JP2010050014A - Light-emitting device and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To raise the intensity of target color for each pixel at high color purity without complicating manufacturing processes. <P>SOLUTION: The color pixel 1 includes a sub-pixel 2r for emitting red light R, a sub-pixel 2g for emitting green light G, a sub-pixel 2b for emitting blue light B, and a sub-pixel 2w for emitting white light W. The sub-pixel 2w for white color is divided into a first zone 3r for emitting the red light R, a second zone 3g for emitting the green light G, and a third zone 3b for emitting the blue light B. A resonator structure for resonating light emitted from a light-emitting layer between a light reflecting layer and a semi-transmission reflecting layer is formed on each of the sub-pixels 2r, 2g, and 2b and each of the first-third zones 3r, 3g, and 3b of the sub-pixel 2w. The first zone 3r of the sub-pixel 2w has the resonator structure equal to that of the sub-pixel 2r, the second zone 3g of the sub-pixel 2w has the resonator structure equal to that of the sub-pixel 2g, and the third zone 3b of the sub-pixel 2w has the resonator structure equal to that of the sub-pixel 2b. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光装置および電子機器に関する。   The present invention relates to a light emitting device and an electronic apparatus.

例えば特許文献1には、反射層を兼ねた第1電極と半透明反射層との間に有機発光層を配置し、有機発光層で発生した光を第1電極(反射層)と半透明反射層との間で共振させる共振器構造が開示されている。この共振器構造を用いれば、第1電極(反射層)と半透明反射層との間の光学的距離を調整することで、スペクトルのピーク幅が狭く強度も高いR光,G光,B光を表示に利用することができる。
国際公開第01/039554号パンフレット
For example, in Patent Document 1, an organic light emitting layer is disposed between a first electrode that also serves as a reflective layer and a semitransparent reflective layer, and light generated in the organic light emitting layer is reflected on the first electrode (reflective layer) and translucently reflected. A resonator structure for resonating with a layer is disclosed. If this resonator structure is used, by adjusting the optical distance between the first electrode (reflective layer) and the translucent reflective layer, the spectrum light has a narrow peak width and high intensity, such as R light, G light, and B light. Can be used for display.
International Publication No. 01/039554 Pamphlet

ところで、白色輝度を向上させるためRGBの各サブ画素に加え、W(白色)のサブ画素を設ける場合がある。しかしながら、白色光はスペクトルのピークが複数存在するため、共振器構造によって特定の波長を強めてしまうと、例えば赤みを帯びた白色光や青みを帯びた白色光になってしまう。なお、共振波長を紫外や赤外に設定すれば白色光が赤みを帯びたり青みを帯びたりすることは避けられるが、この場合は白色光の取り出し効率が低下してしまう。また、共振波長を紫外や赤外に設定しなければならないので成膜工程やフォトリソ工程も増える。
一方、Wのサブ画素だけ共振器構造を採用しない構成とすることも考えられるが、このためにはWのサブ画素の部分だけ半透明反射膜をなくす必要がある。この場合、半透明反射膜のパターニングが必要になる。また、半透明反射膜が電極を兼ねている場合には、代わりの透明電極を作成しなければならない。
By the way, in order to improve white luminance, in addition to RGB sub-pixels, W (white) sub-pixels may be provided. However, since white light has a plurality of spectral peaks, if a specific wavelength is increased by the resonator structure, for example, red light or blue light is generated. If the resonance wavelength is set to ultraviolet or infrared, white light can be prevented from being reddish or bluish, but in this case, the extraction efficiency of white light is reduced. In addition, since the resonance wavelength must be set to ultraviolet or infrared, the number of film forming steps and photolithography steps increases.
On the other hand, it is conceivable to adopt a configuration in which only the W sub-pixel does not employ the resonator structure. For this purpose, it is necessary to eliminate the semitransparent reflective film only in the W sub-pixel portion. In this case, patterning of the translucent reflective film is necessary. In addition, when the translucent reflective film also serves as an electrode, an alternative transparent electrode must be created.

さらにWのサブ画素以外であっても、例えば、黄色の輝度の向上を狙ってRGBの各サブ画素に加え、Y(黄色)のサブ画素を設ける場合がある。このような場合に共振器構造を用いてYのサブ画素からもスペクトルのピーク幅が狭く強度も高いY光を取り出そうとすると、Y光のピーク波長が共振波長となるように光学的距離を定める必要がある。つまりRやGやBの場合とは異なるY用の共振器構造を新たに形成しなければならない。   Further, in addition to the W sub-pixel, for example, a Y (yellow) sub-pixel may be provided in addition to the RGB sub-pixels in order to improve the yellow luminance. In such a case, if an attempt is made to extract Y light having a narrow spectrum peak width and high intensity from the Y sub-pixel using the resonator structure, the optical distance is determined so that the peak wavelength of the Y light becomes the resonance wavelength. There is a need. That is, it is necessary to newly form a resonator structure for Y different from the case of R, G, and B.

本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、製造工程を複雑化することなく、各画素において目的とする色の輝度を高い色純度で上げることが可能な発光装置、およびこれを用いた電子機器を提供することを課題とする。
また、本発明は、製造工程を複雑化することなく、白色用のサブ画素から出射される白色光の色純度と取り出し効率を高めることが可能な発光装置、およびこれを用いた電子機器を提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of the above-described problems, and a light-emitting device capable of increasing the luminance of a target color in each pixel with high color purity without complicating the manufacturing process, and the same It is an object to provide a used electronic device.
In addition, the present invention provides a light emitting device capable of increasing the color purity and extraction efficiency of white light emitted from a white sub-pixel without complicating the manufacturing process, and an electronic apparatus using the light emitting device The task is to do.

以上の課題を解決するため、本発明に係る発光装置は、異なる色の第1出射光を各々出射する複数の第1サブ画素と、いずれの前記第1サブ画素とも異なる色の第1出射光を出射する第2サブ画素とを有する画素を備え、前記第2サブ画素は、異なる色の第2出射光を各々出射する2以上の個別領域を有し、前記個別領域の各々からの前記第2出射光は、いずれかの前記第1サブ画素からの前記第1出射光と同じ色であり、前記個別領域の各々からの前記第2出射光が合成されて前記第2サブ画素からの前記第1出射光になると共に、前記第1サブ画素の各々からの前記第1出射光と、前記第2サブ画素からの前記第1出射光とが合成されて前記画素からの出射光になり、前記第1サブ画素の各々と前記個別領域の各々には、光反射層と、半透過反射層と、前記光反射層と前記半透過反射層との間に介在する発光層とが形成されると共に、前記発光層から発せられた光を前記光反射層と前記半透過反射層との間で共振させる共振器構造が形成されており、前記個別領域の各々は、当該個別領域からの前記第2出射光と同じ色の前記第1出射光を出射する前記第1サブ画素と前記共振器構造が同じであることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a light-emitting device according to the present invention includes a plurality of first sub-pixels that respectively emit different colors of first emitted light, and first emitted light having a color different from any of the first sub-pixels. The second sub-pixel has two or more individual areas each emitting a second emitted light of a different color, and the second sub-pixel emits the second sub-pixel from each of the individual areas. The two outgoing lights have the same color as the first outgoing light from any of the first sub-pixels, and the second outgoing lights from each of the individual regions are combined to generate the second outgoing light from the second sub-pixels. The first emitted light from each of the first sub-pixels and the first emitted light from the second sub-pixels are combined to become the emitted light from the pixels. Each of the first sub-pixels and each of the individual regions includes a light reflecting layer, a half A hyperreflective layer and a light emitting layer interposed between the light reflective layer and the semi-transmissive reflective layer are formed, and light emitted from the light-emitting layer is transmitted to the light reflective layer and the semi-transmissive reflective layer. Each of the individual regions includes the first sub-pixel that emits the first emitted light of the same color as the second emitted light from the individual region, and The resonator structure is the same.

この構成によれば、第2サブ画素に備わる個別領域の各々は、当該個別領域からの第2出射光と同じ色の第1出射光を出射する第1サブ画素と共振器構造が同じである。なお、共振器構造が同じであるとは、具体的には、光反射層から半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さと、これらの複数の層の各々を形成する材料が同じであることを意味する。したがって、第2サブ画素の各個別領域は、いずれかの第1サブ画素と同じ製造プロセスで製造することができる。また、第2サブ画素の各個別領域からは、共振器構造によってスペクトルのピーク幅が狭く強度も高められた出射光(第2出射光)が得られる。したがって、これらの光が合わさって最終的に第2サブ画素から出射される光(第1出射光)についても、色純度が高く取り出し効率も高いものとなる。また、第2サブ画素における各個別領域の面積比率を調整したり、どの色の出射光が得られる個別領域を第2サブ画素に設けるかによって、最終的に第2サブ画素から出射される光の色を変えることができる。
よって、製造工程を複雑化することなく、各画素において目的とする色の輝度を高い色純度で上げることができる。
According to this configuration, each of the individual regions included in the second subpixel has the same resonator structure as the first subpixel that emits the first emitted light having the same color as the second emitted light from the individual region. . Note that the resonator structures are the same, specifically, the thickness of each of the plurality of layers from the light reflecting layer to the semi-transmissive reflecting layer and the material forming each of the plurality of layers. Means the same. Therefore, each individual region of the second subpixel can be manufactured by the same manufacturing process as any of the first subpixels. Further, from each individual region of the second sub-pixel, outgoing light (second outgoing light) having a narrow spectrum peak width and an increased intensity is obtained by the resonator structure. Accordingly, the light (first outgoing light) that is finally emitted from the second sub-pixel when these lights are combined also has high color purity and high extraction efficiency. Further, the light finally emitted from the second sub-pixel is adjusted by adjusting the area ratio of each individual region in the second sub-pixel or by providing the second sub-pixel with an individual region from which the emitted light of which color is obtained. The color of can be changed.
Therefore, the luminance of the target color in each pixel can be increased with high color purity without complicating the manufacturing process.

なお、上述した発光装置において、光反射層は画素電極や共通電極といった電極を兼ねるものであってもよい。これは半透過反射層についても同様である。また、発光層は、正孔輸送・注入層、発光層、電子輸送・注入層などの複数の層から構成されてもよいし、発光色の異なる複数の層で構成されてもよい。また、光反射層と半透過反射層との間には、透明材料などの光透過性を有する材料で形成された、画素電極、共通電極、絶縁層などが含まれてもよい。また、1つの画素は、出射光の色が異なる第1サブ画素を少なくとも2つ有していればよい。第2サブ画素についても少なくとも2つの個別領域を有していればよい。また、発光装置は、複数の第1サブ画素と第2サブ画素を有する画素を複数備えていてもよい。   In the light emitting device described above, the light reflecting layer may also serve as an electrode such as a pixel electrode or a common electrode. The same applies to the transflective layer. The light emitting layer may be composed of a plurality of layers such as a hole transport / injection layer, a light emitting layer, and an electron transport / injection layer, or may be composed of a plurality of layers having different emission colors. Further, a pixel electrode, a common electrode, an insulating layer, or the like formed of a light-transmitting material such as a transparent material may be included between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer. One pixel only needs to have at least two first sub-pixels having different colors of emitted light. The second sub-pixel only needs to have at least two individual regions. The light emitting device may include a plurality of pixels each having a plurality of first subpixels and second subpixels.

また、上述した発光装置において、前記個別領域の各々は、当該個別領域からの前記第2出射光と同じ色の前記第1出射光を出射する前記第1サブ画素と、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じである構成であってもよい。
なお、光反射層から半透過反射層までの間の複数の層には、光反射層と発光層と半透過反射層に加え、透明材料などの光透過性を有する材料で形成された、画素電極、共通電極、絶縁層などが含まれてもよい。
Further, in the light emitting device described above, each of the individual regions includes the first sub-pixel that emits the first emitted light having the same color as the second emitted light from the individual region, and the light reflecting layer. The thickness of each of the plurality of layers up to the transflective layer and the material forming each of the plurality of layers may be the same.
In addition, the plurality of layers between the light reflection layer and the semi-transmission reflection layer are pixels formed of a light-transmitting material such as a transparent material in addition to the light reflection layer, the light-emitting layer, and the semi-transmission reflection layer. An electrode, a common electrode, an insulating layer, and the like may be included.

