JP2010003981A - Heat-conducting sheet with graphite oriented in thickness direction - Google Patents

Heat-conducting sheet with graphite oriented in thickness direction Download PDF

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JP2010003981A JP2008163545A JP2008163545A JP2010003981A JP 2010003981 A JP2010003981 A JP 2010003981A JP 2008163545 A JP2008163545 A JP 2008163545A JP 2008163545 A JP2008163545 A JP 2008163545A JP 2010003981 A JP2010003981 A JP 2010003981A
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Kazuaki Matsumoto
一昭 松本
Yasushi Kakehashi
泰 掛橋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-performance heat radiation sheet having flexibility in the thickness direction although it is made of a material exhibiting ultrahigh thermal conductivity exceeding 100 W/mK in the thickness direction of the sheet, and capable of reducing contact thermal resistance by being interposed between a heating element and a radiator. <P>SOLUTION: In this heat-conducting sheet with graphite oriented in the thickness direction which has a thickness ≤5 mm, graphite films 1 each having a thickness ≤1 mm are laminated through organic layers 2 so as to orient the crystal plane of the graphite in the thickness direction; and the ratio of graphite area/organic layer area observed from the surface direction of the sheet is 75/25 to 10/90. This application also provides a manufacturing method of the heat-conducting sheet with graphite oriented in the thickness direction which has high thermal conductivity in the thickness direction, and is formed by cutting, in a thickness ≤5 mm at a plane forming an angle ≥45° with respect to the crystal plane of the graphite, a graphite laminated body composed by laminating the graphite films 1 each having a thickness ≤1 mm through the organic layers 2 by a superposing or winding means. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、パソコン、携帯電話、PDAなどの機器の放熱に利用される熱伝導シートに関する。   The present invention relates to a heat conductive sheet used for heat dissipation of devices such as a personal computer, a mobile phone, and a PDA.

近年、パソコン、携帯電話、PDAなどの電子機器の性能向上は著しく、それはCPU(MPU)の著しい性能向上によっている。この様なCPUの性能向上に伴い、CPUの発熱量も著しく増加し、電子機器における放熱をどの様に行うかが重要な課題になっている。   In recent years, the performance of electronic devices such as personal computers, mobile phones, and PDAs has improved significantly, and this is due to the significant improvement in CPU (MPU) performance. Along with such an improvement in CPU performance, the amount of heat generated by the CPU also increases remarkably, and how to dissipate heat in electronic devices is an important issue.

熱対策としてはファンによる空冷やヒートパイプ、水を用いた水冷などの方法があるが、これらはいずれも新たな放熱のための装置を必要とし、機器の重量増加を招くだけでなく、騒音や使用電気量の増加などを招くと言う課題があるため、ヒートシンクなどの放熱体を用いて熱を逃がす方法が採用されることが多い。   As heat countermeasures, there are methods such as air cooling with fans, heat pipes, water cooling with water, etc., but these all require new heat dissipation devices, which not only increase the weight of the equipment, but also noise and Since there is a problem of causing an increase in the amount of electricity used, a method of releasing heat using a heat radiator such as a heat sink is often employed.

半導体素子や電子部品などの発熱体で発生する熱を、ヒートシンクなどの放熱体に効率よく伝熱することを目的に、シリコーンゴム等の柔軟な熱伝導性シートが使用されている。これらの熱伝導性シートには、熱伝導性を高めるために、銀、銅、金、アルミニウム、ニッケルなどの熱伝導率の大きい金属や合金、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素などのセラミックス、カーボンブラックやダイヤモンドなどの炭素、などを、粉粒体形状や繊維形状に加工した熱伝導性充填剤が配合されている。柔軟な放熱シートは、発熱体と放熱体との間に存在するわずかな隙間を埋め、熱抵抗を除去するための材料であるから、特にシートの厚み方向に高熱伝導性を有していることが好ましい。また高熱伝導性であると同時に、シートの表面硬度が低ければ低いほど、発熱体と放熱体とが密着するため熱をよく伝える効果が得られることから、シートの表面硬度をできる限り低くする必要がある。   Flexible heat conductive sheets such as silicone rubber are used for the purpose of efficiently transferring heat generated by heat generating elements such as semiconductor elements and electronic components to heat radiating elements such as a heat sink. These thermal conductive sheets have high thermal conductivity metals and alloys such as silver, copper, gold, aluminum and nickel, aluminum oxide, magnesium oxide, silicon oxide, boron nitride and nitridation to increase thermal conductivity. A thermally conductive filler obtained by processing ceramics such as aluminum, silicon nitride, and silicon carbide, carbon such as carbon black and diamond, and the like into a granular shape or a fiber shape is blended. The flexible heat-dissipating sheet is a material that fills a small gap between the heat-generating element and the heat-dissipating element and removes the thermal resistance, and therefore has high thermal conductivity especially in the thickness direction of the sheet. Is preferred. In addition, the lower the surface hardness of the sheet, the higher the thermal hardness of the sheet. The lower the surface hardness of the sheet, the closer the heating element and heat dissipation unit are to the heat transfer effect. There is.

シートの厚み方向に高熱伝導性を付与するための試みとして特許文献1には、炭素繊維をシリコーンゴムの厚み方向に配向させることで、シートの厚み方向に高熱伝導性の異方性熱伝導率を有するシートが製造可能であることが示されている。このような方法でシートを製造すると、通常の製法で得られるシートよりも厚み方向に高熱伝導性を有するシートが得られる。しかしながら、炭素繊維を厚み方向に高密度充填してしまうと、シートの表面硬度が硬くなるため、発熱部材や放熱部材との密着性が低下し、熱抵抗が増大してしまう。このため炭素繊維を厚み方向に配向させたシートで得られるシート厚み方向の熱伝導率は、せいぜい50W/mKが上限であった。   As an attempt to impart high thermal conductivity in the thickness direction of the sheet, Patent Document 1 discloses that anisotropic thermal conductivity having high thermal conductivity in the thickness direction of the sheet is obtained by orienting carbon fibers in the thickness direction of the silicone rubber. It has been shown that sheets with can be produced. When a sheet is produced by such a method, a sheet having higher thermal conductivity in the thickness direction than a sheet obtained by a normal production method can be obtained. However, if the carbon fiber is densely filled in the thickness direction, the surface hardness of the sheet becomes hard, so that the adhesion with the heat generating member and the heat radiating member is lowered, and the thermal resistance is increased. For this reason, the upper limit of the thermal conductivity in the sheet thickness direction obtained by the sheet in which the carbon fibers are oriented in the thickness direction is 50 W / mK at most.

また特許文献2では、高分子フィルムを2400℃以上の高温にて処理することで得られるグラファイトフィルムを積層してグラファイトブロックとした後、ブロックをグラファイト面と垂直な方向に薄くカットすることで、厚み方向に超高熱伝導性を有するグラファイトプレートが得られることが示されている。しかしながらこのようにして得られる物質はシートというよりむしろプレートと呼ぶべき高硬度の物質であり、発熱体と放熱体との熱抵抗を減らすような効果は期待できない。
特開2000−195998号公報 特許第3345986号公報
Moreover, in patent document 2, after laminating a graphite film obtained by processing a polymer film at a high temperature of 2400 ° C. or higher to form a graphite block, the block is thinly cut in a direction perpendicular to the graphite surface. It has been shown that a graphite plate having ultra-high thermal conductivity in the thickness direction can be obtained. However, the material obtained in this way is a high-hardness material that should be called a plate rather than a sheet, and an effect that reduces the thermal resistance between the heat generator and the heat radiator cannot be expected.
JP 2000-195998 A Japanese Patent No. 3345986

本発明は、厚み方向に超高熱伝導性を有し、なおかつ表面硬度が低く柔軟な特性を有する、グラファイト製の柔軟な熱伝導性シートを提供する事を課題としている。   An object of the present invention is to provide a flexible thermal conductive sheet made of graphite having ultra-high thermal conductivity in the thickness direction and having low surface hardness and flexible characteristics.

我々は、上記の問題を解決するために、グラファイトフィルムと各種の有機層との複合化を試みた。その結果、本明細書に記載するように適切な有機層を選定した上で、グラファイトフィルムと有機層との比率が一定範囲となるよう積層して作成されたグラファイトブロックを、特定方向に薄くカットあるいはスライス加工することで、従来用いられて来たグラファイトブロック切削加工品とは異なり、厚み方向超高熱伝導性と、表面硬度が低く柔軟な特性とを両立させたグラファイト放熱シートを実現できる事を発見し、本発明を成すに至った。   In order to solve the above problems, we tried to combine graphite film with various organic layers. As a result, after selecting an appropriate organic layer as described in this specification, the graphite block created by laminating the graphite film to the organic layer in a certain range is thinly cut in a specific direction. Or, by slicing, unlike graphite block cutting products that have been used in the past, it is possible to realize a graphite heat dissipation sheet that combines ultra-high thermal conductivity in the thickness direction with low surface hardness and flexible properties. Discovered and led to the present invention.

すなわち本発明は、下記1)〜14)に関する。   That is, the present invention relates to the following 1) to 14).

1)厚み1mm以下のグラファイトフィルムが有機層を介して厚み方向にグラファイトの結晶面が配向するように積層されており、シートの面方向から観察される[グラファイト面積/有機層面積]の比率が75/25〜10/90の比率である、厚み5mm以下の、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   1) A graphite film having a thickness of 1 mm or less is laminated so that the crystal plane of graphite is oriented in the thickness direction through the organic layer, and the ratio of [graphite area / organic layer area] observed from the plane direction of the sheet is A thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet having a thickness of 5 mm or less, which is a ratio of 75/25 to 10/90.

2)前記グラファイトフィルムにおけるフィルム面方向の熱伝導率が100W/mK以上であり、フィルム面に垂直方向の熱伝導率が50W/mK以下であることを特徴とする、1)に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   2) The thickness direction according to 1), wherein the thermal conductivity in the film surface direction of the graphite film is 100 W / mK or more, and the thermal conductivity in the direction perpendicular to the film surface is 50 W / mK or less. Graphite oriented thermal conductive sheet.

3)原料のグラファイトフィルムが厚み400μm以下のフィルムであることを特徴とする、1)〜2)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   3) The thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet according to any one of 1) to 2), wherein the raw graphite film is a film having a thickness of 400 μm or less.

4)前記グラファイトフィルムの面方向の熱伝導率が、600W/m・K以上であることを特徴とする、1)〜3)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   4) The thickness direction graphite oriented thermal conductive sheet according to any one of 1) to 3), wherein the thermal conductivity of the graphite film in a plane direction is 600 W / m · K or more.

5)前記グラファイトフィルムが、少なくともエキスパンド法によって製造された膨張黒鉛を用いて作製されたものである事を特徴とする、1)〜4)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   5) The thickness direction graphite orientation heat conduction according to any one of 1) to 4), wherein the graphite film is produced using at least expanded graphite produced by an expanding method. Sheet.

6)前記グラファイトフィルムが、ポリイミド樹脂、ポリパラフェニレンビニレン樹脂、ポリオキサジアゾール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂の熱処理によって得られたものである事を特徴とする、1)〜5)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   6) The graphite film is obtained by heat treatment of at least one resin selected from the group consisting of polyimide resin, polyparaphenylene vinylene resin, and polyoxadiazole resin. 5) The thickness direction graphite orientation heat conductive sheet of any one of 5).

7)前記グラファイトフィルムの厚みが、100μm以下であることを特徴とする、1)〜6)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   7) The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet according to any one of 1) to 6), wherein the graphite film has a thickness of 100 μm or less.

8)前記有機層の厚みが、前記グラファイトフィルムの厚みの1/2以上であることを特徴とする、1)〜7)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   8) The thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet according to any one of 1) to 7), wherein the thickness of the organic layer is ½ or more of the thickness of the graphite film.

9)前記有機層が、アクリル系粘着剤及び/又はシリコーン系粘着剤を含む材料であることを特徴とする、1)〜8)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   9) The thickness direction graphite oriented thermal conductive sheet according to any one of 1) to 8), wherein the organic layer is a material containing an acrylic pressure-sensitive adhesive and / or a silicone pressure-sensitive adhesive.

10)前記有機層が、基材の両面に粘着剤を塗布してなる、粘着剤と基材との複合材料を含むことを特徴とする、1)〜9)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   10) The said organic layer contains the composite material of an adhesive and a base material formed by apply | coating an adhesive to both surfaces of a base material, The any one of 1) -9) characterized by the above-mentioned. Thickness direction oriented graphite thermal conductive sheet.

11)前記有機層が、熱硬化性樹脂を含むことを特徴とする、1)〜8)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   11) The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet according to any one of 1) to 8), wherein the organic layer contains a thermosetting resin.

