JP2010046688A - Flux for soldering and soldering method - Google Patents

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organic halide
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soldering
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Masahiro Adachi
昌弘 足立
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Uchihashi Estec Co Ltd
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Uchihashi Estec Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To select an exact organic halide according to solder in consideration of the fact that, when organic the halide is used as flux for soldering, the activation temperature of the organic halide is influenced by the kind of the metal of solder which is made coexistent with the organic halide. <P>SOLUTION: The flux to an Sn-containing lead-free multi-metal alloy comprises: at least one kind of organic halide (a) in which an exothermic peak in differential calorimetry in the coexistence with the multi-metal alloy solder lies in the range of less than the melting point of the multi-metal alloy and also ≥90°C; and at least one kind of organic halide (b) in which the exothermic peak lies in the range of ≤330°C and the melting point peak of the multi-metal alloy or higher. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、はんだ付け用フラックス及びはんだ付け方法に関するものである。   The present invention relates to a soldering flux and a soldering method.

はんだ付け用フラックスは、母材表面の酸化膜を除去し、母材及び溶融はんだを覆い空気から遮断して酸化を防止し、はんだのぬれ性を高めて作業性(はんだ付け作業性)を促進し、母材表面のはんだ付着性を改善するなどの役目を果たしている。
はんだ付け後にはフラックス残渣が生成され、旧来においてはフラックス残渣を洗浄除去していたが、近来では、環境保全に基づく溶剤使用排除の点から、フラックス残渣を残すことが一般的になってきている。その結果、フラックス残渣の非水溶性、耐銅版腐食性、絶縁抵抗等の要件が求められるようになった。
フラックスの主剤はロジンである。而るに、ロジン単独では、はんだ付け作業性、ボイド・ツララ・クラック等の外観性、フラックス残渣の耐水溶抵抗、フラックス残渣の耐腐食性、フラックス残渣の絶縁抵抗等の要件を充足させ得ない。
そこで、はんだ付け用フラックスにおいては、ロジンに活性剤やその他の添加剤を配合することが常套手段とされている。
The soldering flux removes the oxide film on the surface of the base material, covers the base material and the molten solder and shields it from the air to prevent oxidation, enhances the wettability of the solder and promotes workability (soldering workability) In addition, it plays the role of improving solder adhesion on the surface of the base material.
Flux residue is generated after soldering, and in the past, flux residue was cleaned and removed, but nowadays it has become common to leave flux residue from the point of eliminating the use of solvents based on environmental conservation. . As a result, requirements such as water insolubility of the flux residue, copper plate corrosion resistance, and insulation resistance have been required.
The main component of the flux is rosin. Therefore, rosin alone cannot satisfy requirements such as soldering workability, appearance such as voids, cracks, cracks, etc., water resistance of flux residue, corrosion resistance of flux residue, insulation resistance of flux residue, etc. .
Therefore, in soldering fluxes, it is a common practice to add an activator and other additives to rosin.

前記活性剤として多くのものが提案されているが、その一つとして有機ハロゲン化物が知られている。(特許文献1、特許文献2など)
特開平08−155676号公報 特開2001−138089号公報 有機ハロゲン化物においては、所定の温度でハロゲンを解離して活性を呈するが、本発明者の鋭意検討結果によれば、鉛フリーのはんだでは、はんだ共存下でのハロゲン解離温度(活性化温度)と有機ハロゲン化物単独下でのハロゲン解離温度(活性化温度)との間に差があることが確認された。これは、はんだの特定の金属が有機ハロゲン化物のハロゲンの解離に対し触媒として作用すること、または金属表面と反応することが原因であると推定される。従って、有機ハロゲン化物の活性化温度は、はんだ金属の種類により変化するものと認められる。
Many activators have been proposed, one of which is an organic halide. (Patent Document 1, Patent Document 2, etc.)
Japanese Patent Laid-Open No. 08-155676 JP, 2001-138089, A In organic halide, although it dissociates and shows activity at predetermined temperature, according to the present inventors' earnest examination result, in the case of lead-free solder, halogen in the presence of solder is present. It was confirmed that there was a difference between the dissociation temperature (activation temperature) and the halogen dissociation temperature (activation temperature) under the organic halide alone. This is presumed to be caused by a specific metal of the solder acting as a catalyst for the halogen dissociation of the organic halide or reacting with the metal surface. Therefore, it is recognized that the activation temperature of the organic halide varies depending on the type of solder metal.

図8の(イ)は、有機ハロゲン化物の一つである2,2,2-トリブロモエタノールとSn−Ag−Cuはんだ粉末(Sn-3.0
g-0.5 u)との混合試料の示差熱測定曲線を示し、温度イ−イ’間で2,2,2-トリブロモエタノールが溶融し(状態変化に基づく吸熱)、温度ロ−ロ’間で2,2,2-トリブロモエタノールが発熱分解し、温度ハ−ハ’間ではんだの溶融に伴う吸熱が発生している。
図8の(ロ)は、前記2,2,2-トリブロモエタノールとSn−Bi(Sn−58Bi)はんだ粉末との混合試料の示差熱測定曲線を示し、温度イ−イ’間で2,2,2-トリブロモエタノールが溶融し、温度ロ−ロ’間ではんだが溶融し、温度ハ−ハ’間で2,2,2-トリブロモエタノールが発熱分解している。 従って、有機ハロゲン化物をはんだ付け用フラックスの活性剤として使用すると、はんだ金属に応じてそのフラックスの活性化温度が相違し、例えば鉛系はんだに対し活性剤として有用な有機ハロゲン化物が、Sn−Ag−Cuはんだのフラックスの活性剤として有効か否か、特定の合金のはんだに対し、そのはんだ融点よりも低温側で活性作用を呈する有機ハロゲン化物aと高温側で活性作用を呈する有機ハロゲン化物bをフラックスに添加する技術的意義を、そのはんだの合金系が変われば保証し得ない、などの問題が生じる。
(A) in FIG. 8 shows 2,2,2-tribromoethanol, which is one of organic halides, and Sn—Ag—Cu solder powder (Sn-3.0
g-0.5 u) shows the differential thermal measurement curve of the mixed sample, and 2,2,2-tribromoethanol melts between the temperature y '(endotherm based on the state change), and between the temperature ro' The 2,2,2-tribromoethanol decomposes exothermically and heat is absorbed between the temperature and the heat.
FIG. 8B shows a differential thermal measurement curve of a mixed sample of 2,2,2-tribromoethanol and Sn—Bi (Sn-58Bi) solder powder. 2,2-Tribromoethanol is melted, the solder is melted between the temperature rolls, and 2,2,2-tribromoethanol is exothermicly decomposed between the temperature rolls. Accordingly, when an organic halide is used as an activator for a soldering flux, the activation temperature of the flux differs depending on the solder metal. For example, an organic halide useful as an activator for lead solder is Sn- Whether or not it is effective as an activator for flux of Ag-Cu solder, with respect to the solder of a specific alloy, an organic halide a that exhibits an active action on the lower temperature side than the solder melting point and an organic halide that exhibits an active action on the higher temperature side There arises a problem that the technical significance of adding b to the flux cannot be guaranteed if the solder alloy system is changed.

