JP2010017645A - 塗布膜の乾燥方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】塗布膜の乾燥方法において、溶剤が樋表面に結露し、この結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで塗布膜の欠陥が生じるのを防ぐことができる塗布膜の乾燥方法を提供する。
【解決手段】表面に塗布膜が塗布された可撓性フィルム12を走行させながら、可撓性フィルム12の塗布膜中の溶媒を可撓性フィルム12の裏面側からヒータ19によって加熱気化し、可撓性フィルム12の表面側で、可撓性フィルム12と所定距離だけ離れた位置に配置された冷却板20によって気化した溶媒を凝集し、凝集した溶媒を所定温度に維持された樋21で回収する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、塗布膜の乾燥方法に係り、特に、走行する可撓性フィルムに各種液状組成物を塗布して形成した長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する塗布膜の乾燥方法に関する。
走行する可撓性フィルムに各種液状組成物を塗布して形成した長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する乾燥方法については、非塗布面側をローラで支持し、塗布面側にエア・ノズルから風を吹いて乾燥させる乾燥方法や、塗布面、非塗布面ともにエア・ノズルから風を吹いて、支持体を浮上させた状態、すなわち支持体がローラ等に接触しないで乾燥させる非接触式のエア・フローティング乾燥方法がある。
通常これらの風を吹かせて乾燥させる方法( 以下、通風乾燥方法という) では、調湿した風を塗布面に吹きつけることにより、塗布面中に含まれる溶媒を蒸発させて乾燥させている。この通風乾燥方法は乾燥効率に優れるものの、塗布面に直接又は多孔板、整流板等を介して風をあてるために、この風によって塗布面が乱れて塗布層の厚さが不均一となってムラを生じたり、対流によって塗布面での溶媒の蒸発速度が不均一になったりし、いわゆるユズ肌が発生して、均一な塗布層が得られないという問題があった。
特に、塗布液中に有機溶剤を含む場合には、このようなムラの発生は顕著である。この理由は、乾燥初期には塗布膜中に有機溶剤が十分に含まれた状態であり、この段階で有機溶剤の蒸発分布が生じると、その結果、塗布膜面に温度分布、表面張力分布を生じ、塗布膜面内で、いわゆるマランゴニー対流等の流動が起きることによる。このようなムラの発生は重大な塗布欠陥となる。
塗布膜内に液晶を含む場合には、上記の乾燥ムラのみならず、吹きつける風によって塗布膜面の液晶の配向にズレが生じる等の問題もあった。
そこで、特許文献1には、風を吹かないで、塗布液中の溶媒を蒸発させ回収し乾燥させる方法が開示されている。この方法は、乾燥装置内で非塗布面を加熱して塗布面からの溶媒の蒸発を促進し、塗布面側に設置した凝縮板に結露させる方法で溶媒を凝縮させて溶媒を樋で回収し塗布膜を乾燥する方法である。
特開2003−170101号公報
しかしながら、特許文献1にある樋を配した塗布膜の乾燥方法では、乾燥能力アップに伴い、樋付近の溶剤ガスの濃度が上昇し、塗布膜中の溶剤が樋表面に結露してしまうということがあった。そして、この結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで、塗布膜の欠陥となってしまうという問題が生じた。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、走行する可撓性フィルムに塗布液を塗布した塗布膜中の溶媒を加熱し気化するヒータと、可撓性フィルムの塗布膜側に可撓性フィルムと所定距離をおいて略平行に配設された冷却板と、冷却板に冷やされて該冷却板に凝縮した溶媒を回収するための樋と、からなる乾燥装置を用いて塗布膜を乾燥する塗布膜の乾燥方法において、溶剤が樋表面に結露し、この結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで塗布膜の欠陥が生じるのを防ぐことができる塗布膜の乾燥方法を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は、表面に塗布膜が塗布された可撓性フィルムを走行させながら、前記可撓性フィルムの塗布膜中の溶媒を該可撓性フィルムの裏面側からヒータによって加熱気化し、前記可撓性フィルムの表面側で、該可撓性フィルムと所定距離だけ離れた位置に配置された冷却板によって気化した溶媒を凝集し、前記凝集した溶媒を所定温度に維持された樋で回収する工程を含むことを特徴とする。