12)下記工程(i)〜(ii)からなる厚み方向グラファイト配向熱伝導シートの製造方法。
(i)厚み1mm以下のグラファイトフィルムを、有機層を介して積層し、グラファイトブロックを作成する工程
(ii)このブロックをグラファイトの結晶面に対して45°以上の角度をなす面にて、5mm以下の厚みにカットする工程
13)前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムを、粘着剤層を介して、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、グラファイトブロックを作成する、12)に記載の製造方法。
12) The manufacturing method of the thickness direction graphite orientation heat conductive sheet which consists of following process (i)-(ii).
(I) Step of forming a graphite block by laminating a graphite film having a thickness of 1 mm or less via an organic layer (ii) 5 mm at a surface forming an angle of 45 ° or more with respect to the crystal plane of the graphite The step of cutting to the following thickness 13) In the step (i), a graphite film having a thickness of 1 mm or less is laminated by means of superposition or winding through an adhesive layer to create a graphite block, 12) The manufacturing method as described.

14)前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムの片面あるいは両面に未硬化の硬化型高分子を塗布した後、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、この積層体を硬化型高分子の硬化条件にて硬化させ、グラファイトブロックを作成する、12)に記載の製造方法。   14) In the step (i), an uncured curable polymer is applied to one or both surfaces of a graphite film having a thickness of 1 mm or less, and then laminated by means of superposition or winding, and this laminate is cured with the curable polymer. The production method according to 12), wherein the graphite block is prepared by curing under the curing conditions of

15)前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムの片面あるいは両面に熱可塑性樹脂フィルムを重ねた後、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、この積層体を熱可塑性樹脂の軟化温度以上に加熱し、グラファイトブロックを作成する、12)に記載の製造方法。   15) In the step (i), after superposing a thermoplastic resin film on one side or both sides of a graphite film having a thickness of 1 mm or less, the laminate is laminated by means of superposition or winding, and the laminate is not lower than the softening temperature of the thermoplastic resin. To produce a graphite block.

16)グラファイトブロックを作成する際に、積層体に0.1MPa以上の圧力をかけることを特徴とする、12)〜15)のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シートの製造方法。   16) The method for producing a thickness-oriented graphite-oriented heat conductive sheet according to any one of 12) to 15), wherein a pressure of 0.1 MPa or more is applied to the laminate when producing the graphite block. .

本発明を用いることにより、厚み方向には銅などの高熱伝導性金属を上回る優れた熱伝導性を示しながら、表面は低硬度軟質で発熱体と放熱体との密着性に優れ、かつ金属などに比べ低密度であるため極めて軽量な熱伝導シートが得られることから、特に密着性が重要となる放熱材料に好適なものである。   By using the present invention, the surface has excellent thermal conductivity that exceeds that of high thermal conductivity metals such as copper in the thickness direction, while the surface is soft with low hardness and excellent adhesion between the heating element and the heat dissipation element, and metal, etc. Since it has a low density compared to the above, an extremely lightweight heat conductive sheet can be obtained. Therefore, it is suitable for a heat dissipation material in which adhesion is particularly important.

<グラファイトフィルム>
本発明で用いられるグラファイトフィルムは、グラファイトの結晶がフィルム面の方向に沿って並んでいる、厚み1mm以下のフィルム状グラファイトである。フィルム面方向の熱伝導率が100W/mK以上であり、フィルム面に垂直方向の熱伝導率が50W/mK以下である事が好ましい。フィルム面方向の熱伝導率が600W/mK以上であることがより好ましい。グラファイトの熱伝導度はグラファイト本来の構造に由来する熱伝導の異方性を有し、面方向の熱伝導度を高くするほど厚さ方向の熱伝導度は小さくなる。本発明の目的はグラファイトの熱拡散の異方性を利用するものであるから、本発明のグラファイトにとっては面方向の熱伝導度が大きい事は極めて重要である。この様な異方性を有するグラファイトフィルムの作製方法には代表的な2つの方法がある。
<Graphite film>
The graphite film used in the present invention is a film-like graphite having a thickness of 1 mm or less in which graphite crystals are arranged along the direction of the film surface. The thermal conductivity in the film surface direction is preferably 100 W / mK or more, and the thermal conductivity in the direction perpendicular to the film surface is preferably 50 W / mK or less. The thermal conductivity in the film surface direction is more preferably 600 W / mK or more. The thermal conductivity of graphite has anisotropy of thermal conductivity derived from the original structure of graphite. The higher the thermal conductivity in the plane direction, the smaller the thermal conductivity in the thickness direction. Since the object of the present invention is to utilize the thermal diffusion anisotropy of graphite, it is extremely important for the graphite of the present invention that the thermal conductivity in the surface direction is large. There are two typical methods for producing a graphite film having such anisotropy.

本発明で好ましく用いられるグラファイトフィルムの第一の製法はグラファイト粉末をシート状に押し固めたグラファイトフィルムである。グラファイト粉末がフィルム状に成型されるためには粉末がフレーク状、あるいは鱗片状になっている必要がある。この様なグラファイト粉末の製造のための最も一般的な方法がエキスパンド(膨張黒鉛)法と呼ばれる方法である。これはグラファイトを硫酸などの酸に浸漬し、グラファイト層間化合物を作製し、しかる後にこれを熱処理、発泡させてグラファイト層間を剥離するものである。剥離後、グラファイト粉末を洗浄して酸を除去し薄膜のグラファイト粉末を得る。この様な方法で得られたグラファイト粉末をさらに圧延ロール成型してフィルム状のグラファイトを得る。この様な手法で得られた、膨張黒鉛を用いて作製されたグラファイトフィルムは柔軟性にとみ、フィルム面方向に高い熱伝導性を有するので本発明の目的に好ましく用いられる。   The first method for producing a graphite film preferably used in the present invention is a graphite film obtained by pressing graphite powder into a sheet. In order for the graphite powder to be formed into a film, the powder needs to be in the form of flakes or scales. The most common method for producing such graphite powder is a method called an expanded (expanded graphite) method. In this method, graphite is immersed in an acid such as sulfuric acid to produce a graphite intercalation compound, which is then heat-treated and foamed to separate the graphite layers. After peeling, the graphite powder is washed to remove the acid to obtain a thin film graphite powder. The graphite powder obtained by such a method is further subjected to rolling roll molding to obtain film-like graphite. A graphite film produced by using such a method and produced using expanded graphite is flexible and has a high thermal conductivity in the film surface direction, so that it is preferably used for the purpose of the present invention.

本発明で好ましく用いられるグラファイトフィルムの第二の製造方法は、フィルム状グラファイトがポリイミド樹脂、ポリパラフェニレンビニレン樹脂、ポリオキサジアゾール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂の熱処理によって作製されたものである。この方法で最も一般的に用いられる樹脂はポリイミド樹脂である。   The second method for producing a graphite film preferably used in the present invention is produced by heat treatment of at least one resin selected from the group consisting of polyimide resin, polyparaphenylene vinylene resin, and polyoxadiazole resin. It is a thing. The resin most commonly used in this method is a polyimide resin.

また、100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10−5cm/cm/℃以下であるフィルムを2400℃以上の温度で熱処理して作製されたグラファイトフィルムであることは優れた熱伝導性を実現する上で好ましい。 Moreover, it is excellent that it is a graphite film produced by heat-treating a film having an average coefficient of linear expansion in the range of 100 to 200 ° C. of 2.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less at a temperature of 2400 ° C. or more. It is preferable for realizing high thermal conductivity.

また、複屈折が0.13以上であるポリイミドフィルムを2400℃以上の温度で熱処理してグラファイトフィルムを作製する事は優れた熱伝導性を実現する上で好ましい。   In addition, it is preferable to produce a graphite film by heat-treating a polyimide film having a birefringence of 0.13 or more at a temperature of 2400 ° C. or more in order to realize excellent thermal conductivity.

無論、100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10−5cm/cm/℃以下であり、かつ、複屈折が0.13以上であるポリイミドフィルムを2400℃以上の温度で熱処理しグラファイトフィルムを作製する事は優れた熱伝導性を実現する上で好ましい。 Of course, a polyimide film having an average linear expansion coefficient in the range of 100 to 200 ° C. of 2.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less and a birefringence of 0.13 or more is obtained at a temperature of 2400 ° C. or more. It is preferable to produce a graphite film by heat treatment in order to realize excellent thermal conductivity.

この様なグラファイト化に好ましく用いられるポリイミドとして、下記の
化学式(1)で表される繰り返し単位からなるポリイミド、化学式(2)で表される繰り返し単位からなるポリイミド、化学式(3)で表される繰り返し単位からなるポリイミド、などが挙げられる。
式(1)
As a polyimide preferably used for such graphitization, a polyimide composed of a repeating unit represented by the following chemical formula (1), a polyimide composed of a repeating unit represented by the chemical formula (2), and a chemical formula (3) Examples thereof include polyimide composed of repeating units.
Formula (1)

Figure 2010003981
Figure 2010003981

式(2) Formula (2)

Figure 2010003981
Figure 2010003981

式(3) Formula (3)

Figure 2010003981
Figure 2010003981

(Rは、式(4) (R 1 represents the formula (4)

Figure 2010003981
Figure 2010003981

からなる群から選択される2価の有機基である。Rはそれぞれ独立して、−CH、−Cl、−Br、−F、または−CHOである。Rは式(5) A divalent organic group selected from the group consisting of Each R 2 is independently —CH 3 , —Cl, —Br, —F, or —CH 3 O. R is the formula (5)

Figure 2010003981
Figure 2010003981

で表される2価の有機基である。ここでnは1〜3の整数、XおよびYはそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、カルボキシル基、炭素数6以下の低級アルキル基、または炭素数6以下のアルコキシ基、そしてAは、−O−、−S−、−CO−、−SO−、または−CH−、である。)
式(3)で表される繰り返し単位の中でも、下記式(6)、式(7)で表される繰り返し単位が特に好ましい。
式(6)
It is a bivalent organic group represented by these. Here, n is an integer of 1 to 3, X and Y are each independently hydrogen, halogen, carboxyl group, lower alkyl group having 6 or less carbon atoms, or alkoxy group having 6 or less carbon atoms, and A is —O -, - S -, - CO -, - SO 2 -, or -CH 2 -, a. )
Among the repeating units represented by the formula (3), the repeating units represented by the following formulas (6) and (7) are particularly preferable.
Formula (6)

Figure 2010003981
Figure 2010003981

式(7) Formula (7)

Figure 2010003981
Figure 2010003981

グラファイトフィルムを得るために用いられるポリイミド樹脂は、これらのうち1種類の繰り返し単位のみからなるポリイミドを用いてもよく、2種類以上の繰り返し単位の共重合体であってもよい。また、1種類のポリイミドからなるフィルムを単独で用いてもよく、2種類以上のポリイミドの混合物フィルムを用いてもよい。   The polyimide resin used for obtaining the graphite film may be a polyimide composed of only one type of repeating unit, or may be a copolymer of two or more types of repeating units. Moreover, the film which consists of 1 type of polyimide may be used independently, and the mixed film of 2 or more types of polyimides may be used.

2種以上を用いた組み合わせの例としては、例えば、上記、式(1)、(2)、(3)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも2種以上の繰り返し単位を有するポリイミドの共重合体フィルム、あるいは、式(1)、式(2)、式(3)で表されるポリイミド共重合体からなる群からから選択される少なくとも2種以上のポリイミド共重合体の混合物フィルム、また、上記式(1)、式(2)および上記式(6)、式(7)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも3種以上の繰り返し単位を有するポリイミドの共重合体、あるいは、式(1)、式(2)、一般式(6)、一般式(7)で表されるポリイミド共重合体からなる群からから選択される少なくとも3種以上の混合物を含むポリイミド共重合体、が挙げられる。   Examples of combinations using two or more types include, for example, at least two or more types of repeating units selected from the group consisting of the repeating units represented by the above formulas (1), (2), and (3). Polyimide copolymer film, or a mixture of at least two polyimide copolymers selected from the group consisting of polyimide copolymers represented by formula (1), formula (2), and formula (3) A film and a polyimide co-polymer having at least three types of repeating units selected from the group consisting of repeating units represented by the above formula (1), formula (2), and the above formula (6) and formula (7). A polymer or a mixture of at least three or more selected from the group consisting of polyimide copolymers represented by formula (1), formula (2), general formula (6), and general formula (7) is included. Polyimide co-weight Body, and the like.

さらに、2種以上の繰り返し単位を組み合わせて用いる場合は、その使用比率を適宜選択することができる。例えば、式(1)、(2)で表される繰り返し単位をもつポリイミド共重合体ポリイミドフィルムであって、4、4’−オキシジアニリンおよびパラフェニレンジアミンをモル比で9/1〜4/6の割合で含むジアミンを用いて得られるポリイミドフィルムも本発明に用いるグラファイトを得るために好ましく用いられる。中でも上記、ポリイミドが式(1)、(2)、(6)、(7)で表される繰り返し単位をもつポリイミド共重合体であって、それぞれの繰り返し単位の数を、a、b、c、dとし、a+b+c+dをsとしたとき、(a+b)/s、(a+c)/s、(b+d)/s、(c+d)/sが0.25〜0.75を満たすポリイミドフィルムである場合は好ましく用いられる。   Furthermore, when using combining 2 or more types of repeating units, the usage ratio can be selected suitably. For example, a polyimide copolymer polyimide film having a repeating unit represented by the formulas (1) and (2), wherein 4,4′-oxydianiline and paraphenylenediamine are used in a molar ratio of 9/1 to 4 /. A polyimide film obtained using a diamine containing 6 is also preferably used to obtain the graphite used in the present invention. Above all, the polyimide is a polyimide copolymer having repeating units represented by the formulas (1), (2), (6) and (7), and the number of each repeating unit is represented by a, b, c. When a is a polyimide film satisfying (a + b) / s, (a + c) / s, (b + d) / s, and (c + d) / s, where a + b + c + d is s, Preferably used.