本発明の目的は、有機ハロゲン化物をはんだ付け用フラックスとして使用するに当たり、有機ハロゲン化物の活性化温度が、その有機ハロゲン化物と共存されるはんだの金属の種類により左右されることを考慮して、はんだに応じ的確な有機ハロゲン化物を選択し、前記はんだ付け作業性、ボイド・ツララ・クラック等の外観性、フラックス残渣の耐水溶抵抗、フラックス残渣の耐腐食性、フラックス残渣の絶縁抵抗等の何れの要件をも良好に充足させえるはんだ付け用フラックスははんだ付け方法を提供することにある。 The purpose of the present invention is to consider that in using an organic halide as a soldering flux, the activation temperature of the organic halide depends on the type of solder metal coexisting with the organic halide. Select the appropriate organic halide according to the solder, such as soldering workability, appearance such as void, tsura, crack, etc., water resistance of flux residue, corrosion resistance of flux residue, insulation resistance of flux residue, etc. A soldering flux that can satisfactorily satisfy both requirements is to provide a soldering method.

請求項1に係るはんだ付け用フラックスは、Sn基鉛フリーはんだに対するフラックスであり、はんだと共存下での示差熱測定における発熱ピークが前記はんだの融点ピーク未満で、かつ90℃以上の範囲に存する少なくとも一種の有機ハロゲン化物aと、同発熱ピークが320℃以下で、かつ前記多元合金はんだの融点ピーク以上の範囲に存する少なくとも一種の有機ハロゲン化物bとを含有していることを特徴とする。
請求項2に係るはんだ付け用フラックスは、請求項1のはんだ付け用フラックスにおいて、Sn基鉛フリーはんだの融点が170℃以上240℃以下であり、有機ハロゲン化物a、bが2,2,2-トリブロモエタノール、2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)、2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンから選択されていることを特徴とする。
請求項3に係るはんだ付け用フラックスは、請求項1または2のはんだ付け用フラックスにおいて、Sn基鉛フリーはんだが、Sn、Ag、Cu、Bi、In、Zn、Sb、Ni、Ga、Ge、Co、Al、Si、Pからなる群より選択された一種または二種以上からなるはんであることを特徴とする。
請求項4に係るはんだ付け方法は、Sn基鉛フリーはんだに対し、該はんだの融点ピークよりも低温側で活性作用を呈する有機ハロゲン化物a及び高温側で活性作用を呈する有機ハロゲン化物bをフラックスに添加してはんだ付けを行う方法であり、前記有機ハロゲン化物aに前記はんだ合金共存下での示差熱測定での発熱ピークが前記低温側に存する有機ハロゲン化物を使用し、前記有機ハロゲン化物bに前記はんだ合金共存下での示差熱測定での発熱ピークが前記高温側に存する有機ハロゲン化物を使用することを特徴とする。
請求項5に係るヤニ入りはんだは、フラックスが請求項1〜3何れかのはんだ付け用フラックスであることを特徴とする。
請求項6に係るソルダペーストは、フラックスが請求項1〜3何れかのはんだ付け用フラックスであることを特徴とする。
The flux for soldering according to claim 1 is a flux for Sn-based lead-free solder, and the exothermic peak in the differential heat measurement in the presence of the solder is less than the melting point peak of the solder and is in the range of 90 ° C. or more. It contains at least one organic halide a, and at least one organic halide b having the same exothermic peak of 320 ° C. or less and in the range of the melting point peak of the multi-component alloy solder.
The soldering flux according to claim 2 is the soldering flux according to claim 1, wherein the melting point of the Sn-based lead-free solder is 170 ° C. or higher and 240 ° C. or lower, and the organic halides a and b are 2,2,2 -Tribromoethanol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate, 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2, 3-Dibromopropoxy) phenyl] propane.
The soldering flux according to claim 3 is the soldering flux according to claim 1 or 2, wherein the Sn-based lead-free solder is Sn, Ag, Cu, Bi, In, Zn, Sb, Ni, Ga, Ge, It is characterized by being one or more selected from the group consisting of Co, Al, Si and P.
The soldering method according to claim 4 is a method of fluxing Sn-based lead-free solder with an organic halide a exhibiting an active action at a temperature lower than a melting point peak of the solder and an organic halide b exhibiting an active action at a high temperature. The organic halide b is an organic halide having an exothermic peak in the differential heat measurement in the presence of the solder alloy on the low temperature side, and soldering the organic halide b. Further, an organic halide having an exothermic peak in differential heat measurement in the presence of the solder alloy on the high temperature side is used.
The solder containing spear according to claim 5 is characterized in that the flux is the soldering flux according to any one of claims 1 to 3.
The solder paste according to claim 6 is characterized in that the flux is the soldering flux according to any one of claims 1 to 3.

