JP2009510190A - 研磨剤の生成方法及びルチル型二酸化チタンの製造方法におけるこの研磨剤の使用 - Google Patents

研磨剤の生成方法及びルチル型二酸化チタンの製造方法におけるこの研磨剤の使用 Download PDF

Info

Publication number
JP2009510190A
JP2009510190A JP2008532238A JP2008532238A JP2009510190A JP 2009510190 A JP2009510190 A JP 2009510190A JP 2008532238 A JP2008532238 A JP 2008532238A JP 2008532238 A JP2008532238 A JP 2008532238A JP 2009510190 A JP2009510190 A JP 2009510190A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
titanium dioxide
anatase
abrasive
blend
rutile
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008532238A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5323483B2 (ja
Inventor
フリン,ハリー,イー.
Original Assignee
トロノックス エルエルシー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by トロノックス エルエルシー filed Critical トロノックス エルエルシー
Publication of JP2009510190A publication Critical patent/JP2009510190A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5323483B2 publication Critical patent/JP5323483B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G23/00Compounds of titanium
    • C01G23/04Oxides; Hydroxides
    • C01G23/047Titanium dioxide
    • C01G23/07Producing by vapour phase processes, e.g. halide oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10Solid density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/21Attrition-index or crushing strength of granulates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

ルチル型二酸化チタン顔料を生産するための塩化プロセスで許容される研磨剤の条件に合う破砕強度及び密度にするため、アナターゼ型及びルチル型二酸化チタンのブレンドを焼成する。このようなブレンドを使用することによって、アナターゼ型二酸化チタンの転化は、同じ焼成条件の下でアナターゼ型二酸化チタンのみを焼成して観察される転化よりも多くなり、生成されたルチル型二酸化チタンから研磨剤の分離を必要とせずに、かなり高率で、より費用がかからず、より安価なアナターゼ型二酸化チタンを使用することができて、研磨剤を通常の添加率で使用することができ、混合された使用済みの研磨剤と生産されたルチル型二酸化チタンのルチル型含量を99重量パーセント又はそれ以上に保つことができる。
【選択図】なし

