JP2009299186A - Surface treated metal sheet - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treated metal sheet which can be suitably used for the enclosure of an electronic device, and is excellent in electromagnetic wave shieldability in the joint part. <P>SOLUTION: The surface treated metal sheet has on one or both surfaces thereof a film containing granular nickel. When the average film thickness of the film is defined as t (μm), the grain size of the nickel is defined as R<SB>Ni</SB>and the distribution width of a 20% frequency level when the height of the peaks of the number-size distribution of the nickel is 100% is defined as W<SB>20</SB>(μm), the surface treated metal sheet satisfies conditions wherein: the peaks of the number-size distribution are present at least in the range of 1<[R<SB>Ni</SB>/t]≤2; the W<SB>20</SB>of the peaks of the number-size distribution is ≤5; the peaks of the number-size distribution are not present in the range of 2<[R<SB>Ni</SB>/t]; and the number of the nickel present in the range of 2<[R<SB>Ni</SB>/t] is <5×10<SP>9</SP>per m<SP>2</SP>. By this constitution, the surface treated metal sheet has excellent electromagnetic wave shieldability in the joint part. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子機器の筐体に好適に用いることができ、接合部の電磁波シールド性に優れた表面処理金属板及び該金属板を少なくとも一部に用いて製造された電子機器筐体に関する。   The present invention relates to a surface-treated metal plate that can be suitably used for a housing of an electronic device and has excellent electromagnetic shielding properties at a joint, and an electronic device housing manufactured using at least a part of the metal plate.

電磁波は、以前より、放送、レーダー、船舶通信、電子レンジ等に利用されてきたが、近年、情報通信技術のめざましい発展により、その利用は飛躍的に拡大している。中でも、大容量情報の伝送が可能となるGHz帯の利用が急増し、携帯電話(1.5GHz)、ETC(5.8GHz)、衛星放送(12GHz)、無線LAN(2.45〜60.0GHz)、車載追突防止レーダー(76GHz)等で用いられるようになってきた。一方、一般家庭においても、従来のケーブル配線に加え、マイクロ波、ミリ波を用いた無線通信でパソコンやテレビ、各種情報家電をネットワーク化して、いつでもコンピュータに繋がるユビキタス社会の到来が始まっている。   Electromagnetic waves have been used for broadcasting, radar, ship communication, microwave ovens, etc. for some time, but in recent years, their use has expanded dramatically due to remarkable developments in information and communication technology. Among them, the use of the GHz band that enables transmission of large-capacity information has increased rapidly, and cellular phones (1.5 GHz), ETC (5.8 GHz), satellite broadcasting (12 GHz), wireless LAN (2.45 to 60.0 GHz) ), And in-vehicle rear-end collision prevention radar (76 GHz). On the other hand, in addition to conventional cable wiring, in general homes, the arrival of a ubiquitous society in which personal computers, televisions, and various information appliances are networked by wireless communication using microwaves and millimeter waves and are always connected to computers.

このように、数多くの電磁波発生源が我々の周囲を取り巻き、通信デバイスの小型化、高速化、薄肉化と相まって、不要電磁波の放射とそれによる誤動作の危険性は格段に高まっているものと考えられる。   In this way, a large number of electromagnetic wave generation sources surround us, and coupled with the reduction in size, speed, and thinning of communication devices, the radiation of unwanted electromagnetic waves and the resulting risk of malfunction are considered to have increased significantly. It is done.

不要な電磁波の放射(Emission)を抑制したり、不要電磁波の放射を受けても誤動作し難くしたりする(Immunity)手段として、金属材料による電磁波シールド技術がある。電磁波シールド材として金属材料が適することは、例えば、非特許文献1に記載がある。本発明で述べる電磁波シールドとは、非特許文献1で言う「電磁シールド」のことであって、「静電シールド」や「磁気シールド」とは区別されるべきものである。即ち、周波数が凡そ1MHz以上の電磁波が、材料を貫通して漏洩するのを防止する効果を言う。この意味で、金属材料は、例えば、プラスチック等と比較して、格段に優れた電磁波シールド効果を有する。不要電磁波の発生源を金属板で囲うことにより、Emissionは抑制され、また、電子回路を金属板で囲うことにより、外部からの不要輻射から回路を守るImmunityの手段となる。したがって、金属板により隙間や接合部の無い電子機器筐体を作成できれば、良好な電磁波シールドが得られ、電磁波漏洩は殆ど問題にならない。   There is an electromagnetic wave shielding technique using a metal material as means for suppressing unnecessary electromagnetic wave emission (Emission) or making it difficult to malfunction even when receiving unnecessary electromagnetic wave radiation (Immunity). Non-patent document 1 describes that a metal material is suitable as an electromagnetic shielding material. The electromagnetic wave shield described in the present invention is an “electromagnetic shield” referred to in Non-Patent Document 1, and should be distinguished from an “electrostatic shield” and a “magnetic shield”. That is, an effect of preventing electromagnetic waves having a frequency of about 1 MHz or more from leaking through the material. In this sense, the metal material has an electromagnetic wave shielding effect that is significantly superior to, for example, plastic. By surrounding the generation source of the unnecessary electromagnetic wave with the metal plate, the emission is suppressed, and by surrounding the electronic circuit with the metal plate, it becomes an immunity means for protecting the circuit from unnecessary radiation from the outside. Therefore, if an electronic device casing having no gaps or joints can be created with a metal plate, a good electromagnetic wave shield can be obtained, and electromagnetic wave leakage hardly causes a problem.

しかしながら、電子機器用筐体には、ビス止め、スポット溶接、はぜ折り等による何らかの接合部がある。また、金属板の表面は、耐食性や耐指紋性を付与する目的で、有機樹脂を含有する被膜で被覆されていることがある。このような場合には、電磁波は、接合部から漏洩する可能性があり、筐体の電磁波シールド性は、接合部からの漏洩の大小によって決まる。   However, the electronic device casing has some joints by screwing, spot welding, helix folding, or the like. The surface of the metal plate may be coated with a coating containing an organic resin for the purpose of imparting corrosion resistance and fingerprint resistance. In such a case, electromagnetic waves may leak from the joint, and the electromagnetic shielding properties of the housing are determined by the amount of leakage from the joint.

材料の特性としては、導電性、特に表面の導電性が優れるほど、電磁波シールド性が優れると考えられており、これまで電磁波シールドを目的として、材料の表面導電性を高める技術が多く開示されている。   As the characteristics of the material, it is believed that the better the conductivity, especially the surface conductivity, the better the electromagnetic shielding properties. So far, many techniques for increasing the surface conductivity of materials have been disclosed for the purpose of electromagnetic shielding. Yes.

例えば、特許文献1や特許文献2には、中心線平均粗さRaの大きい、即ち凹凸がある下地鋼板の上に、有機皮膜を形成する方法が開示されている。これは、皮膜厚さの分布を不均一にし、非被覆部分(凸部)で導電性を確保できるというものである。しかし、この方法では、良好な電磁波シールド性を付与するためには、皮膜厚さを極薄膜とする必要があるために、有機被覆を形成することによって付与したい性能(例えば、耐食性、耐指紋性、摺動性、放熱性等)を得ることが困難であった。   For example, Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose a method of forming an organic film on a base steel sheet having a large center line average roughness Ra, that is, having unevenness. This is to make the distribution of the film thickness non-uniform and to ensure conductivity at the non-covered part (convex part). However, in this method, in order to provide good electromagnetic wave shielding properties, it is necessary to make the film thickness very thin, so the performance to be imparted by forming an organic coating (for example, corrosion resistance, fingerprint resistance) Slidability, heat dissipation, etc.) were difficult to obtain.

