JP2010033793A - Method for manufacturing particle transfer film - Google Patents

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Hiroki Inagaki
宏樹 稲垣
Takahiro Hayashi
恭弘 林
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Sumitomo Riko Co Ltd
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Sumitomo Riko Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a particle transfer film having less untransferred parts of particles compared with conventional ones. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the transfer film has a primary transfer process for primarily transferring particles held in pore parts of a transfer mold having a large number of pore parts on the surface, to the surface of an adhesive body, and a secondary transfer process for secondarily transferring the obtained particles on the surface of the adhesive body to the surface of a polymeric film by heating and pressurizing. The adhesive body is preferably formed of a thermosetting adhesive material. It is also preferable to separate the adhesive body from the polymeric film before the temperature by heating is lost in the secondary transfer process. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、粒子転写膜の製造方法に関し、さらに詳しくは、異方性導電膜等に用いて好適な粒子転写膜の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a particle transfer film, and more particularly to a method for producing a particle transfer film suitable for use in an anisotropic conductive film or the like.

近年、粒子を規則的に配列させ、その規則性を利用して、各種機能の実現が図られている。   In recent years, various functions have been realized by regularly arranging particles and utilizing their regularity.

例えば、電気、電子機器等の分野では、接着剤シートに規則的に粒子を配列させることにより異方導電性を付与した異方性導電膜が使用されている。   For example, in the fields of electric and electronic devices, anisotropic conductive films imparted with anisotropic conductivity by regularly arranging particles on an adhesive sheet are used.

粒子を配列させる手法としては、従来、転写型を用いた転写法が広く利用されてきた。例えば、特許文献1には、異方性導電膜を製造する際に、導電性微粒子配列治具(転写型)の非貫通孔内に超音波振動により導電性微粒子を入れ、この導電性微粒子が配列した面に、加熱した状態の接着剤層を押しつける方法が開示されている。   Conventionally, a transfer method using a transfer mold has been widely used as a method for arranging particles. For example, in Patent Document 1, when manufacturing an anisotropic conductive film, conductive fine particles are put into a non-through hole of a conductive fine particle arranging jig (transfer type) by ultrasonic vibration. A method is disclosed in which a heated adhesive layer is pressed against the arranged surfaces.

なお、転写型を用いずに粒子を配列させた異方性導電膜を製造する試みもなされている。   An attempt has been made to produce an anisotropic conductive film in which particles are arranged without using a transfer mold.

例えば、特許文献2には、粘着剤シートの表面に単層で密に導電粒子を配列後、この粘着剤シートを延伸することで導電粒子に間隔を持たせた配列シートを作製し、この配列シートの導電粒子側に、バインダー樹脂を重ねて熱ロール等でバインダー樹脂中に導電粒子を埋め込んだ後、配列シートを剥離し、絶縁性接着剤をラミネートする方法が開示されている。   For example, in Patent Document 2, after arranging conductive particles densely in a single layer on the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet, an array sheet in which the conductive particles are spaced is produced by stretching the pressure-sensitive adhesive sheet. A method is disclosed in which a binder resin is stacked on the conductive particle side of the sheet and the conductive particles are embedded in the binder resin with a hot roll or the like, and then the array sheet is peeled off and an insulating adhesive is laminated.

特開2003−220669号公報JP 2003-220669 A 特開2007−217503号公報JP 2007-217503 A

しかしながら、転写型を用いる従来技術は、以下の点で問題があった。   However, the conventional technique using a transfer mold has the following problems.

すなわち、転写型を用いる場合、転写型の孔部内に粒子が完全に隠れてしまうと粒子を転写することができない。一方、転写型の孔部から過度に粒子を露出させると、孔部内に粒子を保持できず、粒子の配列等に支障が生じる。そのため、転写性と孔部内の粒子保持性とを考慮し、通常、粒子は、その頂部が孔部から僅かに突出された状態で孔部内に保持されることが多い。   That is, when a transfer mold is used, the particles cannot be transferred if they are completely hidden within the holes of the transfer mold. On the other hand, if the particles are excessively exposed from the transfer-type hole portions, the particles cannot be held in the hole portions, and the arrangement of the particles is hindered. Therefore, in consideration of transferability and particle retention in the pores, the particles are usually held in the pores with their tops slightly protruding from the pores.

しかしながら、この状態の転写型を用いて高分子膜へ転写を行うと、粒子と高分子膜との接触面積が小さいため、未転写部位が発生しやすい。また、転写型から高分子膜への転写性を向上させるため転写時に過度の加熱を行うと、高分子膜に熱シワが生じる等して、高分子膜が熱変形する場合もある。高分子膜は、異方性導電膜等の製品の一部を構成する部材になるため、製造時の無理な加熱は行わない方が好ましい。このような理由により、従来技術によって転写性を向上させるのは困難な状況であった。   However, when the transfer mold in this state is used for transfer to the polymer film, the contact area between the particles and the polymer film is small, and thus untransferred sites are likely to occur. In addition, if excessive heating is performed at the time of transfer in order to improve the transfer property from the transfer mold to the polymer film, the polymer film may be thermally deformed due to heat wrinkles in the polymer film. Since the polymer film becomes a member constituting a part of a product such as an anisotropic conductive film, it is preferable not to perform excessive heating during production. For these reasons, it has been difficult to improve transferability by the prior art.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、従来に比べ、粒子の未転写部位が少ない粒子転写膜の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method for producing a particle transfer film in which the number of untransferred portions of particles is smaller than in the prior art.

上記課題を解決するため、本発明に係る転写膜の製造方法は、多数の孔部を表面に有する転写型の孔部内に保持された粒子を、粘着体の表面に一次転写する一次転写工程と、上記粘着体表面の粒子を、高分子膜の表面に加熱・加圧により二次転写する二次転写工程とを有することを要旨とする。   In order to solve the above problems, a transfer film manufacturing method according to the present invention includes a primary transfer step in which particles held in a transfer mold hole having a number of holes on the surface thereof are primarily transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive body. And a secondary transfer step in which the particles on the surface of the pressure-sensitive adhesive body are secondarily transferred to the surface of the polymer film by heating and pressing.

ここで、上記粘着体は、熱硬化性粘着材料より形成されていることが好ましい。   Here, it is preferable that the said adhesive body is formed from the thermosetting adhesive material.

また、上記二次転写工程において、上記加熱による温度が失われる前に、上記粘着体と上記高分子膜とを分離することが好ましい。   In the secondary transfer step, the pressure-sensitive adhesive body and the polymer film are preferably separated before the temperature due to the heating is lost.

また、上記粘着体の粘着力は、ポリエチレンテレフタレートに対する25℃における剥離強度で0.1〜0.6N/25mm幅の範囲内にあることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the adhesive force of the said adhesive body exists in the range of 0.1-0.6N / 25mm width by the peeling strength in 25 degreeC with respect to a polyethylene terephthalate.

また、上記高分子膜は、二次転写温度において2×10Pa・s以下の粘度を有する材料より形成されていることが好ましい。 The polymer film is preferably formed of a material having a viscosity of 2 × 10 4 Pa · s or less at the secondary transfer temperature.

また、本発明に係る粒子転写膜の製造方法では、上記一次転写工程を繰り返し行っても良い。   In the method for producing a particle transfer film according to the present invention, the primary transfer process may be repeated.

また、上記粒子として導電性粒子を好適に用いることができる。   Moreover, electroconductive particle can be used suitably as said particle | grain.

本発明に係る粒子転写膜は、上述した粒子転写膜の製造方法により得られたものであることを要旨とする。   The gist of the particle transfer film according to the present invention is obtained by the above-described method for producing a particle transfer film.

本発明に係る異方性導電膜は、上述した粒子転写膜の製造方法(但し、粒子として導電性粒子を使用)により得られた粒子転写膜を用いたことを要旨とする。   The gist of the anisotropic conductive film according to the present invention is the use of a particle transfer film obtained by the above-described method for producing a particle transfer film (however, conductive particles are used as particles).

本発明に係る異方性導電膜の製造方法は、上述した粒子転写膜の製造方法(但し、粒子として導電性粒子を使用)により得られた粒子転写膜を用い、上記導電性粒子を高分子膜に埋め込んで保持させる工程と、上記機導電性粒子を保持させた高分子膜の片面に接着層を形成する工程とを有することを要旨とする。   A method for producing an anisotropic conductive film according to the present invention uses a particle transfer film obtained by the above-described method for producing a particle transfer film (however, conductive particles are used as particles), and the conductive particles are polymerized. The gist of the invention is to include a step of embedding and holding the film in a film and a step of forming an adhesive layer on one side of the polymer film holding the electroconductive particles.

本発明に係る粒子転写膜の製造方法では、一次転写工程において、転写型の孔部内に保持された粒子を、粘着体の粘着性により粘着体表面に一次転写する。そのため、加熱を行わなくても、転写型から高い転写率で粒子を粘着体表面に一次転写することができる。また、粘着体表面に一次転写された粒子は、その底部で粘着体と貼り付いているが、その表面の大部分は露出された状態になっている。   In the method for producing a particle transfer film according to the present invention, in the primary transfer step, the particles held in the hole of the transfer mold are primarily transferred to the surface of the adhesive body due to the adhesiveness of the adhesive body. For this reason, the particles can be primarily transferred from the transfer mold to the surface of the pressure-sensitive adhesive body without heating. Moreover, although the particle | grains primarily transferred by the adhesive body surface are affixed with the adhesive body in the bottom part, the most part of the surface is in the exposed state.

そして、二次転写工程では、この粘着体表面の粒子を、高分子膜の表面に加熱・加圧により二次転写する。そのため、加熱により軟化した高分子膜と粒子とがより広い接触面積にて接触し、粘着体側の粒子は、高分子膜側に二次転写される。   In the secondary transfer step, the particles on the surface of the adhesive body are secondarily transferred to the surface of the polymer film by heating and pressing. Therefore, the polymer film softened by heating and the particles come into contact with each other in a wider contact area, and the particles on the adhesive body side are secondarily transferred to the polymer film side.

したがって、本発明に係る粒子転写膜の製造方法によれば、転写型の孔部内に保持された粒子を直接、高分子膜に転写する場合等に比較して、粒子の未転写部位が少ない粒子転写膜を製造することができる。   Therefore, according to the method for producing a particle transfer film according to the present invention, the number of untransferred particles of the particles is smaller than in the case of directly transferring the particles held in the transfer type hole to the polymer film. A transfer film can be manufactured.

ここで、上記粘着体が熱硬化性粘着材料より形成されている場合には、二次転写時の加熱により粘着体の粘着性が低下する。そのため、加熱により軟化した高分子膜に粒子がより転写されやすくなり、二次転写性の向上に寄与しやすい。   Here, when the said adhesive body is formed from the thermosetting adhesive material, the adhesiveness of an adhesive body falls by the heating at the time of secondary transfer. For this reason, the particles are more easily transferred to the polymer film softened by heating, which is likely to contribute to the improvement of secondary transferability.

