JP2010010089A - 導電性ポリマー材料 - Google Patents

Abstract

【課題】導電性を損ねることなく、光耐久性に優れた導電性ポリマー材料を提供する。
【解決手段】本発明の導電性ポリマー材料は、支持体上に、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である少なくとも一層の紫外線吸収層を有し、支持体上のいずれかの層に導電性ポリマーを含有する。導電性ポリマーは前記紫外線吸収層に含有されても、紫外線吸収層とは別の層に含有されてもよい。また、本発明の導電性ポリマー材料は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である支持体上に、導電性ポリマーを含有する層を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、導電性ポリマー材料に関する。

近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、更にエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子などに代表される画像表示体（ディスプレイ）が、テレビ、コンピューターや近年普及してきた各種モバイル装置などの様々な分野で広く用いられている。また、地球環境に配慮した脱化石エネルギーとして太陽電池が注目され、更なる普及への要求に応えるべく、高機能化などの開発が求められている。このような表示素子や太陽電池には導電性膜が使用されている。

ＩＴＯ系導電性膜をはじめとする金属系材料を用いた導電性膜は、ガラス基板上に金属系材料を真空蒸着法やスパッタリング法などの気相法により製膜して製造するのが一般的である。携帯電話やモバイルなどの表示素子については軽量化が進められ、表示素子基板もガラスからプラスチックへの移行が求められている。プラスチック基板の導入で表示素子の重量は従来の半分以下となり、強度や耐衝撃性が著しく向上している。

しかしながら、ＩＴＯ系導電性膜ではガラス基板からプラスチックフィルムに代えることにより密着性が低下し、基材と形成された導電性膜とが剥がれやすいという問題があった。またＩＴＯなどの金属系材料は通常、スパッタなどの気相法を用いて成膜するために製造装置に多大な費用が必要であった。

これらに代わる導電性材料として導電性ポリマーが知られている。導電性ポリマーを用いることで、導電性を発現する薄膜を塗布によって形成することが可能となり、安価に製造できるという利点を有する。また、導電性ポリマーで作られた電極はＩＴＯ電極よりフレキシブルであり、脆性が低く、可撓性を有するものに使用しても破損し難い。このような利点を有することから、特に高フレキシブル電極が必要とされるタッチスクリーンに導電性ポリマーで作られた電極を適用すると、装置の寿命を延ばすことができるという利点をも有するものである。

このような導電性ポリマーとしてポリアニオンを含むポリチオフェンが開発され、これを用いて導電性膜を形成する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、この導電性膜は耐久性がＩＴＯ膜などに比較してやや弱く、ある用途に対しては実用上充分な耐久性を達成し得ないことが明らかになった。特に、導電性膜を表示装置などに適用する場合には、光耐久性、つまりある程度以上の光が照射された後においても透明性や導電度が低下しないことが重要である。

これに対して、導電層に紫外線吸収剤を添加した導電性膜が提案されている（例えば、特許文献２〜４参照。）。
具体的には、前記特許文献２では、導電層に紫外線吸収剤を添加することで、紫外線吸収層という独立した層を追加することなく、表示装置の中に含まれる有機発光ダイオード材料の波長４００ｎｍ未満の光による劣化を抑え、当該表示装置の寿命又は画質及び色特性を改良するタッチスクリーン等を提供できるとしている。なお、当該特許文献において最も好適な紫外線吸収剤として、３８０ｎｍよりも長波長の光に対して殆ど又は全く吸収を示さない吸収剤を挙げている。
また、前記特許文献３では、紫外線照射による導電性の低下を防止するために、特定の構造を有するベンゾフェノン化合物を添加した導電性高分子溶液が開示されている。
前記特許文献４では、紫外線吸収剤を含有する基材フィルム上に透明導電塗膜層を有する導電性フィルムは、導電性の経時劣化が小さく耐久性に優れているとしている。
欧州特許第４４０９５７号明細書 特開２００３−３０８７３６号公報 特開２００８−３１２０４号公報 特開２００６−２９４５３３号公報

これまでの技術では、導電性フィルムと紫外線吸収剤を組み合わせることで、紫外線などの光照射による導電性の劣化を抑えている。しかしながら、実用に向けては、導電性フィルムについて、光に対する安定性の更なる改善が望まれていた。
そこで本発明の課題は、導電性を損ねることなく、従来よりも光耐久性に優れた導電性ポリマー材料を提供することにある。なお、本発明において「光耐久性」とは、屋外光、もしくは例えばキセノンランプ光源などの光源で一定時間照射した後の表面抵抗値の変動が少ないことをいう。また、透明な導電性ポリマー材料の場合には、表面抵抗値に加えて定時間照射した後の透過率の変動が少ないことをいう。

上記状況を鑑み、本発明者らは鋭意研究を行なったところ、特定の紫外線吸収層を備える導電性ポリマー材料は、導電性を損ねることなく、光耐久性に優れることを知見として得、この知見に基づいて更に検討し、本発明を完成するに至った。
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。

＜１＞ 支持体上に、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である少なくとも一層の紫外線吸収層を有し、支持体上のいずれかの層に導電性ポリマーを含有することを特徴とする導電性ポリマー材料である。

＜２＞ 前記導電性ポリマーが、前記紫外線吸収層に含有されてなることを特徴とする前記＜１＞に記載の導電性ポリマー材料である。

＜３＞ 前記導電性ポリマーを含有する層が、前記紫外線吸収層とは別に設けられてなることを特徴とする前記＜１＞に記載の導電性ポリマー材料である。

＜４＞ 前記紫外線吸収層が、ベンゾオキサゾール誘導体を含有することを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜５＞ 前記ベンゾオキサゾール誘導体が、下記一般式（１）で表されることを特徴とする前記＜４＞に記載の導電性ポリマー材料である。

一般式（１）中、Ｒ^２１及びＲ^２４は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルキコキシ基を表し、Ｒ^２２及びＲ^２３は、各々独立にアルキル基を表す。Ａは置換アリール基又は置換エテニル基を表す。

＜６＞ 波長３７０ｎｍの光に対する前記紫外線吸収層の透過率が２０％以下であることを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜７＞ 波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である支持体上に、導電性ポリマーを含有する層を備えることを特徴とする導電性ポリマー材料である。

＜８＞ 前記支持体が、ベンゾオキサゾール誘導体を含有することを特徴とする前記＜７＞に記載の導電性ポリマー材料である。

＜９＞ 前記ベンゾオキサゾール誘導体が、下記一般式（１）で表されることを特徴とする前記＜８＞に記載の導電性ポリマー材料である。

一般式（１）中、Ｒ^２１及びＲ^２４は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルキコキシ基を表し、Ｒ^２２及びＲ^２３は、各々独立にアルキル基を表す。Ａは置換アリール基又は置換エテニル基を表す。

＜１０＞ 波長３７０ｎｍの光に対する前記支持体の透過率が２０％以下であることを特徴とする前記＜７＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１１＞ 前記導電性ポリマーが、π共役ポリマーであることを特徴とする前記＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１２＞ 前記導電性ポリマーが、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１つであることを特徴とする前記＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１３＞ 前記導電性ポリマーが、ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェンを含むことを特徴とする前記＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１４＞ 前記導電性ポリマーを含有する層が、更にドーパントとしてポリスチレンスルホン酸を含有することを特徴とする前記＜１＞〜＜１３＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１５＞ 前記支持体が、可撓性支持体であることを特徴とする前記＜１＞〜＜１４＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１６＞ 前記支持体が、ポリエチレンテレフタレートを含んで形成されてなることを特徴とする前記＜１＞〜＜１５＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１７＞ 更に、極大吸収波長が３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であり、半値幅が５５ｎｍ以下であり、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上である化合物を含有することを特徴とする前記＜１＞〜＜１６＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

＜１８＞ 更に、下記一般式（２）で表される化合物を含むことを特徴とする、前記＜１＞〜＜１７＞のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料である。

一般式（２）中、Ａ^２１及びＡ^２２は、水素原子及び炭素原子以外の原子を表し、（Ｂ）はＡ^２１及びＡ^２２が互いに連結して５又は６員環を形成するのに必要な原子群を表す。Ｙ^２１及びＹ^２２は各々独立に水素原子又は１価の置換基を表す。但しＹ^２１及びＹ^２２のうち少なくとも一方は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２以上の置換基を表す。また、Ｙ^２１及びＹ^２２は、互いに結合して環を形成してもよい。

本発明によれば、導電性を損ねることなく、光耐久性に優れた導電性ポリマー材料を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。

本発明の導電性ポリマー材料は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である少なくとも一層の紫外線吸収層を有し、いずれかの層に導電性ポリマーを含有する。または、本発明の導電性ポリマー材料は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である支持体上に、導電性ポリマーを含有する層を備える。

具体的な導電性ポリマー材料の層構成の例を、図１（Ａ）〜（Ｄ）に示す。
図１（Ａ）の導電性ポリマー材料は、支持体１０の光入射側に紫外線吸収層２０を備え、支持体１０の紫外線吸収層２０とは反対面に導電性ポリマーを含有する層（以下「導電性ポリマー層」と称する）３０を備える。
図１（Ｂ）の導電性ポリマー材料は、支持体１０の光入射側に、導電性ポリマーを含有する紫外線吸収層２１を備える。
図１（Ｃ）の導電性ポリマー材料は、紫外線吸収剤を含有する支持体１２が紫外線吸収層としても機能し、光入射側ではない面に導電性ポリマー層３０を備える。
図１（Ｄ）の導電性ポリマー材料は、支持体１０の光入射側ではない面に、支持体側から順に、紫外線吸収層２０、導電性ポリマー層３０を備える。

支持体の紫外線劣化を抑える観点からは、図１（Ａ）〜（Ｃ）の導電性ポリマー材料が好ましい。湿熱耐久性の向上（高湿度下で放置後の透過率および表面抵抗値の変動が少ない）という観点からは、紫外線吸収層と導電性ポリマー層とが隣接するか、或いは紫外線吸収層に導電性ポリマーを含有する場合が好適であり、具体的には図１（Ｂ）〜（Ｄ）の導電性ポリマー材料が好ましい。
図１（Ａ）〜（Ｄ）では、支持体上に１層又は２層を備える導電性ポリマー材料を示したが、３層以上を備えていてもよい。例えば、紫外線吸収層や導電性ポリマー層を複数層備えたり、更に保護層や中間層を設けてもよい。

