JP2006500741A - ガスクラスタイオンビーム処理システム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ビーム電流400μAでN/q比5000のとき、ビームは27SCCMのガス流を運搬する。典型的なGCIB処理機械の場合には、イオナイザーと処理対象物は典型的にはそれぞれ別々のチャンバ内に含まれる。これで基板処理圧力の制御が改善される。しかし、大量ガスを運搬するビームにおける大部分の困難性はビーム電流測定に関して起きる。クラスタビームがファラデーカップの内側に照射されるとき全ガスが放出される。ファラデーカップ内でのビームによる電荷交換とガスイオン化は極端となり、従来型ファラデーカップでは大きな測定誤差が起きる。
Claims (22)
- ガスクラスタイオンビームの空間荷電を少なくとも部分的に中和させる低エネルギー電子源であって、
電子放出用フィラメントと、
該フィラメントをバイアスし、低エネルギー電子放出を促すフィラメント電源と、
該フィラメントから離れる方向で、軸を有したガスクラスタイオンビーム方向に向けて該電子を加速させ、該ガスクラスタイオンビームの空間荷電に対して中和作用を及ぼす陽(正)電極と、
該フィラメントに対して該陽電極をバイアスする加速電源と、
前記加速電子を減速させる減速電極と、
前記フィラメントに対して該減速電極をバイアスする手段と、
を含んで構成されていることを特徴とする電子源。 - 減速電極は円筒状であって、ガスクラスタイオンビーム軸と同軸であり、陽電極とガスクラスタイオンビームとの間に提供されており、該陽電極は円筒状であって、該ガスクラスタイオンビーム軸と同軸であり、フィラメントとガスクラスタビームとの間に提供されていることを特徴とする請求項1記載の電子源。
- 減速電極はガスクラスタイオンビームを通過させる開口部を含んでいることを特徴とする請求項2記載の電子源。
- ガスクラスタイオンビーム軸と同軸である円筒状電子反発電極と、
フィラメントに対して該電子反発電極をバイアスさせる電源と、
をさらに含んでおり、該フィラメントは該電子反発電極と加速電極との間に提供されており、該電子反発電極は該加速電極に向けて電子を反発させるべくバイアスされていることを特徴とする請求項2記載の電子源。 - バイアスする手段はフィラメントの1端部に減速電極を直流接続させることを特徴とする請求項1記載の電子源。
- 陽電極の少なくとも一部は90%以上の電子透過度を有した導電性メッシュを含んでおり、減速電極の少なくとも一部は90%以上の電子透過度を有した導電性メッシュを含んでいることを特徴とする請求項2記載の電子源。
- 減速された電子は10電子ボルト以内のエネルギーを有していることを特徴とする請求項2記載の電子源。
- フィラメントはガスクラスタイオンビーム軸に平行であって、該ガスクラスタイオンビーム周囲で等間隔に配置された複数のフィラメントを含んでいることを特徴とする請求項2記載の電子源。
- 通気型ファラデーカップであって、
ガスクラスタイオンビームを受領する表面を有した導電性衝撃プレートと、
該衝撃プレートを包囲し、その前方で延びてカップ形状を提供し、間隔を開けて配置された複数の同軸導電リング電極を含んだ通気型容器と、
該衝撃プレートによって回収された電流を電流測定システムに導く導電手段と、
を含んで構成されており、前記導電リング電極は少なくとも2体のリング電極で成る少なくとも3群で構成されて電気的に接続されており、それぞれの群は独立的にバイアスされており、本カップ内外への不都合な荷電粒子漏出を防止することを特徴とするファラデーカップ。 - 導電性衝撃プレートの表面は鋸状溝を含んでいることを特徴とする請求項9記載のファラデーカップ。
- 導電性衝撃プレートに最も接近した導電リング電極群は該衝撃プレートに対して負にバイアスされており、少なくとも3つの導電リング電極群の1以上は導電性衝撃プレートの電位でバイアスされることを特徴とする請求項9記載のファラデーカップ。
- 導電性衝撃プレートに最も接近した導電リング電極群は該衝撃プレートに対して第1負電位にバイアスされており、少なくとも3つの導電リング電極群の1以上はその導電性衝撃プレートの電位でバイアスされ、少なくとも3つの導電リング電極群の1つ以上はその導電性衝撃プレートに対して第2負電位にバイアスされることを特徴とする請求項9記載のファラデーカップ。
- 導電性衝撃プレートは円形であり、複数の導電リング電極は円形であり、鋸状溝は円形であり、前記導電リング電極と前記鋸状溝はガスクラスタイオンビーム軸と同心であることを特徴とする請求項10記載のファラデーカップ。