本発明に用いるグラファイトシートはこれらのポリイミドを2400℃以上の温度で熱処理して得ることが出来る。   The graphite sheet used in the present invention can be obtained by heat-treating these polyimides at a temperature of 2400 ° C. or higher.

以上述べたポリイミドを用いる事により、100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10−5cm/cm/℃以下、好ましくは2.0×10−5cm/cm/℃以下、更に好ましくは1.5×10−5cm/cm/℃以下、であるポリイミドフィルムを得ることができる。フィルムの線膨張係数はTMA(熱機械分析装置)を用いて、まず試料を10℃/分の昇温速度で350℃まで昇温させたのち一旦室温まで空冷し、再度10℃/分の昇温速度で350℃まで昇温させ、2回目の昇温時から100℃〜200℃の平均線膨張係数とした。また更にフィルムの弾性率については、200kg/mm、以上であり、更には250kg/mm、以上、より好ましくは350kg/mm、以上である事が好ましい。 By using the polyimide described above, the average linear expansion coefficient in the range of 100 to 200 ° C. is 2.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less, preferably 2.0 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less. More preferably, a polyimide film that is 1.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less can be obtained. The linear expansion coefficient of the film was measured using a TMA (thermomechanical analyzer), first the sample was heated to 350 ° C. at a temperature increase rate of 10 ° C./min, then air-cooled to room temperature, and then increased again to 10 ° C./min. The temperature was increased to 350 ° C. at a temperature rate, and the average linear expansion coefficient was 100 ° C. to 200 ° C. from the second temperature increase. Further, the elastic modulus of the film is 200 kg / mm 2 or more, further 250 kg / mm 2 or more, more preferably 350 kg / mm 2 or more.

また、本発明に用いられるポリイミドフィルムは、面内配向性を示す複屈折Δnがフィルム面内のどの方向においても0.13以上、好ましくは0.15以上、最も好ましくは0.16以上であることが好ましい。ここでいう複屈折とはフィルム面内方向の屈折率と厚み方向の屈折率の差であり、本明細書においてはフィルム面内X方向の複屈折Δnxは下式で与えられる。
複屈折Δnx=(面内X方向の屈折率Nx)−(厚み方向の屈折率Nz)
具体的測定方法を説明すると、フィルム試料をくさび形に切り出してナトリウム光をフィルム面内のX方向に垂直な方向から当て、偏光顕微鏡で観察すると干渉縞がみられる。この干渉縞の数をnとすると、フィルム面内X方向の複屈折Δnxは、
Δn=n×λ/d
で表される。ここで、λはナトリウム光の波長589nm、dは試料の巾(nm)である。詳しくは「新実験化学講座」第19巻(丸善(株))などに記載されている。
The polyimide film used in the present invention has a birefringence Δn indicating in-plane orientation of 0.13 or more, preferably 0.15 or more, and most preferably 0.16 or more in any direction in the film plane. It is preferable. The birefringence here is the difference between the refractive index in the in-plane direction of the film and the refractive index in the thickness direction. In this specification, the birefringence Δnx in the in-plane direction of the film is given by the following equation.
Birefringence Δnx = (refractive index Nx in in-plane X direction) − (refractive index Nz in thickness direction)
A specific measuring method will be described. When a film sample is cut into a wedge shape, sodium light is applied from a direction perpendicular to the X direction in the film plane, and observed with a polarizing microscope, interference fringes are observed. When the number of interference fringes is n, the birefringence Δnx in the X direction in the film plane is
Δn = n × λ / d
It is represented by Here, λ is the wavelength of sodium light 589 nm, and d is the width of the sample (nm). Details are described in “New Experimental Chemistry Course” Vol. 19 (Maruzen Co., Ltd.).

なお、前記した「複屈折Δnがフィルム面内のどの方向においても」とは、例えばフィルム製膜時の流れ方向を基準として、面内の0゜方向、45゜方向、90゜方向、135゜方向のどの方向においても、の意味である。   The above-mentioned “birefringence Δn is in any direction in the film plane” means, for example, 0 ° direction, 45 ° direction, 90 ° direction, 135 ° in the plane with reference to the flow direction during film formation. It means in any direction.

<ポリイミドフィルムの作製方法>
本発明で用いられるポリイミドフィルムは、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の有機溶液をイミド化促進剤と混合した後、エンドレスベルトまたはステンレスドラムなどの支持体上に流延し、それを乾燥および焼成してイミド化させることにより製造され得る。
<Preparation method of polyimide film>
The polyimide film used in the present invention is prepared by mixing an organic solution of polyamic acid, which is a polyimide precursor, with an imidization accelerator, and then casting it on a support such as an endless belt or a stainless drum, followed by drying and baking. Can be produced by imidization.

本発明に用いられるポリアミド酸の製造方法としては公知の方法を用いることができ、通常は、芳香族酸二無水物の少なくとも1種とジアミンの少なくとも1種が実質的に等モル量で有機溶媒中に溶解させられる。そして、得られた有機溶液は酸二無水物とジアミンの重合が完了するまで制御された温度条件下で攪拌され、これによってポリアミド酸が製造され得る。このようなポリアミド酸溶液は、通常は5〜35wt%、好ましくは10〜30wt%の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に、適当な分子量と溶液粘度を得ることができる。   As a method for producing the polyamic acid used in the present invention, a known method can be used. Usually, at least one kind of aromatic dianhydride and at least one kind of diamine are substantially equimolar amounts in an organic solvent. Dissolved in. The obtained organic solution is stirred under controlled temperature conditions until the polymerization of the acid dianhydride and the diamine is completed, whereby a polyamic acid can be produced. Such a polyamic acid solution is usually obtained at a concentration of 5 to 35 wt%, preferably 10 to 30 wt%. When the concentration is in this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity can be obtained.

重合方法としてはあらゆる公知の方法を用いることができるが、例えば次のような重合方法<1>−<5>が好ましい。   Any known method can be used as the polymerization method. For example, the following polymerization methods <1> to <5> are preferable.

<1>芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。   <1> A method in which an aromatic diamine is dissolved in an organic polar solvent, and this is reacted with a substantially equimolar amount of an aromatic tetracarboxylic dianhydride for polymerization.

<2>芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対して過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマを得る。続いて、芳香族テトラカルボン酸二無水物に対して実質的に等モルになるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
これは、ジアミンと酸二無水物を用いて前記酸二無水物を両末端に有するプレポリマを合成し、前記プレポリマに前記とは異なるジアミンを反応させてポリアミド酸を合成する方法と同様である。
<2> An aromatic tetracarboxylic dianhydride and a small molar amount of the aromatic diamine compound are reacted with each other in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both ends. Then, the method of superposing | polymerizing using an aromatic diamine compound so that it may become substantially equimolar with respect to aromatic tetracarboxylic dianhydride.
This is the same as the method of synthesizing a prepolymer having the acid dianhydride at both ends using a diamine and an acid dianhydride, and reacting the prepolymer with a diamine different from the above to synthesize a polyamic acid.

<3>芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマを得る。続いて、このプレポリマに芳香族ジアミン化合物を追加添加後に、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。   <3> An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with an excess molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, after adding an aromatic diamine compound to the prepolymer, polymerization was performed using the aromatic tetracarboxylic dianhydride so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar. how to.

<4>芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解および/または分散させた後に、その酸二無水物に対して実質的に等モルになるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。   <4> After the aromatic tetracarboxylic dianhydride is dissolved and / or dispersed in an organic polar solvent, an aromatic diamine compound is used so as to be substantially equimolar with respect to the acid dianhydride. Polymerization method.

<5>実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。   <5> A method in which a substantially equimolar mixture of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine is reacted in an organic polar solvent for polymerization.

本発明においてポリイミドの合成に用いられ得る酸二無水物は、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、およびそれらの類似物を含み、それらを単独でまたは任意の割合の混合物で用いることができる。   Acid dianhydrides that can be used for the synthesis of polyimide in the present invention are pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyl. Tetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4 ′ -Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4- Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2 , 3-Zical Xylphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, p-phenylenebis (trimerit Acid monoester acid anhydride), ethylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), and the like, which may be used alone or in any It can be used in a mixture of proportions.

本発明においてポリイミドの合成に用いられ得るジアミンとしては、4,4’−オキシジアニリン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(4,4’−オキシジアニリン)、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル(3,3’−オキシジアニリン)、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル(3,4’−オキシジアニリン)、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼンおよびそれらの類似物を含み、それらを単独でまたは任意の割合の混合物で用いることができる。   Examples of diamines that can be used for the synthesis of polyimide in the present invention include 4,4′-oxydianiline, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, and 3,3. '-Dichlorobenzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-oxydianiline), 3,3'-diaminodiphenyl ether (3,3'-oxydianiline), 3,4'-diaminodiphenyl ether (3,4'-oxydianiline), 1,5-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenyl Diethylsilane, 4,4'-diaminodiphenylsilane, 4,4 ' Diaminodiphenylethylphosphine oxide, 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diaminobenzene (p-phenylenediamine), 1,3-diaminobenzene, Including 1,2-diaminobenzene and the like, which can be used alone or in any proportion of the mixture.

特に、線膨張係数を小さくして弾性率を高くかつ複屈折を大きくし得るという観点から、本発明におけるポリイミドフィルムの製造では、前記化学式(3)で表される繰り返し単位を形成するような酸二無水物を原料に用いることが好ましい。   In particular, from the viewpoint of increasing the elastic modulus and increasing the birefringence by reducing the linear expansion coefficient, in the production of the polyimide film in the present invention, an acid that forms the repeating unit represented by the chemical formula (3). It is preferable to use a dianhydride as a raw material.

上述の、前記化学式(3)で表される繰り返し単位を形成するような酸二無水物を用いることによって比較的低吸水率のポリイミドフィルムが得られ、このことはグラファイト化過程において水分による発泡を防止し得るという観点からも好ましい。   By using the acid dianhydride that forms the repeating unit represented by the chemical formula (3) described above, a polyimide film having a relatively low water absorption is obtained, and this causes foaming due to moisture during the graphitization process. It is also preferable from the viewpoint that it can be prevented.

特に、上記繰り返し単位を形成する酸二無水物における化学式(3)のRとして式(4)に示されているようなベンゼン核を含む有機基を使用すれば、得られるポリイミドフィルムの分子配向性が高くなり、線膨張係数が小さく、弾性率が大きく、複屈折が高く、さらには吸水率が低くなるという観点から好ましい。 In particular, when an organic group containing a benzene nucleus as shown in Formula (4) is used as R 1 in Chemical Formula (3) in the acid dianhydride forming the repeating unit, molecular orientation of the resulting polyimide film It is preferable from the viewpoints of high properties, low coefficient of linear expansion, high elastic modulus, high birefringence, and low water absorption.

さらに線膨張係数を小さく、弾性率を高く、複屈折を大きく、吸水率を小さくするためには、本発明におけるポリイミドの合成には、前記化学式(6)や前記化学式(7)で表される繰り返し単位を形成されるような酸二無水物を原料に用いればよい。   In order to further reduce the linear expansion coefficient, increase the elastic modulus, increase the birefringence, and decrease the water absorption, the synthesis of the polyimide in the present invention is represented by the chemical formula (6) or the chemical formula (7). An acid dianhydride capable of forming a repeating unit may be used as a raw material.

特に、2つ以上のエステル結合でベンゼン環が直線状に結合された構造を有する酸二無水物を原料に用いて得られるポリイミドフィルムは、屈曲鎖を含むけれども全体として非常に直線的なコンフォメーションをとりやすく、比較的剛直な性質を有する。その結果、この原料を用いることによってポリイミドフィルムの線膨張係数を小さくすることができ、例えば1.5×10−5/cm/cm/℃以下にすることができる。 In particular, a polyimide film obtained by using an acid dianhydride having a structure in which a benzene ring is linearly bonded by two or more ester bonds as a raw material has a very linear conformation as a whole although it contains a bent chain. It has a relatively rigid property. As a result, the linear expansion coefficient of the polyimide film can be reduced by using this raw material, for example, 1.5 × 10 −5 / cm / cm / ° C. or less.

さらに線膨張係数を小さく、弾性率を高く、複屈折を大きくするためには、本発明におけるポリイミドは、p−フェニレンジアミンを原料に用いて合成されることが好ましい。   In order to further reduce the linear expansion coefficient, increase the elastic modulus, and increase the birefringence, the polyimide in the present invention is preferably synthesized using p-phenylenediamine as a raw material.