また、有機皮膜中に導電性物質を含有させる方法としては、特許文献3,4記載の方法等が開示されている。   Moreover, as a method of incorporating a conductive substance into the organic film, methods described in Patent Documents 3 and 4 are disclosed.

特許文献3では、フレーク状ニッケル及び鎖状ニッケルを皮膜中に含有させる方法が開示されている。これは、皮膜中において、フレーク状ニッケルの面と皮膜面とが平行となるように、フレーク状ニッケルが配向し、フレーク状ニッケルを結ぶように鎖状ニッケルが皮膜面と垂直方向に配向することによって、効率良く導通することができるというものである。しかし、金属板に実際に塗布する際には、フレーク状ニッケルの面が皮膜面と垂直に存在したり、鎖状ニッケルが皮膜面に水平方向に存在したりすると言ったことが起こり得る。そのため、フレーク状のニッケルと鎖状のニッケルを皮膜中に理想的に存在させることは極めて困難であり、この方法では電磁波シールド性のばらつきが大きくなってしまうという問題があった。   Patent Document 3 discloses a method in which flaky nickel and chain nickel are contained in a film. This is because the flake nickel is oriented in the film so that the surface of the flake nickel and the film surface are parallel, and the chain nickel is oriented in the direction perpendicular to the film surface so as to connect the flake nickel. Therefore, it is possible to conduct efficiently. However, when it is actually applied to the metal plate, it can happen that the surface of the flake nickel exists perpendicularly to the coating surface, or the chain nickel exists in the horizontal direction on the coating surface. For this reason, it is extremely difficult to cause flake-like nickel and chain-like nickel to exist ideally in the film, and this method has a problem that variations in electromagnetic shielding properties become large.

特許文献4には、中心核の表面に微細突起を有するニッケルを皮膜中に含有させ、そのニッケルの平均粒径rと塗膜厚みtとの比を規定し、0.3r≦t≦1.2r+0.5の場合、優れた導電性が得られることが記載されている。しかし、本願発明者らの検討では、ニッケルの微細突起のために摺動性が低下してしまうという問題が懸念される。   In Patent Document 4, nickel having fine protrusions on the surface of the central core is contained in the coating, and the ratio of the average particle diameter r of the nickel to the coating thickness t is defined as 0.3r ≦ t ≦ 1. In the case of 2r + 0.5, it is described that excellent conductivity can be obtained. However, in the study by the present inventors, there is a concern that the slidability deteriorates due to the fine protrusions of nickel.

一方、家電製品等の内部にある電磁波発生源は、熱の発生源でもあることから、電子機器筐体の材料には、熱を効率良く放出する特性も要求されている。電子部品を内蔵する電子機器内部の温度上昇対策として、例えば、特許文献5に、放熱性の高い皮膜を表面に形成した金属板を電子機器筐体の材料として用いる技術が開示されている。特許文献5には、更に皮膜中に平均粒径が0.5〜20μmのニッケルを、10〜50質量%添加することにより、導電性にも優れることを開示している。しかし、ニッケルの添加量、形状、粒径、塗膜厚についての検討が不十分であり、十分な導電性が得られていない。   On the other hand, since an electromagnetic wave generation source in a home appliance or the like is also a heat generation source, the material of the electronic device casing is required to have a characteristic of efficiently releasing heat. For example, Patent Document 5 discloses a technique of using, as a material for an electronic device casing, a metal plate on which a highly heat-dissipating film is formed as a countermeasure against a temperature rise inside an electronic device incorporating an electronic component. Patent Document 5 discloses that by adding 10 to 50% by mass of nickel having an average particle size of 0.5 to 20 μm in the film, the film is also excellent in conductivity. However, studies on the addition amount, shape, particle size, and coating thickness of nickel are insufficient, and sufficient conductivity is not obtained.

また、上記発明において、十分な導電性が得られていない一因として、粒子の粒径として、平均粒径という概念だけが用いられ、粒径分布については考慮されていないこともある。   Moreover, in the said invention, as one factor that sufficient electroconductivity is not acquired, only the concept of an average particle diameter is used as a particle size of a particle | grain, and the particle size distribution may not be considered.

特公平2−34672号公報Japanese Patent Publication No. 2-34672 特公平6−57871号公報Japanese Patent Publication No. 6-57871 特許第3068999号公報Japanese Patent No. 3068999 特開2005−313609号公報JP-A-2005-313609 特開2004−160979号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-160979

清水康敬「最新 電磁波吸収と遮断」、p205〜223、日経技術図書株式会社(1999)Yasutaka Shimizu “Latest Electromagnetic Wave Absorption and Blocking”, p. 205-223, Nikkei Technical Library Co., Ltd. (1999) 工藤敏夫、EMCJ、89−96(1990)p.51〜54Toshio Kudo, EMCJ, 89-96 (1990) p. 51-54 工藤敏夫、三菱電線工業時報、第79号(1990)Toshio Kudo, Mitsubishi Electric Industrial Times, No. 79 (1990)

本発明は、上記課題を鑑みてなされたもので、筐体の材料として用いた場合に、接合部の電磁波シールド性に優れた表面処理金属板を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said subject, and when used as a material of a housing | casing, it aims at providing the surface treatment metal plate excellent in the electromagnetic wave shielding property of a junction part.

本願発明者らは、電磁波シールド性に優れた表面処理金属板を提供すべく鋭意検討した結果、金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、皮膜中のニッケルの粒度分布を制御することにより、所期の目的を達成し得ることを見出した。   As a result of intensive studies to provide a surface-treated metal plate excellent in electromagnetic wave shielding properties, the inventors of the present application have found that in the surface-treated metal plate having a film containing granular nickel on one side or both sides of the metal plate, It has been found that the intended purpose can be achieved by controlling the particle size distribution of nickel.

本発明がその要旨とするところは、以下のとおりである。   The gist of the present invention is as follows.