以下、図１（Ａ）の態様の導電性ポリマー材料を「第一の実施形態の導電性ポリマー材料」、図１（Ｂ）の態様の導電性ポリマー材料を「第二の実施形態の導電性ポリマー材料」、図１（Ｃ）の態様の導電性ポリマー材料を「第三の実施形態の導電性ポリマー材料」、図１（Ｄ）の態様の導電性ポリマー材料を「第四の実施形態の導電性ポリマー材料」として説明を行う。

＜第一の実施形態＞
図１（Ａ）で表される第一の実施形態の導電性ポリマー材料は、支持体１０の光入射側に紫外線吸収層２０を備え、支持体１０の紫外線吸収層２０とは反対面に導電性ポリマー層３０を備える。

（紫外線吸収層）
第一の実施形態の紫外線吸収層２０は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である。好ましくは、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が３０％以下であり、更に好ましくは、２０％以下である。
なお、一般的に紫外線とは、可視光よりも波長が短く（約４００ｎｍ以下）、Ｘ線よりも波長の長い（約１０ｎｍ）電磁波をいう。本発明における「紫外線吸収層」とは、３００ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光を５０％吸収するものをいう。

本発明における紫外線吸収層が波長４１０ｎｍの光を吸収し、結果、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下であることによって、導電性ポリマー材料の光耐久性が向上する理由は明らかではないが、波長４１０ｎｍの光は導電性ポリマーに吸収されることにより励起状態を経由して分解を促進させるものと推測される。よって、これを吸収して透過率を４０％以下に低減することで、導電性ポリマーの分解を促進させる光の吸収量が減少し、結果、導電性ポリマー材料における光照射後の透過率の変動が少なくなるものと推測される。また、波長４１０ｎｍの光を吸収して透過率を４０％以下に低減することで、導電性ポリマーによる光の吸収が減少し、光照射後の表面抵抗値の変動が少なくなるものと推測される。特に、屋内で導電性ポリマーを使用する場合、蛍光灯には４１０ｎｍ付近に輝線が存在するため、４１０ｎｍの光を紫外線吸収層で吸収することが効果的に導電性ポリマーの光耐久性を向上させることが可能となる。
しかしながら、本発明は上記推測によって限定されることは無い。

波長４１０ｎｍの光に対する紫外線吸収層２０の透過率は、市販の紫外・可視吸収スペクトル測定器で測定することができる。

また、紫外線吸収層による波長４１０ｎｍの光の透過率は、紫外線吸収剤の種類の選定、紫外線吸収剤の添加量の調整、紫外線吸収層の膜厚の調整、及びこれらの組み合わせによって上記範囲内になるよう調整できる。

本発明に係る紫外線吸収層に適用する紫外線吸収剤としては、波長４１０ｎｍの光を吸収させるため、極大吸収波長が３５０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の化合物を用いることが好ましく、極大吸収波長が３７０ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の化合物を用いることがより好ましい。
また、この紫外線吸収剤は、少ない添加量で紫外線を効率的に吸収するという観点から、極大吸収波長におけるモル吸光係数が５０００以上であることが好ましく、６０００以上であることがより好ましく、８０００以上であることが更に好ましい。

本発明において規定される極大吸収波長および半値幅は、当業者が容易に測定することができる。測定方法に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座７、分光ＩＩ」（丸善、１９９２年）１８０〜１８６ページなどに記載されている。具体的には、適当な溶媒に試料を溶解し、石英製またはガラス製のセルを用いて、試料用と対照用の２つのセルを使用して分光光度計によって測定される。用いる溶媒は、試料の溶解性と合わせて、測定波長領域に吸収を持たないこと、溶質分子との相互作用が小さいこと、揮発性があまり著しくないこと等が要求される。上記条件を満たす溶媒であれば、任意のものを選択することができる。本発明においては、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）を溶媒に用いて測定を行うこととする。

本発明における紫外線吸収剤の極大吸収波長は、酢酸エチルを溶媒として、濃度約５×１０^-5ｍｏｌ・ｄｍ^-3の溶液を調製し、光路長１０ｍｍの石英セルを使用して測定した値を使用する。

極大吸収波長におけるモル吸光係数の測定は、市販の紫外・可視吸収スペクトル測定器で測定することができる。

本発明に係る紫外線吸収層に適用する紫外線吸収剤としては、ベンゾオキサゾール誘導体、クマリン誘導体、スチルベン誘導体が好ましく、ベンゾオキサゾール誘導体、クマリン誘導体がより好ましく、ベンゾオキサゾール誘導体が高い吸光係数と溶解性を有するという観点で更に好ましい。

ベンゾオキサゾール誘導体としては具体的には、下記一般式（１）で表される化合物が、高い吸光係数と溶解性を有するという観点から好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^２１及びＲ^２４は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルキコキシ基を表し、Ｒ^２２及びＲ^２３は、各々独立にアルキル基を表す。Ａは置換アリール基又は置換エテニル基を表す。
一般式（１）におけるＲ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４及びＡについて以下に詳しく説明する。

Ｒ^２１及びＲ^２４は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。
Ｒ^２１及びＲ^２４で表されるアルキル基は、炭素数１〜５０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基が更に好ましく、炭素数１〜８のアルキル基が更に好ましい。
Ｒ^２１及びＲ^２４で表されるアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、更に置換基を有していてもよい。
Ｒ^２１及びＲ^２４で表されるアルキル基は、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル、イソプロピル、イソブチル、２−エチルヘキシル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ｔ−オクチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。

Ｒ^２１及びＲ^２４で表されるアルコキシ基は、炭素数１〜５０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜３０のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１〜２０のアルコキシ基が更に好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基が更に好ましい。
Ｒ^２１及びＲ^２４で表されるアルコキシ基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、更に置換基を有していてもよい。
Ｒ^２１及びＲ^２４で表されるアルコキシ基は、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ｔ−ブトキシ、又はシクロヘキシルオキシである。

Ｒ^２１及びＲ^２４は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数１〜８のアルコキシ基である。また、Ｒ^２１およびＲ^２４は、好ましくは水素原子又はアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。

Ｒ^２２及びＲ^２３はアルキル基を表す。好ましくは炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜１４のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基である。
Ｒ^２２及びＲ^２３で表されるアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、更に置換基を有していてもよい。

Ｒ^２２及びＲ^２３で表されるアルキル基は、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−ヘキサデカニル（セチル）、イソプロピル、イソブチル、２−エチルヘキシル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ｔ−オクチル、シクロペンチル、又はシクロヘキシル等である。
好ましくは、Ｒ^２２ はメチル、イソプロピル、又はｔ−ブチル又はシクロヘキシル基であり、Ｒ^２３はメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル又は２−エチルヘキシル基である。特に好ましくは、Ｒ^２２はｔ−ブチル又はシクロヘキシル基であり、Ｒ^２３はメチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル又は２−エチルヘキシル基である。

Ａは、置換アリール基又は置換エテニル基を表す。
Ａで表される置換アリール基は、炭素数６〜４０の置換アリール基が好ましく、炭素数６〜３０の置換アリール基がより好ましく、炭素数６〜２０の置換アリール基が更に好ましい。
置換アリール基の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、スルホ基、カルボキシ基、アミノ基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、スルホ基、又はカルボキシ基であり、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子であり、更に好ましくは、アルキル基又はアルコキシ基である。

Ａで表される置換エテニル基は、炭素数２〜８０の置換エテニル基が好ましく、炭素数６〜６０の置換エテニル基がより好ましく、炭素数８〜５０の置換エテニル基が更に好ましい。
置換エテニル基の置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、スルホ基、カルボキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を挙げることができ、好ましくは、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、スルホ基、カルボキシ基であり、より好ましくは、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルコキシ基である。

Ａで表される置換アリール基及び置換エテニル基は、下記構造式（１）を有していることが、高い吸光係数と溶解性を有するという観点から好ましい。

構造式（１）中、Ｒ^３１及びＲ^３４は前記Ｒ^２１及びＲ^２４とそれぞれ同義である。Ｒ^３２は前記Ｒ^２２と同義である。Ｒ^３３は前記Ｒ^２３と同義である。＊は、Ａにおけるアリール基又はエテニル基との連結部位を表す。

Ａで表される置換アリール基及び置換エテニル基は、以下に示す置換アリール基及び置換エテニル基が好適である。

上記式中、Ｒ^３１及びＲ^３４は、それぞれ前記Ｒ^２１及びＲ^２４と同義である。Ｒ^３２は前記Ｒ^２２と同義である。Ｒ^３３は前記Ｒ^２３と同義である。ｍは１〜５の整数を表す。Ｘ及びＹは、各々独立に、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アミノ基又は水酸基を表す。

Ｘ及びＹで表されるアルキル基は、各々独立に、炭素数１〜５０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基が更に好ましく、炭素数１〜８のアルキル基が更に好ましい。
Ｘ及びＹで表されるアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、更に置換基を有していてもよい。
Ｘ及びＹで表されるアルキル基は、具体的には、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル又はシクロヘキシルを挙げることができる。

Ｘ及びＹで表されるアリール基は、各々独立に、炭素数６〜４０のアリール基が好ましく、炭素数６〜３０のアリール基がより好ましく、炭素数６〜２０のアリール基が更に好ましい。
Ｘ及びＹで表されるアリール基は、更に置換基を有していてもよい。
Ｘ及びＹで表されるアリール基は、具体的には、フェニル、トリル又はナフチルを挙げることができる。

Ｘ及びＹで表されるアルコキシ基は、各々独立に、炭素数１〜５０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜３０のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１〜２０のアルコキシ基が更に好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基が更に好ましい。
Ｘ及びＹで表されるアルコキシ基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、更に置換基を有していてもよい。
Ｘ及びＹで表されるアルコキシ基は、具体的には、メトキシ、エトキシ又はイソプロポキシを挙げることができる。

Ｘ及びＹで表されるアルキルアミノ基は、各々独立に、炭素数１〜６０のアルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜５０のアルキルアミノ基がより好ましく、炭素数１〜４０のアルキルアミノ基が更に好ましい。
Ｘ及びＹで表されるアルキルアミノ基は、更に置換基を有していてもよい。
Ｘ及びＹで表されるアルキルアミノ基は、具体的には、アミノ、アミノメチル、エチルアミノ、オクチルアミノ、ジメチルアミノ又はＮ−メチル−Ｎ−エチルアミノを挙げることができる。

