JP2004355975A - Manufacturing method of display device - Google Patents

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JP2004355975A JP2003153051A JP2003153051A JP2004355975A JP 2004355975 A JP2004355975 A JP 2004355975A JP 2003153051 A JP2003153051 A JP 2003153051A JP 2003153051 A JP2003153051 A JP 2003153051A JP 2004355975 A JP2004355975 A JP 2004355975A
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Takanobu Shibazaki
孝宜 芝崎
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Sony Corp
ソニー株式会社
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    • H01L2251/558Thickness
    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L27/28Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including components using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part
    • H01L27/32Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including components using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part with components specially adapted for light emission, e.g. flat-panel displays using organic light-emitting diodes [OLED]
    • H01L27/3206Multi-colour light emission
    • H01L27/3211Multi-colour light emission using RGB sub-pixels

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a display device in which occurrence of defects of non-emission is prevented and the display quality can be improved. <P>SOLUTION: The total film thickness of a red color organic layer 16R, a green color organic layer 16G, and a blue color organic layer 16B are made in the order of the red color organic layer 16R, green color organic layer 16G, and blue color organic layer 16B from the thick side, and they are formed in the order from the color layer of the total film thickness. Thereby, occurrence of many defects of non-emission due to repeated contact with a vapor deposition mask 100 in the blue color organic layer 16B which becomes thinnest of the total film thickness when a resonator structure is introduced is prevented. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、表示装置の製造方法に係り、特に、有機発光素子を用いた表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a display device, and more particularly to a method of manufacturing a display device using an organic light emitting element.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
従来から、有機発光素子の有機層を各色別に形成するため蒸着マスクをアライメントすると、先に蒸着された有機層に蒸着マスクが接触してしまい、有機層に傷を生じたり、蒸着マスクの異物が有機層に転写され、その結果、先に蒸着された有機層には、後から蒸着される有機層よりもダークスポットあるいは非発光欠陥が発生しやすくなることが知られている。 Conventionally, when aligning the deposition mask for forming an organic layer of an organic light-emitting device for each color, it would in contact with the deposition mask to the organic layer deposited previously, or a scratch occurred the organic layer, foreign matter deposition mask It is transferred to the organic layer, so that the organic layers deposited previously, dark spots or non-emission defects are known to be more likely to occur than the organic layer deposited later. この対策としては、非発光欠陥の周囲の輝度が高いと目立ってしまうことを考慮して、輝度の低い色から順に有機層を形成するということが行われている。 As a countermeasure, in consideration of the luminance of the surrounding non-emission defects are noticeable higher have been made that an organic layer is formed in order from the low color brightness. 通常、全白を表示した場合には、輝度が高い方から緑色,赤色,青色の順になるので、有機層の形成は、逆に輝度の低い方から青色,赤色,緑色の順に行うようにしている。 Usually, in the case of displaying a full white, since green, red, and blue order from the luminance is high, formation of the organic layer from the reverse to the lower luminance blue, red, and to perform the green order there.
【0003】 [0003]
ところで、有機発光素子については、共振器構造を導入することによって、発光色の色純度を向上させたり、輝度を高めるなど、発光層で発生する光を制御する試みが行われてきた(例えば、特許文献1参照。)。 Incidentally, for the organic light-emitting device, by introducing a resonator structure, or to improve the color purity of the luminescent color, such as increasing the luminance, it attempts to control light generated in the light emitting layer have been conducted (for example, see Patent Document 1.).
【0004】 [0004]
【特許文献1】 [Patent Document 1]
国際公開第01/39554号パンフレット【0005】 Pamphlet No. WO 01/39554 [0005]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
このような共振器構造を導入した有機発光素子では、発光波長に応じて有機層の総膜厚が制御され、厚い方から赤色,緑色,青色の順になる。 The organic light emitting device obtained by introducing such a resonator structure, the total thickness of the organic layer according to the emission wavelength is controlled, consisting of thicker red, green, blue order. しかしながら、有機層を形成する際に、従来のように輝度の低い方から青色,赤色,緑色の順にすると、総膜厚の比較的薄い青色の有機層が何度も蒸着マスクに接触してしまい、青色の有機発光素子に多くの非発光欠陥が生じてしまうおそれがあるという問題があった。 However, when forming the organic layer, the blue from the lowest luminance as in the prior art, red, when the green sequentially, relatively thin blue organic layer having a total thickness ends up contact with even deposition mask again , there is a problem that there is a possibility that the number of non-light emission defects in the blue organic light emitting element is caused.
【0006】 [0006]
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、非発光欠陥の発生を防止し、表示品質を高めることができる表示装置の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, its object is to prevent the occurrence of non-light emission defects is to provide a method of manufacturing a display device capable of improving display quality.
【0007】 [0007]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
本発明による表示装置の製造方法は、基板に、赤色発光層を含む赤色有機層を有する赤色有機発光素子と、緑色発光層を含む緑色有機層を有する緑色有機発光素子と、青色発光層を含む青色有機層を有する青色有機発光素子とを備え、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層の総膜厚を互いに異ならせた表示装置を製造するものであって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するものである。 Method of manufacturing a display device according to the present invention includes a substrate, a red organic light emitting device having a red organic layer containing the red light-emitting layer, a green organic light emitting device having a green organic layer containing the green light-emitting layer, a blue emission layer and a blue organic light emitting device having a blue organic layer, a red organic layer, be one which manufacturing a display device having different each other the total thickness of the green organic layer and the blue organic layer, at least a red of the red organic layer a light emitting layer, at least the green light-emitting layer of the green organic layer and at least blue light-emitting layer of the blue organic layer, a red organic layer, the total thickness of the thick color green organic layer and the blue organic layer sequentially for each color it is intended to be formed. ここで「総膜厚」とは、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層が、赤色発光層,緑色発光層または青色発光層を含む複数の層の積層構造を有する場合にはそれらの複数の層の積層方向の膜厚の和をいい、赤色発光層,緑色発光層または青色発光層のみを有する場合には赤色発光層,緑色発光層または青色発光層の積層方向の膜厚をいう。 Here, "total film thickness" as red organic layer, the green organic layer and the blue organic layer, red emitting layer, a plurality of them in the case of having a laminated structure of a plurality of layers including a green light-emitting layer or a blue light-emitting layer nice sum of the film thickness of the lamination direction of the layer, the red light emitting layer, in the case of having only the green light-emitting layer or a blue light emitting layer refers to the thickness in the stacking direction of the red light emitting layer, a green emission layer or a blue light-emitting layer.
【0008】 [0008]
本発明による表示装置の製造方法では、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とが、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成される。 The method of manufacturing a display device according to the present invention, at least the red light-emitting layer of the red organic layer, at least the green light-emitting layer of the green organic layer, and at least a blue light-emitting layer of the blue organic layer, a red organic layer, the green organic the total thickness of the thicker color layer and a blue organic layer sequentially formed for each color. よって、総膜厚の最も薄い色の発光層が最後に形成され、非発光欠陥の発生が防止される。 Therefore, the light-emitting layer of the thinnest color having a total thickness of the last formed, the occurrence of non-light emission defects can be prevented.
【0009】 [0009]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。 It will be described in detail with reference to the drawings, embodiments of the present invention.
【0010】 [0010]
図1ないし図5は、本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を表すものである。 1 to 5, illustrates a method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention. まず、図1(A)に示したように、例えばガラスなどの絶縁材料よりなる基板11を用意し、この基板11の上にTFT12を形成する。 First, as shown in FIG. 1 (A), for example, providing a substrate 11 made of an insulating material such as glass, to form a TFT12 on the substrate 11. 続いて、同じく図1(A)に示したように、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、平坦化膜13を形成する。 Then, as also shown in FIG. 1 (A), for example, polyimide coating, exposure, by developing and firing, to form a planarizing film 13. 露光の際には、コンタクトホール13Aを形成する。 During exposure, a contact hole 13A.