また、上述した発光装置において、前記第2サブ画素は、当該第2サブ画素が有する全ての前記個別領域にわたって連続して形成された第1電極と、前記発光層を挟んで前記第1電極とは反対側に配置された第2電極とを備える構成であってもよい。この場合、第1電極と第2電極との間に電気エネルギーを加えることによって、第2サブ画素に備わる全ての個別領域を同時に制御できる。
また、前記第1電極は、光透過性を有する導電材料で形成され、前記光反射層と前記半透過反射層との間に配置され、前記第2出射光の色が異なる前記個別領域間で厚さが異なる構成であってもよい。
In the light emitting device described above, the second subpixel includes a first electrode formed continuously over all the individual regions of the second subpixel, and the first electrode with the light emitting layer interposed therebetween. May comprise a second electrode disposed on the opposite side. In this case, by applying electric energy between the first electrode and the second electrode, it is possible to simultaneously control all the individual regions included in the second subpixel.
Further, the first electrode is formed of a light-transmitting conductive material, and is disposed between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer, and between the individual regions having different colors of the second emitted light. The structure from which thickness differs may be sufficient.

また、上述した発光装置において、前記半透過反射層を挟んで前記発光層とは反対側に配置され、前記個別領域同士の境界部分を遮光する遮光層をさらに備える構成であってもよい。共振器構造が異なると個別領域同士の境界部分では、光反射層と半透過反射層との間に介在する1以上の層で段差が生じる。この段差の部分を遮光することにより、第2サブ画素からの出射光について輝度や色純度のバラツキを抑えることができる。   In the above-described light emitting device, the light emitting device may further include a light shielding layer that is disposed on the opposite side of the light emitting layer with the transflective layer interposed therebetween and shields a boundary portion between the individual regions. When the resonator structure is different, a step is generated in one or more layers interposed between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer at the boundary between the individual regions. By shielding this stepped portion, variations in luminance and color purity can be suppressed for the light emitted from the second sub-pixel.

また、本発明に係る発光装置は、赤色の出射光を出射する第1サブ画素と、緑色の出射光を出射する第2サブ画素と、青色の出射光を出射する第3サブ画素と、白色の出射光を出射する第4サブ画素とを有する画素を備え、前記第4サブ画素は、赤色の出射光が出射される第1領域と、緑色の出射光が出射される第2領域と、青色の出射光が出射される第3領域とを有し、前記第1乃至第3領域の各々からの出射光が合成されて前記第4サブ画素からの白色の出射光になると共に、前記第1乃至第3サブ画素の各々からの出射光と、前記第4サブ画素からの白色の出射光とが合成されて前記画素からの出射光になり、前記第1乃至第3サブ画素の各々と、前記第4サブ画素における前記第1乃至第3領域の各々には、光反射層と、半透過反射層と、前記光反射層と前記半透過反射層との間に介在する発光層とが形成されると共に、前記発光層から発せられた光を前記光反射層と前記半透過反射層との間で共振させる共振器構造が形成されており、前記第1領域の前記共振器構造は前記第1サブ画素の前記共振器構造と同じであり、前記第2領域の前記共振器構造は前記第2サブ画素の前記共振器構造と同じであり、前記第3領域の前記共振器構造は前記第3サブ画素の前記共振器構造と同じであることを特徴とする。   Further, the light emitting device according to the present invention includes a first sub-pixel that emits red emitted light, a second sub-pixel that emits green emitted light, a third sub-pixel that emits blue emitted light, and white A fourth sub-pixel that emits the emitted light, and the fourth sub-pixel includes a first region from which the red emitted light is emitted, a second region from which the green emitted light is emitted, A third region from which the blue emitted light is emitted, and the emitted light from each of the first to third regions is combined into white emitted light from the fourth sub-pixel, and The light emitted from each of the first to third sub-pixels and the white light emitted from the fourth sub-pixel are combined to become light emitted from the pixels, and each of the first to third sub-pixels In each of the first to third regions in the fourth sub-pixel, a light reflection layer and a semi-transmissive reflection And a light emitting layer interposed between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflective layer, and light emitted from the light emitting layer between the light reflective layer and the semi-transmissive reflective layer. A resonator structure to be resonated is formed, the resonator structure of the first region is the same as the resonator structure of the first subpixel, and the resonator structure of the second region is the second substructure. The resonator structure of the pixel is the same, and the resonator structure of the third region is the same as the resonator structure of the third sub-pixel.

この構成によれば、第4サブ画素の第1領域は第1サブ画素と共振器構造が同じであり、第4サブ画素の第2領域は第2サブ画素と共振器構造が同じであり、第4サブ画素の第3領域は第3サブ画素と共振器構造が同じである。なお、共振器構造が同じであるとは、具体的には、光反射層から半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さと、これらの複数の層の各々を形成する材料が同じであることを意味する。
したがって、第4サブ画素の第1領域は第1サブ画素と同じ製造プロセスで製造することができ、第4サブ画素の第2領域は第2サブ画素と同じ製造プロセスで製造することができ、第4サブ画素の第3領域は第3サブ画素と同じ製造プロセスで製造することができる。また、第4サブ画素の第1乃至第3領域からは、共振器構造によってスペクトルのピーク幅が狭く強度も高められた赤色光と緑色光と青色光が出射される。したがって、これらの光が合わさって最終的に第4サブ画素から出射される白色光についても、色純度が高く取り出し効率も高いものとなる。
よって、製造工程を複雑化することなく、白色用のサブ画素から出射される白色光の色純度と取り出し効率を高めることができる。
According to this configuration, the first region of the fourth subpixel has the same resonator structure as the first subpixel, the second region of the fourth subpixel has the same resonator structure as the second subpixel, The third region of the fourth subpixel has the same resonator structure as the third subpixel. Note that the resonator structures are the same, specifically, the thickness of each of the plurality of layers from the light reflecting layer to the semi-transmissive reflecting layer and the material forming each of the plurality of layers. Means the same.
Therefore, the first region of the fourth subpixel can be manufactured by the same manufacturing process as the first subpixel, the second region of the fourth subpixel can be manufactured by the same manufacturing process as the second subpixel, The third region of the fourth subpixel can be manufactured by the same manufacturing process as that of the third subpixel. In addition, from the first to third regions of the fourth subpixel, red light, green light, and blue light having a narrow spectrum peak width and high intensity are emitted by the resonator structure. Therefore, the white light finally emitted from the fourth sub-pixel when these lights are combined also has high color purity and high extraction efficiency.
Therefore, the color purity and extraction efficiency of white light emitted from the white subpixel can be increased without complicating the manufacturing process.

なお、この発光装置においても、光反射層は画素電極や共通電極といった電極を兼ねるものであってよい。これは半透過反射層についても同様である。また、発光層は、正孔輸送・注入層、発光層、電子輸送・注入層などの複数の層から構成されてもよいし、発光色の異なる複数の層で構成されてもよい。また、光反射層と半透過反射層との間には、透明材料などの光透過性を有する材料で形成された、画素電極、共通電極、絶縁層などが含まれてもよい。また、1つの画素は、少なくとも第1乃至第4サブ画素を有していればよく、例えば出射光の色が黄色や紫色である第5サブ画素をさらに備えてもよい。また、第4サブ画素は、第1乃至第3領域を有していればよく、例えば、第1領域を2つ、第2領域を2つ、第3領域を1つ有する構成であってもよい。また、発光装置は、第1乃至第4サブ画素を有する画素を複数備えていてもよい。   In this light emitting device, the light reflecting layer may also serve as an electrode such as a pixel electrode or a common electrode. The same applies to the transflective layer. The light emitting layer may be composed of a plurality of layers such as a hole transport / injection layer, a light emitting layer, and an electron transport / injection layer, or may be composed of a plurality of layers having different emission colors. Further, a pixel electrode, a common electrode, an insulating layer, or the like formed of a light-transmitting material such as a transparent material may be included between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer. One pixel only needs to include at least first to fourth subpixels, and may further include, for example, a fifth subpixel in which the color of the emitted light is yellow or purple. Further, the fourth subpixel only needs to have first to third regions. For example, the fourth subpixel may have two first regions, two second regions, and one third region. Good. In addition, the light emitting device may include a plurality of pixels having first to fourth subpixels.

また、上述した発光装置において、前記第1領域と前記第1サブ画素とで、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じであり、前記第2領域と前記第2サブ画素とで、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じであり、前記第3領域と前記第3サブ画素とで、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じである構成であってもよい。
なお、光反射層から半透過反射層までの間の複数の層には、光反射層と発光層と半透過反射層に加え、透明材料などの光透過性を有する材料で形成された、画素電極、共通電極、絶縁層などが含まれてもよい。
In the light emitting device described above, in each of the first region and the first subpixel, the thickness of each of the plurality of layers from the light reflection layer to the semi-transmissive reflection layer, and the plurality of layers The material forming each is the same, and in each of the second region and the second subpixel, the thickness of each of the plurality of layers between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer, and the plurality of the plurality of layers The material forming each of the layers is the same, and the thickness of each of the plurality of layers between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer in the third region and the third subpixel, and The structure which the material which forms each of several layers is the same may be sufficient.
In addition, the plurality of layers between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer are formed of a light-transmitting material such as a transparent material in addition to the light reflecting layer, the light emitting layer, and the semi-transmissive reflecting layer. An electrode, a common electrode, an insulating layer, and the like may be included.

また、上述した発光装置において、前記第4サブ画素は、前記第1乃至第3領域にわたって連続して形成された第1電極と、前記発光層を挟んで前記第1電極とは反対側に配置された第2電極とを備える構成であってもよい。この場合、第1電極と第2電極との間に電気エネルギーを加えることによって、第4サブ画素に備わる第1乃至第3領域を同時に制御できる。
また、前記第1電極は、光透過性を有する導電材料で形成され、前記光反射層と前記半透過反射層との間に配置され、前記第1領域と前記第2領域と前記第3領域とで厚さが異なる構成であってもよい。
In the light emitting device described above, the fourth sub-pixel is disposed on the opposite side of the first electrode with the light emitting layer sandwiched between the first electrode formed continuously over the first to third regions. The structure provided with the made 2nd electrode may be sufficient. In this case, by applying electric energy between the first electrode and the second electrode, the first to third regions included in the fourth sub-pixel can be controlled simultaneously.
The first electrode is formed of a light-transmitting conductive material, and is disposed between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer, and includes the first region, the second region, and the third region. The thickness may be different.

また、上述した発光装置において、前記第4サブ画素からの出射光の色が白色となるように前記第1領域と前記第2領域と前記第3領域の面積比率が設定されている構成であってもよい。特に、上述したように第4サブ画素の第1電極が第1乃至第3領域にわたって連続して形成されたものである場合、第1乃至第3領域からの出射光(赤色光,緑色光,青色光)の輝度を個別に調整することができないので、第4サブ画素から白色光が出射されるように第1乃至第3領域の面積比率を定めることが重要である。   In the light emitting device described above, the area ratio of the first region, the second region, and the third region is set so that the color of the light emitted from the fourth sub-pixel is white. May be. In particular, as described above, when the first electrode of the fourth subpixel is formed continuously over the first to third regions, the emitted light (red light, green light, Since the brightness of blue light cannot be adjusted individually, it is important to determine the area ratio of the first to third regions so that white light is emitted from the fourth sub-pixel.

また、上述した発光装置において、前記第1乃至第3サブ画素の各々と、前記第4サブ画素における前記第1乃至第3領域の各々には、前記光反射層と前記半透過反射層との間に介在する光透過性の電極がさらに形成されており、前記第3領域内の前記電極と前記第3サブ画素の前記電極は同一材料の単層で形成されており、前記第2領域内の前記電極と前記第2サブ画素の前記電極は前記同一材料を二層積層して形成されており、前記第1領域内の前記電極と前記第1サブ画素の前記電極は前記同一材料を三層積層して形成されている構成であってもよい。
この場合、第1乃至第4サブ画素に備わる全ての電極を同じ製造プロセスで製造することができる。また、電極の厚さを変えることで、光反射層と半透過反射層との間の光学的距離を変更できる。
In the light emitting device described above, each of the first to third sub-pixels and each of the first to third regions of the fourth sub-pixel may include the light reflecting layer and the transflective layer. A light transmissive electrode interposed therebetween is further formed, and the electrode in the third region and the electrode of the third sub-pixel are formed of a single layer of the same material, and are formed in the second region. The electrode of the second subpixel and the electrode of the second subpixel are formed by stacking the same material in two layers, and the electrode in the first region and the electrode of the first subpixel are formed of the same material. The structure formed by laminating may be sufficient.
In this case, all the electrodes provided in the first to fourth subpixels can be manufactured by the same manufacturing process. Further, by changing the thickness of the electrode, the optical distance between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer can be changed.