Ｘ及びＹで表されるアリールアミノ基は、各々独立に、炭素数６〜６０のアリールアミノ基が好ましく、炭素数６〜５０のアリールアミノ基がより好ましく、炭素数６〜４０のアリールアミノ基が更に好ましい。
Ｘ及びＹで表されるアリールアミノ基は、更に置換基を有していてもよい。
Ｘ及びＹで表されるアリールアミノ基は、具体的には、アニリノ、４−トリルアミノまたはＮ−メチルアニリノ等のアリールアミノを挙げることができる。

Ｘ及びＹは、好ましくはアリール、アルコキシ又はアニリノ基である。

一般式（１）で表される化合物は、好ましくは下記一般式（３）で表される化合物である。

一般式（３）中、Ｒ^２５及びＲ^２７は前記Ｒ^２２と同義の基であり、Ｒ^２６およびＲ^２８は前記Ｒ^２３と同義の基である。ｎは１又は２である。

一般式（１）で表される化合物は、特開平１１−２９５５６号公報記載の方法で合成することができる。

第一の実施形態の導電性ポリマー材料において、このような紫外線吸収剤の塗布量は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下となるように調整すれば特に制限されないが、０．００１ｍｇ／ｍ^２〜１００ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０１ｍｇ／ｍ^２〜１０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．０５ｍｇ／ｍ^２〜５ｇ／ｍ^２であることが更に好ましい。特に上述の紫外線吸収剤が一般式（１）で表される化合物の場合、一般式（１）で表される化合物の塗布量は、０．００１ｍｇ／ｍ^２〜５０ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０１ｍｇ／ｍ^２〜１０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．０５ｍｇ／ｍ^２〜５ｇ／ｍ^２であることが更に好ましい。

以下本発明における紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

第一の実施形態の紫外線吸収層２０には、更に別の紫外線吸収剤を添加してもよい。更に添加する別の紫外線吸収剤は、本発明の紫外線吸収層を充足するものであればいずれの構造であってもよい。例えば、紫外線吸収剤の構造として知られているトリアジン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、シアニン系、ジベンゾイルメタン系、桂皮酸系、アクリレート系、安息香酸エステル系シュウ酸ジアミド系などの化合物が挙げられる。例えば、ファインケミカル、２００４年５月号、２８〜３８ページ、東レリサーチセンター調査研究部門発行「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）９６〜１４０ページ、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）５４〜６４ページなどに記載されている。

更に、第一の実施形態の紫外線吸収層２０は、波長３７０ｎｍの光に対する透過率が２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１０％以下であり、更に好ましくは５％以下である。このような紫外線吸収層２０とすることで、紫外域の波長の光を吸収することができ、導電性ポリマーの耐久性が向上する。

第一の実施形態の紫外線吸収層２０には、極大吸収波長が３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であり、半値幅が５５ｎｍ以下であり、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上の紫外線吸収剤を併用することが好適である。極大吸収波長が３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下にあると、併用した場合に、紫外域全体の波長の光を効果的に吸収することができるという観点で好適であり、半値幅が５５ｎｍ以下であると、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光を効果的に吸収できるという観点で好適であり、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上であると、添加量を少なくしても光を効率的に吸収できるため、コスト的な観点で好適である。
ここで規定される極大吸収波長及び極大吸収波長におけるモル吸光係数は、上述の方法で測定した値を意味する。

本発明において規定される半値幅は、当業者が容易に測定することができる。測定方法に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座７、分光ＩＩ」（丸善、１９９２年）１８０〜１８６ページなどに記載されている。具体的には、適当な溶媒に試料を溶解し、石英製またはガラス製のセルを用いて、試料用と対照用の２つのセルを使用して分光光度計によって測定される。用いる溶媒は、試料の溶解性と合わせて、測定波長領域に吸収を持たないこと、溶質分子との相互作用が小さいこと、揮発性があまり著しくないこと等が要求される。上記条件を満たす溶媒であれば、任意のものを選択することができる。本発明においては、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）を溶媒に用いて測定を行うこととする。

本発明における紫外線吸収剤の半値幅は、酢酸エチルを溶媒として、濃度約５×１０^-5ｍｏｌ・ｄｍ^-3の溶液を調製し、光路長１０ｍｍの石英セルを使用して測定した値を使用する。

スペクトルの半値幅に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座３、基本操作III」（丸善、１９９１年）１５４頁などに記載がある。なお、上記成書では波数目盛りで横軸を取った例で半値幅の説明がなされているが、本発明における半値幅は波長目盛りで軸を取った場合の値を用いることとし、半値幅の単位はｎｍである。具体的には、極大吸収波長における吸光度の１／２の吸収帯の幅を表し、吸収スペクトルの形を表す値として用いられる。半値幅が小さいスペクトルはシャープなスペクトルであり、半値幅が大きいスペクトルはブロードなスペクトルである。ブロードなスペクトルを与える紫外線吸収剤は、極大吸収波長から長波側の幅広い領域にも吸収を有するので、黄色味着色がなく長波紫外線領域を効果的に遮蔽するためには、半値幅が小さいスペクトルを有する紫外線吸収剤の方が好ましい。

このような紫外線吸収剤を併用することで、少ない添加量で紫外域全体の波長の光を効果的に吸収することができ、導電性ポリマーの耐久性が向上する。

極大吸収波長が３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であり、半値幅が５５ｎｍ以下であり、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上の紫外線吸収剤としては、下記一般式（２）で表される化合物を挙げることができる。特に、前記一般式（１）で表される化合物との併用において、一般式（２）で表される化合物は、前記一般式（１）との相溶性が高く、併用時における結晶化などの析出が抑制される点で好適である。

一般式（２）中、Ａ^２１及びＡ^２２は、水素原子及び炭素原子以外の原子を表し、（Ｂ）はＡ^２１及びＡ^２２が互いに連結して５又は６員環を形成するのに必要な原子群を表す。Ｙ^２１及びＹ^２２は各々独立に水素原子又は１価の置換基を表す。但しＹ^２１及びＹ^２２のうち少なくとも一方は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２以上の置換基を表す。また、Ｙ^２１及びＹ^２２は、互いに結合して環を形成してもよい。

一般式（２）におけるＡ^２１及びＡ^２２は、各々独立に、水素原子及び炭素原子以外の原子を表す。Ａ^２１及びＡ^２２の例としては、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子、フッ素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子などが挙げられる。

Ａ^２１及びＡ^２２の例として好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。特に好ましくは高い吸光係数という観点から硫黄原子である。Ａ^２１−Ａ^２２の好ましい組み合わせとしては、酸素−窒素、窒素−硫黄、窒素−窒素、硫黄−硫黄の組み合わせであり、特に好ましい組み合わせは硫黄−硫黄の組み合わせである。

一般式（２）における（Ｂ）は、Ａ^２１及びＡ^２２が互いに連結して５又は６員環を形成するのに必要な原子群を表す。

（Ｂ）によって形成される環（以下「環（Ｂ）」と称する）は、５又は６員環であり、詳述すると、例えば、ピリミジン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、オキサゾリン環、チアゾリン環、ジチオール環などが挙げられる。これらの環は１価の置換基を有していてもよい。また、芳香環などと共に縮環構造を形成してもよい。

環（Ｂ）として好ましくはイミダゾリン環、オキサゾリン環、チアゾリン環、ジチオール環、またはこれらのベンゾ縮環体であり、更に好ましくはベンゾジチオール環、ベンゾオキサゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾイミダゾリン環であり、特に好ましくはベンゾジチオール環である。

一般式（２）におけるＹ^２１及びＹ^２２は、各々独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。１価の置換基としては、シアノ基、置換若しくは無置換のカルバモイル基、置換若しくは無置換のスルファモイル基、ニトロ基、置換若しくは無置換のアシル基、置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、置換若しくは無置換のアルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のアリールスルフィニル基、置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換の複素環基などが挙げられる。置換基は更に置換されていてもよく、置換基が複数ある場合は、同じでも異なってもよい。この場合の置換基は上記の１価の置換基である。また置換基同士が互いに結合して環を形成してもよい。

Ｙ^２１及びＹ^２２の例としては、シアノ基、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数２〜８、更に好ましくは炭素数２〜５のカルバモイル基（例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、モルホリノカルボニル）、炭素数０〜１０、好ましくは炭素数２〜８、更に好ましくは炭素数２〜５のスルファモイル基（例えばメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ピペリジノスルホニル）、ニトロ基、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアシル基（例えばホルミル、アセチル、ベンゾイル、トリクロロアセチル）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０のアリールスルホニル基（例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニルなど）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０のアリールスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル）、炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１２、更に好ましくは炭素数６〜８のアリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、

炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜５の無置換アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル）、炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜５の置換アルキル基（ヒドロキシメチル、トリフルオロメチル、ベンジル、カルボキシエチル、エトキシカルボニルメチル、アセチルアミノメチル）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１５、更に好ましくは炭素数６〜１０の置換または無置換のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、ｐ−カルボキシフェニル、ｐ−ニトロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｍ−フルオロフェニル、ｐ−トリル、ｐ−ブロモフェニル）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、更に好ましくは炭素数４〜６の置換されていてもよい複素環基（例えばピリジル、５−メチルピリジル、チエニル、フリル、モルホリノ、テトラヒドロフルフリル）が挙げられる。置換基は更に置換されていてもよく、置換基が複数ある場合は、同じでも異なってもよい。この場合の置換基は上記で記した置換基である。また置換基同士で結合して環を形成してもよい。

Ｙ^２１及びＹ^２２として好ましくは、Ｙ^２１、Ｙ^２２のうち少なくとも一方がハメットのσｐ値が０．２以上の置換基を有する場合である。
ハメットの置換基定数σ値について説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。例えば、J.A.Dean編、「Lange’s Handbook of Chemistry」第12版，1979年（Mc Graw-Hill）や「化学の領域」増刊，122号，96〜103頁，1979年（南光堂）、Chem.Rev.,1991年，91巻，165〜195ページなどに詳しい。本発明におけるハメットの置換基定数σｐ値が０．２以上の置換基とは電子求引性基であることを示している。