Description

本発明は、一般に、ルチル型二酸化チタン顔料の生産に関する。特に、本発明は、ルチル型二酸化チタン顔料の生産への使用に好適な研磨剤の生成に関するものであり、ここでは、研磨剤は、二酸化チタン顔料を生産するための硫酸塩プロセスにおいて、焼成炉排出物からスクリーンされたような未精製(ベース又は未洗練)アナターゼ型顔料を使用する部分で準備される。
ルチル型二酸化チタンを生成するための塩化プロセスにおいて、四塩化チタンは酸化反応器中の蒸気相で酸化される。ルチル型二酸化チタン及び他の反応生成物は、一般に、外部冷却導管を通過し、冷却されて結合する。二酸化チタン粒子は、最初に気相で生じるが、熱泳動及び乱流などの力によって、二酸化チタン粒子は反応器の壁へ飛ばされてしまう。粒子は壁に達すると、付着し堆積しやすい。同様に、固体堆積物は冷却導管の内壁に付着して堆積してしまう。堆積した二酸化チタンの粒子によって、プロセスの熱伝達を減らしてしまい、冷却に問題が生じる。さらに、最終的には、この堆積によって、設備が詰まり、完全に流動は止まってしまい、洗浄するために運転を停止しなければならない。
従って、酸化反応器および/または冷却導管に使用して固体堆積物を除去するため、様々な研磨剤が研究されている。所望される研磨剤は、反応器の壁を有効に及び効率的に擦り磨くのに十分な固さを有するものであるが、この研磨剤は酸化反応器又は冷却導管の壁をすり減らしてしまうほど固くなく又は研磨するものではない。たとえば、圧縮された二酸化チタン顔料、ペレット化したチタン酸化物と水の混合物、砂、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム及び塩などの様々な種類の物質が、研磨剤として使用されている。
また、好ましい研磨剤は、十分に安価であり、生産された顔料(すなわち、ルチル型二酸化チタン)と十分に混合可能であり、研磨剤を生産物から分離する必要がないものである。たとえば、塩を研磨剤として用いると、一般に溶解して流出してしまう。砂などの他の研磨剤は、研磨剤の価値を下げてしまう又は顔料を汚染してしまうため、顔料の流れから分離される必要がある。
米国特許出願公開公報2005/0255036A1(2005年11月17日発行)に開示された出願は、硫酸塩プロセスの焼成炉排出物から好ましい研磨剤の条件に合う破砕強度及び密度へスクリーンされたような未精製(ベース又は未洗練)アナターゼ型顔料を焼成することによって、アナターゼ型顔料の一部をルチル型へ転化している。結果的に、ルチル型顔料のアナターゼ含量が工業的に認められる制限の範囲内で、アナターゼ型からルチル型への転化の程度によって、この焼成されたアナターゼ型物質は、ルチル型二酸化チタンを生産するための塩化プロセスで、研磨剤として使用される。しかしながら、比較的高いシングルパス転化率(アナターゼ型からルチル型へ)であっても、顔料の流れの2から10質量%である通常の研磨剤使用率では、アナターゼ型含量は、未だに望ましい範囲より多く、例えば1%より大きなオーダーで存在する。さらに緊縮した焼成条件によれば、パスあたりのルチル型への転化率がより高くなるが、結果物である研磨剤の破砕強度及びかさ密度に逆に作用しうる。
本発明は、焼成前にアナターゼ型二酸化チタンを基剤として、ルチル型二酸化チタンを混合することによって、アナターゼ型二酸化チタンを全体として使う場合よりもパスあたりのルチル型へアナターゼ型二酸化チタンの転化が高くなることについてのさらなる研究に関する。本発明を限定する意図はなく、このように、ルチル型二酸化チタンは、アナターゼ型からルチル型への転化のための触媒又はシード材として作用しうるように考えられるものであるが、結果的に、ルチル型二酸化チタン顔料を生成する塩化プロセスに有用な研磨剤を提供するものであり、この研磨剤は、望ましい破砕強度及びかさ密度を有するものであるが、アナターゼ型含有量は、ルチル型二酸化チタン顔料の工業的規模の生産において従来示されてきた範囲にすることができる。このように形成された研磨剤は、結果として、好ましくは、顔料の流れに対して通常の望ましい割合で使用でき、混合された生産物及び研磨剤のアナターゼ型含量を1重量パーセントもしくはそれ以上に増やすことがない。
好ましくは、本発明に従って、研磨剤として使用される焼成されたルチル型/アナターゼ型ブレンドの密度は、少なくとも1.55g/cm、多くて1.71g/cmである。さらに、研磨剤の破砕強度は、30パーセント未満15パーセントより大きいことが好ましい。破砕強度は、4K破砕試験(APIRP60(American Petroleum Institute Recommended Practice 60)−「ハイドロリックフラクチャリング操作における高強度プロパント試験のための推奨案」(1995)による)によって測定したものを示した。