はんだ付け用フラックスの活性剤として使用する有機ハロゲン化物においては、はんだ金属が有機ハロゲン化物のハロゲン解離に対し触媒として作用し、または金属表面と反応してハロゲン解離が生じる温度は、有機ハロゲン化物と共存されるはんだ金属の種類によって相違する。
而るに、本発明では、使用するはんだと有機ハロゲン化物との共存サンプルの示差熱曲線を測定し、はんだの融点ピークよりも低温側に発熱ピークを生じる有機ハロゲン化物aと、はんだの融点ピークよりも高温側に発熱ピークを生じる有機ハロゲン化物bとを活性剤としてフラックスに添加しているから、そのはんだの金属の種類に対応してはんだ融点よりも低温側及び高温側の両温度域で活性作用を的確に営ませることができる。
従って、はんだ溶融前での母材表面の酸化膜の除去、はんだ溶融後での溶融はんだの酸化防止及びはんだの優れたぬれ性によるはんだ付け作業の促進等を良好に達成できる。
In an organic halide used as an activator for soldering flux, the temperature at which the solder metal acts as a catalyst for halogen dissociation of the organic halide or reacts with the metal surface to cause halogen dissociation is the same as that of the organic halide. It depends on the type of solder metal that coexists.
Therefore, in the present invention, the differential thermal curve of the coexisting sample of the solder to be used and the organic halide is measured, the organic halide a that generates an exothermic peak at a lower temperature side than the melting point peak of the solder, and the melting point peak of the solder Since the organic halide b that generates an exothermic peak on the higher temperature side is added to the flux as an activator, it corresponds to the type of solder metal in both the low temperature side and the high temperature side of the solder melting point. The active action can be performed accurately.
Accordingly, it is possible to satisfactorily achieve removal of the oxide film on the surface of the base material before melting the solder, prevention of oxidation of the molten solder after melting the solder, and promotion of soldering work due to excellent wettability of the solder.

図1の(イ)は、本発明において使用する有機ハロゲン化物aと使用するはんだとの共存下での一般的な示差熱測定曲線を示し、温度イ−イ’間において有機ハロゲン化物aが固体から液体に溶融し、吸熱のために降下の融点ピークを呈し、温度ロ−ロ’間において有機ハロゲン化物aがハロゲンを解離して活性化金属表面との反応により発熱ピークを呈し、温度ハ−ハ’間においてはんだが固体から液体へと溶融し、吸熱のために降下の融点ピークを呈している。
図1の(ロ)は、本発明において使用する有機ハロゲン化物bと使用するはんだとの共存下での一般的な示差熱測定曲線を示し、温度イ−イ’間において有機ハロゲン化物bが固体から液体へと溶融し、吸熱のために降下の融点ピークを呈し、温度ハ−ハ’間においてはんだが固相から液相へと変態して溶融し、吸熱のために降下の融点ピークを呈し、温度ロ−ロ’間において有機ハロゲン化物bがハロゲンを解離して活性化金属表面との反応により発熱ピークを呈している。 前記有機ハロゲン化物aははんだ溶融前での母材表面の酸化膜除去を狙い、有機ハロゲン化物bは溶融はんだのぬれを促進することを狙っている。
FIG. 1 (a) shows a general differential thermal measurement curve in the coexistence of the organic halide a used in the present invention and the solder used, and the organic halide a is solid between the temperatures II ′. From the melting point to the liquid, exhibiting a melting point peak due to endotherm, and the organic halide a dissociates the halogen between the temperature rolls and exhibits an exothermic peak due to the reaction with the activated metal surface. The solder melts from a solid to a liquid and exhibits a descending melting point peak due to endotherm.
FIG. 1 (b) shows a general differential thermal measurement curve in the presence of the organic halide b used in the present invention and the solder used, and the organic halide b is solid between the temperature y '. From melting to liquid, exhibiting a melting point peak due to endotherm, and the solder transforms from the solid phase to the liquid phase and melts between the temperature and the melting point due to endotherm. The organic halide b dissociates the halogen between the temperature rolls and exhibits an exothermic peak due to the reaction with the activated metal surface. The organic halide a aims at removing the oxide film on the surface of the base material before melting of the solder, and the organic halide b aims at promoting the wetting of the molten solder.

本発明において、低温側の下限を90℃した理由は、フラックスが固体状態である間に活性剤を働かせても、フラックスの毛細管現象による隙間への浸透、フラックスの拡がり等が起こらず、活性剤の有効利用が叶わないからである。
高温側の上限を320℃とした理由は、発熱ピークが320℃を越える有機ハロゲン化物bを使用すると、その有機ハロゲン化物の活性化が未完のままとなり、活性剤の有効利用に沿わないからである。
In the present invention, the reason why the lower limit on the low temperature side is 90 ° C. is that, even if the activator is operated while the flux is in a solid state, penetration of the flux due to capillary action of the flux, spreading of the flux, etc. do not occur. This is because the effective use of is not realized.
The reason why the upper limit on the high temperature side is set to 320 ° C. is that when an organic halide b having an exothermic peak exceeding 320 ° C. is used, the activation of the organic halide remains incomplete and does not follow the effective use of the activator. is there.

