JP5256909B2 - Light emitting device - Google Patents

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Description

本発明は、発光素子として有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた発光装置に関す
る。
The present invention relates to a light emitting device using an organic electroluminescence element as a light emitting element.

近年、携帯電話あるいはパーソナルコンピュータ等の表示画面に用いる発光装置として
、光を出射する側の面である表示面に発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス(
以下、「有機EL」と称する。)素子を規則的に配列して画像を形成する有機EL装置が
考えられている。
各々の発光素子は、対向するように形成された陽極と陰極との間に、少なくとも発光層
(有機EL層)を含む機能層を備えており、上述の陽極と陰極との間に電流を流すことで
発光を得ている。そして有機EL装置は、かかる発光を表示面から出射させて画像を形成
している。表示面の反対側には反射層を配置して上記表示面方向に反射させることで、上
記発光を有効に利用する構成が一般的である。上記構成に、表示面側の電極を半透過反射
性の材料で形成して、上記反射層との間に共振構造を形成して目的とする波長範囲の光を
強調して出射する構成をさらに加えたものも多い。
In recent years, as a light emitting device used for a display screen of a mobile phone or a personal computer, an organic electroluminescence (LED) as a light emitting element on a display surface which is a light emitting side surface (
Hereinafter, it is referred to as “organic EL”. An organic EL device that forms an image by regularly arranging elements has been considered.
Each light emitting element includes a functional layer including at least a light emitting layer (organic EL layer) between an anode and a cathode formed so as to face each other, and a current flows between the anode and the cathode. I get luminescence. The organic EL device emits such light emission from the display surface to form an image. In general, the light emission is effectively used by disposing a reflective layer on the opposite side of the display surface and reflecting the light in the direction of the display surface. In the above configuration, the display surface side electrode is formed of a transflective material, and a resonance structure is formed between the reflective layer and the light in the target wavelength range is emphasized and emitted. There are many additions.

かかる構成の有機EL装置では、外光の反射が問題となる。上記反射層は、発光のみで
はなく表示面から入射する外光も反射するため、明所では発光に反射された外光が混入し
、コントラストが低下し得る。
かかる外光の反射を低減する手段として、表示面側に円偏光板を貼付する構成が提案さ
れている(特許文献1参照)。円偏光により変調を受けた光は反射により回転方向が逆転
する性質を利用して、反射光が表示面から出射することを抑制し、コントラストを向上さ
せている。
また、上記有機EL装置がカラー画像表示装置である場合、カラーフィルタを用いる構
成も提案されている。赤色光を発光する赤色発光素子と緑色光を発光する緑色発光素子と
青色光を発光する青色発光素子の計三種類の発光素子の各々に、発光する波長範囲の光は
透過し、それ以外の波長範囲の光は吸収するカラーフィルタを配置することで、発光する
波長範囲以外の外光の反射を低減できる。
In the organic EL device having such a configuration, reflection of external light becomes a problem. Since the reflection layer reflects not only light emission but also external light incident from the display surface, the external light reflected by the light emission is mixed in a bright place, and the contrast can be lowered.
As a means for reducing such reflection of external light, a configuration in which a circularly polarizing plate is attached to the display surface side has been proposed (see Patent Document 1). The light modulated by the circularly polarized light utilizes the property that the rotation direction is reversed by reflection, thereby suppressing the reflected light from being emitted from the display surface and improving the contrast.
Further, when the organic EL device is a color image display device, a configuration using a color filter has been proposed. Each of the three types of light-emitting elements, a red light-emitting element that emits red light, a green light-emitting element that emits green light, and a blue light-emitting element that emits blue light, transmits light in the wavelength range that emits light. By disposing a color filter that absorbs light in the wavelength range, reflection of outside light outside the wavelength range of light emission can be reduced.

特開平9−127885号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-127858

しかし、上述の手法には以下に示す課題がある。まず、円偏光板を用いる手法では、発
光のうちの一方の偏光成分が吸収されるため、表示面から出射される光の比率が半分以下
となり輝度が低下する。輝度の低下を補うべく発光層に流す電流量を増加させると、消費
電力の増大や該発光層の寿命の低下をもたらし得る。
また、カラーフィルタを用いる手法では、各々の発光素子が発光する波長範囲の外光は
吸収できないため、外光反射を充分には低減できない。
さらに、上記のいずれの手法も、上記三種類の発光素子の全てに同一の反射低減手段を
付与するため、視感度(分光視感効果度)を考慮できず、発光素子の種類によっては外光
反射の低減が不十分になり得るという課題がある。
However, the above methods have the following problems. First, in the method using a circularly polarizing plate, since one polarization component of light emission is absorbed, the ratio of the light emitted from the display surface becomes less than half and the luminance is lowered. Increasing the amount of current flowing through the light emitting layer to compensate for the decrease in luminance can lead to an increase in power consumption and a decrease in the lifetime of the light emitting layer.
Further, in the method using a color filter, external light in the wavelength range emitted by each light emitting element cannot be absorbed, and thus external light reflection cannot be sufficiently reduced.
Furthermore, since any of the above methods provides the same reflection reducing means to all the three types of light emitting elements, it is not possible to consider visual sensitivity (spectral luminous efficacy), and depending on the type of light emitting element, external light There is a problem that the reduction of reflection may be insufficient.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形
態又は適用例として実現することが可能である。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]少なくとも、赤色光を出射する赤色発光素子と緑色光を出射する緑色発光
素子と青色光を出射する青色発光素子とを含む複数種類の発光素子を備える発光装置であ
って、上記複数種類の発光素子の各々は、第1電極と、光を出射する側に配置された半透
過反射性又は透過性を有する第2電極と、上記第1電極と上記第2電極との間に挟持され
た少なくとも発光層を含む機能層と、上記第1電極を兼ねるか、または上記第1電極を挟
んで上記機能層と対向する位置に上記第1電極とは別途形成された、上記発光層で発生し
た光を上記第2電極側に反射する反射層と、上記機能層を挟んで上記反射層と対向する位
置に配置された、出射する光の波長領域以外の波長領域の光を吸収するカラーフィルタと
、を備えており、上記複数種類の発光素子のうちの少なくとも一種類の発光素子は、上記
反射層と上記機能層との間に配置された半反射層と、上記反射層と上記半反射層との間に
配置された透明層と、をさらに備えていることを特徴とする発光装置。
Application Example 1 A light-emitting device including a plurality of types of light-emitting elements including at least a red light-emitting element that emits red light, a green light-emitting element that emits green light, and a blue light-emitting element that emits blue light, Each of the plurality of types of light emitting elements includes a first electrode, a second electrode having transflective or transmissive properties disposed on the light emitting side, and a gap between the first electrode and the second electrode. The light emitting layer, which functions as the first electrode, or is formed separately from the first electrode at a position facing the functional layer across the first electrode, with the functional layer including at least the light emitting layer sandwiched A light reflecting layer that reflects the light generated in step 2 to the second electrode side, and a light in a wavelength region other than the wavelength region of the emitted light, disposed at a position facing the reflective layer across the functional layer. A plurality of types of color filters At least one of the light emitting elements includes a semi-reflective layer disposed between the reflective layer and the functional layer, a transparent layer disposed between the reflective layer and the semi-reflective layer, And a light emitting device.

このような構成によれば、上記カラーフィルタによる外光反射の低減効果に加えて、上
記透明層と上記半反射層との積層体による外光反射の低減効果を得ることができる。した
がって、発光装置のコントラストを向上させることができる。
According to such a configuration, in addition to the effect of reducing external light reflection by the color filter, an effect of reducing external light reflection by the laminate of the transparent layer and the semi-reflective layer can be obtained. Therefore, the contrast of the light emitting device can be improved.

[適用例2]上述の発光装置であって、上記複数種類の発光素子は、上記赤色発光素子
、上記緑色発光素子及び上記青色発光素子の三種類の発光素子であることを特徴とする発
光装置。
Application Example 2 In the above light emitting device, the plurality of types of light emitting elements are three types of light emitting elements, the red light emitting element, the green light emitting element, and the blue light emitting element. .

このような構成によれば、上記三種類の発光素子の中から選択された、特に外光の反射
が大きい発光素子に上記透明層と上記半反射層との積層体を形成して外光反射を低減でき
る。
According to such a configuration, a laminate of the transparent layer and the semi-reflective layer is formed on a light-emitting element selected from the above three types of light-emitting elements and having particularly high external light reflection, thereby reflecting the external light. Can be reduced.

[適用例3]上述の発光装置であって、上記緑色発光素子のみが上記半反射層を備えて
いることを特徴とする発光装置。
Application Example 3 The light-emitting device described above, wherein only the green light-emitting element includes the semi-reflective layer.

上記緑色発光素子は外光の反射率が高い傾向にある。したがってかかる構成によれば、
上記緑色発光素子のみ外光の反射を低減でき、発光装置の消費電力とコントラストのバラ
ンスを向上させることができる。
The green light emitting element tends to have a high reflectance of external light. Therefore, according to such a configuration,
Only the green light emitting element can reduce the reflection of external light, and the balance between power consumption and contrast of the light emitting device can be improved.

[適用例4]上述の発光装置であって、上記緑色発光素子及び上記青色発光素子の二種
類の発光素子が上記半反射層を備えていることを特徴とする発光装置。
Application Example 4 The light emitting device described above, wherein two types of light emitting elements, the green light emitting element and the blue light emitting element, include the semi-reflective layer.

上記青色発光素子は、上記緑色発光素子に次いで外光の反射率が高い傾向にある。した
がってかかる構成によれば、外光の反射をより一層低減でき、発光装置の消費電力とコン
トラストのバランスをより一層向上させることができる。
The blue light emitting element tends to have a high reflectance of external light next to the green light emitting element. Therefore, according to such a configuration, reflection of external light can be further reduced, and the balance between power consumption and contrast of the light-emitting device can be further improved.

[適用例5]上述の発光装置であって、上記発光層は有機エレクトロルミネッセンス層
であることを特徴とする発光装置。
Application Example 5 The light-emitting device described above, wherein the light-emitting layer is an organic electroluminescence layer.

有機エレクトロルミネッセンス材料は発光効率が優れているため、かかる構成により、
消費電力が低く、かつ表示品質が向上した発光装置を得ることができる。
Since organic electroluminescent materials have excellent luminous efficiency,
A light-emitting device with low power consumption and improved display quality can be obtained.

[適用例6]上述の発光装置であって、上記半反射層はチタニウムからなることを特徴
とする発光装置。
Application Example 6 The light-emitting device described above, wherein the semi-reflective layer is made of titanium.

チタニウムからなる膜層は、反射性と透過性とを好適な比率で構成することができる。
したがって、かかる構成により外光の反射をより一層低減でき、コントラストがより一層
向上した発光装置を得ることができる。
The film layer made of titanium can be configured with a suitable ratio of reflectivity and transparency.
Therefore, with such a configuration, it is possible to further reduce the reflection of external light and to obtain a light-emitting device with further improved contrast.

[適用例7]上述の発光装置であって、上記半反射層は、クロム、タンタル若しくはモ
リブデンのいずれかからなることを特徴とする発光装置。
Application Example 7 In the above light-emitting device, the semi-reflective layer is made of chromium, tantalum, or molybdenum.

かかる材料からなる膜層は、反射性と透過性とを好適な比率で構成することができる。
したがって、かかる構成により外光の反射をより一層低減でき、コントラストがより一層
向上した発光装置を得ることができる。
A film layer made of such a material can be configured with a suitable ratio of reflectivity and transparency.
Therefore, with such a configuration, it is possible to further reduce the reflection of external light and to obtain a light-emitting device with further improved contrast.

[適用例8]上述の発光装置であって、上記第1電極が陽極であり、上記第2電極が陰
極であることを特徴とする発光装置。
Application Example 8 The light-emitting device described above, wherein the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode.

かかる構成によれば、上記発光層内で生じた光の取り出し効率を向上させることができ
る。したがって、発光装置の消費電力を低減し、かつ表示品質を向上させることができる
According to such a configuration, it is possible to improve the extraction efficiency of light generated in the light emitting layer. Therefore, power consumption of the light emitting device can be reduced and display quality can be improved.

[適用例9]上述の発光装置であって、上記陽極は透明導電性材料からなり、上記透明
層及び上記半反射層は、上記反射層と上記第1電極との間に形成されていることを特徴と
する発光装置。
Application Example 9 In the above light emitting device, the anode is made of a transparent conductive material, and the transparent layer and the semi-reflective layer are formed between the reflective layer and the first electrode. A light emitting device characterized by the above.

このような構成によれば、上記透明層及び上記陽極の層厚を夫々好適な値に設定できる
ため、発光装置の表示品質をより一層向上させることができる。
According to such a configuration, since the layer thickness of the transparent layer and the anode can be set to suitable values, the display quality of the light emitting device can be further improved.

[適用例10]上述の発光装置であって、上記透明層は導電性材料からなり上記第1電
極を兼ねていることを特徴とする発光装置。
Application Example 10 In the above light emitting device, the transparent layer is made of a conductive material and also serves as the first electrode.

このような構成によれば、上記第1電極の上記機能層側に上記半反射層を形成すること
により、上述の透明層と半反射層との積層体を形成できるため、製造コストの増加を抑制
しつつ発光装置の表示品質を向上させることができる。
According to such a configuration, by forming the semi-reflective layer on the functional layer side of the first electrode, a laminate of the transparent layer and the semi-reflective layer can be formed. The display quality of the light emitting device can be improved while being suppressed.

[適用例11]上述の発光装置であって、上記透明層は、上記反射層の上記機能層側に
配置された透明絶縁性材料層と、該透明絶縁性材料層の上記機能層側に配置された上記第
1電極を兼ねる透明導電性材料層と、からなることを特徴とする発光装置。
Application Example 11 In the above light emitting device, the transparent layer is disposed on the functional layer side of the transparent insulating material layer, and the transparent insulating material layer disposed on the functional layer side of the reflective layer. And a transparent conductive material layer also serving as the first electrode.

このような構成によれば、上記透明絶縁性材料層を上記反射層の保護膜としても機能さ
せることができるため、発光装置の表示品質と共に信頼性も向上させることができる。
According to such a configuration, since the transparent insulating material layer can function as a protective film for the reflective layer, the display quality of the light emitting device and the reliability can be improved.

[適用例12]上述の発光装置であって、上記第2電極が陽極であり、上記第1電極が
陰極であることを特徴とする発光装置。
Application Example 12 The light-emitting device described above, wherein the second electrode is an anode and the first electrode is a cathode.

このような構成であれば、上記陰極を上記反射層としても機能させることができる。し
たがって、製造コストの増加を抑制しつつ、発光装置の表示品質を向上させることができ
る。
With such a configuration, the cathode can also function as the reflective layer. Therefore, the display quality of the light emitting device can be improved while suppressing an increase in manufacturing cost.