【0011】 [0011]
次に、図1(B)に示したように、平坦化膜13の上に、例えばスパッタ法により、例えばクロムよりなる膜を例えば100nm〜150nmの厚みで成膜する。 Next, as shown in FIG. 1 (B), on the planarization layer 13, for example, by a sputtering method, for example, forming a composed of chromium film, for example a thickness of 100 nm to 150 nm. 続いて、レジストを塗布し、露光および現像することにより図示しないマスクを形成し、このマスクを用いてクロム膜を選択的にエッチングして第1電極14を形成する。 Subsequently, a resist is applied to form a mask (not shown) by exposing and developing selectively forming the first electrode 14 by etching the chromium film using the mask. そののち、マスクを剥離する。 After that, to peel off the mask.
【0012】 [0012]
続いて、図1(C)に示したように、第1電極14の上に、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、素子分離のための絶縁膜15を形成すると共に、発光領域に対応して開口部15Aを形成する。 Subsequently, as shown in FIG. 1 (C), on the first electrode 14, for example, polyimide coated, exposed and developed and baked, thereby forming the insulating film 15 for element isolation, emission It corresponds to a region to form an opening 15A. 絶縁膜15の厚みTは例えば1μm、開口部15Aの幅Wは例えば数十μm〜百数十μmとすることができる。 The thickness T of the insulating film 15 is for example 1 [mu] m, the width W of the opening 15A may be, for example, several tens μm~ hundred [mu] m.
【0013】 [0013]
そののち、窒素(N )雰囲気下でベークを行い、酸素(O )プラズマにより基板11の前処理を行う。 Thereafter, nitrogen (N 2) baked in an atmosphere, it performs preprocessing of the substrate 11 by oxygen (O 2) plasma.
【0014】 [0014]
続いて、図2(A)ないし図3(A)を参照して以下に詳細に説明するように、赤色有機発光素子10Rの形成予定位置に、赤色発光層を含む赤色有機層16Rを形成し、緑色有機発光素子10Gの形成予定位置に、緑色発光層を含む緑色有機層16Gを形成し、青色有機発光素子10Bの形成予定位置に、青色発光層を含む青色有機層16Bを形成する。 Subsequently, FIG. 2 (A) to FIG 3 (A) refer to as described in detail below, the formation planned position of the red organic light emitting element 10R, to form a red organic layer 16R including a red light-emitting layer , the formation planned position of the green organic light emitting element 10G, to form a green organic layer 16G including a green light-emitting layer, the formation scheduled position of the blue organic light emitting element 10B, to form the blue organic layer 16B including a blue light-emitting layer. 赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bの構成材料としては、例えば低分子材料を用いることができ、その場合、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bは、蒸着マスクを用いた蒸着法により、各色別に形成することが好ましい。 Red organic layer 16R, as the material of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, for example, can be used low-molecular material, in which case, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is deposited by an evaporation method using a mask, it is preferably formed for each color.
【0015】 [0015]
ここで、本実施の形態では、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bを形成する際に、それらの総膜厚を異ならせる。 In the present embodiment, the red organic layer 16R, when forming the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, to vary the total thickness thereof. これは、赤色有機発光素子10R,緑色有機発光素子10Gおよび青色有機発光素子10Bが後述するような共振器構造を有するようにするためである。 This is because the red organic light emitting element 10R, the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B is to have a resonator structure as described below. すなわち、発光波長に応じて赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bの総膜厚を制御し、厚い方から赤色有機層16R,緑色有機層16G,青色有機層16Bの順とする。 That is, the red organic layer 16R in accordance with the emission wavelength, and controls the total thickness of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, is a thicker red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the order of the blue organic layer 16B . 本実施の形態では、赤色有機層16Rの総膜厚を例えば150nm、緑色有機層16Gの総膜厚を例えば110nm、青色有機層16Bの総膜厚を例えば70nmとする。 In this embodiment, total thickness, for example 150nm red organic layer 16R, a total thickness, for example 110nm green organic layer 16G, and the total thickness of the blue organic layer 16B for example 70 nm.
【0016】 [0016]
また、本実施の形態では、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bを、それらの総膜厚の厚い色から順に形成する。 Further, in this embodiment, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, formed from their thick color total thickness in this order. これは、共振器構造を導入した場合に総膜厚が最も薄くなる青色有機層16Bに多くの非発光欠陥が発生するのを防止するためである。 This is to prevent the number of non-light emission defects in the blue organic layer 16B to total film thickness is thinnest in the case of introducing a resonator structure occurs. すなわち、まず、総膜厚の最も厚い赤色有機層16Rを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層16Gを形成し、最後に、総膜厚の最も薄い青色有機層16Bを形成する。 That is, first, to form a thickest red organic layer 16R of the total film thickness, then forming a thick green organic layer 16G to the second total film thickness, finally, the thinnest blue organic layer 16B having a total thickness to form.
【0017】 [0017]
まず、真空を破らずに基板11を蒸着装置の蒸着室へと搬送し、図2(A)に示したように、蒸着マスク100をアライメントし、この蒸着マスク100を用いて、第1電極14の上に、赤色正孔注入層16AR,赤色正孔輸送層16BR,赤色発光層16CRおよび赤色電子輸送層16DRを順に積層し、赤色有機層16Rを形成する。 First, it transported to the deposition chamber of the deposition apparatus substrate 11 without breaking the vacuum, as shown in FIG. 2 (A), aligned with the deposition mask 100 by using the deposition mask 100, the first electrode 14 over, stacked red hole injection layer 16AR, red HTL 16br, the red light emitting layer 16CR and the red electron transport layer 16DR in order to form a red organic layer 16R. 赤色正孔注入層16ARは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。 Red hole injection layer 16AR is a buffer layer to prevent leakage and may be omitted if the level leak no trouble. 赤色正孔輸送層16BRは、赤色発光層16CRへの正孔注入効率を高めるためのものである。 Red hole transport layer 16BR is intended to improve hole injection efficiency to the red light emitting layer 16CR. 赤色発光層16CRは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜15の開口部15Aに対応した領域で発光するようになっている。 The red light emitting layer 16CR, the recombination of electrons and holes by applying an electric field, which generates light, so as to emit light in a region corresponding to the opening 15A of the insulating film 15. 赤色電子輸送層16DRは、赤色発光層16CRへの電子注入効率を高めるためのものである。 Red electron transport layer 16DR is intended to improve electron injection efficiency to the red light emitting layer 16CR. 蒸着マスク100は、厚みが十数μmないし数十μmであり、例えばニッケル(Ni)あるいはニッケルを含む合金など、着磁性のある材料により構成されている。 Deposition mask 100 has a thickness a dozen [mu] m to several tens [mu] m, for example, nickel (Ni) or an alloy containing nickel, and is made of a material with a magnetizability.