Ｙ^２１、Ｙ^２２のうち少なくとも一方のσｐ値は、０．２５以上であることが好ましく、より好ましくは０．３以上であり、更に好ましくは０．３５以上である。

具体例としては、シアノ基（０．６６）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ：０．４５）、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＭｅ：０．４５）、アリールオキシカルボニル基（−ＣＯＯＰｈ：０．４４）、カルバモイル基（−ＣＯＮＨ_２：０．３６）、アルキルカルボ
ニル基（−ＣＯＭｅ：０．５０）、アリールカルボニル基（−ＣＯＰｈ：０．４３）、アルキルスルホニル基（−ＳＯ_２Ｍｅ：０．７２）、またはアリールスルホニル基（−ＳＯ_２Ｐｈ：０．６８）などが挙げられる。本明細書において、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、括弧内の値は代表的な置換基のσｐ値をChem.Rev.,1991年，91巻，165〜195頁から抜粋したものである。

また、Ｙ^２１及びＹ^２２は互いに結合して環を形成してもよい。なお、環を形成する場合にはＹ^２１及びＹ^２２のσｐ値を規定することができないが、本発明においてはＹ^２１及びＹ^２２にそれぞれ環の部分構造が置換しているとみなして、環形成の場合のσｐ値を定義することとする。例えば１，３−インダンジオン環を形成している場合、Ｙ^２１及びＹ^２２にそれぞれベンゾイル基が置換したものとして考える。

Ｙ^２１及びＹ^２２の好ましい例としては、各々独立に、シアノ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフィニル基、スルホニル基、またはスルファモイル基等が挙げられる。
特に好ましくはＹ^２１及びＹ^２２の少なくとも一方がシアノ基であり、他方はアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である場合である。Ｙ^２１及びＹ^２２は互いに結合して環を形成しないことが好ましい。

前記一般式（２）における好ましい置換基の組み合わせは、Ｙ^２１及びＹ^２２の少なくとも一方がシアノ基であり、他方がアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基であり、Ａ^２１及びＡ^２２がともに硫黄原子であり、（Ｂ）がベンゾジチオール環を形成している組み合わせである。
以下に、本発明で用いられる前記一般式（２）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。

一般式（２）で表される化合物は任意の方法で合成することができる。
例えば、特開昭63-225382号公報、Liebigs Ann．Chem.，1969年，726巻，103〜109頁、Journal of Organic Chemistry，1990年，55巻，5347〜5350頁、同1994年，59巻，3077〜3081頁、Tetrahedron Letters，1991年，32巻，4897〜4900頁、4897頁9行目〜4899頁3行目、同1977年，26巻，2225頁、Tetrahedron，1993年，49巻，3035〜3042頁などに記載されている類似構造を有する化合物の合成ルートを参考にして合成することができる。

一般式（２）で表される化合物の構造を紫外線吸収性基として繰り返し単位内に含むポリマーも、本発明に好適に使用できる。以下に、繰り返し単位の例を示す。

上記の繰り返し単位からなるホモポリマーであってもよいし、２種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。更に他の繰り返し単位を含むコポリマーであってもよい。以下に他の繰り返し単位の例を示す。

なお、紫外線吸収剤構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特公平１−５３４５５号公報、特開昭６１−１８９５３０号公報、特開昭６２−２６０１５２号公報、特開昭６３−５３５４４号公報、特開昭６３−５６６５１号公報の記述を参考にすることができる。

紫外線吸収層２０に、一般式（２）で表される化合物、又は一般式（２）で表される化合物の構造を紫外線吸収性基として繰り返し単位内に含むポリマーを添加した場合、紫外線吸収層２０の波長３６５ｎｍの光に対する透過率が４０％以下となるように添加量を調整することが好ましく、３０％以下となるよう調整することがより好ましく、１０％以下となるよう調整することが更に好ましい。波長３５０ｎｍから４００ｎｍの範囲の波長の光が吸収されることで、導電性ポリマーの光耐久性が向上する。

第一の実施形態の紫外線吸収層２０には、アクリル樹脂系、ウレタン樹脂系、アミノアルキッド樹脂系、エポキシ樹脂系、シリカ樹脂系、フッ素樹脂系などの透明樹脂成分を含有させることができる。これらの樹脂は主剤、硬化剤、希釈剤、レベリング剤、はじき防止剤などを任意に配合することができる。

例えば、透明樹脂成分としてアクリルウレタン樹脂、シリコンアクリル樹脂を選んだ場合には、硬化剤としてポリイソシアネートなどを、希釈剤としてトルエン、キシレンなどの炭化水素系溶剤、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル系溶剤、イソプロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール系を用いることができる。
透明樹脂成分としては、具体的には、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチルスチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。また、ここでアクリルウレタン樹脂とは、メタクリル酸エステル（メチルが代表的）とヒドロキシエチルメタクリレート共重合体とポリイソシアネートと反応させて得られるアクリルウレタン樹脂をいう。なおこの場合のポリイソシアネートとはトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。更にこれら成分に加えアクリル樹脂、シリコーン樹脂などのレベリング剤、シリコーン系、アクリル系等のはじき防止剤等を必要に応じて配合することができる。

紫外線吸収層２０の厚さは、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下となるように調整すれば特に制限されないが、０．０１μｍ〜１０００μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜５００μｍであることがより好ましく、０．１μｍ〜１００μｍであることが更に好ましい。

紫外線吸収層２０は、単層でも２層以上の複数層であってもよい。複数層の場合、それぞれの層に同種の紫外線吸収剤を添加してもよいし、異なる種類の紫外線吸収剤を添加してもよい。好適には、単層の場合である。

（導電性ポリマー層）
第一の実施形態の導電性ポリマー材料は、上記紫外線吸収層２０とは別の層として、導電性ポリマー層３０を備える。
本発明に用いられる導電性ポリマーとは、１０^−６ｓ・ｃｍ^−１以上の導電性を示すポリマーをいい、これに該当する高分子化合物であれば、いずれのものも使用することができる。より好ましくは、１０^−１ｓ・ｃｍ^−１以上の導電性を有する高分子化合物である。

導電性ポリマーは、好ましくは芳香族炭素環または芳香族ヘテロ環を、単結合または二価以上の連結基で連結した非共役高分子または共役高分子である。
非共役高分子または共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。
非共役高分子または共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。

また、非共役高分子または共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子およびこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換もしくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。

導電性ポリマーとしては、具体的には、例えば、置換および非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、これらのモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。

導電性ポリマーとしては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレンが挙げられ、より好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリチオフェン、ポリ（パラフェニレンビニレン）などが挙げられる。
これら共役高分子は置換基を有していてもよく、該置換基としては後述の一般式（Ｉ）においてＲ^１１として説明する置換基を挙げることができる。

本発明では特に、導電性ポリマーが下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有すること（即ちポリチオフェン及びその誘導体であること）が、高い透明性と導電性を両立するという観点から好ましい。なお、ここでいう「透明性」とは、可視光である波長５５０ｎｍの光に対する透過率が５０％以上であることを意味する。透明性導電性ポリマー材料として好ましくは該透過率が６０％以上であり、より好ましくは該透過率が７０％以上である。

一般式（Ｉ）中、Ｒ^１１は置換基を表し、ｍ^１１は０〜２の整数を表す。ｍ^１１が２を表すとき、複数のＲ^１１は互いに同一であっても異なってもよく、互いに連結して環を形成してもよい。ｎ^１１は１以上の整数を表す。

Ｒ^１１で表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、２−オクテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。）、

アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、

アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、

カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、

ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２で、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。具体的には、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。

上記Ｒ^１１で表される置換基は、さらに置換されていてもよい。また、置換基を複数有する場合、それらの置換基は互いに同じでも異なっていてもよく、また可能な場合は連結して環を形成してもよい。形成される環としては例えば、シクロアルキル環、ベンゼン環、チオフェン環、ジオキサン環、ジチアン環等が挙げられる。

Ｒ^１１で表される置換基として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基であり、さらに好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基である。特に好ましくは、ｍ^１１が２のとき、２つのＲ^１１が連結して環を形成したアルコキシ基、アルキルチオ基であり、ジオキサン環、ジチアン環を形成することが好適である。

一般式（Ｉ）においてｍ^１１が１のとき、Ｒ^１１はアルキル基であることが好ましく、炭素数２〜８のアルキル基がより好ましい。
また、Ｒ^１１が、アルキル基であるポリ（３−アルキルチオフェン）であるとき、隣り合ったチオフェン環との連結様式はすべて２−５’で連結した立体規則的なものと、２−２’、５−５’連結が含まれる立体不規則的なものがあるが、立体的不規則なものが好ましい。

本発明では、導電性ポリマーとしては、高い透明性と導電性を両立するという観点から、３，４−エチレンジオキシ−ポリチオフェン（下記具体例化合物（６））であることが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表されるポリチオフェン及びその誘導体は、J. Mater. Chem., 2005, 15, 2077−2088.およびAdvanced Materials 2000, 12(7), page 481など公知の方法によって作製することができる。また、市販品として、Denatron P502（ナガセケミ社製）、 3,4-ethylenedioxythiophene (BAYTRON（登録商標）M V2)、3,4-polyethylenedioxythiopene/polystyrenesulfonate (BAYTRON（登録商標） P)、BAYTRON（登録商標） C、BAYTRON（登録商標） F E、BAYTRON（登録商標） M V2、BAYTRON（登録商標） P、BAYTRON（登録商標） P AG、BAYTRON（登録商標） P HC V4、BAYTRON（登録商標） P HS、BAYTRON（登録商標） PH、BAYTRON（登録商標） PH 500、BAYTRON（登録商標） PH 510（以上、シュタルク社製）などを入手することができる。
ポリアニリン及びその誘導体としては、ポリアニリン（アルドリッチ社製）、ポリアニリン（エレラルダイン塩）（アルドリッチ社製）などを入手することができる。
ポリピロール及びその誘導体としては、ポリピロール（アルドリッチ社製）などを入手することができる。

以下に、導電性ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、ＷＯ９８／０１９０９記載の化合物等が挙げられる。

本発明で用いる導電性ポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。

第一の実施形態における導電性ポリマー層３０の厚さは、１ｎｍ〜２μｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍの範囲であることがより好ましい。導電性ポリマー層３０の膜厚がこの範囲内であれば、充分な導電性と透明性とを達成することができる。

