JP2009516335A - イオン注入装置のセグメント化された電界レンズを提供する技術 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図4
Description
Claims (20)
- イオン注入装置で用いられる静電レンズであって、
第1の電位でバイアスされた入口電極と、
第2の電位でバイアスされた出口電極と、
前記入口電極と前記出口電極との間に配置され、イオンビームのエネルギーおよび形状を操作するよう個別にバイアスされる複数のセグメントを含む抑制電極と、
を含み、
前記イオンビームは、前記入口電極を通って前記静電レンズに入り、前記出口電極を通って前記静電レンズを出る、
静電レンズ。 - 前記抑制電極と前記入口電極との間には第1の組の静電界が生成され、該第1の組の静電界は、第1の電位に向かう前記イオンビームを加速させ、
前記抑制電極と前記出口電極との間には第2の組の静電界が生成され、該第2の組の静電界は、第2の電位に向かう前記イオンビームを減速させる、
請求項1に記載の静電レンズ。 - 前記複数のセグメントは、少なくとも1つの中心電極、および、少なくとも2つのサイド電極を含み、前記少なくとも1つの中心電極は、前記イオンビームの前記エネルギーを操作するようバイアスされ、前記少なくとも2つのサイド電極は、前記イオンビームの広がりを補正するよう、前記少なくとも1つの中心電極とは別にバイアスされる、請求項1に記載の静電レンズ。
- 前記少なくとも2つのサイド電極は、前記イオンビームの辺部付近の空間電荷効果を相殺するようバイアスされる、請求項3に記載の静電レンズ。
- 前記少なくとも2つのサイド電極は、前記少なくとも1つの中心電極に関し対称的に配置される、請求項3に記載の静電レンズ。
- 前記少なくとも2つのサイド電極は、対称的にバイアスされる、請求項5に記載の静電レンズ。
- 前記複数のセグメントは、
少なくとも1つの中心電極と、
外部の静電界を遮断する2つ以上のエンド電極と、
を含む、請求項1に記載の静電レンズ。 - 前記イオンビームは、リボン状イオンビームであり、前記静電レンズは、前記リボン状イオンビームを調整する、請求項1に記載の静電レンズ。
- 前記電極の少なくとも1つは、前記静電レンズ内の電界をさらに変更する湾曲辺を有する、請求項1に記載の静電レンズ。
- 前記抑制電極は、1つの中心電極と、該中心電極の両側に対称的に配置された2つのサイド電極とを含む、請求項1に記載の静電レンズ。
- 前記抑制電極は、1つの中心電極と、該中心電極の両側に非対称的に配置された2つのサイド電極とを含む、請求項1に記載の静電レンズ。
- 前記抑制電極と前記出口電極との間に追加の抑制電極をさらに含む、請求項1に記載の静電レンズ。
- 前記入口電極、前記出口電極、および、前記抑制電極は、前記イオン注入装置におけるリボン状イオンビームに第1の減速ステージを提供するようバイアスされる、請求項1に記載の静電レンズ。
- 前記入口電極、前記出口電極、および、前記抑制電極は、前記イオン注入装置におけるリボン状イオンビームに第2の減速ステージを提供するようバイアスされる、請求項1に記載の静電レンズ。
- イオン注入装置で用いられる静電レンズを提供する方法であって、
第1の電位でバイアスされる入口電極を提供することと、
第2の電位でバイアスされる出口電極を提供することと、
前記入口電極と前記出口電極との間に配置され、複数のセグメントを含む抑制電極を提供することと、
前記抑制電極における前記複数のセグメントを個別にバイアスすることにより、前記入口電極を通って前記静電レンズに入り、前記出口電極を通って前記静電レンズを出るイオンビームのエネルギーおよび形状を操作する電界を生成することと、
を含む方法。 - 前記電界は、前記イオンビームのエンベロープの角形状を操作する、請求項15に記載の方法。
- 前記複数のセグメントは、少なくとも1つの中心電極と、少なくとも2つのサイド電極とを含み、前記少なくとも1つの中心電極は、前記イオンビームの前記エネルギーを操作するようバイアスされ、前記少なくとも2つのサイド電極は、前記イオンビームの広がりを補正するよう前記少なくとも1つの中心電極とは別にバイアスされる、請求項15に記載の方法。
- 前記イオンビームの辺部付近の空間電荷効果を相殺するよう、前記少なくとも2つのサイド電極をバイアスすることをさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの中心電極に関し対称的に前記少なくとも2つのサイド電極を位置決めしてバイアスすることをさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記抑制電極と前記出口電極との間に追加の抑制電極を提供することをさらに含む、請求項15に記載の方法。
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