(1) 金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、前記皮膜の平均膜厚をt(μm)、ニッケルの粒径をRNi、ニッケルの個数分布のピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅をW20(μm)としたときに、前記個数分布のピークが1<[RNi/t]≦2の範囲に少なくとも存在し、前記個数分布のピークのW20が5以下であり、2<[RNi/t]の範囲には前記個数分布のピークが存在せず、2<[RNi/t]の範囲にあるニッケルが1m当たり5×10個未満であることを特徴とする、表面処理金属板。
(2) 金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、前記皮膜の平均膜厚をt(μm)、ニッケルの粒径をRNi、ニッケルの個数分布のピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅をW20(μm)としたときに、前記個数分布のピークが0.5<[RNi/t]≦2の範囲に少なくとも存在し、前記個数分布のピークのW20が5以下であり、2<[RNi/t]の範囲には前記個数分布のピークが存在せず、2<[RNi/t]の範囲にあるニッケルが1m当たり5×10個未満であり、前記皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下存在していることを特徴とする、表面処理金属板。
(3) 前記個数分布のピークが1<[RNi/t]≦2の範囲に少なくとも存在することを特徴とする、(2)に記載の表面処理金属板。
(4)1<[RNi/t]≦2の範囲にあるニッケルの個数をNとし、RNi/t≦0.5の範囲にあるニッケルの個数をNとしたときに、前記表面処理金属板の皮膜中のニッケルは、15≦[N/N]≦100を満たすことを特徴とする、(1)〜(3)のいずれかに記載の表面処理金属板。
(5) 前記表面処理金属板の皮膜中の1<[RNi/t]を満たすニッケルが、1m当たり1×10個以上5×1010個以下であることを特徴とする、(1)〜(4)のいずれかに記載の表面処理金属板。
(6) 前記表面処理金属板の皮膜中の1<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが、半径1mmの円内に少なくとも5個存在することを特徴とする、(1)〜(5)のいずれかに記載の表面処理金属板。
(7) 前記金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、皮膜中粒状Niの個数分布のピークが2つ存在し、大粒径側のニッケルのピーク粒径Rplと小粒径側のニッケルのピーク粒径Rps、ピーク粒径Rplのニッケルの個数をn、ピーク粒径Rplのニッケルの個数をnとしたときに、大粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が5以下、小粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が1.5以下であり、0.15≦[Rps/Rpl]≦0.4、15≦[n/n]≦100、を満たすことを特徴とする(2)に記載の表面処理金属板。
(8) 前記大粒径側のニッケルのピーク粒径Rplが6μm以下であることを特徴とする、(1)〜(7)のいずれかに記載の表面処理金属板。
(9) 前記表面処理金属板の皮膜を有する面を80℃以上200℃以下の所定の温度で測定した波数600〜3000cm−1の領域における赤外線全放射率が、0.70以上であることを特徴とする、(1)〜(8)のいずれかに記載の表面処理金属板。
(10) 前記表面処理金属板の皮膜が、さらにカーボンブラックを含有することを特徴とする、(1)〜(9)のいずれかに記載の表面処理金属板。
(11) 前記表面処理金属板の皮膜が、さらにワックスを含有することを特徴とする、(1)〜(10)のいずれかに記載の表面処理金属板。
(12) (1)〜(11)のいずれかに記載の表面処理金属板を部材として用いて成る電子機器筐体。
(1) In a surface-treated metal plate having a coating containing granular nickel on one side or both sides of the metal plate, the average film thickness of the coating is t (μm), the particle size of nickel is R Ni , and the number distribution of nickel The number distribution peak exists at least in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 when the distribution width of the 20% frequency level when the peak height is 100% is W 20 (μm). and, wherein the number distribution W 20 peak is 5 or less, in the range of 2 <[R Ni / t] does not exist a peak of the number distribution in the range of 2 <[R Ni / t] A surface-treated metal sheet, wherein the number of nickel is less than 5 × 10 9 per m 2 .
(2) In a surface-treated metal plate having a coating containing granular nickel on one or both sides of the metal plate, the average film thickness of the coating is t (μm), the nickel particle size is R Ni , and the number distribution of nickel The peak of the number distribution falls within the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 when the distribution width of the 20% frequency level when the peak height is 100% is W 20 (μm). present at least, the is a W 20 of the peak of the number distribution of 5 or less, 2 <in the range of [R Ni / t] does not exist a peak of the number distribution, the range of 2 <[R Ni / t] The number of nickel in the film is less than 5 × 10 9 per m 2 , and the nickel satisfying 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 on the surface of the film is 1 × 10 9 or more and 9 × 10 10 per m 2. A surface-treated metal sheet, characterized in that:
(3) The surface-treated metal sheet according to (2), wherein the peak of the number distribution exists at least in a range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2.
(4) When the number of nickel in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 is N 1 and the number of nickel in the range of R Ni /t≦0.5 is N s , the surface The surface-treated metal plate according to any one of (1) to (3), wherein the nickel in the film of the treated metal plate satisfies 15 ≦ [N s / N 1 ] ≦ 100.
(5) The nickel satisfying 1 <[R Ni / t] in the film of the surface-treated metal plate is 1 × 10 9 or more and 5 × 10 10 or less per 1 m 2 (1 The surface-treated metal plate according to any one of (4) to (4).
(6) Nickel satisfying 1 <[R Ni / t] ≦ 2 in the film of the surface-treated metal plate is present in a circle having a radius of 1 mm, (1) to (5 The surface-treated metal plate according to any one of 1).
(7) In the surface-treated metal plate having a coating containing granular nickel on one or both sides of the metal plate, there are two peaks of the number distribution of granular Ni in the coating, and the nickel peak particles on the large particle size side When the diameter R pl and the peak particle diameter R ps of nickel on the small particle diameter side, the number of nickel in the peak particle diameter R pl is n l , and the number of nickel in the peak particle diameter R pl is n s , the large particle diameter side W 20 peak number distribution of nickel of 5 or less, W 20 of the peak of the number distribution of nickel particle diameter is 1.5 or less, 0.15 ≦ [R ps / R pl] ≦ 0 .4,15 ≦ surface-treated metal sheet according to [n s / n l] ≦ 100, and satisfies the (2).
(8) The surface-treated metal plate according to any one of (1) to (7), wherein a peak particle size R pl of nickel on the large particle size side is 6 μm or less.
(9) The infrared total emissivity in the region of wave number 600 to 3000 cm −1 measured on the surface having the film of the surface-treated metal plate at a predetermined temperature of 80 ° C. or more and 200 ° C. or less is 0.70 or more. The surface-treated metal plate according to any one of (1) to (8), which is characterized.
(10) The surface-treated metal sheet according to any one of (1) to (9), wherein the film of the surface-treated metal sheet further contains carbon black.
(11) The surface-treated metal plate according to any one of (1) to (10), wherein the film of the surface-treated metal plate further contains a wax.
(12) An electronic device housing using the surface-treated metal plate according to any one of (1) to (11) as a member.

本発明により、筐体の材料として用いた場合に、接合部の電磁波シールド性に優れた表面処理金属板を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a surface-treated metal plate that is excellent in electromagnetic wave shielding properties at a joint when used as a material for a casing.

本発明の一実施形態に係る表面処理金属板のRNi/tと個数基準での相対粒子量との関係の例を表すグラフ図である。It is a graph showing the example of the relationship between RNi / t of the surface treatment metal plate which concerns on one Embodiment of this invention, and the relative particle amount on the number basis. 本発明の一実施形態に係る表面処理金属板のRNiと個数基準での相対粒子量との関係の例を表すグラフ図である。It is a graph showing an example of the relationship between the relative particle amount in R Ni and number-based surface-treated metal sheet according to an embodiment of the present invention. 従来の表面処理金属板のRNi/tと個数基準での相対粒子量との関係の例を表すグラフ図である。It is a graph showing the example of the relationship between RNi / t of the conventional surface treatment metal plate, and the relative particle amount on the number basis. 従来の表面処理金属板のRNiと個数基準での相対粒子量との関係の例を表すグラフ図である。It is a graph showing the example of the relationship between RNi of the conventional surface treatment metal plate, and the relative particle amount on the number basis. 本発明の一実施形態に係る表面処理金属板のRNi/tと個数基準での相対粒子量との関係の例を表すグラフ図である。It is a graph showing the example of the relationship between RNi / t of the surface treatment metal plate which concerns on one Embodiment of this invention, and the relative particle amount on the number basis. 本発明の一実施形態に係る表面処理金属板のRNiと個数基準での相対粒子量との関係の例を表すグラフ図である。It is a graph showing an example of the relationship between the relative particle amount in R Ni and number-based surface-treated metal sheet according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施例における伝達インピーダンス測定に使用した測定装置の概略を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the outline of the measuring apparatus used for the transfer impedance measurement in one Example of this invention. 本発明の一実施例における摺動性試験に使用したドロービード試験機の概略を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the outline of the draw bead test machine used for the slidability test in one Example of this invention. 本発明の一実施例における摺動性試験に使用したドロービード試験機の凹面金型及び凸面金型の拡大概略断面図である。It is an expanded schematic sectional drawing of the concave mold and convex mold of the draw bead test machine used for the slidability test in one Example of this invention.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