有機ハロゲン化物としては、2,2,2-トリブロモエタノール、トリブロモメチルフェニルスルホン、2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、ペンタエリスリトールトリブロミド、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)
、2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンなどが挙げられる。
フラックスに対する有機ハロゲン化物a、有機ハロゲン化物bのそれぞれの添加量は、0.2〜4.0%とされる。0.2%未満では活性化作用が不充分となり、4.0%を超えるとフラックス残渣の銅版腐食性を保証し難くなるからである。好ましくは、0.5%〜3,0%とされる。
ハロゲンが塩素、フッ素、沃素である有機ハロゲン化物の使用も可能である。
Organic halides include 2,2,2-tribromoethanol, tribromomethylphenylsulfone, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, pentaerythritol tribromide, isocyanuric acid tris (2,3 -Dibromopropyl)
2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane and the like.
Each addition amount of the organic halide a and the organic halide b with respect to the flux is set to 0.2 to 4.0%. If it is less than 0.2%, the activation action is insufficient, and if it exceeds 4.0%, it is difficult to guarantee the copper plate corrosiveness of the flux residue. Preferably, the content is 0.5% to 30%.
It is also possible to use organic halides whose halogen is chlorine, fluorine or iodine.

本発明のフラックスが使用されるはんだは、融点が170℃〜240℃のSn基の鉛フリーはんだであり、Sn、Ag、Cu、Bi、In、Znから選ばれる少なくとも一種の合金である。
たとえば、Sn−3.0Ag−0.5Cu(Ag:3.0質量%、Cu:0.5質量%、残部Sn。固相線温度217℃、液相線温度219℃)、Sn−0.3Ag−0.7Cu(固相線温度217℃、液相線温度227℃)、
Sn−1.0Ag−0.7Cu(固相線温度217℃、液相線温度227℃)、Sn−0.7Cu(固相線温度227℃、液相線温度228℃)、Sn−3.0Cu(固相線温度227℃、液相線温度312℃)、Sn−3.5Ag(固相線温度221℃、液相線温度221℃)、Sn−3.5Ag−0.5Bi−8In(固相線温度196℃、液相線温度206℃)、Sn−2.5Ag−1.0Bi−0.5Cu(固相線温度214℃、液相線温度217℃)、Sn−8Zn−3Bi(固相線温度187℃、液相線温度196℃)、Sn(固相線温度234℃、液相線温度234℃)が挙げられる。
これらのはんだに対し、Sn、Ag、Cu、Bi、In、Zn、Sb、Ni、Ga、Ge、Co、Al、Si、Pからなる群より選択された一種または二種以上の金属を添加することもできる。
The solder in which the flux of the present invention is used is a Sn-based lead-free solder having a melting point of 170 ° C. to 240 ° C., and is at least one alloy selected from Sn, Ag, Cu, Bi, In, and Zn.
For example, Sn-3.0Ag-0.5Cu (Ag: 3.0% by mass, Cu: 0.5% by mass, balance Sn. Solidus temperature 217 ° C., liquidus temperature 219 ° C.), Sn-0. 3Ag-0.7Cu (solidus temperature 217 ° C, liquidus temperature 227 ° C),
Sn-1.0Ag-0.7Cu (solidus temperature 217 ° C, liquidus temperature 227 ° C), Sn-0.7Cu (solidus temperature 227 ° C, liquidus temperature 228 ° C), Sn-3. 0Cu (solidus temperature 227 ° C, liquidus temperature 312 ° C), Sn-3.5Ag (solidus temperature 221 ° C, liquidus temperature 221 ° C), Sn-3.5Ag-0.5Bi-8In ( Solidus temperature 196 ° C, liquidus temperature 206 ° C), Sn-2.5Ag-1.0Bi-0.5Cu (solidus temperature 214 ° C, liquidus temperature 217 ° C), Sn-8Zn-3Bi ( Solid phase temperature 187 ° C., liquidus temperature 196 ° C.) and Sn (solidus temperature 234 ° C., liquidus temperature 234 ° C.).
One or more metals selected from the group consisting of Sn, Ag, Cu, Bi, In, Zn, Sb, Ni, Ga, Ge, Co, Al, Si, and P are added to these solders. You can also.

前記Sn−Ag−CuはんだやSn−Cuはんだに対する有機ハロゲン化物aとしては、2,2,2-トリブロモエタノール(融点:82℃。120℃〜140℃の間に発熱ピークを持つ)、2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール(融点:110
℃。140℃〜180℃の間に発熱ピークを持つ)、ペンタエリスリトールトリブロミド(融点:69℃。180℃〜210℃の間に発熱ピークを持つ)を使用でき、有機ハロゲン化物bとしては、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)(融点:120℃。270℃〜300℃の間に発熱ピークを持つ)、2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパン(融点:110℃。300℃〜320℃の間に発熱ピークを持つ)を使用できる。
As the organic halide a for the Sn—Ag—Cu solder or Sn—Cu solder, 2,2,2-tribromoethanol (melting point: 82 ° C., having an exothermic peak between 120 ° C. and 140 ° C.), 2 , 3-Dibromo-2-butene-1,4-diol (melting point: 110
° C. Exothermic peak between 140 ° C. and 180 ° C.), pentaerythritol tribromide (melting point: 69 ° C., exothermic peak between 180 ° C. and 210 ° C.) can be used, and organic halide b is isocyanuric acid Tris (2,3-dibromopropyl) (melting point: 120 ° C., exothermic peak between 270 ° C. and 300 ° C.), 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) ) Phenyl] propane (melting point: 110 ° C., with an exothermic peak between 300 ° C. and 320 ° C.).

本発明に係るフラックスにおいては、ロジンまたはそれらの誘導体の1種類または2種類以上を主成分とし、活性剤として前記有機ハロゲン化物の外、アミン有機酸塩や、アミンハロゲン塩、ハロゲン化物やその他酸化防止剤など添加剤を加えることができる。 In the flux according to the present invention, one or more of rosin or a derivative thereof is a main component, and in addition to the organic halide as an activator, an amine organic acid salt, an amine halogen salt, a halide, and other oxidations. Additives such as inhibitors can be added.

使用されるロジンとしては、ウッドロジン、ガムロジン、トールロジン、不均化ロジン、水添ロジン、完全水添ロジン、マレイン酸変性ロジン、ロジンエステルなどが挙げられる。 Examples of the rosin used include wood rosin, gum rosin, tall rosin, disproportionated rosin, hydrogenated rosin, fully hydrogenated rosin, maleic acid-modified rosin, and rosin ester.