以下、本発明の実施の形態について、表示領域に発光素子を規則的に配置して画像を表
示する、発光装置としての有機EL装置について述べる。なお、以下に示す各図において
は、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比
率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with respect to an organic EL device as a light emitting device that displays an image by regularly arranging light emitting elements in a display region. In the drawings shown below, the dimensions and ratios of the components are appropriately different from the actual ones in order to make the components large enough to be recognized on the drawings.

(第1の実施形態)
(有機EL装置)
図1は、本実施形態にかかる有機EL装置、及び後述する各実施形態にかかる有機EL
装置に共通する、有機EL装置の全体構成を示す回路構成図である。規則的に配置された
個々の発光素子の発光を個別に制御して、表示領域100に画像を形成するアクティブマ
トリクス型の有機EL装置を例にしている。表示領域100には、複数の走査線102と
、走査線102と直交する複数の信号線104と、信号線104と平行に延びる複数の電
源供給線106が形成されている。上記三種類の配線で囲まれる方形の区画が画素領域で
ある。
(First embodiment)
(Organic EL device)
FIG. 1 shows an organic EL device according to the present embodiment and an organic EL according to each embodiment described later.
It is a circuit block diagram which shows the whole structure of an organic electroluminescent apparatus common to an apparatus. An active matrix organic EL device that forms an image in the display region 100 by individually controlling the light emission of the regularly arranged light emitting elements is taken as an example. In the display region 100, a plurality of scanning lines 102, a plurality of signal lines 104 orthogonal to the scanning lines 102, and a plurality of power supply lines 106 extending in parallel with the signal lines 104 are formed. A square section surrounded by the three types of wirings is a pixel region.

各々の画素領域には、走査線102を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッ
チング用TFT108と、スイッチング用TFT108を介して信号線104から供給さ
れる画素信号を保持する保持容量110と、保持容量110によって保持された画素信号
がゲート電極に供給される駆動用TFT112と、駆動用TFT112を介して電源供給
線106から駆動電流が流れ込む発光素子20が形成されている。発光素子20は、青色
光を出射する青色発光素子20B、緑色光を出射する緑色発光素子20G、赤色光を出射
する赤色発光素子20Rの計三種類がある。後述するように、発光素子20は第1電極と
しての陽極56(図2参照)と表示領域100の全範囲に渡って形成され該全範囲を共通
電位としている第2電極としての陰極55(図2参照)とで発光層を含む機能層を狭持し
ており、上記駆動電流は陽極56に供給される。
なお、本明細書においては出射する光の色を示すアルファベット(R,G,B)を省い
た場合は、該3色に対応する三種類の構成要素の総称を表す。例えば「発光素子20」は
、上述の三種類の発光素子の総称である。
In each pixel region, a switching TFT 108 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 102, a holding capacitor 110 for holding a pixel signal supplied from the signal line 104 via the switching TFT 108, A driving TFT 112 to which a pixel signal held by the holding capacitor 110 is supplied to the gate electrode and a light emitting element 20 into which a driving current flows from the power supply line 106 via the driving TFT 112 are formed. There are three types of light emitting elements 20: a blue light emitting element 20B that emits blue light, a green light emitting element 20G that emits green light, and a red light emitting element 20R that emits red light. As will be described later, the light emitting element 20 is formed over the entire range of the anode 56 (see FIG. 2) as the first electrode and the display region 100, and the cathode 55 (see FIG. 2) having the entire range as a common potential. 2), the functional layer including the light emitting layer is sandwiched, and the driving current is supplied to the anode 56.
In the present specification, when the alphabet (R, G, B) indicating the color of the emitted light is omitted, it represents a general term for the three types of components corresponding to the three colors. For example, “light emitting element 20” is a general term for the above-described three types of light emitting elements.

表示領域100の周辺には、走査線駆動回路120、及び信号線駆動回路130が形成
されている。走査線102には、走査線駆動回路120から、図示しない外部回路より供
給される各種信号に応じて走査信号が順次供給される。そして、信号線104には信号線
駆動回路130から画像信号が供給され、電源供給線106には図示しない外部回路から
画素駆動電流が供給される。なお、走査線駆動回路120の動作と信号線駆動回路130
の動作とは、同期信号線140を介して外部回路から供給される同期信号により相互に同
期が図られている。
Around the display area 100, a scanning line driving circuit 120 and a signal line driving circuit 130 are formed. Scanning signals are sequentially supplied from the scanning line driving circuit 120 to the scanning lines 102 in accordance with various signals supplied from an external circuit (not shown). An image signal is supplied from the signal line driver circuit 130 to the signal line 104, and a pixel driving current is supplied to the power supply line 106 from an external circuit (not shown). Note that the scan line driver circuit 120 operates and the signal line driver circuit 130.
These operations are synchronized with each other by a synchronization signal supplied from an external circuit via the synchronization signal line 140.

走査線102が駆動されスイッチング用TFT108がオン状態になると、その時点の
信号線104の電位が保持容量110に保持され、保持容量110の状態に応じて駆動用
TFT112のレベルが決まる。そして、駆動用TFT112を介して電源供給線106
から陽極56に駆動電流が流れ、さらに上述の発光層を含む機能層(以下、「発光機能層
」と称する。)を介して陰極55に駆動電流が流れる。その結果、発光層は駆動電流の大
きさに応じて発光する。表示領域100には、上述の三種類の発光素子20が規則的に配
置されている。個々の発光素子20が独立に制御されて駆動電流の大きさに応じて発光す
ることで、表示領域100にカラー画像が形成される。
なお、上記三種類の発光素子20の配置の順序はB,G,Rの順序に限定されるもので
はなく、例えばR,B,Gの順序に配置することも可能である。また、上記三種類の発光
素子20の平面視での形状は、同一に限定されるものではない。
When the scanning line 102 is driven and the switching TFT 108 is turned on, the potential of the signal line 104 at that time is held in the holding capacitor 110, and the level of the driving TFT 112 is determined according to the state of the holding capacitor 110. Then, the power supply line 106 is connected via the driving TFT 112.
Then, a driving current flows from the anode 56 to the anode 56, and further, a driving current flows to the cathode 55 via the functional layer including the above-described light emitting layer (hereinafter referred to as “light emitting functional layer”). As a result, the light emitting layer emits light according to the magnitude of the drive current. In the display area 100, the above-described three types of light emitting elements 20 are regularly arranged. Each of the light emitting elements 20 is independently controlled to emit light according to the magnitude of the drive current, whereby a color image is formed in the display region 100.
Note that the order of arrangement of the three types of light emitting elements 20 is not limited to the order of B, G, and R, and can be arranged in the order of R, B, and G, for example. Further, the shapes of the three types of light emitting elements 20 in plan view are not limited to the same.

図2は、本実施形態にかかる有機EL装置の断面を模式的に示す図である。本実施形態
にかかる有機EL装置は、対向基板11側に光を出射するトップエミッション型の有機E
L装置である。図2には、素子基板10の対向基板11側の面に規則的に配置された、青
色発光素子20Bと緑色発光素子20Gと赤色発光素子20Rとの計三種類の発光素子2
0が、各々の発光素子20を駆動する駆動用TFT112と共に図示されている。スイッ
チング用TFT108(図1参照)等は、図示を省略している。
FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL device according to the present embodiment. The organic EL device according to this embodiment is a top emission type organic E that emits light to the counter substrate 11 side.
L device. FIG. 2 shows a total of three types of light emitting elements 2, a blue light emitting element 20 </ b> B, a green light emitting element 20 </ b> G, and a red light emitting element 20 </ b> R, regularly arranged on the surface of the element substrate 10 on the counter substrate 11 side.
0 is shown together with a driving TFT 112 for driving each light emitting element 20. The switching TFT 108 (see FIG. 1) and the like are not shown.

素子基板10は、接着層12を介して、透光性材料からなる対向基板11と貼り合わさ
れている。対向基板11の一方の面にはカラーフィルタ層29が形成されており、該対向
基板は該カラーフィルタ層が素子基板10と対向するように貼り合わされている。カラー
フィルタ層29は、規則的に配置された赤色カラーフィルタ30R、緑色カラーフィルタ
30G、及び青色カラーフィルタ30Bの計三種類のカラーフィルタ30と、各々のカラ
ーフィルタ30を区画するブラックマトリクス35とからなる。そして、青色発光素子2
0Bには青色カラーフィルタ30Bが、緑色発光素子20Gには緑色カラーフィルタ30
Gが、そして赤色発光素子20Rには赤色カラーフィルタ30Rが、夫々対向するように
貼り合わされている。各々のカラーフィルタ30は、各々の発光素子20が発光する光の
色純度を向上させる機能を果たすととも、外光の反射も低減する機能も果たしている。か
かる機能については後述する。
The element substrate 10 is bonded to the counter substrate 11 made of a translucent material through an adhesive layer 12. A color filter layer 29 is formed on one surface of the counter substrate 11, and the counter substrate is bonded so that the color filter layer faces the element substrate 10. The color filter layer 29 is composed of a total of three types of color filters 30, a red color filter 30 </ b> R, a green color filter 30 </ b> G, and a blue color filter 30 </ b> B arranged regularly, and a black matrix 35 that partitions each color filter 30. Become. And blue light emitting element 2
The blue color filter 30B is used for 0B, and the green color filter 30 is used for the green light emitting element 20G.
G and a red color filter 30R are bonded to the red light emitting element 20R so as to face each other. Each color filter 30 has a function of improving the color purity of light emitted from each light emitting element 20 and also a function of reducing reflection of external light. This function will be described later.

なお、発光素子20とは、発光機能層(詳しくは、該発光機能層に含まれる発光層)4
0が通電により発光する領域、すなわち後述する隔壁77で囲まれた領域において、陽極
56と陰極55、及び該一対の電極に挟持される各層、さらに後述する反射層58及び半
反射層82と透明層81とからなる干渉構造83等を含む概念である。
The light emitting element 20 is a light emitting functional layer (specifically, a light emitting layer included in the light emitting functional layer) 4.
In a region where 0 emits light when energized, that is, a region surrounded by a partition wall 77 which will be described later, each layer sandwiched between the anode 56 and the cathode 55 and the pair of electrodes, and a reflective layer 58 and a semi-reflective layer 82 which will be described later are transparent. This is a concept including an interference structure 83 including the layer 81.

素子基板10の対向基板11側の面には、ポリシリコン(多結晶シリコン)層からなる
チャネル領域60と酸窒化シリコン等からなるゲート絶縁膜71とポリシリコンあるいは
Al(アルミニウム)等からなるゲート電極62と、からなる駆動用TFT112が形成
されている。そして、TFT112の対向基板11側には、該駆動用TFTを覆うように
酸窒化シリコン等からなる第1層間絶縁層72が形成されている。そして、第1層間絶縁
層72のチャネル領域60と平面視で重なる領域の一部は選択的に除去されてコンタクト
ホールとなっており、該コンタクトホールを埋め込むようにチャネル領域60と導通する
ドレイン電極64及びソース電極66が形成されている。
On the surface of the element substrate 10 on the counter substrate 11 side, a channel region 60 made of a polysilicon (polycrystalline silicon) layer, a gate insulating film 71 made of silicon oxynitride, and a gate electrode made of polysilicon, Al (aluminum), or the like. 62 is formed. A first interlayer insulating layer 72 made of silicon oxynitride or the like is formed on the counter substrate 11 side of the TFT 112 so as to cover the driving TFT. A part of the region overlapping the channel region 60 of the first interlayer insulating layer 72 in plan view is selectively removed to form a contact hole, and a drain electrode that is electrically connected to the channel region 60 so as to fill the contact hole 64 and a source electrode 66 are formed.

ドレイン電極64及びソース電極66の対向基板11側には酸窒化シリコン等からなる
第2層間絶縁層73が形成されている。そして、該第2層間絶縁層のドレイン電極64と
平面視で重なる領域の一部が選択的に除去されることで、コンタクトホールが形成されて
いる。
A second interlayer insulating layer 73 made of silicon oxynitride or the like is formed on the opposite substrate 11 side of the drain electrode 64 and the source electrode 66. A part of the region overlapping the drain electrode 64 of the second interlayer insulating layer in a plan view is selectively removed to form a contact hole.

第2層間絶縁層73の対向基板11側には、反射層58及び後述する透明層81等を介
して第1電極としての陽極56が形成されている。陽極56は透明導電性材料であるIT
O(酸化インジウム・錫)の薄膜をパターニングして形成されており、上記コンタクトホ
ールを介してドレイン電極64と電気的に接続されている。したがって、陽極56は駆動
用TFT112と導通し、電源供給線106から供給される駆動電流を、後述する発光機
能層40に供給できる。陽極56の層厚は、青色発光素子20Bでは略124nm、緑色
発光素子20Gでは略22nm、赤色発光素子20Rでは略92nmである。
On the counter substrate 11 side of the second interlayer insulating layer 73, an anode 56 as a first electrode is formed via a reflective layer 58, a transparent layer 81 described later, and the like. The anode 56 is a transparent conductive material IT
It is formed by patterning a thin film of O (indium / tin oxide), and is electrically connected to the drain electrode 64 through the contact hole. Therefore, the anode 56 is electrically connected to the driving TFT 112, and the driving current supplied from the power supply line 106 can be supplied to the light emitting functional layer 40 described later. The layer thickness of the anode 56 is approximately 124 nm for the blue light emitting element 20B, approximately 22 nm for the green light emitting element 20G, and approximately 92 nm for the red light emitting element 20R.

陽極56の形成材料は、上述のITO以外に、インジウムジンクオキサイド等の公知の
透明導電性材料を用いることができる。また、陽極56の層厚は上述の値に限定されるも
のではなく、後述する共振構造88(図3参照)の光路長(共振長)の調整のために好適
な値に設定することが好ましい。反射層58の形成材料及び層厚は各発光素子間で共通で
あり、層厚略100nmのAlである。
As a material for forming the anode 56, a known transparent conductive material such as indium zinc oxide can be used in addition to the above-mentioned ITO. Further, the layer thickness of the anode 56 is not limited to the above-mentioned value, and is preferably set to a value suitable for adjusting the optical path length (resonance length) of a resonance structure 88 (see FIG. 3) described later. . The formation material and the layer thickness of the reflective layer 58 are common among the light emitting elements, and are Al having a layer thickness of approximately 100 nm.

