JP2010010111A - Organic el display device and method of manufacturing the same - Google Patents

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克典 大矢
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve an electron hole injection characteristics of laminated organic EL display device. <P>SOLUTION: The organic EL display device has: a base board 10; a first electrode 40 with one principal face to be an anode and the other principal face to be a cathode; a second electrode 20 which is the cathode; a first organic layer 30 pinched by the principal face to be a cathode of the first electrode and the second electrode; a third electrode 60 which is the cathode; and a second organic layer 50 pinched by the principal face to be the anode of the first electrode and the third electrode. A work function of the principal face to be the anode of the first electrode is arranged to be higher than that of the principal face to be the cathode of the first electrode. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL表示装置とその製造方法に関する。特に、一対の電極に狭持された有機層が積層された有機EL表示装置であって、有機層を狭持する電極の仕事関数に関するものである。   The present invention relates to an organic EL display device and a manufacturing method thereof. In particular, the present invention relates to an organic EL display device in which an organic layer sandwiched between a pair of electrodes is stacked, and relates to a work function of an electrode sandwiching the organic layer.

一対の電極間に狭持された有機層を有する有機EL表示装置において、複数の有機層を積層することにより、異なる発色が可能となる事が知られている。   In an organic EL display device having an organic layer sandwiched between a pair of electrodes, it is known that different colors can be formed by stacking a plurality of organic layers.

特許文献1に開示の多色発光素子においては、電子輸送層の上に仕事関数の低い金属層を配置する構造が提案されている。なお、仕事関数とは、固体内にある電子を、固体の外に取出すために必要な最小限のエネルギーの大きさのことである。   In the multicolor light emitting element disclosed in Patent Document 1, a structure in which a metal layer having a low work function is disposed on an electron transport layer has been proposed. Note that the work function is the minimum amount of energy required to extract electrons in a solid out of the solid.

これを具体的に説明する。   This will be specifically described.

図12に特許文献1(特開2001−273979号公報)の図12Cを引用する。同図において、基板150上に、第2電極152、青色発光を含む第1有機層156、第1電極160、緑色発光を含む第2有機層164、第3電極170、が順に積層されている。   FIG. 12C of Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-273939) is cited in FIG. In the figure, a second electrode 152, a first organic layer 156 including blue light emission, a first electrode 160, a second organic layer 164 including green light emission, and a third electrode 170 are sequentially stacked on a substrate 150. .

ここで、第1電極160を160Mと160Iの2層構成としている。そして、電子注入性を上げ、駆動電圧を下げるために、電子輸送層158の上に仕事関数が4.0[eV]未満の金属層160M(Ag/Mg)と、その上にITO(160I)を積層する構造が提案されている。
特開2001−273979号公報
Here, the first electrode 160 has a two-layer structure of 160M and 160I. In order to increase the electron injection property and decrease the driving voltage, a metal layer 160M (Ag / Mg) having a work function of less than 4.0 [eV] on the electron transport layer 158 and ITO (160I) thereon The structure which laminates | stacks is proposed.
JP 2001-2731979 A

ここで、特許文献1では、緑色を発光させる時に、第1電極は、第2有機層に正孔を注入しているが、先述したITOの仕事関数に関しては、何ら開示されていない。そのため、この第1電極には正孔を効果的に注入することに関しては、何ら開示も示唆もされていない。   Here, in Patent Document 1, when green light is emitted, the first electrode injects holes into the second organic layer, but nothing is disclosed about the work function of ITO described above. Therefore, there is no disclosure or suggestion regarding effective injection of holes into the first electrode.

それゆえに、第1電極は、有機層に正孔が注入し難く、駆動電圧が高くなってしまう恐れがある。   Therefore, in the first electrode, it is difficult to inject holes into the organic layer, and the drive voltage may be increased.

そのため本発明の目的は、積層型の有機EL表示装置において、有機層と有機層に挟まれる電極の電子注入性を向上させることのみならず、正孔の注入性を向上させる。これにより、低電圧で駆動し、良好な表示特性が得られる有機EL表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to improve not only the electron injection property of the electrode sandwiched between the organic layer and the organic layer, but also the hole injection property in the stacked organic EL display device. Accordingly, it is an object of the present invention to provide an organic EL display device that can be driven at a low voltage and obtain good display characteristics, and a manufacturing method thereof.

上記課題を解決するために以下を提供する。   In order to solve the above problems, the following is provided.

基板と、一方の主面が陰極、他方の主面が陽極となる第1電極と、
陽極である第2電極と、前記第1電極の陰極となる主面及び前記第2電極に狭持された第1有機層と、陰極である第3電極と、
前記第1電極の陽極となる主面及び前記第3電極に狭持された第2有機層と、を有する有機EL表示装置において、
前記第1電極の陽極となる主面の仕事関数は、前記第1電極の陰極となる主面の仕事関数より高いことを特徴とする有機EL表示装置。
A substrate, a first electrode having one main surface as a cathode and the other main surface as an anode;
A second electrode that is an anode, a main surface that is a cathode of the first electrode and a first organic layer sandwiched between the second electrodes, a third electrode that is a cathode,
In an organic EL display device having a main surface serving as an anode of the first electrode and a second organic layer sandwiched between the third electrodes,
An organic EL display device, wherein a work function of a main surface serving as an anode of the first electrode is higher than a work function of a main surface serving as a cathode of the first electrode.

本発明により、電極からの電子注入性のみならず、正孔注入性をも向上させる。これにより、駆動電圧を低減させることができるので、電源電圧を低減でき、低消費電力化を図ることができる。   According to the present invention, not only the electron injection property from the electrode but also the hole injection property is improved. As a result, the drive voltage can be reduced, so that the power supply voltage can be reduced and the power consumption can be reduced.

以下、本発明に係る表示装置の実施の形態について図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of a display device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。   In addition, the well-known or well-known technique of the said technical field is applied regarding the part which is not illustrated or described in particular in this specification.

また、以下に説明する実施形態は、発明の一つの実施形態であって、これらに限定されるものではない。また、以下に説明する実施形態を組み合わせる事も、本発明に含まれる。   The embodiment described below is one embodiment of the invention and is not limited thereto. Moreover, combining embodiments described below is also included in the present invention.

(実施例1)
図1は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。この図を用いて、本実施形態の表示装置の製造方法について説明する。
Example 1
FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section of an organic EL display device according to the present invention. The manufacturing method of the display device of this embodiment will be described with reference to this drawing.

図1において、本実施例の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。   In FIG. 1, the organic EL display device of the present embodiment is a top emission type organic EL display device.

10は基板、20は第2電極(陽極)、30は第1有機層、40は第1電極、50は第2有機層、60は第3電極(陰極)、90は保護層、100は電源手段を示している。   10 is a substrate, 20 is a second electrode (anode), 30 is a first organic layer, 40 is a first electrode, 50 is a second organic layer, 60 is a third electrode (cathode), 90 is a protective layer, and 100 is a power source Means are shown.

なお、第2電極20は反射電極である。反射電極とは、電極自身が反射性を有する材料からなるものに限らず、ITO,IZOなどの透明導電性材料からなる電極下部に反射性の薄膜を積層したものも含んでそう呼称する。また、第3電極60側から、発光した光を取出すため、第3電極は光取出し電極として機能し、トップエミッション型の有機EL表示装置を構成している。以下の実施例においても同様である。   The second electrode 20 is a reflective electrode. The reflective electrode is not limited to the electrode itself made of a reflective material, but also includes a reflective thin film laminated on the lower part of the electrode made of a transparent conductive material such as ITO or IZO. Further, since the emitted light is extracted from the third electrode 60 side, the third electrode functions as a light extraction electrode, and constitutes a top emission type organic EL display device. The same applies to the following embodiments.