活性剤としてアミンではエチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミンなどの1級アミン、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジフェニルアミンなどの2級アミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、などの3級アミンが挙げられこれらを単体で、またはその有機酸塩やハロゲン化水素酸塩として用いることができる。他のアミン類としてテトラエチルアンモニウム塩などの4級アミン、ジフェニルグアニジンやジフェニル尿素などが挙げられる。有機酸としては、ジグリコール酸、アジピン酸、グルタル酸、ドデカン二酸、プロピオン酸、コハク酸、マレイン酸などが挙げられる。
また、これらの組成にポリエチレンワックスや、エステルワックスなどを添加することもでき、冷熱サイクルに対する性能を向上させるためにはんだ付け性に大きな影響が出ない範囲で熱可塑性樹脂やその他ポリマーを添加することができる。
Examples of amines include primary amines such as ethylamine, cyclohexylamine and benzylamine, secondary amines such as diethylamine, diethanolamine and diphenylamine, and tertiary amines such as triethylamine, triethanolamine and triisopropanolamine. Or as its organic acid salt or hydrohalide salt. Other amines include quaternary amines such as tetraethylammonium salt, diphenylguanidine and diphenylurea. Examples of the organic acid include diglycolic acid, adipic acid, glutaric acid, dodecanedioic acid, propionic acid, succinic acid, maleic acid and the like.
In addition, polyethylene wax, ester wax, etc. can be added to these compositions, and thermoplastic resins and other polymers should be added within a range that does not significantly affect solderability in order to improve performance against the thermal cycle. Can do.

本発明をソルダーペーストに適用する場合は、上記の組成にエチレングリコール、グリセリン、へキシレングリコールまたはそれらのエステルといった高沸点溶剤に、硬化ヒマシ油、ポリアミド系ワックスなど、高融点ワックスを添加することができる。 When the present invention is applied to a solder paste, a high melting point wax such as hardened castor oil or polyamide wax may be added to a high boiling point solvent such as ethylene glycol, glycerin, hexylene glycol or an ester thereof in the above composition. it can.

本発明を液状フラックスに適用する場合は、上記組成のフラックスをイソプロピルアルコール、キシレン、酢酸ブチルなどの溶剤に適当な濃度で溶解させることができる。 When the present invention is applied to a liquid flux, the flux having the above composition can be dissolved in an appropriate concentration in a solvent such as isopropyl alcohol, xylene, or butyl acetate.

〔実施例1〕
実施形態は、ヤニ入りはんだであり、はんだにはSn-3.0Ag-0.5Cuを使用した。
有機ハロゲン化物aには2,2,2-トリブロモエタノールを使用し。有機ハロゲン化物bにはイソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)を使用した。
2,2,2-トリブロモエタノールとSn-3.0Ag-0.5Cu粉(溶融開始温度217℃、凝固開始温度219℃)との混合試料(2,2,2-トリブロモエタノールの質量%は50)の示差熱測定曲線(示差熱測定装置Thermo plus TG8120 リガク 社製を使用。測定試料重量20mg、昇温速度10℃/分とした。以下、同じ)は図2の通りであり、nは2,2,2-トリブロモエタノールの溶融ピークを、mは2,2,2-トリブロモエタノールの発熱ピークを、sはんだの溶融ピークをそれぞれ示している。
イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)とSn-3.0Ag-0.5Cu粉との混合試料(イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)質量%は50)の示差熱測定曲線は図4の通りであり、nはイソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)の溶融ピークを、sはんだの溶融ピークを、mはイソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)の発熱ピークをそれぞれ示している。
WWロジン76%、水添ロジン20%、2,2,2-トリブロモエタノール2%、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)2%を加熱下で溶融混合してフラックスを調製した。更に、このフラックスを加熱軟化させてSn-3.0Ag-0.5Cuはんだ中空管に入れ、外径1.0mmφに線引きしてヤニ入りはんだを製作した。
[Example 1]
The embodiment is a solder containing solder, and Sn-3.0Ag-0.5Cu was used as the solder.
Use 2,2,2-tribromoethanol as the organic halide a. As the organic halide b, tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate was used.
Mixed sample of 2,2,2-tribromoethanol and Sn-3.0Ag-0.5Cu powder (melting start temperature 217 ° C, solidification start temperature 219 ° C) (mass% of 2,2,2-tribromoethanol is 50%) ) Differential heat measurement curve (differential heat measurement device Thermo plus TG8120 manufactured by Rigaku Corporation. Measurement sample weight 20 mg, heating rate 10 ° C./min. The same applies hereinafter) is as shown in FIG. , 2,2-tribromoethanol melting peak, m, 2,2,2-tribromoethanol exothermic peak, and s solder melting peak.
The differential thermal measurement curve of the mixed sample of tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate and Sn-3.0Ag-0.5Cu powder (mass% of tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate is 50) is shown in FIG. N represents the melting peak of tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate, s represents the melting peak of solder, and m represents the exothermic peak of tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate. .
A flux was prepared by melting and mixing WW rosin 76%, hydrogenated rosin 20%, 2,2,2-tribromoethanol 2%, and isocyanuric acid tris (2,3-dibromopropyl) 2%. Further, this flux was softened by heating and placed in a Sn-3.0Ag-0.5Cu solder hollow tube, and drawn to an outer diameter of 1.0 mmφ to produce a solder containing a paste.