電磁波シールド性の指標であるシールド効率SEは、伝達インピーダンスZtrにより下記の式(1)のごとく表記されるので(非特許文献2)、電子機器筐体の接合部における伝達インピーダンスを小さくすることで電磁波シールド性を向上するべく、この伝達インピーダンスを小さくする手法について本願発明者らは鋭意検討した。   Since the shield efficiency SE, which is an index of electromagnetic wave shielding properties, is expressed by the transfer impedance Ztr as shown in the following formula (1) (Non-Patent Document 2), by reducing the transfer impedance at the junction of the electronic device casing: In order to improve the electromagnetic wave shielding property, the inventors of the present application diligently studied a method for reducing the transfer impedance.

SE=k・Zw/Ztr ・・・式(1)
SE:電磁波シールド効果、k:比例定数、
Zw:空間インピーダンス、Ztr:伝達インピーダンス
SE = k · Zw / Ztr (1)
SE: electromagnetic wave shielding effect, k: proportional constant,
Zw: spatial impedance, Ztr: transfer impedance

金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜が設けられた表面処理金属板は、皮膜の平均膜厚をt(μm)、ニッケルの粒径をRNi、ニッケルの個数分布のピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅をW20(μm)としたときに、個数分布のピークが1<[RNi/t]≦2の範囲にあり、且つ個数分布のピークのW20が5以下、且つ2<[RNi/t]の範囲には個数分布のピークを有さず、且つ2<[RNi/t]の範囲のニッケルが1m当たり5×10個未満であるものである。 The surface-treated metal plate provided with a coating containing granular nickel on one side or both sides of the metal plate has an average film thickness of t (μm), a nickel particle size of R Ni , and a nickel number distribution peak. The number distribution peak is in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 and the number distribution when the distribution width of the 20% frequency level when the height is 100% is W 20 (μm). peak W 20 5 or less, and 2 <in the range of [R Ni / t] no peak of number distribution, and 2 <[R Ni / t] range of nickel is 1 m 2 per 5 × of The number is less than 10 9 .

あるいは、金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜が設けられた表面処理金属板は、皮膜の平均膜厚をt(μm)、ニッケルの粒径をRNi、ニッケルの個数分布のピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅をW20(μm)としたときに、個数分布のピークが0.5<[RNi/t]≦2の範囲にあり、且つ、個数分布のピークのW20が5以下であり、且つ、2<[RNi/t]の範囲には個数分布のピークを有さず、且つ、2<[RNi/t]の範囲のニッケルが1m当たり5×10個未満であり、皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下存在しているものである。 Alternatively, the surface-treated metal plate provided with a coating containing granular nickel on one or both sides of the metal plate has an average film thickness of t (μm), a nickel particle size of R Ni , and a nickel number distribution. The number distribution peak is in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 when the distribution width of the 20% frequency level is W 20 (μm) when the peak height is 100%. and is a W 20 of the peak of the number distribution of 5 or less, and, 2 <in the range of [R Ni / t] no peak of number distribution, and, 2 <a [R Ni / t] The range of nickel is less than 5 × 10 9 per m 2 , and nickel satisfying 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 on the coating surface is 1 × 10 9 or more and 9 × 10 10 or less per m 2. It exists.

本発明に用いる導電性微粒子は、ニッケルである。ニッケルは、酸化し難いため、高温での塗膜の乾燥・硬化の際の導電性の低下が少ない。また、コストの面からも優れる。   The conductive fine particles used in the present invention is nickel. Since nickel is difficult to oxidize, there is little decrease in conductivity when the coating film is dried and cured at a high temperature. Moreover, it is excellent also in terms of cost.

ここで、本発明で着目している[RNi/t]という指標は、皮膜の平均膜厚に対するニッケル粒子の相対的な粒径を示すものである。[RNi/t]が1である場合は、ニッケル粒子の粒径が皮膜の平均膜厚に等しいことを表す。また、[RNi/t]が1未満である場合は、ニッケル粒子の粒径が皮膜の平均膜厚よりも小さいことを表し、[RNi/t]が1超過である場合は、ニッケル粒子の粒径が皮膜の平均膜厚よりも大きいことを表す。 Here, the index [R Ni / t] focused on in the present invention indicates the relative particle diameter of the nickel particles with respect to the average film thickness of the film. When [R Ni / t] is 1, it represents that the particle diameter of the nickel particles is equal to the average film thickness of the film. Further, when [R Ni / t] is less than 1, it represents that the particle diameter of the nickel particles is smaller than the average film thickness of the coating, and when [R Ni / t] is more than 1, the nickel particles It represents that the particle size of is larger than the average film thickness of the film.

1<[RNi/t]≦2のニッケルは、皮膜表面と金属板とが直接導通することができるため、低い伝達インピーダンスが得られ、またニッケルが適度に皮膜から突出しているため、表面の凹凸が小さく、摺動性も優れる。そのため、1<[RNi/t]≦2の範囲に粒度分布のピークが存在すると低い伝達インピーダンス及び優れた摺動性が得られる。 Since nickel of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 can directly connect the surface of the film and the metal plate, low transfer impedance is obtained, and nickel protrudes from the film appropriately. Unevenness is small and slidability is excellent. For this reason, when there is a particle size distribution peak in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2, low transfer impedance and excellent slidability can be obtained.

0.5<[RNi/t]≦2であり、皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下存在している場合、1<[RNi/t]≦2のニッケル粒子は、皮膜表面と金属板とが直接導通することができ、0.5<[RNi/t]<1のニッケル粒子は、表面のニッケル粒子の一部が皮膜中の複数のニッケル粒子を介して基材との導通経路を形成することにより、低い伝達インピーダンス及び優れた摺動性が得られ、また、いずれの場合にもニッケルが適度に皮膜から突出しているため、表面の凹凸が小さく、摺動性も優れる。そのため、0.5<[RNi/t]≦2の範囲に粒度分布のピークが存在するとともに、皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下存在している場合にも、低い伝達インピーダンス及び優れた摺動性が得られる。 0.5 <a [R Ni / t] ≦ 2 , there 0.5 <[R Ni / t] nickel satisfying ≦ 2 is 1 m 2 per 1 × 10 9 or more 9 × 10 10 or less on the film surface In this case, the nickel particles satisfying 1 <[R Ni / t] ≦ 2 can directly conduct the film surface and the metal plate, and the nickel particles satisfying 0.5 <[R Ni / t] <1 In addition, low transfer impedance and excellent slidability can be obtained by forming a conduction path with the base material via a plurality of nickel particles in the film, with some of the nickel particles on the surface, and in any case However, since nickel protrudes moderately from the film, the surface irregularities are small and the slidability is excellent. Therefore, 0.5 <[R Ni / t ] ≦ with exist peak of the particle size distribution in the second range, 0.5 to coating surface <[R Ni / t] nickel satisfying ≦ 2 is 1 m 2 per 1 × Even when there are 10 9 or more and 9 × 10 10 or less, low transfer impedance and excellent slidability can be obtained.