なお、本実施例の有機層30及び有機層50は3層構成となっており、基板10上に正孔輸送層/発光層/電子輸送層の順で積層されている。また、同図は一つの画素を模式的に示している。   In addition, the organic layer 30 and the organic layer 50 of this embodiment have a three-layer structure, and are stacked on the substrate 10 in the order of a hole transport layer / a light emitting layer / an electron transport layer. The figure schematically shows one pixel.

また、有機EL表示装置としては、第2電極20から第3電極60までを含む画素を、並列に複数並べると良い。   In addition, as an organic EL display device, a plurality of pixels including the second electrode 20 to the third electrode 60 may be arranged in parallel.

<基板10及び第2電極20について>
基板10及び陽極として機能する第2電極20について説明する。
<Regarding Substrate 10 and Second Electrode 20>
The substrate 10 and the second electrode 20 functioning as an anode will be described.

必要に応じてTFT等のスイッチング素子が形成された基板上には、第2電極20(陽極)が形成されている。第2電極20としては、光反射性の部材であることが好ましく、例えばCr、Al、Ag、Au、Pt等の材料からなることが好ましい。反射率が高い部材であるほど、光取り出し効率を向上できるからである。   A second electrode 20 (anode) is formed on a substrate on which switching elements such as TFTs are formed as necessary. The second electrode 20 is preferably a light-reflective member, and is preferably made of a material such as Cr, Al, Ag, Au, or Pt. This is because the higher the reflectance, the higher the light extraction efficiency.

また、2つの異なる材料、すなわち第2電極20の第1有機層30側を透過性の高い、材料とし、かつ第2電極20の基板10側を反射性の高い材料という構成からなる第2電極としても良い。   In addition, the second electrode is composed of two different materials, that is, a structure in which the first organic layer 30 side of the second electrode 20 is a highly transmissive material and the substrate 10 side of the second electrode 20 is a highly reflective material. It is also good.

<第1有機層30について>
次に、第1有機層30について説明する。
<About the first organic layer 30>
Next, the first organic layer 30 will be described.

上記のような基板10及び第2電極20に対して、公知の手段(例えば、蒸着やインクジェット等)により、第1有機層30を堆積する。ここで、第1有機層は、正孔輸送材料、有機発光材料、電子輸送材料の順に基板10上に積層されている。さらに、第1有機層は、発光効率の観点からアモルファス膜であることが好ましい。   The first organic layer 30 is deposited on the substrate 10 and the second electrode 20 as described above by a known means (for example, vapor deposition or ink jet). Here, the 1st organic layer is laminated | stacked on the board | substrate 10 in order of the hole transport material, the organic luminescent material, and the electron transport material. Furthermore, the first organic layer is preferably an amorphous film from the viewpoint of luminous efficiency.

各色(R/G/B)の有機発光材料は次のようなものが用いられる。トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン、芳香族縮合多環化合物、芳香族複素環化合物、芳香族複素縮合環化合物、金属錯体化合物等及びこれらの単独オリゴ体あるいは複合オリゴ体である。但し、本発明の構成として例示の材料に限定されるものではない。   The following materials are used as the organic light emitting materials for each color (R / G / B). Triarylamine derivatives, stilbene derivatives, polyarylenes, aromatic condensed polycyclic compounds, aromatic heterocyclic compounds, aromatic heterocondensed ring compounds, metal complex compounds, and the like, and single oligo compounds or composite oligo compounds thereof. However, the configuration of the present invention is not limited to the exemplified materials.

正孔輸送材料としては、フタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Eu錯体等が使用できるが、本発明の構成として限定されるものではない。   As the hole transport material, phthalocyanine compounds, triarylamine compounds, conductive polymers, perylene compounds, Eu complexes, and the like can be used, but the structure of the present invention is not limited.

電子輸送材料の例としては、アルミに8−ヒドロキシキノリンの3量体が配位したAlq3、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等を使用できる。   Examples of the electron transport material include Alq3 in which a trimer of 8-hydroxyquinoline is coordinated to aluminum, an azomethine zinc complex, a distyrylbiphenyl derivative system, and the like.

なお、第1有機層の膜厚は0.05μm〜0.3μm程度が良く、好ましくは0.05〜0.15μm程度である。   The film thickness of the first organic layer is preferably about 0.05 μm to 0.3 μm, and preferably about 0.05 to 0.15 μm.

<第1電極40について>
次に、本発明の特徴でもある第1電極40について説明する。
<About the first electrode 40>
Next, the first electrode 40 that is a feature of the present invention will be described.

ここでは、透明導電膜を成膜、及び、パターニングを行い、第1電極40を形成している。このとき、第1電極40の保護層90側である陽極となる主面の仕事関数は、第1電極40の基板10側である陰極となる主面の仕事関数より、高くするように形成している。   Here, the first electrode 40 is formed by forming and patterning a transparent conductive film. At this time, the work function of the main surface serving as the anode on the protective layer 90 side of the first electrode 40 is formed to be higher than the work function of the main surface serving as the cathode on the substrate 10 side of the first electrode 40. ing.

これは、例えば、以下の方法により実現される。透明導電膜としてIZOの成膜時に、酸素流量を段階的に増加させる。これにより、酸素流量が少ないIZOからなる電極よりも、酸素流量が多いIZOからなる電極の方が、より高い仕事関数を得ることができる。   This is realized, for example, by the following method. During the formation of IZO as a transparent conductive film, the oxygen flow rate is increased stepwise. Thereby, a higher work function can be obtained with an electrode made of IZO having a higher oxygen flow rate than an electrode made of IZO having a lower oxygen flow rate.

このように第1有機層30の正孔輸送層に対して仕事関数の高い陽極を配置させることにより、正孔注入性を向上させることができるので、駆動電圧を低減させることができる。これにより、電源電圧を低減できると共に、低消費電力化を図ることも可能となるのである。   Thus, by arranging the anode having a high work function with respect to the hole transport layer of the first organic layer 30, the hole injection property can be improved, so that the driving voltage can be reduced. As a result, the power supply voltage can be reduced and the power consumption can be reduced.

また、第1電極40の陰極側は、仕事関数が低いため、電子注入性も高い状態となっている。   Further, the cathode side of the first electrode 40 has a low work function, and therefore has a high electron injection property.

ここで、先述した第1電極には、第2有機層に正孔を注入する特性の向上が求められることを述べたが、一般的にはITO、IZOなどの透明導電膜の正孔注入性を向上させる方法としては、紫外線照射、酸素プラズマ、等がある。しかしながら、積層型の有機EL表示装置においては、第1電極の基板側に有機層が配置されている。そのため、上記、正孔注入性を向上させる方法では、第1有機層が削られ、所望の特性が得られない、という問題がある。   Here, it has been described that the first electrode described above is required to improve the characteristics of injecting holes into the second organic layer. Generally, the hole injecting property of a transparent conductive film such as ITO or IZO is used. As a method for improving the temperature, there are ultraviolet irradiation, oxygen plasma, and the like. However, in the stacked organic EL display device, the organic layer is disposed on the substrate side of the first electrode. Therefore, the above-described method for improving the hole injection property has a problem that the first organic layer is scraped and desired characteristics cannot be obtained.

一方、本実施例では、第1電極を成膜した時点で正孔注入性が向上している。そのため、成膜後に、正孔注入性を高めるための表面処理等をする必要がなく、作製工程を短縮できる。加えて、表面処理が無いため、第1有機層への損傷も低減させることができるのである。   On the other hand, in this example, the hole injection property is improved when the first electrode is formed. Therefore, it is not necessary to perform a surface treatment or the like for improving the hole injecting property after film formation, and the manufacturing process can be shortened. In addition, since there is no surface treatment, damage to the first organic layer can be reduced.