このヤニ入りはんだを、次の試験により評価した。
はんだ付け性試験:350℃設定のはんだ付けロボットを使用し、片面ユニバーサル基盤に100点はんだ付け行い、不良無しのものを○、不良10%未満のものを△、不良10%以上のものを×と評価した。
ボイド数試験:はんだ付け性試験の100点はんだ付け箇所の何れにもボイドの無かったものを○、ボイド個数が5%未満のものを△、5%以上のものを×と評価した。
水溶液抵抗試験:フラックス残渣の水溶液抵抗をJIS Z 3197記載の方法により測定し、高いものを○、中のものを△、低いものを×と評価した。
銅版腐食試験:JIS
Z 3197の銅版腐食に準じて行い、腐食なしのものを○、腐食は無いが初期にフラックスの一部が緑化したものを△、腐食ありのものを×と評価した。
絶縁抵抗試験:JIS Z 3197に準じ85℃RH85%−RH90%で行い、高抵抗のものを○、中抵抗のものを△、低抵抗のものを×と評価した。
実施例1の評価結果は表2に示す通りである。
This spear-containing solder was evaluated by the following test.
Solderability test: Using a soldering robot set at 350 ° C, solder 100 points to a single-sided universal board, ○ for those with no defects, △ for less than 10%, and for those with 10% or more defects. It was evaluated.
Void number test: A case where no void was found in any of the 100-point soldering points in the solderability test was evaluated as ○, a case where the number of voids was less than 5% was evaluated as Δ, and a case where the number of voids was 5% or more was evaluated as ×.
Aqueous solution resistance test: The aqueous solution resistance of the flux residue was measured by the method described in JIS Z 3197, and a high one was evaluated as ◯, a middle one as Δ, and a low one as ×.
Copper plate corrosion test: JIS
Z 3197 was evaluated according to the copper plate corrosion. The case where there was no corrosion was evaluated as ◯, the case where there was no corrosion but a part of the flux was initially greened was evaluated as △, and the case where there was corrosion was evaluated as ×.
Insulation resistance test: Conducted at 85 ° C. RH85% -RH90% in accordance with JIS Z 3197. High resistance samples were evaluated as ◯, medium resistance samples were evaluated as Δ, and low resistance samples were evaluated as ×.
The evaluation results of Example 1 are as shown in Table 2.

Figure 2010046688
Figure 2010046688

Figure 2010046688
Figure 2010046688

〔実施例2〕
表1に示す通り、実施例1では、高温側の有機ハロゲン化物bとして、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)を使用しているのに対し、実施例2では、高温側の有機ハロゲン化物bとして、2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンを使用した以外、実施例1と同じとした。
2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンとSn-3.0Ag-0.5Cu粉との混合試料(2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンの質量%は50)の示差熱測定曲線は図5の通りであり、nは2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンの溶融ピークを、sはんだの溶融ピークを、mは2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンの発熱ピークをそれぞれ示している。
実施例2の評価結果は表2に示す通りである。
[Example 2]
As shown in Table 1, in Example 1, tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate was used as the organic halide b on the high temperature side, whereas in Example 2, the organic halogen on the high temperature side was used. The same as Example 1 except that 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane was used as the compound b.
Mixed sample of 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane and Sn-3.0Ag-0.5Cu powder (2,2-bis [3,5-dibromo The differential calorimetric curve of -4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane is 50% by mass is as shown in FIG. 5, where n is 2,2-bis [3,5-dibromo-4- ( 2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane melting peak, solder melting peak, m of 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane Each exothermic peak is shown.
The evaluation results of Example 2 are as shown in Table 2.

〔実施例3〕
表1に示す通り、実施例1では、低温側の有機ハロゲン化物aとして2,2,2-トリブロモエタノールを2%使用しているのに対し、実施例3では、2,2,2-トリブロモエタノール1%と2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール1%を使用し、実施例1では高温側の有機ハロゲン化物bとして、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)を使用しているのに対し、実施例3では、高温側の有機ハロゲン化物bとして、実施例2と同様に2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンを使用した以外、実施例1と同じとした。
2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールとSn-3.0Ag-0.5Cu粉との混合試料(2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール の質量%は50)の示差熱測定曲線は図3の通りであり、nは2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールの溶融ピークを、mは2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールの発熱ピークを、sはんだの溶融ピークをそれぞれ示している。
実施例3の評価結果は表2に示す通りである。
Example 3
As shown in Table 1, in Example 1, 2% of 2,2,2-tribromoethanol was used as the organic halide a on the low temperature side, whereas in Example 3, 2,2,2- Tribromoethanol 1% and 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol 1% were used. In Example 1, tris (2,3-dibromopropyl isocyanurate was used as the organic halide b on the high temperature side. In the same manner as in Example 2, 2,3-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromo) was used as the organic halide b on the high temperature side. Same as Example 1 except that propoxy) phenyl] propane was used.
Mixed sample of 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol and Sn-3.0Ag-0.5Cu powder (mass% of 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol is 50) The differential calorimetry curve is as shown in FIG. 3, where n is the melting peak of 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol and m is 2,3-dibromo-2-butene-1,4. -Exothermic peak of diol and melting peak of s solder are shown.
The evaluation results of Example 3 are as shown in Table 2.

〔実施例4〕
実施例1では有機ハロゲン化物aに2,2,2-トリブロモエタノール2%を使用しているのに対し、実施例4では2,2,2-トリブロモエタノール1%と少なくし、実施例1では有機ハロゲン化物bとしてイソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)の2%を使用しているのに対し、実施例4では、有機ハロゲン化物bとしてイソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)の2%と2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンの1%を使用している点を除けば、実施例2に同じである。
実施例4の評価結果は表2に示す通りである。
Example 4
In Example 1, 2% of 2,2,2-tribromoethanol was used as the organic halide a, whereas in Example 4, the amount was reduced to 1% of 2,2,2-tribromoethanol. In Example 1, 2% of tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate was used as the organic halide b, whereas in Example 4, tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate was used as the organic halide b. 2) and 1% of 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane. .
The evaluation results of Example 4 are as shown in Table 2.