また、上述した発光装置において、前記半透過反射層を挟んで前記発光層とは反対側に配置され、前記第1領域と前記第2領域と前記第3領域との境界部分を遮光する遮光層をさらに備える構成であってもよい。領域同士の境界部分では、共振器構造が異なるため、光反射層と半透過反射層との間に介在する1以上の層で段差が生じる。この段差の部分を遮光することにより、第4サブ画素から出射される白色光について輝度や色純度のバラツキを抑えることができる。   In the light emitting device described above, the light shielding layer is disposed on the opposite side of the light emitting layer with the transflective layer interposed therebetween, and shields the boundary portion between the first region, the second region, and the third region. May be provided. Since the resonator structure is different at the boundary portion between the regions, a step is generated in one or more layers interposed between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer. By shielding this stepped portion, variations in luminance and color purity of white light emitted from the fourth subpixel can be suppressed.

また、本発明に係る発光装置は各種の電子機器に利用される。この電子機器の典型例は、発光装置を表示装置として利用した機器であり、例えば、パーソナルコンピュータ、携帯電話機、デジタルサイネージ(電子看板/電子ポスター)である。もっとも、本発明に係る発光装置の用途は画像の表示に限定されない。例えば、カメラ機能付きの携帯電話機やデジタルスチルカメラで撮像された画像データなど、外部から供給される画像データをインスタント写真に準ずる方式で印刷するプリンタにも、記録材(例えば感光性のフイルムシート)を露光するための露光装置として本発明に係る発光装置を利用することができる。また、液晶パネルの背面に設置される照明装置(バックライト)としても本発明に係る発光装置を利用することができる。   In addition, the light emitting device according to the present invention is used in various electronic devices. Typical examples of this electronic device are devices that use a light emitting device as a display device, such as a personal computer, a mobile phone, and a digital signage (electronic signage / electronic poster). However, the use of the light emitting device according to the present invention is not limited to image display. For example, a recording material (for example, a photosensitive film sheet) is also used for a printer that prints image data supplied from the outside, such as image data captured by a mobile phone with a camera function or a digital still camera, in a manner similar to an instant photograph. The light-emitting device according to the present invention can be used as an exposure apparatus for exposing the light. The light emitting device according to the present invention can also be used as a lighting device (backlight) installed on the back surface of the liquid crystal panel.

以下、添付した図面を参照して本発明に係る実施の形態を説明する。なお、図面において各部の寸法の比率は実際のものと異なる。
<A.実施形態>
図1は、カラー画素1の構成を示す平面図である。
本実施形態における発光装置は、フルカラー型の有機EL(Electro Luminescent)ディスプレイであって、表示領域には複数のカラー画素1がマトリクス状に配列される。図1に示すように1つのカラー画素1は、出射光の色が異なる4つのサブ画素2(2r,2g,2b,2w)を備える。サブ画素2rは赤色光(R)を出射し、サブ画素2gは緑色光(G)を出射し、サブ画素2bは青色光(B)を出射し、サブ画素2wは白色光(W)を出射する。
Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the ratio of dimensions of each part is different from the actual one.
<A. Embodiment>
FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the color pixel 1.
The light emitting device in the present embodiment is a full-color organic EL (Electro Luminescent) display, and a plurality of color pixels 1 are arranged in a matrix in the display area. As shown in FIG. 1, one color pixel 1 includes four sub-pixels 2 (2r, 2g, 2b, 2w) having different colors of emitted light. The sub-pixel 2r emits red light (R), the sub-pixel 2g emits green light (G), the sub-pixel 2b emits blue light (B), and the sub-pixel 2w emits white light (W). To do.

また、白色用のサブ画素2wは3つの領域3(3r,3g,3b)を有する。第1領域3rからは赤色光(R)が出射され、第2領域3gからは緑色光(G)が出射され、第3領域3bからは青色光(B)が出射される。このようにサブ画素2wからは赤色光と緑色光と青色光が出射され、これらの光が合わさって観察者には白色光として視認される。なお、図1においては第1領域3rと第2領域3gと第3領域3bの面積比率を1:1:1としているが、実際には、サブ画素2wからの出射光の色が白色となるように3つの領域3の面積比率が定められる。   The white sub-pixel 2w has three regions 3 (3r, 3g, 3b). Red light (R) is emitted from the first region 3r, green light (G) is emitted from the second region 3g, and blue light (B) is emitted from the third region 3b. Thus, red light, green light, and blue light are emitted from the sub-pixel 2w, and these lights are combined and visually recognized as white light by the observer. In FIG. 1, the area ratio of the first region 3r, the second region 3g, and the third region 3b is 1: 1: 1. However, the color of the emitted light from the sub-pixel 2w is actually white. Thus, the area ratio of the three regions 3 is determined.

図2は、カラーフィルタ30の構成を示す平面図である。
なお、同図にはカラーフィルタ30の一部分(1つのカラー画素1に対応する部分)のみを示している。カラーフィルタ30は、赤色透過領域31rと緑色透過領域31gと青色透過領域31bと無着色領域31wと、これらの各領域を囲む遮光部32を備える。赤色透過領域31rは、サブ画素2rに対応する位置に配置され、赤色光(R)を多く透過させる。緑色透過領域31gは、サブ画素2gに対応する位置に配置され、緑色光(G)を多く透過させる。青色透過領域31bは、サブ画素2bに対応する位置に配置され、青色光(B)を多く透過させる。無着色領域31wは、無色透明な光透過層であり、サブ画素2wに対応する位置に配置される。遮光部32はブラックマトリクスである。
FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the color filter 30.
In the figure, only a part of the color filter 30 (a part corresponding to one color pixel 1) is shown. The color filter 30 includes a red transmissive region 31r, a green transmissive region 31g, a blue transmissive region 31b, a non-colored region 31w, and a light shielding portion 32 surrounding each of these regions. The red transmission region 31r is disposed at a position corresponding to the sub-pixel 2r and transmits a large amount of red light (R). The green transmission region 31g is disposed at a position corresponding to the sub-pixel 2g and transmits a large amount of green light (G). The blue transmissive region 31b is disposed at a position corresponding to the sub-pixel 2b and transmits a large amount of blue light (B). The non-colored region 31w is a colorless and transparent light transmission layer, and is disposed at a position corresponding to the sub-pixel 2w. The light shielding part 32 is a black matrix.

図3は、図1に示すA−A’線から見た断面図である。また、図4は、図1に示すB−B’線から見た断面図である。
図3および図4に示すように、本実施形態における発光装置はトップエミッション型である。したがって、基板10としては、ガラスなどの光透過性を有する板材のほか、セラミックスや金属のシートなどの不透明な板材を採用することができる。また、図示を省略しているが、基板10上には複数の薄膜トランジスタや各種の配線(例えばデータ線や走査線)が形成されている。これらの薄膜トランジスタや配線が形成された基板10の表面は下地層12によって覆われている。下地層12は、例えばアクリル系やエポキシ系といった樹脂材料、または酸化珪素(SiOx)や窒化珪素(SiNx)といった無機材料など、各種の絶縁材料によって形成された膜体である。
3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ shown in FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB ′ shown in FIG.
As shown in FIGS. 3 and 4, the light emitting device in the present embodiment is a top emission type. Therefore, as the substrate 10, in addition to a light-transmitting plate material such as glass, an opaque plate material such as a ceramic or metal sheet can be used. Although not shown, a plurality of thin film transistors and various wirings (for example, data lines and scanning lines) are formed on the substrate 10. The surface of the substrate 10 on which these thin film transistors and wirings are formed is covered with a base layer 12. The underlayer 12 is a film body formed of various insulating materials such as a resin material such as acrylic or epoxy, or an inorganic material such as silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx).

また、下地層12の表面には複数の光反射層14が形成される。これらの光反射層14は、例えば各サブ画素2の配列に沿うようにストライプ状に形成される。各光反射層14は光反射性を有する材料によって形成される。この種の材料としては、アルミニウムや銀などの単体金属、またはこれらの金属を主成分とする合金などがある。各光反射層14は、発光体20側から到達した光を図の上方に向けて反射する。また、各光反射層14の表面および側端面(エッジ部分)は絶縁層16によって被覆される。各絶縁層16は光透過性を有する絶縁性の材料によって形成された膜体である。このような材料としては、アクリル系やエポキシ系といった樹脂材料、または酸化珪素や窒化珪素といった無機材料などがある。   A plurality of light reflecting layers 14 are formed on the surface of the base layer 12. These light reflection layers 14 are formed in a stripe shape, for example, along the arrangement of the sub-pixels 2. Each light reflecting layer 14 is formed of a material having light reflectivity. Examples of this type of material include simple metals such as aluminum and silver, and alloys based on these metals. Each light reflecting layer 14 reflects light reaching from the light emitting body 20 side upward in the figure. Further, the surface and side end surfaces (edge portions) of each light reflecting layer 14 are covered with an insulating layer 16. Each insulating layer 16 is a film body formed of an insulating material having optical transparency. Examples of such materials include resin materials such as acrylic and epoxy materials, and inorganic materials such as silicon oxide and silicon nitride.

絶縁層16の表面には透明電極18(18r,18g,18b,18w)がサブ画素2ごとに相互に離間して形成される。これらの各透明電極18は、例えばITO(indium tin oxide)、ZnO(酸化亜鉛)、IZO(indium zinc oxide)といった透明の導電材料によって形成される。各透明電極18は、サブ画素2ごとに設けられた画素電極であって、発光体20の陽極として機能する。図3に示すように、透明電極18rは均一な膜厚drを有し、透明電極18gは均一な膜厚dgを有し、透明電極18bは均一な膜厚dbを有する。このように透明電極18rと透明電極18gと透明電極18bは各々膜厚が異なる。また、図4に示すように透明電極18wは、第1領域3rと第2領域3gと第3領域3bにわたって連続して形成された1つの電極であるが、第1領域3rの部分と第2領域3gの部分と第3領域3bの部分とで膜厚が異なる。   Transparent electrodes 18 (18r, 18g, 18b, 18w) are formed on the surface of the insulating layer 16 so as to be separated from each other for each sub-pixel 2. Each of these transparent electrodes 18 is formed of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide), ZnO (zinc oxide), or IZO (indium zinc oxide). Each transparent electrode 18 is a pixel electrode provided for each sub-pixel 2 and functions as an anode of the light emitter 20. As shown in FIG. 3, the transparent electrode 18r has a uniform film thickness dr, the transparent electrode 18g has a uniform film thickness dg, and the transparent electrode 18b has a uniform film thickness db. Thus, the transparent electrode 18r, the transparent electrode 18g, and the transparent electrode 18b have different film thicknesses. Further, as shown in FIG. 4, the transparent electrode 18w is one electrode formed continuously over the first region 3r, the second region 3g, and the third region 3b. The film thickness differs between the region 3g and the third region 3b.

なお、各透明電極18には薄膜トランジスタを介してデータ線が接続されている。図示を省略したデータ線駆動回路ではサブ画素2ごとにデータ信号を生成する。データ線駆動回路が生成したデータ信号は、データ線を介して対応する透明電極18に供給される。したがって、白色用のサブ画素2wでは、第1領域3rから出射する赤色光の強度と、第2領域3gから出射する緑色光の強度と、第3領域3bから出射する青色光の強度を、個別に制御するのではなく同一のデータ信号に基づいて共通に制御する。このため、サブ画素2wからの出射光の色が白色となるように第1領域3rと第2領域3gと第3領域3bの面積比率を定める必要がある。   Each transparent electrode 18 is connected to a data line through a thin film transistor. A data line driving circuit (not shown) generates a data signal for each sub-pixel 2. The data signal generated by the data line driving circuit is supplied to the corresponding transparent electrode 18 through the data line. Therefore, in the white sub-pixel 2w, the intensity of the red light emitted from the first area 3r, the intensity of the green light emitted from the second area 3g, and the intensity of the blue light emitted from the third area 3b are individually set. It is not commonly controlled, but is commonly controlled based on the same data signal. For this reason, it is necessary to determine the area ratio of the first region 3r, the second region 3g, and the third region 3b so that the color of light emitted from the sub-pixel 2w is white.