導電性ポリマー層３０には、少なくとも一種のドーパントを含有することが、導電性ポリマーの溶媒への分散性が改善されるという観点から好ましい。導電性ポリマー層３０の形成は、後述のように塗布によることが好ましく、分散性が良好な分散液（組成物）を得ることは製造の観点から重要である。
なお本発明においてドーパントとは、導電性ポリマーの導電性を変化させる作用を有する添加物を意味する。
このようなドーパントとしては、電子受容性（アクセプター）ドーパント、電子供与性（ドナー）ドーパントが挙げられる。

電子受容性（アクセプター）ドーパントの例としては、ハロゲン（Ｃｌ_２，Ｂｒ_２，Ｉ_２，ＩＣｌ，ＩＣｌ_３，ＩＢｒ，ＩＦ）、ルイス酸（ＰＦ_５，ＡｓＦ_５，ＳｂＦ_５，ＢＦ_３，ＢＣｌ_３，ＢＢｒ_３，ＳＯ_３）、プロトン酸（ＨＦ，ＨＣｌ，ＨＮＯ_３，Ｈ_２ＳＯ_４，ＨＣｌＯ_４，ＦＳＯ_３Ｈ，ＣＩＳＯ_３Ｈ，ＣＦ_３ＳＯ_３Ｈ，各種有機酸，アミノ酸など）、遷移金属化合物（ＦｅＣｌ_３，ＦｅＯＣｌ，ＴｉＣｌ_４，ＺｒＣｌ_４，ＨｆＣｌ_４，ＮｂＦ_５，ＮｂＣｌ_５，ＴａＣｌ_５，ＭｏＦ_５，ＭｏＣｌ_５，ＷＦ_６，ＷＣｌ_６，ＵＦ_６，ＬｎＣｌ_３（Ｌｎ＝Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍなどのランタノイド）、電解質アニオン（Ｃｌ⁻，Ｂｒ⁻，Ｉ⁻，ＣｌＯ_４ ⁻，ＰＦ_６ ⁻，ＡｓＦ_６ ⁻，ＳｂＦ_６ ⁻，ＢＦ_４ ⁻，各種スルホン酸アニオン）、その他（Ｏ_２，ＸｅＯＦ_４，（ＮＯ_２ ^＋）（ＳｂＦ_６ ⁻），（ＮＯ_２ ^＋）（ＳｂＣｌ_６ ⁻），（ＮＯ_２ ^＋）（ＢＦ_４ ⁻），ＦＳＯ_２００ＳＯ_２Ｆ，ＡｇＣｌＯ_４，Ｈ_２ＩｒＣｌ_６，Ｌａ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ等が挙げられる。

電子供与性（ドナー）ドーパントの例としてはアルカリ金属（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）、ランタノイド（Ｅｕなど）、その他（Ｒ_４Ｎ^＋，Ｒ_４Ｐ^＋，Ｒ_４Ａｓ^＋，Ｒ_３Ｓ^＋，アセチルコリン）等が挙げられる。

ドーパントと前記導電性ポリマーとの組み合わせとしては、例えば：
（Ａ） ポリアセチレンとＩ_２，ＡｓＦ_５，ＦｅＣｌ_３など；
（Ｂ） ポリ（ｐ−フェニレン）とＡｓＦ_５，Ｋ，ＡｓＦ_６ ⁻など；
（Ｃ） ポリピロールとＣｌＯ_４ ⁻など；
（Ｄ） ポリチオフェン類とＣｌＯ_４ ⁻，スルホン酸化合物、とくにポリスチレンスルホン酸、ニトロソニウム塩、アミニウム塩、キノン類など；
（Ｅ） ポリイソチアナフテンとＩ_２など；
（Ｆ） ポリ（ｐ−フェニレンサルファイド）とＡｓＦ_５；
（Ｇ） ポリ（ｐ−フェニレンオキシド）とＡｓＦ_５；
（Ｈ） ポリアニリンとＨＣｌなど；
（Ｉ） ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）とＨ_２ＳＯ_４など；
（Ｊ） ポリチオフェニレンビニレンとＩ_２など；
（Ｋ） ニッケルフタロシアニンとＩ_２など；
等が挙げられる。

これらの組み合わせの中でも、好ましくは前記（Ｄ）もしくは（Ｈ）の組み合わせであり、より好ましくは、ドープ状態の安定性が高いという観点から、ポリチオフェン類（ポリチオフェン及びその誘導体）とスルホン酸化合物の組み合わせであり、更に好ましくは、水分散液が調整可能であり、塗布により簡便に導電性薄膜が調整できるという観点から、ポリチオフェン類とポリスチレンスルホン酸の組み合わせである。

導電性ポリマーとドーパントの比率は、いかなるものであってもよいが、ドープ状態の安定性と導電性を両立観点から、好ましくは、質量比で、導電性ポリマー：ドーパント＝１．０：０．００００００１〜１．０：１０の範囲であり、好ましくは１．０：０．００００１〜１．０：１．０の範囲、より好ましくは１．０：０．０００１〜１．０：０．５の範囲である。

一方、導電性ポリマーの分散性を高めるために、高分子鎖に電解質をドープしたイオン導電性ポリマーとしてもよい。該高分子鎖の例としては、ポリエーテル（ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドなど）、ポリエステル（ポリエチレンサクシネート、ポリ−β−プロピオラクトンなど）、ポリアミン（ポリエチレンイミンなど）、ポリスルフィド（ポリアルキレンスルフィドなど）などが挙げられ、ドープされた電解質としては各種アルカリ金属塩などが挙げられる。

前記アルカリ金属塩を構成するアルカリ金属イオンとしてはＬｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｒｂ^＋、Ｃｓ^＋などが、対塩を形成するアニオンとしてはＦ⁻、Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、Ｉ⁻、ＮＯ_３ ⁻、ＳＣＮ⁻、ＣｌＯ_４ ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＢＰｈ_４ ⁻などが挙げられる。

高分子鎖とアルカリ金属塩の組み合わせとしては、例えばポリエチレンオキシドとＬｉＣＦ_３ＳＯ_３、ＬｉＣｌＯ_４など、ポリエチレンサクシネートとＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＢＦ_４、ポリ−β−プロピオラクトンとＬｉＣｌＯ_４など、ポリエチレンイミンとＮａＣＦ_３ＳＯ_３、ＬｉＢＦ_４など、ポリアルキレンスルフィドとＡｇＮＯ_３などが挙げられる。

本発明の導電性ポリマー層３０や、紫外線吸収層２０には、更に後述の溶媒や、このほかに更に添加剤を添加することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物、とくにフッ素系界面活性剤などを挙げることができる。

（支持体）
第一の実施形態の支持体１０としては、安定な板状物であって、必要な可撓性、強度、耐久性等を満たせばいずれのものも使用できる。また、ここで得られた導電性ポリマー材料を画像表示素子、太陽電池等に用いる場合には、高い透明性を要求されるため、表面平滑性の透明基材を用いることが好ましい。

支持体１０の材質としては、ガラス、透明セラミックス、金属、プラスチックフィルム等が挙げられる。ガラス、透明セラミックスは、金属、プラスチックフィルムに比べ、柔軟性に欠ける。また、プラスチックフィルムは金属より安価であり、且つ柔軟性を有する。そこで本発明の支持体１０としては、プラスチックフィルムが好ましく、たとえば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリアリレート等の樹脂を用いたフィルムなどが挙げられる。特に、ポリエステル系樹脂（以下、適宜、「ポリエステル」と称する）が好ましい。ポリエステルとしては、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが好ましい。

支持体１０に用い得るポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−フタレンジカルボキシレート等が挙げられる。このうち、入手の容易性、経済性及び効果の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が好ましい。

また、フィルムの素材として、本発明の効果を損なわない限りにおいて、これらの共重合体の混合物、又はこれら重合体と小割合のその他の樹脂との混合物なども用いることができる。

更に、このポリエステルフィルムの中には、滑り性を良くするために少量の無機又は有機の粒子、たとえば、酸化チタン、炭酸カルシウム、シリカ、硫酸バリウム等の如き無機フィラー、アクリル、シリコーン、ベンゾグアナミン、テフロン（登録商標）、エポキシ等の如き有機フィラー、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ等の接着性向上剤や帯電防止剤を含有させることができる。

本発明に用いるポリエステルフィルムは、前記の如きポリエステル樹脂を溶融押出しでフィルム状にし、縦及び横二軸延伸による配向結晶化及び熱処理による結晶化させることにより形成し得る。これらフィルムの製造方法及び条件は、公知の方法及び条件を適宜選択して用いることができる。

支持体１０の厚みは目的により適宜選択することができるが、一般的には、５〜５００μｍの範囲である。

（その他の層）
本発明では支持体１０上に、導電性ポリマー層３０や紫外線吸収層２０の密着性を向上させる目的として易接着層（図示せず）を形成してもよい。易接着層としては、スチレン−ブタジエン共重合体（以下、適宜、「ＳＢＲ」と略称する）又は水系ウレタン樹脂と架橋剤とを含有する構成が好ましい。ＳＢＲは、スチレンとブタジエンとを主体とした共重合体であり、更に必要に応じて他の成分を共重合したものを意味する。この共重合体は、スチレンとブタジエンとの含有比率を調整することにより、様々な物性のものを得られることが知られている。

易接着層を形成する場合、スチレン−ブタジエン共重合体はラテックスであることが好ましい。具体的には、日本ゼオン社からニポール（商品名）として、住友ノーガタック社からノーガテックス（商品名）として、武田薬品工業社からクロスレン（商品名）として、旭ダウ社から旭ダウラテックス（商品名）として、その他に大日本インキ化学工業社や海外メーカーから販売されている市販品を用いることもできる。

ラテックスの分散体粒子の粒径は、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましく、０．２μｍ以下が更に好ましい。粒子径が大きい場合には、塗布工程で粒子の凝集が生じやすかったり、フィルムの透明性、光沢などが不良になったりする問題がある。更に塗布層の厚さを薄くする必要がある場合には、それに応じて粒径を小さくする必要がある。

易接着層のスチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレン／ブタジエンの含有比率は５０／５０〜８０／２０程度であることが好ましい。ラテックス中に含まれるＳＢＲの割合は、固型分重量として３０〜５０重量％であることが好ましい。

また、この易接着層には、ＳＢＲの物性を向上させるために架橋剤が添加されるが、ここで用いられる架橋剤としてはトリアジン系架橋剤が好ましい。

（導電性ポリマー材料の作製）
大面積の電極材料を一度に作製できるという簡便性の観点からは、塗布によって導電性ポリマー層３０や紫外線吸収層２０を形成することが好ましい。塗布以外の方法としてはスピンコート、転写などを挙げることができる。塗布液は、水分散液であってもよいし、有機溶剤であってもよい。