[RNi/t]≦0.5のニッケルは、皮膜表面と金属板とが導通するために介さなければならないニッケル間の界面が多すぎるために、伝達インピーダンスが高くなる恐れがある。一方、2<[RNi/t]のニッケルは、表面の凹凸が大きくなり易く、摺動性が劣る恐れがある。 Nickel with [R Ni /t]≦0.5 may have high transfer impedance because there are too many interfaces between nickel that must be interposed in order for the coating surface and the metal plate to conduct. On the other hand, nickel of 2 <[R Ni / t] tends to have large surface irregularities and may have poor slidability.

さらに、本発明に用いるニッケルの形態は、粒状である。ここで、粒状とは、粒子の最大径/最小径が2以下である形態のことをいう。また、1次粒子が粒状であれば、粒状粒子が複数連なった鎖状等の形態も粒状とみなす。   Furthermore, the form of nickel used in the present invention is granular. Here, granular means a form in which the maximum diameter / minimum diameter of the particles is 2 or less. In addition, if the primary particles are granular, a form such as a chain in which a plurality of granular particles are continuous is also regarded as granular.

ニッケルの形状を粒状に限定した理由は、粒状ニッケルの粒径と皮膜の厚さとの関係及び粒度分布を適正化することにより、安定して低い伝達インピーダンスが得られることを見出したためである。   The reason for limiting the shape of nickel to granular is that it has been found that a low transfer impedance can be stably obtained by optimizing the relationship between the particle size of granular nickel and the thickness of the coating and the particle size distribution.

次に、ニッケルの粒度分布について述べる。粒子の粒径を定義する場合、従来においては、単純に平均粒径という概念が用いられていた。これは、各粒子の粒径を、単純に算出計算して求められたものである。しかし、一般に工業的に製造されている粒子、特に平均粒径が数μmレベルの微小粒子、における粒径分布は、粒径の大きい方の粒子がより多く存在し、大粒径側にテールを形成する分布となる傾向にあるため、正規分布とはならない。その為、皮膜に含有させる導電性粒子の粒径を単純な平均粒径を定義しただけでは、安定した伝達インピーダンスを得ることは出来ない。そこで、本願発明者らは、安定した伝達インピーダンスを得るために最適な粒状ニッケルの粒径と皮膜の厚さとの関係及び粒度分布について検討を行い、粒径の単純な平均ではなく、粒度分布が重要であることを見出した。   Next, the particle size distribution of nickel will be described. In defining the particle size of the particles, conventionally, the concept of simply the average particle size has been used. This is obtained by simply calculating and calculating the particle size of each particle. However, the particle size distribution of industrially produced particles, particularly microparticles with an average particle size of several μm, is larger in size, and the tail is on the larger particle size side. Since the distribution tends to be formed, it is not a normal distribution. Therefore, a stable transfer impedance cannot be obtained simply by defining the average particle size of the conductive particles contained in the film. Therefore, the inventors of the present application have examined the relationship between the particle diameter of the optimal granular nickel and the thickness of the film and the particle size distribution in order to obtain a stable transfer impedance, and the particle size distribution is not a simple average of the particle diameters. I found it important.

すなわち、皮膜中のNi粒子について、粒径を測定し、その粒径を持つ粒子の数を数え、横軸を粒径/膜厚とし、縦軸を粒子数(例えば相対粒子量)とした粒度分布グラフを作成した際に、個数分布のピークが例えば図1に示したように0.5<[RNi/t]≦2の範囲にあり、且つ、例えば図2に示したように、横軸を粒径とし、縦軸を粒子数とした粒度分布のグラフにおける個数分布のピークのW20が5以下であり、且つ、2<[RNi/t]の範囲には個数分布のピークを有さず、且つ、2<[RNi/t]の範囲のニッケルが1m当たり5×10個未満であり、皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下である条件を満足する皮膜は、伝達インピーダンスが低く、且つ、その他の性能とのバランスもとれる。なお、W20は、例えば図2に示したような、横軸を粒径、縦軸を粒子数の粒度分布グラフを作成した時のピークの高さを100%とした際の20%度数レベルの分布幅である。 That is, for the Ni particles in the film, the particle size is measured, the number of particles having the particle size is counted, the horizontal axis is the particle size / film thickness, and the vertical axis is the number of particles (for example, relative particle amount). When the distribution graph is created, the number distribution peak is in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 as shown in FIG. 1, for example, and for example, as shown in FIG. The number distribution peak W 20 in the particle size distribution graph with the axis as the particle size and the vertical axis as the number of particles is 5 or less, and the number distribution peak is in the range of 2 <[R Ni / t]. The nickel in the range of 2 <[R Ni / t] is less than 5 × 10 9 per m 2 , and the surface of the coating satisfies 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2. film satisfying 1 m 2 per 1 × 10 9 or more 9 × 10 10 or less at a condition, the transfer Inpi Dance is low, and, take the balance of the other performance. Incidentally, W 20, for example as shown in FIG. 2, the particle size of the horizontal axis, vertical axis number of particles of the particle size distribution of 20% power level at which the height of the peak of the time of the preparation was defined as 100% graph The distribution width of.

ここで、本願発明の0.5<[RNi/t]≦2の範囲における粒度分布のピークは、基本的にひとつであることを想定しているが、複数のピークが重なり合って存在する場合も生じうる。この際、重なり合ったピークの同士の交点が存在する場合には、交点が基準となるピーク(最も高いピーク)のピーク高さの70%以上の位置であれば、これらを1つのピークと見なしてW20を算出し、それぞれのピーク粒径の平均粒径をピーク粒径とする。また、交点がピーク高さの70%未満の位置である場合には、それぞれのピークは交点から垂直に線を引いた形状をしていると見なしてW20を算出する。こうして得られたW20が5以下であれば本発明の条件を満たし、伝達インピーダンスが低く、且つ、その他の性能とのバランスもとれる。 Here, it is assumed that there is basically one particle size distribution peak in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 according to the present invention, but a plurality of peaks are overlapped. Can also occur. At this time, if there is an intersection of overlapping peaks, if the intersection is at a position that is 70% or more of the peak height of the reference peak (the highest peak), these are regarded as one peak. W 20 is calculated, and the average particle size of each peak particle size is defined as the peak particle size. If the intersection is a position less than 70% of the peak height, W 20 is calculated assuming that each peak has a shape in which a line is vertically drawn from the intersection. If W 20 thus obtained is 5 or less satisfied the conditions of the present invention, low transfer impedance, and, take the balance with other performances.