また、図3および図4に示すように、発光体20を構成する各層(正孔輸送・注入層20a、発光層20bおよび電子輸送・注入層20c)は、表示領域の全面にわたって連続して分布する構成となっている。正孔輸送・注入層20aは、例えば二層構造であって正孔注入層と正孔輸送層を有する。正孔注入層は、例えばCuPc(銅フタロシアニン)などの正孔注入材料により形成することができる。正孔輸送層は、例えばNPD(N,N’-Bis(1-naphthyl)-N,N’-diphenyl-4,4-biphenyl)などの正孔輸送材料により形成することができる。なお、正孔輸送・注入層20aは、正孔輸送層と正孔注入層の機能を兼ねる単一の層であってもよい。   Further, as shown in FIGS. 3 and 4, each layer (hole transport / injection layer 20a, light-emitting layer 20b, and electron transport / injection layer 20c) constituting the light emitter 20 is continuously distributed over the entire surface of the display region. It is the composition to do. The hole transport / injection layer 20a has, for example, a two-layer structure and includes a hole injection layer and a hole transport layer. The hole injection layer can be formed of a hole injection material such as CuPc (copper phthalocyanine). The hole transport layer can be formed of a hole transport material such as NPD (N, N′-Bis (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-4,4-biphenyl). The hole transport / injection layer 20a may be a single layer that functions as both a hole transport layer and a hole injection layer.

電子輸送・注入層20cは、例えば二層構造であって電子輸送層と電子注入層を有する。電子輸送層は、例えばAlq3(トリス8-キノリノラトアルミニウム錯体)などの電子輸送材料により形成することができる。電子注入層は、例えばLiF(フッ化リチウム)などの電子注入材料により形成することができる。なお、電子輸送・注入層20cは、電子輸送層と電子注入層の機能を兼ねる単一の層であってもよい。   The electron transport / injection layer 20c has, for example, a two-layer structure and includes an electron transport layer and an electron injection layer. The electron transport layer can be formed of an electron transport material such as Alq3 (tris 8-quinolinolato aluminum complex). The electron injection layer can be formed of an electron injection material such as LiF (lithium fluoride). The electron transport / injection layer 20c may be a single layer that functions as both an electron transport layer and an electron injection layer.

発光層20bは、有機EL材料によって形成され、正孔と電子の結合により白色の光を発する。発光層20bは単層であってもよいが、広い波長帯域にわたってエネルギーが強い光を発する発光層を製造するのは困難なことが多いので、例えば青色の光を発する発光材料とオレンジ色の光を発する発光材料の組み合わせのように、複数の発光層を組み合わせて形成してもよい。   The light emitting layer 20b is formed of an organic EL material and emits white light by the combination of holes and electrons. Although the light emitting layer 20b may be a single layer, it is often difficult to manufacture a light emitting layer that emits light having a strong energy over a wide wavelength band. For example, a light emitting material that emits blue light and an orange light A plurality of light-emitting layers may be combined to form a light-emitting material that emits light.

なお、発光体20の構造は以上説明した例示に限定されない。例えば、正孔輸送・注入層20aから正孔注入層を省略すると共に、電子輸送・注入層20cから電子注入層を省略した構成としてもよい。また、正孔輸送・注入層20aや電子輸送・注入層20cを省略した構成としてもよい。このように発光体20は、少なくとも発光層20bを含んでいればよい。   Note that the structure of the light emitter 20 is not limited to the example described above. For example, the hole injection layer may be omitted from the hole transport / injection layer 20a, and the electron injection layer may be omitted from the electron transport / injection layer 20c. Further, the hole transport / injection layer 20a and the electron transport / injection layer 20c may be omitted. Thus, the light emitter 20 only needs to include at least the light emitting layer 20b.

電子輸送・注入層20cの表面には、表示領域の全面にわたって半透明半反射電極22が形成される。半透明半反射電極22は、発光体20を挟んで各透明電極18と対向する導電性の膜体である。半透明半反射電極32は、全てのサブ画素2に対して共通に設けられた共通電極であって、発光体20の陰極として機能する。
さらに半透明半反射電極22は、基板10側から到達した光の一部を図の上方に向けて透過させると共に、その残りを図の下方に向けて反射させる半透過反射層として機能する。このような半透明半反射電極22は、例えば光反射性を有する導電材料を充分に薄く形成することによって作成される。この種の材料としては、アルミニウムや銀などの単体金属や、これらの材料を主成分とする合金などがある。例えば半透明半反射電極22は、各々が充分に薄く形成されたマグネシウムおよび銀の膜体を相互に積層した構造となっている。もっとも、半透明半反射電極22はITOやIZOなどの光透過性を有する導電材料によって形成されてもよい。このように半透明半反射電極22が光透過性の材料からなる場合であっても、半透明半反射電極22よりも屈折率が低い材料によって半透明半反射電極22の表面を覆う封止材(図示省略)を形成すれば、半透明半反射電極22と封止材との界面において光の一部が透過すると共に残りが反射するから、半透過反射層として機能させることができる。
A translucent semi-reflective electrode 22 is formed on the entire surface of the display region on the surface of the electron transport / injection layer 20c. The translucent semi-reflective electrode 22 is a conductive film body that faces each transparent electrode 18 with the light emitter 20 interposed therebetween. The translucent transflective electrode 32 is a common electrode provided in common for all the subpixels 2 and functions as a cathode of the light emitter 20.
Further, the semi-transparent semi-reflective electrode 22 functions as a semi-transmissive reflective layer that transmits a part of the light reaching from the substrate 10 toward the upper side of the figure and reflects the remainder toward the lower side of the figure. Such a semi-transparent semi-reflective electrode 22 is produced, for example, by forming a conductive material having light reflectivity sufficiently thin. Examples of this type of material include simple metals such as aluminum and silver, and alloys mainly composed of these materials. For example, the semi-transparent semi-reflective electrode 22 has a structure in which magnesium and silver film bodies, which are formed sufficiently thin, are laminated on each other. However, the translucent semi-reflective electrode 22 may be formed of a light-transmitting conductive material such as ITO or IZO. Thus, even when the translucent transflective electrode 22 is made of a light-transmitting material, a sealing material that covers the surface of the translucent transflective electrode 22 with a material having a lower refractive index than the translucent transflective electrode 22 If (not shown) is formed, a part of the light is transmitted and the rest is reflected at the interface between the translucent transflective electrode 22 and the sealing material, so that it can function as a transflective layer.

前述したように発光層20bは白色の光を発するが、後述する共振器構造によって、サブ画素2rは赤色光(R’)を出射し、サブ画素2gは緑色光(G’)を出射し、サブ画素2bは青色光(B’)を出射する(図3)。同様に、サブ画素2wのうち、第1領域3rの部分は赤色光(R’)を出射し、第2領域3gの部分は緑色光(G’)を出射し、第3領域3bの部分は青色光(B’)を出射する(図4)。   As described above, the light emitting layer 20b emits white light, but the subpixel 2r emits red light (R ′), the subpixel 2g emits green light (G ′) by a resonator structure described later, The sub-pixel 2b emits blue light (B ′) (FIG. 3). Similarly, in the sub-pixel 2w, the portion of the first region 3r emits red light (R ′), the portion of the second region 3g emits green light (G ′), and the portion of the third region 3b Blue light (B ′) is emitted (FIG. 4).

サブ画素2rから出射された赤色光(R’)は、カラーフィルタ30の赤色透過領域31rを透過して色純度が高められ、サブ画素2gから出射された緑色光(G’)は、カラーフィルタ30の緑色透過領域31gを透過して色純度が高められ、サブ画素2bから出射された青色光(B’)は、カラーフィルタ30の青色透過領域31bを透過して色純度が高められる。一方、白色用のサブ画素2wから出射された赤色光(R’)と緑色光(G’)と青色光(B’)は、カラーフィルタ30の無着色領域31wを通過するので取り出し効率がほとんど低下しない。また、これらの光(R’,G’,B’)が合わさって白色光(W)となる。
その結果、最終的にカラー画素1から出射される光の色は、サブ画素2rからの赤色光(R)と、サブ画素2gからの緑色光(G)と、サブ画素2bからの青色光(B)と、サブ画素2wからの白色光(W)とが合わさった色となる。
The red light (R ′) emitted from the sub-pixel 2 r is transmitted through the red transmission region 31 r of the color filter 30 to improve the color purity, and the green light (G ′) emitted from the sub-pixel 2 g is used as the color filter. The color purity is increased by passing through the 30 green transmission regions 31g, and the blue light (B ′) emitted from the sub-pixel 2b is transmitted through the blue transmission region 31b of the color filter 30 and the color purity is increased. On the other hand, the red light (R ′), green light (G ′), and blue light (B ′) emitted from the white sub-pixel 2w pass through the non-colored region 31w of the color filter 30 and thus have almost no extraction efficiency. It does not decline. Further, these lights (R ′, G ′, B ′) are combined into white light (W).
As a result, the color of the light finally emitted from the color pixel 1 is the red light (R) from the sub-pixel 2r, the green light (G) from the sub-pixel 2g, and the blue light (from the sub-pixel 2b). B) and the white light (W) from the sub-pixel 2w are combined.

次に共振器構造(マイクロキャビティ)について説明する。
サブ画素2r,2g,2bの各々と、サブ画素2wにおける第1〜第3領域3r,3g,3bの各々には、発光層20bからの出射光を光反射層14と半透明半反射電極22との間で共振させる共振器構造が形成される。共振器構造は、光反射層14と絶縁層16と透明電極18と発光体20と半透明半反射電極22とで構成される。発光層20bからの出射光は光反射層14と半透明半反射電極22との間で往復し、共振器構造における共振波長の成分のみが多重干渉によって選択的に増幅された上で、半透明半反射電極22を透過して観察側に出射する。
Next, the resonator structure (microcavity) will be described.
In each of the sub-pixels 2r, 2g, and 2b and each of the first to third regions 3r, 3g, and 3b in the sub-pixel 2w, the light reflected from the light-emitting layer 20b is reflected on the light-reflecting layer 14 and the semitransparent semi-reflective electrode 22 A resonator structure that resonates with each other is formed. The resonator structure includes a light reflecting layer 14, an insulating layer 16, a transparent electrode 18, a light emitter 20, and a translucent semi-reflective electrode 22. The light emitted from the light emitting layer 20b reciprocates between the light reflecting layer 14 and the semitransparent semireflective electrode 22, and only the resonance wavelength component in the resonator structure is selectively amplified by multiple interference, and then translucent. The light passes through the semi-reflective electrode 22 and is emitted to the observation side.

共振器構造における共振波長λは、例えば以下の式(1)に示すように、光反射層14と半透明半反射電極22との間の光学的距離Lに応じて決定される。但し、式(1)における「Φ(rad)」は共振器構造の両端部にて発生する位相シフトであり、より具体的には、光反射層14の表面で反射するときの位相シフト「Φ1(rad)」と、半透明半反射電極22の表面で反射するときの位相シフト「Φ2(rad)」との和(=Φ1+Φ2)である。また、「m」は光学的距離Lが正となる整数である。
(2L)/λ+Φ/(2π)= m ……(1)
The resonance wavelength λ in the resonator structure is determined according to the optical distance L between the light reflecting layer 14 and the semitransparent semi-reflective electrode 22 as shown in the following formula (1), for example. However, “Φ (rad)” in the equation (1) is a phase shift generated at both ends of the resonator structure, and more specifically, the phase shift “Φ1 when reflected on the surface of the light reflecting layer 14”. (Rad) ”and the phase shift“ Φ2 (rad) ”when reflected by the surface of the semitransparent semi-reflective electrode 22 (= Φ1 + Φ2). “M” is an integer that makes the optical distance L positive.
(2L) / λ + Φ / (2π) = m (1)

例えば、赤色光のピーク波長を共振波長λとして式(1)に代入すれば、赤色光を共振させるための光学的距離Lrが決定される。同様に、緑色光のピーク波長を共振波長λとして式(1)に代入すれば、緑色光を共振させるための光学的距離Lgが決定される。また、青色光のピーク波長を共振波長λとして式(1)に代入すれば、青色光を共振させるための光学的距離Lbが決定される。   For example, if the peak wavelength of red light is substituted into equation (1) as the resonance wavelength λ, the optical distance Lr for resonating red light is determined. Similarly, if the peak wavelength of green light is substituted into equation (1) as the resonance wavelength λ, the optical distance Lg for resonating green light is determined. Also, if the peak wavelength of blue light is substituted into the equation (1) as the resonance wavelength λ, the optical distance Lb for resonating the blue light is determined.