紫外線吸収層２０を形成するための塗布液（以下「紫外線吸収層塗布液」と称する。）には、少なくとも前記一般式（１）等の紫外線吸収剤を含む。更に、樹脂や、塗布のための溶媒や、前記一般式（２）等のその他の紫外線吸収剤を状況に応じて適宜添加する。このほかに更に添加剤を添加することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、紫外線吸収剤、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物、とくにフッ素系界面活性剤などを挙げることができる。

紫外線吸収層塗布液の溶媒としては、水、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アミド、芳香族炭化水素などを用いることができ、コストの観点からはアルコールが好ましく、溶解性と塗布適性の観点からはトルエンとメチルエチルケトンの混合溶媒を用いることが好適である。

紫外線吸収層塗布液中の固形分濃度は、粘度などを考慮して適宜調整することが望ましいが、一般的には、０．０１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜２０質量％であることがより好ましい。

得られた紫外線吸収層塗布液を塗布して、紫外線吸収層２０を形成する。塗布方法としては、例えば、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布方法を採用することができる。

支持体１０上に紫外線吸収層２０を２層以上形成する場合、１層毎に塗布し乾燥してもよいし、２層以上を同時重層塗布で形成してもよい。同時重層塗布の採用は、製造コストの低減、製造時間の短縮化の観点から好適である。ここで、「同時重層塗布」とは、２つの塗布液が接した状態で塗布することを意味する。
前記同時重層塗布は、カーテンコーター、スライドコーター、エクストロージョンコーター等によって行うことができ、中でも、カーテンコーターが好ましい。

導電性ポリマー層３０を形成するための塗布液（以下「導電性ポリマー層塗布液」と称する。）には、少なくとも前記導電性ポリマーを含み、塗布のための溶媒や前記ドーパントを状況に応じて適宜添加する。このほかに更に添加剤を添加することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、紫外線吸収剤、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物、とくにフッ素系界面活性剤などを挙げることができる。

導電性ポリマー層塗布液の溶媒としては、水、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アミドなどを用いることができコストの観点からは水、低級アルコールが好ましく、環境を考慮すると水を用いることが好適である。

水を溶媒として用いた場合、導電性ポリマーを分散させる方法としては、公知の方法を適用することができる。例えば、ジョークラッシャ法、超遠心粉砕法、カッティングミル法、自動乳鉢法、ディスクミル法、ボールミル法、超音波分散法などの分散方法を挙げることができる。

導電性ポリマー層塗布液中の導電性ポリマーの濃度は、粘度などを考慮して適宜調整することが望ましいが、一般的には、０．０１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１０質量％であることがより好ましい。

得られた導電性ポリマー層塗布液を塗布して、導電性ポリマー層３０を形成する。塗布方法としては、例えば、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布方法を採用することができる。

支持体上に導電性ポリマー層３０を２層以上形成する場合、１層毎に塗布し乾燥してもよいし、２層以上を同時重層塗布で形成してもよい。同時重層塗布は、製造コストの低減、製造時間の短縮化の観点から好適である。ここで、「同時重層塗布」とは、２つの塗布液が接した状態で塗布することを意味する。
前記同時重層塗布は、カーテンコーター、スライドコーター、エクストロージョンコーター等によって行うことができ、中でも、カーテンコーターが好ましい。

＜第二の実施形態＞
図２（Ｂ）で表される第二の実施形態の導電性ポリマー材料は、支持体１０の光入射側に、導電性ポリマーを含有する紫外線吸収層２１を備える。

（紫外線吸収層）
第二の実施形態における紫外線吸収層２１は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率は４０％以下である。好ましくは、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が２０％以下であり、更に好ましくは、１０％以下である。
更に、第二の実施形態の紫外線吸収層２１は、波長３７０ｎｍの光に対する透過率が２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１０％以下であり、更に好ましくは５％以下である。
第二の実施形態の導電性ポリマー材料で用いることのできる紫外線吸収剤の種類、併用可能な紫外線吸収剤の種類は、第一の実施形態の場合と同様であり、好ましい紫外線吸収剤の種類も同様である。

第二の実施形態の導電性ポリマー材料において、一般式（１）で表される化合物等の紫外線吸収剤の付与量は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下となるように調整すれば特に制限されないが、０．００１ｍｇ／ｍ^２〜１００ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０１ｍｇ／ｍ^２〜１０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．０５ｍｇ／ｍ^２〜５ｇ／ｍ^２であることが更に好ましい。
第二の実施形態の導電性ポリマー材料において、一般式（２）で表される化合物等の併用可能な紫外線吸収剤の付与量は、紫外線吸収層２１の波長３６５ｎｍの光に対する透過率が４０％以下となるように調整することが好ましく、３０％以下となるよう調整することがより好ましく、１０％以下となるよう調整することが更に好ましい。具体的には、このような併用可能な紫外線吸収剤の付与量は、０．００１ｍｇ／ｍ^２〜１００ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０１ｍｇ／ｍ^２〜１０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．０５ｍｇ／ｍ^２〜５ｇ／ｍ^２であることが更に好ましい。

第二の実施形態の導電性ポリマー材料で用いることのできる導電性ポリマーの種類、ドーパントの種類も、第一の実施形態の場合と同様であり、好ましく適用できるものも同様である。
紫外線吸収層２１における、導電性ポリマーと紫外線吸収剤の含有比率は、質量比で、導電性ポリマー：紫外線吸収剤＝１：１００〜１００：１であることが好ましく、１：５０〜５０：１であることがより好ましく、１：１０〜１０：１であることが更に好ましい。

第二の実施形態の紫外線吸収層２１に、更に添加し得る添加剤としては、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物、とくにフッ素系界面活性剤などを挙げることができる。

第二の実施形態において、導電性ポリマーを含む紫外線吸収層２１の厚さは、０．０１μｍ〜１０００μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜５００μｍであることがより好ましく、０．１μｍ〜１００μｍであることが更に好ましい。導電性ポリマーを含有する紫外線吸収層２１の膜厚がこの範囲内であれば、高い導電性、透明性および光耐久性を両立することが可能となる

紫外線吸収層２１は、単層でも２層以上の複数層であってもよい。複数層の場合、それぞれの層に同種の紫外線吸収剤及び導電性ポリマーを添加してもよいし、異なる種類の紫外線吸収剤や導電性ポリマーを添加してもよい。好適には、単層の場合である。

（支持体）
第二の実施形態で用いることのできる支持体１０は、第一の実施形態の場合と同様であり、好ましく適用できる樹脂の種類なども同様である。

（導電性ポリマー材料の作製）
紫外線吸収層２１を形成するための塗布液には、少なくとも前記一般式（１）等の紫外線吸収剤と導電性ポリマーとを含む。更に、塗布のための溶媒や、前記一般式（２）等の他の紫外線吸収剤を状況に応じて適宜添加する。このほかに更に添加剤を添加することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物、とくにフッ素系界面活性剤などを挙げることができる。

紫外線吸収層２１を形成するための塗布液の調製は、紫外線吸収剤を溶解した溶液と、導電性ポリマーを分散させた分散液とを調製し、これらを混ぜ合わせて、塗布液を調製することが好ましい。この際、均一な状態となるよう、紫外線吸収剤を溶解した溶液と、導電性ポリマーを分散させた分散液とを混ぜ合わせることが好ましい。

紫外線吸収剤を溶解した溶液は、第一の実施形態で説明したものと同様であり、好ましい溶媒等についても第一の実施形態の場合と同様である。
導電性ポリマーを分散させた分散液は、第一の実施形態で説明したものと同様であり、好ましい溶媒や分散方法等についても第一の実施形態の場合と同様である。

紫外線吸収層２１を形成するための塗布液における固形分濃度は、塗布性のための粘度などを考慮して適宜調整することが望ましいが、一般的には、０．００１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．００５質量％〜３０質量％であることがより好ましい。

紫外線吸収層２１を形成するための塗布液を、支持体の光入射面側に塗布して紫外線吸収層２１を形成する。塗布方法は、第一の実施形態の場合と同様であり、好適な方法も同様である。

＜第三の実施形態＞
図２（Ｃ）で表される第三の実施形態の導電性ポリマー材料は、紫外線吸収剤を含有する支持体１２が紫外線吸収層としても機能し、光入射側ではない面に導電性ポリマー層３０を備える。

（導電性ポリマー層）
第三の実施形態における導電性ポリマー層３０は、第一の実施形態における導電性ポリマー層３０と同義であり、好適な範囲も同様である。

（支持体）
第三の実施形態における支持体１２は紫外線吸収剤を含有し、紫外線吸収層としても機能する。よって、支持体１２は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下であり、好ましくは、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が２０％以下であり、更に好ましくは１０％以下である。
更に、第三の実施形態の支持体１２は、波長３７０ｎｍの光に対する透過率が２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１０％以下であり、更に好ましくは５％以下である。
第二の実施形態の支持体に含有させることのできる紫外線吸収剤の種類、併用可能な紫外線吸収剤の種類は、第一の実施形態の場合と同様であり、好ましく適用できる紫外線吸収剤の種類も同様である。

第一の実施形態の導電性ポリマー材料において一般式（１）で表される化合物を用いた場合、一般式（１）で表される化合物の付与量は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下となるように調整すれば特に制限されないが、０．００１ｍｇ／ｍ^２〜１００ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０１ｍｇ／ｍ^２〜１０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．０５ｍｇ／ｍ^２〜５ｇ／ｍ^２であることが更に好ましい。

紫外線吸収剤を含有する支持体１２に適用し得る樹脂としては、支持体で例示したものを挙げることができ、具体的には、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリアリレートが好ましく、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリアリレートがより好ましく、コストと透明性等の支持体としての特性の観点からポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。

支持体１２における、紫外線吸収剤と樹脂の含有比率は、質量比で、紫外線吸収剤：樹脂＝１：１〜１：１００００００であることが好ましく、１：１〜１：１０００００であることがより好ましく、１：１〜１：１０００であることが更に好ましい。