しかし、例えば図3および図4に示したように0.5<[RNi/t]≦2の範囲の個数分布のピークの粒度分布が広い、もしくは2<[RNi/t]の範囲にピークが存在すると、0.5<[RNi/t]≦2の範囲の個数分布のピーク粒径より大きい粒径のニッケルが多く存在することになる。その場合、大きい粒子のみが導通に寄与するため導通点が少なくなり、伝達インピーダンスが上昇する。その上、さらに表面の凹凸が大きくなり、摺動性も劣下する。 However, for example, as shown in FIGS. 3 and 4, the particle size distribution of the number distribution peak in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 is wide, or in the range of 2 <[R Ni / t]. When the peak exists, a large amount of nickel having a particle size larger than the peak particle size of the number distribution in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 exists. In that case, only large particles contribute to conduction, so the number of conduction points decreases, and the transfer impedance increases. In addition, the unevenness of the surface is further increased, and the slidability is also deteriorated.

そのため、0.5<[RNi/t]≦2の範囲に個数分布のピークを有し、且つ、そのピークのW20が5以下、且つ、2<[RNi/t]の範囲に前記個数分布のピークを有さず、且つ、2<[RNi/t]の範囲のニッケルが1m当たり5×10個未満であり、皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下であるものは、特に性能が良好である。1<[RNi/t]≦2のニッケルは直接導通できるため、1<[RNi/t]≦2の範囲に個数分布のピークを有すことがより好ましい。W20は3.5以下がより好ましい。2<RNi/tの範囲のニッケルが、1m当たり2×10個未満であるものがより好ましい。また、4<RNi/tの範囲のニッケルは著しく性能を低下させるため、皮膜中に含まないことがより好ましい。 Therefore, it has a number distribution peak in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2, the peak W 20 is 5 or less, and 2 <[R Ni / t] There is no number distribution peak and the number of nickel in the range of 2 <[R Ni / t] is less than 5 × 10 9 per m 2 , and 0.5 <[R Ni / t] ≦ When nickel satisfying 2 is 1 × 10 9 or more and 9 × 10 10 or less per 1 m 2 , the performance is particularly good. Since nickel of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 can directly conduct, it is more preferable to have a number distribution peak in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2. W 20 is more preferably 3.5 or less. More preferably, the nickel in the range of 2 <R Ni / t is less than 2 × 10 9 per m 2 . Moreover, since nickel in the range of 4 <R Ni / t remarkably deteriorates performance, it is more preferable not to include it in the film.

個数分布を調べる際には、粒径の個数測定範囲を0.05μmとしてデータを採取することが望ましい。粒度分布は、塗膜の断面の2次電子像を撮影し、粒子の粒径を実測することにより求めることができる。0.5<[RNi/t]≦2の範囲にピーク同士の交点が存在する場合、交点がピーク高さの70%以上の位置であれば、1つのピークと見なしW20を算出し、それぞれのピーク粒径の平均粒径を、ピーク粒径とする。交点がピーク高さの70%未満の位置であれば、それぞれのピークは交点から垂直に線を引いた形状をしているとみなし、W20を算出する。 When examining the number distribution, it is desirable to collect data by setting the particle size number measurement range to 0.05 μm. The particle size distribution can be obtained by taking a secondary electron image of the cross section of the coating film and actually measuring the particle size of the particles. When the intersection of peaks exists in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2, if the intersection is a position of 70% or more of the peak height, it is regarded as one peak and W 20 is calculated. The average particle size of each peak particle size is defined as the peak particle size. If the intersection is a position that is less than 70% of the peak height, each peak is regarded as having a shape with a line drawn perpendicularly from the intersection, and W 20 is calculated.

尚、0.5<[RNi/t]≦2の範囲に複数のピークを有す場合、小粒径側のニッケルが導通に寄与しにくくなる、もしくはニッケルが効率的に配列しにくくなり、導通点が少なくなりやすいため、0.5<[RNi/t]≦2の範囲の粒度分布のピークは1つであることがより好ましい。 In addition, when there are a plurality of peaks in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2, nickel on the small particle diameter side is less likely to contribute to conduction, or nickel is less likely to be arranged efficiently, Since the conduction point tends to decrease, it is more preferable that the particle size distribution has a single peak in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2.

1m当たりの2<[RNi/t]の範囲のニッケルの個数及び1m当たりの皮膜表面の0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルの個数は、塗膜の表面の2次電子像を撮影し、粒径を実測し、その数を数えることにより求めることができる。 2 per 1 m 2 <0.5 <number of nickel that meets the [R Ni / t] ≦ 2 of [R Ni / t] range of the number of nickel and 1 m 2 per film surface of the surface of the coating film It can be obtained by taking a secondary electron image, measuring the particle diameter, and counting the number.

さらに、発明者らは、1<[RNi/t]≦2の範囲のニッケルの個数をNとし、RNi/t≦0.5の範囲のニッケルの個数をNとしたときに、例えば図5に示したように、15≦[N/N]≦100を満たすことにより、更に低い伝達インピーダンスを得ることができることを見出した。これは、RNi/t≦0.5のニッケルが1<[RNi/t]≦2のニッケルと金属板とを結ぶように存在することにより、導通経路が増し、より低い伝達インピーダンスを得ることができるためである。また、RNi/t≦0.5を満たすニッケルは、表面の凹凸にほとんど影響を与えないため、摺動性にほとんど影響しない。N/N<15では、RNi/t≦0.5の範囲のニッケルが1<[RNi/t]≦2の範囲のニッケルに対して少なくなるため、1<[RNi/t]≦2の範囲のニッケルと金属板を結びにくくなる。また、N/N>100では、RNi/t≦0.5の範囲のニッケルが1<[RNi/t]≦2の範囲のニッケルに対して多すぎるため、低い伝達インピーダンスと良好な摺動性を両立しにくくなる恐れがある。 Furthermore, the inventors have defined that the number of nickel in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 is N 1 and the number of nickel in the range of R Ni /t≦0.5 is N s , For example, as shown in FIG. 5, it has been found that a lower transfer impedance can be obtained by satisfying 15 ≦ [N s / N l ] ≦ 100. This is because the presence of nickel of R Ni /t≦0.5 connects the nickel of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 and the metal plate, thereby increasing the conduction path and obtaining a lower transfer impedance. Because it can. Further, nickel satisfying R Ni /t≦0.5 has little influence on the surface unevenness, and therefore hardly affects the slidability. When N s / N l <15, nickel in the range of R Ni /t≦0.5 is less than nickel in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2, so 1 <[R Ni / t ] It is difficult to tie nickel in the range of ≦ 2 and the metal plate. In addition, when N s / N l > 100, nickel in the range of R Ni /t≦0.5 is too much for nickel in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2, so that low transfer impedance and good It may be difficult to achieve both good slidability.