第2層間絶縁層73及び陽極56の対向基板11側には、ポリイミド等の有機又は無機
の絶縁材料層をパターニングして、隔壁77が形成されている。上記パターニングは、陽
極56の反射層58と重なる領域が露出するように行われる。そして、陽極56の対向基
板11側の上記領域には、夫々の発光素子20に対応する発光機能層40が形成されてい
る。具体的には青色発光素子20Bの上記領域には青色発光機能層40Bが形成され、緑
色発光素子20Gの上記領域には緑色発光機能層40Gが形成され、赤色発光素子20R
の上記領域には赤色発光機能層40Rが形成されている。各発光機能層40の形成材料等
については後述する。
On the counter substrate 11 side of the second interlayer insulating layer 73 and the anode 56, a partition wall 77 is formed by patterning an organic or inorganic insulating material layer such as polyimide. The patterning is performed so that a region overlapping the reflective layer 58 of the anode 56 is exposed. The light emitting functional layers 40 corresponding to the respective light emitting elements 20 are formed in the region on the counter substrate 11 side of the anode 56. Specifically, a blue light emitting functional layer 40B is formed in the region of the blue light emitting element 20B, a green light emitting functional layer 40G is formed in the region of the green light emitting element 20G, and the red light emitting element 20R.
A red light emitting functional layer 40R is formed in the above region. A material for forming each light emitting functional layer 40 will be described later.

上記各々の発光機能層40及び隔壁77の対向基板11側には電子注入層54、第2電
極としての陰極55、そして封止層59が、記載の順に形成されている。電子注入層54
は層厚略1nmのLiF(弗化リチウム)からなり、陰極55からの電子注入効率を高め
て発光効率を向上させる層である。陰極55の形成材料としては、仕事関数が4.2eV
以下の金属、あるいは仕事関数が3.5eV以下のアルカリ金属、アルカリ土類金属が好
ましい。本実施形態においてはMgAg(マグネシウム・銀合金)が用いられている。陰
極55の層厚は略10nmであり、半透過反射性、すなわち照射された光の略50%を反
射し、略50%を透過する性質が付与されている。封止層59の形成材料は、ガスバリア
性の高い透明材料が好ましい。本実施形態にかかる有機EL装置の封止層59は層厚略2
00nmの窒化酸化シリコン(SiOxNy)で形成されている。
An electron injection layer 54, a cathode 55 as a second electrode, and a sealing layer 59 are formed in the order described on the counter substrate 11 side of each of the light emitting functional layers 40 and the partition walls 77. Electron injection layer 54
Is made of LiF (lithium fluoride) having a layer thickness of about 1 nm, and is a layer that enhances the electron injection efficiency from the cathode 55 and improves the light emission efficiency. The material for forming the cathode 55 has a work function of 4.2 eV.
The following metals, or alkali metals or alkaline earth metals having a work function of 3.5 eV or less are preferable. In this embodiment, MgAg (magnesium / silver alloy) is used. The cathode 55 has a layer thickness of about 10 nm, and has a transflective property, that is, a property of reflecting about 50% of irradiated light and transmitting about 50%. The material for forming the sealing layer 59 is preferably a transparent material having a high gas barrier property. The sealing layer 59 of the organic EL device according to this embodiment has a layer thickness of about 2
It is made of 00 nm silicon nitride oxide (SiOxNy).

上記各層は、少なくとも表示領域100(図1参照)の全面を覆うように形成されてい
る。そして陰極55は、表示領域100の外部の領域で接地している。封止層59までが
形成された素子基板10と、カラーフィルタ層29が形成された対向基板11と、が該封
止層と該カラーフィルタとが対向するように接着層12を介して貼り合わされて有機EL
装置となる。なお、電子注入層54を含めて発光機能層40と称する場合もあるが、本明
細書では電子注入層54と発光機能層40とは別個の層として記述している。
Each of the layers is formed so as to cover at least the entire surface of the display region 100 (see FIG. 1). The cathode 55 is grounded in an area outside the display area 100. The element substrate 10 on which the layers up to the sealing layer 59 are formed and the counter substrate 11 on which the color filter layer 29 is formed are bonded together via the adhesive layer 12 so that the sealing layer and the color filter face each other. Organic EL
It becomes a device. In addition, although the electron injection layer 54 may be referred to as the light emitting functional layer 40, the electron injection layer 54 and the light emitting functional layer 40 are described as separate layers in this specification.

上述したように、第2層間絶縁層73の対向基板11側の面における、平面視で上記の
各発光素子20の発光機能層40と重なる領域には、反射層58が形成されている。また
、上述したように陽極56は透明導電性材料で形成されている。したがって、発光機能層
40で生じた光のうちの素子基板10側に向かう光は、陽極56を透過して反射層58に
到達して後、対向基板11側に反射される。また、陰極55は半透過反射性の材料で形成
されているため、発光機能層40で生じた光のうちの対向基板11側に向かう光の略50
%は、陰極55により素子基板10側に反射される。したがって、陰極55と反射層58
との間には共振構造88(図3参照)が形成されている。
As described above, the reflective layer 58 is formed on the surface of the second interlayer insulating layer 73 on the side of the counter substrate 11 that overlaps the light emitting functional layer 40 of each light emitting element 20 in plan view. Further, as described above, the anode 56 is formed of a transparent conductive material. Therefore, the light emitted from the light emitting functional layer 40 toward the element substrate 10 is transmitted through the anode 56 to reach the reflection layer 58 and then reflected to the counter substrate 11 side. Further, since the cathode 55 is formed of a transflective material, approximately 50 of the light traveling toward the counter substrate 11 out of the light generated in the light emitting functional layer 40.
% Is reflected by the cathode 55 toward the element substrate 10 side. Therefore, the cathode 55 and the reflective layer 58
A resonance structure 88 (see FIG. 3) is formed between the two.

また、青色発光素子20B及び緑色発光素子20Gの反射層58の対向基板11側には
、透明層81と半反射層82とが記載の順に形成されており、該2層の薄膜で干渉構造8
3が形成されている。該2層の形成材料は、透明層81は層厚略85nmのSiN(窒化
シリコン)、半反射層82は層厚略20nmのチタニウムである。なお、赤色発光素子2
0Rの反射層58の対向基板11側には透明層81のみが形成されており、干渉構造83
は形成されていない。本実施形態にかかる有機EL装置は、干渉構造83、共振構造88
及びカラーフィルタ30の機能により外光反射を低減している。かかる態様を、以下、図
3及び図4を用いて述べる。
In addition, a transparent layer 81 and a semi-reflective layer 82 are formed in the order of description on the counter substrate 11 side of the reflective layer 58 of the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G.
3 is formed. The two layers are formed of a transparent layer 81 of SiN (silicon nitride) having a thickness of about 85 nm and a semi-reflective layer 82 of titanium having a thickness of about 20 nm. Red light emitting element 2
Only the transparent layer 81 is formed on the counter substrate 11 side of the 0R reflective layer 58, and the interference structure 83 is formed.
Is not formed. The organic EL device according to this embodiment includes an interference structure 83 and a resonance structure 88.
In addition, the function of the color filter 30 reduces external light reflection. Such an embodiment will be described below with reference to FIGS.

図3は、緑色発光素子20G、すなわち陰極55と陽極56と該一対の電極間の各層を
、緑色カラーフィルタ30G及び上述の干渉構造83等と共に摸式的に示す断面図である
。図2において図示した緑色発光素子20Gの緑色発光機能層40Gを構成する各層を図
示しており、表示面75の符号を加えている。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the green light emitting element 20G, that is, each layer between the cathode 55, the anode 56, and the pair of electrodes together with the green color filter 30G and the interference structure 83 described above. Each layer which comprises the green light emission functional layer 40G of the green light emitting element 20G shown in FIG. 2 is shown in figure, and the code | symbol of the display surface 75 is added.

表示面75は、緑色発光素子20Gの表面であり、表示光すなわち緑色発光機能層40
G内で発光した光が緑色カラーフィルタ30Gを介して観察者に向けて出射される面であ
る。対向基板11は図示を省略し、緑色カラーフィルタ30Gと素子基板10との界面を
模式的に表示面75としている。
The display surface 75 is the surface of the green light emitting element 20G, and the display light, that is, the green light emitting functional layer 40.
It is a surface on which light emitted in G is emitted toward the observer through the green color filter 30G. The counter substrate 11 is not shown, and the interface between the green color filter 30G and the element substrate 10 is schematically used as a display surface 75.

緑色発光機能層40Gは、陽極56の対向基板11側に記載の順に形成された正孔注入
層51、正孔輸送層52、緑色発光層44、及び電子輸送層53の計4層からなる。緑色
発光機能層40Gの層厚、すなわち上述の4層の合計層厚は、略94nmである。
The green light emitting functional layer 40 </ b> G includes a total of four layers including a hole injection layer 51, a hole transport layer 52, a green light emitting layer 44, and an electron transport layer 53 formed in the order described on the counter substrate 11 side of the anode 56. The layer thickness of the green light emitting functional layer 40G, that is, the total layer thickness of the four layers described above is approximately 94 nm.

正孔注入層51は、陽極56からの正孔注入効率を高めて発光効率を向上させる層であ
る。また、正孔輸送層52及び電子輸送層53は、それぞれ緑色発光層44への正孔輸送
性、電子輸送性を高めて発光効率を向上させる層である。夫々の層の形成材料は、正孔注
入層51がHI406(出光興産株式会社製)、正孔輸送層52がHT320(出光興産
株式会社製)、電子輸送層53がAlq3(アルミニウムキノリノール)である。
発光層(緑色発光層44等)は、導電性を担保するホスト材料に、電子と正孔との結合
により発光する機能を有するドーパントを混入して形成されている。緑色発光層44は、
ホスト材料としてのBH215(出光興産株式会社製)にドーパントとしてのキナクリド
ンを混入して形成されている。
The hole injection layer 51 is a layer that increases the hole injection efficiency from the anode 56 and improves the light emission efficiency. The hole transport layer 52 and the electron transport layer 53 are layers that improve the light emission efficiency by improving the hole transport property and the electron transport property to the green light emitting layer 44, respectively. As the material for forming each layer, the hole injection layer 51 is HI406 (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), the hole transport layer 52 is HT320 (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), and the electron transport layer 53 is Alq3 (aluminum quinolinol). .
The light emitting layer (green light emitting layer 44 or the like) is formed by mixing a host material that ensures conductivity with a dopant that has a function of emitting light by the combination of electrons and holes. The green light emitting layer 44 is
BH215 (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd.) as a host material is mixed with quinacridone as a dopant.

なお、本実施形態にかかる有機EL装置、及び後述する各実施形態と比較例にかかる有
機EL装置において、青色発光素子20Bの青色発光機能層40B及び赤色発光素子20
Rの赤色発光機能層40Rの双方共に層厚は略94nmと緑色発光機能層40Gの層厚と
同一であり、形成材料も発光層のドーパントを除いては同一である。なお、発光機能層4
0の形成材料は上記のものに限定されるものではない。低分子系及び高分子系の発光に寄
与する公知の材料を用いて形成することができる。
In the organic EL device according to the present embodiment and the organic EL devices according to the embodiments and comparative examples described later, the blue light emitting functional layer 40B and the red light emitting element 20 of the blue light emitting element 20B are used.
Both the red light emitting functional layers 40R of R have a thickness of about 94 nm, which is the same as the thickness of the green light emitting functional layer 40G, and the forming materials are the same except for the dopant of the light emitting layer. The light emitting functional layer 4
The forming material of 0 is not limited to the above. It can be formed using a known material that contributes to light emission of a low molecular weight type and a high molecular weight type.

上述したように、本実施形態にかかる有機EL装置は消費電力の増大を抑制しつつ、外
光反射率、すなわち表示面75に入射した外光のうち、反射層58で反射されて表示面7
5から出射される光の比率をできる限り低減することを目標としている。そのために、各
々の発光素子20毎に異なるドーパントを用いて3原色のいずれかの発光を生じさせつつ
、カラーフィルタ30を用い、さらに青色発光素子20B及び緑色発光素子20Gの反射
層58上に干渉構造83を形成している。
As described above, the organic EL device according to the present embodiment suppresses an increase in power consumption and reflects the external light reflectance, that is, the external light incident on the display surface 75, reflected by the reflective layer 58 and displayed on the display surface 7.
The objective is to reduce the ratio of the light emitted from 5 as much as possible. For this purpose, the color filter 30 is used while causing light emission of one of the three primary colors using a different dopant for each light emitting element 20, and interference is further caused on the reflective layer 58 of the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G. A structure 83 is formed.

外光90は白色光であり、広い波長範囲の光を含んでいる。そして、緑色カラーフィル
タ30Gは、入射した光のうち略540nmを中心とする所定の幅の波長範囲の光(すな
わち緑色光成分)を透過して、該所定の幅の波長範囲の光以外の光(非緑色光成分)を吸
収する機能を有している。したがって、表示面75に入射した外光90に含まれる光のう
ち、緑色光成分(以下、「第2の外光成分92」と称する。)は緑色カラーフィルタ30
Gを透過し、非緑色光成分(以下、「第1の外光成分91」と称する。)は緑色カラーフ
ィルタ30Gに吸収され熱として放散される。その結果、緑色カラーフィルタ30Gによ
り緑色発光素子20G内に入射する光(光量)は大きく低減される。
The outside light 90 is white light and includes light in a wide wavelength range. The green color filter 30G transmits light having a wavelength range of a predetermined width centered at approximately 540 nm (that is, a green light component) out of the incident light, and light other than light having a wavelength range of the predetermined width. It has a function of absorbing (non-green light component). Therefore, of the light included in the external light 90 incident on the display surface 75, the green light component (hereinafter referred to as “second external light component 92”) is the green color filter 30.
The non-green light component (hereinafter referred to as “first external light component 91”) that passes through G is absorbed by the green color filter 30G and dissipated as heat. As a result, the light (light quantity) incident on the green light emitting element 20G is greatly reduced by the green color filter 30G.

緑色発光素子20G内に入射した第2の外光成分92は、緑色発光機能層40G等を透
過して、透明層81と半反射層82とからなる干渉構造83に達する。ここで、陰極55
は半透過反射性を有するため、第2の外光成分92のうちの幾分かは反射されて表示面7
5から出射されるが、かかる光についての記載は省略する。
The second external light component 92 incident on the green light emitting element 20G passes through the green light emitting functional layer 40G and reaches the interference structure 83 composed of the transparent layer 81 and the semi-reflective layer 82. Here, the cathode 55
Has a transflective property, so that some of the second external light component 92 is reflected to display the display surface 7.
Although the light is emitted from 5, the description of the light is omitted.