中でも好ましいジアミンは4,4’−オキシジアニリンとp−フェニレンジアミンであり、これらの単独または2者の合計モルが全ジアミンに対して40モル%以上、さらには50モル%以上、さらには70モル%以上、またさらには80モル%以上であることが好ましい。さらに、p−フェニレンジアミンが10モル%以上、さらには20モル%以上、さらには30モル%以上、またさらには40モル%以上を含むことが好ましい。これらのジアミンの含有量がこれらのモル%範囲の下限値未満になれば、得られるポリイミドフィルムの線膨張係数が大きく、弾性率が小さく、複屈折が小さくなる傾向になる。但し、ジアミンの全量をp−フェニレンジアミンにすると、発泡の少ない厚みの厚いポリイミドフィルムを得るのが難しくなるため、4,4’−オキシジアニリンを使用するのが良い。また炭素比率が減り、分解ガスの発生量を減らすことができ、芳香環の再配列の必要が減り、外観、熱伝導性に優れたグラファイトを得ることができる。   Among them, preferred diamines are 4,4′-oxydianiline and p-phenylenediamine, and the total moles of these alone or the two are 40 mol% or more, further 50 mol% or more, further 70 It is preferably at least mol%, and more preferably at least 80 mol%. Furthermore, it is preferable that p-phenylenediamine contains 10 mol% or more, further 20 mol% or more, further 30 mol% or more, and further 40 mol% or more. If the content of these diamines is less than the lower limit of these mol% ranges, the resulting polyimide film tends to have a high linear expansion coefficient, a low elastic modulus, and a low birefringence. However, if the total amount of diamine is p-phenylenediamine, it is difficult to obtain a thick polyimide film with less foaming, so 4,4'-oxydianiline is preferably used. In addition, the carbon ratio can be reduced, the amount of cracked gas generated can be reduced, the need for rearrangement of aromatic rings is reduced, and graphite having excellent appearance and thermal conductivity can be obtained.

本発明においてポリイミドフィルムの合成に用いられる最も適当な酸二無水物はピロメリット酸二無水物および/または式(7)で表される繰り返し単位を形成するp−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸二無水物)であり、これらの単独または2者の合計モルが全酸二無水物に対して40モル%以上、さらには50モル%以上、さらには70モル%以上、またさらには80モル%以上であることが好ましい。これら酸二無水物の使用量が40モル%未満であれば、得られるポリイミドフィルムの線膨張係数が大きく、弾性率が小さく、複屈折が小さくなる傾向になる。   The most suitable acid dianhydride used for the synthesis of the polyimide film in the present invention is pyromellitic dianhydride and / or p-phenylenebis (trimellitic acid monoester which forms a repeating unit represented by the formula (7) Acid dianhydride), and the total mole of these alone or both is 40 mol% or more, further 50 mol% or more, further 70 mol% or more, or even 80 mol based on the total acid dianhydride. % Or more is preferable. If the amount of these acid dianhydrides used is less than 40 mol%, the resulting polyimide film tends to have a large linear expansion coefficient, a small elastic modulus, and a small birefringence.

また、ポリイミドフィルム、ポリアミド酸、ポリイミド樹脂に対して、カーボンブラック、グラファイト等の添加剤を添加しても良い。
ポリアミド酸を合成するための好ましい溶媒は、アミド系溶媒であるN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどであり、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドが特に好ましく用いられ得る。
Moreover, you may add additives, such as carbon black and a graphite, with respect to a polyimide film, a polyamic acid, and a polyimide resin.
Preferred solvents for synthesizing the polyamic acid are amide solvents N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and the like. N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide can be used particularly preferably.

次に、ポリイミドの製造方法には、前駆体であるポリアミド酸を加熱でイミド転化する熱キュア法、またはポリアミド酸に無水酢酸等の酸無水物に代表される脱水剤やピコリン、キノリン、イソキノリン、ピリジン等の第3級アミン類をイミド化促進剤として用いてイミド転化するケミカルキュア法のいずれを用いてもよい。中でも、イソキノリンのように沸点の高いものほど好ましい。というのは、フィルム作製中の初期段階では蒸発せず、乾燥の最後の過程まで、触媒効果が発揮されやすいため好ましい。特に、得られるフィルムの線膨張係数が小さく、弾性率が高く、複屈折が大きくなりやすく、また比較的低温で迅速なグラファイト化が可能で、品質のよいグラファイトを得ることができるという観点からケミカルキュアの方が好ましい。特に、脱水剤とイミド化促進剤を併用することは、得られるフィルムの線膨張係数が小さく、弾性率が大きく、複屈折が大きくなり得るので好ましい。また、ケミカルキュア法は、イミド化反応がより速く進行するので加熱処理においてイミド化反応を短時間で完結させることができ、生産性に優れた工業的に有利な方法である。   Next, a polyimide production method includes a heat curing method in which polyamic acid as a precursor is converted to imide by heating, or a polyhydric acid such as acetic anhydride and other dehydrating agents, picoline, quinoline, isoquinoline, Any of the chemical curing methods in which imide conversion is performed using a tertiary amine such as pyridine as an imidization accelerator may be used. Among them, a higher boiling point such as isoquinoline is preferable. This is preferable because it does not evaporate in the initial stage of film production, and the catalytic effect is easily exhibited until the last step of drying. In particular, the resulting film has a low coefficient of linear expansion, high modulus of elasticity, high birefringence, and can be rapidly graphitized at a relatively low temperature to obtain high-quality graphite. Cure is preferred. In particular, the combined use of a dehydrating agent and an imidization accelerator is preferable because the resulting film has a small linear expansion coefficient, a large elastic modulus, and a large birefringence. In addition, the chemical cure method is an industrially advantageous method that is excellent in productivity because the imidization reaction proceeds faster and the imidization reaction can be completed in a short time in the heat treatment.

具体的なケミカルキュアによるフィルムの製造においては、まずポリアミド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒からなるイミド化促進剤を加えて、支持板、PET等の有機フィルム、ドラム、またはエンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布して膜状にし、有機溶媒を蒸発させることによって自己支持性を有する膜を得る。次いで、この自己支持性膜をさらに加熱して乾燥させつつイミド化させてポリイミド膜を得る。この加熱の際の温度は、150℃から550℃の範囲内にあることが好ましい。加熱の際の昇温速度には特に制限はないが、連続的もしくは段階的に、徐々に加熱して最高温度がその所定温度範囲内になるようにするのが好ましい。加熱時間はフィルム厚みや最高温度によって異なるが、一般的には最高温度に達してから10秒から10分の範囲が好ましい。さらに、ポリイミドフィルムの製造工程中に、収縮を防止するためにフィルムを容器に接触させたり固定・保持したり延伸したりする工程を含めば、得られるフィルムの線膨張係数が小さく、弾性率が高く、複屈折が大きくなりやすい傾向にあるので好ましい。   In the production of a film by a specific chemical cure, first, an imidization accelerator comprising a dehydrating agent and a catalyst of a stoichiometric amount or more is added to a polyamic acid solution, an organic film such as a support plate, PET, a drum, or an endless belt A film having self-supporting properties is obtained by casting or coating on a support such as a film to evaporate the organic solvent. Next, the self-supporting film is further heated and dried to be imidized to obtain a polyimide film. The temperature during the heating is preferably in the range of 150 ° C to 550 ° C. There is no particular limitation on the rate of temperature increase at the time of heating, but it is preferable to gradually heat in a continuous or stepwise manner so that the maximum temperature falls within the predetermined temperature range. Although the heating time varies depending on the film thickness and the maximum temperature, it is generally preferably in the range of 10 seconds to 10 minutes after reaching the maximum temperature. Furthermore, if the process of making the polyimide film includes a step of bringing the film into contact with the container, fixing, holding or stretching in order to prevent shrinkage, the resulting film has a low coefficient of linear expansion and an elastic modulus. It is preferable because it tends to be high and the birefringence tends to increase.

<ポリイミドのグラファイト化>
次に、ポリイミドフィルムのグラファイト化のプロセスについて述べる。
本発明では出発物質であるポリイミドフィルムを窒素ガス中で予備加熱し、炭素化を行う。予備加熱は通常1000℃程度の温度で行い、例えば、10℃/分昇温速度で予備処理を行った場合には1000℃の温度領域で30分程度の保持を行う事が望ましい。予備処理の段階では出発高分子フィルムの配向性が失われない様に、フィルムの破壊が起きない程度の面方向の圧力を加える事が有効である。
<Graphization of polyimide>
Next, the process of graphitization of the polyimide film will be described.
In the present invention, the starting polyimide film is preheated in nitrogen gas to perform carbonization. The preheating is usually performed at a temperature of about 1000 ° C., and for example, when pretreatment is performed at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, it is desirable to hold for about 30 minutes in a temperature range of 1000 ° C. In the pretreatment stage, it is effective to apply a pressure in the plane direction that does not cause the film to break so that the orientation of the starting polymer film is not lost.

次に、上記の方法で炭素化されたフィルムを自由に伸び縮み出来るように超高温炉内にセットし、グラファイトを行う。グラファイト化は不活性ガス中で行うが不活性ガスとしてはアルゴンが最も適当であり、アルゴンに少量のヘリウムを加えるとさらに好ましい。処理温度は最低でも2400℃以上が必要で、最終的には2700℃以上の温度で処理する事、より好ましくは2800℃以上が好ましい。   Next, the film carbonized by the above method is set in an ultra-high temperature furnace so that it can be freely expanded and contracted, and graphite is applied. Graphitization is carried out in an inert gas, but argon is most suitable as the inert gas, and it is more preferable to add a small amount of helium to the argon. The treatment temperature is required to be at least 2400 ° C., and the treatment is finally performed at a temperature of 2700 ° C. or more, more preferably 2800 ° C. or more.

処理温度は高ければ高いほど良質のグラファイトに転化出来るが、経済性の面からは出来るだけ低温で良質のグラファイトに転化できる事が好ましい。2500℃以上の超高温を作り出すには、通常グラファイトヒーターに直接電流を流し、そのジュ−ル熱を利用して加熱を行う。グラファイト化は前処理で作製した炭素化フィルムをグラファイト構造に転化する事によって起きるが、その際には炭素−炭素結合の開裂・再結合化が起きなくてはならない。グラファイト化をスムーズに起こすためには、その開裂・再結合が最小のエネルギーで起こる様にする必要があり、出発ポリイミドフィルムの分子配向は炭素化フィルムの炭素の配列に影響を与え、それはグラファイト化の際の炭素−炭素結合の開裂・再結合化のエネルギーを少なくする効果を持つ。従って分子が配向するように分子設計を行い、高度な配向を実現することで低温でのグラファイト化と良質のグラファイトフィルムへの転化が可能になる。   The higher the treatment temperature is, the higher the quality of graphite can be converted, but from the viewpoint of economy, it is preferable that it can be converted to high quality graphite at the lowest possible temperature. In order to create an ultra-high temperature of 2500 ° C. or higher, an electric current is usually passed directly to a graphite heater, and heating is performed using the juule heat. Graphitization occurs by converting the carbonized film prepared in the pretreatment to a graphite structure, and in that case, the carbon-carbon bond must be cleaved and recombined. In order for the graphitization to occur smoothly, the cleavage and recombination must occur with minimal energy, and the molecular orientation of the starting polyimide film affects the carbon alignment of the carbonized film, which is graphitization. This has the effect of reducing the energy of carbon-carbon bond cleavage and recombination. Therefore, by designing the molecules so that the molecules are oriented and realizing a high degree of orientation, graphitization at a low temperature and conversion to a high-quality graphite film becomes possible.

<グラファイトフィルムの厚み>
本発明の製造方法で作製されるグラファイトフィルムの厚みは1mm以下であることが必要である。好ましくは400μm以下、より好ましくは100μm以下、さらに好ましくは75μm以下、最も好ましくは50μm以下である。グラファイトフィルムの厚みが薄くなるほど、カットあるいはスライスした後のシートの表面硬度を低く保つことができるため好ましい。またグラファイトフィルムの元の厚みが薄いほど、フィルムの結晶配向性が高まり、フィルムの面方向熱伝導率が向上するため好ましい。
<Thickness of graphite film>
The thickness of the graphite film produced by the production method of the present invention needs to be 1 mm or less. Preferably it is 400 micrometers or less, More preferably, it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 75 micrometers or less, Most preferably, it is 50 micrometers or less. The thinner the graphite film is, the more preferable it is because the surface hardness of the sheet after cutting or slicing can be kept low. Further, the thinner the original thickness of the graphite film, the higher the crystal orientation of the film and the better the surface direction thermal conductivity of the film.

<有機層>
本発明の厚み方向グラファイト配向熱伝導性シートは、グラファイトフィルムが有機層を介して厚み方向にグラファイトの結晶面が配向するように積層されてなることを特徴とする。有機層を一定の割合で使用することにより、シートの表面硬度を低くでき、柔軟で密着性に富む熱伝導性シートが得られる。
<Organic layer>
The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet of the present invention is characterized in that a graphite film is laminated through an organic layer so that the crystal plane of graphite is oriented in the thickness direction. By using the organic layer at a certain ratio, the surface hardness of the sheet can be lowered, and a heat conductive sheet having flexibility and high adhesion can be obtained.