また、第1電極40の材料としては、光透過性を確保するために透過率の高い材料が好ましい。例えば、ITO、IZO、ZnOなどの透明導電膜や、ポリアセチレンなどの有機導電膜からなることが好ましい。さらに、Ag、Alなどの金属を10nm〜30nm程度に形成した半透過膜でもよい。   Moreover, as a material of the 1st electrode 40, in order to ensure light transmittance, the material with a high transmittance | permeability is preferable. For example, it is preferably made of a transparent conductive film such as ITO, IZO or ZnO, or an organic conductive film such as polyacetylene. Furthermore, a semi-transmissive film in which a metal such as Ag or Al is formed in a thickness of about 10 nm to 30 nm may be used.

先述したITO、IZO、ZnOなどの透明導電膜は、低消費電力化を図るために、電極として用いるため抵抗が低い特性と、光の取出し効率を高めるため透過率の高い特性と、の両方を満足する組成が好ましい。   The transparent conductive film such as ITO, IZO, and ZnO described above has both a low resistance property for use as an electrode and a high transmittance property for improving light extraction efficiency in order to reduce power consumption. A satisfactory composition is preferred.

ここで、上記の両方の特性を満たすような透明導電膜であるIZOを、スパッタにて成膜する時の一般的な条件を示す。   Here, general conditions for depositing IZO, which is a transparent conductive film satisfying both of the above characteristics, by sputtering are shown.

成膜装置の容量、ターゲット、圧力、出力、等で条件は変化するが、現在使用しているスパッタ装置においては、アルゴン流量80−100sccmに対して、酸素流量を0.09−0.2sccmの比で成膜する。こうすることで、低い抵抗値で、且つ、透過率の高い組成を得ている。   Conditions vary depending on the capacity, target, pressure, output, etc. of the film forming apparatus, but in the sputtering apparatus currently used, the oxygen flow rate is 0.09-0.2 sccm with respect to the argon flow rate 80-100 sccm. Films are formed at a ratio. By doing so, a composition having a low resistance value and a high transmittance is obtained.

また、第1電極40の成膜は、ULVAC製のスパッタ装置を用いた。成膜は、IZOターゲットを用い、成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、の条件下で、酸素流量0.09sccmで成膜した。続けて、酸素流量0.09sccmの時と同一膜厚で、酸素流量5sccmに変えて成膜した。   The first electrode 40 was formed using a ULVAC sputtering apparatus. The film formation was performed using an IZO target under the conditions of a film forming pressure of 1.8 Pa, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, and a cathode voltage of 250 V and an oxygen flow rate of 0.09 sccm. Subsequently, the film thickness was changed to the oxygen flow rate of 5 sccm at the same film thickness as that at the oxygen flow rate of 0.09 sccm.

仕事関数の測定は、理研計器製、FAC1を用いた。酸素流量0.09sccm条件下のIZOの仕事関数は4.4eV、酸素流量5sccm条件下のIZOの仕事関数は5.7eVであった。   The work function was measured using FAC1 manufactured by Riken Keiki. The work function of IZO under an oxygen flow rate of 0.09 sccm was 4.4 eV, and the work function of IZO under an oxygen flow rate of 5 sccm was 5.7 eV.

これにより、第1電極40の陽極となる主面の仕事関数は、第1電極40の陰極となる主面の仕事関数より、高くなる。   As a result, the work function of the main surface serving as the anode of the first electrode 40 is higher than the work function of the main surface serving as the cathode of the first electrode 40.

なお、第1電極40の陽極となる主面の仕事関数は、5.5[eV]以上が好ましい。これにより、正孔注入性を高めることができるからである。
また、第1電極40の陽極となる主面の仕事関数は、より好ましくは5.5[eV]以上5.8[eV]以下が好ましい。これは、仕事関数が高いと正孔の注入性が高まるが、その一方で仕事関数が高すぎると、電極としての抵抗が上がり、駆動電圧が大きくなってしまう恐れがあるからである。(以下の実施例においても同様である。)
なお、電極の表面の仕事関数と、電極の内部の仕事関数とは、同材料、同条件で作製した場合同じであるため、本実施例における仕事関数は、電極の表面を測定することにより得ている。例えば、IZOを成膜する際に、成膜条件を一定であれば、成膜の開始、途中、終了の各点で、同じ仕事関数が得られる。つまり、一方の主面と内部の仕事関数が同じである。
The work function of the main surface that serves as the anode of the first electrode 40 is preferably 5.5 [eV] or more. This is because hole injection properties can be improved.
Further, the work function of the main surface serving as the anode of the first electrode 40 is more preferably 5.5 [eV] or more and 5.8 [eV] or less. This is because if the work function is high, the hole injecting property is enhanced. On the other hand, if the work function is too high, the resistance as an electrode increases and the drive voltage may increase. (The same applies to the following embodiments.)
Note that the work function of the surface of the electrode and the work function inside the electrode are the same when manufactured under the same material and under the same conditions. Therefore, the work function in this example can be obtained by measuring the surface of the electrode. ing. For example, when forming the IZO film, if the film forming conditions are constant, the same work function can be obtained at each of the start, middle, and end points of the film formation. That is, the work function on one main surface and the inside is the same.

次に、第1電極40のパターニング方法について説明する。   Next, a method for patterning the first electrode 40 will be described.

上記パターニングとしては、電極材料を加熱し、メタルマスクを使用して蒸着によって形成しても、または電極材料を成膜したのち、レーザー加工により不要な電極部分を除去しても良い。   As the patterning, the electrode material may be heated and formed by vapor deposition using a metal mask, or unnecessary electrode portions may be removed by laser processing after the electrode material is formed into a film.

<第2有機層50について>
次に、第1有機層30と同様の方法で、第2有機層50、を堆積する。第2有機層50は第1有機層30と異なる発色を呈する有機発光材料を用いる。これにより、1つの画素で2つの発色が可能となる。
<About the second organic layer 50>
Next, the second organic layer 50 is deposited by the same method as the first organic layer 30. The second organic layer 50 uses an organic light emitting material that exhibits a color development different from that of the first organic layer 30. As a result, two colors can be generated with one pixel.

<第3電極60について>
次に、陰極として機能する第3電極60をスパッタ等により形成する。第3電極60の材料としては、第1電極40と同様に透過率の高い材料が好ましい。さらに保護膜90として、窒化酸化シリコンを成膜し、有機EL表示装置を得た。
<About the third electrode 60>
Next, the third electrode 60 functioning as a cathode is formed by sputtering or the like. As the material of the third electrode 60, a material having a high transmittance is preferable like the first electrode 40. Further, silicon nitride oxide was formed as the protective film 90 to obtain an organic EL display device.

<電源手段100と駆動方法について>
このようにして形成された有機EL表示装置の第2電極20、第1電極40、第3電極60を電源手段100と接続する。
<About power supply means 100 and driving method>
The second electrode 20, the first electrode 40, and the third electrode 60 of the organic EL display device thus formed are connected to the power supply means 100.

ここで、第1有機層30を発光させる場合には、第2電極20と第1電極40に電源手段100により電圧を加える。   Here, when the first organic layer 30 emits light, a voltage is applied to the second electrode 20 and the first electrode 40 by the power supply means 100.

ここで、第1有機層30を発光させる場合には、第2電極20の陽極となる主面から正孔が注入される。この時、第2電極20の陽極となる主面の仕事関数は、陰極となる第3電極40の主面の仕事関数よりも高く、正孔注入性が高くなるため低駆動電圧が可能となる。   Here, when the first organic layer 30 is caused to emit light, holes are injected from the main surface serving as the anode of the second electrode 20. At this time, the work function of the main surface serving as the anode of the second electrode 20 is higher than the work function of the main surface of the third electrode 40 serving as the cathode, and the hole injecting property is enhanced, so that a low driving voltage is possible. .