したがって、出射光の色が赤色となるサブ画素2rおよびサブ画素2wの第1領域3rの部分では、光学的距離Lrが得られるように光反射層14と半透明半反射電極22との間に介在する各層の膜厚や材料が決定される。同様に、出射光の色が緑色となるサブ画素2gおよびサブ画素2wの第2領域3gの部分では、光学的距離Lgが得られるように光反射層14と半透明半反射電極22との間に介在する各層の膜厚や材料が決定される。また、出射光の色が青色となるサブ画素2bおよびサブ画素2wの第3領域3bの部分では、光学的距離Lbが得られるように光反射層14と半透明半反射電極22との間に介在する各層の膜厚や材料が決定される。   Therefore, in the portion of the first region 3r of the sub-pixel 2r and the sub-pixel 2w in which the color of the emitted light is red, the optical distance Lr can be obtained between the light reflecting layer 14 and the semitransparent semi-reflective electrode 22. The thickness and material of each intervening layer are determined. Similarly, in the portion of the second region 3g of the sub-pixel 2g and the sub-pixel 2w in which the color of the emitted light is green, the optical distance Lg is obtained between the light reflecting layer 14 and the translucent semi-reflective electrode 22. The thickness and material of each layer intervening are determined. Further, in the portion of the third region 3b of the sub-pixel 2b and the sub-pixel 2w in which the color of the emitted light is blue, the optical distance Lb is obtained between the light reflecting layer 14 and the translucent semi-reflective electrode 22. The thickness and material of each intervening layer are determined.

また、図3および図4に示すように、光反射層14と半透明半反射電極22との間には、図の下方から順に、絶縁層16、透明電極18(18r,18g,18b,18w)、正孔輸送・注入層20a、発光層20bおよび電子輸送・注入層20cの計5層が介在するが、本実施形態では、透明電極18の膜厚を調整することで光学的距離Lを出射光の色(R,G,B)ごとに相違させている。したがって、透明電極18wにおいて、第1領域3rの部分の膜厚は透明電極18rの膜厚と同じになり(dr)、第2領域3gの部分の膜厚は透明電極18gの膜厚と同じになり(dg)、第3領域3bの部分の膜厚は透明電極18bの膜厚と同じになる(db)。   As shown in FIGS. 3 and 4, the insulating layer 16 and the transparent electrodes 18 (18r, 18g, 18b, 18w) are arranged between the light reflecting layer 14 and the semitransparent semireflective electrode 22 in order from the bottom of the figure. ), A total of five layers including a hole transport / injection layer 20a, a light emitting layer 20b, and an electron transport / injection layer 20c are interposed. In this embodiment, the optical distance L is adjusted by adjusting the film thickness of the transparent electrode 18. Different colors (R, G, B) of the emitted light are used. Accordingly, in the transparent electrode 18w, the film thickness of the first region 3r is the same as the film thickness of the transparent electrode 18r (dr), and the film thickness of the second region 3g is the same as the film thickness of the transparent electrode 18g. (Dg), the thickness of the third region 3b is the same as the thickness of the transparent electrode 18b (db).

なお、透明電極18を除く残りの4層については、全てのサブ画素2で膜厚が同じである。つまり、絶縁層16の膜厚は全てのサブ画素2においてd1であり、正孔輸送・注入層20aの膜厚は全てのサブ画素2においてd2であり、発光層20bの膜厚は全てのサブ画素2においてd3であり、電子輸送・注入層20cの膜厚は全てのサブ画素2においてd4である。   The remaining four layers excluding the transparent electrode 18 have the same film thickness in all the subpixels 2. That is, the thickness of the insulating layer 16 is d1 in all the subpixels 2, the thickness of the hole transport / injection layer 20a is d2 in all the subpixels 2, and the thickness of the light emitting layer 20b is all the subpixels. It is d3 in the pixel 2, and the film thickness of the electron transport / injection layer 20c is d4 in all the subpixels 2.

また、光反射層14と半透明半反射電極22との間に介在する各層を形成する材料は、全てのサブ画素2において同じである。すなわち、絶縁層16を形成する材料と、透明電極18を形成する材料と、正孔輸送・注入層20aを形成する材料と、発光層20bを形成する材料と、電子輸送・注入層20cを形成する材料は、全てのサブ画素2において共通である。これに加え、光反射層14と半透明半反射電極22と下地層12についても、その膜厚や材料は全てのサブ画素2で共通である。   The material forming each layer interposed between the light reflecting layer 14 and the translucent semi-reflective electrode 22 is the same in all the sub-pixels 2. That is, the material for forming the insulating layer 16, the material for forming the transparent electrode 18, the material for forming the hole transport / injection layer 20a, the material for forming the light emitting layer 20b, and the electron transport / injection layer 20c are formed. The material to be used is common to all the sub-pixels 2. In addition, the thickness and material of the light reflecting layer 14, the semi-transparent semi-reflecting electrode 22, and the base layer 12 are common to all the subpixels 2.

また、式(1)からも明らかとなるように、光学的距離Lは共振波長λに比例する。ピーク波長(共振波長λ)が最も長いのは赤色光であり、次に長いのは緑色光であり、最も短いのは青色光である。したがって、図3および図4に示すように光学的距離Lは、Lr>Lg>Lbとなる。また、各透明電極18の膜厚は、dr>dg>dbとなる。つまり、最も膜厚が厚いのは透明電極18rおよび透明電極18wの第1領域3rの部分となり、次に膜厚が厚いのは透明電極18gおよび透明電極18wの第2領域3gの部分となり、最も膜厚が薄いのは透明電極18bおよび透明電極18wの第3領域3bの部分となる。   Further, as apparent from the equation (1), the optical distance L is proportional to the resonance wavelength λ. The longest peak wavelength (resonance wavelength λ) is red light, the next longest is green light, and the shortest is blue light. Therefore, as shown in FIGS. 3 and 4, the optical distance L is Lr> Lg> Lb. The film thickness of each transparent electrode 18 is dr> dg> db. That is, the thickest film is in the transparent electrode 18r and the first region 3r of the transparent electrode 18w, and the thickest film is in the transparent electrode 18g and the second region 3g of the transparent electrode 18w. The thin film thickness is a portion of the third region 3b of the transparent electrode 18b and the transparent electrode 18w.

また、各透明電極18は以下のようにして形成される。
まず、図3を参照して透明電極18rと透明電極18gと透明電極18bについて説明すると、最初に厚さdbの第1導電膜が各々形成され、次に透明電極18rと透明電極18gの部分にだけ厚さdg−dbの第2導電膜が積層され、最後に透明電極18rの部分にだけ厚さdr−dgの第3導電膜が積層される。これは図4に示す透明電極18wについても同様であり、最初に厚さdbの第1導電膜が第1領域3r〜第3領域3bにわたって形成され、次に第1領域3rと第2領域3gの部分にだけ厚さdg−dbの第2導電膜が積層され、最後に第1領域3rの部分にだけ厚さdr−dgの第3導電膜が積層される。したがって、透明電極18rおよび透明電極18wの第1領域3rの部分は、第1〜第3導電膜を積層した三層構造となる。また、透明電極18gおよび透明電極18wの第2領域3gの部分は、第1,第2導電膜を積層した二層構造となる。また、透明電極18bおよび透明電極18wの第3領域3bの部分は、第1導電膜のみの単層構造となる。
このようにして各透明電極18を形成する場合、全ての透明電極18を同じ成膜プロセスで同時に形成していくことができる。したがって、透明電極18の成膜プロセスを簡素化できる。
Each transparent electrode 18 is formed as follows.
First, the transparent electrode 18r, the transparent electrode 18g, and the transparent electrode 18b will be described with reference to FIG. 3. First, a first conductive film having a thickness of db is formed, and then the transparent electrode 18r and the transparent electrode 18g are formed. A second conductive film having a thickness dg-db is stacked, and finally a third conductive film having a thickness dr-dg is stacked only on the transparent electrode 18r. This is the same for the transparent electrode 18w shown in FIG. 4. First, a first conductive film having a thickness of db is formed over the first region 3r to the third region 3b, and then the first region 3r and the second region 3g. The second conductive film having the thickness dg-db is laminated only on the portion, and finally the third conductive film having the thickness dr-dg is laminated only on the portion of the first region 3r. Accordingly, the first region 3r of the transparent electrode 18r and the transparent electrode 18w has a three-layer structure in which the first to third conductive films are stacked. The portion of the second region 3g of the transparent electrode 18g and the transparent electrode 18w has a two-layer structure in which the first and second conductive films are stacked. The portions of the transparent electrode 18b and the third region 3b of the transparent electrode 18w have a single-layer structure including only the first conductive film.
Thus, when forming each transparent electrode 18, all the transparent electrodes 18 can be formed simultaneously with the same film-forming process. Therefore, the film forming process of the transparent electrode 18 can be simplified.

以上説明したように本実施形態によれば、白色用のサブ画素2wのうち第1領域3r(赤色)の部分は、サブ画素2r(赤色)と共振器構造が同じであり、各層の膜厚や材料が全て同じになる。したがって、サブ画素2wの第1領域3rは、サブ画素2rと同じ製造プロセスでサブ画素2rと同時に製造することができる。同様に、白色用のサブ画素2wのうち第2領域3g(緑色)の部分は、サブ画素2g(緑色)と共振器構造が同じであり、各層の膜厚や材料が全て同じになる。したがって、サブ画素2wの第2領域3gは、サブ画素2gと同じ製造プロセスでサブ画素2gと同時に製造することができる。また、白色用のサブ画素2wのうち第3領域3b(青色)の部分は、サブ画素2b(青色)と共振器構造が同じであり、各層の膜厚や材料が全て同じになる。したがって、サブ画素2wの第3領域3bは、サブ画素2bと同じ製造プロセスでサブ画素2bと同時に製造することができる。つまり、白色用のサブ画素2wに備わる第1〜第3領域3r,3g,3bは、サブ画素2r,2g,2bのいずれかと同じ製造プロセスで製造することができる。
また、白色用のサブ画素2wに備わる第1〜第3領域3r,3g,3bからは、共振器構造によってスペクトルのピーク幅が狭く強度も高められた赤色光と緑色光と青色光が出射される。したがって、これらの光が合わさって最終的にサブ画素2wから出射される白色光についても、色純度や取り出し効率が高い。
よって、製造プロセスを複雑化することなく、白色用のサブ画素2wをより白くより明るく発光させることができる。なお、RGBの3色サブピクセル構成の場合に比べ、RGBWの4色サブピクセル構成の場合の方が、同じ白色表示輝度なら低消費電力であり、同じ消費電力ならより明るい白色表示輝度が得られる。
As described above, according to this embodiment, the portion of the first region 3r (red) in the white subpixel 2w has the same resonator structure as that of the subpixel 2r (red), and the film thickness of each layer And all the materials are the same. Therefore, the first region 3r of the sub-pixel 2w can be manufactured simultaneously with the sub-pixel 2r by the same manufacturing process as the sub-pixel 2r. Similarly, the portion of the second region 3g (green) in the white subpixel 2w has the same resonator structure as that of the subpixel 2g (green), and the thickness and material of each layer are all the same. Accordingly, the second region 3g of the sub-pixel 2w can be manufactured simultaneously with the sub-pixel 2g by the same manufacturing process as that of the sub-pixel 2g. In the white subpixel 2w, the portion of the third region 3b (blue) has the same resonator structure as the subpixel 2b (blue), and the thickness and material of each layer are all the same. Therefore, the third region 3b of the sub-pixel 2w can be manufactured simultaneously with the sub-pixel 2b by the same manufacturing process as that of the sub-pixel 2b. That is, the first to third regions 3r, 3g, and 3b included in the white sub-pixel 2w can be manufactured by the same manufacturing process as any of the sub-pixels 2r, 2g, and 2b.
The first to third regions 3r, 3g, and 3b included in the white sub-pixel 2w emit red light, green light, and blue light whose spectrum peak width is narrow and intensity is increased by the resonator structure. The Therefore, the color purity and extraction efficiency of the white light that is finally combined and emitted from the sub-pixel 2w is high.
Therefore, the white sub-pixel 2w can emit whiter and brighter without complicating the manufacturing process. Note that, in the case of the RGBW four-color sub-pixel configuration, lower power consumption is obtained with the same white display luminance and a brighter white display luminance is obtained with the same power consumption than in the case of the RGBW four-color subpixel configuration. .

<B.変形例>
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば以下に示す変形が可能である。また、以下に示す2以上の変形を適宜組み合わせることもできる。
[1]上述した実施形態では透明電極18(18r,18g,18b,18w)の膜厚を調整することで光学的距離Lを相違させたが、光学的距離Lを制御するための方法はこれに限定されない。例えば図5および図6に示すように、透明電極18r’,18g’,18b’,18w’を全て同じ膜厚d5にし、正孔輸送・注入層20a’の膜厚を調整することで光学的距離L’を相違させてもよい。また、発光層20bや電子輸送・注入層20c、あるいは絶縁層16の膜厚を調整することで光学的距離Lを相違させてもよい。さらに、光反射層14と半透明半反射電極22との間に介在する2以上の層の膜厚を調整することで光学的距離Lを相違させてもよい。
<B. Modification>
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and for example, the following modifications are possible. Also, two or more of the following modifications can be combined as appropriate.
[1] In the above-described embodiment, the optical distance L is made different by adjusting the film thickness of the transparent electrode 18 (18r, 18g, 18b, 18w), but this is the method for controlling the optical distance L. It is not limited to. For example, as shown in FIGS. 5 and 6, the transparent electrodes 18r ′, 18g ′, 18b ′, and 18w ′ are all made to have the same film thickness d5, and the film thickness of the hole transport / injection layer 20a ′ is adjusted. The distance L ′ may be different. Further, the optical distance L may be varied by adjusting the film thickness of the light emitting layer 20b, the electron transport / injection layer 20c, or the insulating layer 16. Furthermore, the optical distance L may be made different by adjusting the film thicknesses of two or more layers interposed between the light reflecting layer 14 and the semitransparent semi-reflective electrode 22.

[2]図7(A)に示すように表示領域には複数のカラー画素1がマトリクス状に配列されるが、図7(B)に示すようにカラー画素1とカラー画素40とを交互に配列させる構成としてもよい。ここで、カラー画素40は、白色のサブ画素2wにおける第1領域3r(R)と第2領域3g(G)と第3領域3b(B)の並びが、カラー画素1のサブ画素2wとは上下で逆になっている。また、カラー画素の配列パターンはマトリクス状に限定されない。例えば、市松模様(チェス柄)における黒(または白)の配列パターンとなるようにカラー画素を配列してもよい。 [2] Although a plurality of color pixels 1 are arranged in a matrix in the display area as shown in FIG. 7A, the color pixels 1 and the color pixels 40 are alternately arranged as shown in FIG. 7B. It is good also as a structure to arrange. Here, in the color pixel 40, the arrangement of the first region 3r (R), the second region 3g (G), and the third region 3b (B) in the white sub-pixel 2w R is the same as the sub-pixel 2w of the color pixel 1. Is upside down. Further, the arrangement pattern of the color pixels is not limited to a matrix. For example, the color pixels may be arranged in a black (or white) arrangement pattern in a checkered pattern (chess pattern).

[3]図8に示すカラーフィルタ30’のように、白色用のサブ画素2wについて、第1領域3rと第2領域3gの境界部分や、第2領域3gと第3領域3bの境界部分を遮光部32’で覆う構成としてもよい。これらの境界部分は、図4からも明らかとなるように、各層(透明電極18w、正孔輸送・注入層20a、発光層20b、電子輸送・注入層20c)について段差が生じている部分である。この部分を遮光部32’で覆うことにより、段差の部分で反射されたり段差の部分を通過した光が、無着色領域31w’を介して外部に出射されることを抑制できる。つまり、サブ画素2wから出射される白色光について輝度や色純度のバラツキを抑えることができる。
なお、カラーフィルタ30,30’は必ずしも必須の構成ではないが、カラーフィルタ30,30’を設置した方が色再現性を向上することができる。また、カラーフィルタ30,30’によって外光が吸収されるから、外光の反射が低減されるという利点もある。
[3] As in the color filter 30 ′ shown in FIG. 8, for the white sub-pixel 2w, the boundary between the first region 3r and the second region 3g, or the boundary between the second region 3g and the third region 3b It is good also as a structure covered with light-shielding part 32 '. As is apparent from FIG. 4, these boundary portions are portions where steps are generated in each layer (transparent electrode 18 w, hole transport / injection layer 20 a, light emitting layer 20 b, electron transport / injection layer 20 c). . By covering this portion with the light shielding portion 32 ′, it is possible to suppress the light reflected by the stepped portion or having passed through the stepped portion from being emitted to the outside through the non-colored region 31w ′. That is, variations in luminance and color purity of white light emitted from the sub-pixel 2w can be suppressed.
Note that the color filters 30 and 30 ′ are not necessarily essential, but the color reproducibility can be improved by installing the color filters 30 and 30 ′. Further, since external light is absorbed by the color filters 30 and 30 ', there is an advantage that reflection of external light is reduced.

[4]上述した実施形態では、共通電極と半透過反射層を兼ねた半透明半反射電極22を例示した。しかしながら、共通電極と半透過反射層を個別に形成してもよい。この場合、共通電極は透明の導電材料によって形成され、例えば半透過反射層と電子輸送・注入層20cとの間、あるいは半透過反射層の上方(観察側)に配置される。
また、上述した実施形態において、各透明電極18の代わりに、光反射性を有する導電材料で形成された画素電極を用いてもよい。この場合、各画素電極の上面が光反射面となる。つまり、各画素電極が光反射層を兼ねることになるので光反射層14は不要である。また、この場合、共振器構造は、各画素電極と発光体20と半透明半反射電極22とで構成されることになる。したがって、絶縁層16は共振器構造に含まれない。
また、上述した実施形態において、透明電極18wは、第1領域3rと第2領域3gと第3領域3bの各領域ごとに個別に形成された3つの透明電極で構成されてもよい。この場合、透明電極18wを構成する3つの透明電極は同一の薄膜トランジスタに接続され、共通のデータ信号が供給される。
[4] In the above-described embodiment, the semi-transparent semi-reflective electrode 22 serving as the common electrode and the semi-transmissive reflective layer is exemplified. However, the common electrode and the transflective layer may be formed separately. In this case, the common electrode is formed of a transparent conductive material, and is disposed, for example, between the transflective layer and the electron transport / injection layer 20c or above the transflective layer (observation side).
In the above-described embodiment, instead of each transparent electrode 18, a pixel electrode formed of a conductive material having light reflectivity may be used. In this case, the upper surface of each pixel electrode is a light reflecting surface. That is, since each pixel electrode also serves as a light reflection layer, the light reflection layer 14 is unnecessary. In this case, the resonator structure is composed of each pixel electrode, the light emitter 20 and the semitransparent semi-reflective electrode 22. Therefore, the insulating layer 16 is not included in the resonator structure.
In the above-described embodiment, the transparent electrode 18w may be configured by three transparent electrodes formed individually for each of the first region 3r, the second region 3g, and the third region 3b. In this case, the three transparent electrodes constituting the transparent electrode 18w are connected to the same thin film transistor and supplied with a common data signal.

[5]上述した実施形態において、サブ画素2(2r,2g,2b,2w)を構成する要素が表示領域の全面にわたって連続に形成されるか、サブ画素2ごとに相互に離間して形成されるかは適宜変更できる。例えば、光反射層14や絶縁層16は、表示領域の全面にわたって連続して形成されてもよい。また、半透明半反射電極22はサブ画素2ごとに相互に離間して形成されてもよい。
また、上述した実施形態ではトップエミッション型の発光装置について説明したが、本発明はボトムエミッション型の発光装置にも適用可能である。ボトムエミッション型の場合には、光反射層を半透過反射層よりも基板から遠い位置に配置し、光反射層と半透過反射層との間に発光層を配置すればよい。また、基板や下地層を透明材料で形成すると共に、半透過反射層を挟んで発光層とは反対側にカラーフィルタ30,30’を配置すればよい。
[5] In the above-described embodiment, the elements constituting the sub-pixel 2 (2r, 2g, 2b, 2w) are formed continuously over the entire surface of the display area, or formed separately from each other for each sub-pixel 2. This can be changed as appropriate. For example, the light reflecting layer 14 and the insulating layer 16 may be formed continuously over the entire surface of the display region. Further, the semi-transparent semi-reflective electrodes 22 may be formed so as to be separated from each other for each sub-pixel 2.
In the above-described embodiments, the top emission type light emitting device has been described. However, the present invention can also be applied to a bottom emission type light emitting device. In the case of the bottom emission type, the light reflecting layer may be disposed at a position farther from the substrate than the semi-transmissive reflective layer, and the light emitting layer may be disposed between the light reflective layer and the semi-transmissive reflective layer. In addition, the substrate and the base layer may be formed of a transparent material, and the color filters 30 and 30 ′ may be disposed on the side opposite to the light emitting layer with the transflective layer interposed therebetween.

[6]上述した実施形態では、有機EL材料からなる発光層20bを例示したが、例えば、無機EL材料からなる発光層を用いてもよい。また、発光体として発光ダイオードを利用してもよい。また、上述した実施形態では、発光層から発せられた白色光から目的の波長の光を共振器構造によって取り出す場合を例示したが、赤色光を発する発光層をサブ画素2rおよびサブ画素2wの第1領域3rに設け、緑色光を発する発光層をサブ画素2gおよびサブ画素2wの第2領域3gに設け、青色光を発する発光層をサブ画素2bおよびサブ画素2wの第3領域3bに設ける構成としてもよい。この場合であっても共振器構造を利用することで、スペクトルのピーク幅が狭く強度も高められた光を発光層から取り出すことができる。 [6] In the above-described embodiment, the light emitting layer 20b made of an organic EL material is exemplified. However, for example, a light emitting layer made of an inorganic EL material may be used. A light emitting diode may be used as the light emitter. Further, in the above-described embodiment, the case where light having a target wavelength is extracted from the white light emitted from the light emitting layer by the resonator structure is illustrated. However, the light emitting layer that emits red light is the first of the subpixels 2r and 2w. A configuration in which a light emitting layer that emits green light is provided in the second region 3g of the sub-pixel 2g and the sub-pixel 2w, and a light-emitting layer that emits blue light is provided in the third region 3b of the sub-pixel 2b and the sub-pixel 2w. It is good. Even in this case, light having a narrow spectrum peak width and high intensity can be extracted from the light emitting layer by using the resonator structure.

[7]例えば図9(A)および図9(B)に示すように、1つのカラー画素におけるサブ画素2r,2g,2b,2wの並びや形状は適宜変更できる。また、図9(C)に示すように、1つのカラー画素は、RGBWの各サブ画素2r,2g,2b,2wに加え、M(紫色)のサブ画素2mを有する構成であってもよい。このように本発明はRGBWの4色サブピクセル構成に限定されない。
また、図10(A)および図10(B)に示すように、白色用のサブ画素2wは、RGBのいずれかを出射光の色とする6個または5個の個別領域に区分されていてもよい。勿論、これらの各個別領域ごとに共振器構造が形成される。また、各々の個別領域の面積比率は、サブ画素2wからの出射光の色が白色となるように定められる。
[7] For example, as shown in FIGS. 9A and 9B, the arrangement and shape of the sub-pixels 2r, 2g, 2b, and 2w in one color pixel can be appropriately changed. Further, as shown in FIG. 9C, one color pixel may have an M (purple) sub-pixel 2m in addition to the RGBW sub-pixels 2r, 2g, 2b, and 2w. As described above, the present invention is not limited to the RGBW four-color sub-pixel configuration.
Further, as shown in FIGS. 10A and 10B, the white sub-pixel 2w is divided into 6 or 5 individual regions in which one of RGB is the color of the emitted light. Also good. Of course, a resonator structure is formed for each of these individual regions. Further, the area ratio of each individual region is determined so that the color of the emitted light from the sub-pixel 2w is white.