本発明によれば、表面に塗布膜が塗布された可撓性フィルムを走行させながら、前記可撓性フィルムの塗布膜中の溶媒を該可撓性フィルムの裏面側からヒータによって加熱気化し、前記可撓性フィルムの表面側で、該可撓性フィルムと所定距離だけ離れた位置に配置された冷却板によって気化した溶媒を凝集し、前記凝集した溶媒を所定温度に維持された樋で回収する工程を含むことにより、樋の表面に結露が生じてしまうことで塗布膜に溶剤の滴が付着し塗布膜の欠陥となってしまうのを防ぐことができる。ここで所定温度は、塗布液に含まれる溶剤の種類やヒータと冷却板の温度によるが、20〜50℃の範囲である。
更に、本発明に係る乾燥方法は、前記可撓性フィルムを地面に対して垂直に走行させることを特徴とする。
そして、可撓性フィルムが地面に対して垂直の方向に走行するように設けられている場合には、樋の前記可撓性フィルムに面する部分に、凝縮した溶媒が前記塗布膜に飛び跳ねることを防止するための樋カバーが設けられていることが好ましい。
また、樋の前記可撓性フィルムに面する部分に、樋カバーが設けられている場合には、樋カバーは樋と一体であることが好ましい。樋カバーを樋と一体化することで、樋だけでなく樋カバーも所定温度に維持することができるので、結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで塗布膜の欠陥が生じるのを防ぐことができる。
本発明によれば、溶剤が樋表面に結露し、この結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで塗布膜の欠陥が生じるのを防ぐことができる塗布膜の乾燥方法を提供することができる。
以下添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施の形態により説明されるが、本発明の範囲を逸脱すること無く、多くの手法により変更を行うことができ、本実施の形態以外の他の実施の形態を利用することができる。従って、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。また、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を含む範囲を意味する。
図1は、本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置を組み込んだ塗布・乾燥ライン10の例を示す概念図である。
図示されるように、塗布・乾燥ライン10は、主として、ロール状に巻回された可撓性フィルム12を送り出す送り出し装置(図示略)、可撓性フィルム12に塗布液を塗布する塗布手段16、可撓性フィルム12に塗布形成された塗布膜の塗布液中の溶媒を凝縮、回収させる乾燥装置18、及び塗布・乾燥により製造された製品を巻き取る巻き取り装置(図示略)と、可撓性フィルム12が走行する搬送経路を形成する多数のガイドローラ15、15とで形成される。また、必要に応じて乾燥装置18の下流に、塗布膜を乾燥させる通風乾燥手段(不図示)が設けられる。
可撓性フィルム12としては、ポリエチレン、PET(ポリエチレンテレフタレート)、TAC(トリアセテート)等の樹脂フィルム、紙、金属箔等を使用できる。
塗布手段16は、各種方式のものが使用できる。たとえば、スロット・ダイコータ、ワイヤーバーコータ、ロールコータ、グラビアコータ、スライドホッパ塗布方式、カーテン塗布方式、等が使用できる。なお、塗布手段16は、図1に示されるように塗布面が水平方向に対して下側になるような構成であってもよいし、水平方向に対して上側になるような構成であってもよい。また、水平方向に対して傾斜するような構成であってもよい。
図2に示されているように、塗布手段16の前段に除塵設備70を設置したり、可撓性フィルム12の表面に前処理等を施してもよい。ゴミ等の殆どない高い品質が求められる光学性フィルム等では、これらを同時に採用することで、高品質な塗布、乾燥膜を得ることができる。
なお、図2は、本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置18を組み込んだ光学補償シートの製造装置の概略構成を示す模式図である。
光学補償シートの製造ラインは、たとえば下記の工程により行われる。