実施例1〜4は、はんだ付け性試験、ボイド数試験、水溶液抵抗試験、銅版腐食試験、絶縁抵抗試験の何れにも合格している。   Examples 1-4 passed any of a solderability test, a void number test, an aqueous solution resistance test, a copper plate corrosion test, and an insulation resistance test.

〔比較例1〕
表1に示す通り、活性剤として発熱ピークが90℃に達しない有機ハロゲン化物である常温で液体の2,3-ジブロモプロパノールを使用した以外、実施例1に同じとした。
2,3-ジブロモプロパノールとSn-3.0Ag-0.5Cu粉との混合試料(2,3-ジブロモプロパノールの質量%は50)の示差熱測定曲線は図6の通りであり、mは2,3-ジブロモプロパノールの発熱ピークを、sはんだの溶融ピークをそれぞれ示している。
[Comparative Example 1]
As shown in Table 1, the same procedure as in Example 1 was used except that 2,3-dibromopropanol liquid at room temperature, which is an organic halide having an exothermic peak not reaching 90 ° C., was used as an activator.
The differential calorimetry curve of a mixed sample of 2,3-dibromopropanol and Sn-3.0Ag-0.5Cu powder (mass% of 2,3-dibromopropanol is 50) is as shown in FIG. 6, where m is 2,3 -Exothermic peak of dibromopropanol and melting peak of s solder are shown.

〔比較例2〕
表1に示す通り、活性剤として、はんだの融点よりも低温側で活性を呈する有機ハロゲン化物aである2,2,2-トリブロモエタノールのみを使用した以外、実施例1に同じとした。
[Comparative Example 2]
As shown in Table 1, it was the same as Example 1 except that only 2,2,2-tribromoethanol, which is an organic halide a exhibiting activity on the lower temperature side than the melting point of the solder, was used as the activator.

〔比較例3〕
表1に示す通り、活性剤として発熱ピークが330℃を超える有機ハロゲン化物であるデカブロモジフェニルエーテルを使用した以外、実施例1に同じとした。
デカブロモジフェニルエーテルとSn-3.0Ag-0.5Cu粉との混合試料(デカブロモジフェニルエーテルの質量%は50)の示差熱測定曲線は図7の通りであり、nはデカブロモジフェニルエーテルの溶融ピークを、sはんだの溶融ピークを、mはデカブロモジフェニルエーテルの発熱ピークをそれぞれ示している。
[Comparative Example 3]
As shown in Table 1, the same procedure as in Example 1 was conducted except that decabromodiphenyl ether, which is an organic halide having an exothermic peak exceeding 330 ° C., was used as an activator.
The differential thermal measurement curve of the mixed sample of decabromodiphenyl ether and Sn-3.0Ag-0.5Cu powder (mass% of decabromodiphenyl ether is 50) is as shown in FIG. 7, where n is the melting peak of decabromodiphenyl ether, s The melting peak of solder and m represents the exothermic peak of decabromodiphenyl ether.

〔比較例4〕
表1に示す通り、活性剤として、はんだの融点よりも高温側で活性を呈する有機ハロゲン化物bである2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンを使用した以外、実施例1に同じとした。
[Comparative Example 4]
As shown in Table 1, 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl, which is an organic halide b that exhibits activity on the higher temperature side than the melting point of the solder, as an activator. The same as Example 1 except that propane was used.

〔比較例5〕
表1に示す通り、活性剤として、はんだの融点よりも低温側で活性を呈する有機ハロゲン化物aである2,3-ジブロモプロパノールとはんだの融点よりも高温側で活性を呈する有機ハロゲン化物bであるデカブロモジフェニルエーテルを使用した以外、実施例1に同じとした。
[Comparative Example 5]
As shown in Table 1, 2,3-dibromopropanol, which is an organic halide a exhibiting activity on the lower temperature side than the melting point of the solder, and an organic halide b exhibiting activity on the higher temperature side than the melting point of the solder are used as the activator. Same as Example 1 except that some decabromodiphenyl ether was used.

〔比較例6〕
表1に示す通り、活性剤として、はんだの融点よりも低温側で活性を呈する有機ハロゲン化物aである2,2,2-トリブロモエタノールと2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールを使用した以外、実施例1に同じとした。
[Comparative Example 6]
As shown in Table 1, as activators, 2,2,2-tribromoethanol and 2,3-dibromo-2-butene-1,4, which are organic halides a that exhibit activity at a temperature lower than the melting point of the solder. -Same as Example 1 except that the diol was used.

〔比較例7〕
表1に示す通り、活性剤として、はんだの融点よりも高温側で活性を呈する有機ハロゲン化物bであるイソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)と2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンを使用した以外、実施例1に同じとした。
[Comparative Example 7]
As shown in Table 1, tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate and 2,2-bis [3,5-dibromo, which are organic halides b that are active on the higher temperature side than the melting point of the solder, as activators. Same as Example 1 except that -4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane was used.

〔比較例8〕
表1に示す通り、活性剤として汎用されているトリエチルアミン臭化水素酸塩を使用した以外、実施例1に同じとした。
[Comparative Example 8]
As shown in Table 1, the same procedure as in Example 1 was performed except that triethylamine hydrobromide, which is widely used as an activator, was used.

比較例1〜8の評価結果は、表2に実施例1〜4の評価結果に併記して示してある。
表2から明らかな通り、比較例においては、一部の特性は良好となるが、どれもその他の試験で悪影響がでることが確認できる。これに対し本発明によれば、はんだ付け性試験、ボイド数試験、水溶液抵抗試験、銅版腐食試験、絶縁抵抗試験の何れにおいても、良好な結果となる。
The evaluation results of Comparative Examples 1 to 8 are shown in Table 2 together with the evaluation results of Examples 1 to 4.
As is clear from Table 2, in the comparative example, some characteristics are good, but it can be confirmed that any of the other tests have an adverse effect. On the other hand, according to the present invention, good results are obtained in any of the solderability test, void number test, aqueous solution resistance test, copper plate corrosion test, and insulation resistance test.