第三の実施形態の支持体１２には、第一の実施形態において紫外線吸収層の添加剤として説明したものや、支持体の添加剤として説明したものを更に添加することができる。

第三の実施形態において、紫外線吸収剤を含有する支持体１２の厚さは、１０μｍ〜１０００００μｍの範囲にあることが好ましく、５０μｍ〜１００００μｍの範囲にあることがより好ましく、１００μｍ〜１０００μｍの範囲にあることが更に好ましい。支持体１２の膜厚がこの範囲内であれば、低コストに所望の導電性ポリマー材料を提供することができる

（導電性ポリマー材料の作製）
紫外線吸収剤を含有する支持体の作製方法は、例えば、特開２００２−２４４２４７号の実施例１などを参照することができる。具体的には、ポリエステル樹脂を加熱し、紫外線吸収剤を練りこむ方法である。

導電性ポリマー層の作製方法は、第一の実施形態の場合と同様であり、好適な方法も同様である。

＜第四の実施形態＞
図１（Ｄ）で表される第四の実施形態の導電性ポリマー材料は、支持体１０の光入射側ではない面に、支持体側から順に、紫外線吸収層２０、導電性ポリマー層３０を備える。
支持体１０の光入射側ではない面に紫外線吸収層２０を設ける以外は、第一の実施形態と同様であり、好適に用いることのできる材料やその添加量、塗布量、膜厚等も同様である。

（導電性ポリマー材料の作製）
第四の実施形態では、支持体１０に対して同じ面側に、紫外線吸収層２０と導電性ポリマー層３０とを備える。これらの層を形成するための塗布液は、第一の実施形態の場合と同様であり、好適な範囲も同様である。
紫外線吸収層２０と導電性ポリマー層３０は、１層毎に塗布し乾燥してもよいし、２層以上を同時重層塗布で形成してもよい。同時重層塗布は、製造コストの低減、製造時間の短縮化の観点から好適である。前記同時重層塗布は、カーテンコーター、スライドコーター、エクストロージョンコーター等によって行うことができ、中でも、カーテンコーターが好ましい。

＜用途＞
本発明の導電性ポリマー材料は、光耐久性及び導電性に優れた導電性膜を形成できる。この導電性膜は、電子材料の配線や電極（基板電極など）として好適に用いることができる。特に塗布による導電性膜の形成が可能であることから大面積の電極材料を作製しやすく、基板電極への応用に適している。
このような導電性膜は、フレキシブルエレクトロルミネッセンス装置（ＯＬＥＤ）、タッチスクリーン、タッチパネル、有機ＴＦＴ、アクチュエーター、センサー、電子ペーパー、フレキシブル調光材料、太陽電池などに好適に使用することができる。

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の主旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って本発明の範囲は以下の実施例に制限されるものではない。

［実施例１］
（紫外線吸収層の調整）
アクリル系樹脂（商品名アクリテック、大日本インキ製）に対し、本発明の一般式（１）で表されるNo.１５の化合物５．０質量％、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール１．１質量％を加えたもの１５ｇに、トルエン：メチルエチルケトン＝１：１を８５ｇ加え固形分を溶解し、紫外線吸収組成物を得た。該組成物をＰＥＴフィルム上に塗布し、乾燥後１００μｍになるよう調整した。本発明の紫外線吸収層は、波長４１０ｎｍの光の透過率が３％であり、波長３７０ｎｍの光の透過率が２％以下であった。

（導電性層の調整）
ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン（ＰＥＤＯＴ）・ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）の水分散液（Denatron P502、ナガセケムテックス社製）を、上記ＰＥＴフィルムの紫外線吸収層が付設されていない面に９番バーコーターによって塗工し、乾燥して、試料−１を得た。得られた導電性層の厚みは２００ｎｍであった。試料−１の評価を以下の方法で行なった。

＜透過率の測定＞
ＵＶ／ｖｉｓスペクトルメーター（島津製作所社製Ｕ２４００）にて、５５０ｎｍの光に対する透過率を測定した。作製直後の試料−１の４箇所を測定しその平均値を測定値とした。結果を表１に示す。なお、試料−１において、４１０ｎｍ及び３７０ｎｍの光に対する透過率は各々１％以下であった。

＜表面抵抗値の測定＞
表面抵抗値は、ロレスタ抵抗測定装置（三菱化学製）にて測定した。作製直後の試料−１の４箇所を測定しその平均値を測定値とした。結果を表１に示す。

＜膜質の評価＞
鉛筆硬度計（安田精機製）にて、膜質を評価した。

＜ヘイズの測定＞
日本電色工業（株）製のヘイズ測定装置ＭＯＤＥＬ１００１ＤＰを用い、作製直後の試料−１のヘイズを測定した。結果を表１に示す。

＜光耐久性の評価＞
キセノンランプ光源（１５万ルクス）で、上記フィルムの紫外線吸収層の側から光が入射するように、１６０時間、試料−１を照射し、照射後における透過率、表面抵抗値、ヘイズ、及び膜質を上記方法で測定した。結果を表１に示す。

［実施例２〜６］
実施例１と同様にして、ただし一般式（１）で表される紫外線吸収剤Ｎｏ．１５の代わりに、表１に示す化合物を添加して、試料−２〜６を作製した。なお表１に示す一般式（１）で表される化合物は、実施例１で添加した一般式（１）で表される化合物と同じ質量になるよう添加した。
また、表中、ベンゾトリアゾールと記載があるものは、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールを実施例１と同質量添加したことを意味し、記載のないものは２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールを添加しないことを意味する。
表１に示す一般式（２）で表される化合物は、実施例１で添加した２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールと同質量で添加した。
得られた試料−２〜６の評価を実施例１と同様にして行なった。評価結果を表１に示す。

なお、一般式（２）で表されるＮｏ．１１の化合物については、極大吸収波長が３８１ｎｍ、半値幅２７ｎｍ、極大吸収波長におけるモル吸収係数は２００００以上であった。一般式（２）で表されるＮｏ．１４の化合物については、極大吸収波長が３８２ｎｍ、半値幅２８ｎｍ、極大吸収波長におけるモル吸収係数は２００００以上であった。

［実施例７］
ＰＥＴ基板の代わりにガラス基板を用いた以外は実施例１と同様にして、試料−７を作製した。
得られた試料−７の評価を実施例１と同様にして行なった。結果を表１に示す。

［実施例８］
実施例１と同様にして、但し用いる紫外線吸収剤の添加量を変えて、紫外線吸収層の４１０ｎｍでの透過率が３０％となるようにして試料−８を作製した。
得られた試料−８の評価を実施例１と同様にして行なった。結果を表１に示す。

［実施例９］
実施例１と同様にして、但し、用いる紫外線吸収剤の添加量を変えて、紫外線吸収層の４１０ｎｍでの透過率が４０％となるようにして、試料−９を作製した。
得られた試料−９の評価を実施例１と同様にして行なった。結果を表１に示す。

［比較例１］
一般式（１）で表される紫外線吸収剤Ｎｏ．１５を添加せず、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール１．１質量％を加えた以外は実施例１と同様にして、比較の試料−１を作製した。得られた比較の試料−１の評価を実施例１と同様にして行なった。評価結果を表１に示す。なお、比較の試料−１における紫外線吸収層は、４１０ｎｍの光に対する透過率が５５％であった。

［比較例２］
紫外線吸収剤を全く添加しない以外は実施例１と同様にして、比較の試料−２を作製した。得られた比較の試料−２の評価を実施例１と同様にして行なった。評価結果を表１に示す。比較の試料−２における紫外線吸収層は、４１０ｎｍの光に対する透過率が１００％であった。

［比較例３］
比較例１において、紫外線吸収剤として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールを添加したのに代えて、特開２００８−３１２０４号記載のパラ−ヒドロキシベンゾフェノンを用いた以外は比較例１と同様にして、比較の試料−３を作製した。得られた比較の試料−３の評価を実施例１と同様にして行なった。評価結果を表１に示す。比較の試料−３における紫外線吸収層は、４１０ｎｍの光に対する透過率が６０％であった。

［比較例４］
比較例１において、紫外線吸収剤として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールを添加したのに代えて、特開２００６−２９４５３３号記載のイミノエステル化合物（Ａ）を用いた以外は実施例１と同様にして、比較の試料−４を作製した。得られた比較の試料−４の評価を比較例１と同様にして行なった。比較の試料−４における紫外線吸収層は、４１０ｎｍの光に対する透過率が５０％であった。評価結果を表１に示す。

［比較例５］
実施例１と同様にして、但し、用いる紫外線吸収剤の添加量を変えて、紫外線吸収層の４１０ｎｍでの透過率が４３％となるようにして、比較の試料−５を作製した。
得られた比較の試料−５の評価を実施例１と同様にして行なった。結果を表１に示す。

表１の結果に示すように、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下の紫外線吸収層を備える試料−１〜９は、光照射後においても透過率が高く表面抵抗は低い値を維持しており、光に対する耐久性に優れていた。
一方、比較例１、３及び４では、光照射後の透過率は実施例−１〜９と同等であったものの、光照射後の表面抵抗値は実施例−１〜９に比べて増大していた。また比較例２では、光照射後の透過率は低下し、表面抵抗は著しく増大した。比較例５では、表面抵抗が増加する傾向であった。

［実施例１０〜１２］
実施例１において使用したDenatron P502（ナガセケミ社製）の代わりに、下記の水分散液をそれぞれ用いた以外は実施例１と同様にして、試料−１０〜１２を作製した。

（実施例１０） ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン・ポリスチレンスルホン酸の水分散液（Baytron P、シュタルク社製、）
（実施例１１） ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン・ポリスチレンスルホン酸の水分散液（Baytron P-HC V4、シュタルク社製、）
（実施例１２） ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン・ポリスチレンスルホン酸の水分散液（Baytron P-AG、シュタルク社製、）

得られた試料−１０〜１２の評価を実施例１と同様にして行なった。結果を表２に示す。

表２に示すように、導電性ポリマーの種類を変えても、高い透過率、低い表面抵抗を示し、光に対する耐久性にも優れていた。

［実施例１３］
実施例１３では、紫外線吸収剤と導電性ポリマーとを同一の層に含む試料−１３を作製した。
ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン（ＰＥＤＯＴ）・ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）の水分散液（Denatron P502、ナガセケムテックス社製）中に、実施例１で調製した紫外線吸収剤Ｎｏ．１５を含有するメチルエチルケトン溶液を同量混合した溶液を、ＰＥＴフィルム上に９番バーコーターによって塗工し、乾燥して、試料−１３を得た。得られた層の厚みは２００ｎｍであった。