【0018】 [0018]
赤色正孔注入層16ARの構成材料としては例えば4,4',4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)あるいは4,4',4”−トリス(2−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(2−TNATA)を用い、厚みを例えば15nm以上300nm以下とすることができる。 Examples of the material of the red HIL 16AR such as 4,4 ', 4 "- tris (3-methylphenyl phenylamino) triphenylamine (m-MTDATA) or 4,4', 4" - tris (2- using naphthylphenylamino) triphenylamine (2-TNATA), it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 300nm or less. 赤色正孔輸送層16BRの構成材料としては例えばビス[(N−ナフチル)−N−フェニル]ベンジジン(α−NPD)を用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 Red hole as the material of the transport layer 16BR using, for example, bis [(N-naphthyl) -N- phenyl] benzidine (α-NPD), it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less. 赤色発光層16CRの構成材料としては例えば8−キノリノールアルミニウム錯体(Alq )に2,6−ビス[4−[N−(4−メトキシフェニル)−N−フェニル]アミノスチリル]ナフタレン−1,5−ジカルボニトリル(BSN−BCN)を40体積%混合したものを用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 Examples of the material of the red light emitting layer 16CR, for example, 8-quinolinol aluminum complex (Alq 3) 2,6-bis [4- [N- (4- methoxyphenyl) -N- phenyl] aminostyryl] naphthalene-1,5 - using those dicarbonitrile the (BSN-BCN) were mixed 40% by volume, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less. 赤色電子輸送層16DRの構成材料としては例えばAlq を用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 It is used Alq 3, for example, as the material of the red electron transport layer 16DR, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less.
【0019】 [0019]
そののち、真空を破らずに基板11を別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図2(B)に示したように、蒸着マスク100をアライメントし、この蒸着マスク100を用いた蒸着法により、第1電極14の上に、緑色正孔注入層16AG,緑色正孔輸送層16BG,緑色発光層16CGおよび緑色電子輸送層16DGを含む緑色有機層16Gを形成する。 Thereafter, the substrate 11 without breaking the vacuum is conveyed to another deposition apparatus, or deposition chamber, as shown in FIG. 2 (B), and align the deposition mask 100, an evaporation method using the deposition mask 100 Accordingly, on the first electrode 14 to form green hole injection layer 16ag, green hole transport layer 16BG, a green organic layer 16G including a green light emitting layer 16CG and the green electron transport layer 16DG. 緑色正孔注入層16AGは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。 Green hole injection layer 16AG is a buffer layer to prevent leakage and may be omitted if the level leak no trouble. 緑色正孔輸送層16BGは、緑色発光層16CGへの正孔注入効率を高めるためのものである。 Green hole transport layer 16BG is intended to improve hole injection efficiency to the green light emitting layer 16CG. 緑色発光層16CGは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜15の開口部15Aに対応した領域で発光するようになっている。 The green light emitting layer 16CG is recombination of electrons and holes by applying an electric field, which generates light, so as to emit light in a region corresponding to the opening 15A of the insulating film 15. 緑色電子輸送層16DGは、緑色発光層16CGへの電子注入効率を高めるためのものである。 Green electron transport layer 16DG is intended to improve electron injection efficiency to the green light emitting layer 16CG. なお、蒸着マスク100は、赤色有機層16Rの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。 Incidentally, the deposition mask 100 may be used the same as those used for forming the red organic layer 16R, it may be used another.
【0020】 [0020]
緑色正孔注入層16AGの構成材料としては例えばm−MTDATAあるいは2−TNATAを用い、厚みを例えば15nm以上300nm以下とすることができる。 Green As a constituent material of the hole injection layer 16AG using, for example, m-MTDATA or 2-TNATA, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 300nm or less. 緑色正孔輸送層16BGの構成材料としては例えばα−NPDを用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 Used, for example alpha-NPD as a material for a green hole transport layer 16BG, can be, for example, 15nm or 100nm or less thick. 緑色発光層16CGの構成材料としては例えばAlq にクマリン6(Coumarin6)を3体積%混合したものを用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 Uses a mixture 3 vol% of coumarin 6 (Coumarin6) for example, Alq 3 as a material for a green light emitting layer 16CG, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less. 緑色電子輸送層16DGの構成材料としては例えばAlq を用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 It is used Alq 3, for example, as the material of the green electron transport layer 16DG, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less.
【0021】 [0021]
続いて、真空を破らずに基板11を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図3(A)に示したように、蒸着マスク100をアライメントし、この蒸着マスク100を用いた蒸着法により、第1電極14の上に、青色正孔注入層16AB,青色正孔輸送層16BB,青色発光層16CBおよび青色電子輸送層16DBを含む青色有機層16Bを形成する。 Subsequently, conveyed to yet another deposition apparatus or evaporation chamber substrate 11 without breaking the vacuum, as shown in FIG. 3 (A), aligned deposition mask 100, using the deposition mask 100 deposited by law, on the first electrode 14, to form the blue organic layer 16B including a blue hole injection layer 16AB, the blue hole transport layer 16BB, the blue light emitting layer 16CB, and blue electron transport layer 16 dB. 青色正孔注入層16ABは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。 Blue hole injection layer 16AB is a buffer layer to prevent leakage and may be omitted if the level leak no trouble. 青色正孔輸送層16BBは、青色発光層16CBへの正孔注入効率を高めるためのものである。 Blue hole transport layer 16BB is intended to improve the efficiency of hole injection into the blue light emitting layer 16CB. 青色発光層16CBは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜15の開口部15Aに対応した領域で発光するようになっている。 The blue light emitting layer 16CB is recombination of electrons and holes by applying an electric field, which generates light, so as to emit light in a region corresponding to the opening 15A of the insulating film 15. 青色電子輸送層16DBは、青色発光層16CBへの電子注入効率を高めるためのものである。 Blue electron transport layer 16DB is intended to improve electron injection efficiency into the blue light emitting layer 16CB. なお、蒸着マスク100は、赤色有機層16Rまたは緑色有機層16Gの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。 Incidentally, the deposition mask 100 may be used the same as those used for forming the red organic layer 16R or the green organic layer 16G, it may be used another.
【0022】 [0022]
青色正孔注入層16ABの構成材料としては例えばm−MTDATAあるいは2−TNATAを用い、厚みを例えば15nm以上300nm以下とすることができる。 Using for example m-MTDATA or 2-TNATA as a constituent material of a blue hole injection layer 16AB, can be, for example, 15nm or 300nm or less thick. 青色正孔輸送層16BBの構成材料としては例えばα−NPDを用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 Used, for example alpha-NPD as a material of a blue hole transport layer 16BB, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less. 青色発光層16CBの構成材料としては例えばスピロ6Φ(spiro6Φ)を用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 Is used for example spiro 6Φ (spiro6Φ) as the constituent material of the blue light emitting layer 16CB, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less. 青色電子輸送層16DBの構成材料としては例えばAlq を用い、厚みを例えば15nm以上100nm以下とすることができる。 It is used Alq 3, for example, as the material of the blue electron transport layer 16 dB, it is possible to make the thickness of, for example, 15nm or 100nm or less.
【0023】 [0023]
このような順序をとる場合、最初に形成される赤色有機層16Rの上で蒸着マスク100をアライメントしたり交換したりすることになる。 When taking such an order, it will be or replaced aligned deposition mask 100 on the red organic layer 16R initially formed. しかし、赤色有機層16Rは総膜厚が厚いため、従来のように青色有機層16Bを最初に形成する場合に比較して蒸着マスク100の接触による悪影響が小さくてすむ。 However, since the total thickness red organic layer 16R is thicker, the negative effects to the contact of the deposition mask 100 as compared with the case of forming the blue organic layer 16B in the first as in the conventional small.