本発明において活性剤使用として使用する有機ハロゲン化物a、bの特性を示す示差熱曲線である。It is a differential thermal curve which shows the characteristic of the organic halides a and b used as activator use in this invention. Sn−Cu−Agはんだと2,2,2-トリブロモエタノールとの混合物の示差熱測定曲線を示す図である。It is a figure which shows the differential thermal measurement curve of the mixture of Sn-Cu-Ag solder and 2,2,2-tribromoethanol. Sn−Cu−Agはんだと2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールとの混合物の示差熱測定曲線を示す図である。It is a figure which shows the differential calorimetry curve of the mixture of Sn-Cu-Ag solder and 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol. Sn−Cu−Agはんだとイソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)との混合物の示差熱測定曲線を示す図である。It is a figure which shows the differential thermal measurement curve of the mixture of Sn-Cu-Ag solder and isocyanuric acid tris (2,3- dibromopropyl). Sn−Cu−Agはんだと2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンとの混合物の示差熱測定曲線を示す図である。It is a figure which shows the differential thermal measurement curve of the mixture of Sn-Cu-Ag solder and 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane. Sn−Cu−Agはんだと2,3-ジブロモプロパノールとの混合物の示差熱測定曲線を示す図である。It is a figure which shows the differential thermal measurement curve of the mixture of Sn-Cu-Ag solder and 2, 3- dibromo propanol. Sn−Cu−Agはんだとデカブロモジフェニルエーテルとの混合物の示差熱測定曲線を示す図である。It is a figure which shows the differential thermal measurement curve of the mixture of Sn-Cu-Ag solder and decabromodiphenyl ether. 有機ハロゲン化物をフラックスの活性剤として使用する場合、はんだ金属の種類により活性化温度が相違することを示す示差熱測定曲線である。When using an organic halide as a flux activator, it is a differential calorimetry curve showing that the activation temperature differs depending on the type of solder metal.

符号の説明Explanation of symbols

m 有機ハロゲン化物の溶融ピーク
n 有機ハロゲン化物の発熱ピーク
s はんだの溶融ピーク
m Melting peak of organic halide n Exothermic peak of organic halide s Melting peak of solder

Claims (6)

Sn基鉛フリーはんだに対するフラックスであり、はんだと共存下での示差熱測定における発熱ピークが前記はんだの融点ピーク未満で、かつ90℃以上の範囲に存する少なくとも一種の有機ハロゲン化物aと、同発熱ピークが320℃以下で、かつ前記多元合金はんだの融点ピーク以上の範囲に存する少なくとも一種の有機ハロゲン化物bとを含有していることを特徴とするはんだ付け用フラックス。 It is a flux for Sn-based lead-free solder and has the same heat generation as that of at least one organic halide a in which the exothermic peak in the differential heat measurement in the presence of the solder is less than the melting point peak of the solder and in the range of 90 ° C. or higher. A soldering flux comprising at least one organic halide b having a peak of 320 ° C. or lower and a melting point peak or more of the multi-component alloy solder. Sn基鉛フリーはんだの融点が170℃以上240℃以下であり、有機ハロゲン化物a、bが2,2,2-トリブロモエタノール、2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)、2,2-ビス[3,5-ジブロモ-4-(2,3-ジブロモプロポキシ)フェニル]プロパンから選択されていることを特徴とする請求項1記載のはんだ付け用フラックス。 Sn-based lead-free solder has a melting point of 170 ° C. or higher and 240 ° C. or lower, and organic halides a and b are 2,2,2-tribromoethanol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2. Isocyanuric acid tris (2,3-dibromopropyl), 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2,3-dibromopropoxy) phenyl] propane Flux for soldering as described. Sn基鉛フリーはんだが、Sn、Ag、Cu、Bi、In、Zn、Sb、Ni、Ga、Ge、Co、Al、Si、Pからなる群より選択された一種または二種以上からなるはんであることを特徴とする請求項1または2記載のはんだ付け用フラックス。 Sn-based lead-free solder is a solder composed of one or more selected from the group consisting of Sn, Ag, Cu, Bi, In, Zn, Sb, Ni, Ga, Ge, Co, Al, Si, and P. The soldering flux according to claim 1 or 2, wherein the soldering flux is provided. Sn基鉛フリーはんだに対し、該はんだの融点ピークよりも低温側で活性作用を呈する有機ハロゲン化物a及び高温側で活性作用を呈する有機ハロゲン化物bをフラックスに添加してはんだ付けを行う方法であり、前記有機ハロゲン化物aに前記はんだ合金共存下での示差熱測定での発熱ピークが前記低温側に存する有機ハロゲン化物を使用し、前記有機ハロゲン化物bに前記はんだ合金共存下での示差熱測定での発熱ピークが前記高温側に存する有機ハロゲン化物を使用することを特徴とするはんだ付け方法。 For Sn-based lead-free solder, soldering is performed by adding to the flux an organic halide a that exhibits an active action on the lower temperature side than the melting point peak of the solder and an organic halide b that exhibits an active action on the higher temperature side. There is used an organic halide having an exothermic peak in the differential heat measurement in the presence of the solder alloy in the organic halide a, and the differential heat in the presence of the solder alloy in the organic halide b. A soldering method characterized by using an organic halide having an exothermic peak in measurement on the high temperature side. フラックスが請求項1〜3何れか記載のはんだ付け用フラックスであることを特徴とするヤニ入りはんだ。 A solder containing solder, wherein the flux is the soldering flux according to any one of claims 1 to 3. フラックスが請求項1〜3何れか記載のはんだ付け用フラックスであることを特徴とするソルダペースト。 A solder paste, wherein the flux is the soldering flux according to any one of claims 1 to 3.
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