また、これと同時に第1電極40の陰極となる主面から電子が注入される。第1電極40の陰極となる主面の仕事関数は、陽極となる第2電極20の主面の仕事関数よりも低く、電子注入性が高いため、低電圧駆動が可能となる。   At the same time, electrons are injected from the main surface serving as the cathode of the first electrode 40. Since the work function of the main surface serving as the cathode of the first electrode 40 is lower than the work function of the main surface of the second electrode 20 serving as the anode and the electron injecting property is high, low voltage driving is possible.

次に、第2有機層50を発光させる場合には、第1電極40と第3電極60に電源手段100により電圧を加える。   Next, when the second organic layer 50 is caused to emit light, a voltage is applied to the first electrode 40 and the third electrode 60 by the power supply means 100.

ここでも、第1有機層30の場合と同様に第2有機層50を発光させる時、第1電極40の陽極となる主面から正孔が注入される。この時、第1電極40の陽極となる主面の仕事関数は高く、正孔注入性が高くなるため低駆動電圧が可能となる。   Here, as in the case of the first organic layer 30, when the second organic layer 50 emits light, holes are injected from the main surface serving as the anode of the first electrode 40. At this time, the work function of the main surface serving as the anode of the first electrode 40 is high, and the hole injection property is high, so that a low driving voltage is possible.

また、これと同時に第3電極60の陰極となる主面から電子が注入される。第1電極40の陽極となる主面の仕事関数は、第1電極40の陰極となる主面の仕事関数より高く、正孔注入性が高いため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化を図ることができる。   At the same time, electrons are injected from the main surface serving as the cathode of the third electrode 60. The work function of the main surface serving as the anode of the first electrode 40 is higher than the work function of the main surface serving as the cathode of the first electrode 40, and the hole injection property is high, so that low voltage driving is possible and the power supply voltage is lowered. , Low power consumption can be achieved.

なお、本実施例では、第2電極20が基板10と接する構成を示したが、第3電極60が基板10と接する構成のトップエミッション型の有機EL表示装置でもよい。その場合、第3電極60が反射電極となり、第2電極20側から光を取出す構成となる。   In the present embodiment, the configuration in which the second electrode 20 is in contact with the substrate 10 is shown, but a top emission type organic EL display device in which the third electrode 60 is in contact with the substrate 10 may be used. In that case, the third electrode 60 is a reflective electrode, and light is extracted from the second electrode 20 side.

(実施例2)
図2は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。
(Example 2)
FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention.

同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。   The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点以下の通りである。   The differences of the present embodiment from the first embodiment are as follows.

第3電極60の一方の主面(基板10側)が陰極となり、他方の主面(保護層90側)が陽極となる点と、第3電極60上に、第3有機層80を形成する点と、第3有機層80上に第4電極70を形成する点と、第4電極70を電源手段100と接続する点である。   The third organic layer 80 is formed on the third electrode 60 on the point that one main surface (substrate 10 side) of the third electrode 60 becomes a cathode and the other main surface (protective layer 90 side) becomes an anode. The point is that the fourth electrode 70 is formed on the third organic layer 80, and the point where the fourth electrode 70 is connected to the power supply means 100.

ここで、第3有機層80は、第1有機層30、及び第2有機層50と異なる発色をする、有機発光材料を用いる。   Here, the third organic layer 80 uses an organic light emitting material that develops a color different from those of the first organic layer 30 and the second organic layer 50.

また、第3電極60は、第1電極40と同様に形成する。   The third electrode 60 is formed in the same manner as the first electrode 40.

また、第4電極70はスパッタ等により形成される。第4電極70の材料としては、第1電極40と同様に透過率の高い材料が好ましい。   The fourth electrode 70 is formed by sputtering or the like. As the material of the fourth electrode 70, a material having a high transmittance is preferable like the first electrode 40.

本実施例では、第2電極20が反射電極となり、第4電極70側から光を取出す、トップエミッション型の有機EL表示装置である。   In this embodiment, the second electrode 20 is a reflective electrode, and is a top emission type organic EL display device that extracts light from the fourth electrode 70 side.

ここで、第1有機層30を発光させる時、第2電極20の陽極となる主面から正孔が注入され、第1電極40の陰極となる主面(基板10側)から電子が注入される。第1電極40の陰極となる主面の仕事関数は、第2電極20の陽極となる主面の仕事関数より低いため、正孔注入性、及び電子注入性が高くなるため、低電圧駆動が可能となる。   Here, when the first organic layer 30 emits light, holes are injected from the main surface serving as the anode of the second electrode 20, and electrons are injected from the main surface (substrate 10 side) serving as the cathode of the first electrode 40. The Since the work function of the main surface serving as the cathode of the first electrode 40 is lower than the work function of the main surface serving as the anode of the second electrode 20, the hole injecting property and the electron injecting property are enhanced. It becomes possible.

また、第1電極40と第3電極60に挟まれた第2有機層50を発光させる時、第1電極40の陽極となる主面(保護層90側)から正孔が注入され、第3電極60の陰極となる主面(基板10側)から電子が注入される。第1電極40の陽極となる主面(保護層90側)の仕事関数は、第1電極40の陰極(基板10側)となる主面の仕事関数と比べて高く、正孔注入性が高い。また、第1電極40の陽極となる主面(保護層90側)の仕事関数は、第3電極60の陰極となる主面(基板10側)の仕事関数と比べて高いため、正孔注入性が高くなるため、低電圧駆動が可能となる。   When the second organic layer 50 sandwiched between the first electrode 40 and the third electrode 60 is caused to emit light, holes are injected from the main surface (protective layer 90 side) serving as the anode of the first electrode 40, and the third Electrons are injected from the main surface (substrate 10 side) serving as the cathode of the electrode 60. The work function of the main surface (protective layer 90 side) serving as the anode of the first electrode 40 is higher than the work function of the main surface serving as the cathode (substrate 10 side) of the first electrode 40, and the hole injection property is high. . In addition, since the work function of the main surface (protective layer 90 side) serving as the anode of the first electrode 40 is higher than the work function of the main surface (substrate 10 side) serving as the cathode of the third electrode 60, hole injection is performed. Therefore, low voltage driving is possible.

さらに、第3有機層80を発光させる時、第3電極60の陽極となる主面(保護層90側)から正孔が注入され、第4電極70の陰極となる主面(基板10側)から電子が注入される。第3電極60の陽極となる主面の仕事関数は第3電極60の陰極となる主面の仕事関数に比べて高く、正孔注入性が高いため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   Furthermore, when the third organic layer 80 emits light, holes are injected from the main surface (protective layer 90 side) serving as the anode of the third electrode 60, and the main surface (substrate 10 side) serving as the cathode of the fourth electrode 70. From which electrons are injected. The work function of the main surface that serves as the anode of the third electrode 60 is higher than the work function of the main surface that serves as the cathode of the third electrode 60, and the hole injection property is high. Lower power consumption.

加えて、本実施例により、1つの画素で3色の発色が可能となり、1つの画素で2色の発光する有機EL表示装置より高精細な表示が可能となる。   In addition, according to this embodiment, it is possible to develop three colors with one pixel, and display with higher definition than an organic EL display device that emits two colors with one pixel.

本実施例では、第2電極20が基板10と接する構成を示したが、第4電極70が基板10と接する構成のトップエミッション型の有機EL表示装置でもよい。その場合、第4電極70が反射電極となり、第2電極20側から光を取出す構成となる。   In the present embodiment, the configuration in which the second electrode 20 is in contact with the substrate 10 is shown, but a top emission type organic EL display device in which the fourth electrode 70 is in contact with the substrate 10 may be used. In this case, the fourth electrode 70 becomes a reflective electrode, and light is extracted from the second electrode 20 side.

(実施例3)
図3は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。
(Example 3)
FIG. 3 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention.

同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。   The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点は、第2電極21にPtを用い、第3電極61にAgを用いた、点である。   The difference of the present embodiment from the first embodiment is that Pt is used for the second electrode 21 and Ag is used for the third electrode 61.