陰極55と電子注入層54との界面から陽極56と半反射層82との界面までに含まれ
る各層は全て透光性を有する層である。したがって、第2の外光成分92は陽極56と半
反射層82との界面まで殆んど減衰することなく到達する。そして、陽極56と半反射層
82との界面で略50%が反射されて第1の反射光94となり、該界面を透過した残りの
略50%は干渉構造83を経た後に反射層58の表面で反射されて、第2の反射光95と
なる。第1の反射光94と第2の反射光95とが合わさった光が、反射光93として表示
面75から出射される。ここで、透明層81の光学的距離(層厚と屈折率の積)と半反射
層82の光学的距離との合計は、第2の外光成分92の波長の略四分の一となるように設
定されている。したがって、第2の反射光95と第1の反射光94とは、位相が互いに二
分の一波長分すなわち180度分ずれている。したがって、第1の反射光94と第2の反
射光95とは互いに打ち消しあうこととなり、反射光93の光量は第2の外光成分92の
光量と比べて極めて低減されている。
Each layer included from the interface between the cathode 55 and the electron injection layer 54 to the interface between the anode 56 and the semi-reflective layer 82 is a layer having translucency. Therefore, the second external light component 92 reaches the interface between the anode 56 and the semi-reflective layer 82 with almost no attenuation. Then, approximately 50% is reflected at the interface between the anode 56 and the semi-reflective layer 82 to become the first reflected light 94, and the remaining approximately 50% transmitted through the interface passes through the interference structure 83 and then the surface of the reflective layer 58. The second reflected light 95 is reflected. The combined light of the first reflected light 94 and the second reflected light 95 is emitted from the display surface 75 as reflected light 93. Here, the sum of the optical distance (the product of the layer thickness and the refractive index) of the transparent layer 81 and the optical distance of the semi-reflective layer 82 is approximately a quarter of the wavelength of the second external light component 92. Is set to Therefore, the phases of the second reflected light 95 and the first reflected light 94 are shifted from each other by a half wavelength, that is, by 180 degrees. Therefore, the first reflected light 94 and the second reflected light 95 cancel each other, and the light amount of the reflected light 93 is extremely reduced compared to the light amount of the second external light component 92.

次に、発光機能層40で生じる発光について述べる。緑色発光機能層40Gに含まれる
緑色発光層44で生じる光のうちの略50%は対向基板11側に向かい、残りの略50%
は素子基板10側(本図では反射層58側)に向かう。以下、対向基板11側に向かう光
を第1の発光86と称する。そして、素子基板10側に向い反射層58で対向基板11側
に向かう方向に反射されてくる光を第2の発光87と称する。第1の発光86と第2の発
光87とが合わさった光が、出射光(表示光)85となる。出射光85は、緑色カラーフ
ィルタ30Gを透過することにより波長範囲が狭められて色純度が向上した後、表示面7
5から出射される。
Next, light emission generated in the light emitting functional layer 40 will be described. Approximately 50% of the light generated in the green light emitting layer 44 included in the green light emitting functional layer 40G is directed to the counter substrate 11 side, and the remaining approximately 50%.
Is directed to the element substrate 10 side (the reflective layer 58 side in this figure). Hereinafter, the light traveling toward the counter substrate 11 is referred to as first light emission 86. The light reflected in the direction toward the counter substrate 11 by the reflective layer 58 facing the element substrate 10 is referred to as second light emission 87. The combined light of the first light emission 86 and the second light emission 87 is emitted light (display light) 85. The outgoing light 85 is transmitted through the green color filter 30G so that the wavelength range is narrowed and the color purity is improved.
5 is emitted.

ここで、第2の発光87は干渉構造83を透過するため、陽極56と半反射層82との
界面で反射される成分と該界面を透過する成分とで打ち消しあい、若干強度(光量)が低
下する。しかし、第1の発光86は干渉構造83を経ずに出射される。したがって、出射
光85全体としては、干渉構造83の影響をあまり大きくは受けておらず、強度(光量)
の低下は限られている。
Here, since the second light emission 87 is transmitted through the interference structure 83, the component reflected at the interface between the anode 56 and the semi-reflective layer 82 and the component transmitted through the interface cancel each other, and have a slight intensity (light quantity). descend. However, the first light emission 86 is emitted without passing through the interference structure 83. Therefore, the output light 85 as a whole is not greatly affected by the interference structure 83, and the intensity (light quantity).
The decline is limited.

干渉構造83の形成位置は陰極55と反射層58との間であればよく、発光機能層40
と陰極55との間に形成することもできる。しかし、かかる位置に形成すると出射光(表
示光)85に与える影響も大きくなる。本実施形態の有機EL装置は、干渉構造83を、
第2の外光成分92は全て照射されるが出射光85は略50%しか照射されない位置、す
なわち反射層58と発光機能層40との間に形成することで、取り出し効率の低下を抑制
しつつ外光反射を低減している。
The interference structure 83 may be formed between the cathode 55 and the reflective layer 58, and the light emitting functional layer 40.
And the cathode 55 can also be formed. However, when it is formed at such a position, the influence on the emitted light (display light) 85 is increased. The organic EL device of the present embodiment has an interference structure 83,
By forming the second external light component 92 at a position where only 50% of the emitted light 85 is irradiated, that is, between the reflective layer 58 and the light emitting functional layer 40, a decrease in extraction efficiency is suppressed. While reducing external light reflection.

なお、透明層81の層厚及び半反射層82の層厚は、上述の値に固定されている訳では
ない。上述の層厚の設定により外光反射率が大きく変化するため、各々の発光素子20の
、カラーフィルタ層29から陽極56にいたるまで透過する外光のピーク波長に合わせて
、該ピーク波長の光の反射率を低減できるように設定することが好ましい。透明層81の
層厚は、略50nm〜200nmの間で設定することが好ましい。半反射層82の層厚は
、透過性の変化を考慮しつつ、略5nm〜30nmの間で設定することが好ましい。
The layer thickness of the transparent layer 81 and the layer thickness of the semi-reflective layer 82 are not fixed to the above values. Since the external light reflectance largely changes depending on the setting of the layer thickness described above, the light having the peak wavelength is matched with the peak wavelength of the external light transmitted from the color filter layer 29 to the anode 56 of each light emitting element 20. It is preferable to set so that the reflectance can be reduced. The layer thickness of the transparent layer 81 is preferably set between approximately 50 nm and 200 nm. The layer thickness of the semi-reflective layer 82 is preferably set between approximately 5 nm and 30 nm in consideration of a change in transmittance.

次に、共振構造88について述べる。陰極55は、半透過反射性材料で形成されている
ため、緑色発光層44で生じた発光のうちの略50%は陰極55により反射層58の方向
に反射される。したがって、陰極55と反射層58との間には共振構造88が形成される
。共振構造88の共振長(陰極55と反射層58との間の光学的距離)が適切な値である
場合、上記の発光は共振構造88内で多重干渉を起こし、色純度が向上した後、表示面7
5から出射される。かかる色純度の向上は、緑色カラーフィルタ30Gの機能を補えるた
め、取り出し効率の向上につながる。その結果として、輝度を同一とした場合における消
費電力の低減が可能となる。
Next, the resonance structure 88 will be described. Since the cathode 55 is made of a transflective material, approximately 50% of the light emitted from the green light emitting layer 44 is reflected by the cathode 55 toward the reflecting layer 58. Therefore, a resonant structure 88 is formed between the cathode 55 and the reflective layer 58. When the resonance length of the resonance structure 88 (optical distance between the cathode 55 and the reflective layer 58) is an appropriate value, the above light emission causes multiple interference in the resonance structure 88, and the color purity is improved. Display surface 7
5 is emitted. Such an improvement in color purity supplements the function of the green color filter 30G, leading to an improvement in extraction efficiency. As a result, it is possible to reduce power consumption when the luminance is the same.

多重干渉による色純度の向上効果を最大にするためには光学的距離Lが、式(1)を満
たすことが必要である。
mλ1=2L+(φ2+φ1)・・・・・・・・・・・(1)
一方で、共振構造88は第2の外光成分(緑色光成分)92を干渉により打ち消し合わ
せることにより、外光反射を低減する機能も果たし得る。干渉による外光反射の低減効果
を最大にするためには光学的距離Lが、式(2)を満たすことが必要である。
(m+1/2)λ2=2L+(φ’2−φ’1)・・・(2)
ここで、
mは1以上の整数、
Lは、陰極55と電子注入層54との界面と、反射層58と透明層81との界面と、の
間の光学的距離、
λ1は、表示面75から出射させたい光のピーク波長、
λ2は、反射を低減させたい光のピーク波長、
φ1は、反射層58で反射するときの波長λ1の光の位相変化、
φ2は、陰極55で反射するときの波長λ1の光の位相変化、
φ’1は、反射層58で反射するときの波長λ2の光の位相変化、
φ’2は、陰極55で反射するときの波長λ2の光の位相変化、である。
In order to maximize the effect of improving the color purity due to multiple interference, the optical distance L needs to satisfy the formula (1).
1 = 2L + (φ 2 + φ 1 ) (1)
On the other hand, the resonance structure 88 can also fulfill the function of reducing external light reflection by canceling out the second external light component (green light component) 92 by interference. In order to maximize the effect of reducing external light reflection due to interference, the optical distance L needs to satisfy Expression (2).
(M + 1/2) λ 2 = 2L + (φ ′ 2 −φ ′ 1 ) (2)
here,
m is an integer greater than or equal to 1,
L is an optical distance between the interface between the cathode 55 and the electron injection layer 54 and the interface between the reflective layer 58 and the transparent layer 81;
λ 1 is the peak wavelength of light desired to be emitted from the display surface 75,
λ 2 is the peak wavelength of the light whose reflection is to be reduced,
φ 1 is a phase change of light of wavelength λ 1 when reflected by the reflective layer 58,
φ 2 is the phase change of the light of wavelength λ 1 when reflected by the cathode 55,
φ ′ 1 is a phase change of light of wavelength λ 2 when reflected by the reflective layer 58,
φ ′ 2 is a phase change of light of wavelength λ 2 when reflected by the cathode 55.

緑色発光素子20Gが表示面75から出射させたい光のピーク波長は、当然緑色光のピ
ーク波長である。また、外光90は、緑色カラーフィルタ30Gを透過することで、第2
の外光成分(緑色光成分)92となっているため、共振構造88により反射を低減させた
い光のピーク波長は緑色光のピーク波長である。したがって、λ1と、λ2は略同一の値で
ある。また、反射による光の位相変化はあまり大きな値はとり得ない。そのため、式(1
)と式(2)の双方を満たすLを設定することは困難である。
The peak wavelength of light that the green light emitting element 20G wants to emit from the display surface 75 is naturally the peak wavelength of green light. Further, the external light 90 passes through the green color filter 30G, so that the second
Therefore, the peak wavelength of the light whose reflection is to be reduced by the resonance structure 88 is the peak wavelength of the green light. Therefore, λ 1 and λ 2 are substantially the same value. Further, the phase change of light due to reflection cannot take a very large value. Therefore, the formula (1
) And formula (2) satisfying both of them is difficult to set.

本実施形態の有機EL装置は、かかる対立し得る要望をできる限り満たすべく、上記共
振長等を設定し、外光反射を低減しつつ色純度を向上させて、同一の輝度で表示する際の
消費電力を低減している。上述したように、本実施形態の有機EL装置は偏光板等を用い
ておらず、またカラーフィルタは出射すべき波長範囲の光は殆んど吸収しないため、取り
出し効率は余裕がある。したがって、共振構造88の共振長は、色純度の向上を考慮しつ
つ、外光反射の低減に重点を置いて設定できる。
The organic EL device according to the present embodiment sets the resonance length and the like so as to satisfy such conflicting requests as much as possible, and improves color purity while reducing external light reflection, and displays the same luminance. Power consumption is reduced. As described above, the organic EL device of the present embodiment does not use a polarizing plate or the like, and the color filter hardly absorbs light in the wavelength range to be emitted, so that the extraction efficiency has a margin. Therefore, the resonance length of the resonance structure 88 can be set with an emphasis on the reduction of external light reflection while considering the improvement of color purity.

なお、青色発光素子20Bは、カラーフィルタが表示面75に入射した光(外光)のう
ち略440nmを中心とする所定の幅の波長範囲の光(すなわち青色光成分)を透過させ
、該所定の幅の波長範囲の光以外の光(非青色光成分)を吸収する青色カラーフィルタ3
0Bであること、及び、青色発光機能層40Bに含まれる発光層のドーパントにBD05
2(出光興産株式会社製)を用いていること、の2点を除けば、緑色発光素子20Gと同
様の構成である。
The blue light emitting element 20B transmits light (that is, a blue light component) having a wavelength range of a predetermined width centered at approximately 440 nm out of light (external light) incident on the display surface 75 by the color filter. Blue color filter 3 that absorbs light (non-blue light component) other than light in the wavelength range of
BD05 as the dopant of the light emitting layer included in the blue light emitting functional layer 40B.
Except for two points of using 2 (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), it is the same structure as the green light emitting element 20G.

次に、本実施形態の有機EL装置の赤色発光素子20Rについて説明する。図4は、赤
色発光素子20Rを構成する各層を、赤色カラーフィルタ30R等と共に摸式的に示す断
面図である。赤色発光素子20Rは、陽極56と反射層58との間に透明層81のみが形
成されており、半反射層82(図3参照)は形成されていない点で、緑色発光素子20G
及び青色発光素子20Bと大きく相違している。したがって、干渉構造83(図3参照)
は形成されていない。また、カラーフィルタ30は、表示面75に入射した光のうち略6
50nmを中心とする所定の幅の波長範囲の光(すなわち赤色光成分)を透過させ、該所
定の幅の波長範囲の光以外の光(非赤色光成分)を吸収する赤色カラーフィルタ30Rで
ある点、及び、赤色発光機能層40Rに含まれる赤色発光層46のドーパントにRD00
1(出光興産株式会社製)を用いている点でも相違している。かかる相違点を除く各構成
要素は図3に示す緑色発光素子20Gの構成要素と同一である。そこで、同一の構成要素
には同じ符号を付し、説明の記載は省略している。
Next, the red light emitting element 20R of the organic EL device of the present embodiment will be described. FIG. 4 is a sectional view schematically showing each layer constituting the red light emitting element 20R together with the red color filter 30R and the like. In the red light emitting element 20R, only the transparent layer 81 is formed between the anode 56 and the reflective layer 58, and the semi-reflective layer 82 (see FIG. 3) is not formed.
And the blue light emitting element 20B. Therefore, the interference structure 83 (see FIG. 3)
Is not formed. Further, the color filter 30 is approximately 6 out of the light incident on the display surface 75.
This is a red color filter 30R that transmits light in a wavelength range of a predetermined width centered on 50 nm (that is, a red light component) and absorbs light other than light in the wavelength range of the predetermined width (non-red light component). And RD00 as a dopant of the red light emitting layer 46 included in the red light emitting functional layer 40R.
1 (Idemitsu Kosan Co., Ltd.) is also used. Except for such differences, each component is the same as the component of the green light emitting element 20G shown in FIG. Therefore, the same components are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

赤色発光素子20Rは干渉構造83を備えていないため、外光反射の低減は赤色カラー
フィルタ30Rと共振構造88とで行っている。有機EL装置を構成する三種類の発光素
子20間で構成に差異を設けた理由は、発光素子20間における外光反射率等の特性の違
いを考慮したためである。
Since the red light emitting element 20R does not include the interference structure 83, the reduction of external light reflection is performed by the red color filter 30R and the resonance structure 88. The reason for providing a difference in configuration among the three types of light emitting elements 20 constituting the organic EL device is that a difference in characteristics such as external light reflectance between the light emitting elements 20 is taken into consideration.