【0024】 [0024]
そののち、真空を破らずに基板11を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図3(B)に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えばフッ化リチウム(LiF)よりなる電子注入層17およびマグネシウム(Mg)−銀(Ag)合金よりなる半透過性電極18Aを順に形成する。 After that, transported to yet another deposition apparatus or evaporation chamber substrate 11 without breaking the vacuum, as shown in FIG. 3 (B), using an evaporation mask, not shown, for example, lithium fluoride (LiF) It becomes more electron injection layer 17 and the magnesium (Mg) - to form a semi-transparent electrode 18A made of silver (Ag) alloy in order. 電子注入層17の厚みは例えば1nm、半透過性電極18Aの厚みは例えば10nmとすることができる。 The thickness is, for example 1nm the electron injection layer 17, the thickness of the semi-transparent electrode 18A may be a 10nm, for example.
【0025】 [0025]
続いて、真空を破らずに基板11を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図4(A)に示したように、半透過性電極18Aの形成に用いた蒸着マスクと同様の図示しない蒸着マスクを用いて、例えばインジウム(In)と亜鉛(Zn)と酸素(O)とを含む化合物(IZO;Indium Zinc Oxide )よりなる透明電極18Bを形成する。 Subsequently, further transported to another deposition apparatus or evaporation chamber substrate 11 without breaking the vacuum, as shown in FIG. 4 (A), the same evaporation mask used to form the semi-transparent electrode 18A using unillustrated deposition mask, for example, indium (in) and zinc (Zn) and oxygen (O) and compounds including; forming a (IZO indium zinc Oxide) transparent electrode 18B made of. 透明電極18Bは、半透過性電極18Aの電気抵抗を下げるためのものであり、その厚みは例えば100nmとすることができる。 The transparent electrode 18B is intended to reduce the electric resistance of the semi-transparent electrode 18A, the thickness may be 100nm, for example. これにより、半透過性電極18Aと透明電極18Bとが積層された第2電極18を形成する。 This forms a second electrode 18 and the semi-transparent electrode 18A and the transparent electrode 18B are stacked.
【0026】 [0026]
そののち、真空を破らずに基板11を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図4(B)に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えば窒化ケイ素(SiN )よりなる保護膜19を形成する。 After that, transported to yet another deposition apparatus or evaporation chamber substrate 11 without breaking the vacuum, as shown in FIG. 4 (B), using an evaporation mask, not shown, for example, silicon nitride (SiN x) forming a protective film 19 become more. 保護膜19の厚みは例えば1μmとすることができる。 The thickness of the protective layer 19 may be a 1μm, for example.
【0027】 [0027]
続いて、図5に示したように、保護膜19の上に例えば熱硬化性樹脂よりなる接着層20を形成し、この接着層20を介して、基板11とカラーフィルタ32が形成された封止用基板31とを貼り合わせる。 Subsequently, as shown in FIG. 5, the adhesive layer 20 is formed of, for example, a thermosetting resin on the protective film 19, through the adhesive layer 20, sealing the substrate 11 and the color filter 32 is formed bonding the sealing substrate 31. そのとき、加熱などにより接着層20を硬化させる前に、カラーフィルタ32と赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bとをアライメントしておくことが望ましい。 Then, prior to curing the adhesive layer 20 by heating, it is desirable to alignment color filter 32 and the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B. 以上により、基板11に、赤色有機層16Rを有する赤色有機発光素子10R,緑色有機層16Gを有する緑色有機発光素子10Gおよび青色有機層16Bを有する青色有機発光素子10Bを備えた表示装置が完成する。 Thus, the substrate 11, a red organic light emitting element 10R having a red organic layer 16R, a display device including a blue organic light emitting element 10B having a green organic light emitting element 10G, and the blue organic layer 16B having a green organic layer 16G is completed .
【0028】 [0028]
このようにして形成された赤色有機発光素子10R,緑色有機発光素子10Gおよび青色有機発光素子10Bは、第1電極14の赤色発光層16CR,緑色発光層16CGまたは青色発光層16CB側の端面を第1端部P1、半透過性電極18Aの赤色発光層16CR,緑色発光層16CGまたは青色発光層16CB側の端面を第2端部P2とし、赤色有機層16R,緑色有機層16Gまたは青色有機層16Bを共振部として、赤色発光層16CR,緑色発光層16CGまたは青色発光層16CBで発生した光を共振させて第2端部P2の側から取り出す共振器構造を有している。 Thus the red organic light emitting element 10R that is formed, the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B includes a red light-emitting layer of the first electrode 14 16CR, the end face of the green light emitting layer 16CG or the blue light emitting layer 16CB side first first end P1, the red light emitting layer 16CR of the semi-transparent electrode 18A, the end face of the green light emitting layer 16CG or the blue light emitting layer 16CB side and the second end P2, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G or a blue organic layer 16B as resonance part, and a resonator structure is taken out from the side of the red light emitting layer 16CR, the green light emitting layer 16CG or the second end portion P2 by resonating light generated by the blue light emitting layer 16CB. このように共振器構造を有するようにすれば、赤色発光層16CR,緑色発光層16CGまたは青色発光層16CBで発生した光が多重干渉を起こし、一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができるので好ましい。 If so as to have such a resonator structure, the red light emitting layer 16CR, by green light emitting layer 16CG or the light generated by the blue light emitting layer 16CB undergoes multiple interference, act as a kind of narrow band filter, it is taken out half-value width of a spectrum of light is reduced, it is possible to improve color purity preferred. また、封止用基板31から入射した外光についても多重干渉により減衰させることができ、カラーフィルタ32との組合せにより赤色有機発光素子10R,緑色有機発光素子10Gおよび青色有機発光素子10Bにおける外光の反射率を極めて小さくすることができるので好ましい。 Also can be attenuated by the multiple interference on external light incident from the sealing substrate 31, the outside light in the red organic light emitting element 10R, the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B by a combination of the color filter 32 it is preferable because it is very small reflectance.
【0029】 [0029]
そのためには、共振器の第1端部P1と第2端部P2との間の光学的距離Lは数2を満たすようにし、共振器の共振波長(取り出される光のスペクトルのピーク波長)と、取り出したい光のスペクトルのピーク波長とを一致させることが好ましい。 For this purpose, the optical distance L between the first end P1 of the resonator and the second end portion P2 is to meet the number 2, and the resonance wavelength of the resonator (a peak wavelength of the spectrum of extracted light) it is preferable to match the peak wavelength of the spectrum of light desired to be extracted. 光学的距離Lは、実際には、数2を満たす正の最小値となるように選択することが好ましい。 Optical distance L is, in fact, it is preferable to select such a positive minimum value satisfying Equation 2.
【0030】 [0030]
【数2】 [Number 2]
(2L)/λ+Φ/(2π)=m (2L) / λ + Φ / (2π) = m
(式中、Lは第1端部P1と第2端部P2との間の光学的距離、Φは第1端部P1で生じる反射光の位相シフトΦ と第2端部P2で生じる反射光の位相シフトΦ との和(Φ=Φ +Φ )(rad)、λは第2端部P2の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、mはLが正となる整数をそれぞれ表す。なお、数2においてLおよびλは単位が共通すればよいが、例えば(nm)を単位とする。) (Wherein, L is an optical distance, [Phi reflection occurs at a phase shift [Phi 1 of reflected light generated in the first end portion P1 second end P2 between the first end portion P1 and the second end portion P2 the sum of the phase shifts [Phi 2 light (Φ = Φ 1 + Φ 2 ) (rad), λ is the peak wavelength of the spectrum of light desired to be extracted from the side of the second end portion P2, m is an integer which is a L positive respectively It represents. Incidentally, in the number 2 L and λ may be common the unit, the unit for example, (nm).)
