JP2010050108A - イオンビーム測定方法 - Google Patents
イオンビーム測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010050108A JP2010050108A JP2009273353A JP2009273353A JP2010050108A JP 2010050108 A JP2010050108 A JP 2010050108A JP 2009273353 A JP2009273353 A JP 2009273353A JP 2009273353 A JP2009273353 A JP 2009273353A JP 2010050108 A JP2010050108 A JP 2010050108A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion beam
- monitor
- ion
- mask plate
- detectors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims abstract description 123
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】 このイオンビーム測定方法は、イオンビーム2の一部を通過させる小孔62を有するマスク板60と、その下流側に設けられていて、前記小孔を通過したイオンビームを受けてそのビーム電流をそれぞれ検出する複数のビーム検出器12をX方向に有していて、Y方向に可動のビームモニタ10とを用いる。そして当該ビームモニタ10をY方向に移動させることによって、小孔62を通過したイオンビームのX方向およびY方向における中心位置x3 、y3 をそれぞれ測定し、その中心位置x3 、y3 とそれに対応する小孔62間のX方向およびY方向における距離L4 、L5 ならびにマスク板60とビームモニタ10間のZ方向における距離L3 に基づいて、小孔62を通過したイオンビームのX方向およびY方向における発散角αX 、αY をそれぞれ測定する。
【選択図】 図7
Description
θ=tan-1(L2 /L1 )
αX =tan-1(L4 /L3 )
αY =tan-1(L5 /L3 )
10 ビームモニタ
12 ビーム検出器
20 ビームモニタ
22 ビーム検出器
40a、40b 駆動装置
60 マスク板
62 小孔
Claims (3)
- イオンビームの設計上の進行方向をZ方向とし、Z方向と実質的に直交する面内において互いに実質的に直交する2方向をX方向およびY方向とすると、X方向の寸法よりもY方向の寸法が大きいリボン状のイオンビーム(2)についての測定方法であって、
前記リボン状のイオンビーム(2)の一部を通過させる小孔(62)をY方向に1以上有するマスク板(60)と、このマスク板(60)の下流側に設けられていて、前記小孔(62)を通過したイオンビーム(2a)を受けてそのビーム電流をそれぞれ検出する複数のビーム検出器(12)をX方向に有していて、Y方向に可動のビームモニタ(10)とを用いて、当該ビームモニタ(10)をY方向に移動させることによって、前記各小孔(62)を通過したイオンビーム(2a)のX方向およびY方向における中心位置(x3 、y3 )をそれぞれ測定し、当該測定したX方向およびY方向における中心位置(x3 、y3 )とそれに対応する前記小孔(62)間のX方向およびY方向における距離(L4 、L5 )ならびに前記マスク板(60)とビームモニタ(10)間のZ方向における距離(L3 )に基づいて、前記各小孔(62)を通過したイオンビーム(2a)のX方向およびY方向における発散角(αX 、αY )をそれぞれ測定することを特徴とするイオンビーム測定方法。 - 前記マスク板(60)は、前記小孔(62)をY方向に複数個有している、請求項1記載のイオンビーム測定方法。
- 前記ビームモニタ(10)は、前記X方向に直線状に並べた複数のビーム検出器(12)を前記Y方向に2列に、千鳥状に配置した構成をしている、請求項1または2記載のイオンビーム測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009273353A JP5311140B2 (ja) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | イオンビーム測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009273353A JP5311140B2 (ja) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | イオンビーム測定方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006329507A Division JP2008146863A (ja) | 2006-12-06 | 2006-12-06 | イオンビーム測定方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013003126A Division JP2013065578A (ja) | 2013-01-11 | 2013-01-11 | ビーム検出器の不良チェック方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010050108A true JP2010050108A (ja) | 2010-03-04 |
| JP5311140B2 JP5311140B2 (ja) | 2013-10-09 |
Family
ID=42066988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009273353A Active JP5311140B2 (ja) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | イオンビーム測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5311140B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150001606A (ko) | 2013-06-26 | 2015-01-06 | 가부시키가이샤 에스이엔 | 이온빔 측정장치 및 이온빔 측정방법 |
| JP2018063952A (ja) * | 2017-11-28 | 2018-04-19 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | ビーム照射装置 |
| CN109581470A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-05 | 德淮半导体有限公司 | 用于离子束测量的装置和方法 |
| JP2019121465A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社アルバック | イオン注入装置、ファラデーカップ集合装置 |
| US10825654B2 (en) | 2018-02-08 | 2020-11-03 | Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co., Ltd. | Ion implantation apparatus and measurement device |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01320748A (ja) * | 1988-06-23 | 1989-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子ビームの電流密度分布測定装置 |
| JPH03193455A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-23 | Seiko Epson Corp | インクジェットヘッド |
| JP2003190179A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-08 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波用穿刺針 |
| JP2004093151A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Japan Atom Energy Res Inst | 多孔スリットと可動式発光体を用いた荷電粒子ビームの質の測定法 |
| JP2005127800A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 |
| JP2005311019A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | Hitachi Ltd | 半導体パワーモジュール |
| JP2005327713A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオン注入装置 |
| JP2005353537A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Ulvac Japan Ltd | イオン注入装置 |
| JP2006500741A (ja) * | 2002-09-23 | 2006-01-05 | エピオン コーポレーション | ガスクラスタイオンビーム処理システム及び方法 |