後述する図5〜図7に示すように、赤色発光素子20Rの陽極56と反射層58との間
に干渉構造83を形成した場合、赤色カラーフィルタ30Rでは長波長(波長範囲が略6
00nm〜660nmの光)での外光反射率を低減する効果が小さく、外光反射の低減に
あまり寄与しない。そのため、本実施形態の有機EL装置では、三種類の発光素子の構成
を共通化せずに、カラーフィルタ30等の効果を合わせて、全体として外光反射率の低減
と消費電力の低減とを高いレベルで両立させている。
As shown in FIGS. 5 to 7 described later, when the interference structure 83 is formed between the anode 56 of the red light emitting element 20R and the reflective layer 58, the red color filter 30R has a long wavelength (wavelength range is approximately 6).
The effect of reducing the external light reflectance in light of 00 nm to 660 nm is small and does not contribute much to the reduction of external light reflection. Therefore, in the organic EL device of this embodiment, the configuration of the three types of light emitting elements is not shared, and the effects of the color filter 30 and the like are combined to reduce external light reflectance and power consumption as a whole. Both are compatible at a high level.

具体的には、三種類の発光素子20の全てにカラーフィルタ30を配置して、該カラー
フィルタによりできる限り外光反射を低減する。さらに、共振構造88の共振長を外光反
射の低減に重点を置いて設定する。そして、上述の2つの手段によっても充分に外光反射
を低減できない発光素子20については、発光機能層40と反射層58との間に干渉構造
83を形成することで、取り出し効率にできる限り影響を与えないようにしつつ外光反射
をさらに低減し、有機EL装置全体としての明るい場所での表示品質を向上している。
Specifically, the color filter 30 is disposed on all three types of light emitting elements 20, and external light reflection is reduced as much as possible by the color filter. Furthermore, the resonance length of the resonance structure 88 is set with an emphasis on reducing external light reflection. And about the light emitting element 20 which cannot fully reduce external light reflection by the above-mentioned two means, by forming the interference structure 83 between the light emitting functional layer 40 and the reflective layer 58, the extraction efficiency is affected as much as possible. As a result, the reflection of external light is further reduced and the display quality in a bright place as the whole organic EL device is improved.

図5〜図7を用いて、本実施形態にかかる有機EL装置における外光反射の低減効果を
説明する。図5は、カラーフィルタ30を備えない有機EL装置の、発光素子20毎の外
光反射率を示す図である。三種類の発光素子20の各々に干渉構造83を形成した場合の
、外光反射率と波長の関係を示している。赤色発光素子20Rについては、干渉構造83
を備えていない場合の外光反射率についても示している。
The effect of reducing external light reflection in the organic EL device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a diagram showing the external light reflectance for each light emitting element 20 of the organic EL device that does not include the color filter 30. The relationship between an external light reflectance and a wavelength at the time of forming the interference structure 83 in each of three types of light emitting elements 20 is shown. For the red light emitting element 20R, the interference structure 83
It also shows the external light reflectivity in the case of not having.

青色発光素子20Bと緑色発光素子20Gは、略500nm〜550nmの波長範囲の
光に対する外光反射率がかなり低減されている。しかし、赤色発光素子20Rは、あまり
低減されていない。干渉構造83を備えていない赤色発光素子20Rは、出射光の波長範
囲に含まれる650nm以上の波長範囲の光の外光反射率が高いが、700nm以上の波
長の光については視感度が殆んど無いため、外光反射を考慮する必要が無い。
The blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G have a considerably reduced external light reflectance with respect to light in a wavelength range of approximately 500 nm to 550 nm. However, the red light emitting element 20R is not significantly reduced. The red light emitting element 20R not provided with the interference structure 83 has a high external light reflectance of light in the wavelength range of 650 nm or more included in the wavelength range of the emitted light, but has almost no visibility for light having a wavelength of 700 nm or more. Therefore, there is no need to consider external light reflection.

図6は、本実施形態の有機EL装置に用いているカラーフィルタ30の透過特性を示す
図である。各々の発光素子20から出射させたい光の波長範囲から外れる光は該カラーフ
ィルタを殆んど透過しないことが判る。したがって、該外れる光に対する外光反射率の低
減効果は大きい。
FIG. 6 is a diagram showing the transmission characteristics of the color filter 30 used in the organic EL device of this embodiment. It can be seen that light deviating from the wavelength range of light desired to be emitted from each light emitting element 20 hardly passes through the color filter. Therefore, the effect of reducing the external light reflectance with respect to the deviated light is great.

図7は、第1の実施形態の有機EL装置を構成する各々の(三種類の)発光素子20毎
の外光反射率を示す図である。なお、この反射率には視感度補正を施している。カラーフ
ィルタ(CF)30と干渉構造83とを併せての、外光反射率の低減効果を示している。
赤色発光素子20Rについては、本実施形態における干渉構造83を備えていない発光素
子20の測定結果と共に、比較として干渉構造83を備えている発光素子20の測定結果
も示している。なお、後述する表1に記載の比較例3の結果は、第1の実施形態の有機E
L装置の赤色発光素子20Rを、上述の干渉構造83を備えている発光素子20に変更し
た場合の測定結果である。
FIG. 7 is a diagram showing the external light reflectance for each (three types) of light emitting elements 20 constituting the organic EL device of the first embodiment. The reflectance is corrected for visibility. The effect of reducing the external light reflectance by combining the color filter (CF) 30 and the interference structure 83 is shown.
For the red light emitting element 20R, the measurement result of the light emitting element 20 provided with the interference structure 83 is shown as a comparison together with the measurement result of the light emitting element 20 not provided with the interference structure 83 in the present embodiment. In addition, the result of the comparative example 3 of Table 1 mentioned later is organic E of 1st Embodiment.
It is a measurement result at the time of changing the red light emitting element 20R of L apparatus into the light emitting element 20 provided with the above-mentioned interference structure 83. FIG.

赤色発光素子20Rの外光反射率は、干渉構造83を備えていない方が低い値を示して
いる。図5に示すように、600nm以上の波長の光の反射は干渉構造83を備えていな
い方が低く、600nm以下の波長の光は赤色カラーフィルタ30Rにより発光素子20
内への入射が低減されるため、このような結果となる。残る2つの発光素子は、緑色発光
素子20Gの外光反射率がやや高いが、全体としては良好である。したがって、全体とし
ては消費電力と外光反射率のバランスの取れた有機EL装置を得ることができる。
The external light reflectance of the red light emitting element 20R is lower when the interference structure 83 is not provided. As shown in FIG. 5, the reflection of light having a wavelength of 600 nm or more is lower when the interference structure 83 is not provided, and light having a wavelength of 600 nm or less is reflected by the red color filter 30R.
This is because the inward incidence is reduced. The remaining two light emitting elements have a slightly high external light reflectance of the green light emitting element 20G, but are good overall. Therefore, as a whole, an organic EL device in which power consumption and external light reflectance are balanced can be obtained.

(比較例)
図8及び図9は、比較例1の、半反射層82を有せず干渉構造83が三種類全ての発光
素子20に形成されていない有機EL装置を示す模式断面図である。発光機能層40の構
成と半反射層82の有無とを除く基本的な構成は、図2に示す第1の実施形態の有機EL
装置と同様である。そこで、共通する構成要素には同一の符号を付与している。図8に示
す有機EL装置は、図2に示す第1の実施形態の有機EL装置と同様に、青色発光素子2
0Bと緑色発光素子20Gと赤色発光素子20Rとの計三種類の発光素子が、夫々異なる
発光機能層40を備えている。
(Comparative example)
8 and 9 are schematic cross-sectional views showing the organic EL device of Comparative Example 1 that does not have the semi-reflective layer 82 and in which the interference structure 83 is not formed on all three types of light-emitting elements 20. The basic configuration excluding the configuration of the light emitting functional layer 40 and the presence or absence of the semi-reflective layer 82 is the organic EL of the first embodiment shown in FIG.
It is the same as the device. Therefore, the same reference numerals are given to the common components. The organic EL device shown in FIG. 8 is similar to the organic EL device of the first embodiment shown in FIG.
A total of three types of light emitting elements of 0B, the green light emitting element 20G, and the red light emitting element 20R are provided with different light emitting functional layers 40, respectively.

図9に示す有機EL装置は、図2に示す第1の実施形態の有機EL装置とは異なり、三
種類の発光素子20に共通の白色発光機能層40Wを備えている。白色発光機能層40W
は、ドーパントにBD052を用いた層と、ドーパントにキナクリドンを用いた層と、ド
ーパントにRD001を用いた層、の計3層を積層した発光層を備えている点以外は、上
述の緑色発光機能層40Gと同様の構成である。
Unlike the organic EL device according to the first embodiment shown in FIG. 2, the organic EL device shown in FIG. 9 includes a white light emitting functional layer 40 </ b> W common to the three types of light emitting elements 20. White light emitting functional layer 40W
Except that it has a light emitting layer in which a total of three layers of a layer using BD052 as a dopant, a layer using quinacridone as a dopant, and a layer using RD001 as a dopant are stacked. The configuration is the same as that of the layer 40G.

双方の有機EL装置とも、共振長は第1の実施形態の有機EL装置と同様に、取り出し
効率の向上と外光反射の低減の双方を考慮して設定されている。発光機能層40の層厚は
、三種類の発光素子20間で共通の略94nmである。透明層81は窒化シリコンで形成
され、層厚は三種類の発光素子20間で共通の略90nmである。陽極56はITOで形
成され、層厚は、青色発光素子20Bが略27nm、緑色発光素子20Gが略43.2n
m、赤色発光素子20Rが略86.2nmである。
In both organic EL devices, the resonance length is set in consideration of both improvement in extraction efficiency and reduction in external light reflection, as in the organic EL device of the first embodiment. The layer thickness of the light emitting functional layer 40 is approximately 94 nm which is common among the three types of light emitting elements 20. The transparent layer 81 is formed of silicon nitride, and the layer thickness is approximately 90 nm which is common among the three types of light emitting elements 20. The anode 56 is made of ITO and has a layer thickness of about 27 nm for the blue light emitting element 20B and about 43.2n for the green light emitting element 20G.
m, the red light emitting element 20R is approximately 86.2 nm.

図10は、図8及び図9に示す比較例1の有機EL装置を構成する各々の発光素子20
の外光反射率を示す図である。比較例1の有機EL装置は、発光機能層40の構成は異な
っていても外光反射率と消費電力は略同一の値となるので、一つの図にまとめることがで
きる。赤色発光素子20Rの外光反射率は、第1の実施形態における該反射率と同一の値
である。また、青色発光素子20Bについては若干上昇しているが許容できるレベルであ
る。しかし緑色発光素子20Gは、他の発光素子に比べてかなり高い値を示しており、カ
ラーフィルタ30と共振長の最適化のみでは外光反射の低減が完全ではないことを示して
いる。
10 shows each light emitting element 20 constituting the organic EL device of Comparative Example 1 shown in FIGS.
It is a figure which shows the external light reflectance. In the organic EL device of Comparative Example 1, the external light reflectance and the power consumption are substantially the same value even if the configuration of the light emitting functional layer 40 is different. The external light reflectance of the red light emitting element 20R is the same value as the reflectance in the first embodiment. Further, the blue light emitting element 20B is slightly increased but is at an acceptable level. However, the green light emitting element 20G shows a considerably higher value than the other light emitting elements, indicating that the reduction of external light reflection is not complete only by optimizing the color filter 30 and the resonance length.

本実施形態にかかる有機EL装置は、このような発光素子20間の特性の差異を考慮し
た上で、必要に応じてカラーフィルタ30と干渉構造83とを組み合わせている。そして
さらに、共振構造88の光学的距離すなわち共振長を、(取り出し効率のみではなく)外
光反射の低減も考慮に入れて設定することにより、消費電力と外光反射率のバランスの取
れた有機EL装置を得ている。
In the organic EL device according to the present embodiment, the color filter 30 and the interference structure 83 are combined as necessary in consideration of the difference in characteristics between the light emitting elements 20. Furthermore, by setting the optical distance of the resonance structure 88, that is, the resonance length, taking into account the reduction of external light reflection (not only the extraction efficiency), an organic material that balances power consumption and external light reflectance can be obtained. An EL device has been obtained.

図11に、比較例2として取り出し効率を優先して共振長を設定した有機EL装置の外
光反射率を示す。本有機EL装置は、図8に示す有機EL装置又は図9に示す有機EL装
置と略同一の構成要素からなっている。各構成要素の層厚も、陽極56の層厚を除いては
、図8に示す有機EL装置又は図9に示す有機EL装置と略同一である。陽極56の層厚
は、青色発光素子20Bが略27nm、緑色発光素子20Gが略64.8nm、赤色発光
素子20Rが略108nmである。このように、陽極56の層厚を変化させることで、共
振構造88の共振長を設定している。
FIG. 11 shows the external light reflectance of an organic EL device in which the resonance length is set with priority on the extraction efficiency as Comparative Example 2. This organic EL device includes substantially the same components as the organic EL device shown in FIG. 8 or the organic EL device shown in FIG. The layer thickness of each component is substantially the same as the organic EL device shown in FIG. 8 or the organic EL device shown in FIG. 9 except for the layer thickness of the anode 56. The layer thickness of the anode 56 is approximately 27 nm for the blue light emitting element 20B, approximately 64.8 nm for the green light emitting element 20G, and approximately 108 nm for the red light emitting element 20R. Thus, the resonance length of the resonance structure 88 is set by changing the layer thickness of the anode 56.

図11に示すように、取り出し効率を優先して共振構造88の共振長を設定した有機E
L装置が備える三種類の発光素子20のうち、青色発光素子20Bの外光反射率は許容で
きるレベルである。しかし、他の2色(二種類)の発光素子20の外光反射率は非常に高
く、明所における表示品質は許容できないレベルにあることが推察できる。
As shown in FIG. 11, the organic E in which the resonance length of the resonance structure 88 is set giving priority to the extraction efficiency.
Of the three types of light emitting elements 20 included in the L device, the external light reflectance of the blue light emitting element 20B is at an acceptable level. However, the external light reflectance of the light emitting elements 20 of the other two colors (two types) is very high, and it can be inferred that the display quality in a bright place is at an unacceptable level.