有機層はグラファイトシート同士が剥離しないように保持できる材料であれば高分子でもオリゴマーでも反応性低分子量化合物でも特に制限なく使用できる。好ましい有機層の材料としては、粘着剤、接着剤、硬化型高分子、熱可塑性高分子、等が挙げられる。柔軟さと密着性に優れた熱伝導性シートが得られるという点からは、有機層は粘着剤層であることが好ましい。また、グラファイトブロックを安価かつ簡便に製作できるという点からは、有機層に硬化型高分子または熱可塑性高分子を使用することが好ましい。   As the organic layer, any polymer, oligomer, or reactive low molecular weight compound can be used without particular limitation as long as it is a material that can be held so that the graphite sheets are not separated from each other. Preferable materials for the organic layer include pressure-sensitive adhesives, adhesives, curable polymers, thermoplastic polymers, and the like. The organic layer is preferably an adhesive layer from the viewpoint that a heat conductive sheet excellent in flexibility and adhesion can be obtained. In addition, it is preferable to use a curable polymer or a thermoplastic polymer in the organic layer from the viewpoint that the graphite block can be manufactured inexpensively and easily.

<粘着剤層>
粘着剤層の材料としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤等が挙げられ、これら材料は、耐熱性に優れ、発熱部品や放熱部品と複合化して使用した場合にも、十分な長期信頼性が得られる。またこれら粘着剤を用いることにより、最終的に得られる厚み方向グラファイト配向熱伝導シートの表面硬度を低く保つことができる。
<Adhesive layer>
Examples of the material for the pressure-sensitive adhesive layer include acrylic pressure-sensitive adhesives and silicone-based pressure-sensitive adhesives, and these materials have excellent heat resistance, and have sufficient long-term reliability even when combined with heat-generating parts and heat-dissipating parts. Sex is obtained. Moreover, the surface hardness of the thickness direction graphite orientation heat conductive sheet finally obtained can be kept low by using these adhesives.

また粘着剤層は、粘着剤とともに基材を含む材料であることが好ましい。基材の両面に粘着剤を塗布してなる複合材料であることがより好ましい。基材を含むことにより、接着操作が容易となる。特に非常に結晶性や熱拡散性が優れたグラファイトフィルムを使用する場合においては、フィルムが層状に剥離しやすい場合があるが、基材がある事により、剥離性を改善することが可能となる。また基材がある事により、厚み方向グラファイト配向熱伝導シートの強度が増し、取り付け時、機械的にカシメて固定する時やリワーク時に厚み方向グラファイト配向熱伝導シートが傷つくのを防止することが可能となる。   Moreover, it is preferable that an adhesive layer is a material containing a base material with an adhesive. More preferably, it is a composite material obtained by applying a pressure-sensitive adhesive to both surfaces of a substrate. By including the base material, the bonding operation becomes easy. In particular, when using a graphite film having excellent crystallinity and thermal diffusivity, the film may be easily peeled in layers, but the presence of the base material can improve the peelability. . In addition, the presence of the base material increases the strength of the thickness direction graphite oriented thermal conductive sheet, and can prevent the thickness direction graphite oriented thermal conductive sheet from being damaged at the time of mounting, mechanically crimped and fixed, or during rework. It becomes.

粘着剤層の基材としては、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレートを含む材料であると良い。ポリイミド、ポリエチレンテレフタレートは、耐熱性、強度、寸法安定性に優れ、複合した際に、熱伝導性を落とすことなく、またブロックをカットあるいはスライス加工する際の剥離防止性や傷つき防止性にも優れる。また、基材の厚みは、6μm以下であると良い。基材の厚みが薄いと、グラファイトフィルムが有する優れた熱拡散性を損なうことなく積層することが可能となる。   The base material of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably a material containing polyimide and polyethylene terephthalate. Polyimide and polyethylene terephthalate have excellent heat resistance, strength, and dimensional stability. When combined, they do not lose thermal conductivity, and also have excellent anti-peeling properties and scratch resistance when cutting or slicing blocks. . The thickness of the substrate is preferably 6 μm or less. When the thickness of the substrate is thin, it is possible to laminate without deteriorating the excellent thermal diffusibility of the graphite film.

これら粘着剤層は、グラファイトフィルムに塗布、印刷、浸漬、蒸着等により直接形成しても良いし、ラミネートを使用して転写して形成しても良い。粘着剤層の形成にはディップやロールによる塗布法、フィルム状の粘着剤をグラファイトフィルムに貼り付ける方法、基材となる高分子薄膜の両面に粘着剤塗付した後、テープのようにグラファイトフィルムに貼り付ける方法、等があり、いずれも好ましく用いる事が出来る。   These pressure-sensitive adhesive layers may be directly formed on a graphite film by coating, printing, dipping, vapor deposition, or the like, or may be formed by transferring using a laminate. The adhesive layer can be formed by dip or roll coating, film adhesive applied to the graphite film, adhesive film applied to both sides of the polymer thin film as the base material, and then the graphite film like a tape. There are methods such as affixing to the substrate, and any of them can be preferably used.

<硬化型高分子または熱可塑性高分子>
有機層の材料として硬化型高分子を用いる場合には、硬化手段に特に制限は無く、熱硬化性高分子、紫外線硬化型高分子、湿度硬化型高分子、など任意の素材を用いることが可能である。硬化型高分子としては、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、不飽和ビニル系樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、等の幅広い高分子が使用できる。中でも接着剤として市販されている硬化型樹脂を好ましく用いることができる。
<Curable polymer or thermoplastic polymer>
When a curable polymer is used as the material for the organic layer, the curing means is not particularly limited, and any material such as a thermosetting polymer, an ultraviolet curable polymer, and a humidity curable polymer can be used. It is. As the curable polymer, a wide variety of polymers such as epoxy resin, unsaturated polyester resin, unsaturated vinyl resin, polyimide resin, phenol resin, and silicone resin can be used. Among them, a curable resin marketed as an adhesive can be preferably used.

有機層の材料として熱可塑性高分子を用いる場合には、熱可塑性高分子の軟化温度を超えた温度での使用が困難になることから、使用条件に即した材料を選択する必要がある。厚み方向グラファイト配向熱伝導シートは、熱を発生する部位に密着して使用されることが多いことから、高分子の素材には耐熱性に優れたものを用いることが好ましい。   When a thermoplastic polymer is used as the material for the organic layer, it becomes difficult to use the thermoplastic polymer at a temperature exceeding the softening temperature of the thermoplastic polymer. Therefore, it is necessary to select a material that meets the use conditions. Since the thickness direction graphite oriented heat conductive sheet is often used in close contact with a portion that generates heat, it is preferable to use a polymer material having excellent heat resistance.

この様な目的に使用され得る熱可塑性高分子としては、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリーレンスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン等結晶性ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂等の非晶性ポリオレフィン系樹脂、芳香族ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、などの幅広い高分子が使用できる。特に接着性に優れた樹脂が好ましく用いられる。   Examples of thermoplastic polymers that can be used for such purposes include polyamide resins, polyester resins, polyarylene sulfide resins, polycarbonate resins, crystalline polyolefin resins such as polyethylene, and cyclic olefin resins. A wide range of polymers such as polyolefin resins, aromatic vinyl resins, acrylic resins and the like can be used. In particular, a resin excellent in adhesiveness is preferably used.

熱可塑性高分子に接着性を付与する方法として、エポキシ基などの反応性官能基を有する変性熱可塑性高分子を用いることが好ましい。このような接着性高分子フィルムは、ホットメルト用フィルムなどとして市販されている種々の素材を用いることが可能である。   As a method for imparting adhesiveness to the thermoplastic polymer, it is preferable to use a modified thermoplastic polymer having a reactive functional group such as an epoxy group. As such an adhesive polymer film, various materials that are commercially available as hot melt films can be used.

これら硬化型高分子や熱可塑性高分子は、高分子をそのまま、あるいはその前駆体を溶剤に溶かしたものを、グラファイトフィルムに塗布、印刷、浸漬、蒸着等により直接形成しても良いし、ラミネートを使用して転写して形成しても良い。高分子層の形成にはディップやロールによる塗布法、フィルム状の高分子をグラファイトフィルムと積層する方法、フィルム状の高分子をグラファイトフィルムに貼り付ける方法、等があり、いずれも好ましく用いる事が出来る。   These curable polymers and thermoplastic polymers may be directly formed by coating, printing, dipping, vapor deposition, etc. on a graphite film, or the laminate of the polymer as it is or its precursor dissolved in a solvent. It may be formed by transferring using Formation of the polymer layer includes a coating method by dip or roll, a method of laminating a film-like polymer with a graphite film, a method of attaching a film-like polymer to the graphite film, etc., all of which are preferably used. I can do it.

<[グラファイト面積/有機層面積]の比率>
厚み方向グラファイト配向熱伝導シートをできるだけ軟質な素材とするためには、得られた厚み方向グラファイト配向熱伝導シートをシートの面方向から観察した際の、[グラファイト面積/有機層面積]の比率を一定範囲内とすることが重要である。グラファイトフィルムは、有機層と比較すると硬質な材料であるため、グラファイト層の占める割合を一定以下にすることにより、得られた配向シートの柔軟性を向上させることが可能である。一方でグラファイト層の占める割合が少なすぎると、熱伝導性が低下するため好ましくない。以上の理由から、[グラファイト面積/有機層面積]の比率は75/25〜10/90の範囲であることが必要である。両者の比率は、好ましくは72/28〜13/87、より好ましくは70/30〜15/85、さらに好ましくは67/33〜17/83、最も好ましくは65/35〜20/80の範囲である。また、前記有機層の厚みが、前記グラファイトフィルムの厚みの1/2以上であることが好ましい。
<Ratio of [graphite area / organic layer area]>
In order to make the thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet as soft as possible, the ratio of [graphite area / organic layer area] when observing the obtained thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet from the surface direction of the sheet is It is important to keep it within a certain range. Since the graphite film is a hard material as compared with the organic layer, the flexibility of the obtained oriented sheet can be improved by setting the ratio of the graphite layer to a certain value or less. On the other hand, if the proportion of the graphite layer is too small, the thermal conductivity is lowered, which is not preferable. For the above reasons, the ratio of [graphite area / organic layer area] needs to be in the range of 75/25 to 10/90. The ratio of the two is preferably in the range of 72/28 to 13/87, more preferably 70/30 to 15/85, still more preferably 67/33 to 17/83, and most preferably 65/35 to 20/80. is there. Moreover, it is preferable that the thickness of the said organic layer is 1/2 or more of the thickness of the said graphite film.

<グラファイトフィルムの有機層による積層化>
本発明の厚み方向グラファイト配向熱伝導シートは、下記工程(i)〜(ii)
(i)厚み1mm以下のグラファイトフィルムを、有機層を介して積層し、グラファイトブロックを作成する工程
(ii)このブロックをグラファイトの結晶面に対して45°以上の角度をなす面にて、5mm以下の厚みにカットする工程
からなる製造方法により製造することができる。
<Lamination of graphite film with organic layer>
The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet of the present invention comprises the following steps (i) to (ii):
(I) Step of forming a graphite block by laminating a graphite film having a thickness of 1 mm or less via an organic layer (ii) 5 mm at a surface forming an angle of 45 ° or more with respect to the crystal plane of the graphite It can manufacture with the manufacturing method which consists of the process cut to the following thickness.

有機層として粘着剤を用いる場合は、前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムを、粘着剤を介して、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、グラファイトブロックを作成することが好ましい。   When an adhesive is used as the organic layer, in the step (i), it is preferable that a graphite film having a thickness of 1 mm or less is laminated by an overlapping or winding means via an adhesive to create a graphite block.

有機層として硬化型高分子を用いる場合は、前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムの片面あるいは両面に未硬化の硬化性樹脂を塗布した後、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、この積層体を硬化性樹脂の硬化条件にて硬化させ、グラファイトブロックを作成することが好ましい。   When a curable polymer is used as the organic layer, in the step (i), an uncured curable resin is applied to one or both sides of a graphite film having a thickness of 1 mm or less, and then laminated by means of superposition or winding. The laminate is preferably cured under the curing conditions of the curable resin to produce a graphite block.

有機層として熱可塑性高分子を用いる場合は、前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムの片面あるいは両面に熱可塑性樹脂フィルムを重ねた後、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、この積層体を熱可塑性樹脂の軟化温度以上に加熱し、グラファイトブロックを作成することが好ましい。   When a thermoplastic polymer is used as the organic layer, in the step (i), a thermoplastic resin film is laminated on one side or both sides of a graphite film having a thickness of 1 mm or less, and then laminated by means of superposition or winding. It is preferable to produce the graphite block by heating the laminate above the softening temperature of the thermoplastic resin.