本発明に係る皮膜中の1<[RNi/t]≦2を満たすニッケルは、1m当たり1×10個以上5×1010個以下であることであることが好ましい。1<[RNi/t]を満たすニッケルが1m当たり1×10個より少ないと、導通点の数が不足し、伝達インピーダンスが高くなる恐れがある。一方、1<[RNi/t]を満たすニッケルが1m当たり5×1010個を超えると、皮膜が脆くなるために、皮膜の耐衝撃性が低下したり、また、バインダー樹脂や潤滑剤等の相対的な割合が減少するために、深絞り成形時の摺動性が低下したりする等、皮膜の特性が低下する恐れがある。 The nickel satisfying 1 <[R Ni / t] ≦ 2 in the coating according to the present invention is preferably 1 × 10 9 or more and 5 × 10 10 or less per 1 m 2 . If the number of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] is less than 1 × 10 9 per 1 m 2 , the number of conduction points may be insufficient and the transfer impedance may be increased. On the other hand, when the number of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] exceeds 5 × 10 10 per 1 m 2 , the film becomes brittle, so that the impact resistance of the film is reduced, and the binder resin or lubricant is used. Since the relative ratio of the above and the like is reduced, there is a possibility that the characteristics of the film may be deteriorated, for example, the slidability at the time of deep drawing is lowered.

本発明に係る皮膜中の1<[RNi/t]を満たすニッケルは、半径1mmの範囲に少なくとも5個以上存在することが好ましい。半径1mmの範囲に1<[RNi/t]を満たすニッケルが5個より少ない部分が存在する場合、その部分の伝達インピーダンスが著しく高くなり、皮膜全体としても伝達インピーダンスが高くなってしまう恐れがある。 The nickel satisfying 1 <[R Ni / t] in the coating according to the present invention is preferably present at least 5 or more in a radius of 1 mm. If there are less than 5 nickel parts satisfying 1 <[R Ni / t] in the radius range of 1 mm, the transfer impedance of the part becomes remarkably high, and the transfer impedance may be increased as a whole film. is there.

また、本発明者らは、更なる検討の結果、金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、皮膜中粒状Niの個数分布のピークが2つ存在し、大粒径側のニッケルのピーク粒径Rplと小粒径側のニッケルのピーク粒径Rps、ピーク粒径Rplのニッケルの個数をn、ピーク粒径Rpsのニッケルの個数をnとしたときに、例えば図6に示したように、大粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が5以下、小粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が1.5以下であり、0.15≦[Rps/Rpl]≦0.4、15≦[n/n]≦100を満たすものも低い伝達インピーダンス及び優れた摺動性が得られることを見出した。 Further, as a result of further studies, the present inventors have found that there are two peaks of the number distribution of granular Ni in the film in the surface-treated metal sheet having a film containing granular nickel on one or both surfaces of the metal sheet. The peak particle size R pl of nickel on the large particle size side, the peak particle size R ps of nickel on the small particle size side, the number of nickel in the peak particle size R pl is n l , and the number of nickel in the peak particle size R ps is when the n s, as shown in FIG. 6, for example, following the peak of W 20 of the number distribution of nickel having a greater particle diameter is 5, W 20 of the peak of the number distribution of nickel particle diameter is 1 .5 or less, and those satisfying 0.15 ≦ [R ps / R pl ] ≦ 0.4 and 15 ≦ [n s / n l ] ≦ 100 should have low transmission impedance and excellent slidability I found.

これは、大粒径側のニッケル間、大粒径側のニッケルと金属板、大粒径側のニッケルと表面とを結ぶように小粒径側のニッケルが存在し、更には、その粒度分布を大粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が5以下、小粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が1.5以下であり、0.15≦Rps/Rpl≦0.4、15≦[n/n]≦100を満たすようにコントロールすることにより、安定的に導通経路が得られるためである。 This is because there is nickel on the small particle size side to connect the nickel on the large particle size side and the metal plate, nickel on the large particle size side and the surface between the nickel on the large particle size side, and the particle size distribution. the large peaks of W 20 of the number distribution of the nickel diameter is 5 or less, W 20 of the peak of the number distribution of nickel particle diameter is 1.5 or less, 0.15 ≦ R ps / R pl This is because a conduction path can be stably obtained by controlling so as to satisfy ≦ 0.4 and 15 ≦ [n s / n 1 ] ≦ 100.

粒度分布を大粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が5を超える場合、小粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が1.5を超える場合、[Rps/Rpl]が0.15より小さい場合、[Rps/Rpl]が0.4を超える場合、安定的に導通経路が得ることが困難となり、伝達インピーダンスが高くなるため不適である。また、n/n<15では、小粒径側のニッケルが大粒径側のニッケルに対して少なくなるため、大粒径側のニッケル間、大粒径側のニッケルと金属板、大粒径側のニッケルと表面とを結ぶことが困難となり、伝達インピーダンスが高くなるため不適である。また、[n/n]>100では、小粒径側のニッケルが大粒径側のニッケルに対して多すぎるため、導通経路を確保しにくくなり、伝達インピーダンスが高くなるため不適である。 If W 20 peak number distribution of nickel having a greater particle diameter of the particle size distribution is more than 5, if the W 20 of the peak of the number distribution of nickel smaller particle size side is more than 1.5, [R ps / R When [pl ] is less than 0.15, [R ps / R pl ] exceeds 0.4, it is difficult to obtain a stable conduction path and the transfer impedance becomes high, which is not suitable. In addition, when n s / n l <15, the nickel on the small particle size side is smaller than the nickel on the large particle size side. It is not suitable because it is difficult to connect the nickel on the particle size side to the surface and the transfer impedance becomes high. [N s / n l ]> 100 is not suitable because there is too much nickel on the small particle size side compared to nickel on the large particle size side, making it difficult to secure a conduction path and high transfer impedance. .

plは、6μm以下であることが好ましい。Rplが6μmを超えると、塗料中でニッケルが沈降しやすくなりNi粒子の分散状態を安定して保持する事が困難となるため、例えば、ロールコーターで塗装する際の、塗装性等が劣る恐れがある。 R pl is preferably 6 μm or less. When R pl exceeds 6 μm, nickel tends to settle in the paint and it becomes difficult to stably maintain the dispersed state of Ni particles. For example, paintability when coated with a roll coater is poor. There is a fear.

本発明に係る皮膜の膜厚は、例えば、0.8〜10μmが好ましい。0.8μm未満では、加工時に皮膜が破断し易くなるので、好ましくない。また、10μmを超えると、製造コストの面からも好ましくない。   The film thickness of the film according to the present invention is preferably, for example, 0.8 to 10 μm. If the thickness is less than 0.8 μm, the film tends to break during processing, which is not preferable. Moreover, when it exceeds 10 micrometers, it is unpreferable also from the surface of manufacturing cost.

表面処理金属板の皮膜を有する面を80℃以上200℃以下の所定の温度で測定した波数600〜3000cm−1の領域における赤外線全放射率を0.70以上とすると、放熱性も付与することができ、より好適である。 If the total infrared emissivity in the region of wave number 600 to 3000 cm −1 measured at a predetermined temperature of 80 ° C. or higher and 200 ° C. or lower on the surface having the coating film of the surface-treated metal plate is 0.70 or higher, heat dissipation is also provided. This is more preferable.