かかる結果は、カラーフィルタ30の特性、すなわち各々の発光素子20が出射すべき
波長範囲の外光反射の低減が困難なことに起因している。したがって、カラーフィルタ3
0を外光反射の低減手段として用いる場合、他の何らかの手段と組み合わせて用いる必要
がある。上述したように、本実施形態にかかる有機EL装置は、カラーフィルタ30に加
えて共振構造88の共振長を外光反射の低減にも重点を置いて設定し、さらに特に外光反
射率の高い二種類の発光素子20に干渉構造83を形成することで、外光反射の低減と消
費電力の低減とを両立させている。
This result is attributed to the characteristics of the color filter 30, that is, it is difficult to reduce external light reflection in the wavelength range that each light emitting element 20 should emit. Therefore, color filter 3
When 0 is used as a means for reducing external light reflection, it must be used in combination with some other means. As described above, the organic EL device according to the present embodiment sets the resonance length of the resonance structure 88 in addition to the color filter 30 with an emphasis on reducing external light reflection, and particularly has high external light reflectivity. By forming the interference structure 83 in the two types of light emitting elements 20, both reduction of external light reflection and reduction of power consumption are achieved.

Figure 0005256909
表1に、第1の実施形態の有機EL装置及び上述の比較例の有機EL装置の、外光反射
率と消費電力の測定結果を示す。消費電力は、比較例1(本表の3行目)の有機EL装置
の消費電力を1とした場合の相対消費電力である。消費電力が小さいということは、取り
出し効率が高いことを意味している。外光反射率は正面での正反射率(視感度補正済み)
である。
Figure 0005256909
Table 1 shows the measurement results of the external light reflectance and the power consumption of the organic EL device of the first embodiment and the organic EL device of the comparative example described above. The power consumption is relative power consumption when the power consumption of the organic EL device of Comparative Example 1 (the third row in this table) is 1. Small power consumption means high extraction efficiency. Outside light reflectance is regular reflectance in front (visibility corrected)
It is.

1行目に示す測定結果が本実施形態にかかる有機EL装置、すなわち共振構造88の光
路長を外光反射の低減にも重点を置いて設定し、青色発光素子20Bと緑色発光素子20
Gとに干渉構造83を形成した有機EL装置の測定結果である。2行目に示す測定結果は
、後述する第2の実施形態の有機EL装置の測定結果である。
The measurement result shown in the first row is the organic EL device according to the present embodiment, that is, the optical path length of the resonance structure 88 is set with an emphasis on reducing external light reflection, and the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20 are set.
It is a measurement result of the organic EL device in which the interference structure 83 is formed on G. The measurement result shown in the second row is the measurement result of the organic EL device of the second embodiment described later.

5行目に示す比較例3の測定結果は、赤色発光素子20Rを含む三種類全ての発光素子
20に干渉構造83を形成した有機EL装置の測定結果である。なお、赤色発光素子20
Rに干渉構造83を形成した場合と形成しない場合の外光反射率の差は、上記の図7に示
す通りである。また、4行目に示す比較例2の測定結果は、図11に示す取り出し効率を
優先して共振構造88の共振長を設定した有機EL装置における値である。本実施形態に
かかる有機EL装置は、消費電力を比較的低いレベルに保ちつつ、外光反射率を最も低い
レベルに低減しており、消費電力の低減と、明るい場所におけるコントラスト等の表示品
質の向上を高いレベルで両立していることが判る。
The measurement result of Comparative Example 3 shown in the fifth row is the measurement result of the organic EL device in which the interference structure 83 is formed on all three types of light emitting elements 20 including the red light emitting element 20R. The red light emitting element 20
The difference in external light reflectance between when the interference structure 83 is formed on R and when it is not formed is as shown in FIG. Further, the measurement result of Comparative Example 2 shown in the fourth row is a value in the organic EL device in which the resonance length of the resonance structure 88 is set giving priority to the extraction efficiency shown in FIG. The organic EL device according to the present embodiment reduces the external light reflectance to the lowest level while keeping the power consumption at a relatively low level, and reduces the power consumption and the display quality such as contrast in a bright place. It can be seen that the improvement is compatible at a high level.

(第2の実施形態)
図12に、第2の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図を示す。本実施形態にか
かる有機EL装置は、対向基板11の側に光を出射するトップエミッション型の有機EL
装置である。本実施形態にかかる有機EL装置は、第1の実施形態の有機EL装置と類似
した構成を有している。そこで、共通する構成要素には同一の符号を付与しており、説明
の記載は省略している。第1の実施形態の有機EL装置との構成上の相違点は、干渉構造
83の有無と、発光機能層40の構成の2点である。三種類の発光素子のうち、緑色発光
素子20Gのみが干渉構造83を備えている。また、発光機能層40については図9に示
す比較例の有機EL装置と同様に、三種類の発光素子に共通の、ドーパントにBD052
を用いた層とキナクリドンを用いた層とRD001を用いた層の計3層を積層した白色発
光機能層40Wを備えている。
(Second Embodiment)
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device according to the second embodiment. The organic EL device according to the present embodiment is a top emission type organic EL that emits light toward the counter substrate 11.
Device. The organic EL device according to this embodiment has a configuration similar to that of the organic EL device according to the first embodiment. Therefore, common constituent elements are given the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted. The difference in configuration from the organic EL device of the first embodiment is two points, the presence / absence of the interference structure 83 and the configuration of the light emitting functional layer 40. Of the three types of light emitting elements, only the green light emitting element 20 </ b> G includes the interference structure 83. As for the light emitting functional layer 40, as in the organic EL device of the comparative example shown in FIG. 9, the dopant common to the three types of light emitting elements is BD052.
A white light emitting functional layer 40W in which a total of three layers, a layer using quinacridone, a layer using quinacridone and a layer using RD001, are stacked.

また、各構成要素の層厚は、干渉構造83を構成する透明層81と半反射層82の層厚
、及び第1電極としての陽極56を構成するITOの層厚が第1の実施形態の有機EL装
置における値と異なっている。具体的には、透明層81が層厚略90nmの窒化シリコン
、半反射層82が層厚略15nmのチタニウムからなる。陽極56の層厚は、青色発光素
子20Bが略32.4nm、緑色発光素子20Gが略21.6nmであり、赤色発光素子
20Rの層厚は第1の実施形態の有機EL装置と同様の略92nmである。他の構成要素
については材質、層厚等も第1の実施形態の有機EL装置の材質、層厚等と同一である。
Further, the layer thickness of each component is the same as that of the transparent layer 81 and the semi-reflective layer 82 constituting the interference structure 83 and the layer thickness of ITO constituting the anode 56 as the first electrode of the first embodiment. It differs from the value in the organic EL device. Specifically, the transparent layer 81 is made of silicon nitride having a thickness of about 90 nm, and the semi-reflective layer 82 is made of titanium having a thickness of about 15 nm. The layer thickness of the anode 56 is approximately 32.4 nm for the blue light emitting element 20B and approximately 21.6 nm for the green light emitting element 20G, and the layer thickness of the red light emitting element 20R is approximately the same as that of the organic EL device of the first embodiment. 92 nm. For other components, the material, layer thickness, etc. are the same as the material, layer thickness, etc. of the organic EL device of the first embodiment.

本実施形態の有機EL装置を構成する各々の発光素子20の外光反射率を図14に示す
。また比較として、図13に、第2の実施形態の有機EL装置からカラーフィルタ30を
除いた場合の、各々の発光素子20の外光反射率を示す。
FIG. 14 shows the external light reflectance of each light emitting element 20 constituting the organic EL device of the present embodiment. For comparison, FIG. 13 shows the external light reflectance of each light emitting element 20 when the color filter 30 is removed from the organic EL device of the second embodiment.

図13に示すように、カラーフィルタ30を除いた場合、カラーフィルタ30を透過す
る波長範囲の外光の反射率が非常に高くなり、実用的ではない。かかる現象は、カラーフ
ィルタ30の存在を前提として共振構造88の共振長を設定していることにも起因してい
る。しかし、該共振長の設定を外光反射の低減に重点をおき、緑色発光素子20Gに干渉
構造83を形成しても、それだけでは、外光反射の低減が不完全であることは確認できる
。一方、図14に示すように、カラーフィルタ30を配置した場合、三種類全ての発光素
子20において、外光反射率が低いレベルに抑えられている。
As shown in FIG. 13, when the color filter 30 is omitted, the reflectance of outside light in the wavelength range that transmits the color filter 30 becomes very high, which is not practical. Such a phenomenon is also attributed to the fact that the resonance length of the resonance structure 88 is set on the assumption that the color filter 30 exists. However, even if the resonance length setting focuses on the reduction of external light reflection and the interference structure 83 is formed on the green light emitting element 20G, it can be confirmed that the reduction of the external light reflection is incomplete. On the other hand, as shown in FIG. 14, when the color filter 30 is disposed, the external light reflectance is suppressed to a low level in all three types of light emitting elements 20.

本実施形態の有機EL装置の外光反射率と消費電力の値は、上記表1の2行目に記載し
た通りである。外光反射率は、第1の実施形態の有機EL装置の値に比べると若干高いが
、上記表1の5行目に記載の、比較例3として全ての発光素子に干渉構造83を形成した
有機EL装置と同等のレベルである。一方で消費電力は、比較例等を含む5種類の有機E
L装置のなかで二番目に低い値を示しており、取り出し効率が向上していることが判る。
したがって、本実施形態にかかる有機EL装置は、外光反射率を許容できるレベルに低減
しつつ取り出し効率を向上させており、第1の実施形態の有機EL装置と同様に、消費電
力の低減と明所における表示品質の向上を高いレベルで両立している。
The values of the external light reflectance and power consumption of the organic EL device of this embodiment are as described in the second row of Table 1 above. Although the external light reflectance is slightly higher than the value of the organic EL device of the first embodiment, the interference structure 83 is formed in all the light emitting elements as Comparative Example 3 described in the fifth row of Table 1 above. The level is equivalent to that of an organic EL device. On the other hand, power consumption is 5 types of organic E including comparative examples.
It shows the second lowest value in the L device, and it can be seen that the extraction efficiency is improved.
Therefore, the organic EL device according to the present embodiment improves the extraction efficiency while reducing the external light reflectance to an acceptable level, and, like the organic EL device of the first embodiment, reduces power consumption. It provides a high level of improvement in display quality in daylight.

(第3の実施形態)
図15に、第3の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図を示す。本実施形態にか
かる有機EL装置は、対向基板11の側に光を出射するトップエミッション型の有機EL
装置である。本実施形態にかかる有機EL装置は、第1の実施形態の有機EL装置と類似
した構成を有している。発光機能層40は、青色発光素子20Bには青色発光機能層40
B、緑色発光素子20Gには緑色発光機能層40G、赤色発光素子20Rには赤色発光機
能層40R、と夫々個別に形成されている。そして、青色発光素子20Bと緑色発光素子
20Gとに干渉構造83が形成されている。そこで、共通する構成要素には同一の符号を
付与しており、説明の記載は省略している。
(Third embodiment)
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device according to the third embodiment. The organic EL device according to the present embodiment is a top emission type organic EL that emits light toward the counter substrate 11.
Device. The organic EL device according to this embodiment has a configuration similar to that of the organic EL device according to the first embodiment. The light emitting functional layer 40 is provided on the blue light emitting element 20B.
B, a green light emitting functional layer 40G is formed separately for the green light emitting element 20G, and a red light emitting functional layer 40R is formed separately for the red light emitting element 20R. An interference structure 83 is formed between the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G. Therefore, common constituent elements are given the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.

第1の実施形態の有機EL装置との相違点は干渉構造83の構成である。本実施形態の
有機EL装置は透明層81を備えておらず、第1電極としての陽極56と半反射層82と
で干渉構造83が形成されている。図示するように、青色発光素子20Bと緑色発光素子
20Gとにおける陽極56の対向基板11の側の面には半反射層82が形成されている。
The difference from the organic EL device of the first embodiment is the configuration of the interference structure 83. The organic EL device of the present embodiment does not include the transparent layer 81, and an interference structure 83 is formed by the anode 56 as the first electrode and the semi-reflective layer 82. As shown in the figure, a semi-reflective layer 82 is formed on the surface of the anode 56 on the side of the counter substrate 11 in the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G.

上述したように、陽極56は透明導電性材料であるITOで形成されているので、電極
としての機能の他に、第1の実施形態の有機EL装置における透明層81と同様の機能、
すなわち半反射層82の表面(半反射層82と発光機能層40との界面)と反射層58の
表面(反射層58と陽極56との界面)との間の光学的距離を調整する機能も果たすこと
ができる。したがって、上述したように陽極56の対向基板11の側の面に半反射層82
を形成することで、透明層81(図2参照)を形成せずに、反射層58と緑色発光機能層
40G等の発光機能層40との間に干渉構造83を形成できる。
As described above, since the anode 56 is made of ITO, which is a transparent conductive material, in addition to the function as an electrode, the same function as the transparent layer 81 in the organic EL device of the first embodiment,
That is, the optical distance between the surface of the semi-reflective layer 82 (interface between the semi-reflective layer 82 and the light emitting functional layer 40) and the surface of the reflective layer 58 (interface between the reflective layer 58 and the anode 56) is also adjusted. Can fulfill. Therefore, as described above, the semi-reflective layer 82 is formed on the surface of the anode 56 facing the counter substrate 11.
Thus, the interference structure 83 can be formed between the reflective layer 58 and the light emitting functional layer 40 such as the green light emitting functional layer 40G without forming the transparent layer 81 (see FIG. 2).

かかる干渉構造83は、上述の(陽極56と半反射層82との積層体の)光学的距離を
、外光反射を低減したい光の波長の略四分の一になるように設定することで、第1の実施
形態における干渉構造83と同様に外光反射を低減できる。すなわち、カラーフィルタ3
0を透過して半反射層82に達した光のうちの略50%を半反射層82の表面(半反射層
82と発光機能層40との界面)で反射させ、残りの略50%を反射層58の表面(反射
層58と陽極56との界面)で反射させることで、双方の光の位相を180度ずらし、互
いに打ち消し合わせることができる。したがって、本実施形態の有機EL装置は、第1の
実施形態の有機EL装置と同等の、明所での表示品質を有しつつ、薄膜形成工程及び該薄
膜のパターニング工程の削減による製造コストの低減を可能にしている。
The interference structure 83 is configured by setting the optical distance (of the laminate of the anode 56 and the semi-reflective layer 82) to be approximately a quarter of the wavelength of light for which external light reflection is desired to be reduced. As with the interference structure 83 in the first embodiment, external light reflection can be reduced. That is, the color filter 3
Approximately 50% of the light transmitted through 0 and reaching the semi-reflective layer 82 is reflected by the surface of the semi-reflective layer 82 (the interface between the semi-reflective layer 82 and the light emitting functional layer 40), and the remaining approximately 50% is reflected. By reflecting on the surface of the reflective layer 58 (the interface between the reflective layer 58 and the anode 56), the phases of both lights can be shifted by 180 degrees and cancel each other. Therefore, the organic EL device of this embodiment has a display quality in a bright place equivalent to that of the organic EL device of the first embodiment, while reducing the manufacturing cost by reducing the thin film forming process and the thin film patterning process. Reduction is possible.