Ptの仕事関数は5.6eV、Agの仕事関数は4.3eVであり、これにより第2電極21の陽極となる主面の仕事関数は第3電極61の陰極となる主面の仕事関数より高くなる。   The work function of Pt is 5.6 eV, and the work function of Ag is 4.3 eV. Thus, the work function of the main surface serving as the anode of the second electrode 21 is more than the work function of the main surface serving as the cathode of the third electrode 61. Get higher.

ここで、第1有機層30を発光させる時、第2電極21の陽極となる主面から正孔が注入され、第1電極40の陰極となる主面(基板10側)から電子が注入される。第2電極21の陽極となる主面(保護層90側)の仕事関数は高く、第1有機層30への正孔注入性が向上し、低電圧駆動が可能となる。   Here, when the first organic layer 30 emits light, holes are injected from the main surface serving as the anode of the second electrode 21, and electrons are injected from the main surface serving as the cathode of the first electrode 40 (substrate 10 side). The The work function of the main surface (protective layer 90 side) serving as the anode of the second electrode 21 is high, the hole injection property to the first organic layer 30 is improved, and low voltage driving is possible.

次に、第2有機層50を発光させる時、第1電極40の陽極となる主面(保護層90側)から正孔が注入され、第3電極61の陰極(基板10側)となる主面から電子が注入される。第3電極61の陰極となる主面の仕事関数は低く、第2有機層50への電子注入性が向上し、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   Next, when the second organic layer 50 emits light, holes are injected from the main surface (protective layer 90 side) serving as the anode of the first electrode 40, and the main electrode serving as the cathode (substrate 10 side) of the third electrode 61. Electrons are injected from the surface. The work function of the main surface serving as the cathode of the third electrode 61 is low, the electron injection property to the second organic layer 50 is improved, low voltage driving is possible, the power supply voltage is lowered, and the power consumption can be reduced.

(実施例4)
図4は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。
Example 4
FIG. 4 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention.

同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。   The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点は、第1電極40を2層とした点である。ここで第1電極40を構成する2層を第1電極41、42とする。   The difference of the present embodiment from the first embodiment is that the first electrode 40 has two layers. Here, the two layers constituting the first electrode 40 are referred to as first electrodes 41 and 42.

具体的に第1電極41、42をULVAC製のスパッタ装置を用いて成膜する方法について説明する。   Specifically, a method for forming the first electrodes 41 and 42 using a sputtering apparatus made of ULVAC will be described.

まず、Agのターゲットを用いたスパッタ装置で行った。成膜時圧力0.25Pa、アルゴン流量20sccm、カソード出力70W、の条件下で、23秒間、成膜し、第2電極20側の第1電極41を成膜した。   First, the sputtering was performed using an Ag target. The first electrode 41 on the second electrode 20 side was formed by forming a film for 23 seconds under the conditions of a film forming pressure of 0.25 Pa, an argon flow rate of 20 sccm, and a cathode output of 70 W.

次に、IZOのターゲットを用いたスパッタ装置で行った。成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、酸素流量5sccmで39秒間、成膜し、第3電極60側の第1電極42とした。   Next, sputtering was performed using an IZO target. The first electrode 42 on the third electrode 60 side was formed at a film forming pressure of 1.8 Pa, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, a cathode voltage of 250 V, and an oxygen flow rate of 5 sccm for 39 seconds.

ここで、Agの仕事関数は、4.3eVであり、IZOの酸素流量5sccm条件下の仕事関数は5.7eV、であった。これにより、第1電極41の陰極となる仕事関数は、第1電極42の陽極となる仕事関数より、低くなる。   Here, the work function of Ag was 4.3 eV, and the work function of IZO under an oxygen flow rate of 5 sccm was 5.7 eV. As a result, the work function serving as the cathode of the first electrode 41 is lower than the work function serving as the anode of the first electrode 42.

以上の構成により、第1有機層30を発光させる時、第2電極20の陽極となる主面から正孔が注入され、第1電極41の陰極となる主面から電子が注入される。第1電極41の陰極となる主面の仕事関数は低く、電子注入性が高いため、低電圧駆動が可能となる。   With the above configuration, when the first organic layer 30 emits light, holes are injected from the main surface serving as the anode of the second electrode 20, and electrons are injected from the main surface serving as the cathode of the first electrode 41. Since the work function of the main surface serving as the cathode of the first electrode 41 is low and the electron injecting property is high, low voltage driving is possible.

更に、第2有機層50を発光させる時、第1電極42の陽極となる主面から正孔が注入され、第3電極60の陰極となる主面から電子が注入される。第1電極42の陽極となる主面の仕事関数は、第1電極41の陰極となる主面の仕事関数より高く、正孔注入性が高いため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   Further, when the second organic layer 50 is caused to emit light, holes are injected from the main surface serving as the anode of the first electrode 42, and electrons are injected from the main surface serving as the cathode of the third electrode 60. The work function of the main surface serving as the anode of the first electrode 42 is higher than the work function of the main surface serving as the cathode of the first electrode 41 and the hole injection property is high, so that low voltage driving is possible and the power supply voltage is lowered. , Can reduce power consumption.

また、第1電極42の陽極となる主面の仕事関数は、第3電極60の陰極となる主面の仕事関数よりも高くした方が好ましい。これにより、正孔注入性が高くなるため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   The work function of the main surface that serves as the anode of the first electrode 42 is preferably higher than the work function of the main surface that serves as the cathode of the third electrode 60. As a result, the hole injecting property becomes high, so that low voltage driving is possible, the power supply voltage can be lowered, and the power consumption can be reduced.

(実施例5)
図5は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。
(Example 5)
FIG. 5 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention. The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点は、第1電極40において、積層方向の中央近傍に、仕事関数の高い主面よりも仕事関数が低く、かつ仕事関数の低い主面よりも仕事関数が高い中間層を新たに設けた点である。すなわち、第1電極40は3層で構成され、夫々を基板10側から第1電極41、43、42とする。   The difference between the first embodiment and the first embodiment is that the first electrode 40 has a work function lower than that of the main surface having a high work function and lower than that of the main surface having a low work function in the vicinity of the center in the stacking direction. This is the point that a high intermediate layer is newly provided. That is, the first electrode 40 is composed of three layers, and the first electrodes 41, 43, and 42 are respectively formed from the substrate 10 side.

具体的に第1電極41、43、42をULVAC製のスパッタ装置を用いて成膜する方法について説明する。   Specifically, a method of forming the first electrodes 41, 43, and 42 using a ULVAC sputtering apparatus will be described.

まず、Agのターゲットを用いたスパッタ装置で行う。成膜時圧力0.25Pa、アルゴン流量20sccm、カソード出力70W、の条件下で、23秒間、成膜し、第1電極41とした。   First, the sputtering is performed using an Ag target. The film was formed for 23 seconds under the conditions of a film forming pressure of 0.25 Pa, an argon flow rate of 20 sccm, and a cathode output of 70 W, thereby forming the first electrode 41.

次に、IZOターゲットを用いたスパッタ装置で行う。成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、酸素流量0.09sccmの条件下で56秒間、成膜し、第1電極43とした。   Next, sputtering is performed using an IZO target. The film was formed for 56 seconds under the conditions of a film forming pressure of 1.8 Pa, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, a cathode voltage of 250 V, and an oxygen flow rate of 0.09 sccm.

次に、IZOのターゲットを用いたスパッタ装置で行う。成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、酸素流量5sccmで39秒間、成膜し、第1電極42とした。   Next, the sputtering is performed using an IZO target. The first electrode 42 was formed by depositing the film at a pressure of 1.8 Pa, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, a cathode voltage of 250 V, and an oxygen flow rate of 5 sccm for 39 seconds.

第1電極41、43、42の仕事関数は、基板10側から順に、4.3eV、4.4eV、5.7eVとなり、仕事関数が低、中、高、の3層が配置される。   The work functions of the first electrodes 41, 43, and 42 are 4.3 eV, 4.4 eV, and 5.7 eV in this order from the substrate 10 side, and three layers having a work function of low, medium, and high are arranged.