1)可撓性フィルム12の送出工程14;
2)可撓性フィルムの表面に配向膜形成用樹脂を含む塗布液を塗布、乾燥する配向膜形成用樹脂層の形成工程52;
3)表面に配向膜形成用樹層が形成された可撓性フィルム上に、樹脂層の表面にラビング処理を施し可撓性フィルム上に配向膜を形成するラビング工程54;
4)液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を、配向膜上に塗布する液晶性ディスコティック化合物の塗布工程16;
5)該塗布膜を乾燥して該塗布膜中の溶媒を蒸発させる乾燥工程18;
6)該塗布膜をディスコティックネマティック相形成温度に加熱して、ディスコティックネマティック相の液晶層を形成する液晶層形成工程58;
7)該液晶層を固化する(すなわち、液晶層形成後急冷して固化させるか、又は、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物を使用した場合、液晶層を光照射(又は加熱)により架橋させる)工程60;
8)該配向膜及び液晶層が形成された可撓性フィルムを巻き取る巻取り工程24。
また、50は乾燥ゾーンを、64は検査装置を、66は保護フィルムを、68はラミネート機をそれぞれ示す。
図1に示すように、乾燥装置18は、走行する可撓性フィルム12に塗布液を塗布した塗布膜中の溶媒を加熱し気化するヒータ19と、可撓性フィルムの塗布膜側に可撓性フィルムと所定距離をおいて略平行に配設された冷却板20と、冷却板20に冷やされて冷却板に凝縮した溶媒を回収するための樋21とで構成される。これにより、塗布膜の塗布液中の溶媒が揮発した際に、揮発した溶媒が冷却板20に凝縮し樋21で回収される構成となっている。
なお、塗布液の溶媒は、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類、クロルベンゼン、オルトージクロルベンゼン等の塩化芳香族炭化水素類、モノクロルメタン等のメタン誘導体、モノクロルエタン等のエタン誘導体等を含む塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチルエーテル、1,4-ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、脂肪族又は芳香族炭化水素の混合物等が該当する。
冷却板20の溶媒を凝縮させる面に用いる材質は、金属、プラスチック、木材等、特に限定はされないが、塗布液中に有機溶剤が含まれる場合には、その有機溶剤に対して耐性のある材料を使用するか、又は表面にコーティングを施すことが望ましい。
乾燥装置18において、冷却板20に凝縮した溶媒を回収させる手段は、たとえば、冷却板20の凝縮面に溝を設け、毛管力を利用して溶媒を回収させる。溝の方向は、可撓性フィルム12の走行方向であってもよく、これに直交する方向であってもよい。
乾燥装置18は、塗布液を塗布した直後の自然対流の発生による塗布膜の乾燥ムラを防止するため、塗布手段16のできるだけ近くに配設することが好ましい。具体的には、乾燥装置18の入口が塗布手段16から5m以内の位置になるように配設することが好ましく、乾燥装置18の入口が塗布手段16から2m以内の位置になるように配設することがより好ましく、乾燥装置18の入口が塗布手段16から0.7m以内の位置になるように配設することが最も好ましい。
同様の理由で、可撓性フィルム12の走行速度は、可撓性フィルム12が塗布手段16による塗布後30秒以内に乾燥装置18に到達する速度であることが好ましく、可撓性フィルム12が塗布手段16による塗布後20秒以内に乾燥装置18に到達する速度であることがより好ましい。
塗布液の塗布量及び塗布膜厚さは、大きい程塗布膜内部での流動が起きやすいことによりムラが発生しやすいが、塗布膜の厚さが0.001〜0.08mmであれば、ムラなくかつ効率よく乾燥することができる。
可撓性フィルム12の走行速度が大きすぎると、同伴風によって塗布膜近傍の境界層が乱され、塗布膜に悪影響を及ぼす。したがって、可撓性フィルム12の走行速度は1〜100m/分に設定することが好ましく、5〜80m/分に設定することがより好ましい。
本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置18は、可撓性フィルム12を加熱し塗布膜中の溶媒を気化するために、反塗布膜側にヒータ19を配設して加熱する。ヒータとしては、図1に示したような板状のものではなく、昇温可能な加熱ロールを配設して加熱することもできる。その他、赤外線ヒータ、マイクロ波加熱手段等を用いて加熱してもよい。