なお、本実施形態の有機EL装置の陽極56の層厚は、青色発光素子20Bでは略21
3nm、緑色発光素子20Gでは略111nm、赤色発光素子20Rでは略175nmで
ある。上記の値は、発光機能層40の層厚あるいは屈折率に合わせて調整し、上述の共振
構造88の共振長の最適化による外光反射率の低減効果も含めて、有機EL装置全体とし
て表示品質を向上させることが好ましい。
Note that the layer thickness of the anode 56 of the organic EL device of the present embodiment is approximately 21 in the blue light emitting element 20B.
3 nm, approximately 111 nm for the green light emitting element 20G, and approximately 175 nm for the red light emitting element 20R. The above values are adjusted according to the layer thickness or refractive index of the light emitting functional layer 40, and are displayed as the entire organic EL device including the effect of reducing the external light reflectance by optimizing the resonance length of the resonance structure 88 described above. It is preferable to improve the quality.

(第4の実施形態)
図16に、第4の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図を示す。本実施形態にか
かる有機EL装置は、対向基板11の側に光を出射するトップエミッション型の有機EL
装置である。上述の、第1の実施形態の有機EL装置及び第3の実施形態の有機EL装置
の構成要素と共通する構成要素には同一の符号を付与しており、説明の記載は省略してい
る。なお、「共通する構成要素」とは、特に記載しない限り、形成材料も同一ということ
である。
(Fourth embodiment)
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device according to the fourth embodiment. The organic EL device according to the present embodiment is a top emission type organic EL that emits light toward the counter substrate 11.
Device. Constituent elements common to those of the organic EL device of the first embodiment and the organic EL device of the third embodiment described above are given the same reference numerals, and description thereof is omitted. The “common component” means that the forming material is the same unless otherwise specified.

本実施形態にかかる有機EL装置は、三種類の発光素子20に、発光機能層40が夫々
個別に形成されている点、及び青色発光素子20Bと緑色発光素子20Gとに、干渉構造
83が形成されている点で、上述の第3の実施形態の有機EL装置と共通している。さら
に、陽極56の対向基板11の側の面に半反射層82が形成されている点でも第3の実施
形態の有機EL装置と共通している。
In the organic EL device according to this embodiment, the light emitting functional layer 40 is individually formed on the three types of light emitting elements 20, and the interference structure 83 is formed on the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G. This is common to the organic EL device of the third embodiment described above. Further, the organic EL device of the third embodiment is also common in that a semi-reflective layer 82 is formed on the surface of the anode 56 on the counter substrate 11 side.

第3の実施形態の有機EL装置との相違点は、陽極56と反射層58との間に透明層8
1が形成されている点にある。本実施形態の有機EL装置においては、反射層58の対向
基板11の側の面に記載の順に形成された透明層81、陽極56、及び半反射層82で、
干渉構造83を構成されている。すなわち、本実施形態の有機EL装置では、透明層81
と陽極56の積層体が、第1の実施形態の有機EL装置における透明層81の機能を果た
している。
The difference from the organic EL device of the third embodiment is that the transparent layer 8 is interposed between the anode 56 and the reflective layer 58.
1 is formed. In the organic EL device of the present embodiment, the transparent layer 81, the anode 56, and the semi-reflective layer 82 formed in the order described in the surface of the reflective layer 58 on the counter substrate 11 side,
An interference structure 83 is configured. That is, in the organic EL device of the present embodiment, the transparent layer 81
And the anode 56 function as the transparent layer 81 in the organic EL device of the first embodiment.

上述したように、第1の実施形態の有機EL装置は、反射層58と発光機能層40との
間に、透明層81と半反射層82と陽極56との計3層を形成している。本実施形態の有
機EL装置も、上述の3層を形成している点では共通である。透明層81を反射層58と
陽極56との間に形成することで透明層81の層厚を薄くすることができ、薄膜形成及び
該薄膜のパターニングに要する時間等を低減できる。また、反射層58と陽極56との間
に起こり得る電食現象を抑制することができる。
As described above, in the organic EL device according to the first embodiment, a total of three layers of the transparent layer 81, the semi-reflective layer 82, and the anode 56 are formed between the reflective layer 58 and the light emitting functional layer 40. . The organic EL device of this embodiment is also common in that the above three layers are formed. By forming the transparent layer 81 between the reflective layer 58 and the anode 56, the thickness of the transparent layer 81 can be reduced, and the time required for thin film formation and patterning of the thin film can be reduced. In addition, the electrolytic corrosion phenomenon that can occur between the reflective layer 58 and the anode 56 can be suppressed.

(第5の実施形態)
図17に、第5の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図を示す。本実施形態にか
かる有機EL装置は、上述の第1〜第4の実施形態の有機EL装置とは異なり、素子基板
10の方向に光を出射するボトムエミッション型の有機EL装置である。したがって、後
述するように陰極155が第1電極であり、陽極156が第2電極であり、干渉構造83
は陰極155と発光機能層40との間に形成されている。そして、素子基板10は透光性
材料で形成されている。
なお、上記一対の電極を除く、第1の実施形態の有機EL装置の構成要素と共通する構
成要素には、同一の符号を付与している。以下、第1の実施形態の有機EL装置との相違
点を中心に説明し、共通する点については説明の記載を省略する。
(Fifth embodiment)
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device according to the fifth embodiment. The organic EL device according to this embodiment is a bottom emission type organic EL device that emits light in the direction of the element substrate 10, unlike the organic EL devices of the first to fourth embodiments described above. Therefore, as will be described later, the cathode 155 is the first electrode, the anode 156 is the second electrode, and the interference structure 83.
Is formed between the cathode 155 and the light emitting functional layer 40. The element substrate 10 is made of a translucent material.
In addition, the same code | symbol is provided to the component which is common in the component of the organic electroluminescent apparatus of 1st Embodiment except the said pair of electrode. Hereinafter, the difference from the organic EL device of the first embodiment will be mainly described, and description of the common points will be omitted.

本実施形態の有機EL装置においては、カラーフィルタ30も光の出射方向に合わせて
素子基板10側に形成されている。具体的には、第2層間絶縁層73の対向基板11側の
面、すなわち第2層間絶縁層73と第3層間絶縁層74との界面に、青色カラーフィルタ
30B、緑色カラーフィルタ30G、赤色カラーフィルタ30Rの三種類のカラーフィル
タ30が夫々の発光素子20に対応するように形成されている。発光機能層40内で生じ
た光は、カラーフィルタ30を透過して素子基板10側から出射されるため、カラーフィ
ルタ30と第2層間絶縁層73との界面を表示面75と定義している。
In the organic EL device of the present embodiment, the color filter 30 is also formed on the element substrate 10 side in accordance with the light emission direction. Specifically, the blue color filter 30B, the green color filter 30G, and the red color are formed on the surface of the second interlayer insulating layer 73 on the counter substrate 11 side, that is, on the interface between the second interlayer insulating layer 73 and the third interlayer insulating layer 74. Three types of color filters 30 of the filter 30 </ b> R are formed so as to correspond to the respective light emitting elements 20. Since the light generated in the light emitting functional layer 40 passes through the color filter 30 and is emitted from the element substrate 10 side, the interface between the color filter 30 and the second interlayer insulating layer 73 is defined as a display surface 75. .

ブラックマトリクス35(図2参照)は形成されておらず、駆動用TFT112、及び
該駆動用TFT間に形成されている走査線102、信号線104等(図1参照)が画素領
域間を遮光する機能を果たしている。
The black matrix 35 (see FIG. 2) is not formed, and the driving TFT 112 and the scanning line 102, the signal line 104, etc. (see FIG. 1) formed between the driving TFTs shield light between the pixel regions. Plays a function.

発光機能層40は、第1の実施形態の有機EL装置と同様に、青色発光素子20Bには
青色発光機能層40B、緑色発光素子20Gには緑色発光機能層40G、赤色発光素子2
0Rには赤色発光機能層40R、と夫々個別に形成されている。発光機能層40の構成及
び各層の形成材料も、第1の実施形態の有機EL装置と同様である。
As in the organic EL device of the first embodiment, the light emitting functional layer 40 includes a blue light emitting functional layer 40B for the blue light emitting element 20B, a green light emitting functional layer 40G for the green light emitting element 20G, and a red light emitting element 2.
The red light emitting functional layer 40R is individually formed in 0R. The configuration of the light emitting functional layer 40 and the material for forming each layer are the same as those of the organic EL device of the first embodiment.

本実施形態の有機EL装置は、上述の第1〜第4の実施形態の有機EL装置と同様に共
振構造88(図3参照)を備えている。第1電極としての陰極155は層厚略100nm
のAlで形成されており、反射層を兼ねている。そして該陰極は、後述する発光機能層4
0で生じた光のうち対向基板11の方向に向かう光を全て素子基板10側へ反射する。
The organic EL device according to the present embodiment includes a resonance structure 88 (see FIG. 3) in the same manner as the organic EL devices according to the first to fourth embodiments described above. The cathode 155 as the first electrode has a layer thickness of about 100 nm.
Made of Al and also serves as a reflective layer. And this cathode is the light emitting functional layer 4 mentioned later.
Of the light generated at 0, all the light directed toward the counter substrate 11 is reflected toward the element substrate 10 side.

第2電極としての陽極156はITOで形成されており、該陽極の素子基板10側には
第2半反射層57が形成されている。第2半反射層57は層厚略8nmのAlからなり、
発光機能層40で生じる光、及び陰極155で反射されてきた光のうちの略50%を反射
し、残りの略50%を透過して表示面75から出射する。したがって、陰極155と第2
半反射層57との間には共振構造が形成される。そして、該共振構造の光路長を調整する
ことにより外光反射を低減できる。なお、陰極155と第2半反射層57との間に、窒化
シリコン等からなる保護層を形成してもよい。
The anode 156 as the second electrode is made of ITO, and the second semi-reflective layer 57 is formed on the element substrate 10 side of the anode. The second semi-reflective layer 57 is made of Al having a layer thickness of about 8 nm,
Approximately 50% of the light generated in the light emitting functional layer 40 and the light reflected by the cathode 155 is reflected, and the remaining approximately 50% is transmitted and emitted from the display surface 75. Therefore, the cathode 155 and the second
A resonant structure is formed between the semi-reflective layer 57. The reflection of external light can be reduced by adjusting the optical path length of the resonant structure. A protective layer made of silicon nitride or the like may be formed between the cathode 155 and the second semi-reflective layer 57.

本実施形態の有機EL装置は、第1の実施形態の有機EL装置と同様に、青色発光素子
20Bと緑色発光素子20Gとに、干渉構造83が形成されている。本実施形態の有機E
L装置はボトムエミッション型であるため、上述したように干渉構造83は反射層を兼ね
る陰極155と発光機能層40との間に形成されている。
In the organic EL device of the present embodiment, an interference structure 83 is formed in the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G, similarly to the organic EL device of the first embodiment. Organic E of this embodiment
Since the L device is a bottom emission type, as described above, the interference structure 83 is formed between the cathode 155 that also serves as the reflective layer and the light emitting functional layer 40.

青色発光機能層40Bの対向基板11側及び緑色発光機能層40Gの対向基板11側に
は、チタニウムからなる半反射層82が形成されている。そして、該半反射層の対向基板
11側には、透明層81が表示領域100(図1参照)全域に渡って形成されている。該
透明層は透明導電性材料であるITOで形成されており、陰極155と陽極156との間
の導電性、すなわち陰極155から発光機能層40等を経由して陽極156に至るまでの
間の導電性を確保している。かかる構成により、青色発光素子20Bと緑色発光素子20
Gとの陰極155と発光機能層40との間には、電子注入層54を介して、透明層81と
半反射層82とからなる干渉構造83が形成される。電子注入層54と透明層81と半反
射層82との計三層で干渉構造83が構成されると考えてもよい。
A semi-reflective layer 82 made of titanium is formed on the counter substrate 11 side of the blue light emitting functional layer 40B and the counter substrate 11 side of the green light emitting functional layer 40G. A transparent layer 81 is formed over the entire display region 100 (see FIG. 1) on the counter substrate 11 side of the semi-reflective layer. The transparent layer is made of ITO, which is a transparent conductive material, and is conductive between the cathode 155 and the anode 156, that is, between the cathode 155 and the anode 156 via the light emitting functional layer 40 and the like. Ensures electrical conductivity. With this configuration, the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20
An interference structure 83 composed of a transparent layer 81 and a semi-reflective layer 82 is formed between the G cathode 155 and the light emitting functional layer 40 via the electron injection layer 54. It may be considered that the interference structure 83 is configured by a total of three layers of the electron injection layer 54, the transparent layer 81, and the semi-reflective layer 82.

該干渉構造は、図3に示す第1の実施形態の有機EL装置が備える干渉構造83と同様
の機能を発揮する。すなわち、カラーフィルタ30及び陽極156等を透過して発光機能
層40と半反射層82の界面に達した外光を、半反射層82の表面(発光機能層40と半
反射層82との界面)で反射される光と陰極155の表面(陰極155と電子注入層54
との界面)で反射される光とに二分して、互いに打ち消し合わせることで、外光反射率を
低減できる。
The interference structure exhibits the same function as the interference structure 83 provided in the organic EL device of the first embodiment shown in FIG. That is, external light that has passed through the color filter 30 and the anode 156 and reached the interface between the light-emitting functional layer 40 and the semi-reflective layer 82 is converted into the surface of the semi-reflective layer 82 (the interface between the light-emitting functional layer 40 and the semi-reflective layer 82). ) And the surface of the cathode 155 (the cathode 155 and the electron injection layer 54)
The external light reflectivity can be reduced by dividing the light into two that are reflected at the interface between the two and canceling each other.

本実施形態の有機EL装置は、干渉構造83が光の出射方向に合わせて陰極155側に
形成されているため、発光機能層40内で生じる発光の略50%は該干渉構造の影響を受
けずに表示面75から出射される。したがって、取り出し効率の低下を抑えつつ外光反射
率を低減できる。
In the organic EL device of the present embodiment, since the interference structure 83 is formed on the cathode 155 side in accordance with the light emission direction, approximately 50% of the light emission generated in the light emitting functional layer 40 is affected by the interference structure. Without being emitted from the display surface 75. Therefore, it is possible to reduce the external light reflectance while suppressing a decrease in extraction efficiency.