上述のように、研磨剤へ一般的な添加率、すなわち2乃至10%顔料質量流動で、研磨剤として焼成されたアナターゼ型/ルチル型ブレンドを使用して、結果物の二酸化チタン生成物(使用済の研磨剤を含む)のアナターゼ型含量を1重量パーセント以下で維持できることが望ましい。さらに好適には、研磨剤用に焼成されたアナターゼ型/ルチル型ブレンドのアナターゼ型部分の転化において、二酸化チタン生成物(使用済の研磨剤を含む)のアナターゼ型含量が0.5重量パーセント未満となる。さらに好ましくは、アナターゼ型含量は多くて0.2重量パーセントの範囲となる。
我々は、単一のアナターゼ型顔料よりもアナターゼ型/ルチル型ブレンドを焼成することによって、アナターゼ型顔料のみから開始するよりアナターゼ型部分を十分に多く転化することができて、ブレンドのかなり安価な、又は価値の低いアナターゼ型部分が少なくともブレンドの50重量パーセントであるにもかかわらず、生産物のアナターゼ型含量を1重量パーセント以下にできることを発見した。さらに好ましくは、焼成条件を厳選することで、ブレンドのアナターゼ型部分をブレンドの少なくとも75重量パーセントにすることができる。最も好ましくは、ブレンドのアナターゼ型部分をブレンドの少なくとも90重量パーセントにすることができる。しかしながら、原則として、アナターゼ型顔料は通常工業価値が低いため、ルチル型二酸化チタンへ置換するアナターゼ型をいくらかでも使用することは、費用面で利益となり、例えば、わずかアナターゼ型物質が10重量パーセントでも利益がある。
本発明の研磨剤となるアナターゼ型/ルチル型ブレンドの焼成は、当業者の能力で行いうる範囲内であり、硫酸塩グレードアナターゼ型二酸化チタン顔料の生産において長く用いられてきた焼成方法および装置は、本発明のアナターゼ型/ルチル型ブレンドの使用に等しく利用できる。例えば、本発明に従って、研磨材として有用な焼成されたアナターゼ型/ルチル型ブレンドは、望ましい割合のアナターゼ型とルチル型二酸化チタンから始めて、水で塊状としてペレットを形成することで生産できる。ペレットは、その後乾燥されて、望ましくない大きすぎるもしくは小さすぎる粒径のペレットを除去するため検査される。ペレットは、その後、アナターゼ型/ルチル型ブレンドを焼成するのに十分な所定の温度で、一定時間(すなわち滞留時間)回転焼成炉で焼成されて、必要とされる破砕強度及びかさ密度となる。焼成の温度及び対流時間は、使用される特定のアナターゼ型やルチル型二酸化チタンおよびそれぞれの比率と、アナターゼ型が最終生産物のルチル型二酸化チタン顔料の中にどれくらい残ってよいかによって要求されるアナターゼ型のルチル型への転化によって変えることができる。しかしながら、当業者は、生ずるアナターゼ型とルチル型二酸化チタンの混合物のための適切な条件を過度の実験を必要とせずに、特に、下記の例で見られる条件及び結果から与えられることから、決定できる。
焼成された研磨剤は、ルチル型二酸化チタン顔料の生産のプロセスにおいて有用である。研磨剤をこのようなプロセス中に添加する方法は、既知である。たとえば、本発明による研磨剤は、ルチル型二酸化チタンを生産するための塩化プロセスで使用する酸化反応器の中へ添加することができる。代替的に、本発明による研磨剤は、ルチル型二酸化チタンを生産するための塩化プロセスで使用する冷却導管の中へ添加することができる。
本発明は、下記の例によってさらに詳細に説明されており、下記の例では、アナターゼ型二酸化チタン「A」と、同じアナターゼ型二酸化チタン「A」とルチル型二酸化チタン「B」の重量55:45のブレンドを焼成する(従来の回転焼成炉)ための様々な焼成温度及び滞留時間によって、結果物である焼成された研磨剤のかさ密度及び4K破砕強度を測定している。下記の表1及び表2に示した結果から分かるように、ルチル型二酸化チタンを追加してブレンドを形成して焼成を行うと、アナターゼ型部分はより多く転化し、結果物である研磨剤のルチル型含量は、アナターゼ型転化率に基づいて予想すると、アナターゼ型二酸化チタンのみの物質から開始する場合より多くなる。さらに、55:45のブレンドを摂氏1100度で焼成すると、好ましい破砕強度範囲(数字が大きくなるほど、より軟らかい物質を示す)15乃至30パーセントからまさに外れてしまうにもかかわらず、94.6パーセントのルチル型物質が生産される。焼成温度を高くすると、アナターゼ型チタンはより多くルチル形へ転化されて、好ましい範囲内の大きい破砕強度となる。
表1−アナターゼ型Aのみ
Figure 2009510190
表2−アナターゼ型A/ルチル型B
Figure 2009510190
総括すると、本発明は、最終生成物から分離又は回収する必要のないルチル型二酸化チタンを生成するための塩化プロセスで、効率的に使用することのできる研磨剤を提供する。本発明は特定の実施例に関して詳細に説明しているが、当業者は、これらの特定の好適な実施例を容易に変更することができ、様々な均等物に変更することができることは自明である。したがって、本発明の範囲は、添付した請求の範囲として及びこの均等物によるものとして判断されるべきである。

