JP2010010233A - 反平行結合膜構造体、トンネル磁気抵抗素子および磁気デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】強磁性体の一方は、CoFeB合金またはCoFe合金であり、他方はTa/Ru下地層上に成長した面心立方構造のCoFe合金またはNiFe合金であり、非磁性体がRuである。
【選択図】図1
Description
Claims (8)
- 第1の強磁性体と、第2の強磁性体と、前記第1の強磁性体と前記第2の強磁性体との間に挟まれて存在する極薄非磁性金属体とを具え、前記第1の強磁性体の磁化と前記第2の強磁性体の磁化とが反平行になる交換結合力を有する反平行結合膜構造体において、前記第1の強磁性体および前記第2の強磁性体の一方はCoFeB合金またはCoFe合金からなり、他方は面心立方構造を有するCoFe合金またはNiFe合金からなることを、特徴とする反平行結合膜構造体。
- 前記面心立方構造を有するCoFe合金またはNiFe合金は、所定の下地層を介して形成されていることを特徴とする、請求項1記載の反平行結合膜構造体。
- 前記下地層は、Ta/Ruの積層膜から成ることを特徴とする、請求項2記載の反平行結合膜構造体。
- 前記極薄非磁性金属体は、Ruから成ることを特徴とする、請求項1、2または3記載の反平行結合膜構造体。
- 前記極薄非磁性金属体の膜厚が0.8nm程度であることを、特徴とする請求項4記載の反平行結合膜構造体。
- 熱処理プロセスを経ていることを、特徴とする請求項1、2、3、4または5記載の反平行結合膜構造体。
- 強磁性金属磁化固定層/絶縁体/強磁性金属磁化自由層からなり磁化固定層の磁化と磁化自由層の磁化との相対角度により抵抗が変化するトンネル磁気抵抗素子において、請求項1、2、3、4、5または6記載の反平行結合膜構造体を前記磁化自由層あるいは前記磁化固定層の少なくとも一方に用いたことを、特徴とするトンネル磁気抵抗素子。
- 請求項7に記載のトンネル磁気抵抗素子を用いたことを、特徴とする磁気デバイス。
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