(変形例1)
上述の第1の実施形態の有機EL装置では、干渉構造83の光路長を、青色発光素子2
0Bと緑色発光素子20Gとで、同一に設定している。しかし上記光路長は発光素子間で
共通である必要はない。カラーフィルタを透過してくる外光(第2の外光成分92)の波
長範囲は発光素子20ごとに差異があるため、該差異に合わせて上記光路長を発光素子2
0ごとに設定することもできる。薄膜形成工程(及び薄膜パターニング工程等)を1回増
やすことで、青色発光素子20Bと緑色発光素子20Gとに夫々異なる光路長を持つ干渉
構造83を形成できる。
(Modification 1)
In the organic EL device according to the first embodiment described above, the optical path length of the interference structure 83 is set to be equal to the blue light emitting element 2.
0B and the green light emitting element 20G are set to be the same. However, the optical path length need not be common among the light emitting elements. Since the wavelength range of the external light (second external light component 92) transmitted through the color filter varies depending on the light emitting element 20, the optical path length is set according to the difference.
It can also be set every zero. By increasing the thin film forming process (and the thin film patterning process, etc.) once, the interference structure 83 having different optical path lengths can be formed in the blue light emitting element 20B and the green light emitting element 20G.

(変形例2)
上述の第1〜第5の実施形態の有機EL装置は三種類の発光素子20を備え、青、緑、
赤の3原色の光を混合させてカラー画像を形成している。しかし発光素子の種類は限定さ
れるものではなく、上記3原色に加えて、例えば白色光を出射する発光素子を備えること
もできる。
(Modification 2)
The organic EL devices of the first to fifth embodiments described above include three types of light emitting elements 20, blue, green,
A color image is formed by mixing light of three primary colors of red. However, the type of the light emitting element is not limited, and in addition to the three primary colors, for example, a light emitting element that emits white light can be provided.

第1の実施形態にかかる有機EL装置の全体構成を示す回路構成図。1 is a circuit configuration diagram showing an overall configuration of an organic EL device according to a first embodiment. 第1の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図。1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device according to a first embodiment. 緑色発光素子の摸式断面図。The cross-sectional view of a green light emitting element. 赤色発光素子の摸式断面図。The cross-sectional view of a red light emitting element. カラーフィルタを備えていない有機EL装置の、発光素子毎の外光反射率を示す図。The figure which shows the external light reflectance for every light emitting element of the organic electroluminescent apparatus which is not provided with the color filter. カラーフィルタの透過特性を示す図。The figure which shows the permeation | transmission characteristic of a color filter. 第1の実施形態の有機EL装置の発光素子毎の外光反射率を示す図。The figure which shows the external light reflectance for every light emitting element of the organic electroluminescent apparatus of 1st Embodiment. 比較例としての有機EL装置を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the organic electroluminescent apparatus as a comparative example. 比較例としての有機EL装置を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the organic electroluminescent apparatus as a comparative example. 比較例1の有機EL装置の発光素子毎の外光反射率を示す図。The figure which shows the external light reflectance for every light emitting element of the organic electroluminescent apparatus of the comparative example 1. FIG. 比較例2の有機EL装置の発光素子毎の外光反射率を示す図。The figure which shows the external light reflectance for every light emitting element of the organic electroluminescent apparatus of the comparative example 2. FIG. 第2の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図。The schematic cross section of the organic electroluminescent apparatus concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態の有機EL装置からカラーフィルタを除いた場合の発光素子毎の外光反射率を示す図。The figure which shows the external light reflectance for every light emitting element at the time of removing a color filter from the organic electroluminescent apparatus of 2nd Embodiment. 第2の実施形態の有機EL装置の発光素子毎の外光反射率を示す図。The figure which shows the external light reflectance for every light emitting element of the organic electroluminescent apparatus of 2nd Embodiment. 第3の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図。The schematic cross section of the organic electroluminescent apparatus concerning 3rd Embodiment. 第4の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図。The schematic cross section of the organic electroluminescent apparatus concerning 4th Embodiment. 第5の実施形態にかかる有機EL装置の模式断面図。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device according to a fifth embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10…素子基板、11…対向基板、12…接着層、20B…青色発光素子、20G…緑
色発光素子、20R…赤色発光素子、29…カラーフィルタ層、30B…青色カラーフィ
ルタ、30G…緑色カラーフィルタ、30R…赤色カラーフィルタ、35…ブラックマト
リクス、40B…青色発光機能層、40G…緑色発光機能層、40R…赤色発光機能層、
40W…白色発光機能層、44…緑色発光層、46…赤色発光層、51…正孔注入層、5
2…正孔輸送層、53…電子輸送層、54…電子注入層、55…第2電極としての陰極、
56…第1電極としての陽極、57…第2半反射層、58…反射層、59…封止層、60
…チャネル領域、62…ゲート電極、64…ドレイン電極、66…ソース電極、71…ゲ
ート絶縁膜、72…第1層間絶縁層、73…第2層間絶縁層、74…第3層間絶縁層、7
5…表示面、77…隔壁、81…透明層、82…半反射層、83…干渉構造、85…出射
光、86…第1の発光、87…第2の発光、88…共振構造、90…外光、91…第1の
外光成分、92…第2の外光成分、93…反射光、94…第1の反射光、95…第2の反
射光、100…表示領域、102…走査線、104…信号線、106…電源供給線、10
8…スイッチング用TFT、110…保持容量、112…駆動用TFT、120…走査線
駆動回路、130…信号線駆動回路、140…同期信号線、155…第1電極としての陰
極、156…第2電極としての陽極。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Element substrate, 11 ... Opposite substrate, 12 ... Adhesive layer, 20B ... Blue light emitting element, 20G ... Green light emitting element, 20R ... Red light emitting element, 29 ... Color filter layer, 30B ... Blue color filter, 30G ... Green color filter 30R ... red color filter, 35 ... black matrix, 40B ... blue light emitting functional layer, 40G ... green light emitting functional layer, 40R ... red light emitting functional layer,
40W ... white light emitting functional layer, 44 ... green light emitting layer, 46 ... red light emitting layer, 51 ... hole injection layer, 5
2 ... hole transport layer, 53 ... electron transport layer, 54 ... electron injection layer, 55 ... cathode as second electrode,
56... Anode as first electrode 57. Second semi-reflective layer 58. Reflective layer 59 59 Sealing layer 60
... Channel region, 62 ... Gate electrode, 64 ... Drain electrode, 66 ... Source electrode, 71 ... Gate insulating film, 72 ... First interlayer insulating layer, 73 ... Second interlayer insulating layer, 74 ... Third interlayer insulating layer, 7
5 ... display surface, 77 ... partition, 81 ... transparent layer, 82 ... semi-reflective layer, 83 ... interference structure, 85 ... outgoing light, 86 ... first light emission, 87 ... second light emission, 88 ... resonance structure, 90 ... external light, 91 ... first external light component, 92 ... second external light component, 93 ... reflected light, 94 ... first reflected light, 95 ... second reflected light, 100 ... display region, 102 ... Scanning line 104 ... Signal line 106 ... Power supply line 10
DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 ... Switching TFT, 110 ... Holding capacitor, 112 ... Driving TFT, 120 ... Scanning line driving circuit, 130 ... Signal line driving circuit, 140 ... Synchronization signal line, 155 ... Cathode as first electrode, 156 ... Second Anode as electrode.

Claims (11)

少なくとも、赤色光を出射する赤色発光素子と緑色光を出射する緑色発光素子と青色光を出射する青色発光素子とを含む複数種類の発光素子を備える発光装置であって、
前記複数種類の発光素子の各々は、
第1電極と、
光を出射する側に配置された半透過反射性又は透過性を有する第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に挟持された少なくとも発光層を含む機能層と、
前記第1電極を挟んで前記機能層と対向する位置に形成された、前記発光層で発生した光を前記第2電極側に反射する反射層と、
前記機能層を挟んで前記反射層と対向する位置に配置された、出射する光の波長領域以外の波長領域の光を吸収するカラーフィルタと、
を備えており、
前記複数種類の発光素子のうちの少なくとも一種類の発光素子は、
前記反射層と前記機能層との間に配置され、前記一種類の発光素子が備えるカラーフィルタを透過して前記機能層側へ入射した外光成分のうち、一部を第1の反射光として反射し、残る部分を透過する半反射層と、
前記残る部分を第2の反射光として反射する前記反射層と
前記半反射層と前記反射層との間に配置された透明層と、
からなり、前記透明層の膜厚が前記第1の反射光と前記第2の反射光とが互いに打ち消しあうように設計されている干渉構造をさらに備え、
前記複数種類の発光素子のうち赤色発光素子は前記干渉構造を備えていない
ことを特徴とする発光装置。
A light emitting device comprising a plurality of types of light emitting elements including at least a red light emitting element that emits red light, a green light emitting element that emits green light, and a blue light emitting element that emits blue light;
Each of the plurality of types of light emitting elements is:
A first electrode;
A second electrode having transflective or transmissive properties disposed on the light emitting side;
A functional layer including at least a light emitting layer sandwiched between the first electrode and the second electrode;
A reflective layer that is formed at a position facing the functional layer across the first electrode and reflects the light generated in the light emitting layer toward the second electrode;
A color filter that absorbs light in a wavelength region other than the wavelength region of the emitted light, disposed at a position facing the reflective layer across the functional layer;
With
At least one of the plurality of types of light emitting elements is:
Of the external light component that is disposed between the reflective layer and the functional layer and passes through the color filter included in the one type of light-emitting element and is incident on the functional layer side, a part is used as the first reflected light. A semi-reflective layer that reflects and transmits the remaining part ;
The reflective layer reflecting the remaining portion as second reflected light ;
A transparent layer disposed between the semi-reflective layer and the reflective layer ;
Further comprising an interference structure in which the thickness of the transparent layer is designed so that the first reflected light and the second reflected light cancel each other .
A light-emitting device, wherein a red light-emitting element among the plurality of types of light-emitting elements does not include the interference structure .
少なくとも、赤色光を出射する赤色発光素子と緑色光を出射する緑色発光素子と青色光を出射する青色発光素子とを含む複数種類の発光素子を備える発光装置であって、
前記複数種類の発光素子の各々は、
反射層を兼ねる第1電極と、
光を出射する側に配置された半透過反射性又は透過性を有する第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に矜持された少なくとも発光層を含む機能層と、
前記機能層を挟んで前記第1電極と対向する位置に配置された、出射する光の波長領域以外の波長領域の光を吸収するカラーフィルタと、
を備えており、
前記複数種類の発光素子のうち少なくとも一種類の発光素子は、
前記第1電極と前記機能層との間に配置され、前記一種類の発光素子が備えるカラーフィルタを透過して前記機能層側へ入射した外光成分のうち、一部を第1の反射光として反射し、残る部分を透過する半反射層と、
前記残る部分を第2の反射光として反射する前記第1電極と
前記半反射層と前記第1電極との間に配置された透明層と、
からなり、前記透明層の膜厚が前記第1の反射光と前記第2の反射光とが互いに打ち消しあうように設計されている干渉構造をさらに備え
前記複数種類の発光素子のうち赤色発光素子は前記干渉構造を備えていない
ことを特徴とする発光装置。
A light emitting device comprising a plurality of types of light emitting elements including at least a red light emitting element that emits red light, a green light emitting element that emits green light, and a blue light emitting element that emits blue light;
Each of the plurality of types of light emitting elements is:
A first electrode also serving as a reflective layer;
A second electrode having transflective or transmissive properties disposed on the light emitting side;
A functional layer including at least a light-emitting layer sandwiched between the first electrode and the second electrode;
A color filter that absorbs light in a wavelength region other than the wavelength region of the emitted light, disposed at a position facing the first electrode across the functional layer;
With
At least one kind of light emitting element among the plurality of kinds of light emitting elements is:
A part of the external light component that is disposed between the first electrode and the functional layer and passes through a color filter included in the one type of light emitting element and enters the functional layer side is a first reflected light. A semi-reflective layer that reflects as and transmits the remaining part ,
The first electrode reflecting the remaining portion as second reflected light ;
A transparent layer disposed between the semi-reflective layer and the first electrode ;
Further comprising an interference structure in which the thickness of the transparent layer is designed so that the first reflected light and the second reflected light cancel each other .
A light-emitting device, wherein a red light-emitting element among the plurality of types of light-emitting elements does not include the interference structure .
請求項1または2に記載の発光装置であって、
前記複数種類の発光素子は、前記赤色発光素子、前記緑色発光素子及び前記青色発光素子の三種類の発光素子であることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 1 or 2,
The light emitting device, wherein the plurality of types of light emitting elements are three types of light emitting elements: the red light emitting element, the green light emitting element, and the blue light emitting element.
請求項3に記載の発光装置であって、
前記緑色発光素子のみが前記半反射層を備えていることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 3,
Only the green light emitting element includes the semi-reflective layer.
請求項3に記載の発光装置であって、前記緑色発光素子及び前記青色発光素子の二種類の発光素子が前記半反射層を備えていることを特徴とする発光装置。   4. The light emitting device according to claim 3, wherein two types of light emitting elements, the green light emitting element and the blue light emitting element, include the semi-reflective layer. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の発光装置であって、
前記発光層は有機エレクトロルミネッセンス層であることを特徴とする発光装置。
The light emitting device according to any one of claims 1 to 5,
The light emitting device, wherein the light emitting layer is an organic electroluminescence layer.
請求項1〜のいずれか一項に記載の発光装置であって、
前記半反射層はチタニウム、クロム、タンタル若しくはモリブデンのいずれかからなることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to any one of claims 1 to 6 ,
The semi-reflective layer is made of any one of titanium, chromium, tantalum, and molybdenum.
請求項1、3〜のいずれか一項に記載の発光装置であって、
前記第1電極が陽極であり、前記第2電極が陰極であることを特徴とする発光装置。
A light emitting device according to any one of claims 1,3~ 7,
The light-emitting device, wherein the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode.
請求項に記載の発光装置であって、
前記陽極は透明導電性材料からなり、
前記透明層及び前記半反射層は、前記反射層と前記第1電極との間に形成されていることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 8 ,
The anode is made of a transparent conductive material,
The light emitting device, wherein the transparent layer and the semi-reflective layer are formed between the reflective layer and the first electrode.
請求項に記載の発光装置であって、
前記透明層は導電性材料からなり前記第1電極を兼ねていることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 8 ,
The transparent layer is made of a conductive material and serves also as the first electrode.
請求項に記載の発光装置であって、
前記透明層は、前記反射層の前記機能層側に配置された透明絶縁性材料層と、該透明絶縁性材料層の前記機能層側に配置された前記第1電極を兼ねる透明導電性材料層と、からなることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 8 ,
The transparent layer is a transparent conductive material layer also serving as the transparent insulating material layer disposed on the functional layer side of the reflective layer and the first electrode disposed on the functional layer side of the transparent insulating material layer. And a light emitting device comprising:
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