Claims (17)

  1. 塩化プロセスのルチル型二酸化チタン顔料の製造に用いる研磨剤を生成する方法において、アナターゼ型とルチル型二酸化チタンのペレット化したブレンドを作るステップと、これを焼成するステップを具えることを特徴とする方法。
  2. 請求項1に記載の方法において、前記ブレンド中の前記アナターゼ型二酸化チタンが、前記アナターゼ型とルチル型二酸化チタンの混合重量の少なくとも50重量パーセントであることを特徴とする方法。
  3. 請求項2に記載の方法において、前記焼成された研磨剤が、1.55グラム/立方センチメートル乃至1.71グラム/立方センチメートルの密度であり、APIRP60試験方法に従って決められた4K破砕強度が30乃至15パーセントである特性を有することを特徴とする方法。
  4. 請求項1に記載の方法において、前記アナターゼ型二酸化チタンが前記ペレット化したブレンドの焼成において前記ルチル型へ十分に転化されることにより、前記研磨剤が、前記顔料と、ルチル型二酸化チタンを生成するための塩化プロセスの酸化剤から受けられる研磨剤の量の10質量パーセント以下で使用される場合に、前記顔料及び使用済み研磨剤の前記アナターゼ型含量を1重量パーセントより少なくできることを特徴とする方法。
  5. 二酸化チタンを生産するために使用する設備の中に堆積する二酸化チタンを減少させるための方法において:
    研磨剤を生産するためアナターゼ型とルチル型二酸化チタンのブレンドを焼成するステップと;
    前記二酸化チタンを生産するために使用する前記設備内に前記研磨剤を添加するステップとを具えることを特徴とする方法。
  6. 請求項5に記載の方法において、前記焼成ステップが、1025℃より高温で行われることを特徴とする方法。
  7. 請求項5に記載の方法において、前記ブレンドが、30パーセント乃至15パーセントの破砕強度に焼成されることを特徴とする方法。
  8. 請求項5に記載の方法において、前記ブレンドが、1.55g/cm乃至1.71g/cmの密度に焼成されることを特徴とする方法。
  9. 請求項5に記載の方法において、前記焼成されたブレンドが、酸化反応器の中へ添加されることを特徴とする方法。
  10. 請求項5に記載の方法において、前記焼成されたブレンドが、冷却導管の中へ添加されることを特徴とする方法。
  11. 請求項5に記載の方法において、前記ブレンドの少なくとも10重量パーセントがアナターゼ型であることを特徴とする方法。
  12. 請求項5に記載の方法において、前記ブレンドの少なくとも50重量パーセントがアナターゼ型であることを特徴とする方法。
  13. 請求項5に記載の方法において、前記ブレンドの少なくとも75重量パーセントがアナターゼ型であることを特徴とする方法。
  14. 請求項5に記載の方法において、前記ブレンドの少なくとも90重量パーセントがアナターゼ型であることを特徴とする方法。
  15. 請求項5に記載の方法において、前記研磨剤を、前記二酸化チタンを生産するための生産設備を通る主な流れの2乃至10パーセントを構成する限度量まで使用した場合に、生産された二酸化チタンと使用済み研磨剤との混合物のアナターゼ型含量が1重量パーセントより少なくなるように、少なくとも前記ブレンド中の前記アナターゼ型二酸化チタンの転化量に作用するように前記ブレンド中の前記アナターゼ型とルチル型二酸化チタンの割合が選択され、焼成条件が用いられることを特徴とする方法。
  16. 請求項15に記載の方法において、前記生成された二酸化チタン及び使用済み研磨剤の前記アナターゼ型含量が0.5重量パーセント未満で維持されることを特徴とする方法。
  17. 請求項16に記載の方法において、前記生成された二酸化チタン及び使用済み研磨剤の前記アナターゼ型含量が0.2重量パーセント未満で維持されることを特徴とする方法。
    を特徴とする方法。
JP2008532238A 2005-09-26 2006-08-25 研磨剤の生成方法及びルチル型二酸化チタンの製造方法におけるこの研磨剤の使用 Expired - Fee Related JP5323483B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/234,996 2005-09-26
US11/234,996 US20070072783A1 (en) 2005-09-26 2005-09-26 Scour medium for titanium dioxide production
PCT/US2006/033319 WO2007037873A2 (en) 2005-09-26 2006-08-25 Method for making a scour medium and use of such medium in a method for producing rutile titanium dioxide

