JPH02236933A - ビーム照射装置 - Google Patents
ビーム照射装置Info
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- JPH02236933A JPH02236933A JP5586689A JP5586689A JPH02236933A JP H02236933 A JPH02236933 A JP H02236933A JP 5586689 A JP5586689 A JP 5586689A JP 5586689 A JP5586689 A JP 5586689A JP H02236933 A JPH02236933 A JP H02236933A
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- electrode
- holes
- electrodes
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 4
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
《産業上の利用分野》
本発明は、イオンビームや中性粒子ビーム、または電子
ビームを広い面積に照射するための改良されたビーム照
射装置に関する． （従来の技術） イオンビームや中性粒子ビーム、または電子ビームを長
尺の物体に照射する方法として、（１）第１’ａ図に示
すように、粒子源１で発生されたイオンや電子などの荷
電粒子２を単一の電極孔３を有する加速電極４によって
加速したのち、そのビーム５を磁場や偏向電極６によっ
て偏向し、広い面積を掃引する方法と、（２）第２ａ図
に示すように、複数の電極孔８をもつ多孔型の加速電極
９（以下、単に多孔型電極と呼ぶ》を用いて、それぞれ
の孔からビーム５を引出し、それらの集合体として大面
積のビームを得る方法がある．大きな照射強度が必要な
場合には、後者の方法が用いられるが、この場合の問題
点として、それぞれの孔からのビーム５は完全には直進
せず、空間的に発散しているために、それらの集合体と
してのビームも第２ｂ図に示すような空間的分布７を持
つことがある．すなわち、集合ビームの中心部の照射強
度は大きく、周辺にいくに従って照射強度が下がるとい
う問題である．この問題を解決するために，従来は、第
３ａ図に示すように、多孔型′ｒ４極りの中心部の孔の
いくつかを閉止板１０によって塞ぎ、中心部のビーム強
度を下げることによって、空間的に一様なビーノ＼分布
７を得る方法があった。しかし、この方法では孔を塞い
だ分だけビーム強度が下がり、照射装置としての効率が
低下してしまう欠点があった。
ビームを広い面積に照射するための改良されたビーム照
射装置に関する． （従来の技術） イオンビームや中性粒子ビーム、または電子ビームを長
尺の物体に照射する方法として、（１）第１’ａ図に示
すように、粒子源１で発生されたイオンや電子などの荷
電粒子２を単一の電極孔３を有する加速電極４によって
加速したのち、そのビーム５を磁場や偏向電極６によっ
て偏向し、広い面積を掃引する方法と、（２）第２ａ図
に示すように、複数の電極孔８をもつ多孔型の加速電極
９（以下、単に多孔型電極と呼ぶ》を用いて、それぞれ
の孔からビーム５を引出し、それらの集合体として大面
積のビームを得る方法がある．大きな照射強度が必要な
場合には、後者の方法が用いられるが、この場合の問題
点として、それぞれの孔からのビーム５は完全には直進
せず、空間的に発散しているために、それらの集合体と
してのビームも第２ｂ図に示すような空間的分布７を持
つことがある．すなわち、集合ビームの中心部の照射強
度は大きく、周辺にいくに従って照射強度が下がるとい
う問題である．この問題を解決するために，従来は、第
３ａ図に示すように、多孔型′ｒ４極りの中心部の孔の
いくつかを閉止板１０によって塞ぎ、中心部のビーム強
度を下げることによって、空間的に一様なビーノ＼分布
７を得る方法があった。しかし、この方法では孔を塞い
だ分だけビーム強度が下がり、照射装置としての効率が
低下してしまう欠点があった。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、かかる問題および欠点を解決しようとずるも
のであって、多孔型ＴＬ極を用いて大面積のビームを発
生した場合にも、空間的に一様なビームを発生させ、ま
た、電極孔を塞ぐことによる照射装置における如き効率
の低下を防ごうとするものである． （課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく、本発明のビーム照射装置におい
ては、複数の多孔型電極のうちの１若しくは２以上の電
極における孔の位置を、他の電極における孔の位置に対
して変位させている．その結果、本発明の装置において
は、照射効率を低下させることなく空間的に一様なビー
ムを発生することができる。変位させる孔の数、位置及
び変位の大きさは、装置の出力、ビーノ、の種類等に応
じて適宜選ばれる。
のであって、多孔型ＴＬ極を用いて大面積のビームを発
生した場合にも、空間的に一様なビームを発生させ、ま
た、電極孔を塞ぐことによる照射装置における如き効率
の低下を防ごうとするものである． （課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく、本発明のビーム照射装置におい
ては、複数の多孔型電極のうちの１若しくは２以上の電
極における孔の位置を、他の電極における孔の位置に対
して変位させている．その結果、本発明の装置において
は、照射効率を低下させることなく空間的に一様なビー
ムを発生することができる。変位させる孔の数、位置及
び変位の大きさは、装置の出力、ビーノ、の種類等に応
じて適宜選ばれる。
（実施例）
本発明の一具体例を第４ａ図、第４ｂ図及び第５図によ
り説明する。第４ａｌＦ２１はイオンビーノ＼を照射す
る装置てある。プラズマ源１１で発生したイオン１２を
多孔型電極９によって加速する。多孔型電極９はプラズ
マ電極１３、負電極１４、接地電極１５の３枚の電極よ
り構成され、プラズマ電極１３に加速電圧源１６からの
正の加速電圧を印加し、負電極１４にｉ速電圧源１７か
らの負の減速電圧を印加することによってイオンビーム
を加速ずるゆこのとき、電極の中心部の孔１８について
、第５図に示すように負電極１４の孔を他の２枚の電極
の孔に対して変位させると、電界レンズの作用によって
ビーム５は、負電極の孔の変位方向と反対方向に偏向さ
れる。これにより、中心部の孔ｌ８がらのビーム（第４
図の１９）を外側に偏向することができる。従って、第
４ｂ図に示すように、一様なビーム分布を得ることがで
きる． （発明の効果） 以上の如く、本発明に従って変位させる孔の数、位置、
及び変位の大きさを適当に選ぶことによって、多孔型電
極を用いた場合でも広い面禎に亘って一様なビーム分布
を得ることができる。また、多孔型電極を用いた従来の
ビーム照射装置のように電極の孔を塞ぐことがないため
、ビーム強度の低下がなく、照射装置の効率を低下させ
ることがない。
り説明する。第４ａｌＦ２１はイオンビーノ＼を照射す
る装置てある。プラズマ源１１で発生したイオン１２を
多孔型電極９によって加速する。多孔型電極９はプラズ
マ電極１３、負電極１４、接地電極１５の３枚の電極よ
り構成され、プラズマ電極１３に加速電圧源１６からの
正の加速電圧を印加し、負電極１４にｉ速電圧源１７か
らの負の減速電圧を印加することによってイオンビーム
を加速ずるゆこのとき、電極の中心部の孔１８について
、第５図に示すように負電極１４の孔を他の２枚の電極
の孔に対して変位させると、電界レンズの作用によって
ビーム５は、負電極の孔の変位方向と反対方向に偏向さ
れる。これにより、中心部の孔ｌ８がらのビーム（第４
図の１９）を外側に偏向することができる。従って、第
４ｂ図に示すように、一様なビーム分布を得ることがで
きる． （発明の効果） 以上の如く、本発明に従って変位させる孔の数、位置、
及び変位の大きさを適当に選ぶことによって、多孔型電
極を用いた場合でも広い面禎に亘って一様なビーム分布
を得ることができる。また、多孔型電極を用いた従来の
ビーム照射装置のように電極の孔を塞ぐことがないため
、ビーム強度の低下がなく、照射装置の効率を低下させ
ることがない。
第１ａ図はＱＬ一孔のビーム照射装置の断面模式図であ
り、 第１ｂ図は第１ａｌ２１の装置におけるビーム分布を示
すグラフであり、 第２ａ図は多孔型電極を用いたビーム照射装置の断面模
式図であり、 第２ｌＪ図は第２ａ図の装置におけるビーム分布を示す
グラフであり、 第３ａ図は多孔型電極からのビーム分布を改善された従
来のビーム照射装置の断面模式図であり、第３ｂ図は第
３ａ図の装置におけるビーム分布を示すグラフであり、 第４ａ図は本発明のイオンビーム照射装置の断面模式図
であり、 第４１）図は第４ａ図の装置におけるビーム分布を示す
グラフであり、 第５図は、第４ａ図の多孔型電極の一つの孔の断面とビ
ーム偏向を示す部分断面図である．図において
り、 第１ｂ図は第１ａｌ２１の装置におけるビーム分布を示
すグラフであり、 第２ａ図は多孔型電極を用いたビーム照射装置の断面模
式図であり、 第２ｌＪ図は第２ａ図の装置におけるビーム分布を示す
グラフであり、 第３ａ図は多孔型電極からのビーム分布を改善された従
来のビーム照射装置の断面模式図であり、第３ｂ図は第
３ａ図の装置におけるビーム分布を示すグラフであり、 第４ａ図は本発明のイオンビーム照射装置の断面模式図
であり、 第４１）図は第４ａ図の装置におけるビーム分布を示す
グラフであり、 第５図は、第４ａ図の多孔型電極の一つの孔の断面とビ
ーム偏向を示す部分断面図である．図において
Claims (1)
- 複数の孔を有する複数の電極を用いてイオンまたは電
子を加速し、イオンビームや中性粒子ビーム、または電
子ビームを広い面積に照射するビーム照射装置において
、前記複数の電極のうちの１若しくは２以上の電極にお
ける孔の位置を、他の電極における孔の位置に対して変
位させることによつて、電極の中心部の孔からのビーム
を外側に偏向することを特徴とするビーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1055866A JP2858776B2 (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | ビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1055866A JP2858776B2 (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | ビーム照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02236933A true JPH02236933A (ja) | 1990-09-19 |
| JP2858776B2 JP2858776B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=13010997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1055866A Expired - Fee Related JP2858776B2 (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | ビーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2858776B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018067408A (ja) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | イオンビーム照射装置及び基板処理装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6251648U (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-31 |
-
1989
- 1989-03-08 JP JP1055866A patent/JP2858776B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6251648U (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-31 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018067408A (ja) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | イオンビーム照射装置及び基板処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2858776B2 (ja) | 1999-02-17 |
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Legal Events
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