そして、塗布液中から気化した溶媒の凝縮を促進させるため、可撓性フィルム12の塗布膜側に冷却板20を配設して冷却する。
ヒータ19と冷却板20とは温度管理されていることが望ましい。特に冷却板20は、温度コントロールできるようにし、冷却したい場合には、冷却するための設備を設置する必要がある。冷却には、冷媒等を使った水冷式の熱交換器方式のもの、風を使った空冷式、電気を用いた方式、たとえばペルチェ素子を使用した方式、等を用いることができる。
ここで、ヒータ19の温度は、70〜130℃に維持されていることが好ましく、冷却板20の温度は、8〜10℃に維持されていることが好ましい。
図1に示されているように、冷却板20の下方には凝縮した溶媒を回収するための樋21が設けられており、樋21を経て溶媒が回収される。このように樋21が設けられていれば、凝縮した溶媒の回収が容易に行える。即ち、可撓性フィルム12と冷却板20との間に樋21の表面があることで、凝縮した溶媒の回収を容易に行うことができる。
樋21を設ける位置は、冷却板20の下側に設けられる。このように、樋21は、溶媒の流下により回収できる位置に設けていることが好ましい。尚、図示したように、本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置18は、可撓性フィルム12が地面に対して垂直に走行するように、垂直方向に設置されていることで本発明の効果が大きい。
しかしながら、このように構成された乾燥装置では、乾燥能力アップに伴い、樋21付近の溶剤ガスの濃度が上昇し、塗布膜中の溶剤が樋表面に結露してしまうということがあった。そして、この結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで、塗布膜の欠陥となってしまうという問題が生じた。
そこで、本発明は、表面に塗布膜が塗布された可撓性フィルム12を走行させながら、可撓性フィルム12の塗布膜中の溶媒を可撓性フィルム12の裏面側からヒータ19によって加熱気化し、可撓性フィルム12の表面側で、可撓性フィルム12と所定距離だけ離れた位置に配置された冷却板20によって気化した溶媒を凝集し、凝集した溶媒を所定温度に維持された樋21で回収する工程を含むこととした。
本発明によれば、表面に塗布膜が塗布された可撓性フィルムを走行させながら、可撓性フィルムの塗布膜中の溶媒を可撓性フィルムの裏面側からヒータによって加熱気化し、可撓性フィルムの表面側で、可撓性フィルムと所定距離だけ離れた位置に配置された冷却板によって気化した溶媒を凝集し、凝集した溶媒を所定温度に維持された樋で回収する工程を含むことにより、気化した溶剤が結露となって樋表面に付着することを防ぐことができる。従って、樋表面に結露が生じてしまうことで塗布膜に溶剤の滴が付着し塗布膜の欠陥となってしまうのを防ぐことができる。ここで所定温度は、塗布液(塗布膜)に含まれる溶剤の種類やヒータと冷却板の温度によるが、20〜50℃である。
尚、樋の所定温度は、厳密には、可撓性フィルム12と冷却板20との間にある樋21部分の表面温度を指す。また、後述するように、樋21に樋カバー21aが設けられている場合には、その樋カバーの表面温度を指す。
図3は、乾燥装置18の樋21付近を拡大して示したものである。樋21には、保温水22が循環されており、所定温度を維持できるようになっている。また、樋21は、固定部材23で冷却板20に固定されている。このように樋21を冷却板20などに固定することが必要であるが、樋21を所定温度に維持するためには、断熱材でできた固定部材を用いたり、固定部材23と樋21との間に断熱材を介したりすることが好ましい。
また、図1や図2に示したように可撓性フィルム12が地面に対して略垂直の方向に走行するように設けられている場合には、図3に示すように、樋が可撓性フィルムに面する部分に、冷却板20に凝縮した溶媒17が可撓性フィルム12の塗布膜に飛び跳ねることを防止するための樋カバー21aが設けられていることが好ましい。
そして、樋の可撓性フィルムに面する部分に、冷却板20に凝縮した溶媒が塗布膜に飛び跳ねることを防止するための樋カバー21aが設けられている場合には、図3に示すように樋カバー21aは樋21と一体であることが好ましい。樋カバーを樋と一体化することで、樋だけでなく樋カバーも所定温度に維持することができるので、樋カバーに溶剤が結露することを防ぎ、結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで塗布膜の欠陥が生じるのを防ぐことができる。
