JP2010016352A - 面発光型半導体レーザー、面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板の表面上に、下部反射鏡と、活性層と、選択酸化層と、上部反射鏡と、活性層と選択酸化層と上部反射鏡においてメサ構造が形成されており、上部電極と下部電極の間に電流を流すことにより、半導体基板面に対し垂直にレーザー光を発する面発光型半導体レーザーにおいて、半導体基板は、(100)面を傾斜させた面を表面とするものであって、活性層は、基板に対し圧縮歪みを有する量子井戸層と、スペーサ層により構成されており、スペーサ層は、InPに、Al、Ga、Asのうち1又は2以上の材料を加えた材料により構成されるものであって、半導体基板に対し圧縮歪みを有することを特徴とする面発光型半導体レーザーを提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】 図3
Description
(ea×ta+eb×tb)/(ta+tb)>0・・・・・・・・(1)
であることを特徴とする。
本発明に係る第1の実施の形態は、面発光型半導体レーザー(VCSEL)の構造に関するものであり、電流狭窄構造を有するものである。
第2の実施の形態は、偏光制御層を有する構成の面発光型半導体レーザーである。本実施の形態における面発光型半導体レーザーの構成を図2及び図4に基づき説明する。
(ea×ta+eb×tb)/(ta+tb)>0・・・・・・・・(1)
となるものである。尚、E=(ea×ta+eb×tb)/(ta+tb)とし、後述する際には、単にEとのみ表記する。
第3の実施の形態は、本実施の形態における面発光型半導体レーザーをアレイ化した、面発光型レーザーアレイ素子である。
第4の実施の形態は、第3の実施の形態における面発光型レーザーアレイ素子を用いた光走査装置である。図8に基づき光走査装置100について説明する。
第5の実施の形態は、第4の実施の形態における光走査装置を有する画像形成装置である。
次に、本実施の形態における別の構成として、図10に基づきカラー画像を形成するための画像形成装置について説明する。
本実施例における面発光型半導体レーザーは、発光波長が780〔nm〕のものである。本実施例について、図2、図11に基づき説明する。尚、図11は、本実施例における活性層31のバンド構造を示す図である。
本実施例における面発光型半導体レーザーは、発光波長が780〔nm〕のものである。本実施例について、図2及び図13に基づき説明する。尚、図13は、本実施例における活性層31のバンド構造を示す図である。
本実施例における面発光型半導体レーザーは、発光波長が780〔nm〕のものである。本実施例について、図2及び図14に基づき説明する。尚、図14は、本実施例における活性層31のバンド構造を示す図である。
12 下部反射鏡
13 下部スペーサ層
14 多重量子井戸層
15 上部スペーサ層
16 選択酸化層
17 上部反射鏡
18 コンタクト層
19 保護膜
20 上部電極
21 下部電極
31 活性層
32 酸化領域
33 電流狭窄領域
41 偏光制御層
Claims (10)
- 半導体基板の表面上に、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することにより形成される下部反射鏡と、
前記下部反射鏡上において、半導体材料により構成される活性層と、
前記活性層上において、半導体材料の一部の領域を酸化することにより電流狭窄構造が形成される選択酸化層と、
前記選択酸化層上において、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することにより形成される上部反射鏡と、
前記半導体基板上における少なくとも前記活性層と前記選択酸化層と前記上部反射鏡においてメサ構造が形成されており、
前記半導体基板には下部電極が、前記上部反射鏡には上部電極が接続され、前記上部電極と前記下部電極の間に電流を流すことにより、前記半導体基板面に対し垂直にレーザー光を発する面発光型半導体レーザーにおいて、
前記半導体基板は、(100)面を傾斜させた面を表面とするものであって、
前記活性層は、基板に対し圧縮歪みを有する量子井戸層と、スペーサ層により構成されており、
前記スペーサ層は、InPに、Al、Ga、Asのうち1又は2以上の材料を加えた材料により構成されるものであって、前記半導体基板に対し圧縮歪みを有することを特徴とする面発光型半導体レーザー。 - 前記半導体基板は、(010)面、(001)面を傾斜させた面を表面とするものであることを特徴とする請求項1に記載の面発光型半導体レーザー。
- 前記半導体基板における傾斜させた面は、(111)面方向に傾斜させた面であることを特徴とする請求項1または2に記載の面発光型半導体レーザー。
- 前記半導体基板の傾斜角は20〔°〕以下であることを特徴とする請求項3に記載の面発光型半導体レーザー。
- 前記量子井戸層は、単一の量子井戸層、又は、複数の量子井戸層と障壁層から構成される多重量子井戸層であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の面発光型半導体レーザー。
- 前記スペーサ層内部には、偏光制御層を有しており、
前記偏光制御層は、スペーサ層における格子歪みea、スペーサ層の膜厚を積算した膜厚ta、偏光制御層における格子歪みeb、偏光制御層の膜厚を積算した膜厚tbとした場合に、
(ea×ta+eb×tb)/(ta+tb)>0・・・・・・・・(1)
であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の面発光型半導体レーザー。 - 前記偏光制御層は、InPに、Al、Ga、Asのうち1又は2以上の材料を加えた材料により構成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の面発光型半導体レーザー。
- 請求項1から7のいずれかに記載の面発光型半導体レーザーが、同一半導体基板上に複数配列されていることを特徴とする面発光型レーザーアレイ素子。
- 光束によって被走査面上を走査する光走査装置であって、
請求項8に記載の面発光型レーザーアレイ素子を有する光源ユニットと、
前記光源ユニットからの光束を偏向する偏向手段と、
前記偏光手段により偏向された光束を被走査面上に集光する走査光学系と、
を備えたことを特徴とする光走査装置。 - 少なくとも一つの像担持体と、
前記少なくとも一つの像担持体に対して、画像情報が含まれる光束を走査する少なくとも一つの請求項9に記載の光走査装置と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009098364A JP2010016352A (ja) | 2008-06-03 | 2009-04-14 | 面発光型半導体レーザー、面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