【0031】 [0031]
この表示装置では、第1電極14と第2電極18との間に所定の電圧が印加されると、赤色発光層16CR,緑色発光層16CGまたは青色発光層16CBに電流が注入され、正孔と電子とが再結合することにより、発光が起こる。 In this display device, when a predetermined voltage is applied between the first electrode 14 and the second electrode 18, the red light emitting layer 16CR, the current green emission layer 16CG or the blue light emitting layer 16CB are injected, and the hole by and the electrons recombine, light emission occurs. この光は、第1端部P1と第2端部P2との間で多重反射し、第2電極18,カラーフィルタ32および封止用基板31を透過して取り出される。 This light has a first end portion P1 multiply reflected between the second end portion P2, the second electrode 18 is taken out through the color filter 32 and the sealing substrate 31. このとき、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bのうち総膜厚の最も薄い青色有機層16Bが最後に形成されているので、蒸着マスク100との度重なる接触に起因する青色有機層16Bのキズあるいは異物混入が防止されている。 Blue this time, the red organic layer 16R, since the thinnest blue organic layer 16B of the total thickness of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is formed last, due to repeated contact with the deposition mask 100 flaws or contamination of the organic layer 16B is prevented. よって、青色有機層16Bに多くの非発光欠陥が発生することが防止される。 Therefore, it is possible to prevent the number of non-luminescent defect occurs in the blue organic layer 16B.
【0032】 [0032]
このように、本実施の形態では、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bを、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い青色有機層16Bを最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。 Thus, in this embodiment, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, in order from those of a thick color total thickness. Thus formed for each color, the total thickness thinnest blue organic layer 16B was formed last, it is possible to improve display quality by preventing the occurrence of non-light emission defect.
【0033】 [0033]
〔変形例1〜変形例3〕 Modification 1 Modification 3]
以下、本実施の形態の変形例1〜変形例3について説明する。 Hereinafter, a description will be given of a variation 1 Modification 3 of the present embodiment.
【0034】 [0034]
本実施の形態において、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bのうち材料または厚みの同じ層がある場合には、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bに共通に形成するようにしてもよい。 In this embodiment, if there is a red organic layer 16R, the same layer of material or thickness of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, a common red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B it may be formed. このようにすることにより、材料が共通化されると共に製造工程が単純化されるので、製造効率を高めることができ、量産体制の確立に有利である。 By doing so, because the material is simplified manufacturing process while being common, it is possible to improve the manufacturing efficiency, it is advantageous to establish a mass production system. 以下の変形例1ないし変形例3はその具体例であるが、必ずしもこれらに限られるものではない。 Modification 1 to the third modification of the following is a specific example, but is not necessarily limited thereto.
【0035】 [0035]
(変形例1) (Modification 1)
例えば、図6(A)に示したように、赤色正孔注入層16AR,緑色正孔注入層16BRおよび青色正孔注入層16ABの材料および厚みを同じにして、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bに共通の連続正孔注入層46Aを形成する。 For example, as shown in FIG. 6 (A), red hole injection layer 16AR, and the material and thickness of the green hole injection layer 16BR and blue hole injection layer 16AB same, the red organic layer 16R, the green organic layer to 16G, and the blue organic layer 16B to form a common continuous hole injection layer 46A. そののち、図6(B)に示したように、赤色正孔輸送層16BR,赤色発光層16CRおよび赤色電子輸送層16DRを形成し、総膜厚の最も厚い赤色有機層16Rを形成する。 After that, as shown in FIG. 6 (B), red HTL 16br, to form a red light emitting layer 16CR and the red electron transport layer 16DR, forming the thickest red organic layer 16R having a total thickness. 次に、図7(A)に示したように、緑色正孔輸送層16BG,緑色発光層16CGおよび緑色電子輸送層16DGを形成し、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層16Gを形成する。 Next, as shown in FIG. 7 (A), the green hole transport layer 16BG, to form a green light emitting layer 16CG and the green electron transport layer 16DG, to form a thick green organic layer 16G to the second total thickness . 最後に、図7(B)に示したように、青色正孔輸送層16BB,青色発光層16CBおよび青色電子輸送層16DBを形成し、総膜厚の最も薄い青色有機層16Bを形成する。 Finally, as shown in FIG. 7 (B), the blue hole transport layer 16BB, to form a blue light emitting layer 16CB, and blue electron transport layer 16 dB, to form the thinnest blue organic layer 16B having a total thickness. なお、連続正孔注入層46Aは赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも2色に共通であればよい。 Incidentally, the continuous hole injection layer 46A has a red organic layer 16R, it is not necessary to form all of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, only the required color of them may be a common at least two colors.
【0036】 [0036]
(変形例2) (Modification 2)
あるいは、赤色電子輸送層16DR,緑色電子輸送層16DRおよび青色電子輸送層16DBの材料および厚みを同じにしてもよい。 Alternatively, the red electron transport layer 16DR, may be the same material and thickness of the green electron transport layer 16DR and blue electron transport layer 16 dB. この場合、まず、図8(A)に示したように、総膜厚の最も厚い赤色有機層16Rのうち赤色正孔注入層16AR,赤色正孔輸送層16BRおよび赤色発光層16CRを形成する。 In this case, first, as shown in FIG. 8 (A), red hole injection layer 16AR of the thickest red organic layer 16R of the total film thickness, to form the red hole transport layer 16BR and the red light emitting layer 16CR. 次に、図8(B)に示したように、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層16Gのうち緑色正孔注入層16AG,緑色正孔輸送層16BGおよび緑色発光層16CGを形成する。 Next, as shown in FIG. 8 (B), to form a green hole injection layer 16ag, green hole transport layer 16BG and the green light emitting layer 16CG of the thick green organic layer 16G to the second total film thickness. 続いて、図9(A)に示したように、総膜厚の最も薄い青色有機層16Bのうち青色正孔注入層16AB,青色正孔輸送層16BBおよび青色発光層16CBを形成する。 Subsequently, as shown in FIG. 9 (A), the blue hole injection layer 16AB of the most light blue organic layer 16B having a total thickness, to form the blue hole transport layer 16BB and the blue light emitting layer 16CB. 最後に、図9(B)に示したように、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bに共通の連続電子輸送層46Dを形成する。 Finally, as shown in FIG. 9 (B), the red organic layer 16R, form a common continuous electron transport layer 46D in the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B. なお、連続電子輸送層46Dは赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも2色に共通であればよい。 Incidentally, the continuous electron transport layer 46D is a red organic layer 16R, it is not necessary to form all of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, only the required color of them may be a common at least two colors.
【0037】 [0037]
(変形例3) (Modification 3)
更に、変形例1と変形例2とを重畳して行うようにしてもよい。 Furthermore, it may be performed by superimposing the first modification and the second modification. 例えば、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bに共通の連続正孔注入層46Aを形成する。 For example, to form a common continuous hole injection layer 46A red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B. そののち、総膜厚の最も厚い赤色有機層16Rのうち赤色正孔輸送層16BRおよび赤色発光層16CRを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層のうち緑色正孔輸送層16BGおよび緑色発光層16CGを形成し、続いて、総膜厚の最も薄い青色有機層16Bのうち青色正孔輸送層16BBおよび青色発光層16CBを形成し、最後に、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bに共通の連続電子輸送層46Dを形成する。 After that, to form the red hole transport layer 16BR and the red light emitting layer 16CR of the thickest red organic layer 16R of the total film thickness, then the green hole transport out of the thick green organic layer to the second total thickness forming a layer 16BG and the green light emitting layer 16CG, subsequently, to form a blue hole transport layer 16BB and the blue light emitting layer 16CB of the most light blue organic layer 16B having a total thickness, finally, the red organic layer 16R, the green form a common continuous electron transport layer 46D organic layer 16G, and the blue organic layer 16B.