前記のようにしてグラファイトフィルムに有機層を設けた後、フィルムを重ねあわせ、巻きつけ、等の手段によりフィルムを厚く積層させることで、グラファイトフィルムが任意方向に配向した積層ブロックを得ることができる。このとき重ね合わせなどの方法でグラファイトフィルムを積層させると、二軸方向にグラファイト結晶が配向したブロックを得ることができる(図1)。巻きつけなどの方法でグラファイトフィルムを積層させると、一軸方向にグラファイト結晶が配向したブロックを得ることができる(図2)。   After providing an organic layer on the graphite film as described above, a laminated block in which the graphite film is oriented in an arbitrary direction can be obtained by laminating the film thickly by means such as overlapping and winding the film. . At this time, if a graphite film is laminated by a method such as superposition, a block in which graphite crystals are oriented in biaxial directions can be obtained (FIG. 1). When a graphite film is laminated by a method such as winding, a block in which graphite crystals are oriented in a uniaxial direction can be obtained (FIG. 2).

得られたブロックから、カットあるいはスライスなどの方法により加工してシートを得る際には、グラファイトの任意の配向面に対して、45°以上の角度をなす面でカットあるいはスライスすることにより、厚み方向に対してより熱が伝わりやすい、厚み方向グラファイト配向熱伝導シートを得ることができる。グラファイトの任意の配向面と、カットあるいはスライスする面とのなす角度は、好ましくは50°以上、より好ましくは60°以上、さらに好ましくは70°以上、最も好ましくは80°以上である。   When a sheet is obtained by processing from the obtained block by a method such as cutting or slicing, the thickness is obtained by cutting or slicing on a plane that forms an angle of 45 ° or more with respect to an arbitrary orientation plane of graphite. It is possible to obtain a thickness-oriented graphite-oriented heat conductive sheet in which heat is more easily transmitted in the direction. The angle formed between an arbitrary orientation plane of graphite and the plane to be cut or sliced is preferably 50 ° or more, more preferably 60 ° or more, still more preferably 70 ° or more, and most preferably 80 ° or more.

グラファイトブロックが二軸配向している場合には、2方向に熱を伝えやすいシートが得られ、グラファイトブロックが一軸配向している場合には、1方向にのみ熱を伝えやすいシートが得られるが、これらは必要な特性に応じて使い分けることができる。一般的には、シートの柔軟性がより要求されるような用途には、二軸配向ブロックを用いるほうが好ましく、シートの強度が要求されるような用途には一軸配向ブロックを用いる方が好ましい。   When the graphite block is biaxially oriented, a sheet that easily conducts heat in two directions is obtained. When the graphite block is uniaxially oriented, a sheet that easily conducts heat only in one direction is obtained. These can be used according to the required characteristics. In general, it is preferable to use a biaxially oriented block for an application where the flexibility of the sheet is more required, and it is preferable to use a uniaxially oriented block for an application where the strength of the sheet is required.

グラファイトブロックを作成する際には、グラファイトブロックに0.1MPa以上の圧力をかけることが好ましい。圧力下で作成することにより、各グラファイトフィルムの層間における密着性が向上し、グラファイトブロックのカットあるいはスライス加工した際の剥離を防止することができる。グラファイトブロックに付与する圧力は、より好ましくは0.2MPa以上、最も好ましくは0.5MPa以上である。   When producing a graphite block, it is preferable to apply a pressure of 0.1 MPa or more to the graphite block. By making it under pressure, the adhesion between the layers of each graphite film is improved, and peeling when the graphite block is cut or sliced can be prevented. The pressure applied to the graphite block is more preferably 0.2 MPa or more, and most preferably 0.5 MPa or more.

<グラファイトブロックのカットあるいはスライス加工>
二軸配向あるいは一軸配向したグラファイトブロックから、厚み方向グラファイト配向熱伝導シートを得るための加工方法には特に限定は無く、種々の切削加工方法やスライス加工方法を用いることが可能である。例えばカッターを用いてブロックをカットしたり、レーザー加工にてシートを切り出したり、スライス加工にてシートをスライスしたりする方法を例示することができる。
<Cutting or slicing of graphite blocks>
There is no particular limitation on the processing method for obtaining a thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet from biaxially or uniaxially oriented graphite blocks, and various cutting methods and slicing methods can be used. For example, a method of cutting a block using a cutter, cutting out a sheet by laser processing, or slicing a sheet by slicing processing can be exemplified.

これら加工の際には、元のグラファイトフィルムの層内で剥離が生じることがあるので、剥離が生じないよう加工条件を適宜コントロールすることが好ましい。   In these processes, since peeling may occur in the original graphite film layer, it is preferable to appropriately control the processing conditions so that peeling does not occur.

また切削時にシートにかかる応力によって元のグラファイトフィルムの層内で剥離が生じることを防ぐため、予めグラファイトブロック全体を熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、湿度硬化性樹脂、等の硬化性樹脂組成物で包埋処理しておく方法も有益である。   Also, in order to prevent exfoliation in the original graphite film layer due to the stress applied to the sheet during cutting, the entire graphite block is preliminarily cured with a curable resin composition such as a thermosetting resin, a photocurable resin, or a humidity curable resin. A method of embedding with an object is also useful.

<厚み方向グラファイト配向熱伝導シートの特性>
このようにして得られた厚み方向グラファイト配向熱伝導シートは、厚み方向に対する熱伝導率が一般的には50W/mK以上、好ましくは100W/mK以上、より好ましくは200W/mK以上、最も好ましくは300W/mK以上、の熱伝導率を有する。
<Characteristics of Thickness Orientation Graphite Oriented Thermal Conductive Sheet>
The thus obtained thickness direction graphite oriented heat conductive sheet generally has a thermal conductivity in the thickness direction of 50 W / mK or more, preferably 100 W / mK or more, more preferably 200 W / mK or more, most preferably. It has a thermal conductivity of 300 W / mK or more.

発熱体と放熱体との間の熱抵抗を減らすためには、厚み方向グラファイト配向シートの厚みは5mm以下であることが必要である。シートの厚みは好ましくは4mm以下、より好ましくは3mm以下、さらに好ましくは2mm以下、最も好ましくは1mm以下である。   In order to reduce the thermal resistance between the heat generating body and the heat radiating body, the thickness of the thickness direction graphite oriented sheet needs to be 5 mm or less. The thickness of the sheet is preferably 4 mm or less, more preferably 3 mm or less, still more preferably 2 mm or less, and most preferably 1 mm or less.

また発熱体と放熱体との間の熱抵抗を減らすためには、厚み方向グラファイト配向シートの表面硬度は柔らかいほど好ましい。DuroEで測定される表面硬度は、好ましくは85以下、より好ましくは80以下、さらに好ましくは75以下、最も好ましくは70以下である。   Moreover, in order to reduce the thermal resistance between a heat generating body and a heat radiating body, the surface hardness of the thickness direction graphite orientation sheet is so preferable that it is soft. The surface hardness measured by DuroE is preferably 85 or less, more preferably 80 or less, further preferably 75 or less, and most preferably 70 or less.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。
測定は下記の通り実施した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited to these Examples.
The measurement was performed as follows.

(ポリイミドフィルムの面方向熱伝導率測定)
アルバック(株)製レーザーピットにて面方向の熱拡散率を測定した。またグラファイトフィルムの熱容量を熱容量が既知である参照標準物質Moとの比較から算出した。これらの測定値から、次式により面方向熱伝導率を算出した。
〔熱伝導率〕=〔熱拡散率〕×〔密度〕×〔比熱〕
(Measurement of surface direction thermal conductivity of polyimide film)
The thermal diffusivity in the surface direction was measured with a laser pit manufactured by ULVAC. Further, the heat capacity of the graphite film was calculated from comparison with a reference standard substance Mo having a known heat capacity. From these measured values, the surface direction thermal conductivity was calculated by the following equation.
[Thermal conductivity] = [thermal diffusivity] x [density] x [specific heat]

(ポリイミドフィルムの厚み方向熱伝導率測定)
グラファイトフィルムの厚み方向熱伝導率測定には、ASTM E1461に準拠し、NETZSCH製のXeフラッシュアナライザーLFA447Nanoflashを用いた。グラファイトフィルムを直径10mmにカットし、このフィルム両表面にXe光吸収用スプレー(ファインケミカルジャパン(株)製ブラックガードスプレーFC−153)を塗布し乾燥させた後、23℃でキセノンフラッシュ法による厚み方向の熱拡散率測定を行った。またグラファイトフィルムの熱容量を熱容量が既知である参照標準物質Moとの比較から算出した。これらの測定値から、次式により面方向熱伝導率を算出した。
〔熱伝導率〕=〔熱拡散率〕×〔密度〕×〔比熱〕
(Measurement of thermal conductivity in the thickness direction of polyimide film)
In the thickness direction thermal conductivity measurement of the graphite film, Xe flash analyzer LFA447 Nanoflash manufactured by NETZSCH was used in accordance with ASTM E1461. A graphite film is cut to a diameter of 10 mm, and Xe light absorbing spray (Black Guard Spray FC-153 manufactured by Fine Chemical Japan Co., Ltd.) is applied to both surfaces of the film and dried. The thermal diffusivity of was measured. Further, the heat capacity of the graphite film was calculated from comparison with a reference standard substance Mo having a known heat capacity. From these measured values, the surface direction thermal conductivity was calculated by the following equation.
[Thermal conductivity] = [thermal diffusivity] x [density] x [specific heat]

(ポリイミドフィルムAの作製方法)
4,4’−オキシジアニリンの1当量を溶解したDMF(ジメチルホルムアミド)溶液に、ピロメリット酸二無水物の1当量を溶解してポリアミド酸溶液(18.5wt%)を得た。
(Preparation method of polyimide film A)
One equivalent of pyromellitic dianhydride was dissolved in a DMF (dimethylformamide) solution in which one equivalent of 4,4′-oxydianiline was dissolved to obtain a polyamic acid solution (18.5 wt%).

この溶液を冷却しながら、ポリアミド酸に含まれるカルボン酸基に対して、1当量の無水酢酸、1当量のイソキノリン、およびDMFを含むイミド化触媒を添加し脱泡した。次にこの混合溶液が、乾燥後に所定の厚さになるようにアルミ箔上に塗布された。アルミ箔上の混合溶液層は、熱風オーブン、遠赤外線ヒーターを用いて乾燥された。   While this solution was cooled, an imidation catalyst containing 1 equivalent of acetic anhydride, 1 equivalent of isoquinoline, and DMF was added to the carboxylic acid group contained in the polyamic acid to degas. Next, this mixed solution was applied onto an aluminum foil so as to have a predetermined thickness after drying. The mixed solution layer on the aluminum foil was dried using a hot air oven and a far infrared heater.

出来上がり厚みが75μmの場合におけるフィルム作製用の乾燥条件を示す。アルミ箔上の混合溶液層は、熱風オーブンで120℃において240秒乾燥されて、自己支持性を有するゲルフィルムにされた。そのゲルフィルムはアルミ箔から引き剥がされ、フレームに固定された。さらに、ゲルフィルムは、熱風オーブンにて120℃で30秒、275℃で40秒、400℃で43秒、450℃で50秒、および遠赤外線ヒーターにて460℃で23秒段階的に加熱されて乾燥された。   The drying conditions for film production when the finished thickness is 75 μm are shown. The mixed solution layer on the aluminum foil was dried in a hot air oven at 120 ° C. for 240 seconds to form a self-supporting gel film. The gel film was peeled off from the aluminum foil and fixed to the frame. Furthermore, the gel film is heated stepwise in a hot air oven at 120 ° C. for 30 seconds, 275 ° C. for 40 seconds, 400 ° C. for 43 seconds, 450 ° C. for 50 seconds, and a far infrared heater at 460 ° C. for 23 seconds. And dried.

以上のようにして、厚さ75μmのポリイミドフィルム(ポリイミドフィルムA:弾性率3.1GPa、吸水率2.5%、複屈折0.10、線膨張係数3.0×10−5/℃)が製造された。なお、その他厚みのフィルムを作製する場合には、厚みに比例して焼成時間が調整された。例えば厚さ225μmのフィルムの場合には、75μmの場合よりも焼成時間を3倍に設定した。また、厚みが厚い場合には、ポリイミドフィルムの溶媒やイミド化触媒蒸発による発泡を防ぐために低温での焼成時間を十分とる必要がある。   As described above, a polyimide film having a thickness of 75 μm (polyimide film A: elastic modulus 3.1 GPa, water absorption 2.5%, birefringence 0.10, linear expansion coefficient 3.0 × 10 −5 / ° C.) manufactured. In addition, when producing films with other thicknesses, the firing time was adjusted in proportion to the thickness. For example, in the case of a film having a thickness of 225 μm, the firing time was set to three times that in the case of 75 μm. Further, when the thickness is large, it is necessary to take a sufficient baking time at a low temperature in order to prevent foaming due to evaporation of the solvent or imidization catalyst of the polyimide film.

(炭素化フィルムAの作製方法)
厚さ75μmのポリイミドフィルムAを黒鉛板に挟み、電気炉を用いて窒素雰囲気下で、1000℃まで昇温された後、1000℃で1時間熱処理して炭化処理(炭素化処理)が行われた。この炭素化フィルムを炭素化フィルムAとする。
(Method for producing carbonized film A)
A 75 μm thick polyimide film A is sandwiched between graphite plates, heated to 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere using an electric furnace, and then heat-treated at 1000 ° C. for 1 hour for carbonization (carbonization treatment). It was. This carbonized film is designated as carbonized film A.

