JP2009537101A - マイクロメカニカル素子の製造方法およびマイクロメカニカル素子 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、各独立請求項の上位概念に記載されたマイクロメカニカル素子の製造方法およびマイクロメカニカル素子に関する。
それに対し、独立請求項に記載のマイクロメカニカル素子の本発明の製造方法およびマイクロメカニカル素子は次のような利点を有する。すなわち、メンブレン構造体が非常に薄いメンブレンを有し、なおかつ、基板の部分領域との間に比較的小さい間隔をおいて配置することができるという利点を有する。このような特徴により、コンデンサシステムの電極間隔に関して特に小さい間隔を実現することができる。さらに、本発明において特に有利なのは、メンブレン構造体と基板材料ないしは基板との間の間隔を特に正確に調整することができ、特に正確に再現可能ないしは事前選択可能であり、かつ、面平行な面電極を実現できることである。さらに有利には、基板材料を除去するエッチング工程が終了するごとに、露出された基板壁を保護するためにパッシベーション層を堆積することもできる。基板壁とはここでは、基板においてメンブレン構造体の主延在面に対して実質的に垂直な領域を指す。
図面
図1 本発明による素子の概略的な平面図である。
図1に、本発明によるマイクロメカニカル素子10の概略的な平面図が示されている。この素子10は、基板20およびメンブレン構造体30を有する。とりわけ本発明では、メンブレン構造体30とともに回路25が、基板20内部または基板20表面にモノリシック集積で設けられている。このような回路25はたとえば、メンブレン構造体30ないしはマイクロメカニカル素子10のための評価回路または駆動制御回路とするか、または組み合わされた評価回路および/または駆動制御回路とすることもできる。このようなメンブレン構造体30によって、素子10は、とりわけ相対圧ないしは絶対圧を検出するための圧力センサおよび/または音波を検出するための構造体ないしは音波用のアクチュエータ構造体を形成する。このことによって、素子10をたとえばマイクロフォンまたはマイクロスピーカとして使用することができる。
Claims (12)
- 基板(20)とメンブレン構造体(30)とを有するマイクロメカニカル素子(10)の製造方法であって、
該マイクロメカニカル素子(10)はとりわけマイクロフォン、マイクロスピーカまたは圧力センサであり、
該メンブレン構造体(30)を形成するためには、該基板(20)にモノリシック集積される回路(25)と両立する製造ステップのみを行う製造方法において、
・該基板(20)の第1の面(21)において、第2のパッシベーション層(42)上に犠牲層領域(40)を形成し、第1の電極(16)の第1のパッシベーション層(41)と別のカバー層(43)とによって被覆し、
・該基板(20)の該第1の面(21)に対向する第2の面(22)から、少なくとも1つのエッチングステップによって、該第2のパッシベーション層(42)に達する切欠部(29)を該基板(20)に形成した後、該基板(20)の露出された壁を保護するために第4のパッシベーション層(45)を堆積し、
・該第2のパッシベーション層(42)および第4のパッシベーション層(45)を除去した後に該犠牲層領域(40)を該切欠部(29)の領域において、該第2の面(22)から除去する
ことを特徴とする製造方法。 - 前記メンブレン構造体(30)を形成する層の形成より時間的に前および/または後に、前記モノリシック集積される回路(25)を形成するための製造ステップを実施する、請求項1記載の製造方法。
- 前記メンブレン構造体(30)の領域内に設けられたカバー層(43,43′)を少なくとも部分的に除去する、請求項1または2記載の製造方法。
- 前記メンブレン構造体(30)に少なくとも1つの切欠部(35)を形成する、請求項1から3までのいずれか1項記載の製造方法。
- 請求項1から4までのいずれか1項記載の製造方法によって製造される、基板(20)とメンブレン構造体(30)とを有するマイクロメカニカル素子(10)であって、
とりわけマイクロフォン、マイクロスピーカまたは圧力センサであるマイクロメカニカル素子において、
該メンブレン構造体(30)と該基板(20)の少なくとも1つの部分領域(24)とがコンデンサシステム(15)として構成されていることを特徴とする、マイクロメカニカル素子。 - 前記メンブレン構造体(30)と前記基板(20)の部分領域(24)との間隔は約10μm未満であり、有利には約5μm未満であり、特に有利には約2μm未満である、請求項5記載のマイクロメカニカル素子。
- 前記メンブレン構造体(30)は第1の電極(16)を有し、前記基板(20)の部分領域(24)は第2の電極(17)を有し、
該第1の電極(16)および/または第2の電極(17)は、少なくとも1つのパッシベーション層(41,42,44,45)によって保護されている、請求項5または6記載のマイクロメカニカル素子。 - 前記メンブレン構造体(30)は、前記基板(20)の内部または表面上にモノリシック集積される回路(25)とともに設けられている、請求項5から7までのいずれか1項記載のマイクロメカニカル素子。
- 前記メンブレン構造体(30)は一続きで設けられている、請求項5から8までのいずれか1項記載のマイクロメカニカル素子。
- 前記メンブレン構造体(30)は切欠部(35)を有する、請求項5から8までのいずれか1項記載のマイクロメカニカル素子。
- 前記部分領域(24)および前記電極(16,17)は全面で、少なくとも1つのパッシベーション層(41,42,44,45)によって包囲されている、請求項5から10までのいずれか1項記載のマイクロメカニカル素子。
- 前記切欠部(29)の壁と前記基板(20)の第2の面(22)とは、少なくとも1つのパッシベーション層(41,42,44,45)によって被覆されている、請求項5から10までのいずれか1項記載のマイクロメカニカル素子。
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