【0038】 [0038]
【実施例】 【Example】
更に、本発明の具体的な実施例について説明する。 Furthermore, a description will be given of a specific embodiment of the present invention.
【0039】 [0039]
上記実施の形態と同様にして、表示装置を作製した。 In the same manner as the above embodiment, to prepare a display device. その際、赤色有機層16Rの総膜厚を150nm、緑色有機層16Gの総膜厚を110nm、青色有機層16Bの総膜厚を70nmとし、それらの総膜厚の厚い色から順に、すなわち赤色有機層16R,緑色有機層16G,青色有機層16Bの順で、各色別に形成した。 At that time, the total thickness of the red organic layer 16R 150 nm, 110 nm and the total thickness of the green organic layer 16G, and 70nm the total thickness of the blue organic layer 16B, in order from those of a thick color total thickness, i.e. red the organic layer 16R, the green organic layer 16G, in the order of the blue organic layer 16B, is formed for each color.
【0040】 [0040]
本実施例に対する比較例として、従来のように輝度の低い色から順に、すなわち青色有機層16B,赤色有機層16R,緑色有機層16Gの順で、各色別に形成したことを除き、本実施例と同様にして表示装置を作製した。 As a comparative example for the present embodiment, in order from the low color brightness as in the prior art, namely the blue organic layer 16B, the red organic layer 16R, in the order of green organic layer 16G, except for the formation for each color, the present embodiment to prepare a display device in the same manner.
【0041】 [0041]
得られた実施例および比較例の表示装置について、所定の電流値で連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を調べた。 The display device obtained in Examples and Comparative Examples were examined the time course of the non-emission defects when is continuously turned on at a predetermined current value. その結果を図10に示す。 The results are shown in Figure 10. 図10では、比較例における360時間連続点灯させたときの青色の非発光欠陥の数を100として、実施例および比較例における各色の非発光欠陥の経時変化を表している。 In Figure 10, as 100 the number of blue non-luminous defects obtained while 360 ​​hours of continuous lighting in the comparative example, represent the time course of the non-emission defects of each color in the Examples and Comparative Examples.
【0042】 [0042]
本実施例と比較例との初期特性を比較したところ、発光効率および色度は同等であったが、本実施例の方が比較例に比べて初期の非発光欠陥が少なかった。 A comparison of the initial characteristics of the comparative example with the present embodiment, luminous efficiency and chromaticity was the same, towards the present embodiment the initial non-emission defect was less than that of Comparative Example. また、連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を比較したところ、比較例では特に青色で非発光欠陥が著しく増加したのに対して、本実施例では青色の非発光欠陥はほとんど増加せず、大幅に改善することができた。 In addition, when comparing the time course of the non-emission defects when is continuously lit, whereas increased particularly significantly nonradiative defects in blue in the comparative example, non-emission defects blue in this embodiment almost not increase It not, could be greatly improved. すなわち、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層を、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば、非発光欠陥の増加を抑えることができることが分かった。 That is, the red organic layer, a green organic layer, and the blue organic layer, in order from those of a thick color total thickness, if so as to form for each color, it has been found that it is possible to suppress an increase in non-light emission defect.
【0043】 [0043]
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。 Although the present invention has been described with the embodiment and the examples, the present invention is not limited to the embodiments and the examples, and various modifications may be made. 例えば、上記実施の形態では、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bのすべての層を、総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにした場合について説明したが、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bのうち材料または厚みの異なる層のみを、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成すれば足りる。 For example, in the above embodiment, the red organic layer 16R, all layers of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, in order from the thick colors total thickness has been described with the case of forming for each color, red organic layer 16R, only the different layers of material or thickness of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, the red organic layer 16R, the total thickness of the thick color green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B in this order, each color it is sufficient to form separately.
【0044】 [0044]
具体的には、例えば、赤色有機層16Rのうち少なくとも赤色正孔輸送層16BRおよび赤色発光層16CRと、緑色有機層16Gのうち少なくとも緑色正孔輸送層16BGおよび緑色発光層16CGと、青色有機層16Bのうち少なくとも青色正孔輸送層16BBおよび青色発光層16CBとを、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。 Specifically, for example, at least a red hole transport layer 16BR and the red light emitting layer 16CR, and at least the green hole transport layer 16BG and the green light emitting layer 16CG of the green organic layer 16G, a blue organic layer of the red organic layer 16R and at least blue hole transport layer 16BB and the blue light emitting layer 16CB of the 16B, the red organic layer 16R, the total thickness of the thick color green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B in this order, be formed for each color good. なぜなら、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bの総膜厚は、実際には、赤色正孔輸送層16BRおよび赤色発光層16CR,緑色正孔輸送層16BGおよび緑色発光層16CG,ならびに青色正孔輸送層16BBおよび青色発光層16CBの厚みのみを変えることにより、光学的距離Lが数2を満たすように制御することが可能な場合があるからである。 This is because the red organic layer 16R, the total thickness of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B has, in fact, red hole transport layer 16BR and the red light emitting layer 16CR, the green hole transport layer 16BG and the green light emitting layer 16CG, and by changing only the thickness of the blue hole transport layer 16BB and the blue light emitting layer 16CB, there is a case that can be controlled so that the optical distance L satisfies the equation (2). また、赤色正孔注入層16AR,緑色正孔注入層16AGあるいは青色正孔注入層16AB、または赤色電子輸送層16BR,緑色電子輸送層16DGあるいは青色電子輸送層16DBは、しばしば省略され、あるいは、すべての色の有機発光素子に設けられるとは限らないからである。 The red hole injection layer 16AR, the green hole injection layer 16AG or blue hole injection layer 16AB or red electron transport layer 16br, green electron transport layer 16DG or blue electron transport layer 16 dB, is often omitted, or all the provided color organic light emitting element is not always.
【0045】 [0045]
また、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bの総膜厚を、赤色発光層16CR,緑色発光層16CGおよび青色発光層16CBの厚みのみを変えることにより、光学的距離Lが数2を満たすように制御することが可能な場合には、赤色有機層16Rのうち少なくとも赤色発光層16CRと、緑色有機層16Gのうち少なくとも緑色発光層16CGと、青色有機層16Bのうち少なくとも青色発光層16CBとを、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。 The number red organic layer 16R, the total thickness of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, the red light emitting layer 16CR, by changing only the thickness of the green light emitting layer 16CG and the blue light emitting layer 16CB, the optical distance L is If that can be controlled to satisfy the 2 includes at least a red light-emitting layer 16CR of the red organic layer 16R, and at least the green light emitting layer 16CG of the green organic layer 16G, at least blue light emission of the blue organic layer 16B a layer 16CB, the red organic layer 16R, the total thickness of the thick color green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B in this order, may be formed for each color.
【0046】 [0046]
更にまた、上記実施の形態および実施例では、赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bを低分子材料により構成する場合について説明したが、本発明は、有機層に高分子材料を用いる場合にも適用することができる。 Furthermore, in the foregoing embodiment and examples, the red organic layer 16R, the description has been given of the case that constitutes the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B low molecular material, the present invention is a polymer material in the organic layer it can be applied to the case of using. ここで高分子材料とは、分子量10000以上のものである。 Here, the polymeric material, is more than a molecular weight of 10,000. この場合、例えば、赤色有機層は赤色正孔輸送層および赤色発光層を含み、緑色有機層は緑色正孔輸送層および緑色発光層を含み、青色有機層は青色正孔輸送層および青色発光層を含む構成とすることができる。 In this case, for example, red organic layer comprises a red hole transport layer and the red light emitting layer, the green organic layer comprises a green hole transport layer and the green light-emitting layer, the blue organic layer is blue hole transport layer and the blue luminescent layer it can be configured to include. また、共振器構造を導入する場合には、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層の総膜厚は、赤色発光層,緑色発光層および青色発光層の厚みのみを変えることにより、光学的距離Lが数2を満たすように制御することが可能である。 Further, in the case of introducing a resonator structure, the red organic layer, the total thickness of the green organic layer and the blue organic layer, red emitting layer, by changing only the thickness of the green light emitting layer and blue light emitting layer, optical distance L can be controlled so as to satisfy formula 2. よって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば足りる。 Therefore, at least the red light-emitting layer of the red organic layer, at least the green light-emitting layer of the green organic layer and at least blue light-emitting layer of the blue organic layer, a red organic layer, the total film of the green organic layer and the blue organic layer in order from the thickness of a thick color, it is sufficient to so as to form for each color.
