter 190mm and thickness 7mm.
作製した各ターゲット材の端材から長さ３０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ５ｍｍの試験片を採取した。さらに東英工業（株）製直流磁気特性測定装置ＴＲＦ５Ａを使用してこれらの試験片の磁化曲線を測定した。得られた磁化曲線から最大透磁率を求め、表２に示した。表２から、本発明例のターゲット材が比較例のターゲット材に比べ、低い最大透磁率を示していることがわかる。 A test piece having a length of 30 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 5 mm was collected from the end material of each of the prepared target materials. Furthermore, the magnetization curves of these test pieces were measured using a DC magnetic property measuring apparatus TRF5A manufactured by Toei Industry Co., Ltd. The maximum magnetic permeability was determined from the obtained magnetization curve and shown in Table 2. From Table 2, it can be seen that the target material of the present invention example shows a lower maximum magnetic permeability than the target material of the comparative example.
次に、作製した各ターゲット材のＰＴＦを測定し表３に示した。実際の測定はＡＳＴＭ Ｆ１７６１−００に基づいて行い、ＰＴＦは次式より求めた。
（ＰＴＦ）＝１００×（ターゲット材を置いた状態での磁束の強さ）÷（ターゲット材を置かない状態での磁束の強さ） （％）
Next, PTFs of the prepared target materials were measured and shown in Table 3. Actual measurement was performed based on ASTM F1761-00, and PTF was obtained from the following equation.
(PTF) = 100 × (Magnetic strength with target material placed) ÷ (Magnetic flux strength with no target material placed) (%)
ＰＴＦの測定結果を示した表３より、本発明例のターゲット材のＰＴＦは、比較例のターゲット材に比べ、高い値を示しており、上述した最大透磁率の測定結果と対応し、非常に強い漏洩磁束が得られることがわかる。 From Table 3 showing the measurement results of PTF, the PTF of the target material of the present invention example shows a higher value than the target material of the comparative example, and corresponds to the measurement result of the maximum magnetic permeability described above, which is very high. It can be seen that a strong leakage magnetic flux can be obtained.
以下の実施例では合金組成は全て（Ｃｏ７０−Ｆｅ３０）９０−（Ｚｒ６２．５―Ｔａ３７．５）８−（Ａｌ５０―Ｃｒ５０）２（原子％）とした。表４に示す各粉末をＡｒガスを用いたガスアトマイズ法によって作製した後、得られたアトマイズ粉末を２５０メッシュのふるいで分級した。それぞれのアトマイズ粉末を表４の組み合わせで混合粉末の組成が（Ｃｏ７０−Ｆｅ３０）９０−（Ｚｒ６２．５―Ｔａ３７．５）８−（Ａｌ５０―Ｃｒ５０）２（原子％）となるように、秤量し、混合した後、軟鋼カプセルに充填して脱気封止した。次いで、圧力１２２ＭＰａ、温度９５０℃、保持時間１時間の条件で熱間静水圧プレス法により焼結体を作製し、機械加工により直径１９０ｍｍ、厚さ７ｍｍのＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材を得た。
また、溶解鋳造により同一組成のインゴットを作製した後、機械加工を施して直径１９０ｍｍ、厚さ７ｍｍのＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材を得た。
In the following examples all the alloy composition (Co 70 -Fe 30) 90 - was (Al 50 -Cr 50) 2 (atomic%) - (Zr 62.5 -Ta 37.5 ) 8. Each powder shown in Table 4 was produced by a gas atomizing method using Ar gas, and then the obtained atomized powder was classified with a 250 mesh sieve. Each atomized powder composition of the mixed powder in combination Table 4 (Co 70 -Fe 30) 90 - and (Al 50 -Cr 50) 2 (atomic%) - (Zr 62.5 -Ta 37.5 ) 8 After weighing and mixing, a mild steel capsule was filled and deaerated and sealed. Next, a sintered body was produced by hot isostatic pressing under conditions of a pressure of 122 MPa, a temperature of 950 ° C., and a holding time of 1 hour, and a Co—Fe based alloy target material having a diameter of 190 mm and a thickness of 7 mm was obtained by machining. .