仕事関数の高い第1電極42の抵抗は、仕事関数の低い第1電極43と比較して高くなる。ここで、この抵抗が高くなる理由は、膜中の酸素含有量が高く、酸化膜に近づくためであると考えられる。   The resistance of the first electrode 42 having a high work function is higher than that of the first electrode 43 having a low work function. Here, it is considered that the reason why the resistance is increased is that the oxygen content in the film is high and the oxide film is approached.

そこで、まず、仕事関数の低い、第1電極41を成膜し、これにより第1有機層30への電子注入性を向上させる。   Therefore, first, the first electrode 41 having a low work function is formed, thereby improving the electron injection property into the first organic layer 30.

次に、仕事関数の中位の第1電極43を成膜し、低抵抗の導電膜として電極の機能を向上させる。   Next, a first electrode 43 having a medium work function is formed to improve the function of the electrode as a low-resistance conductive film.

最後に仕事関数の高い第1電極42を成膜し、第2有機層50への正孔注入性を向上させる。   Finally, the first electrode 42 having a high work function is formed, and the hole injection property to the second organic layer 50 is improved.

これにより、電極の抵抗を下げ、且つ電子、及び正孔の注入性が向上するため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   Accordingly, the resistance of the electrode is lowered and the injection property of electrons and holes is improved, so that low voltage driving is possible, the power supply voltage is lowered, and the power consumption can be reduced.

また、Agを半透過膜として用いることで、キャビティ効果により色純度が向上し、色再現範囲の広い表示が可能となる。   Further, by using Ag as a semi-transmissive film, color purity is improved by the cavity effect, and display with a wide color reproduction range is possible.

(実施例6)
図6は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。
(Example 6)
FIG. 6 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention.

同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。   The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点は、第1電極44を低い仕事関数から、高い仕事関数に連続して変化させている点である。   The difference of the present embodiment from the first embodiment is that the first electrode 44 is continuously changed from a low work function to a high work function.

第1電極44の成膜は、IZOターゲットを用いたスパッタ装置で行う。成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、酸素流量0.09sccmから成膜を開始し、次第に酸素流量を増加させ、最終的に酸素流量5sccmとして、成膜し、第1電極44とした。   The first electrode 44 is formed by a sputtering apparatus using an IZO target. The film formation is started from a pressure of 1.8 Pa, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, a cathode voltage of 250 V, and an oxygen flow rate of 0.09 sccm. The first electrode 44 was used.

酸素流量を連続して増加させるため、低い仕事関数から、高い仕事関数に連続して変化した第1電極44となる。   Since the oxygen flow rate is continuously increased, the first electrode 44 is continuously changed from a low work function to a high work function.

本実施例では、電極内部の組成が連続して変化するため、正孔、電子の移動の障壁が少なく、低電圧で駆動することができ、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   In this embodiment, since the composition inside the electrode changes continuously, there are few barriers to the movement of holes and electrons, and it can be driven at a low voltage, the power supply voltage can be lowered, and the power consumption can be reduced.

(実施例7)
図7は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。
(Example 7)
FIG. 7 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention.

同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。   The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例4と異なる点は、第1電極40の、高仕事関数の層の厚さが、低仕事関数の層の厚さよりも薄い、点である。   The difference of the present embodiment from Embodiment 4 is that the thickness of the high work function layer of the first electrode 40 is thinner than the thickness of the low work function layer.

第1電極41の成膜はIZOターゲットを用いたスパッタ装置で行う。まず、成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、酸素流量0.09sccmの条件下で56秒間、成膜し、第1電極41とした。   The first electrode 41 is formed by a sputtering apparatus using an IZO target. First, a film was formed for 56 seconds under the conditions of a film forming pressure of 1.8 Pa, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, a cathode voltage of 250 V, and an oxygen flow rate of 0.09 sccm.

次に、成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、酸素流量5sccmで20秒間、成膜し、第1電極42とした。   Next, a film was formed at a pressure of 1.8 Pa during deposition, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, a cathode voltage of 250 V, and an oxygen flow rate of 5 sccm for 20 seconds to form the first electrode.

第1電極41は、仕事関数が4.4eV、膜厚600Åであり、第1電極42は、仕事関数は5.7eV、膜厚150Åである。よって高仕事関数の層の厚さが低仕事関数の層の厚さより薄くなる。   The first electrode 41 has a work function of 4.4 eV and a film thickness of 600 mm, and the first electrode 42 has a work function of 5.7 eV and a film thickness of 150 mm. Therefore, the thickness of the high work function layer is smaller than the thickness of the low work function layer.

仕事関数の高い第1電極42の抵抗は、仕事関数の低い第1電極41と比較して高くなる。その理由は膜中の酸素含有量が高く、組成が酸化膜に近づくためである。   The resistance of the first electrode 42 having a high work function is higher than that of the first electrode 41 having a low work function. This is because the oxygen content in the film is high and the composition approaches that of the oxide film.

本実施例では、膜厚の厚い、低仕事関数の第1電極41にて、電極の抵抗を下げるとともに、電子注入性が向上する。さらに高仕事関数の第1電極42にて、正孔の注入性が向上するため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   In this embodiment, the first electrode 41 having a large film thickness and a low work function reduces the resistance of the electrode and improves the electron injection property. Furthermore, since the hole injection property is improved by the high work function first electrode 42, low voltage driving is possible, the power supply voltage can be lowered, and the power consumption can be reduced.

(実施例8)
図8は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。
(Example 8)
FIG. 8 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention. The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点は、第1有機層32に正孔注入層31、第2有機層50に正孔注入層51を設ける、点である。有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の4層で構成される。   The difference of the present embodiment from Embodiment 1 is that a hole injection layer 31 is provided in the first organic layer 32 and a hole injection layer 51 is provided in the second organic layer 50. The organic layer is composed of four layers: a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer.

正孔注入材料としては、フタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Eu錯体等が使用できるが、本発明の構成として限定されるものではない。   As the hole injection material, a phthalocyanine compound, a triarylamine compound, a conductive polymer, a perylene compound, an Eu complex, or the like can be used, but the structure of the present invention is not limited.

本実施例では、第2電極20形成後に、正孔注入層31を成膜し、続いて第1有機層32を成膜する。また、第1電極40成膜後に、正孔注入層51を成膜し、続いて第2有機層52を成膜する。ここで、第1有機層32、及び第2有機層52は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層で構成される。   In this embodiment, after the second electrode 20 is formed, the hole injection layer 31 is formed, and then the first organic layer 32 is formed. Further, after the first electrode 40 is formed, the hole injection layer 51 is formed, and then the second organic layer 52 is formed. Here, the first organic layer 32 and the second organic layer 52 include a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer.

正孔注入層により、第1有機層32および、第2有機層52への正孔注入の障壁が低下するため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   The hole injection layer lowers the barrier for hole injection into the first organic layer 32 and the second organic layer 52, so that low voltage driving is possible, power supply voltage can be reduced, and power consumption can be reduced.

(実施例9)
図9は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。
Example 9
FIG. 9 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention. The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点は、第1有機層32に正孔注入層31、電子注入層33を、第2有機層50に正孔注入層51、電子注入層53を設ける、点、である。すなわち、有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の5層で構成される。   This embodiment differs from the first embodiment in that a hole injection layer 31 and an electron injection layer 33 are provided in the first organic layer 32, and a hole injection layer 51 and an electron injection layer 53 are provided in the second organic layer 50. . That is, the organic layer is composed of five layers: a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

電子注入材料としては、アルミに8−ヒドロキシキノリンの3量体が配位したAlq3、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等を使用できるが、本発明の構成として限定されるものではない。   As an electron injection material, Alq3 in which an 8-hydroxyquinoline trimer is coordinated to aluminum, an azomethine zinc complex, a distyrylbiphenyl derivative system, or the like can be used, but the structure of the present invention is not limited.