【0047】 [0047]
加えてまた、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。 Additionally Also, for example, the material and thickness of each layer described in the above embodiment or the like method and conditions of forming are not limited, but other material, other thickness, or other film forming, it may be used as the method and the deposition conditions. 例えば、上記実施の形態においては、基板11の上に、第1電極14,赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16B,ならびに第2電極18を基板11の側から順で積層し、封止用基板31の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板11の上に、第2電極18,赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16B,ならびに第1電極14を基板11の側から順に積層し、基板11の側から光を取り出すようにすることもできる。 For example, in the foregoing embodiment, on the substrate 11, the first electrode 14, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, and the second electrode 18 are laminated in this order from the side of the substrate 11 It has been described as being to extract light from the side of the sealing substrate 31, and the stacked in reverse order, on the substrate 11, the second electrode 18, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and blue the organic layer 16B, and the first electrode 14 are laminated from the side of the substrate 11 in this order, it is also possible to take out light from the side of the substrate 11.
【0048】 [0048]
更にまた、例えば、上記実施の形態では、第1電極14を陽極、第2電極18を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第1電極14を陰極、第2電極18を陽極としてもよい。 Furthermore, for example, in the above embodiment, the first electrode 14 anode, there has been described a case where the second electrode 18 and the cathode, and the anode and the cathode reversed, the first electrode 14 cathode, the second electrode 18 may be used as the anode. さらに、第1電極14を陰極、第2電極18を陽極とすると共に、基板11の上に、第2電極18,赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16B,ならびに第1電極14を基板11の側から順に積層し、基板11の側から光を取り出すようにすることもできる。 Further, the first electrode 14 cathode, with the second electrode 18 as an anode, on the substrate 11, the second electrode 18, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, and the first electrode 14 the laminated from the side of the substrate 11 in this order, it is also possible to take out light from the side of the substrate 11.
【0049】 [0049]
加えてまた、上記実施の形態では、赤色有機発光素子10R,緑色有機発光素子10Gおよび青色有機発光素子10Bの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。 In addition also the embodiment, the red organic light emitting element 10R, has been described the configuration of the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B are specifically mentioned, it is not necessary to provide all layers, also, it may be further provided with other layers. 例えば、第1電極14と赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bとの間に、酸化クロム(III)(Cr ),ITO(Indium−Tin Oxide:インジウム(In)およびスズ(Sn)の酸化物混合膜)などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。 For example, the first electrode 14 and the red organic layer 16R, between the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, chromium oxide (III) (Cr 2 O 3 ), ITO (Indium-Tin Oxide: indium (In) and oxides of tin (Sn) mixed film) may include a hole injection thin film layer made of. また、例えば第1電極14を、誘電体多層膜またはAlなどの反射膜の上部に透明導電膜を積層した2層構造とすることもできる。 Further, for example, the first electrode 14 may be a two-layer structure in which an upper transparent conductive film of the reflective layer is deposited, such as a dielectric multilayer film or Al. この場合、この反射膜の発光層側の端面が共振部の端部を構成し、透明導電膜は共振部の一部を構成することになる。 In this case, the end surface of the light-emitting layer side of the reflective film constitutes the end portion of the resonance section, the transparent conductive film constitutes a part of the resonant portion.
【0050】 [0050]
更にまた、上記実施の形態では、第2電極18が半透過性電極18Aと透明電極18Bとが第1電極14の側から順に積層されている場合について説明したが、第2電極14は、半透過性電極18Aのみを有する構成としてもよい。 Furthermore, in the above embodiment, the second electrode 18 has been described the case where the semi-transparent electrode 18A and the transparent electrode 18B are stacked in this order from the side of the first electrode 14, second electrode 14, the semi it may be configured to have only transparent electrode 18A.
【0051】 [0051]
加えてまた、上記実施の形態において、半透過性電極18Aを一方の端部とし、透明電極18Bを挟んで半透過性電極18Aに対向する位置に他方の端部を設け、透明電極18Bを共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。 Additionally Further, in the above-mentioned embodiment, the semi-transparent electrode 18A and one end and the other end arranged at a position facing each other across the transparent electrode 18B in semi-transparent electrode 18A, the resonant transparent electrode 18B it may be form a resonator structure and parts. さらに、そのような共振器構造を設けた上で、赤色有機発光素子10R,緑色有機発光素子10Gおよび青色有機発光素子10Bを保護膜19で覆うようにし、この保護膜19を、透明電極18Aを構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜19を共振部の一部とすることができ、好ましい。 Furthermore, in terms of providing such a resonator structure, the red organic light emitting element 10R, the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B so as to cover with the protective film 19, the protective film 19, a transparent electrode 18A if made of a material having material about the same refractive index constituting, it is possible to the protective film 19 and part of the resonant portion, preferably.
【0052】 [0052]
更にまた、本発明は、第2電極18を透明電極18Bにより構成すると共に、この透明電極18Bの赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bと反対側の端面の反射率が大きくなるように構成し、第1電極14の赤色発光層16R,緑色発光層16Gおよび青色発光層16B側の端面を第1端部、透明電極18Bの赤色有機層16R,緑色有機層16Gおよび青色有機層16Bと反対側の端面を第2端部とした共振器構造を構成した場合についても適用することができる。 Furthermore, the present invention, together with the second electrode 18 constituting a transparent electrode 18B, the red organic layer 16R of the transparent electrode 18B, the reflectance of the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B opposite the end surface of the larger configured as a red light emitting layer 16R, the green light emitting layer 16G and the first end portion of the end surface of the blue light emitting layer 16B side, the red organic layer 16R of the transparent electrode 18B, a green organic layer 16G, and the blue organic layer of the first electrode 14 can also be applied to case where the resonator structure of the end face of 16B opposite to the second end. 例えば、透明電極18Bを大気層に接触させ、透明電極18Bと大気層との境界面の反射率を大きくして、この境界面を第2端部としてもよい。 For example, the transparent electrode 18B is contacted to the air layer, by increasing the reflectivity of the interface between the transparent electrode 18B and the air layer, and the interface is used as the second end. また、接着層20との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第2端部としてもよい。 Also, by increasing the reflectivity at the interface between the adhesive layer 20, and the interface is used as the second end. 更に、保護膜19との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第2端部としてもよい。 Furthermore, by increasing the reflectivity at the interface between the protective film 19, and the interface is used as the second end.