Moreover, after producing the ingot of the same composition by melt casting, it machined and obtained the Co-Fe type-alloy target material of diameter 190mm and thickness 7mm.
作製した各ターゲット材の端材から長さ３０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ５ｍｍの試験片を採取した。さらに東英工業（株）製直流磁気特性測定装置ＴＲＦ５Ａを使用してこれらの試験片の磁化曲線を測定した。得られた磁化曲線から最大透磁率を求め、表５に示した。表５から、本発明例のターゲット材が比較例のターゲット材に比べ、低い最大透磁率を示していることがわかる。 A test piece having a length of 30 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 5 mm was collected from the end material of each of the prepared target materials. Furthermore, the magnetization curves of these test pieces were measured using a DC magnetic property measuring apparatus TRF5A manufactured by Toei Industry Co., Ltd. The maximum magnetic permeability was determined from the obtained magnetization curve and shown in Table 5. From Table 5, it can be seen that the target material of the present invention example shows a lower maximum magnetic permeability than the target material of the comparative example.
以上より、２種以上のＭ１元素を１０原子％以上２０原子％以下含有するＦｅ合金粉末と、Ｃｏおよび／または１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末から選ばれる２種以上の粉末を混合した混合粉末を加圧焼結することにより作製した本発明のＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材は、低い最大透磁率と、強い漏洩磁束が得られることが確認できた。 From the above, two or more kinds of powders selected from Fe alloy powder containing 10 atomic% or more and 20 atomic% or less of two or more kinds of M1 elements and Co alloy powder containing Co and / or one or more kinds of M1 elements. It was confirmed that the Co—Fe-based alloy target material of the present invention produced by pressure sintering the mixed powder mixture obtained has a low maximum magnetic permeability and a strong leakage magnetic flux.
以下の実施例では合金組成は全て（Ｃｏ７０−Ｆｅ３０）９２−（Ｚｒ５７．１―Ｎｂ４２．９）７−Ａｌ１（原子％）とした。表６に示す各粉末をＡｒガスを用いたガスアトマイズ法によって作製した後、得られたアトマイズ粉末を２５０メッシュのふるいで分級した。それぞれのアトマイズ粉末を表６の組み合わせで混合粉末の組成が（Ｃｏ７０−Ｆｅ３０）９０−（Ｚｒ５７．１―Ｎｂ４２．９）７−Ａｌ１（原子％）となるように、秤量し、混合した後、軟鋼カプセルに充填して脱気封止した。次いで、圧力１２２ＭＰａ、温度９５０℃、保持時間１時間の条件で熱間静水圧プレス法により焼結体を作製し、機械加工により直径１９０ｍｍ、厚さ７ｍｍのＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材を得た。
また、溶解鋳造により同一組成のインゴットを作製した後、機械加工を施して直径１９０ｍｍ、厚さ７ｍｍのＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材を得た。
In the following examples all the alloy compositions (Co 70 -Fe 30) 92 - was (Zr 57.1 -Nb 42.9) 7 -Al 1 ( atomic%). Each powder shown in Table 6 was produced by a gas atomizing method using Ar gas, and then the obtained atomized powder was classified with a 250 mesh sieve. Each atomized powder composition of the mixed powder in combination Table 6 (Co 70 -Fe 30) 90 - so that (Zr 57.1 -Nb 42.9) 7 -Al 1 ( atomic%), were weighed After mixing, the mixture was filled in a mild steel capsule and degassed and sealed. Next, a sintered body was produced by hot isostatic pressing under conditions of a pressure of 122 MPa, a temperature of 950 ° C., and a holding time of 1 hour, and a Co—Fe based alloy target material having a diameter of 190 mm and a thickness of 7 mm was obtained by machining. .
Moreover, after producing the ingot of the same composition by melt casting, it machined and obtained the Co-Fe type-alloy target material of diameter 190mm and thickness 7mm.
作製した各ターゲット材の端材から長さ３０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ５ｍｍの試験片を採取した。さらに東英工業（株）製直流磁気特性測定装置ＴＲＦ５Ａを使用してこれらの試験片の磁化曲線を測定した。得られた磁化曲線から最大透磁率を求め、表７に示した。表７から、本発明例のターゲット材が比較例のターゲット材に比べ、低い最大透磁率を示していることがわかる。一方、試料９（比較例）では、Ｆｅ合金粉においてＦｅにＮｂのみを１０原子％未満しか添加していないため、最大透磁率が十分に低減されていないことがわかる。 A test piece having a length of 30 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 5 mm was collected from the end material of each of the prepared target materials. Furthermore, the magnetization curves of these test pieces were measured using a DC magnetic property measuring apparatus TRF5A manufactured by Toei Industry Co., Ltd. The maximum magnetic permeability was determined from the obtained magnetization curve and shown in Table 7. From Table 7, it can be seen that the target material of the present invention example shows a lower maximum magnetic permeability than the target material of the comparative example. On the other hand, in sample 9 (comparative example), it is found that the maximum magnetic permeability is not sufficiently reduced because only less than 10 atomic% of Nb is added to Fe in the Fe alloy powder.
以上より、２種以上のＭ１元素を１０原子％以上２０原子％以下含有するＦｅ合金粉末と、Ｃｏおよび／または１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末から選ばれる２種以上の粉末を混合した混合粉末を加圧焼結することにより作製した本発明のＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材は、低い最大透磁率と、強い漏洩磁束が得られることが確認できた。 From the above, two or more kinds of powders selected from Fe alloy powder containing 10 atomic% or more and 20 atomic% or less of two or more kinds of M1 elements and Co alloy powder containing Co and / or one or more kinds of M1 elements. It was confirmed that the Co—Fe-based alloy target material of the present invention produced by pressure sintering the mixed powder mixture obtained has a low maximum magnetic permeability and a strong leakage magnetic flux.
本発明では、Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材を、２種以上のＭ１元素を１０原子％以上２０原子％以下含有するＦｅ合金粉末と、Ｃｏおよび／または１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末から選ばれる２種以上の粉末を混合した混合粉末を加圧焼結して作製することにより、最大透磁率が低く、漏洩磁束が強いＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材が得られる。この結果、軟磁性膜形成に際して、安定したマグネトロンスパッタリングを行うことが可能となる。 In the present invention, a Co—Fe-based alloy sputtering target material includes Fe alloy powder containing 10 atomic% or more and 20 atomic% or less of two or more kinds of M1 elements, and Co containing Co and / or one or more kinds of M1 elements. By producing a mixed powder obtained by mixing two or more kinds of powders selected from alloy powders by pressure sintering, a Co—Fe alloy sputtering target material having a low maximum magnetic permeability and a strong leakage magnetic flux can be obtained. As a result, stable magnetron sputtering can be performed when forming the soft magnetic film.
Claims (4)
原子比における組成式がＦｅ１００−α−Ｍ１α、１０≦α≦２０で表され、Ｍ１元素が２種以上含まれるＦｅ合金粉末を粉末Ａ、
Ｃｏおよび／または１種以上のＭ１元素を含有するＣｏ合金粉末を粉末Ｂ、
としたとき、粉末Ａおよび粉末Ｂを前記組成式を満たすように混合した混合粉末を加圧焼結することを特徴とするＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法。 Composition formula in atomic ratio is represented by (Co X -Fe 100-X) 100-Y -M1 Y, 20 ≦ X ≦ 90,5 ≦ Y ≦ 15, M1 element of the composition formula (Zr, Nb, Ta , Hf), a method for producing a Co—Fe-based alloy sputtering target material that is two or more elements selected from:
A composition formula in atomic ratio is represented by Fe 100-α -M1 α , 10 ≦ α ≦ 20, and Fe alloy powder containing two or more kinds of M1 elements is powder A,
Co alloy powder containing Co and / or one or more M1 elements is powder B,
Then, the mixed powder obtained by mixing the powder A and the powder B so as to satisfy the composition formula is subjected to pressure sintering.
前記粉末Ａあるいは前記粉末Ｂのいずれか若しくは両方に、前記Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の組成を満たすようにＭ２元素を含有させた粉末を混合した混合粉末を加圧焼結することを特徴とする請求項１に記載のＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法。 Composition formula in atomic ratio is represented by (Co X -Fe 100-X) 100-Y-Z -M1 Y -M2 Z, 20 ≦ X ≦ 90,5 ≦ Y ≦ 10, Z ≦ 5, of the composition formula Co-Fe alloy in which M1 element is two or more elements selected from (Zr, Nb, Ta, Hf) and M2 element is one or more elements selected from (Cr, B, Al) A method for producing a sputtering target material, comprising:
A mixed powder obtained by mixing either or both of the powder A and the powder B with a powder containing M2 element so as to satisfy the composition of the Co—Fe based alloy sputtering target material is subjected to pressure sintering. The method for producing a Co—Fe based alloy sputtering target material according to claim 1.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010280964A (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Solar Applied Materials Technology Corp | Cobalt-iron alloy sputtering target material having high magnetic field transmittance |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06184740A (en) * | 1992-12-17 | 1994-07-05 | Hitachi Metals Ltd | Target for optomagnetic recording medium and production thereof |
| JP2008115461A (en) * | 2006-10-10 | 2008-05-22 | Hitachi Metals Ltd | Co-Fe-Zr-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF |
| JP2008127588A (en) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Sanyo Special Steel Co Ltd | (CoFe)ZrNb/Ta/Hf-BASED TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2008189996A (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Hitachi Metals Ltd | Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2008260969A (en) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL |
| JP2009068100A (en) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Sanyo Special Steel Co Ltd | Alloy for soft magnetic film layer in perpendicular magnetic recording medium, and target material |
| JP2009191359A (en) * | 2008-01-15 | 2009-08-27 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co-Zr BASED ALLOY TARGET MATERIAL |
| WO2009104509A1 (en) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | 日立金属株式会社 | Fe-co alloy sputtering target material for forming soft magnetic film |
| JP2009203537A (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Hitachi Metals Ltd | Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2010018884A (en) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2010024548A (en) * | 2008-06-17 | 2010-02-04 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING SOFT MAGNETIC FILM |
-
2009
- 2009-07-31 JP JP2009178978A patent/JP5418897B2/en active Active
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06184740A (en) * | 1992-12-17 | 1994-07-05 | Hitachi Metals Ltd | Target for optomagnetic recording medium and production thereof |
| JP2008115461A (en) * | 2006-10-10 | 2008-05-22 | Hitachi Metals Ltd | Co-Fe-Zr-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF |
| JP2008127588A (en) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Sanyo Special Steel Co Ltd | (CoFe)ZrNb/Ta/Hf-BASED TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2008189996A (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Hitachi Metals Ltd | Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2008260969A (en) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL |
| JP2009068100A (en) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Sanyo Special Steel Co Ltd | Alloy for soft magnetic film layer in perpendicular magnetic recording medium, and target material |
| JP2009191359A (en) * | 2008-01-15 | 2009-08-27 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co-Zr BASED ALLOY TARGET MATERIAL |
| WO2009104509A1 (en) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | 日立金属株式会社 | Fe-co alloy sputtering target material for forming soft magnetic film |
| JP2009203537A (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Hitachi Metals Ltd | Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2010018884A (en) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2010024548A (en) * | 2008-06-17 | 2010-02-04 | Hitachi Metals Ltd | Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING SOFT MAGNETIC FILM |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010280964A (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Solar Applied Materials Technology Corp | Cobalt-iron alloy sputtering target material having high magnetic field transmittance |
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