本実施例では、第2電極20形成後に、正孔注入層31、第1有機層32、電子注入層33を成膜する。また、第1電極40成膜後に、正孔注入層51、第2有機層52、電子注入層53を成膜する。ここで、第1有機層32、及び第2有機層52は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層で構成される。   In this embodiment, after the second electrode 20 is formed, the hole injection layer 31, the first organic layer 32, and the electron injection layer 33 are formed. After the first electrode 40 is formed, the hole injection layer 51, the second organic layer 52, and the electron injection layer 53 are formed. Here, the first organic layer 32 and the second organic layer 52 include a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer.

電子注入層により、第1有機層32および、第2有機層52への電子注入の障壁が低下するため、低電圧駆動が可能となり、電源電圧を下げ、低消費電力化できる。   The electron injection layer lowers the barrier for electron injection into the first organic layer 32 and the second organic layer 52, so that low voltage driving is possible, power supply voltage can be lowered, and power consumption can be reduced.

(実施例10)
図10は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。同図の有機EL表示装置は、トップエミッション型の有機EL表示装置である。
本実施例の実施例9と異なる点は、電子注入層34、54にアルカリ金属を含む点、である。
(Example 10)
FIG. 10 is a diagram schematically showing a cross section of the organic EL display device according to the present invention. The organic EL display device in the figure is a top emission type organic EL display device.
The difference of the present embodiment from the ninth embodiment is that the electron injection layers 34 and 54 contain an alkali metal.

電子注入層34、54に含有するアルカリ金属としては、リチウム、セシウム、等を用いる事ができるが、アルカリ金属であれば本発明の構成として限定されるものではない。   As the alkali metal contained in the electron injection layers 34 and 54, lithium, cesium, or the like can be used. However, the alkali metal is not limited to the configuration of the present invention.

透明導電膜としてはIZO、ITOなどを使用できる。   As the transparent conductive film, IZO, ITO, or the like can be used.

電子注入層34、54にアルカリ金属を含有することにより、電子注入性が向上し、電子注入する障壁が下がり、低電圧駆動が可能となる。   By containing an alkali metal in the electron injection layers 34 and 54, the electron injection property is improved, the barrier for electron injection is lowered, and low voltage driving is possible.

また、透明導電膜は光の透過性が高く、発光層を積層する構成においては、光の取り出し効率を上げる事ができる特徴がある。その一方で一般に透明導電膜は金属と比較して、抵抗が高い。そこで、アルカリ金属含有の電子注入層34の上に透明導電膜である第1電極45を配置する事により、抵抗が高い透明導電膜を用いた場合においても、駆動電圧を低下させる事ができるとともに、光取り出し効率を上げる事ができる。   In addition, the transparent conductive film has high light transmissivity, and the structure in which the light emitting layer is laminated has a feature that the light extraction efficiency can be increased. On the other hand, generally, a transparent conductive film has a higher resistance than a metal. Therefore, by disposing the first electrode 45, which is a transparent conductive film, on the alkali metal-containing electron injection layer 34, the drive voltage can be lowered even when a transparent conductive film having a high resistance is used. The light extraction efficiency can be increased.

(実施例11)
図11は本発明に係る有機EL表示装置の断面を模式的に示した図である。同図の有機EL表示装置は、ボトムエミッション型の有機EL表示装置である。
(Example 11)
FIG. 11 is a diagram schematically showing a cross section of an organic EL display device according to the present invention. The organic EL display device in the figure is a bottom emission type organic EL display device.

本実施例の実施例1と異なる点は、第1電極40を2層とした点、基板10上の第3電極60から第2電極20までが逆順になっている点、である。   The difference of the present embodiment from the first embodiment is that the first electrode 40 has two layers and the third electrode 60 to the second electrode 20 on the substrate 10 are in reverse order.

なお、本実施例において第2電極20は反射電極である。第3電極60側から、発光した光を取出す、ボトムエミッション型の有機EL表示装置となる。   In the present embodiment, the second electrode 20 is a reflective electrode. A bottom emission type organic EL display device that extracts emitted light from the third electrode 60 side is obtained.

第1電極の形成は、IZOターゲットを用い、成膜時圧力1.8Pa、アルゴン流量100sccm、カソード出力850W、カソード電圧250V、の条件下で、酸素流量5sccmで成膜した。続けて、酸素流量0.09sccmに変えて成膜した。酸素流量5sccm条件下のIZOの仕事関数は5.7eV、酸素流量0.09sccm条件下のIZOの仕事関数は4.4eVであった。   The first electrode was formed using an IZO target under the conditions of a film forming pressure of 1.8 Pa, an argon flow rate of 100 sccm, a cathode output of 850 W, and a cathode voltage of 250 V, and an oxygen flow rate of 5 sccm. Subsequently, the film was formed by changing the oxygen flow rate to 0.09 sccm. The work function of IZO under an oxygen flow rate of 5 sccm was 5.7 eV, and the work function of IZO under an oxygen flow rate of 0.09 sccm was 4.4 eV.

仕事関数の高い陽極となる第1電極42は第2有機層と接している。一般的に正孔の注入性を向上させる紫外線照射、酸素プラズマ等の表面処理をする。しかし第2有機層50の上に第1電極42が配置される場合、その界面を成膜後、表面処理をすることができないため、第1電極42の正孔注入性を上げることが困難である。   The first electrode 42 serving as an anode having a high work function is in contact with the second organic layer. In general, surface treatment such as ultraviolet irradiation or oxygen plasma for improving hole injection is performed. However, when the first electrode 42 is disposed on the second organic layer 50, it is difficult to improve the hole injection property of the first electrode 42 because the surface treatment cannot be performed after the interface is formed. is there.

その一方で本実施例においては、第1電極42の成膜時に既に正孔注入性が向上しているため、低電圧駆動が可能となり、低消費電力とすることができる。   On the other hand, in this embodiment, since the hole injecting property is already improved when the first electrode 42 is formed, low voltage driving is possible and low power consumption can be achieved.

本実施例では、第3電極60が基板10と接する構成を示したが、第2電極20が基板10と接する構成のボトムエミッション型の有機EL表示装置でもよい。その場合、第3電極60が反射電極となり、第2電極20側から光を取出す構成となる。   In the present embodiment, the configuration in which the third electrode 60 is in contact with the substrate 10 is shown, but a bottom emission type organic EL display device in which the second electrode 20 is in contact with the substrate 10 may be used. In that case, the third electrode 60 is a reflective electrode, and light is extracted from the second electrode 20 side.

本発明の第1の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 1st embodiment of this invention. 本発明の第2の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 2nd embodiment of this invention. 本発明の第3の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 3rd embodiment of this invention. 本発明の第4の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 4th embodiment of this invention. 本発明の第5の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 5th embodiment of this invention. 本発明の第6の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 6th embodiment of this invention. 本発明の第7の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 7th embodiment of this invention. 本発明の第8の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 8th embodiment of this invention. 本発明の第9の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 9th embodiment of this invention. 本発明の第10の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 10th embodiment of this invention. 本発明の第11の実施態様に係る有機発光素子を示す図。The figure which shows the organic light emitting element which concerns on the 11th embodiment of this invention. 従来の有機発光素子の作製方法を示す図。The figure which shows the preparation methods of the conventional organic light emitting element.