[8]例えば図11に示すように、カラー画素50は、Rのサブ画素2rとGのサブ画素2gとBのサブ画素2bに加え、Y(黄色)のサブ画素2yを備える構成であってもよい。この場合は黄色の輝度を向上させることができる。なお、同図に示すサブ画素2r,2g,2bは、上述した実施形態で説明したサブ画素2r,2g,2bと同様の構成を有する。
また、黄色光(Y)を出射するサブ画素2yは、第1領域4rと第2領域4gに区分される。第1領域4rからは赤色光(R)が出射され、第2領域4gからは緑色光(G)が出射される。つまり、サブ画素2yからは赤色光と緑色光が出射され、これらの光が合わさって観察者には黄色光として視認される。なお、サブ画素2yの第1領域4rは、上述した実施形態で説明したサブ画素2wの第1領域3rと同様の構成を有する。また、サブ画素2yの第2領域4gは、上述した実施形態で説明したサブ画素2wの第2領域3gと同様の構成を有する。また、図11においては第1領域4rと第2領域4gの面積比率を1:1としているが、実際には、サブ画素2yからの出射光の色が黄色となるように第1領域4rと第2領域4gの面積比率が定められる。
[8] For example, as shown in FIG. 11, the color pixel 50 includes a Y (yellow) sub-pixel 2y in addition to the R sub-pixel 2r, the G sub-pixel 2g, and the B sub-pixel 2b. Also good. In this case, the yellow luminance can be improved. Note that the sub-pixels 2r, 2g, and 2b shown in the figure have the same configuration as the sub-pixels 2r, 2g, and 2b described in the above-described embodiment.
The sub-pixel 2y that emits yellow light (Y) is divided into a first region 4r and a second region 4g. Red light (R) is emitted from the first region 4r, and green light (G) is emitted from the second region 4g. That is, red light and green light are emitted from the sub-pixel 2y, and these lights are combined and visually recognized as yellow light. Note that the first region 4r of the sub-pixel 2y has the same configuration as the first region 3r of the sub-pixel 2w described in the above-described embodiment. The second region 4g of the sub pixel 2y has the same configuration as the second region 3g of the sub pixel 2w described in the above-described embodiment. In FIG. 11, the area ratio of the first region 4r and the second region 4g is 1: 1, but actually, the first region 4r and the first region 4r are arranged so that the color of the emitted light from the sub-pixel 2y is yellow. The area ratio of the second region 4g is determined.

この構成によれば、黄色用のサブ画素2yのうち第1領域4r(赤色)の部分は、サブ画素2r(赤色)と共振器構造が同じであり、各層の膜厚や材料が全て同じになる。また、黄色用のサブ画素2yのうち第2領域4g(緑色)の部分は、サブ画素2g(緑色)と共振器構造が同じであり、各層の膜厚や材料が全て同じになる。したがって、サブ画素2yの第1領域4rはサブ画素2rと同じ製造プロセスで製造することができ、サブ画素2yの第2領域4gはサブ画素2gと同じ製造プロセスで製造することができる。また、黄色用のサブ画素2yに備わる第1領域4rと第2領域4gからは、共振器構造によってスペクトルのピーク幅が狭く強度も高められた赤色光と緑色光が出射される。したがって、これらの光が合わさって最終的にサブ画素2yから出射される黄色光についても、色純度や取り出し効率が高い。よって、製造プロセスを複雑化することなく、サブ画素2yから出射される黄色光の色純度や取り出し効率を高められる。   According to this configuration, the portion of the first region 4r (red) in the yellow sub-pixel 2y has the same resonator structure as the sub-pixel 2r (red), and the thickness and material of each layer are all the same. Become. Further, the second region 4g (green) portion of the yellow sub-pixel 2y has the same resonator structure as the sub-pixel 2g (green), and the thickness and material of each layer are all the same. Therefore, the first region 4r of the sub-pixel 2y can be manufactured by the same manufacturing process as the sub-pixel 2r, and the second region 4g of the sub-pixel 2y can be manufactured by the same manufacturing process as the sub-pixel 2g. In addition, the first region 4r and the second region 4g included in the yellow sub-pixel 2y emit red light and green light whose spectrum peak width is narrow and intensity is increased by the resonator structure. Therefore, the color purity and extraction efficiency of the yellow light that is finally combined and emitted from the sub-pixel 2y is high. Therefore, the color purity and extraction efficiency of yellow light emitted from the sub-pixel 2y can be increased without complicating the manufacturing process.

なお、これと同様に例えばマゼンタの輝度を向上させる場合には、RGBの各サブ画素2r,2g,2bに加え、赤色光(R)を出射する第1領域と青色光(B)を出射する第2領域に区分されたM(マゼンタ)のサブ画素を備える構成とすればよい。また、シアンの輝度を向上させる場合には、RGBの各サブ画素2r,2g,2bに加え、緑色光(G)を出射する第1領域と青色光(B)を出射する第2領域に区分されたC(シアン)のサブ画素を備える構成とすればよい。
このように本発明はW(白色)のサブピクセルを有する構成に限定されない。
Similarly to this, in order to improve the brightness of magenta, for example, in addition to the RGB sub-pixels 2r, 2g, and 2b, a first region that emits red light (R) and blue light (B) are emitted. What is necessary is just to set it as the structure provided with the sub pixel of M (magenta) divided into the 2nd area | region. In addition, in order to improve the luminance of cyan, in addition to the RGB sub-pixels 2r, 2g, and 2b, a first region that emits green light (G) and a second region that emits blue light (B) are divided. It may be configured to include the C (cyan) sub-pixels.
Thus, the present invention is not limited to the configuration having W (white) sub-pixels.

また、例えば図12に示すように、カラー画素60は、Rのサブ画素2rとGのサブ画素2rに加え、Y(黄色)のサブ画素2yを備える構成であってもよい。つまり、上述した図11に示すカラー画素50からBのサブ画素2bを除いた構成である。図12に示すサブ画素2r,2gは、上述した実施形態で説明したサブ画素2r,2gと同様の構成を有する。また、黄色光(Y)を出射するサブ画素2yの構成は、図11に示したものと同じである。したがって、サブ画素2yの第1領域4rはサブ画素2rと同じ製造プロセスで製造することができ、サブ画素2yの第2領域4gはサブ画素2gと同じ製造プロセスで製造することができる。この構成の場合、Bのサブ画素2bがないためフルカラー表示はできないが、製造プロセスを複雑化することなく黄色の輝度を高い色純度で高めることができる。
このように本発明はフルカラー型に限定されない。
For example, as illustrated in FIG. 12, the color pixel 60 may include a Y (yellow) sub-pixel 2y in addition to the R sub-pixel 2r and the G sub-pixel 2r. In other words, the B pixel sub-pixel 2b is removed from the color pixel 50 shown in FIG. The sub-pixels 2r and 2g illustrated in FIG. 12 have the same configuration as the sub-pixels 2r and 2g described in the above-described embodiment. The configuration of the sub-pixel 2y that emits yellow light (Y) is the same as that shown in FIG. Therefore, the first region 4r of the sub-pixel 2y can be manufactured by the same manufacturing process as the sub-pixel 2r, and the second region 4g of the sub-pixel 2y can be manufactured by the same manufacturing process as the sub-pixel 2g. In this configuration, full-color display is not possible because there is no B sub-pixel 2b, but yellow brightness can be increased with high color purity without complicating the manufacturing process.
Thus, the present invention is not limited to the full color type.

また、上述した実施形態では白色輝度を向上させる場合について説明したが、サブ画素2wにおける第1領域3rと第2領域3gと第3領域3bの面積比率を調整すれば、輝度を向上させたい色を白色以外に設定することが可能である。
以上の説明から明らかとなるように、複数の個別領域を有するサブ画素を設け、このサブ画素における各個別領域の面積比率を調整したり、どの色の出射光が得られる個別領域をサブ画素に設けるかによって、最終的にこのサブ画素から出射される光の色(すなわち輝度を向上させたい色)を任意の色に設定することができる。
In the above-described embodiment, the case where white luminance is improved has been described. However, if the area ratio of the first region 3r, the second region 3g, and the third region 3b in the sub-pixel 2w is adjusted, the color whose luminance is desired to be improved. Can be set to other than white.
As will be apparent from the above description, a subpixel having a plurality of individual regions is provided, and the area ratio of each individual region in this subpixel is adjusted, or an individual region from which any color of emitted light is obtained is used as a subpixel. Depending on the provision, the color of light finally emitted from the sub-pixel (that is, the color whose luminance is desired to be improved) can be set to an arbitrary color.

<C.電子機器>
次に、上述した実施形態および変形例に係る発光装置を適用した電子機器について説明する。
図13に、発光装置を適用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての発光装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001とキーボード2002が設けられている。
図14に、発光装置を適用した携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、表示ユニットとしての発光装置100と、複数の操作ボタン3001と、スクロールボタン3002を備える。スクロールボタン3002を操作することで、発光装置100に表示される画面がスクロールされる。
図15に、発光装置を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、表示ユニットとしての発光装置100と、複数の操作ボタン4001と、電源スイッチ4002を備える。操作ボタン4001を操作することで、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が発光装置100に表示される。
<C. Electronic equipment>
Next, an electronic apparatus to which the light emitting device according to the embodiment and the modification described above is applied will be described.
FIG. 13 illustrates a configuration of a mobile personal computer to which the light-emitting device is applied. The personal computer 2000 includes a light emitting device 100 as a display unit and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002.
FIG. 14 illustrates a configuration of a mobile phone to which the light-emitting device is applied. The cellular phone 3000 includes a light emitting device 100 as a display unit, a plurality of operation buttons 3001, and a scroll button 3002. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the light emitting device 100 is scrolled.
FIG. 15 shows a configuration of a portable information terminal (PDA: Personal Digital Assistants) to which the light emitting device is applied. The portable information terminal 4000 includes a light emitting device 100 as a display unit, a plurality of operation buttons 4001, and a power switch 4002. By operating the operation button 4001, various kinds of information such as an address book and a schedule book are displayed on the light emitting device 100.

なお、発光装置100が適用される電子機器としては、図13〜図15に示したもののほか、テレビ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、電子ペーパー、電子手帳、電卓、テレビ電話、POS端末、プリンタ、スキャナ、複写機、ビデオプレーヤ、デジタルサイネージ(電子看板/電子ポスター)などが挙げられる。また、本発明に係る発光装置は、セグメント型のディスプレイにも適用することができる。また、本発明に係る発光装置の用途は画像の表示に限定されない。例えば、カメラ機能付きの携帯電話機やデジタルスチルカメラで撮像された画像データなど、外部から供給される画像データをインスタント写真に準ずる方式で印刷するプリンタにも、記録材(例えば感光性のフイルムシート)を露光するための露光装置として本発明の発光装置を利用することができる。また、液晶パネルのバックライトとしても本発明の発光装置を利用することができる。   Note that electronic devices to which the light emitting device 100 is applied include televisions, digital still cameras, video cameras, car navigation devices, electronic paper, electronic notebooks, calculators, videophones, POSs, in addition to those shown in FIGS. Examples include terminals, printers, scanners, copiers, video players, digital signage (electronic signage / electronic posters), and the like. The light-emitting device according to the present invention can also be applied to a segment type display. Further, the use of the light emitting device according to the present invention is not limited to the display of images. For example, a recording material (for example, a photosensitive film sheet) is also used in a printer that prints image data supplied from the outside, such as image data captured by a mobile phone with a camera function or a digital still camera, in a manner similar to an instant photograph. The light-emitting device of the present invention can be used as an exposure apparatus for exposing the light. In addition, the light emitting device of the present invention can be used as a backlight of a liquid crystal panel.