また、二次転写工程において、加熱による温度が失われる前に、粘着体と高分子膜とを分離する場合には、二次転写された粒子が粘着体側に付着して脱落するのを抑制しやすくなる。   In the secondary transfer process, when separating the adhesive and polymer film before the temperature due to heating is lost, the secondary transferred particles are prevented from adhering to the adhesive body and falling off. It becomes easy.

また、上記粘着体の粘着力が上記特定の範囲内にある場合には、一次転写時における転写型との離型性と、一次転写後における粒子の位置ズレの抑制効果とのバランスに優れる。   Moreover, when the adhesive strength of the adhesive body is within the specific range, the balance between the releasability from the transfer mold during primary transfer and the effect of suppressing the positional deviation of the particles after primary transfer is excellent.

また、上記高分子膜が二次転写温度において2×10Pa・s以下の粘度を有する材料より形成されている場合には、粒子が二次転写されやすく、二次転写後に冷却された後にも、粒子の位置ズレが生じ難くなる。 In addition, when the polymer film is formed of a material having a viscosity of 2 × 10 4 Pa · s or less at the secondary transfer temperature, the particles are easily transferred to the secondary film and after being cooled after the secondary transfer. However, the positional deviation of the particles is less likely to occur.

また、上記一次転写工程を繰り返す場合には、上述の通り粒子の未転写部位が少ないため、繰り返し(バッチ)間における粒子の位置合わせ精度が向上し、粒子ピッチ間のズレが少ない長尺物の粒子転写膜を製造しやすくなる。   In addition, when repeating the primary transfer step, as described above, since there are few untransferred parts of the particles, the alignment accuracy of the particles between repetitions (batch) is improved, and long objects with little deviation between the particle pitches. It becomes easy to manufacture a particle transfer film.

また、上記粒子が導電性粒子である場合には、異方性導電膜に好適に用いることが可能な粒子転写膜が得られる。   Moreover, when the said particle | grain is an electroconductive particle, the particle | grain transfer film | membrane which can be used suitably for an anisotropic electrically conductive film is obtained.

本発明に係る異方性導電膜は、本発明に係る製造方法により得られた粒子転写膜を用いている。そのため、粒子の未転写部位に起因する導通抵抗不良を低減させることができる。   The anisotropic conductive film according to the present invention uses a particle transfer film obtained by the production method according to the present invention. Therefore, it is possible to reduce the conduction resistance failure caused by the untransferred portion of the particle.

本発明に係る異方性導電膜は、本発明に係る製造方法により得られた粒子転写膜を用いている。そのため、粒子の未転写部位に起因する導通抵抗不良の少ない異方性導電膜を得ることができる。   The anisotropic conductive film according to the present invention uses a particle transfer film obtained by the production method according to the present invention. Therefore, it is possible to obtain an anisotropic conductive film with little conduction resistance defect due to the untransferred part of the particle.

以下、本実施形態に係る粒子転写膜の製造方法(以下、「本製造方法」ということがある。)および本実施形態に係る異方性導電膜について詳細に説明する。   Hereinafter, the method for producing a particle transfer film according to the present embodiment (hereinafter sometimes referred to as “the present production method”) and the anisotropic conductive film according to the present embodiment will be described in detail.

1.本製造方法
本製造方法は、以下の一次転写工程と、二次転写工程とを少なくとも有している。以下、各工程毎に説明する。
1. This manufacturing method This manufacturing method has at least the following primary transfer processes and secondary transfer processes. Hereinafter, each step will be described.

<一次転写工程>
本製造方法において、一次転写工程は、多数の孔部を表面に有する転写型の孔部内に保持された粒子を、粘着体の表面に一次転写する工程である。
<Primary transfer process>
In this production method, the primary transfer step is a step of primary transfer of the particles held in the transfer-type holes having a number of holes on the surface to the surface of the pressure-sensitive adhesive body.

図1は、上記一次転写工程の具体例を模式的に示した図である。先ず、図1(a)に示すように、多数の孔部10a内に粒子12が保持された転写型10と、粘着体14とを準備する。なお、ここでは、粘着体14として、基材14a表面に粘着層14bが形成されたものを例示している。   FIG. 1 is a diagram schematically showing a specific example of the primary transfer process. First, as shown in FIG. 1A, a transfer mold 10 in which particles 12 are held in a large number of holes 10a and an adhesive body 14 are prepared. Here, as the pressure-sensitive adhesive body 14, an example in which the pressure-sensitive adhesive layer 14b is formed on the surface of the base material 14a is illustrated.

次に、図1(b)に示すように、転写型10の粒子保持面と粘着体14の粘着層14b面とを近接または当接させ、粘着体14の基材14a表面上にて加圧ロール15を転がす等して、粘着層14b表面に粒子12を粘着させる。   Next, as shown in FIG. 1B, the particle holding surface of the transfer mold 10 and the adhesive layer 14b surface of the adhesive body 14 are brought close to or in contact with each other, and pressure is applied on the surface of the base material 14a of the adhesive body 14 The particles 12 are adhered to the surface of the adhesive layer 14b by rolling the roll 15 or the like.

この際、上記操作は、粒子配列を維持したまま一次転写しやすい等の観点から、非加熱で行うことが好ましい。また、上記加圧力は、転写型との粘着を抑制する、一次転写性に優れる等の観点から、好ましくは、0.1〜1MPa、より好ましくは、0.1〜0.5MPa、さらに好ましくは、0.1〜0.3MPaの範囲内にあると良い。   In this case, the above operation is preferably performed without heating from the viewpoint of easy primary transfer while maintaining the particle arrangement. In addition, the pressure is preferably 0.1 to 1 MPa, more preferably 0.1 to 0.5 MPa, and still more preferably from the viewpoint of suppressing adhesion to the transfer mold and excellent primary transferability. In the range of 0.1 to 0.3 MPa.

次に、図1(c)に示すように、転写型10と粘着体14とを引き離す。これにより、転写型10の孔部10a内の粒子12が、粘着体14の表面に一次転写される。   Next, as shown in FIG. 1C, the transfer mold 10 and the adhesive body 14 are pulled apart. Thereby, the particles 12 in the hole 10 a of the transfer mold 10 are primarily transferred onto the surface of the adhesive body 14.

上記一次転写工程において、孔部内に粒子が保持された転写型や粘着体は、例えば、以下のようにして準備すれば良い。   In the primary transfer step, a transfer mold or pressure-sensitive adhesive in which particles are held in the hole may be prepared as follows, for example.

(転写型)
転写型としては、例えば、Si、セラミックス、ガラス、金属等の無機材料や、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等の各種樹脂、ゴム等の有機材料などの各種材料に、エッチング法、電鋳法、光造形法等、材質に応じた孔部形成方法によって孔部を形成するなどして準備することができる。
(Transfer type)
Examples of the transfer mold include etching on inorganic materials such as Si, ceramics, glass, and metals, various materials such as thermosetting resins, photocurable resins, and thermoplastic resins, and organic materials such as rubber. It can be prepared by forming a hole by a hole forming method according to the material, such as a method, an electroforming method, or an optical modeling method.

転写型は、平板状、フィルム状、シート状などの平面体形状であっても良いし、ベルト状などの形状であっても良い。また、ロール状などの曲面体形状であっても良い。転写型の材質等に応じて最適な形状を選択することができる。好ましくは、転写型の製造性、粒子保持性などの観点から、平面体形状であると良い。   The transfer mold may have a flat body shape such as a flat plate shape, a film shape, or a sheet shape, or may have a shape such as a belt shape. Further, it may have a curved body shape such as a roll shape. An optimum shape can be selected according to the material of the transfer mold. Preferably, it is a flat body shape from the viewpoints of transfer mold productivity, particle retention, and the like.

転写型が有する孔部は、孔部内に粒子を保持できれば、貫通孔であっても非貫通孔であっても良い。また、孔部は、貫通孔および非貫通孔の両方から構成されていても良い。孔部は、転写型の形状等を考慮して適宜選択することができる。例えば、転写型が平板状などの平面体形状であれば、非貫通孔、貫通孔の何れも選択可能である。転写型がロール等の曲面体形状であれば、非貫通孔を選択すると良い。   The hole part of the transfer mold may be a through hole or a non-through hole as long as particles can be held in the hole part. Moreover, the hole part may be comprised from both the through-hole and the non-through-hole. The hole can be appropriately selected in consideration of the shape of the transfer mold and the like. For example, if the transfer mold is a flat body shape such as a flat plate shape, either a non-through hole or a through hole can be selected. If the transfer mold is a curved body such as a roll, a non-through hole may be selected.

孔部の形状としては、具体的には、例えば、四角柱、六角柱等の略多角柱状、四角錐、三角錐等の略角錐状、略円柱状、略半球状等を例示することができる。好ましくは、粒子保持性、孔部形成性などの観点から、略多角柱状、略円柱状等の形状が好ましい。   Specific examples of the shape of the hole include a substantially polygonal column shape such as a quadrangular prism and a hexagonal column, a substantially pyramid shape such as a quadrangular pyramid and a triangular pyramid, a substantially cylindrical shape, and a substantially hemispherical shape. . Preferably, from the viewpoint of particle retention, hole forming property, and the like, a shape such as a substantially polygonal column shape or a substantially columnar shape is preferable.

孔部は、例えば、格子状、千鳥状、ハニカム状、縞状などに規則的に配列されて形成されていても良いし、ランダムに形成されていても良い。本製造方法により得られる粒子転写膜の用途等に応じて選択することができる。好ましくは、異方性導電膜用途等、粒子転写膜の利用価値が高くなるなどの観点から、孔部は、規則的に配列されていると良い。   For example, the holes may be regularly arranged in a lattice shape, a staggered shape, a honeycomb shape, a stripe shape, or the like, or may be formed at random. It can be selected according to the use of the particle transfer film obtained by this production method. Preferably, from the viewpoint of increasing the utility value of the particle transfer film, such as for an anisotropic conductive film, the holes are preferably arranged regularly.

孔部は、粒子の頂部を孔部形成面より突出可能な深さに形成されていることが好ましい。粘着体の粘着面と優先的に接触することにより一次転写性が向上する、粒子保持性に優れる等の利点があるからである。   The hole is preferably formed to a depth that allows the top of the particle to protrude from the hole forming surface. This is because preferential contact with the pressure-sensitive adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive body has advantages such as improved primary transfer and excellent particle retention.

具体的には、粒子の平均粒径に対する孔部の深さの比(=孔部の深さ/粒子の平均粒径)の上限は、粒子転写性等に優れるなどの観点から、好ましくは、1未満、より好ましくは、0.95以下、さらに好ましくは、0.9以下であると良い。   Specifically, the upper limit of the ratio of the hole depth to the average particle diameter (= depth of the hole / average particle diameter of the particle) is preferably from the viewpoint of excellent particle transferability and the like. Less than 1, more preferably 0.95 or less, still more preferably 0.9 or less.

一方、粒子の平均粒径に対する孔部の深さの比(=孔部の深さ/粒子の平均粒径)の下限は、粒子保持性、粒子導入のしやすさの確保などの観点から、好ましくは、0.5以上、より好ましくは、0.6以上、さらに好ましくは、0.75以上であると良い。   On the other hand, the lower limit of the ratio of the depth of the hole to the average particle diameter of the particles (= depth of the hole / average particle diameter of the particles) is from the viewpoint of ensuring particle retention, ease of particle introduction, and the like. Preferably, it is 0.5 or more, more preferably 0.6 or more, and further preferably 0.75 or more.

孔部は、導入される粒子の粒径よりも若干大きな開口を有していると良い。孔部一つにつき、粒子が一つずつ導入されやすくなるし、粒子の導入性を確保しやすいからである。   It is preferable that the hole has an opening slightly larger than the particle diameter of the particles to be introduced. This is because it is easy to introduce particles one by one for each hole, and it is easy to ensure the introduction of particles.

具体的には、粒子の平均粒径に対する孔部の開口の大きさの比(=孔部の開口の大きさ/粒子の平均粒径)の上限は、孔部一つにつき粒子が一つずつ導入されやすくなるなどの観点から、好ましくは、2未満、より好ましくは、1.8以下、さらに好ましくは1.6以下であると良い。   Specifically, the upper limit of the ratio of the aperture size of the hole to the average particle size of the particles (= the size of the aperture of the hole / the average particle size of the particles) is one particle per hole. From the viewpoint of easy introduction, it is preferably less than 2, more preferably 1.8 or less, and still more preferably 1.6 or less.

一方、粒子の平均粒径に対する孔部の開口の大きさの比(=孔部の開口の大きさ/粒子の平均粒径)の下限は、粒子導入性の確保などの観点から、好ましくは、1以上、より好ましくは、1.05以上、さらに好ましくは、1.1以上であると良い。   On the other hand, the lower limit of the ratio of the aperture size of the pores to the average particle size of the particles (= the size of the apertures of the pores / the average particle size of the particles) is preferably from the viewpoint of ensuring particle introduction properties, 1 or more, more preferably 1.05 or more, and even more preferably 1.1 or more.

なお、上記孔部の深さとは、転写型表面をレーザー顕微鏡で観察し、任意に選択した孔部10個について測定した深さの平均値である。また、上記孔部の開口径は、転写型表面をレーザー顕微鏡で観察し、任意に選択した孔部10個について測定した各開口部分の直径の平均値である。また、上記粒子の平均粒径とは、粒度分布測定装置(セイシン企業製、「PITA−1」)またはこれと同等の装置にて測定される値である。   The depth of the hole is an average value of the depth measured for 10 arbitrarily selected holes by observing the transfer mold surface with a laser microscope. Further, the opening diameter of the hole is an average value of the diameters of the openings measured for 10 arbitrarily selected holes by observing the transfer mold surface with a laser microscope. The average particle size of the particles is a value measured by a particle size distribution measuring device (“PITA-1” manufactured by Seishin Enterprise) or an equivalent device.

転写型の孔部内に粒子を導入する方法は、特に限定されるものではなく、各種の方法を採用することが可能である。   The method for introducing particles into the transfer-type hole is not particularly limited, and various methods can be adopted.

例えば、(1)乾燥した粒子粉末またはこれを溶媒中に分散させた分散液を転写型の孔部形成面上に散布または塗布した後、刷毛、ブラシ、ブレードなどを用いて孔部形成面の表面を擦り切るなどして、孔部内に粒子を導入することができる。   For example, (1) after spraying or applying a dried particle powder or a dispersion in which this is dispersed in a solvent onto a transfer-type hole forming surface, using a brush, brush, blade, etc. Particles can be introduced into the pores, such as by scraping the surface.

また、(2)上記散布または塗布後、外部から振動や磁力(導電性粒子の場合)を加えたり、孔部の底部から粒子を吸引したりするなどして、孔部内に粒子を導入することができる。   (2) After spraying or coating, introducing particles into the hole by applying vibration or magnetic force (in the case of conductive particles) from the outside or sucking particles from the bottom of the hole. Can do.

また、(3)上記分散液中に転写型を浸漬するなどして、孔部内に粒子を導入することができる。   (3) The particles can be introduced into the pores by immersing the transfer mold in the dispersion.

また、(4)転写型の孔部形成面と一定距離離間させて板状部材を配置し、形成された隙間に、上記分散液を導入し、転写型および/または板状部材をスライド移動させるなどして、孔部内に粒子を導入することができる。   (4) A plate-like member is arranged at a certain distance from the hole-forming surface of the transfer mold, the dispersion is introduced into the formed gap, and the transfer mold and / or plate-like member is slid. For example, the particles can be introduced into the pores.

粒子を孔部内に物理的に押し込むので、孔部内に粒子を確実に保持させやすくなるなどの観点から、好ましくは、(1)の方法により孔部内に粒子を導入すると良い。より好ましくは、乾式で行うことができる、孔部一つにつき粒子を一つずつ導入しやすいなどの観点から、(1)の方法において乾燥した粒子粉末自体を用いて孔部内に粒子を導入すると良い。   Since the particles are physically pushed into the pores, it is preferable to introduce the particles into the pores by the method (1) from the viewpoint of easily retaining the particles in the pores. More preferably, when the particles are introduced into the pores using the dry particle powder itself in the method (1) from the viewpoint that it is possible to carry out by a dry method and that it is easy to introduce particles one by one for each pore. good.

なお、粒子が導電性を有する場合には、粒子が孔部内に導入されやすくなるなどの観点から、(1)の方法において、孔部形成面と反対側から磁力により粒子を転写型に引きつけつつ、刷毛、ブラシ、ブレードなどを用いて孔部形成面の表面を擦り切るなどして、孔部内に粒子を導入すると良い。   In the case where the particles have conductivity, in the method (1), the particles are attracted to the transfer mold by a magnetic force from the side opposite to the hole forming surface from the viewpoint of easy introduction of the particles into the holes. The particles may be introduced into the holes by scraping the surface of the hole forming surface using a brush, brush, blade, or the like.

使用する粒子は、特に限定されるものではなく、本製造方法にて得られる粒子転写膜の用途等に応じて選択することができる。   The particles to be used are not particularly limited, and can be selected according to the use of the particle transfer film obtained by this production method.

上記粒子としては、具体的には、例えば、各種樹脂粒子の表面に1層または2層以上の導電性層(金、銀、白金属、ニッケル、銅などの各種金属やその合金等による金属めっき層やスパッタ層等)を有する粒子;上記金属やその合金等からなる各種金属粒子;カーボン粒子等の導電性粒子、各種樹脂粒子;シリカ粒子等の絶縁性粒子などを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   Specific examples of the particles include, for example, one or two or more conductive layers on the surface of various resin particles (metal plating with various metals such as gold, silver, white metal, nickel, copper, and alloys thereof) Examples include particles having a layer, a sputtered layer, etc .; various metal particles made of the above metals and alloys thereof; conductive particles such as carbon particles; various resin particles; insulating particles such as silica particles. These may be used alone or in combination.

(粘着体)
粘着体としては、図1に例示したように、基材表面に、非加熱状態で粘着性を示す各種粘着材料より形成された粘着層を有するものを好適に用いることができる。粘着性のない基材表面をロール等で加圧しやすいし、取扱い性にも優れるからである。
(Adhesive)
As the adhesive body, as illustrated in FIG. 1, an adhesive body having an adhesive layer formed of various adhesive materials exhibiting adhesiveness in a non-heated state can be suitably used. This is because the surface of the non-sticky substrate can be easily pressed with a roll or the like, and is easy to handle.

上記基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、合成紙などを例示することができる。   Examples of the substrate include polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), and synthetic paper.

上記粘着材料としては、例えば、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系、ポリエステル樹脂系等の熱硬化性粘着材料、光硬化性粘着材料等を例示することができる。   Examples of the adhesive material include thermosetting adhesive materials such as acrylic resin, epoxy resin, phenol resin, and polyester resin, and photocurable adhesive materials.

上記粘着体の粘着層の厚み(粘着部分の厚み)は、粒子配列を維持したまま、一次転写しやすい等の観点から、好ましくは、粒子の平均粒径以上であると良い。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive body (thickness of the pressure-sensitive adhesive portion) is preferably not less than the average particle diameter of the particles from the viewpoint of easy primary transfer while maintaining the particle arrangement.

上記粘着材料としては、上述した熱硬化性粘着材料が好適である。二次転写時の加熱により粘着体の粘着性が低下し、加熱により軟化した高分子膜に粒子がより転写されやすくなり、二次転写性の向上に寄与しやすくなる等の利点があるからである。   As the adhesive material, the thermosetting adhesive material described above is suitable. This is because the adhesiveness of the adhesive body decreases due to heating during secondary transfer, and the particles are more easily transferred to the polymer film softened by heating, which contributes to the improvement of secondary transferability. is there.

粘着体の粘着力は、ポリエチレンテレフタレートに対する25℃における剥離強度で、その下限が、好ましくは、0.1N/25mm幅以上、より好ましくは、0.2N/25mm幅以上、さらに好ましくは、0.3N/25mm幅以上であると良い。一次転写後における粒子の位置ズレを抑制しやすいからである。   The adhesive strength of the adhesive is the peel strength at 25 ° C. with respect to polyethylene terephthalate, and the lower limit thereof is preferably 0.1 N / 25 mm width or more, more preferably 0.2 N / 25 mm width or more, and still more preferably 0.8. It is good that it is 3N / 25mm width or more. This is because it is easy to suppress the positional deviation of the particles after the primary transfer.

一方、粘着体の粘着力は、ポリエチレンテレフタレートに対する25℃における剥離強度で、その上限が、好ましくは、0.6N/25mm幅以下、より好ましくは、0.5N/25mm幅以下、さらに好ましくは、0.4N/25mm幅以下であると良い。一次転写時における転写型との離型を行いやすいからである。なお、上記剥離強度は、後述の実施例にて説明する測定方法により測定される値である。   On the other hand, the adhesive strength of the adhesive is the peel strength at 25 ° C. with respect to polyethylene terephthalate, and the upper limit thereof is preferably 0.6 N / 25 mm width or less, more preferably 0.5 N / 25 mm width or less, more preferably It is good that it is 0.4 N / 25 mm width or less. This is because it is easy to release from the transfer mold during the primary transfer. In addition, the said peeling strength is a value measured by the measuring method demonstrated in the below-mentioned Example.

<二次転写工程>
本製造方法において、二次転写工程は、粘着体表面の粒子を、高分子膜の表面に加熱・加圧により二次転写する工程である。
<Secondary transfer process>
In this production method, the secondary transfer step is a step of secondarily transferring particles on the surface of the pressure-sensitive adhesive body to the surface of the polymer film by heating and pressing.

図2は、上記二次転写工程の具体例を模式的に示した図である。先ず、図2(a)に示すように、上記一次転写工程を経て形成された、粒子12が一次転写された粘着体14と、高分子膜16とを準備する。なお、ここでは、高分子膜16は、基材16a表面に形成されている。   FIG. 2 is a diagram schematically showing a specific example of the secondary transfer process. First, as shown in FIG. 2A, an adhesive body 14 on which particles 12 are primarily transferred and a polymer film 16 formed through the primary transfer step are prepared. Here, the polymer film 16 is formed on the surface of the base material 16a.

そして、粘着体14の粒子転写面と高分子膜16の表面とを当接させ、この積層体を一対の加熱・加圧ロール18間に供給する。   Then, the particle transfer surface of the pressure-sensitive adhesive body 14 and the surface of the polymer film 16 are brought into contact with each other, and this laminate is supplied between a pair of heating / pressure rolls 18.

ここで、上記加熱温度は、高分子膜を十分に軟化させ、二次転写性を向上させる等の観点から、好ましくは、90〜140℃、より好ましくは、100〜130℃、さらに好ましくは、110〜120℃の範囲内にあると良い。   Here, the heating temperature is preferably 90 to 140 ° C., more preferably 100 to 130 ° C., and still more preferably, from the viewpoint of sufficiently softening the polymer film and improving secondary transferability. It is good to exist in the range of 110-120 degreeC.

また、上記加圧力は、高分子膜を十分に接触させ、二次転写性を向上させる等の観点から、好ましくは、0.1〜5MPa、より好ましくは、1〜5MPa、さらに好ましくは、3〜5MPaの範囲内にあると良い。   In addition, the applied pressure is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 1 to 5 MPa, and still more preferably 3 from the viewpoint of sufficiently bringing the polymer film into contact with each other and improving secondary transferability. It is good to be in a range of ˜5 MPa.

次に、図2(b)に示すように、加熱・加圧ロール18間を通過させた後、粘着体14を引き剥がす。これにより、粘着体14に一次転写されていた粒子12が高分子膜16の表面に二次転写され、図2(c)に示すような粒子転写膜20が得られる。   Next, as shown in FIG. 2 (b), after passing between the heating and pressure rolls 18, the pressure-sensitive adhesive body 14 is peeled off. As a result, the particles 12 that have been primarily transferred to the pressure-sensitive adhesive body 14 are secondarily transferred to the surface of the polymer film 16, and a particle transfer film 20 as shown in FIG. 2C is obtained.

この際、粘着体14と高分子膜16との分離は、上述した二次転写時の加熱による温度が失われる前、つまり、上述した二次転写時に加熱による温度がついた状態で行われることが好ましい。二次転写された粒子が粘着体14側に付着して脱落するのを抑制しやすくなるからである。なお、粘着体14と高分子膜16との分離は、それぞれを巻き取り装置により巻き取ることで行うことができる。   At this time, the separation of the pressure-sensitive adhesive body 14 and the polymer film 16 is performed before the temperature due to the heating at the time of the secondary transfer is lost, that is, in the state where the temperature by the heating at the time of the above-described secondary transfer is on. Is preferred. This is because it is easy to suppress the secondary transferred particles from adhering to the pressure-sensitive adhesive body 14 side and dropping off. The pressure-sensitive adhesive body 14 and the polymer film 16 can be separated by winding each with a winding device.

上記二次転写工程において、高分子膜は、高分子膜を構成する高分子材料を適当な固形分量、粘度となるように調製した塗液を、コーターなどの公知の塗工手段を用いて基材上に塗工し、必要に応じて乾燥させる方法、上記高分子材料を平坦な膜状にプレス成形する方法などにより準備することができる。   In the secondary transfer step, the polymer film is formed by using a coating solution prepared by adjusting the polymer material constituting the polymer film so as to have an appropriate solid content and viscosity using a known coating means such as a coater. It can be prepared by a method of coating on a material and drying as necessary, a method of press-molding the polymer material into a flat film, or the like.

高分子膜を構成する高分子の粘度は、二次転写温度において、好ましくは、2×10Pa・s以下、より好ましくは、1.5×10Pa・s以下、さらにより好ましくは、1×10Pa・s以下であると良い。粒子が二次転写されやすく、二次転写後に冷却された後にも、粒子の位置ズレが生じ難くなるからである。 The viscosity of the polymer constituting the polymer film is preferably 2 × 10 4 Pa · s or less, more preferably 1.5 × 10 4 Pa · s or less, even more preferably at the secondary transfer temperature. It is good that it is 1 × 10 4 Pa · s or less. This is because the particles are easily subjected to secondary transfer, and even when the particles are cooled after the secondary transfer, the positional deviation of the particles hardly occurs.

なお、上記粘度は、応力制御型レオメータ(例えば、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン(株)製、「AR500」などが上市されている。)により測定される値である。   The viscosity is a value measured by a stress control type rheometer (for example, “AR500” manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd. is marketed).

上記高分子膜を構成する材料としては、具体的には、各種の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂やゴムなどを用いることができる。粒子転写膜の用途などに応じて適宜選択することができる。   Specifically, various thermosetting resins, thermoplastic resins, rubbers, and the like can be used as the material constituting the polymer film. It can be appropriately selected depending on the use of the particle transfer film.

より具体的には、例えば、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ビスマレイミドトリアジン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリビニル系樹脂などの熱可塑性樹脂、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ビニル基、アミノ基、エポキシ基などの官能基を1種または2種以上含むゴムやエラストマーなどを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   More specifically, for example, epoxy resins, melamine resins, phenol resins, diallyl phthalate resins, bismaleimide triazine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, phenoxy resins, polyamide resins, polyimides Thermosetting resins such as polyamide resins, polyamide resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyphenylene oxide resins, polyurethane resins, polyacetal resins, polyvinyl acetal resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polyvinyl resins Examples thereof include thermoplastic resins such as, rubbers and elastomers containing one or more functional groups such as hydroxyl group, carboxyl group, vinyl group, amino group, and epoxy group. These may be contained alone or in combination of two or more.

これら材料中には、硬化剤、硬化促進剤、改質剤、酸化防止剤、充填剤などの各種添加剤が、必要に応じて、1種または2種以上添加されていても良い。   In these materials, various additives such as a curing agent, a curing accelerator, a modifier, an antioxidant, and a filler may be added, if necessary, one or more.

上記高分子膜の膜厚は、特に限定されるものではないが、粒子転写膜の用途、粒子の粒径、高分子膜の膜強度、製造性などを考慮して決定することができる。   The film thickness of the polymer film is not particularly limited, but can be determined in consideration of the application of the particle transfer film, the particle diameter of the particle, the film strength of the polymer film, the manufacturability, and the like.

例えば、粒子転写膜を異方性導電膜に利用する場合には、上記高分子膜の膜厚の上限としては、適正な抵抗値が得やすくなる、圧着時の粒子の動きなどの観点から、好ましくは、上記粒子の粒径の3/2倍以下、より好ましくは、上記粒子の粒径の1倍以下、さらに好ましくは、上記粒子の粒径の2/3倍以下などであると良い。   For example, when using a particle transfer film for an anisotropic conductive film, the upper limit of the film thickness of the polymer film is easy to obtain an appropriate resistance value, from the viewpoint of the movement of particles during pressure bonding, etc. Preferably, it is not more than 3/2 times the particle size of the particles, more preferably not more than 1 time the particle size of the particles, and more preferably not more than 2/3 times the particle size of the particles.

一方、上記高分子膜の膜厚の下限としては、粒子の二次転写性、圧着時の粒子の動きなどの観点から、好ましくは、上記粒子の粒径の1/10倍以上、より好ましくは、上記粒子の粒径の1/5倍以上、さらに好ましくは、上記粒子の粒径の1/3倍以上などであると良い。   On the other hand, the lower limit of the film thickness of the polymer film is preferably at least 1/10 times the particle diameter of the particle, more preferably from the viewpoint of secondary transferability of the particle, movement of the particle during pressure bonding, and the like. The particle size is 1/5 times the particle size, more preferably 1/3 times the particle size.

<一次転写工程の繰り返し>
本製造方法は、基本的に上述した一次転写工程、二次転写工程を有している。ここで、上述した一次転写工程は、繰り返し行っても良い。
<Repeating primary transfer process>
This manufacturing method basically has the primary transfer step and the secondary transfer step described above. Here, the primary transfer process described above may be repeated.

図3は、一次転写工程を繰り返し行う場合を模式的に示した図である。図3(a)に示すように、図1にて説明した一次転写を行った後、転写型10の大きさ分だけ、粘着体14を供給・巻き取りして走行させる。そして、一次転写された粒子12と、新たに準備した転写型10の孔部10a内の粒子12との位置を、光学顕微鏡、画像解析装置などで確認し、同ピッチになるように位置合わせを行う。   FIG. 3 is a diagram schematically showing a case where the primary transfer process is repeatedly performed. As shown in FIG. 3A, after the primary transfer described with reference to FIG. 1 is performed, the pressure-sensitive adhesive body 14 is supplied and wound up by the size of the transfer mold 10 to run. Then, the positions of the primary-transferred particles 12 and the newly prepared particles 12 in the hole 10a of the transfer mold 10 are confirmed with an optical microscope, an image analysis device, or the like, and aligned so as to have the same pitch. Do.

そして、上述した図1(b)に示したように、転写型10の粒子保持面と粘着体14の粘着層14b面とを近接または当接させ、粘着体14の基材14a表面上にて加圧ロール16を転がす等して、粘着層14b表面に粒子12を粘着させる。   Then, as shown in FIG. 1B, the particle holding surface of the transfer mold 10 and the adhesive layer 14b surface of the adhesive body 14 are brought close to or in contact with each other on the surface of the base material 14a of the adhesive body 14 The particles 12 are adhered to the surface of the adhesive layer 14b by rolling the pressure roll 16 or the like.

その後、図3(b)に示すように、転写型10と粘着体14とを引き離す。これにより、転写型10の孔部10a内の粒子12が、粘着体14の表面に一次転写される。   Thereafter, as shown in FIG. 3B, the transfer mold 10 and the adhesive body 14 are pulled apart. Thereby, the particles 12 in the hole 10 a of the transfer mold 10 are primarily transferred onto the surface of the adhesive body 14.

このように、一次転写工程を繰り返す場合には、上述の通り粒子の未転写部位が少ないため、繰り返し(バッチ)間における粒子の位置合わせ精度が向上し、粒子ピッチ間のズレが少ない長尺物の粒子転写膜を製造しやすくなる利点がある。   Thus, when the primary transfer process is repeated, the number of untransferred parts of the particles is small as described above, so that the alignment accuracy of the particles between repetitions (batch) is improved, and a long object with little deviation between the particle pitches. There is an advantage that it becomes easy to manufacture the particle transfer film.

2.異方性導電膜
本実施形態に係る異方性導電膜は、上述した粒子転写膜の製造方法により得られた粒子転写膜をその一部として用いている。なお、この場合には、粒子は、基本的に導電性を有している。
2. Anisotropic Conductive Film The anisotropic conductive film according to the present embodiment uses a part of the particle transfer film obtained by the above-described method for manufacturing a particle transfer film. In this case, the particles basically have conductivity.

図4は、本実施形態に係る異方性導電膜の一例を模式的に示した断面図である。図4に示すように、異方性導電膜30は、粒子転写膜20(導電性粒子12、高分子膜16)と、接着層32とを有している。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of the anisotropic conductive film according to the present embodiment. As shown in FIG. 4, the anisotropic conductive film 30 has a particle transfer film 20 (conductive particles 12, polymer film 16) and an adhesive layer 32.

上述した異方性導電膜は、例えば、次のようにして製造することができる。粒子転写膜は、基本的には、高分子膜の一方面に粒子が転写されており、転写された粒子は、膜表面に突出している。   The anisotropic conductive film mentioned above can be manufactured as follows, for example. In the particle transfer film, basically, the particles are transferred to one surface of the polymer film, and the transferred particles protrude from the film surface.

この転写面に接着層を被覆すれば、上記異方性導電膜を製造することができる。   The anisotropic conductive film can be manufactured by covering the transfer surface with an adhesive layer.

また、転写された粒子の脱落などを抑制するなどの観点から、転写した粒子を高分子膜に埋め込んで確実に保持させ、その後、この膜の少なくとも一方面に接着層を形成することによっても、異方性導電膜を製造することができる。   In addition, from the viewpoint of suppressing dropping of transferred particles and the like, the transferred particles are embedded and securely held in a polymer film, and then an adhesive layer is formed on at least one surface of the film, An anisotropic conductive film can be manufactured.

転写した粒子を高分子膜に埋め込んで保持させる方法としては、例えば、(1)粒子を加圧する方法、(2)高分子膜を加熱して軟化させ、粒子の自重により粒子を膜内に埋没させる方法などを例示することができる。これら方法は、互いに組み合わせて行っても良い。   Examples of methods for embedding and retaining the transferred particles in the polymer film include, for example, (1) a method of pressurizing the particles, and (2) softening the polymer film by heating and embedding the particles in the film by its own weight. The method of making it etc. can be illustrated. These methods may be performed in combination with each other.

粒子を確実に膜に保持させやすいなどの観点から、(1)の方法が良い。より好ましくは、(1)の方法において、高分子膜を加熱しながら粒子を加圧すると良い。具体的には、ラミネート手法などを適用することができる。なお、上記加圧は、粒子の上にセパレータなどの介在物を任意に介して行うことができる。   The method (1) is preferable from the viewpoint of easily holding the particles in the film. More preferably, in the method (1), the particles may be pressurized while heating the polymer film. Specifically, a laminating method or the like can be applied. In addition, the said pressurization can be performed through inclusions, such as a separator, on particle | grains arbitrarily.

上記加圧を行う場合、その加圧力は特に限定されることはない。膜強度、型強度、膜厚、粒子の強度などを考慮して選択すれば良い。通常、0.01〜1MPa程度である。   When the pressurization is performed, the applied pressure is not particularly limited. Selection may be made in consideration of film strength, mold strength, film thickness, particle strength, and the like. Usually, it is about 0.01-1 MPa.

上記加熱を行う場合、その加熱温度は特に限定されることはない。加熱温度は、使用する高分子の種類、耐熱性などによっても異なるが、好ましくは、高分子のガラス転移温度+20℃〜+40℃程度の温度を選択すると良い。膜内に粒子を埋め込みやすくなるからである。   When performing the said heating, the heating temperature is not specifically limited. The heating temperature varies depending on the type of polymer to be used, heat resistance, and the like, but it is preferable to select a temperature of the polymer glass transition temperature + 20 ° C. to + 40 ° C. This is because it becomes easier to embed particles in the film.

粒子は、膜内にその全てが埋め込まれていても良いし、膜表面のうち、少なくとも一方面にその一部が露出していても良い。   All of the particles may be embedded in the film, or a part of the particles may be exposed on at least one surface of the film surface.

なお、上記粒子の埋め込み程度は、加圧力、加圧時間、加熱温度、加熱時間などを適宜調節することで可変させることができる。   Note that the degree of embedding of the particles can be varied by appropriately adjusting the pressing force, pressurizing time, heating temperature, heating time, and the like.

一方、上記接着層の形成方法としては、具体的には、例えば、接着層材料を適当な固形分量、粘度となるように調製した塗液を、コーターなどの公知の塗工手段を用いて粒子の保持面に塗工し、必要に応じて乾燥させる方法、上記方法などにより予め作製しておいた膜状の接着層を貼り合わせる方法などを例示することができる。   On the other hand, as the method for forming the adhesive layer, specifically, for example, a coating liquid prepared so that the adhesive layer material has an appropriate solid content and viscosity can be obtained using known coating means such as a coater. Examples thereof include a method of coating on the holding surface and drying as necessary, and a method of attaching a film-like adhesive layer prepared in advance by the above method.

上記接着層を構成する材料としては、具体的には、各種の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂やゴムなどを用いることができる。   Specifically, various thermosetting resins, thermoplastic resins, rubbers, and the like can be used as the material constituting the adhesive layer.

より具体的には、例えば、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ビスマレイミドトリアジン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、シアネート系樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリビニル系樹脂などの熱可塑性樹脂、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ビニル基、アミノ基、エポキシ基などの官能基を1種または2種以上含むゴムやエラストマーなどを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   More specifically, for example, epoxy resins, melamine resins, phenol resins, diallyl phthalate resins, bismaleimide triazine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, phenoxy resins, polyamide resins, polyimides Resins, cyanate resins and other thermosetting resins, polyamide resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyphenylene oxide resins, polyurethane resins, polyacetal resins, polyvinyl acetal resins, polyethylene resins, polypropylene resins Examples thereof include thermoplastic resins such as polyvinyl resins, rubbers and elastomers containing one or more functional groups such as hydroxyl group, carboxyl group, vinyl group, amino group and epoxy group. These may be contained alone or in combination of two or more.

なお、これら材料中には、硬化剤、硬化促進剤、改質剤、酸化防止剤、充填剤などの各種添加剤が、必要に応じて、1種または2種以上添加されていても良い。   In these materials, one or more kinds of additives such as a curing agent, a curing accelerator, a modifier, an antioxidant, and a filler may be added as necessary.

上記接着層を構成する材料としては、好ましくは、被接続物との密着性に優れるなどの観点から、熱硬化性樹脂を主に含んでいると良い。熱硬化性樹脂のうち、好ましくは、エポキシ系樹脂などである。   The material constituting the adhesive layer preferably contains a thermosetting resin mainly from the viewpoint of excellent adhesion to an object to be connected. Of the thermosetting resins, an epoxy resin is preferable.

なお、熱硬化性樹脂を用いる場合、当該熱硬化性樹脂は、半硬化されてプリプレグとされていても良い。   In addition, when using a thermosetting resin, the said thermosetting resin may be semi-hardened and made into the prepreg.

上記接着層の厚みは、接着層と接着する被接続物が有する導体(ICチップのバンプなど)の高さ、被接続物同士(ICチップと配線基板など)の間に生じる隙間量などを考慮して決定することができる。   The thickness of the adhesive layer takes into account the height of the conductor (IC chip bump, etc.) of the connected object to be bonded to the adhesive layer, and the amount of gap generated between the connected objects (IC chip and wiring board, etc.). Can be determined.

上記接着層の厚みの上限は、好ましくは、接着層と接着する被接続物が有する導体の高さの3倍以下、より好ましくは、2倍以下、さらにより好ましくは、1.75倍以下であると良い。   The upper limit of the thickness of the adhesive layer is preferably 3 times or less, more preferably 2 times or less, and even more preferably 1.75 times or less the height of the conductor of the connected object to be bonded to the adhesive layer. Good to have.

上記接着層の厚みの下限は、好ましくは、接着層と接着する被接続物が有する導体の高さの1倍以上、より好ましくは、1.2倍以上、さらにより好ましくは、1.3倍以上であると良い。   The lower limit of the thickness of the adhesive layer is preferably 1 time or more, more preferably 1.2 times or more, and even more preferably 1.3 times the height of the conductor of the connected object to be bonded to the adhesive layer. It is good to be above.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.

1.粒子転写膜
<実施例1>
(転写型の準備)
ドライエッチング法を用いて、シリコン基板表面に、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列した略円柱状の孔部(断面:直径5.5μmの略円形状、深さ:3.5μmの非貫通孔、ピッチ:9μm)を多数形成することにより、Si製の転写型を準備した。なお、孔部形成領域は、100mm×100mmである。
1. Particle Transfer Film <Example 1>
(Preparation of transfer mold)
Using a dry etching method, approximately cylindrical hole portions (cross-section: approximately circular shape with a diameter of 5.5 μm, depth: 3. By forming a large number of non-through holes of 5 μm and a pitch of 9 μm, a Si transfer mold was prepared. The hole forming area is 100 mm × 100 mm.

(転写型の孔部内への粒子保持)
ジビニルベンゼン系架橋樹脂よりなる粒子の表面に、Niめっき層、Auめっき層が順に被覆された、平均粒径4μmの樹脂めっき粒子(積水化学工業(株)、「ミクロパールAU−204」)を、上記転写型の孔部形成面上に散布した。
(Particle retention in the hole of the transfer mold)
Resin plating particles having an average particle diameter of 4 μm (Sekisui Chemical Co., Ltd., “Micropearl AU-204”), in which Ni plating layer and Au plating layer are sequentially coated on the surface of particles made of divinylbenzene-based crosslinked resin. And sprayed on the hole forming surface of the transfer mold.

その後、孔部形成面と反対側に設置した永久磁石((株)西興産業製、フェライト磁石、1000ガウス)にて、樹脂めっき粒子を転写型に引きつけつつ、刷毛にて適当な押圧力をかけながら孔部形成面上を擦り切った。   Then, with a permanent magnet (manufactured by Seiko Sangyo Co., Ltd., ferrite magnet, 1000 gauss) installed on the opposite side of the hole forming surface, an appropriate pressing force is applied with a brush while attracting resin plating particles to the transfer mold. The surface on which the hole was formed was scraped off while being applied.