(炭素化フィルムBの作製方法)
厚さ175μmのポリイミドフィルムAを黒鉛板に挟み、電気炉を用いて窒素雰囲気下で、1000℃まで昇温された後、1000℃で1時間熱処理して炭化処理(炭素化処理)が行われた。この炭素化フィルムを炭素化フィルムBとする。
(Method for producing carbonized film B)
A polyimide film A having a thickness of 175 μm is sandwiched between graphite plates, heated to 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere using an electric furnace, and then heat-treated at 1000 ° C. for 1 hour for carbonization (carbonization treatment). It was. This carbonized film is designated as carbonized film B.

(グラファイトフィルムAの作製方法)
炭素化処理により得られた炭素化フィルムA(400cm(縦200mm×横200mm)、を、縦270mm×横270mm×厚み3mmの板状の平滑なグラファイトで上下から挟み、縦300mm×横300mm×厚み60mmの黒鉛容器内に保持し、3000℃まで加熱して得られた熱処理後のグラファイトを、単板プレスの方法で圧縮することで、グラファイトフィルムAを得た。測定の結果、厚み40μm、面方向熱伝導率1300W/mK、厚み方向熱伝導率6.8W/mK、密度2.0g/cmであった。
(Method for producing graphite film A)
Carbonized film A (400 cm 2 (length 200 mm × width 200 mm)) obtained by carbonization treatment is sandwiched from above and below by plate-like smooth graphite of length 270 mm × width 270 mm × thickness 3 mm, length 300 mm × width 300 mm × The graphite film A was obtained by compressing the graphite after the heat treatment obtained by holding in a graphite container having a thickness of 60 mm and heating to 3000 ° C. by a single plate press method. The surface direction thermal conductivity was 1300 W / mK, the thickness direction thermal conductivity was 6.8 W / mK, and the density was 2.0 g / cm 3 .

(グラファイトフィルムBの作製方法)
炭素化処理により得られた炭素化フィルムBに硝酸鉄の10wt%メタノール溶液を塗布した後、黒鉛板に挟み、黒鉛容器にセットした以外はグラファイトフィルムAと同様にしてグラファイトフィルムBを得た。測定の結果、厚み85μm、面方向熱伝導率850W/mK、厚み方向熱伝導率5.3W/mK、密度2.0g/cmであった。
(Method for producing graphite film B)
A graphite film B was obtained in the same manner as the graphite film A except that a 10 wt% methanol solution of iron nitrate was applied to the carbonized film B obtained by the carbonization treatment, and then sandwiched between graphite plates and set in a graphite container. As a result of the measurement, the thickness 85 .mu.m, the surface direction thermal conductivity 850W / mK, thickness direction thermal conductivity of 5.3 W / mK, and a density of 2.0 g / cm 3.

(グラファイトフィルムC)
ポリイミドフィルムの高温処理により製造された、松下電器産業(株)製のPGSグラファイトシート「EYGS182310」である。測定の結果、厚み80μm、面方向熱伝導率740W/mK、厚み方向熱伝導率5.3W/mK、密度2.0g/cmであった。
(Graphite film C)
It is a PGS graphite sheet “EYGS182310” manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. manufactured by high-temperature treatment of a polyimide film. As a result of the measurement, the thickness was 80 μm, the thermal conductivity in the plane direction was 740 W / mK, the thermal conductivity in the thickness direction was 5.3 W / mK, and the density was 2.0 g / cm 3 .

(グラファイトフィルムD)
エキスパンド法にて製造された、ジャパンマテックス(株)製の膨張黒鉛ガスケットM/#8100ClaasBである。測定の結果、厚み250μm、面方向熱伝導率190W/mK、厚み方向熱伝導率7.4W/mK、密度1.0g/cmであった。
(Graphite film D)
This is an expanded graphite gasket M / # 8100ClaasB manufactured by Japan Matex Co., Ltd., manufactured by the expanding method. As a result of the measurement, the thickness was 250 μm, the plane direction thermal conductivity 190 W / mK, the thickness direction thermal conductivity 7.4 W / mK, and the density 1.0 g / cm 3 .

(実施例1)
200mm×300mmサイズのグラファイトフィルム−Aの片面に、アクリル系両面テープ1(寺岡製作所(株)707:アクリル系13μm/PET4μm/アクリル系13μm)をラミネーターで貼り合せた。得られた粘着剤付きグラファイトフィルムを3000枚積層させ、プレス機により0.5MPaの圧力を1分間付与することにより、200mm×300mm×210mmの二軸方向にグラファイト結晶が配向したグラファイトブロックを作成した(図1)。
得られたブロックを、グラファイトの結晶面に対して90°となる角度で、チップソーを用いて厚み1mmとなるようカットし、200mm×210mm×厚み1mmの厚み方向グラファイト配向熱伝導シート1を得た。
Example 1
Acrylic double-sided tape 1 (Teraoka Seisakusho 707: Acrylic 13 μm / PET 4 μm / Acrylic 13 μm) was bonded to one side of a 200 mm × 300 mm graphite film-A with a laminator. 3000 sheets of the obtained graphite film with pressure-sensitive adhesive were laminated, and a pressure of 0.5 MPa was applied for 1 minute by a press machine to create a graphite block in which graphite crystals were oriented in a biaxial direction of 200 mm × 300 mm × 210 mm. (FIG. 1).
The obtained block was cut to a thickness of 1 mm using a tip saw at an angle of 90 ° with respect to the crystal plane of the graphite to obtain a thickness-oriented graphite-oriented heat conductive sheet 1 of 200 mm × 210 mm × thickness 1 mm. .

(実施例2)
グラファイトフィルム−Aの代わりにグラファイトフィルム−Bを用い、アクリル系両面テープ1の代わりにアクリル系両面テープ2(寺岡製作所(株)7642:アクリル系35μm/PET25μm/アクリル系35μm)を用いた以外は実施例1と同様にして、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート2を得た。
(Example 2)
Except for using graphite film-B instead of graphite film-A and using acrylic double-sided tape 2 (Teraoka Seisakusho 7642: acrylic 35 μm / PET 25 μm / acrylic 35 μm) instead of acrylic double-sided tape 1 In the same manner as in Example 1, a thickness-oriented graphite-oriented heat conductive sheet 2 was obtained.

(実施例3)
グラファイトフィルム−Aの代わりにグラファイトフィルム−Cを用い、アクリル系両面テープ1の代わりにアクリル系両面テープ2(寺岡製作所(株)7642:アクリル系35μm/PET25μm/アクリル系35μm)を用いた以外は実施例1と同様にして、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート3を得た。
(Example 3)
Except for using graphite film-C instead of graphite film-A and using acrylic double-sided tape 2 (Teraoka Seisakusho 7642: acrylic 35 μm / PET 25 μm / acrylic 35 μm) instead of acrylic double-sided tape 1 In the same manner as in Example 1, a thickness-oriented graphite-oriented heat conductive sheet 3 was obtained.

(実施例4)
得られたブロックを、グラファイトの結晶面に対して60°となる角度で、チップソーを用いて厚み1mmとなるようカットした以外は実施例1と同様にして、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート4を得た。
Example 4
The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet 4 was formed in the same manner as in Example 1 except that the obtained block was cut at an angle of 60 ° with respect to the crystal plane of the graphite so as to have a thickness of 1 mm using a tip saw. Obtained.

(実施例5)
200mm×300mmサイズのグラファイトフィルム−Aの片面に、アクリル系両面テープ1(寺岡製作所(株)707:アクリル系13μm/PET4μm/アクリル系13μm)をラミネーターで貼り合せた。得られた粘着剤付きグラファイトフィルムをロール状に巻きつけて張り合わせていく方法で積層させることにより、300mm×100mmφの一軸方向にグラファイト結晶が配向したグラファイト円柱ブロックを作成した(図2)。これにプレス機により0.5MPaの圧力を1分間付与し、角柱状のグラファイトブロックを得た。
(Example 5)
Acrylic double-sided tape 1 (Teraoka Seisakusho 707: Acrylic 13 μm / PET 4 μm / Acrylic 13 μm) was bonded to one side of a 200 mm × 300 mm graphite film-A with a laminator. The obtained graphite film with pressure-sensitive adhesive was laminated by winding and laminating in a roll shape, thereby producing a graphite cylinder block in which graphite crystals were oriented in a uniaxial direction of 300 mm × 100 mmφ (FIG. 2). To this, a pressure of 0.5 MPa was applied for 1 minute by a press machine to obtain a prismatic graphite block.

得られたブロックを、グラファイトの結晶面に対して90°となる角度で、チップソーを用いて厚み1mmとなるようカットし、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート5を得た。   The obtained block was cut to a thickness of 1 mm using a tip saw at an angle of 90 ° with respect to the crystal plane of graphite to obtain a thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet 5.

(実施例6)
200mm×300mmサイズのグラファイトフィルム−Aの片面に、アクリル系両面テープ1(寺岡製作所(株)707:アクリル系13μm/PET4μm/アクリル系13μm)をラミネーターで貼り合せた。得られた粘着剤付きグラファイトフィルムを同一方向に任意形状に折り曲げながら、箱型に押し込んで張り合わせていく方法で積層させ、プレス機により0.5MPaの圧力を1分間付与することにより、300mm×100mm×100mmの一軸方向にグラファイト結晶が配向したグラファイト直方体ブロックを作成した(図3)。
(Example 6)
Acrylic double-sided tape 1 (Teraoka Seisakusho 707: Acrylic 13 μm / PET 4 μm / Acrylic 13 μm) was bonded to one side of a 200 mm × 300 mm graphite film-A with a laminator. The obtained graphite film with pressure-sensitive adhesive is laminated in such a manner that it is pressed into a box shape while being bent in an arbitrary shape in the same direction, and a pressure of 0.5 MPa is applied for 1 minute by a press machine, thereby 300 mm × 100 mm A graphite cuboid block having graphite crystals oriented in a uniaxial direction of × 100 mm was produced (FIG. 3).

得られたブロックを、グラファイトの結晶面に対して90°となる角度で、チップソーを用いて厚み1mmとなるようカットし、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート6を得た。   The obtained block was cut to a thickness of 1 mm using a tip saw at an angle of 90 ° with respect to the crystal plane of graphite, and a thickness direction graphite oriented heat conductive sheet 6 was obtained.

(実施例7)
グラファイトフィルム−Aの片面にエポキシ系接着剤を厚み50μmとなるよう塗布し、180℃に加熱されたプレス機により0.5MPaの圧力を1分間付与することによりグラファイトブロックを作成した以外は実施例1と同様にして、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート7を得た。
(Example 7)
Example: Except that a graphite block was prepared by applying an epoxy adhesive on one side of graphite film-A to a thickness of 50 μm and applying a pressure of 0.5 MPa for 1 minute by a press machine heated to 180 ° C. In the same manner as in No. 1, a thickness direction graphite oriented heat conductive sheet 7 was obtained.

(実施例8)
グラファイトフィルム−Dと厚み250μmの熱可塑性ポリエチレン系ホットメルトフィルムとを積層し、180℃に加熱されたプレス機により0.5MPaの圧力を1分間付与することによりグラファイトブロックを作成した以外は実施例1と同様にして、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート8を得た。
(Example 8)
Except that a graphite block was prepared by laminating a graphite film-D and a thermoplastic polyethylene hot melt film having a thickness of 250 μm and applying a pressure of 0.5 MPa for 1 minute by a press machine heated to 180 ° C. In the same manner as in No. 1, a thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet 8 was obtained.

(比較例1)
200mm×300mmサイズのグラファイトフィルム−Aの片面に、アクリル系両面テープ1(寺岡製作所(株)707:アクリル系13μm/PET4μm/アクリル系13μm)をラミネーターで貼り合せた。得られた粘着剤付きグラファイトフィルムを14枚積層させ、最後に1枚200mm×300mmサイズのグラファイトフィルム−Aをもう一枚積層した後、プレス機により0.5MPaの圧力を1分間付与することにより、200mm×300mm×厚み1mmの面方向グラファイト配向熱伝導シート11を得た。
(Comparative Example 1)
Acrylic double-sided tape 1 (Teraoka Seisakusho 707: Acrylic 13 μm / PET 4 μm / Acrylic 13 μm) was bonded to one side of a 200 mm × 300 mm graphite film-A with a laminator. By laminating 14 sheets of the obtained graphite film with pressure-sensitive adhesive, and finally laminating another 200 mm × 300 mm size graphite film-A, a pressure of 0.5 MPa was applied for 1 minute with a press machine. A surface-oriented graphite-oriented heat conductive sheet 11 having a size of 200 mm × 300 mm × thickness 1 mm was obtained.