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009510190A true JP2009510190A (ja) 2009-03-12
JP5323483B2 JP5323483B2 (ja) 2013-10-23

Family

ID=37894865

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008532238A Expired - Fee Related JP5323483B2 (ja) 2005-09-26 2006-08-25 研磨剤の生成方法及びルチル型二酸化チタンの製造方法におけるこの研磨剤の使用

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20070072783A1 (ja)
EP (1) EP1940743B1 (ja)
JP (1) JP5323483B2 (ja)
CN (1) CN101309865B (ja)
AU (1) AU2006295235B2 (ja)
DE (1) DE602006006203D1 (ja)
TW (1) TWI378074B (ja)
WO (1) WO2007037873A2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014210919A (ja) * 2013-04-04 2014-11-13 石原産業株式会社 研磨粒子及びその使用方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7706917B1 (en) * 2004-07-07 2010-04-27 Irobot Corporation Celestial navigation system for an autonomous robot
US20080069764A1 (en) * 2006-09-18 2008-03-20 Tronox Llc Process for making pigmentary titanium dioxide
US8663518B2 (en) 2011-12-27 2014-03-04 Tronox Llc Methods of producing a titanium dioxide pigment and improving the processability of titanium dioxide pigment particles
WO2013163529A1 (en) 2012-04-27 2013-10-31 Cristal USA, Inc. Tio2 based scrubbing granules, and methods of making and using such tio2 based scrubbing granules

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB566920A (en) * 1942-01-09 1945-01-19 Du Pont Titanium oxide pigment production
US4214913A (en) * 1979-03-05 1980-07-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for producing rutile TiO2
WO2005113444A1 (en) * 2004-05-04 2005-12-01 Tronox Llc Scour media for titanium dioxide production

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2899276A (en) * 1959-08-11 Process for preparing dense
US2899278A (en) * 1959-08-11 lewis
US2488440A (en) * 1946-11-30 1949-11-15 Du Pont Titanium dioxide pigment production
US2721626A (en) * 1951-12-15 1955-10-25 Du Pont Cooling and separating by condensation of hot gaseous suspensions
US3063797A (en) * 1960-03-24 1962-11-13 Allied Chem Titanium compounds and processes of producing same
GB1357980A (en) * 1972-08-18 1974-06-26 British Titan Ltd Pigment production process
US4166147A (en) * 1973-04-16 1979-08-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Shaped and fired articles of tio2
US4321224A (en) * 1979-12-31 1982-03-23 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for production of spherical molded product containing titanium oxide
EP0265551B1 (de) * 1986-10-31 1990-02-21 KRONOS TITAN-Gesellschaft mbH Verfahren zur Herstellung grober scheuernder Titandioxidteilchenaggregate durch Dampfphasenoxidation von Titantetrachlorid und ihre Verwendung zur Verhinderung von Ansatzbildung beim gleichen Prozess
US5266108A (en) * 1992-04-22 1993-11-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Using compacted titanium dioxide pigment particles in the cooling section of the chloride process for making TiO2
US5362908A (en) * 1993-03-10 1994-11-08 Amoco Corporation Catalyst and method for purifying crude terephthalic acid, isophthalic acid or naphthalene dicarboxylic acid
US5372639A (en) * 1993-09-03 1994-12-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Use of a bimodal distribution of scrubs in a process for cooling a hot gaseous suspension
US5728205A (en) * 1996-12-11 1998-03-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the addition of boron in a TiO2 manufacturing process
US5824146A (en) * 1997-07-03 1998-10-20 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for making a photodurable aqueous titanium dioxide pigment slurry using a high level of aluminum co-oxidant
US5922120A (en) * 1997-12-23 1999-07-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for producing coated TiO2 pigment using cooxidation to provide hydrous oxide coatings
GB9818016D0 (en) * 1998-08-18 1998-10-14 Procter & Gamble Cosmetic compositions
US6419893B1 (en) * 2000-09-18 2002-07-16 Kerr-Mcgee Chemical Llc Process for producing and cooling titanium dioxide
US6528568B2 (en) * 2001-02-23 2003-03-04 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Method for manufacturing high opacity, durable pigment
US7119039B2 (en) * 2003-03-24 2006-10-10 Carbo Ceramics Inc. Titanium dioxide scouring media and method of production
US7255815B2 (en) * 2003-03-24 2007-08-14 Carbo Ceramics Inc. Titanium dioxide scouring media and method of production
CN1544558A (zh) * 2003-11-27 2004-11-10 上海大学 一种环保型光催化内墙涂料

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB566920A (en) * 1942-01-09 1945-01-19 Du Pont Titanium oxide pigment production
US4214913A (en) * 1979-03-05 1980-07-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for producing rutile TiO2
WO2005113444A1 (en) * 2004-05-04 2005-12-01 Tronox Llc Scour media for titanium dioxide production

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014210919A (ja) * 2013-04-04 2014-11-13 石原産業株式会社 研磨粒子及びその使用方法

Also Published As

Publication number Publication date
AU2006295235A1 (en) 2007-04-05
TWI378074B (en) 2012-12-01
US20070072783A1 (en) 2007-03-29
AU2006295235B2 (en) 2012-08-30
JP5323483B2 (ja) 2013-10-23
WO2007037873A3 (en) 2007-08-23
EP1940743B1 (en) 2009-04-08
TW200728207A (en) 2007-08-01
CN101309865B (zh) 2012-11-14
EP1940743A2 (en) 2008-07-09
CN101309865A (zh) 2008-11-19
WO2007037873A2 (en) 2007-04-05
DE602006006203D1 (de) 2009-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2005245362B2 (en) Scour media for titanium dioxide production
JP5323483B2 (ja) 研磨剤の生成方法及びルチル型二酸化チタンの製造方法におけるこの研磨剤の使用
TWI483901B (zh) 以TiO2爲基質的清洗顆粒及製造和使用該以TiO2爲基質的清洗顆粒之方法
AU2005240589A1 (en) Titanium dioxide scouring media and method of production
AU2001295046B2 (en) Process for producing and cooling titanium dioxide
AU2001295046A1 (en) Process for producing and cooling titanium dioxide
Qu et al. Preparation and characterization of the TiO2 ultrafine particles by detonation method
EP0716642B1 (en) Use of a bimodal distribution of scrubs in a process for cooling a hot gaseous suspension
US5759511A (en) Granular scrubs for use in manufacturing titanium dioxide pigment
JP6734552B1 (ja) 触媒粒子及びそれを用いた水素製造方法
RU2667452C1 (ru) Способ получения наноразмерного порошка карбида вольфрама
JP2022024997A (ja) 触媒粒子
JP2020151714A (ja) 触媒粒子及びそれを用いた水素製造方法
JP2016020468A (ja) 研磨剤
CA2213895A1 (en) Granular scrubs for use in manufacturing titanium dioxide pigment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090820

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120522

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120821

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120828

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120924

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20121001

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121022

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130702

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130717

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5323483

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees