JP2010021244A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. その内部で被処理基板にプラズマ処理を行う処理容器と、
   前記処理容器内に配置され、その上に前記被処理基板を保持する保持台と、
   プラズマ励起用のマイクロ波を発生させるマイクロ波発生器と、
   前記保持台と対向する位置に設けられ、マイクロ波を前記処理容器内に導入する誘電体板と、
   前記保持台に保持された前記被処理基板の中央領域に向かってプラズマ処理用の反応ガスを供給する反応ガス供給部とを備えるプラズマ処理装置であって、
   前記反応ガス供給部は、プラズマ処理用の反応ガスを前記処理容器内に供給する供給孔が前記処理容器内に露出される壁面に設けられたインジェクターベースを含み、
   前記誘電体板には、板厚方向に貫通し、前記インジェクターベースを収容するベース収容部が設けられており、
   前記インジェクターベースのうち、前記ベース収容部の壁面と対向する壁面には、前記ベース収容部の壁面と密着して前記処理容器を密封するシールが設けられており、
   前記処理容器内に露出される壁面と、前記シールが設けられた壁面との間には、段差を有する、プラズマ処理装置。
2. 前記誘電体板の下面から前記処理容器内に露出される壁面までの距離は、前記誘電体板の下面から前記シールが設けられた壁面までの距離と異なる、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. 前記誘電体板の下面から前記処理容器内に露出される壁面までの距離は、前記誘電体板の下面から前記シールが設けられた壁面までの距離よりも長い、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
4. 前記段差を構成する前記インジェクターベースの壁面は、前記処理容器内に露出される壁面および前記シールが設けられた壁面の少なくとも一方に直交する方向に延びる面を含む、請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
5. 前記シールが設けられた前記インジェクターベースの壁面には、前記シールを受け入れるようその表面から凹んだ凹部が設けられている、請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
6. 前記段差は、複数設けられている、請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
7. 前記シールは、Ｏリングを含む、請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
8. 前記インジェクターベースの材質は、アルマイト処理を施したアルミニウムまたはＹ _２ Ｏ _３ （イットリア）コートアルミニウムである、請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマ処理装置。