符号の説明Explanation of symbols

10 基板
20、21 第2電極
30、32 第1有機層
31 正孔注入層
33、34 電子注入層
40、41、42、43、44、45 第1電極
50、52 第2有機層
51 正孔注入層
53、54 電子注入層
60、61 第3電極
70 第4電極
80 第3有機層
90 保護層
100 電源手段
10 substrate 20, 21 second electrode 30, 32 first organic layer 31 hole injection layer 33, 34 electron injection layer 40, 41, 42, 43, 44, 45 first electrode 50, 52 second organic layer 51 hole Injection layer 53, 54 Electron injection layer 60, 61 Third electrode 70 Fourth electrode 80 Third organic layer 90 Protective layer 100 Power supply means

Claims (18)

基板と、
一方の主面が陰極、他方の主面が陽極となる第1電極と、
陽極である第2電極と、
前記第1電極の陰極となる主面及び前記第2電極に狭持された第1有機層と、
陰極である第3電極と、
前記第1電極の陽極となる主面及び前記第3電極に狭持された第2有機層と、を有する有機EL表示装置において、
前記第1電極の陽極となる主面の仕事関数は、前記第1電極の陰極となる主面の仕事関数より高いことを特徴とする有機EL表示装置。
A substrate,
A first electrode having one main surface as a cathode and the other main surface as an anode;
A second electrode that is an anode;
A main surface serving as a cathode of the first electrode and a first organic layer sandwiched between the second electrode;
A third electrode which is a cathode;
In an organic EL display device having a main surface serving as an anode of the first electrode and a second organic layer sandwiched between the third electrodes,
An organic EL display device, wherein a work function of a main surface serving as an anode of the first electrode is higher than a work function of a main surface serving as a cathode of the first electrode.
陰極である第4電極を有し、
前記第3電極は、一方の主面が陰極、他方の主面が陽極であり、
前記第3電極の陽極となる主面及び前記第4電極の陰極となる主面に狭持された第3有機層を有し、
前記第1電極の陽極となる主面の仕事関数は、前記第3電極の陰極となる主面の仕事関数より高いことを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。
Having a fourth electrode which is a cathode;
The third electrode has one main surface as a cathode and the other main surface as an anode,
A third organic layer sandwiched between a main surface serving as an anode of the third electrode and a main surface serving as a cathode of the fourth electrode;
2. The organic EL display device according to claim 1, wherein a work function of a main surface serving as an anode of the first electrode is higher than a work function of a main surface serving as a cathode of the third electrode.
前記基板には、前記第2電極、前記第1有機層、前記第1電極、前記第2有機層、前記第3電極の順に積層されており、前記第2電極は反射電極であり、前記第3電極は光取出し電極であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   On the substrate, the second electrode, the first organic layer, the first electrode, the second organic layer, and the third electrode are stacked in this order, and the second electrode is a reflective electrode, The organic EL display device according to claim 1, wherein the three electrodes are light extraction electrodes. 前記基板には、前記第2電極、前記第1有機層、前記第1電極、前記第2有機層、前記第3電極の順に積層されており、前記第2電極は光取出し電極であり、前記第3電極は反射電極であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   On the substrate, the second electrode, the first organic layer, the first electrode, the second organic layer, and the third electrode are laminated in this order, and the second electrode is a light extraction electrode, The organic EL display device according to claim 1, wherein the third electrode is a reflective electrode. 前記第3電極の陰極となる主面の仕事関数は、前記第2電極の陽極となる主面の仕事関数より低いことを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   2. The organic EL display device according to claim 1, wherein a work function of a main surface serving as a cathode of the third electrode is lower than a work function of a main surface serving as an anode of the second electrode. 前記第1電極は少なくとも仕事関数の異なる2層から構成されることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, wherein the first electrode includes at least two layers having different work functions. 前記第1電極は、仕事関数が夫々異なる3層からなり、前記陽極である第2電極に近づくほど、仕事関数が低く構成されていることを特徴とする請求項6に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 6, wherein the first electrode includes three layers having different work functions, and the work function is configured to be lower as the second electrode is the anode. . 前記第1電極は、低い仕事関数から、高い仕事関数に連続して変化することを、特徴とする、請求項1に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, wherein the first electrode continuously changes from a low work function to a high work function. 前記第1電極の高仕事関数の厚さは、低仕事関数の厚さよりも薄いことを特徴とする請求項6に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 6, wherein the thickness of the high work function of the first electrode is thinner than the thickness of the low work function. 前記第1有機層、及び第2有機層は、少なくとも電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層から構成されることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, wherein the first organic layer and the second organic layer include at least an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, and a hole injection layer. 前記第1有機層、及び第2有機層は、更に電子注入層を有することを特徴とする請求項10に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 10, wherein the first organic layer and the second organic layer further include an electron injection layer. 前記第1有機層、及び第2有機層は、アルカリ金属を含む電子注入層を含み、かつ前記第1電極は透明導電膜であることを特徴とする請求項11に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 11, wherein the first organic layer and the second organic layer include an electron injection layer containing an alkali metal, and the first electrode is a transparent conductive film. 前記基板に前記第3電極、前記第2有機層、前記第1電極、前記第1有機層、前記第2電極の順に積層されており、前記第3電極は反射電極であり、前記第2電極は光取出し電極であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   The third electrode, the second organic layer, the first electrode, the first organic layer, and the second electrode are stacked in this order on the substrate, and the third electrode is a reflective electrode, and the second electrode The organic EL display device according to claim 1, wherein is an optical extraction electrode. 前記基板に前記第3電極、前記第2有機層、前記第1電極、前記第1有機層、前記第2電極の順に積層されており、前記第3電極は光取出し電極であり、前記第2電極は反射電極であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   The third electrode, the second organic layer, the first electrode, the first organic layer, and the second electrode are sequentially stacked on the substrate, and the third electrode is a light extraction electrode, and the second electrode The organic EL display device according to claim 1, wherein the electrode is a reflective electrode. 前記第1電極の陽極となる主面の仕事関数は、5.5[eV]以上であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   2. The organic EL display device according to claim 1, wherein a work function of a main surface serving as an anode of the first electrode is 5.5 [eV] or more. 前記第1電極の陽極となる主面の仕事関数は、5.8[eV]以下であることを特徴とする請求項15に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 15, wherein a work function of a main surface serving as an anode of the first electrode is 5.8 [eV] or less. 基板上に陽極となる第2電極を形成する工程と、
前記第2電極に第1有機層を形成する工程と、
前記第1有機層に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極に第2有機層を形成する工程と、
前記第2有機層に第3電極を形成する工程とを有する有機EL表示装置の製造方法において、
第2有機層に接し陽極となる第1電極を形成する場合の酸素流量は、前記第1有機層に接し陰極となる前記第1電極を形成する場合の酸素流量よりも多いことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
Forming a second electrode serving as an anode on the substrate;
Forming a first organic layer on the second electrode;
Forming a first electrode on the first organic layer;
Forming a second organic layer on the first electrode;
In the manufacturing method of an organic EL display device having a step of forming a third electrode in the second organic layer,
The oxygen flow rate when forming the first electrode serving as the anode in contact with the second organic layer is greater than the oxygen flow rate when forming the first electrode serving as the cathode in contact with the first organic layer. A method for manufacturing an organic EL display device.
基板上に陰極となる第3電極を形成する工程と、
前記第3電極に第2有機層を形成する工程と、
前記第2有機層に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極に第1有機層を形成する工程と、
前記第1有機層に第2電極を形成する工程とを有する有機EL表示装置の製造方法において、
第2有機層に接し陽極となる第1電極を形成する場合の酸素流量は、前記第1有機層に接し陰極となる前記第1電極を形成する場合の酸素流量よりも多いことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
Forming a third electrode to be a cathode on a substrate;
Forming a second organic layer on the third electrode;
Forming a first electrode on the second organic layer;
Forming a first organic layer on the first electrode;
In the manufacturing method of an organic EL display device comprising a step of forming a second electrode in the first organic layer,
The oxygen flow rate when forming the first electrode serving as the anode in contact with the second organic layer is greater than the oxygen flow rate when forming the first electrode serving as the cathode in contact with the first organic layer. A method for manufacturing an organic EL display device.
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