試料−１３における紫外線吸収層（導電性ポリマー含有）について、波長４１０ｎｍ及び３７０ｎｍの光に対する透過率を測定した。その結果を下記表３に示す。
得られた試料−１３の評価を実施例１と同様にして行なったところ、実施例１と同様に光耐久性が向上することが確認された。その評価結果を表３に示す。

＜湿熱耐久性の評価＞
上記試料−１３の湿熱耐久性の評価として、湿度９５％ＲＨ、温度８０℃、１００時間経時させた後の透過率および表面抵抗値を上記方法で測定した。

［実施例１４〜１８］
（試料−１４〜１８の作製）
実施例１３と同様にして、ただし一般式（１）で表される紫外線吸収剤Ｎｏ．１５の代わりに、表３に示す化合物を添加して、試料−１４〜１８を作製した。なお表３に示す化合物は、実施例１３で添加した化合物と同じ質量になるよう添加した。また、表中、ベンゾトリアゾールと記載があるものは、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールを実施例１と同質量添加したことを意味する。表３に示す一般式（２）で表される化合物は、実施例１３で添加した２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールと同質量で添加した。

試料−１４〜１８における紫外線吸収層について、波長４１０ｎｍ及び３７０ｎｍの光に対する透過率を測定した。その結果を下記表３に示す。
得られた試料−１４〜１８の光耐久性の評価を実施例１と同様にして行なったところ、実施例２〜６と同様に光耐久性が向上することが確認された。その結果を下記表３に示す。
また、得られた試料−１４〜１８の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

［実施例１９］
実施例１３と同様にして、但し、用いる紫外線吸収剤の添加量を変えて、紫外線吸収層の４１０ｎｍでの透過率が３０％となるようにして、試料−１９を作製した。

得られた試料−１９の光耐久性の評価を実施例１と同様にして行なったところ、実施例８と同様に光耐久性が向上することが確認された。その結果を下記表３に示す。
また、得られた試料−１９の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

［実施例２０］
実施例１３と同様にして、但し、用いる紫外線吸収剤の添加量を変えて、紫外線吸収層の４１０ｎｍでの透過率が４０％となるようにして、試料−２０を作製した。
得られた試料−２０の光耐久性の評価を実施例１と同様にして行なったところ、実施例９と同様に光耐久性が向上することが確認された。その結果を下記表３に示す。
また、得られた試料−２０の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

［比較例６］
一般式（１）で表される紫外線吸収剤Ｎｏ．１５を添加せず、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール１．１質量％を加えた以外は実施例１３と同様にして、比較の試料−６を作製した。得られた比較の試料−６の評価を実施例１３と同様にして行なった。結果を表３に示す。
また、得られた比較の試料−６の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

［比較例７］
紫外線吸収剤を全く添加しない以外は実施例１３と同様にして、比較の試料−７を作製した。得られた比較の試料−７の評価を実施例１３と同様にして行なった。結果を表３に示す。
また、得られた比較の試料−７の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

［比較例８］
比較例６において、紫外線吸収剤として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールを添加したのに代えて、特開２００８−３１２０４号記載のパラ−ヒドロキシベンゾフェノンを用いた以外は比較例６と同様にして、比較の試料−８を作製した。得られた比較の試料−８の評価を実施例１３と同様にして行なった。結果を表３に示す。
また、得られた比較の試料−８の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

［比較例９］
比較例６において、紫外線吸収剤として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールを添加したのに代えて、特開２００６−２９４５３３号記載のイミノエステル化合物（Ａ）を用いた以外は比較例６と同様にして、比較の試料−９を作製した。得られた比較の試料−９の評価を実施例１３と同様にして行なった。結果を表３に示す。また、得られた比較の試料−９の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

［比較例１０］
実施例１３と同様にして、但し、用いる紫外線吸収剤の添加量を変えて、紫外線吸収層の４１０ｎｍでの透過率が４３％となるようにして、比較の試料−１０を作製した。
得られた比較の試料−１０の評価を実施例１３と同様にして行なった。結果を表３に示す。また、得られた比較の試料−１０の湿熱耐久性の評価を実施例１３と同様にして行なった。

表３の結果に示すように、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下の紫外線吸収層を備える試料−１３〜２０は、光に対する耐久性に優れていることがわかる。
また、湿熱耐久性の評価を行なうと、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下の紫外線吸収層を備える試料−１３〜２０は、湿熱経時においても透過率が高く表面抵抗は低い値を維持していた。一方、比較例６〜１０では、湿熱経時後の表面抵抗は実施例１３〜２０に比べて増大している。

［実施例２１］
実施例１において使用したDenatron P502（ナガセケムテックス社製）の代わりに、キシレン中にポリアニリン（アルドリッチ社製）を含有する分散液を用いた以外は実施例１と同様にして、試料−２１を作製した。得られた試料−２１の評価を実施例１と同様にして行なったところ、実施例１と同様に光耐久性が向上することが確認された。

［実施例２２］
実施例２２では、紫外線吸収剤を練り込んだＰＥＴフィルムを有する試料−２２を作製した。
本発明の紫外線吸収剤として一般式（１）で表される化合物Ｎｏ．−１５を１．２質量％含有するＰＥＴフィルムを、特開２００２−２４４２４７号の実施例１記載と同様の方法により作製した。得られたＰＥＴフィルムは、厚みが１８８μｍであり、波長４１０ｎｍの光の透過率が１％以下であり、波長３７０ｎｍの光の透過率が１％以下であった。
そのフィルム上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン（ＰＥＤＯＴ）・ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）の水分散液（Denatron P502、ナガセケミ社製）を、９番バーコーターによって塗工し、乾燥して、試料−２２を得た。得られた導電性層の厚みは２００ｎｍであった。
得られた試料を、実施例１と同様の評価を行ったところ、光耐久性が向上することが確認された。

［実施例２３］
（タッチパネル装置の製造）
実施例１と同様の操作により、ＰＥＴフィルムの片面側に紫外線吸収層が、もう一方の面側にポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン（ＰＥＤＯＴ）・ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）層が付設されたフィルムを作製した。

次に、ガラス基板上にインジウムスズオキサイドを蒸着により付設した基板を用意し、厚み４μｍのドットスペーサー（東洋紡製、レジストCR-103C）をフォトリソグラフィーにて形成した後、配線を銀ペースト（東洋紡製、DW-250H-5）のスクリーン印刷により形成した。更に、絶縁インク（十条ケミカル製、商品名：JELCON IN）にて絶縁部位を形成した。最後に、上記フィルムを貼り合せてタッチパネル装置を作製した。

（タッチパネル装置の評価）
上記タッチパネル装置を屋外光が入射される条件下で作動させたところ、良好なタッチパネル特性を示すことがわかった。すなわち、本発明の導電性組成物から形成されるタッチパネル装置は、光に対する耐久性が高いことが確認された。

図１（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の導電性ポリマー材料の層構成の例を示す断面概略図である。

符号の説明

１０ 支持体
１２ 紫外線吸収剤を含有する支持体
２０ 紫外線吸収層
２１ 導電性ポリマーを含有する紫外線吸収層
３０ 導電性ポリマー層

Claims (18)

1. 支持体上に、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である少なくとも一層の紫外線吸収層を有し、支持体上のいずれかの層に導電性ポリマーを含有することを特徴とする導電性ポリマー材料。
2. 前記導電性ポリマーが、前記紫外線吸収層に含有されてなることを特徴とする請求項１に記載の導電性ポリマー材料。
3. 前記導電性ポリマーを含有する層が、前記紫外線吸収層とは別に設けられてなることを特徴とする請求項１に記載の導電性ポリマー材料。
4. 前記紫外線吸収層が、ベンゾオキサゾール誘導体を含有することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
5. 前記ベンゾオキサゾール誘導体が、下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項４に記載の導電性ポリマー材料。
   

   

   〔一般式（１）中、Ｒ^２１及びＲ^２４は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルキコキシ基を表し、Ｒ^２２及びＲ^２３は、各々独立にアルキル基を表す。Ａは置換アリール基又は置換エテニル基を表す。〕
6. 波長３７０ｎｍの光に対する前記紫外線吸収層の透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
7. 波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である支持体上に、導電性ポリマーを含有する層を備えることを特徴とする導電性ポリマー材料。
8. 前記支持体が、ベンゾオキサゾール誘導体を含有することを特徴とする請求項７に記載の導電性ポリマー材料。
9. 前記ベンゾオキサゾール誘導体が、下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項８に記載の導電性ポリマー材料。
   

   

   〔一般式（１）中、Ｒ^２１及びＲ^２４は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアルキコキシ基を表し、Ｒ^２２及びＲ^２３は、各々独立にアルキル基を表す。Ａは置換アリール基又は置換エテニル基を表す。〕
10. 波長３７０ｎｍの光に対する前記支持体の透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
11. 前記導電性ポリマーが、π共役ポリマーであることを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
12. 前記導電性ポリマーが、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１つであることを特徴とする請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
13. 前記導電性ポリマーが、ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェンを含むことを特徴とする請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
14. 前記導電性ポリマーを含有する層が、更にドーパントとしてポリスチレンスルホン酸を含有することを特徴とする請求項１〜請求項１３のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
15. 前記支持体が、可撓性支持体であることを特徴とする請求項１〜請求項１４のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
16. 前記支持体が、ポリエチレンテレフタレートを含んで形成されてなることを特徴とする請求項１〜請求項１５のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
17. 更に、極大吸収波長が３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であり、半値幅が５５ｎｍ以下であり、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上である化合物を含有することを特徴とする請求項１〜請求項１６のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
18. 更に、下記一般式（２）で表される化合物を含むことを特徴とする、請求項１〜請求項１７のいずれか１項に記載の導電性ポリマー材料。
    

    

    〔一般式（２）中、Ａ^２１及びＡ^２２は、水素原子及び炭素原子以外の原子を表し、（Ｂ）はＡ^２１及びＡ^２２が互いに連結して５又は６員環を形成するのに必要な原子群を表す。Ｙ^２１及びＹ^２２は各々独立に水素原子又は１価の置換基を表す。但しＹ^２１及びＹ^２２のうち少なくとも一方は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２以上の置換基を表す。また、Ｙ^２１及びＹ^２２は、互いに結合して環を形成してもよい。〕

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