EP09251433.0A EP2131458B1 (en) | 2008-06-03 | 2009-05-29 | Vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), VCSEL array device, optical scanning apparatus, and image forming apparatus |
KR1020090048131A KR101079005B1 (ko) | 2008-06-03 | 2009-06-01 | 수직 공진형 표면 발광 레이저(vcsel), vcsel 어레이 소자, 광 주사 장치, 및 화상 형성 장치 |
TW98118217A TWI403050B (zh) | 2008-06-03 | 2009-06-02 | 垂直共振腔面射型雷射(vcsel),vcsel陣列裝置,光學掃描設備及影像形成設備 |
CN200910141334XA CN101599616B (zh) | 2008-06-03 | 2009-06-02 | 垂直腔表面发射激光器、装置、光学扫描设备和成像设备 |
US12/476,689 US7991033B2 (en) | 2008-06-03 | 2009-06-02 | Vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), VCSEL array device, optical scanning apparatus, and image forming apparatus |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008146000 | 2008-06-03 | ||
JP2009098364A JP2010016352A (ja) | 2008-06-03 | 2009-04-14 | 面発光型半導体レーザー、面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010016352A true JP2010016352A (ja) | 2010-01-21 |
Family
ID=41420926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009098364A Pending JP2010016352A (ja) | 2008-06-03 | 2009-04-14 | 面発光型半導体レーザー、面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010016352A (ja) |
CN (1) | CN101599616B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105244761B (zh) * | 2015-10-27 | 2018-05-25 | 中国科学院半导体研究所 | 量子级联激光器相干阵列结构、激光器及其制造方法 |
CN109950793A (zh) * | 2019-05-10 | 2019-06-28 | 苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司 | 基于mems微镜扫描的vcsel点阵光源系统 |
CN109980502A (zh) * | 2019-05-10 | 2019-07-05 | 苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司 | 基于mems微镜扫描的vcsel单发光点光源系统 |
US11721954B2 (en) * | 2019-07-19 | 2023-08-08 | Visual Photonics Epitaxy Co., Ltd. | Vertical cavity surface emitting laser diode (VCSEL) having AlGaAsP layer with compressive strain |
CN112415526A (zh) * | 2019-08-21 | 2021-02-26 | Oppo广东移动通信有限公司 | 一种光发射元件及其制作方法、摄像头模块和终端 |
CN110299669B (zh) * | 2019-08-26 | 2019-12-17 | 常州纵慧芯光半导体科技有限公司 | 具有特殊金属连接层的垂直腔面发射激光器及制备方法 |
CN117374728A (zh) * | 2023-12-05 | 2024-01-09 | 上海三菲半导体有限公司 | 一种分布反馈型半导体激光二极管及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002217492A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Fujitsu Ltd | 面発光半導体レーザ装置及びその製造方法 |
JP2005340779A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-12-08 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザおよびその製造方法および面発光レーザアレイおよび画像形成装置および光ピックアップシステムおよび光送信モジュールおよび光送受信モジュールおよび光通信システム |
JP2008543098A (ja) * | 2005-06-08 | 2008-11-27 | ファイアカムズ・リミテッド | 表面放射光学デバイス |
-
2009
- 2009-04-14 JP JP2009098364A patent/JP2010016352A/ja active Pending
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002217492A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Fujitsu Ltd | 面発光半導体レーザ装置及びその製造方法 |
JP2005340779A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-12-08 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザおよびその製造方法および面発光レーザアレイおよび画像形成装置および光ピックアップシステムおよび光送信モジュールおよび光送受信モジュールおよび光通信システム |
JP2008543098A (ja) * | 2005-06-08 | 2008-11-27 | ファイアカムズ・リミテッド | 表面放射光学デバイス |
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN101599616A (zh) | 2009-12-09 |
CN101599616B (zh) | 2011-01-05 |
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