- 隣接導電リング電極は隣接リング電極の環状放射延長部よりも小型であることを特徴とする請求項9記載のファラデーカップ。
- 対象物表面のガスクラスタイオンビーム処理のための改良システムであって、
真空チャンバと、
該真空チャンバ内に設置され、ビーム軸を有したガスクラスタイオンビームを形成させるガスクラスタイオンビーム源と、
該真空チャンバ内で対象物を保持し、該対象物をガスクラスタイオンビーム内に配置して処理させ、処理を終了させるために該対象物を該ガスクラスタイオンビームから取り出す対象物ホルダーと、
該真空チャンバ内に設置され、該ガスクラスタビームの空間荷電を中和させる低エネルギー電子源と、
該真空チャンバ内に設置され、ガスクラスタイオンビーム電流を回収して測定させ、前記対象物の処理を制御するための通気型ファラデーカップと、
を含んで構成されることを特徴とする改良システム。 - 低エネルギー電子源は、
電子放出用のフィラメントと、
該フィラメントから離れる方向で、軸を有したガスクラスタイオンビーム方向に向けて該電子を加速させる陽(正)電極と、
前記加速電子を減速させる減速電極と、
前記フィラメントをバイアスして電子放出を促すフィラメント電源と、
該フィラメントに対して前記陽電極をバイアスする加速電源と、
該フィラメントに対して前記減速電極をバイアスする手段と、
を含んで構成されていることを特徴とする請求項15記載の改良システム。 - 通気型ファラデーカップは、
ガスクラスタイオンビームを受領する表面を有した導電性衝撃プレートと、
該衝撃プレートを包囲してその前方で延びており、間隔を開けて配置された複数の導電リング電極を含んだ通気型容器と、
前記ファラデーカップによって回収された電流を電流測定システムに導く導電手段と、
を含んで構成されており、前記複数の導電リング電極は、独立的にバイアスされた少なくとも3群で電気的に接続されており、前記ファラデーカップ内外への不都合な荷電粒子漏出を防止し、
該少なくとも3群の電気的に接続されたリング電極のそれぞれは複数のリング電極を含んでいることを特徴とする請求項15記載の改良システム。 - ガスクラスタイオンビーム電流は300マイクロアンペア以上であり、あるいはガスクラスタイオンビームはファラデーカップの衝撃プレートで20標準立方センチ/分以上のガス流を放出することを特徴とする請求項15記載の改良システム。
- 対象物表面のガスクラスタイオンビーム処理のための改良システムであって、
真空チャンバと、
該真空チャンバ内に設置され、ビーム軸を有したガスクラスタイオンビームを形成させるガスクラスタイオンビーム源と、
該真空チャンバ内にて該対象物をガスクラスタイオンビーム通路内に保持する対象物ホルダーと、
該真空チャンバ内に設置され、該ガスクラスタビームの空間荷電を中和させる低エネルギー電子源と、
該真空チャンバ内に設置され、ガスクラスタイオンビーム電流を回収して測定させ、前記対象物の処理を制御するための通気型ファラデーカップと、
を含んで構成されることを特徴とする改良システム。 - 低エネルギー電子源は、
電子放出用のフィラメントと、
該フィラメントから離れる方向でガスクラスタイオンビーム方向に向けて該電子を加速させる陽(正)電極と、
前記加速電子を減速させる減速電極と、
前記フィラメントをバイアスして電子放出を促すフィラメント電源と、
該フィラメントに対して前記陽電極をバイアスする加速電源と、
該フィラメントに対して前記減速電極をバイアスする手段と、
を含んで構成されていることを特徴とする請求項19記載の改良システム。 - ガスクラスタイオンビームの空間荷電を少なくとも部分的に中和する方法であって、
複数の低エネルギー電子を発生させるステップと、
該低エネルギー電子をガスクラスタイオンビームに向けて加速させるステップと、
該低エネルギー電子を減速させてガスクラスタイオンビームを含んだ領域に該電子を照射させ、該ガスクラスタイオンビームの空間荷電を少なくとも部分的に中和させるステップと、
を含んで構成されていることを特徴とする方法。 - ガスクラスターイオンビームを含んだ領域を通過する低エネルギー電子を該領域に向けて再照射させるステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項21記載の方法。
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