| WO2006014565A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-02-09 | Axcelis Technologies, Inc. | Device and method for measurement of beam angle and divergence normal to plane of scanned beam or ribbon beam |
-
2009
- 2009-12-01 JP JP2009273353A patent/JP5311140B2/ja active Active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01320748A (ja) * | 1988-06-23 | 1989-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子ビームの電流密度分布測定装置 |
| JPH03193455A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-23 | Seiko Epson Corp | インクジェットヘッド |
| JP2003190179A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-08 | Olympus Optical Co Ltd | 超音波用穿刺針 |
| JP2004093151A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Japan Atom Energy Res Inst | 多孔スリットと可動式発光体を用いた荷電粒子ビームの質の測定法 |
| JP2006500741A (ja) * | 2002-09-23 | 2006-01-05 | エピオン コーポレーション | ガスクラスタイオンビーム処理システム及び方法 |
| JP2005127800A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 |
| JP2005311019A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | Hitachi Ltd | 半導体パワーモジュール |
| JP2005327713A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオン注入装置 |
| JP2005353537A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Ulvac Japan Ltd | イオン注入装置 |
| WO2006014565A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-02-09 | Axcelis Technologies, Inc. | Device and method for measurement of beam angle and divergence normal to plane of scanned beam or ribbon beam |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150001606A (ko) | 2013-06-26 | 2015-01-06 | 가부시키가이샤 에스이엔 | 이온빔 측정장치 및 이온빔 측정방법 |
| US9564292B2 (en) | 2013-06-26 | 2017-02-07 | Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co., Ltd. | Ion beam measuring device and method of measuring ion beam |
| JP2018063952A (ja) * | 2017-11-28 | 2018-04-19 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | ビーム照射装置 |
| JP2019121465A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社アルバック | イオン注入装置、ファラデーカップ集合装置 |
| US10825654B2 (en) | 2018-02-08 | 2020-11-03 | Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co., Ltd. | Ion implantation apparatus and measurement device |
| CN109581470A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-05 | 德淮半导体有限公司 | 用于离子束测量的装置和方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5311140B2 (ja) | 2013-10-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5311140B2 (ja) | イオンビーム測定方法 | |
| TWI421642B (zh) | 使用x射線的疊對量測 | |
| CN103453848B (zh) | 用于测量机器元件的形状、位置和规格特征的设备和方法 | |
| JP6150632B2 (ja) | イオンビーム測定装置及びイオンビーム測定方法 | |
| US8848198B2 (en) | Method for determining the tilt of an image sensor | |
| CN108010875B (zh) | 基板校准装置以及检测系统 | |
| JP2001305108A (ja) | 渦流探傷装置 | |
| JP2018128702A (ja) | Semオーバーレイ計測のシステムおよび方法 | |
| KR20210065084A (ko) | 소각 x선 산란 계측 | |
| KR101209518B1 (ko) | 헬리컬 ct장치 | |
| KR101862692B1 (ko) | 검사 설비, 검사 방법 및 검사 시스템 | |
| KR20130083345A (ko) | 다중 병렬 공초점 시스템 | |
| US20180329312A1 (en) | Method of determining an overlay error, manufacturing method and system for manufacturing of a multilayer semiconductor device, and semiconductor device manufactured thereby | |
| WO2016107508A1 (zh) | 自适应沟槽的调焦调平装置及其方法 | |
| JP2008146863A (ja) | イオンビーム測定方法 | |
| US10658210B2 (en) | Apparatus and method for detecting overlay mark with bright and dark fields | |
| US10458778B2 (en) | Inline metrology on air flotation for PCB applications | |
| US20170178314A1 (en) | Pattern inspection apparatus and pattern inspection method | |
| JP2013065578A (ja) | ビーム検出器の不良チェック方法 | |
| CN103454071A (zh) | 一种x射线组合折射透镜的聚焦性能测试方法 | |
| TW201732304A (zh) | 電子部件裝載狀態檢測裝置 | |
| JP5751514B2 (ja) | 球体の球径寸法測定方法及びその測定装置 | |
| JP5851254B2 (ja) | 検査装置、検査方法および検査プログラム | |
| JP2013178246A (ja) | マイクロ回折方法及び装置 | |
| JP2008122349A (ja) | 測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091202 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120724 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120820 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120925 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121015 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121120 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130111 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130121 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130416 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130429 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130619 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5311140 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |