JP2010021243A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ処理装置11は、その内部で被処理基板Wにプラズマ処理を行う処理容器12と、処理容器12内に配置され、その上に被処理基板Wを保持する保持台14と、保持台14と対向する位置に設けられ、マイクロ波を処理容器12内に導入する誘電体板16と、保持台14に保持された被処理基板Wの中央領域に向かってプラズマ処理用の反応ガスを供給する反応ガス供給部13とを備える。ここで、反応ガス供給部13は、保持台14と対向する対向面となる誘電体板16の下面63よりも誘電体板16の内方側の後退した位置に配置されるインジェクターベース61を含む。インジェクターベース61には、プラズマ処理用の反応ガスを処理容器12内に供給する供給孔66が設けられている。
【選択図】図1
Description
Claims (6)
- その内部で被処理基板にプラズマ処理を行う処理容器と、
前記処理容器内に配置され、その上に前記被処理基板を保持する保持台と、
プラズマ励起用のマイクロ波を発生させるマイクロ波発生器と、
前記保持台と対向する位置に設けられ、マイクロ波を前記処理容器内に導入する誘電体板と、
前記保持台に保持された前記被処理基板の中央領域に向かってプラズマ処理用の反応ガスを供給する反応ガス供給部とを備えるプラズマ処理装置であって、
前記反応ガス供給部は、前記保持台と対向する前記誘電体板の壁面よりも前記誘電体板の内方側の後退した位置に配置されるインジェクターベースを含み、
前記インジェクターベースには、プラズマ処理用の反応ガスを前記処理容器内に供給する供給孔が設けられている、プラズマ処理装置。 - 前記インジェクターベースのうち、前記供給孔は、前記保持台に対向する壁面に設けられている、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記保持台に対向する壁面は、平らである、請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記インジェクターベースは、前記保持台と対向する前記誘電体板の壁面に達しない範囲で、前記保持台に対向する壁面から前記保持台側に延びる突出部を含む、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記突出部の先端部には、前記供給孔が設けられている、請求項4に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体板は、円板状であり、
前記インジェクターベースには、前記供給孔が前記誘電体板の径方向中央に位置するように設けられている、請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
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