カラー画素の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of a color pixel. カラーフィルタの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of a color filter. 図1に示すA−A’線から見た断面図である。It is sectional drawing seen from the A-A 'line | wire shown in FIG. 図1に示すB−B’線から見た断面図である。It is sectional drawing seen from the B-B 'line | wire shown in FIG. 共振器構造の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of a resonator structure. 共振器構造の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of a resonator structure. カラー画素の配列を示す平面図である。It is a top view which shows the arrangement | sequence of a color pixel. カラーフィルタの構成(変形例)を示す平面図である。It is a top view which shows the structure (modification) of a color filter. サブ画素の配列を示す平面図である。It is a top view which shows the arrangement | sequence of a sub pixel. 白色用のサブ画素の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the sub pixel for white. カラー画素の構成(変形例)を示す平面図である。It is a top view which shows the structure (modification example) of a color pixel. カラー画素の構成(変形例)を示す平面図である。It is a top view which shows the structure (modification example) of a color pixel. 電子機器の具体的な形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the specific form of an electronic device. 電子機器の具体的な形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the specific form of an electronic device. 電子機器の具体的な形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the specific form of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

1…カラー画素、2r…サブ画素(赤)、2g…サブ画素(緑)、2b…サブ画素(青)、2w…サブ画素(白)、3r…第1領域(赤)、3g…第2領域(緑)、3b…第3領域(青)、10…基板、12…下地層、14…光反射層、16…絶縁層、18r,18g,18b,18w…透明電極、20…発光体、20a…正孔輸送・注入層、20b…発光層、20c…電子輸送・注入層、22…半透明半反射電極(半透過反射層)、30…カラーフィルタ(遮光層)、31r…赤色透過領域、31g…緑色透過領域、31b…青色透過領域、31w…無着色領域、32…遮光部、Lr,Lg,Lb…光学的距離。   1 ... color pixel, 2r ... sub-pixel (red), 2g ... sub-pixel (green), 2b ... sub-pixel (blue), 2w ... sub-pixel (white), 3r ... first region (red), 3g ... second Region (green), 3b ... Third region (blue), 10 ... Substrate, 12 ... Underlayer, 14 ... Light reflecting layer, 16 ... Insulating layer, 18r, 18g, 18b, 18w ... Transparent electrode, 20 ... Luminescent body, 20a ... hole transport / injection layer, 20b ... light emitting layer, 20c ... electron transport / injection layer, 22 ... translucent semi-reflective electrode (semi-transmissive reflective layer), 30 ... color filter (light-shielding layer), 31r ... red transmissive region , 31g: green transmission region, 31b: blue transmission region, 31w: non-colored region, 32: light shielding part, Lr, Lg, Lb ... optical distance.

Claims (13)

異なる色の第1出射光を各々出射する複数の第1サブ画素と、
いずれの前記第1サブ画素とも異なる色の第1出射光を出射する第2サブ画素と
を有する画素を備え、
前記第2サブ画素は、異なる色の第2出射光を各々出射する2以上の個別領域を有し、
前記個別領域の各々からの前記第2出射光は、いずれかの前記第1サブ画素からの前記第1出射光と同じ色であり、
前記個別領域の各々からの前記第2出射光が合成されて前記第2サブ画素からの前記第1出射光になると共に、前記第1サブ画素の各々からの前記第1出射光と、前記第2サブ画素からの前記第1出射光とが合成されて前記画素からの出射光になり、
前記第1サブ画素の各々と前記個別領域の各々には、
光反射層と、半透過反射層と、前記光反射層と前記半透過反射層との間に介在する発光層とが形成されると共に、前記発光層から発せられた光を前記光反射層と前記半透過反射層との間で共振させる共振器構造が形成されており、
前記個別領域の各々は、当該個別領域からの前記第2出射光と同じ色の前記第1出射光を出射する前記第1サブ画素と前記共振器構造が同じである
ことを特徴とする発光装置。
A plurality of first sub-pixels each emitting a first emitted light of a different color;
A second sub-pixel that emits first emitted light of a different color from any of the first sub-pixels,
The second sub-pixel has two or more individual regions each emitting second emitted light of different colors,
The second emitted light from each of the individual regions has the same color as the first emitted light from any of the first sub-pixels,
The second emitted light from each of the individual regions is combined to become the first emitted light from the second subpixel, and the first emitted light from each of the first subpixels, The first emitted light from the two sub-pixels is combined into the emitted light from the pixel,
In each of the first sub-pixels and each of the individual regions,
A light reflection layer, a transflective layer, and a light emitting layer interposed between the light reflective layer and the transflective layer are formed, and light emitted from the light emitting layer is transmitted to the light reflective layer. A resonator structure that resonates with the transflective layer is formed,
Each of the individual regions has the same resonator structure as the first sub-pixel that emits the first emitted light having the same color as the second emitted light from the individual region. .
前記個別領域の各々は、当該個別領域からの前記第2出射光と同じ色の前記第1出射光を出射する前記第1サブ画素と、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じである
ことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
Each of the individual regions includes a first sub-pixel that emits the first emitted light having the same color as the second emitted light from the individual region, and a region between the light reflecting layer and the transflective layer. The light emitting device according to claim 1, wherein a thickness of each of the plurality of layers and a material forming each of the plurality of layers are the same.
前記第2サブ画素は、
当該第2サブ画素が有する全ての前記個別領域にわたって連続して形成された第1電極と、
前記発光層を挟んで前記第1電極とは反対側に配置された第2電極とを備える
ことを特徴とする請求項1または2に記載の発光装置。
The second sub-pixel is
A first electrode formed continuously over all the individual regions of the second subpixel;
The light-emitting device according to claim 1, further comprising: a second electrode disposed on a side opposite to the first electrode with the light-emitting layer interposed therebetween.
前記第1電極は、
光透過性を有する導電材料で形成され、
前記光反射層と前記半透過反射層との間に配置され、
前記第2出射光の色が異なる前記個別領域間で厚さが異なる
ことを特徴とする請求項3に記載の発光装置。
The first electrode is
Formed of a light-transmitting conductive material,
Disposed between the light reflecting layer and the transflective layer;
The light emitting device according to claim 3, wherein the individual regions having different colors of the second emitted light have different thicknesses.
前記半透過反射層を挟んで前記発光層とは反対側に配置され、前記個別領域同士の境界部分を遮光する遮光層をさらに備える
ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の発光装置。
5. The light emitting device according to claim 1, further comprising: a light shielding layer that is disposed on a side opposite to the light emitting layer with the transflective layer interposed therebetween and shields a boundary portion between the individual regions. The light emitting device according to 1.
赤色の出射光を出射する第1サブ画素と、
緑色の出射光を出射する第2サブ画素と、
青色の出射光を出射する第3サブ画素と、
白色の出射光を出射する第4サブ画素と
を有する画素を備え、
前記第4サブ画素は、赤色の出射光が出射される第1領域と、緑色の出射光が出射される第2領域と、青色の出射光が出射される第3領域とを有し、
前記第1乃至第3領域の各々からの出射光が合成されて前記第4サブ画素からの白色の出射光になると共に、前記第1乃至第3サブ画素の各々からの出射光と、前記第4サブ画素からの白色の出射光とが合成されて前記画素からの出射光になり、
前記第1乃至第3サブ画素の各々と、前記第4サブ画素における前記第1乃至第3領域の各々には、
光反射層と、半透過反射層と、前記光反射層と前記半透過反射層との間に介在する発光層とが形成されると共に、前記発光層から発せられた光を前記光反射層と前記半透過反射層との間で共振させる共振器構造が形成されており、
前記第1領域の前記共振器構造は前記第1サブ画素の前記共振器構造と同じであり、
前記第2領域の前記共振器構造は前記第2サブ画素の前記共振器構造と同じであり、
前記第3領域の前記共振器構造は前記第3サブ画素の前記共振器構造と同じである
ことを特徴とする発光装置。
A first sub-pixel that emits red emitted light;
A second sub-pixel that emits green outgoing light;
A third sub-pixel that emits blue emitted light;
A pixel having a fourth sub-pixel that emits white light;
The fourth sub-pixel has a first region from which red emitted light is emitted, a second region from which green emitted light is emitted, and a third region from which blue emitted light is emitted,
The emitted light from each of the first to third regions is combined into white emitted light from the fourth subpixel, and the emitted light from each of the first to third subpixels, The white light emitted from the four sub-pixels is combined into the light emitted from the pixel,
Each of the first to third sub-pixels and each of the first to third regions of the fourth sub-pixel include
A light reflection layer, a transflective layer, and a light emitting layer interposed between the light reflective layer and the transflective layer are formed, and light emitted from the light emitting layer is transmitted to the light reflective layer. A resonator structure that resonates with the transflective layer is formed,
The resonator structure of the first region is the same as the resonator structure of the first sub-pixel;
The resonator structure of the second region is the same as the resonator structure of the second sub-pixel;
The light emitting device according to claim 3, wherein the resonator structure of the third region is the same as the resonator structure of the third sub-pixel.
前記第1領域と前記第1サブ画素とで、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じであり、
前記第2領域と前記第2サブ画素とで、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じであり、
前記第3領域と前記第3サブ画素とで、前記光反射層から前記半透過反射層までの間の複数の層の各々の厚さ、および前記複数の層の各々を形成する材料が同じである
ことを特徴とする請求項6に記載の発光装置。
The thickness of each of the plurality of layers between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer and the material forming each of the plurality of layers are the same in the first region and the first subpixel. Yes,
The thickness of each of the plurality of layers between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer and the material forming each of the plurality of layers are the same in the second region and the second subpixel. Yes,
In the third region and the third sub-pixel, the thickness of each of the plurality of layers between the light reflecting layer and the semi-transmissive reflecting layer and the material forming each of the plurality of layers are the same. The light emitting device according to claim 6.
前記第4サブ画素は、
前記第1乃至第3領域にわたって連続して形成された第1電極と、
前記発光層を挟んで前記第1電極とは反対側に配置された第2電極とを備える
ことを特徴とする請求項6または7に記載の発光装置。
The fourth sub-pixel includes
A first electrode formed continuously over the first to third regions;
The light-emitting device according to claim 6, further comprising: a second electrode disposed on a side opposite to the first electrode with the light-emitting layer interposed therebetween.
前記第1電極は、
光透過性を有する導電材料で形成され、
前記光反射層と前記半透過反射層との間に配置され、
前記第1領域と前記第2領域と前記第3領域とで厚さが異なる
ことを特徴とする請求項8に記載の発光装置。
The first electrode is
Formed of a light-transmitting conductive material,
Disposed between the light reflecting layer and the transflective layer;
The light emitting device according to claim 8, wherein the first region, the second region, and the third region have different thicknesses.
前記第4サブ画素からの出射光の色が白色となるように前記第1領域と前記第2領域と前記第3領域の面積比率が設定されている
ことを特徴とする請求項6乃至9のうちいずれか1項に記載の発光装置。
The area ratio of the first region, the second region, and the third region is set so that the color of the light emitted from the fourth sub-pixel is white. The light-emitting device of any one of them.
前記第1乃至第3サブ画素の各々と、前記第4サブ画素における前記第1乃至第3領域の各々には、
前記光反射層と前記半透過反射層との間に介在する光透過性の電極がさらに形成されており、
前記第3領域内の前記電極と前記第3サブ画素の前記電極は同一材料の単層で形成されており、
前記第2領域内の前記電極と前記第2サブ画素の前記電極は前記同一材料を二層積層して形成されており、
前記第1領域内の前記電極と前記第1サブ画素の前記電極は前記同一材料を三層積層して形成されている
ことを特徴とする請求項6または7に記載の発光装置。
Each of the first to third sub-pixels and each of the first to third regions of the fourth sub-pixel include
A light transmissive electrode interposed between the light reflecting layer and the transflective layer is further formed;
The electrode in the third region and the electrode of the third subpixel are formed of a single layer of the same material,
The electrode in the second region and the electrode of the second subpixel are formed by laminating two layers of the same material,
The light emitting device according to claim 6, wherein the electrode in the first region and the electrode of the first subpixel are formed by stacking three layers of the same material.
前記半透過反射層を挟んで前記発光層とは反対側に配置され、前記第1領域と前記第2領域と前記第3領域との境界部分を遮光する遮光層をさらに備える
ことを特徴とする請求項6乃至11のうちいずれか1項に記載の発光装置。
A light-shielding layer that is disposed on the opposite side of the light-emitting layer with the transflective layer interposed therebetween and shields light from a boundary portion between the first region, the second region, and the third region; The light emitting device according to any one of claims 6 to 11.
請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載の発光装置を備えた電子機器。
The electronic device provided with the light-emitting device of any one of Claims 1 thru | or 12.
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