孔部形成面をマイクロスコープにて観察したところ、実質的に孔部一つにつき樹脂めっき粒子が一つずつ保持されていた。また、孔部内に保持された樹脂めっき粒子は、転写型の孔部形成面よりその頂部が僅かに突出されていた。   When the hole forming surface was observed with a microscope, one resin plating particle was held substantially per hole. The resin plating particles held in the holes slightly protruded from the top of the transfer-type hole forming surface.

以上により、規則的に配列された多数の各孔部内にそれぞれ一つずつ樹脂めっき粒子が保持された転写型を準備した。   As described above, a transfer mold was prepared in which resin plating particles were held one by one in each of a large number of regularly arranged holes.

(粘着テープの準備)
粘着体として、以下の3種類の粘着テープ(1)〜(3)を準備した。
・粘着テープ(1):PET基材の表面に、アクリル系粘着剤層(厚み22μm)が形成された粘着テープ(フジモリ(株)製、「TFB4130」、粘着力=0.59N/25mm幅)。
・粘着テープ(2):PET基材の表面に、アクリル系粘着材料よりなる粘着層(厚み8μm)が形成された粘着テープ(きもと(株)製、「プロセーブMS75」、粘着力=0.19N/25mm幅)。
・粘着テープ(3):PET基材の表面に、アクリル系粘着材料よりなる粘着層(厚み8μm)が形成された粘着テープ(きもと(株)製、「プロセーブMS75」、粘着力=0.07N/25mm幅)。
(Preparation of adhesive tape)
The following three types of adhesive tapes (1) to (3) were prepared as adhesive bodies.
Adhesive tape (1): Adhesive tape with an acrylic adhesive layer (thickness 22 μm) formed on the surface of a PET substrate (manufactured by Fujimori Co., Ltd., “TFB4130”, adhesive strength = 0.59 N / 25 mm width) .
Adhesive tape (2): Adhesive tape with an adhesive layer (thickness 8 μm) made of an acrylic adhesive material formed on the surface of a PET substrate (manufactured by Kimoto Co., Ltd., “Pro Save MS75”, adhesive strength = 0.19N) / 25 mm width).
Adhesive tape (3): Adhesive tape with an adhesive layer (thickness 8 μm) made of an acrylic adhesive material formed on the surface of a PET substrate (manufactured by Kimoto Co., Ltd., “Pro Save MS75”, adhesive strength = 0.07 N) / 25 mm width).

なお、上記準備した粘着テープの粘着力は、次のようにして求めた値である。すなわち、各粘着テープから25mm幅の試験片を採取し、採取した試験片を、ゴムロール(荷重2kg)にてPETフィルム(東レ(株)製、「ルミラー」)の表面処理がなされていない面に貼り合わせた。次いで、これを23℃、相対湿度50%の環境下に30分放置した後、剥離角度180°、引張速度300mm/分の条件でPETフィルムを剥離し、剥離強度(N/25mm)を求めた。3回測定した剥離強度の平均値を各粘着テープの粘着力とした。   In addition, the adhesive force of the prepared adhesive tape is the value calculated | required as follows. That is, a 25 mm wide test piece was collected from each adhesive tape, and the collected test piece was applied to a surface on which a PET film (“Lumirror” manufactured by Toray Industries, Inc.) was not surface-treated with a rubber roll (load 2 kg). Pasted together. Next, this was left for 30 minutes in an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity, and then the PET film was peeled off under the conditions of a peel angle of 180 ° and a tensile speed of 300 mm / min, and the peel strength (N / 25 mm) was determined. . The average value of the peel strength measured three times was defined as the adhesive strength of each adhesive tape.

(高分子膜の準備)
接着性を有する高分子膜を以下の手順により準備した。すなわち、アルコール可溶ポリアミド系樹脂23.39質量部と、フェノキシ系樹脂(東都化成(株)製、「EFR−0010M30」)25.16質量部と、エポキシ系樹脂(東都化成(株)製、「FX289EK75」)4.9質量部と、エポキシ系樹脂(東都化成(株)製、「FX305EK70」)2.67質量部と、メラミン系樹脂(三和ケミカル(株)製、「ニカラックMX−750」)1.37質量部と、硬化剤(四国化成(株)製、「C11Z」)0.38質量部と、硬化剤(三菱ガス化学(株)製、「F−TMA」)0.57質量部と、メタノール24.26質量部と、トルエン48.05質量部と、メチルセロソルブ69.2質量部とを混合し、高分子溶液を調製した。
(Preparation of polymer film)
A polymer film having adhesiveness was prepared by the following procedure. That is, 23.39 parts by mass of an alcohol-soluble polyamide resin, 25.16 parts by mass of a phenoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., “EFR-0010M30”), and an epoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) 4.9 parts by mass of “FX289EK75”), 2.67 parts by mass of epoxy resin (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., “FX305EK70”), and melamine resin (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., “Nikarak MX-750”). 1.37 parts by mass, curing agent (Shikoku Kasei Co., Ltd., “C11Z”) 0.38 parts by mass and curing agent (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., “F-TMA”) 0.57 Mass parts, 24.26 parts by mass of methanol, 48.05 parts by mass of toluene, and 69.2 parts by mass of methyl cellosolve were mixed to prepare a polymer solution.

次いで、コンマコーターを用い、連続的に供給されるベース基材(ポリエチレンテレフタレート、厚み38μm、リンテック(株)製「PET38X」)の離型面に、上記高分子溶液を塗工した。   Next, using a comma coater, the polymer solution was applied to the release surface of a continuously supplied base substrate (polyethylene terephthalate, thickness 38 μm, “PET38X” manufactured by Lintec Corporation).

次いで、この塗工層を160℃で90秒間乾燥させ、ポリアミド系樹脂とフェノキシ系樹脂とを主成分とする樹脂よりなる平坦な高分子膜を形成した。その後、この高分子膜の表面に、セパレータ(ポリエチレンテレフタレート、厚み75μm、リンテック(株)製、「PET75C」)の離型面を合わせて巻き取った。   Next, this coating layer was dried at 160 ° C. for 90 seconds to form a flat polymer film made of a resin mainly composed of a polyamide resin and a phenoxy resin. Thereafter, the release surface of a separator (polyethylene terephthalate, thickness 75 μm, manufactured by Lintec Corporation, “PET75C”) was put on the surface of the polymer film and wound up.

これにより、ベース基材とセパレータとの間に挟持された、ポリアミド系樹脂とフェノキシ系樹脂とを主成分とする高分子膜(厚み1.5μm、幅100mm、20m)を準備した。なお、高分子膜を形成する樹脂材料の110℃における粘度は、1.0×10Pa・sであった。 In this way, a polymer film (thickness 1.5 μm, width 100 mm, 20 m) composed mainly of a polyamide-based resin and a phenoxy-based resin sandwiched between the base substrate and the separator was prepared. In addition, the viscosity at 110 ° C. of the resin material forming the polymer film was 1.0 × 10 4 Pa · s.

(粒子転写膜の作製)
先ず、粒子保持面を上向きにした状態で、転写型を基台上に載置・固定した。
(Preparation of particle transfer film)
First, the transfer mold was placed and fixed on the base with the particle holding surface facing upward.

次いで、上記転写型の上方に、一対の支持ロール間に所定の張力で張った粘着テープ(1)を、粘着層が転写型と対向するように配置した。なお、粘着テープ(1)は、一方の供給源から連続的に供給され、他方の巻き取り源に連続的に巻き取り可能に設定されている。   Next, an adhesive tape (1) stretched with a predetermined tension between a pair of support rolls was placed above the transfer mold so that the adhesive layer faced the transfer mold. The adhesive tape (1) is set so as to be continuously supplied from one supply source and to be continuously wound around the other winding source.

次いで、両支持ロールを下降させ、転写型の粒子保持面に粘着テープ(1)の粘着層を当接させ、粘着テープ(1)の基材表面に、室温下(非加熱下)、0.01〜1MPaの加圧力でゴムロールを押しつけ、当該ロールを0.5m/minで移動させることにより、室温加圧を行った。   Next, both support rolls are lowered, the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape (1) is brought into contact with the transfer-type particle holding surface, and the substrate surface of the pressure-sensitive adhesive tape (1) is brought to room temperature (under non-heating). A rubber roll was pressed with a pressure of 01 to 1 MPa, and the roll was moved at 0.5 m / min to perform room temperature pressurization.

次いで、両支持ロールを上昇させ、転写型から粘着テープ(1)を引き離した。これにより、転写型の孔部内に保持されていた樹脂めっき粒子を、粘着テープ(1)の粘着層表面に一次転写させた。図5に一次転写後のSEM写真を示す。図5から分かるように、転写型の孔部の規則性を維持したまま、粘着テープ(1)の粘着層表面に樹脂めっき粒子を一次転写できていることが分かる。また、一次転写された樹脂めっき粒子は、その底部で粘着層表面に貼り付いており、その表面の大部分は露出された状態になっていることが分かる。   Subsequently, both support rolls were raised and the adhesive tape (1) was pulled away from the transfer mold. As a result, the resin plating particles held in the hole of the transfer mold were primarily transferred onto the surface of the adhesive layer of the adhesive tape (1). FIG. 5 shows an SEM photograph after the primary transfer. As can be seen from FIG. 5, it can be seen that the resin plating particles can be primarily transferred onto the surface of the adhesive layer of the adhesive tape (1) while maintaining the regularity of the hole portion of the transfer mold. Moreover, it turns out that the resin plating particle | grains by which primary transfer was carried out are affixed on the adhesion layer surface at the bottom part, and most of the surfaces are in the exposed state.

次に、粘着テープ(1)の樹脂めっき粒子の転写面と、セパレータを剥離した高分子膜表面とを重ね合わせ、これを、加熱加圧ロールにより、温度110℃、加圧力5MPa、ロール速度0.2m/分の条件で、熱ラミネートした。次いで、上記熱ラミネート後、直ちに高分子膜から粘着テープ(1)を引き剥がした。   Next, the transfer surface of the resin plating particles of the pressure-sensitive adhesive tape (1) and the polymer film surface from which the separator was peeled were overlapped, and this was heated by a heat and pressure roll at a temperature of 110 ° C., a pressure of 5 MPa, and a roll speed of 0. Thermal lamination was performed under the condition of 2 m / min. Next, the adhesive tape (1) was peeled off from the polymer film immediately after the thermal lamination.

これにより、粘着テープ(1)の粘着層表面に一次転写されていた樹脂めっき粒子を、高分子膜表面に二次転写し、実施例1に係る粒子転写膜を作製した。   As a result, the resin plating particles that were primarily transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape (1) were secondarily transferred to the surface of the polymer film to produce a particle transfer film according to Example 1.