【0053】 [0053]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
以上説明したように本発明の表示装置の製造方法によれば、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層,緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い色の発光層を最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。 According to the manufacturing method of the display device of the present invention as described above, and at least a red light-emitting layer of the red organic layer, at least the green light-emitting layer of the green organic layer and at least blue light-emitting layer of the blue organic layer red organic layer, the total thickness of the thick color green organic layer and the blue organic layer sequentially. Thus formed for each color, to form a light emitting layer of the thinnest color total thickness of the end, the non-light emission defects it is possible to enhance the display quality by preventing the occurrence of.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。 1 is a sectional view showing the step of the production method of a display device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1に続く工程を表す断面図である。 It is a cross-sectional view illustrating a process following FIG. 1;
【図3】図2に続く工程を表す断面図である。 3 is a sectional view illustrating a process following FIG.
【図4】図3に続く工程を表す断面図である。 It is a cross-sectional view illustrating a process following FIG. 3; FIG.
【図5】図4に続く工程を表す断面図である。 5 is a sectional view illustrating a process following FIG.
【図6】本発明の変形例1に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。 6 is a cross-sectional view showing a manufacturing method in process order of the display device according to a first modification of the present invention.
【図7】図6に続く工程を表す断面図である。 7 is a sectional view illustrating a process following FIG.
【図8】本発明の変形例2に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。 8 is a sectional view showing a step of the production method of a display device according to a second modification of the present invention.
【図9】図8に続く工程を表す断面図である。 9 is a cross-sectional view illustrating a process following FIG.
【図10】本発明の実施例および比較例における非発光欠陥の数の経時変化を表す図である。 10 is a diagram representing the change over time in the number of non-light emission defects in the examples and comparative examples of the present invention.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
10R…赤色有機発光素子、10G…緑色有機発光素子、10B…青色有機発光素子、11…基板、12…TFT、13…平坦化膜、13A…コンタクトホール、14…第1電極、15…絶縁膜、16R…赤色有機層、16AR…赤色正孔注入層、16BR…赤色正孔輸送層、16CR…赤色発光層、16DR…赤色電子輸送層、16G…緑色有機層、16AG…緑色正孔注入層、16BG…緑色正孔輸送層、16CG…緑色発光層、16DG…緑色電子輸送層、16B…青色有機層、16AB…青色正孔注入層、16BB…青色正孔輸送層、16CB…青色有機層、16DB…青色電子輸送層、17…電子注入層、18…第2電極、18A…半透過性電極、18B…透明電極、19…保護膜、20…接着層、31…封止用基板、32…カラ 10R ... red organic light emitting element, 10G ... green organic light emitting element, 10B ... blue organic light emitting element, 11 ... substrate, 12 ... TFT, 13 ... flattening film, 13A ... contact hole 14 ... first electrode, 15 ... insulating film , 16R ... red organic layer, 16AR ... red hole injection layer, 16br ... red HTL, 16CR ... red light emitting layer, 16DR ... red electron transport layer, 16G ... green organic layer, 16ag ... green hole injection layer, 16BG ... green hole transport layer, 16CG ... green light emitting layer, 16DG ... green electron transport layer, 16B ... blue organic layer, 16AB ... blue hole injection layer, 16BB ... blue hole transport layer, 16CB ... blue organic layer, 16 dB ... blue electron transport layer, 17 ... electron injection layer, 18 ... second electrode, 18A ... semi-transparent electrode, 18B ... transparent electrode, 19 ... protective film, 20 ... adhesive layer, 31 ... sealing substrate, 32 ... color フィルタ、100…蒸着マスク Filter, 100 ... deposition mask

Claims (8)

  1. 基板に、赤色発光層を含む赤色有機層を有する赤色有機発光素子と、緑色発光層を含む緑色有機層を有する緑色有機発光素子と、青色発光層を含む青色有機層を有する青色有機発光素子とを備え、前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚を互いに異ならせた表示装置の製造方法であって、 A substrate, a red organic light emitting device having a red organic layer containing the red light-emitting layer, a green organic light emitting device having a green organic layer containing the green light-emitting layer, and a blue organic light emitting device having a blue organic layer containing the blue light-emitting layer wherein the red organic layer, a process for the preparation of the green organic layer and the and the total thickness of the blue organic layer was different from each other display device,
    前記赤色有機層のうち少なくとも前記赤色発光層と、前記緑色有機層のうち少なくとも前記緑色発光層と、前記青色有機層のうち少なくとも前記青色発光層とを、前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成することを特徴とする表示装置の製造方法。 At least the red light-emitting layer of the red organic layer, wherein at least the green light-emitting layer of the green organic layer and at least the blue light-emitting layer of the blue organic layer, the red organic layer, the green organic layer and method for manufacturing a display device, characterized in that in order from the total thickness of the thicker color of the blue organic layer, is formed for each color.
  2. 前記赤色有機発光素子,前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子は、前記赤色発光層,前記緑色発光層および前記青色発光層で発生した光を第1端部と第2端部との間で共振させる共振器構造を有するものであることを特徴とする請求項1記載の表示装置の製造方法。 The red organic light emitting element, the green organic light emitting element and the blue organic light emitting device, between the red light emitting layer, said green light emitting layer and said blue light emitting first end of the light generated in the layer and a second end method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein the one having a resonator structure in resonating.
  3. 前記第1端部で生じる反射光の位相シフトと前記第2端部で生じる反射光の位相シフトとの和をΦ、前記第1端部と前記第2端部との間の光学的距離をL、前記第2端部の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλとすると、前記光学的距離が数1を満たすようにすることを特徴とする請求項2記載の表示装置の製造方法。 Wherein the sum of the phase shift of reflected light generated in the first end portion and a phase shift of reflected light generated in the second end portion [Phi, the optical distance between the first end and the second end L, wherein when the peak wavelength of the spectrum of light desired to be extracted from the side of the second end and lambda, a method of manufacturing a display device according to claim 2, characterized in that the optical distance is set to satisfy Equation 1 .
  4. 前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚を、厚い方から赤色有機層,緑色有機層,青色有機層の順とすることを特徴とする請求項3記載の表示装置の製造方法。 The red organic layer, the total thickness of the green organic layer and the blue organic layer, the red organic layer thicker, the green organic layer, the display device according to claim 3, characterized in that the order of the blue organic layer the method of production.
  5. 前記赤色有機層のうち少なくとも前記赤色発光層および赤色正孔輸送層と、前記緑色有機層のうち少なくとも前記緑色発光層および緑色正孔輸送層と、前記青色有機層のうち少なくとも前記青色発光層および青色正孔輸送層とを、前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成することを特徴とする請求項1記載の表示装置の製造方法。 At least the green light-emitting layer and the green hole transport layer of at least the red light-emitting layer and the red hole transport layer and the green organic layer of the red organic layer, at least the blue light-emitting layer of the blue organic layer, and a blue hole transport layer, the red organic layer, in order from the thick color of the total thickness of the green organic layer and the blue organic layer, manufacturing of a display device according to claim 1, wherein the forming for each color Method.
  6. 前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層のうち材料および厚みの同じ層を、前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層のうち少なくとも2色に共通の連続層として形成することを特徴とする請求項1記載の表示装置の製造方法。 Forming the red organic layer, the same layer of material and thickness of the green organic layer and the blue organic layer, the red organic layer, as a common continuous layer on at least two colors of the green organic layer and the blue organic layer method of manufacturing a display device according to claim 1, characterized in that.
  7. 前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層を、低分子材料により構成することを特徴とする請求項1記載の表示装置の製造方法。 The red organic layer, the green organic layer and the blue organic layer, a method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein the configuring the low molecular material.
  8. 前記赤色有機層,前記緑色有機層および前記青色有機層を、蒸着マスクを用いた蒸着法により、各色別に形成することを特徴とする請求項1記載の表示装置の製造方法。 The red organic layer, the green organic layer and the blue organic layer, by an evaporation method using an evaporation mask, a method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein the forming for each color.
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