(比較例2)
市販の膨張黒鉛粉末である、BSP−80(中越黒鉛工業所製)を箱型金型に充填し、プレス加工することにより、グラファイト粉末がほぼランダムに配向した50mm角のグラファイトブロックを作成した。このグラファイトブロックを、チップソーを用いて厚み1mmとなるようカットし、50mm×50mm×厚み1mmのグラファイトシート12を得た。
(Comparative Example 2)
A commercially available expanded graphite powder, BSP-80 (manufactured by Chuetsu Graphite Industries Co., Ltd.) was filled into a box mold and pressed to prepare a 50 mm square graphite block in which the graphite powder was oriented almost randomly. This graphite block was cut to a thickness of 1 mm using a tip saw to obtain a graphite sheet 12 of 50 mm × 50 mm × thickness 1 mm.

(比較例3)
200mm×300mmサイズのグラファイトフィルム−Bの片面に、溶液状のポリイミド前駆体(東レ(株)製トレニース)を10μmの厚さに塗布した。得られたポリイミド前駆体付きグラファイトフィルムを3000枚積層させ、プレス機により300℃に加熱した状態で、0.5MPaの圧力を10分間付与した後、冷却することにより、200mm×300mm×210mmの二軸方向にグラファイト結晶が配向したグラファイトブロックを作成した。
得られたブロックを、グラファイトの結晶面に対して90°となる角度で、チップソーを用いて厚み1mmとなるようカットし、200mm×210mm×厚み1mmの厚み方向グラファイト配向熱伝導シート13を得た。
(Comparative Example 3)
On one side of a 200 mm × 300 mm size graphite film-B, a solution-like polyimide precursor (Torney manufactured by Toray Industries, Inc.) was applied to a thickness of 10 μm. 3000 sheets of the obtained graphite film with a polyimide precursor were laminated, heated to 300 ° C. with a press machine, applied with a pressure of 0.5 MPa for 10 minutes, and then cooled to obtain a 200 mm × 300 mm × 210 mm two-layer film. A graphite block having graphite crystals oriented in the axial direction was prepared.
The obtained block was cut to a thickness of 1 mm using a tip saw at an angle of 90 ° with respect to the crystal plane of the graphite to obtain a thickness-oriented graphite-oriented heat conductive sheet 13 of 200 mm × 210 mm × thickness 1 mm. .

(比較例4)
炭素化処理により得られた炭素化フィルムA(400cm(縦200mm×横200mm)、を5000枚積層させ、縦300mm×横300mm×厚み60mmの黒鉛容器内に保持し、20MPaの圧力を付与しながら3000℃まで加熱することにより、グラファイトフィルムが相互に接着された状態のグラファイトブロックを作成した。
(Comparative Example 4)
Carbonized film A (400 cm 2 (length 200 mm × width 200 mm)) obtained by the carbonization treatment is stacked on 5000 sheets, held in a graphite container of length 300 mm × width 300 mm × thickness 60 mm, and a pressure of 20 MPa is applied. While heating to 3000 ° C., a graphite block in which the graphite films were adhered to each other was produced.

得られたブロックの中心部を、グラファイトの結晶面に対して90°となる角度で、チップソーを用いて厚み1mmとなるようカットし、120mm×120mm×厚み1mmの厚み方向グラファイト配向熱伝導シート14を得た。   The central portion of the obtained block is cut at an angle of 90 ° with respect to the crystal plane of the graphite so as to have a thickness of 1 mm using a tip saw, and a 120 mm × 120 mm × thickness 1 mm thickness direction graphite oriented heat conductive sheet 14 Got.

[シートの熱伝導率]
得られたグラファイト配向熱伝導シートから12.7mmφの円板状サンプルを切り出し、サンプル表面にレーザー光吸収用スプレー(ファインケミカルジャパン(株)製ブラックガードスプレーFC−153)を塗布し乾燥させた後、ASTM E1461に準拠し、NETZSCH製のXeフラッシュアナライザーLFA447Nanoflashを用い、厚み方向の熱拡散率を測定した。またグラファイトフィルムの熱容量を熱容量が既知である参照標準物質Moとの比較から算出した。これらの測定値から、次式により厚み方向熱伝導率を算出した。
〔熱伝導率〕=〔熱拡散率〕×〔密度〕×〔比熱〕
[Thermal conductivity of sheet]
After cutting out a 12.7 mmφ disk-shaped sample from the obtained graphite-oriented heat conductive sheet, applying a spray for absorbing laser light (Black Guard Spray FC-153 manufactured by Fine Chemical Japan Co., Ltd.) to the sample surface and drying, Based on ASTM E1461, the thermal diffusivity in the thickness direction was measured using a Xe flash analyzer LFA447 Nanoflash manufactured by NETZSCH. Further, the heat capacity of the graphite film was calculated from comparison with a reference standard substance Mo having a known heat capacity. From these measured values, the thickness direction thermal conductivity was calculated by the following equation.
[Thermal conductivity] = [thermal diffusivity] x [density] x [specific heat]

[表面硬度]
JIS K−6253に準じ、デュロメーター硬度タイプEを、アスカーゴム硬度計E型を使用し、23℃×50%RHで測定した。
[surface hardness]
According to JIS K-6253, durometer hardness type E was measured at 23 ° C. × 50% RH using an Asker rubber hardness meter E type.

[グラファイト面積/有機層面積]の比率
得られたグラファイト配向熱伝導シートを、シートの面方向から操作型電子顕微鏡で観察することにより、[グラファイト面積/有機層面積]の比率を算出した。
実施例及び比較例のシートの諸物性を、表1に示す。
Ratio of [graphite area / organic layer area] The obtained graphite oriented heat conductive sheet was observed with an operation electron microscope from the surface direction of the sheet, thereby calculating a ratio of [graphite area / organic layer area].
Table 1 shows various physical properties of the sheets of Examples and Comparative Examples.

Figure 2010003981
Figure 2010003981

表に示すように、実施例で得られる厚み方向グラファイト配向熱伝導シートは、厚み方向に超高熱伝導性を有していながら、表面硬度が低く保たれており、発熱体と放熱体との熱伝達用途に最適であることが分かる。   As shown in the table, the thickness direction graphite oriented heat conductive sheet obtained in the examples has ultrahigh thermal conductivity in the thickness direction, and the surface hardness is kept low. It turns out to be optimal for transmission applications.

本発明の厚み方向グラファイト配向熱伝導シートは、厚み方向に金属を上回るほどの高熱伝導性を有していながら、金属などと比べ表面硬度が低く、かつ低密度である。従って、電子機器など発熱が激しい機器、中でも携帯電話など軽量化が求められる携帯型電子機器の放熱用途に最適であり、産業上有用である。   The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet of the present invention has a high thermal conductivity that exceeds the metal in the thickness direction, but has a lower surface hardness and a lower density than metals. Therefore, the present invention is optimal for heat dissipation of electronic devices such as electronic devices, especially portable electronic devices that require weight reduction such as mobile phones, and is industrially useful.

二軸方向にグラファイトフィルムの結晶が配向したブロックの模式図である。It is a schematic diagram of the block which the crystal | crystallization of the graphite film orientated in the biaxial direction. 一軸方向にグラファイトフィルムの結晶が配向したブロックの模式図である。It is a schematic diagram of the block which the crystal | crystallization of the graphite film orientated in the uniaxial direction. 一軸方向にグラファイトフィルムの結晶が配向したブロックの模式図である。It is a schematic diagram of the block which the crystal | crystallization of the graphite film orientated in the uniaxial direction.

符号の説明Explanation of symbols

1 グラファイトフィルム層
2 有機層
3 粘着剤を塗布したグラファイトフィルム
4 箱型
1 Graphite film layer 2 Organic layer 3 Adhesive coated graphite film 4 Box type

Claims (16)

厚み1mm以下のグラファイトフィルムが有機層を介して厚み方向にグラファイトの結晶面が配向するように積層されており、シートの面方向から観察される[グラファイト面積/有機層面積]の比率が75/25〜10/90の比率である、厚み5mm以下の、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   A graphite film having a thickness of 1 mm or less is laminated so that the crystal plane of graphite is oriented in the thickness direction through the organic layer, and the ratio of [graphite area / organic layer area] observed from the plane direction of the sheet is 75 / A thickness-oriented graphite-oriented heat conductive sheet having a thickness of 5 mm or less and a ratio of 25 to 10/90. 前記グラファイトフィルムにおけるフィルム面方向の熱伝導率が100W/mK以上であり、フィルム面に垂直方向の熱伝導率が50W/mK以下であることを特徴とする、請求項1に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   2. The thickness direction graphite according to claim 1, wherein the graphite film has a thermal conductivity in a film surface direction of 100 W / mK or more and a thermal conductivity in a direction perpendicular to the film surface of 50 W / mK or less. Oriented heat conductive sheet. 原料のグラファイトフィルムが厚み400μm以下のフィルムであることを特徴とする、請求項1〜2のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   3. The thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet according to claim 1, wherein the graphite film as a raw material is a film having a thickness of 400 μm or less. 前記グラファイトフィルムの面方向の熱伝導率が、600W/m・K以上であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the graphite film has a thermal conductivity in a plane direction of 600 W / m · K or more. 前記グラファイトフィルムが、少なくともエキスパンド法によって製造された膨張黒鉛を用いて作製されたものである事を特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the graphite film is produced using at least expanded graphite produced by an expanding method. 前記グラファイトフィルムが、ポリイミド樹脂、ポリパラフェニレンビニレン樹脂、ポリオキサジアゾール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂の熱処理によって得られたものである事を特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The graphite film is obtained by heat treatment of at least one resin selected from the group consisting of polyimide resin, polyparaphenylene vinylene resin, and polyoxadiazole resin. The thickness direction graphite orientation heat conductive sheet of any one of these. 前記グラファイトフィルムの厚みが、100μm以下であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein the graphite film has a thickness of 100 µm or less. 前記有機層の厚みが、前記グラファイトフィルムの厚みの1/2以上であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein the thickness of the organic layer is 1/2 or more of the thickness of the graphite film. 前記有機層が、アクリル系粘着剤及び/又はシリコーン系粘着剤を含む材料であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The thickness direction graphite oriented heat conductive sheet according to any one of claims 1 to 8, wherein the organic layer is a material containing an acrylic adhesive and / or a silicone adhesive. 前記有機層が、基材の両面に粘着剤を塗布してなる、粘着剤と基材との複合材料を含むことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The thickness direction according to any one of claims 1 to 9, wherein the organic layer includes a composite material of an adhesive and a substrate formed by applying an adhesive to both surfaces of the substrate. Graphite oriented thermal conductive sheet. 前記有機層が、硬化型高分子を含むことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。   The thickness direction graphite oriented thermal conductive sheet according to any one of claims 1 to 8, wherein the organic layer contains a curable polymer. 下記工程(i)〜(ii)からなる厚み方向グラファイト配向熱伝導シートの製造方法。
(i)厚み1mm以下のグラファイトフィルムを、有機層を介して積層し、グラファイトブロックを作成する工程
(ii)このブロックをグラファイトの結晶面に対して45°以上の角度をなす面にて、5mm以下の厚みにカットする工程
The manufacturing method of the thickness direction graphite orientation heat conductive sheet which consists of following process (i)-(ii).
(I) Step of forming a graphite block by laminating a graphite film having a thickness of 1 mm or less via an organic layer (ii) 5 mm at a surface forming an angle of 45 ° or more with respect to the crystal plane of the graphite Cutting to the following thickness
前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムを、粘着剤層を介して、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、グラファイトブロックを作成する、請求項12に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 12, wherein, in the step (i), a graphite film having a thickness of 1 mm or less is laminated by means of superposition or winding through an adhesive layer to produce a graphite block. 前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムの片面あるいは両面に未硬化の硬化型高分子を塗布した後、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、この積層体を硬化型高分子の硬化条件にて硬化させ、グラファイトブロックを作成する、請求項12に記載の製造方法。   In the step (i), an uncured curable polymer is applied to one or both surfaces of a graphite film having a thickness of 1 mm or less, and then laminated by means of superposition or winding, and this laminate is cured with the curable polymer. The manufacturing method of Claim 12 which hardens on conditions and produces a graphite block. 前記工程(i)において、厚み1mm以下のグラファイトフィルムの片面あるいは両面に熱可塑性樹脂フィルムを重ねた後、重ね合わせや巻き付けの手段により積層し、この積層体を熱可塑性樹脂の軟化温度以上に加熱し、グラファイトブロックを作成する、請求項12に記載の製造方法   In the step (i), after superposing a thermoplastic resin film on one or both sides of a graphite film having a thickness of 1 mm or less, it is laminated by means of superposition or winding, and this laminate is heated to a temperature higher than the softening temperature of the thermoplastic resin. The method according to claim 12, wherein a graphite block is produced. グラファイトブロックを作成する際に、積層体に0.1MPa以上の圧力をかけることを特徴とする、請求項12〜15のいずれか1項に記載の厚み方向グラファイト配向熱伝導シートの製造方法。   The method for producing a thickness-oriented graphite oriented heat conductive sheet according to any one of claims 12 to 15, wherein a pressure of 0.1 MPa or more is applied to the laminate when the graphite block is produced.
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