<実施例2>
実施例1に係る粒子転写膜の作製において、一次転写後に、転写型の大きさ分だけ、粘着テープ(1)を走行させた。
<Example 2>
In the production of the particle transfer film according to Example 1, the adhesive tape (1) was run by the size of the transfer mold after the primary transfer.

次いで、樹脂めっき粒子が保持されている新たな転写型を基台上に載置・固定した。この際、粘着テープ(1)に一次転写されている樹脂めっき粒子と、新たな転写型に保持されている樹脂めっき粒子との位置を光学顕微鏡で確認し、同ピッチになるように位置合わせを行った。   Next, a new transfer mold holding the resin plating particles was placed and fixed on the base. At this time, confirm the positions of the resin plating particles primarily transferred to the adhesive tape (1) and the resin plating particles held in the new transfer mold with an optical microscope, and align them so that they have the same pitch. went.

次いで、両支持ロールを下降させ、転写型の粒子保持面に粘着テープ(1)の粘着層を当接させ、それ以降、一次転写工程を繰り返し行った。そして、一次転写面にセパレータ(ポリエチレンテレフタレート、厚み50μm、リンテック(株)製、「PET5011」)の離型面を合わせながら、3インチコア管に巻き取った。これにより、粘着層表面に樹脂めっき粒子が転写された長尺物の粘着テープ(1)(長さ20m)を得た。   Next, both support rolls were lowered, the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape (1) was brought into contact with the transfer type particle holding surface, and thereafter, the primary transfer process was repeated. Then, the separator (polyethylene terephthalate, thickness 50 μm, manufactured by Lintec Co., Ltd., “PET5011”) was aligned with the primary transfer surface and wound around a 3-inch core tube. This obtained the long adhesive tape (1) (length 20m) by which the resin plating particle was transcribe | transferred on the adhesion layer surface.

以降は、この長尺物の粘着テープ(1)をセパレータを剥離しつつ巻き出し、実施例1と同様の熱ラミネートを行い(二次転写工程)、これにより、実施例2に係る長尺物の粒子転写膜(長さ20m)を作製した。   Thereafter, the long adhesive tape (1) is unwound while the separator is peeled off, and thermal lamination is performed in the same manner as in Example 1 (secondary transfer process), whereby the long object according to Example 2 is obtained. Particle transfer film (length 20 m) was prepared.

<実施例3>
実施例1に係る粒子転写膜の作製において、粘着テープ(1)に代えて粘着テープ(2)を用いた以外は同様にして、実施例2に係る粒子転写膜を作製した。
<Example 3>
A particle transfer film according to Example 2 was prepared in the same manner as in the preparation of the particle transfer film according to Example 1, except that the adhesive tape (2) was used instead of the adhesive tape (1).

<実施例4>
実施例2に係る長尺物の粒子転写膜の作製において、粘着テープ(1)に代えて粘着テープ(2)を用いた以外は同様にして、実施例4に係る長尺物の粒子転写膜を作製した。
<Example 4>
In the production of the long particle transfer film according to Example 2, the long particle transfer film according to Example 4 is the same except that the adhesive tape (2) is used instead of the adhesive tape (1). Was made.

<実施例5>
実施例1に係る粒子転写膜の作製において、粘着テープ(1)に代えて粘着テープ(3)を用いた以外は同様にして、実施例5に係る粒子転写膜を作製した。
<Example 5>
A particle transfer film according to Example 5 was prepared in the same manner as in the preparation of the particle transfer film according to Example 1, except that the adhesive tape (3) was used instead of the adhesive tape (1).

<実施例6>
実施例2に係る長尺物の粒子転写膜の作製において、粘着テープ(1)に代えて粘着テープ(3)を用いた以外は同様にして、実施例6に係る長尺物の粒子転写膜を作製した。
<Example 6>
In the production of the long particle transfer film according to Example 2, the long particle transfer film according to Example 6 is the same except that the adhesive tape (3) is used instead of the adhesive tape (1). Was made.

<比較例1>
先ず、粒子保持面を上向きにした状態で、転写型を、基台上に載置・固定した。
<Comparative Example 1>
First, the transfer mold was placed and fixed on the base with the particle holding surface facing upward.

次いで、転写型の上方に、一対の支持ロール間に所定の張力で張った高分子膜を、高分子膜表面が転写型と対向するように配置した。   Next, a polymer film stretched with a predetermined tension between a pair of support rolls was placed above the transfer mold so that the surface of the polymer film faces the transfer mold.

次いで、両支持ロールを下降させ、転写型の粒子保持面に、セパレータを剥離した高分子膜表面を当接させ、高分子膜のベース基材表面に、温度130℃、0.01〜1MPaの加圧力でゴムロールを押しつけ、当該ロールを0.5m/minで移動させることにより、加熱加圧を行った。   Next, both support rolls are moved down, the surface of the polymer film from which the separator is peeled off is brought into contact with the transfer type particle holding surface, and the temperature of the base material of the polymer film is 130 ° C. and 0.01 to 1 MPa. The rubber roll was pressed with pressure, and the roll was moved at 0.5 m / min to perform heating and pressurization.

上記操作により、転写型の表面に高分子膜が貼り付いた状態になるので、高分子膜に空気を吹き付け、25℃まで冷却した。   As a result of the above operation, the polymer film was attached to the surface of the transfer mold, so air was blown onto the polymer film and cooled to 25 ° C.

次いで、両支持ロールを上昇させ、転写型から高分子膜を引き離し、転写型の孔部内に保持されていた樹脂めっき粒子を直接、高分子膜表面に転写させた。   Next, both supporting rolls were raised, the polymer film was pulled away from the transfer mold, and the resin plating particles held in the holes of the transfer mold were directly transferred to the surface of the polymer film.

これにより、高分子膜表面に樹脂めっき粒子が転写された、比較例1に係る粒子転写膜を作製した。   As a result, a particle transfer film according to Comparative Example 1 in which the resin plating particles were transferred to the polymer film surface was produced.

<比較例2>
比較例1に係る粒子転写膜の作製において、転写後に、転写型の大きさ分だけ、高分子膜を走行させた。
<Comparative example 2>
In the production of the particle transfer film according to Comparative Example 1, the polymer film was caused to travel by the size of the transfer mold after the transfer.

次いで、樹脂めっき粒子が保持されている新たな転写型を基台上に載置・固定した。この際、高分子膜に転写されている樹脂めっき粒子と、新たな転写型に保持されている樹脂めっき粒子との位置を光学顕微鏡で確認し、同ピッチになるように位置合わせを行った。   Next, a new transfer mold holding the resin plating particles was placed and fixed on the base. At this time, the positions of the resin plating particles transferred to the polymer film and the resin plating particles held in the new transfer mold were confirmed with an optical microscope and aligned so as to have the same pitch.

次いで、両支持ロールを下降させ、転写型の粒子保持面に高分子膜表面を当接させ、それ以降、同じ操作を繰り返し行った。これにより、比較例2に係る長尺物の粒子転写膜(長さ20m)を作製した。   Next, both support rolls were lowered, the surface of the polymer film was brought into contact with the transfer type particle holding surface, and thereafter the same operation was repeated. Thereby, a long particle transfer film (length 20 m) according to Comparative Example 2 was produced.

2.評価
(転写性評価)
一次転写前後における転写型上の粒子残存状態をマイクロスコープにて観察した。そして、転写型からの転写率を次の計算より求めた。
転写率(%)=100−(一次転写後に転写型上に残存している粒子数)/(転 写型表面の孔部数)×100
また、二次転写後における粘着テープ上の粒子残存状態をマイクロスコープにて観察した。
2. Evaluation (transferability evaluation)
The state of particles remaining on the transfer mold before and after the primary transfer was observed with a microscope. The transfer rate from the transfer mold was determined by the following calculation.
Transfer rate (%) = 100− (number of particles remaining on the transfer mold after primary transfer) / (number of holes on the transfer mold surface) × 100
Further, the residual state of the particles on the adhesive tape after the secondary transfer was observed with a microscope.

(一次転写後の巻き取りによる粒子位置ズレ)
繰り返し一次転写を行い、長尺の一次転写粒子付き粘着テープ、高分子膜を作製した実施例、比較例については、当該粘着テープ、高分子膜を巻き出し、巻き取りに起因する粒子の位置ズレをマイクロスコープにて観察した。その結果、粒子の配列がほとんど維持され、巻き取りによる粒子位置ズレが生じていなかった場合を、位置ズレ抑制効果が極めて高いとして「◎」、粒子位置ズレがわずかに生じた場合を、位置ズレ抑制効果があるとして「○」、粒子が全て位置ズレした場合を、位置ズレ抑制効果がないとして「×」と評価した。
(Particle position deviation due to winding after primary transfer)
For Examples and Comparative Examples in which primary transfer was repeatedly performed to produce a long adhesive tape with a primary transfer particle and a polymer film, the adhesive tape and the polymer film were unwound, and the particle misalignment caused by winding Was observed with a microscope. As a result, when the particle alignment is almost maintained and the particle position deviation due to winding is not generated, the effect of suppressing the position deviation is extremely high. When there was a suppression effect, it was evaluated as “◯”, and when all the particles were misaligned, it was evaluated as “x” because there was no misalignment suppression effect.

以上の結果を、各条件とともにまとめて表1に示す。   The above results are shown together with each condition in Table 1.

3.結果
表1を相対比較すると以下のことが分かる。すなわち、比較例1、2では、転写型の孔部内に保持された粒子を、直接、高分子膜に転写している。そのため、高分子膜を軟化させるために加熱が必要になる上、加熱しても、転写率が低く、転写型からの転写性が悪いことが分かる。つまり、得られた粒子転写膜を用いて、例えば、異方性導電膜を作製した場合には、未転写部位に起因して導通性能の低下を招きやすくなることが分かる。
3. Results The following can be understood from the relative comparison of Table 1. That is, in Comparative Examples 1 and 2, the particles held in the transfer-type hole are directly transferred to the polymer film. For this reason, heating is necessary to soften the polymer film, and even when heated, the transfer rate is low and the transferability from the transfer mold is poor. That is, it can be seen that, for example, when an anisotropic conductive film is produced using the obtained particle transfer film, the conduction performance is likely to decrease due to the untransferred portion.