塗布膜の表面と乾燥装置18の樋21の表面との距離(間隔)は、所望の塗布膜の乾燥速度を考慮した上で、適当な距離に調整する必要がある。距離を短くすると乾燥速度が上がる一方、設定した距離精度の影響を受けやすい。一方、距離を大きくすると乾燥速度が大幅に低下するのみならず、熱による自然対流が起きて乾燥ムラを引き起こす。塗布膜の表面と乾燥装置18の樋21の表面との距離は、1〜200mmが好ましく、1.5〜100mmがより好ましい。
なお、必要に応じて使用される通風乾燥手段としては、従来技術として使用されている、非塗布面側をロールで支持し、塗布面側にエア・ノズルから風を吹いて乾燥させるローラ搬送ドライヤ方式、塗布面、非塗布面ともにエア・ノズルから風を吹いて、支持体を浮上させた状態、すなわち支持体がロール等に接触しないで乾燥させる非接触式のエアフローティングドライヤ方式、非接触式の乾燥方式の一種で、スペースを効率良く利用し、かつ効率良く乾燥させる弦巻き型の乾燥方式、等の乾燥装置が使用できる。いずれの方式の通風乾燥手段であっても、乾燥した空気を塗布膜の表面に供給して塗布膜を乾燥させる点では共通する。
その他、本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置を組み込んだ塗布・乾燥ライン10に使用されている送り出し装置、ガイドローラ15、巻き取り装置等には慣用の部材を使用しており、それらの説明は省略する。
以上に詳述した本発明の塗布膜の乾燥方法によれば、走行する可撓性フィルムに塗布液を塗布した塗布膜中の溶媒を加熱し気化するヒータと、可撓性フィルムの塗布膜側に可撓性フィルムと所定距離をおいて略平行に配設された冷却板と、冷却板に冷やされて該冷却板に凝縮した溶媒を回収するための樋と、からなる乾燥装置を用いて塗布膜を乾燥する塗布膜の乾燥方法において、溶剤が樋表面に結露し、この結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで塗布膜の欠陥が生じるのを防ぐことができる塗布膜の乾燥方法を提供することができる。
また、本発明の塗布膜の乾燥方法は、塗布液に高分子や粒子等の固形分が溶解又は分散されたものに適用した場合でも、同様の効果が得られる。むしろ、粒子等が含まれる系では、乾燥ムラの発生が塗布膜中の粒子の分散分布にも大きく影響する。したがって、この系に本システムを使用することは好ましい。
なお、乾燥装置18の冷却板20の形状は、図1及び図3に示された形状である必要はなく、例えば、図4に示すように、冷却板20に折り曲げ部20aを設けた形状であっても良い。このように、冷却板20に折り曲げ部20aを設けることで、冷却板20に結露した溶剤の滴が樋21へと好適に誘導される。
図2の本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置18を組み込んだ光学補償シートの製造装置で実験を行った。
光学補償シートの製造方法は、長尺状可撓性フィルムを送り出す工程から、得られた光学補償シートを巻き取る工程まで一貫して連続的に行なった。トリアセチルセルロース(フジタック、富士フイルム(株)製、厚さ:100μm、幅:500mm)の長尺状の可撓性フィルムの一方の側に、長鎖アルキル変成ポバール(MP−203、クラレ(株)製、なおポバールは登録商標)5重量%溶液を塗布し、90℃で4分間乾燥させて膜厚2.0μmの配向膜形成用樹脂層を形成した。フィルムの搬送速度は、50m/分であった。
上記トリアセチルセルロースフイルムは、フィルム面内の直交する二方向の屈折率をnx、ny、厚さ方向の屈折率をnz、そしてフィルムの厚さをdとしたとき、
(nx−ny)×d=16nm、{(nx−ny)/2−nz}×d=75nmであった。また、上記配向膜形成用樹脂層の形成の際に、図3の乾燥装置18を備えた塗布・乾燥ラインを用いて行なった。
続いて、得られた配向膜形成用樹脂層を有するフィルムを、連続して50m/分で搬送しながら、樹脂層表面にラビング処理を施して配向膜を形成した。ラビング処理は、ラビングローラの回転数を300rpmにて行い、次いで得られた配向膜の除塵を行った。
次いで、得られた配向膜を有するフィルムを、連続して50m/分の速度で搬送しながら、配向膜上に、塗布速度が50m/分、塗布量が6.5cc/mとなるようにスロットダイから液晶層用の塗布液を塗布して液晶層(塗布膜)を形成し、次いで乾燥装置18および熱風乾燥装置を通過させた。熱風乾燥装置は130℃に調整した。塗布後3秒後に乾燥装置18に入り、3秒後に熱風乾燥装置に入った。熱風乾燥装置は約3分で通過した。
使用した液晶層用の塗布液は、下記に示すディスコティック化合物TE−(1)とTE−(2)の重量比率4:1の混合物に、光重合開始剤(商品名;イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)を1質量%添加した混合物を、40重量%メチルエチルケトンに溶解して調製した。
Figure 2010017645
また、液晶層の湿潤膜厚tは6.5μmであり、ウエブ12とスロットダイ18先端との間隔Dは65μmであった。なお、t/Dの値は0.1であった。
続いて、この配向膜および液晶層が塗布されたフィルムを、連続して50m/分で搬送しながら、液晶層の表面に紫外線ランプにより紫外線を照射した。すなわち、上記加熱ゾーンを通過したフィルムは、紫外線照射装置(紫外線ランプ:出力160W/cm、発光長1.6m)により、照度600mWの紫外線を4秒間照射し、液晶層を架橋させた。
ここで、図1の塗布膜の乾燥装置18において、樋21を保温する効果について実験を行った。ヒータ19の温度は120℃、冷却板20の温度は10℃とした。
実施例1〜10においては樋21の保温を行い、比較例1では樋21の保温は行わなかった。樋21の保温を行ったものは、樋表面が下記の表1に示す温度になるよう設定した。尚、比較例1では樋表面の温度を示している。
また、実施例6以外においては、樋21に樋カバー21aを設けた。樋カバー21aは、実施例1〜5、9、比較例1においては樋と一体型のもの、実施例7、8、10においては樋と分離しているものを用いた。そして、樋カバー21aを設けたものについては、樋カバー表面の温度を計測し、表1に記載した。
このときの樋21(樋カバー21a)への溶剤の結露の状態、塗布膜の面状、乾燥装置周辺の臭気について評価を行い、その結果を表1に記載した。そして、この評価結果から◎〜×の4段階で総合評価を行い表1に記載した。
Figure 2010017645
以上の結果から、樋21を保温したものは総合評価が良いことが分かる。また、樋には樋カバーを設けたほうが良く、一体型のものほうが好ましいことが分かる。さらに、樋に樋カバーを設けていないものにおいては樋表面の温度、樋に樋カバーを設けたものにおいては樋カバー表面の温度が20〜50℃の範囲となるように、樋を保温することが好ましいことが分かる。
本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置を組み込んだ塗布・乾燥ラインの一例を示した図 光学補償シートの製造ラインを示した図 本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置の樋付近を拡大した図 本発明の塗布膜の乾燥方法が適用される乾燥装置の他の実施態様を示した図
符号の説明
10…塗布・乾燥ライン、12…可撓性フィルム、14…送り出し装置(送出工程)、15…ガイドローラ、16…塗布手段(塗布工程)、17…溶剤(滴)、18…乾燥装置(乾燥工程)、19…ヒータ、20…冷却板、20a…折り曲げ部、21…樋、21a…樋カバー、22…保温水、23…固定部材、24…巻き取り装置(巻取り工程)

Claims (5)

  1. 表面に塗布膜が塗布された可撓性フィルムを走行させながら、
    前記可撓性フィルムの塗布膜中の溶媒を該可撓性フィルムの裏面側からヒータによって加熱気化し、
    前記可撓性フィルムの表面側で、該可撓性フィルムと所定距離だけ離れた位置に配置された冷却板によって気化した溶媒を凝集し、
    前記凝集した溶媒を所定温度に維持された樋で回収する工程を含むことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
  2. 前記所定温度が20〜50℃であることを特徴とする請求項1に記載の塗布膜の乾燥方法。
  3. 前記可撓性フィルムを地面に対して垂直に走行させることを特徴とする請求項1又は2に記載の塗布膜の乾燥方法。
  4. 前記樋の前記可撓性フィルムに面する部分には、樋カバーが設けられていることを特徴とする請求項3に記載の塗布膜の乾燥方法。
  5. 前記樋カバーは樋と一体であることを特徴とする請求項4に記載の塗布膜の乾燥方法。
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