これに対し、実施例では、何れも転写型の孔部内に保持された粒子を粘着テープに一次転写し、この一次転写された粒子を高分子膜に二次転写している。そのため、加熱を行わなくても、転写型から高い転写率で、かつ、粒子配列を維持したまま、粒子を粘着テープに一次転写可能なことが分かる。また、粘着テープに一次転写された粒子は、その底部で粘着テープに貼り付いており、その表面の大部分が露出されている。それ故、加熱により軟化した高分子膜とより多くの粒子表面で接触し、良好な転写性で高分子膜側に二次転写可能なことが分かる。したがって、得られた粒子転写膜を用いて、例えば、異方性導電膜を作製した場合には、従来よりも未転写部位が少ないため、これに起因する導通性能の低下を招き難いことが分かる。   On the other hand, in each of the examples, the particles held in the transfer-type holes are primarily transferred to the adhesive tape, and the primary-transferred particles are secondarily transferred to the polymer film. Therefore, it can be seen that the particles can be primarily transferred to the adhesive tape from the transfer mold at a high transfer rate and while maintaining the particle arrangement without heating. Moreover, the particle | grains primarily transferred by the adhesive tape are affixed on the adhesive tape in the bottom part, and most of the surfaces are exposed. Therefore, it can be seen that the polymer film softened by heating is brought into contact with the surface of more particles, and secondary transfer to the polymer film side is possible with good transferability. Therefore, for example, when an anisotropic conductive film is produced using the obtained particle transfer film, it can be seen that the number of untransferred parts is smaller than in the prior art, and it is difficult to cause a decrease in conduction performance due to this. .

また、実施例同士を比較すると、粘着テープの粘着力が0.1N/25mm幅以上であれば、長尺の粒子転写膜を製造するにあたり、一次転写粒子付き粘着テープを長尺化し、これを巻き取りしても巻き取りによる粒子の位置ズレが生じ難いと言える。そのため、巻き取りによる粒子位置ズレの影響を回避して、粒子配列の良好な長尺な粒子転写膜を製造しやすくなることが分かる。また、粘着テープの粘着力が0.6N/25mm幅以下であれば、一次転写時に転写型との離型も良好にできることが分かる。   In addition, when the examples are compared, if the adhesive force of the adhesive tape is 0.1 N / 25 mm width or more, the adhesive tape with primary transfer particles is lengthened in producing a long particle transfer film. Even if it winds, it can be said that the position shift of the particle | grains by winding is hard to produce. Therefore, it can be seen that it is easy to manufacture a long particle transfer film having a good particle arrangement by avoiding the influence of the particle position deviation due to winding. It can also be seen that if the adhesive strength of the adhesive tape is 0.6 N / 25 mm width or less, the release from the transfer mold can be performed well during primary transfer.

4.異方性導電膜の作製
次に、得られた実施例に係る各粒子転写膜を用い、実施例に係る各異方性導電膜を以下の手順により作製した。
4). Production of Anisotropic Conductive Film Next, each anisotropic conductive film according to the example was produced by the following procedure using each particle transfer film according to the obtained example.

先ず、粒子転写膜表面にセパレータ(ポリエチレンテレフタレート、厚み38μm、リンテック(株)製「PET38C」)を重ね、これを、温度140℃、加圧力0.1MPa、加熱加圧時間60秒の条件で、熱ラミネートした。   First, a separator (polyethylene terephthalate, thickness 38 μm, “PET38C” manufactured by Lintec Co., Ltd.) is stacked on the surface of the particle transfer film, and this is performed under the conditions of a temperature of 140 ° C., a pressure of 0.1 MPa, and a heating and pressing time of 60 seconds. Heat laminated.

これにより、高分子膜表面に転写された樹脂めっき粒子を、その規則的な配列を維持したまま膜内に埋め込んだ。   As a result, the resin plating particles transferred to the surface of the polymer film were embedded in the film while maintaining the regular arrangement.

次に、ジシクロペンタジエン型エポキシ系樹脂(大日本インキ(株)製、「エピクロンHP7200HH」)90質量部と、ニトリルゴム(NBR)(日本ゼオン(株)製、「ニポール1072J」)10質量部と、硬化剤(旭化成ケミカルズ(株)製、「ノバキュアHXA3932HP」)187質量部とを、固形分量が42%となるようにトルエンにて希釈し、接着剤溶液を調製した。   Next, 90 parts by mass of a dicyclopentadiene type epoxy resin (Dainippon Ink Co., Ltd., “Epiclon HP7200HH”) and nitrile rubber (NBR) (Nippon Zeon Co., Ltd., “Nipol 1072J”) 10 parts by mass Then, 187 parts by mass of a curing agent (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, “Novacure HXA3932HP”) was diluted with toluene so that the solid content was 42% to prepare an adhesive solution.

次いで、コンマコーターを用い、連続的に供給されるベース基材(ポリエチレンテレフタレート、厚み38μm、リンテック(株)製「PET38C」)の離型面に、上記接着剤溶液を塗工した。   Next, the above adhesive solution was applied to the release surface of a continuously supplied base substrate (polyethylene terephthalate, thickness 38 μm, “PET38C” manufactured by Lintec Corporation) using a comma coater.

次いで、この塗工層を110℃で90秒間乾燥させ、接着層(厚み20μm)を形成した。その後、この接着層の表面に、セパレータ(ポリエチレンテレフタレート、厚み38μm、リンテック(株)製、「PET38B」)の離型面を合わせて巻き取った。   Subsequently, this coating layer was dried at 110 ° C. for 90 seconds to form an adhesive layer (thickness 20 μm). Then, the release surface of the separator (polyethylene terephthalate, thickness 38 μm, manufactured by Lintec Corporation, “PET38B”) was put on the surface of the adhesive layer and wound up.

これにより、ベース基材とセパレータとの間に挟持された接着層を用意した。   Thus, an adhesive layer sandwiched between the base substrate and the separator was prepared.

次に、上記セパレータを剥離して露出させた接着層の表面と、上記粒子転写膜の表面(転写面側)とを重ね合わせ、これを貼り合わせた。   Next, the surface of the adhesive layer exposed by peeling off the separator and the surface (transfer surface side) of the particle transfer film were superposed and bonded together.

以上により、粒子転写膜の片面に接着層を形成した。   Thus, an adhesive layer was formed on one side of the particle transfer film.

上記の通りにして、粒子転写膜と接着層の2層構造からなる各異方性導電膜を作製した。   As described above, each anisotropic conductive film having a two-layer structure of a particle transfer film and an adhesive layer was produced.

以上、本発明の一実施形態、一実施例について説明したが、本発明は上記実施形態、実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。   Although one embodiment and one example of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiment and example, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. is there.

本実施形態に係る粒子転写膜の製造方法における一次転写工程の具体例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the specific example of the primary transfer process in the manufacturing method of the particle transfer film concerning this embodiment. 本実施形態に係る粒子転写膜の製造方法における二次転写工程の具体例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the specific example of the secondary transfer process in the manufacturing method of the particle transfer film concerning this embodiment. 本実施形態に係る粒子転写膜の製造方法において、一次転写工程を繰り返し行う場合を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the case where a primary transfer process is repeatedly performed in the manufacturing method of the particle transfer film concerning this embodiment. 本実施形態に係る異方性導電膜の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically an example of the anisotropic electrically conductive film which concerns on this embodiment. 実施例1における一次転写後のSEM写真を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing an SEM photograph after primary transfer in Example 1.

符号の説明Explanation of symbols

10 転写型
10a 孔部
12 粒子
14 粘着体
14a 基材
14b 粘着層
15 加圧ロール
16 高分子膜
16a 基材
18 加熱・加圧ロール
20 粒子転写膜
30 異方性導電膜
32 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transfer mold | type 10a Hole part 12 Particle | grain 14 Adhesive body 14a Base material 14b Adhesive layer 15 Pressure roll 16 Polymer film 16a Base material 18 Heating / Pressure roll 20 Particle transfer film 30 Anisotropic conductive film 32 Adhesive layer

Claims (10)

多数の孔部を表面に有する転写型の孔部内に保持された粒子を、粘着体の表面に一次転写する一次転写工程と、
前記粘着体表面の粒子を、高分子膜の表面に加熱・加圧により二次転写する二次転写工程と、
を有することを特徴とする粒子転写膜の製造方法。
A primary transfer step for primary transfer of particles held in a transfer-type hole having a large number of holes on the surface thereof to the surface of the adhesive;
A secondary transfer step in which the particles on the surface of the adhesive body are secondarily transferred to the surface of the polymer film by heating and pressing; and
A method for producing a particle transfer film, comprising:
前記粘着体が熱硬化性粘着材料より形成されていることを特徴とする請求項1に記載の粒子転写膜の製造方法。   The method for producing a particle transfer film according to claim 1, wherein the adhesive body is formed of a thermosetting adhesive material. 前記二次転写工程において、前記加熱による温度が失われる前に、前記粘着体と前記高分子膜とを分離することを特徴とする請求項1または2に記載の粒子転写膜の製造方法。   The method for producing a particle transfer film according to claim 1 or 2, wherein, in the secondary transfer step, the pressure-sensitive adhesive body and the polymer film are separated before the temperature due to the heating is lost. 前記粘着体の粘着力は、ポリエチレンテレフタレートに対する25℃における剥離強度で0.1〜0.6N/25mm幅の範囲内にあることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載の粒子転写膜の製造方法。   The particle transfer according to any one of claims 1 to 3, wherein the adhesive strength of the adhesive is within a range of 0.1 to 0.6 N / 25 mm width as a peel strength at 25 ° C with respect to polyethylene terephthalate. A method for producing a membrane. 前記高分子膜は、二次転写温度において2×10Pa・s以下の粘度を有する材料より形成されていることを特徴とする請求項1から4の何れかに記載の粒子転写膜の製造方法。 5. The particle transfer film according to claim 1, wherein the polymer film is formed of a material having a viscosity of 2 × 10 4 Pa · s or less at a secondary transfer temperature. Method. 前記一次転写工程を繰り返すことを特徴とする請求項1から5の何れかに記載の粒子転写膜の製造方法。   6. The method for producing a particle transfer film according to claim 1, wherein the primary transfer step is repeated. 前記粒子は、導電性粒子であることを特徴とする請求項1から6の何れかに記載の粒子転写膜の製造方法。   The method for producing a particle transfer film according to claim 1, wherein the particles are conductive particles. 請求項1から7の何れかに記載の粒子転写膜の製造方法により得られた粒子転写膜。   A particle transfer film obtained by the method for producing a particle transfer film according to claim 1. 請求項7に記載の粒子転写膜の製造方法により得られた粒子転写膜を用いた異方性導電膜。   An anisotropic conductive film using a particle transfer film obtained by the method for producing a particle transfer film according to claim 7. 請求項7に記載の粒子転写膜の製造方法により得られた粒子転写膜を用い、前記導電性粒子を高分子膜に埋め込んで保持させる工程と、
前記導電性粒子を保持させた高分子膜の片面に接着層を形成する工程と、
を有する異方性導電膜の製造方法。
Using the particle transfer film obtained by the method for producing a particle transfer film according to claim 7, embedding and holding the conductive particles in a polymer film;
Forming an adhesive layer on one side of the polymer film holding the conductive particles;
The manufacturing method of the anisotropic electrically conductive film which has this.
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