波数600cm−1未満、もしくは、3000cm−1超の波数領域の放射線吸収は、筐体外板の熱に与える影響が非常に小さいため、これらの波数領域の放射線を含めた放射率は好ましくない。また、波数600〜3000cm−1の領域における赤外線全放射率が0.70未満の熱吸収性皮膜層を被覆した場合は、筐体内における温度低下効果が小さいため、放熱性付与効果は小さい。放熱性を付与する方法は特に問わないが、例えば、カーボンブラックを導電性皮膜中に含有させる方法が好ましい。カーボンブラックは、放熱性を付与するとともに、上記のように伝達インピーダンスの低下にも効果があるためである。この際、カーボンブラックは、塗料中の樹脂固形分100質量部に対して、例えば、10〜30質量部程度含有させることが好ましい。含有量が10質量部未満であると皮膜の熱吸収性が低くなり放射率が0.70未満となる可能性があり、また伝達インピーダンスの低下が見られない可能性もある。また、含有量が30質量部超では、塗料の増粘が著しくなるなど、貯蔵安定性が低下する恐れがある。また、コストの面からも好ましくない。 Since the radiation absorption in the wave number region of less than 600 cm −1 or more than 3000 cm −1 has a very small effect on the heat of the casing outer plate, the emissivity including radiation in these wave number regions is not preferable. Further, when a heat-absorbing film layer having an infrared total emissivity of less than 0.70 in the region of wave numbers of 600 to 3000 cm −1 is coated, the effect of imparting heat dissipation is small because the temperature lowering effect in the housing is small. The method for imparting heat dissipation is not particularly limited. For example, a method of incorporating carbon black in the conductive film is preferable. This is because carbon black imparts heat dissipation and is effective in lowering transfer impedance as described above. Under the present circumstances, it is preferable to contain about 10-30 mass parts of carbon black with respect to 100 mass parts of resin solid content in a coating material. If the content is less than 10 parts by mass, the heat absorbability of the film may be low, and the emissivity may be less than 0.70, and the transfer impedance may not be reduced. On the other hand, when the content exceeds 30 parts by mass, the storage stability may be deteriorated, for example, the viscosity of the paint becomes remarkably increased. Moreover, it is not preferable also from the surface of cost.

電子回路の高集積化によって、筐体内に電子部品が多く組み込まれるために、筐体の容量を上げる必要がある。そのため、筐体の金属板には深絞り成形性が求められており、摺動性に優れた皮膜が望ましい。そこで、本発明の導電性皮膜は、摺動性を改善することを目的に例えばワックスを含有しても構わない。ワックスの種類は特に問わないが、例えば、ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン等を使用することができる。この際、ワックスは、塗料中の樹脂固形分100質量部に対して、例えば、5〜15質量部程度含有させることが好ましい。含有量が5質量部未満であると、優れた摺動性を得られない可能性がある。また、含有量が15質量部超では、T曲げ加工性、密着性などの塗膜性能が低下する恐れがある。また、コストの面からも好ましくない。   Due to the high integration of electronic circuits, a large number of electronic components are incorporated in the housing, so that the capacity of the housing needs to be increased. For this reason, the metal plate of the casing is required to have deep drawability, and a film excellent in slidability is desirable. Therefore, the conductive film of the present invention may contain, for example, wax for the purpose of improving slidability. The type of wax is not particularly limited, and for example, polyethylene, polytetrafluoroethylene, or the like can be used. At this time, the wax is preferably contained in an amount of, for example, about 5 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content in the paint. If the content is less than 5 parts by mass, there is a possibility that excellent slidability cannot be obtained. On the other hand, if the content exceeds 15 parts by mass, the coating performance such as T-bending processability and adhesion may be deteriorated. Moreover, it is not preferable also from the surface of cost.

本発明の皮膜は、片面のみでも良いし、両面に塗布しても良く、必要に応じて適宜選ぶことができる。また、本発明の皮膜を片面に塗布し、他方の面には、着色塗膜、意匠性塗膜、他の機能を有する塗膜等を塗布すると、本発明の金属板の意匠性や機能性が高まるため、より好適である。   The film of the present invention may be applied to only one side or may be applied to both sides, and can be appropriately selected as necessary. In addition, when the coating of the present invention is applied on one side and a colored coating, a design coating, a coating having other functions, etc. are applied on the other side, the design and functionality of the metal plate of the present invention are applied. Is more preferable.

本発明の皮膜に用いるバインダーとしては、一般に公知のもの、例えば、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、塩化ビニル樹脂等を用いることができ、熱可塑タイプ、熱硬化タイプのいずれのタイプであってもよい。   As the binder used for the film of the present invention, generally known ones such as polyester resin, urethane resin, acrylic resin, epoxy resin, melamine resin, vinyl chloride resin and the like can be used. Thermoplastic type, thermosetting type Any type may be sufficient.

これらの樹脂は、必要に応じて数種のものを併用してもよい。これらの樹脂は、種類、樹脂の分子量、樹脂のガラス転移温度(Tg)によっても、皮膜の性能、例えば、加工性、加工密着性、皮膜硬度等が異なるため、特に規定するものではなく、必要に応じて適宜選定すれば良い。   These resins may be used in combination of several kinds as required. These resins are not particularly specified because the film performance, for example, processability, work adhesion, film hardness, and the like differ depending on the type, molecular weight of the resin, and glass transition temperature (Tg) of the resin. Appropriate selection may be made according to the above.

また、架橋剤を用いて硬化させるタイプの樹脂は、架橋剤の種類や添加量、架橋反応時の触媒の種類や触媒添加量によっても、皮膜の性能、例えば、加工性、加工密着性、皮膜硬度等が異なるため、特に規定するものではなく、必要に応じて適宜選定すれば良い。   In addition, the type of resin that is cured using a cross-linking agent depends on the type and addition amount of the cross-linking agent and the type and amount of catalyst added during the cross-linking reaction. Since hardness etc. differ, it does not prescribe | regulate in particular, What is necessary is just to select suitably as needed.

これらの樹脂は、固体のものを熱溶融したり、有機溶剤に溶解して用いたり、粉砕して粉体にして用いたりすることができる。また、水溶性のものや、水分散したエマルジョンタイプのものでもよい。更には、紫外線(UV)硬化タイプや電子線(EB)硬化タイプのものでもよい。これらは、いずれも市販のタイプのものを使用することができる。   These resins can be used by melting a solid one by heat, dissolving it in an organic solvent, or pulverizing it into a powder. Further, it may be water-soluble or water-dispersed emulsion type. Furthermore, an ultraviolet (UV) curing type or an electron beam (EB) curing type may be used. Any of these commercially available types can be used.

本発明者らがこれまでに得た知見によれば、本発明の表面処理金属板をプレコート金属板として製造した後に、切断、加工、組立を行う場合は、バインダーとして、例えば、溶剤系のメラミン硬化型ポリエスエル系、溶剤系のイソシアネート硬化型ポリエステル系等が好適である。ポリエステル樹脂のTgは−10〜70℃が好適である。ポリエステル樹脂のTgが−10℃未満では、皮膜が成膜しない恐れがあり、70℃超では、皮膜が硬過ぎるため、加工性が低下する恐れがある。   According to the knowledge obtained by the present inventors so far, when the surface-treated metal plate of the present invention is produced as a pre-coated metal plate and then cut, processed and assembled, as a binder, for example, a solvent-based melamine A curable polyester system, a solvent-based isocyanate curable polyester system, and the like are suitable. The Tg of the polyester resin is preferably -10 to 70 ° C. If the Tg of the polyester resin is less than −10 ° C., the film may not be formed, and if it exceeds 70 ° C., the film is too hard and the workability may be reduced.

本発明の皮膜中には、必要に応じて、着色顔料、防錆顔料及び防錆剤を併用して添加することができる。着色顔料としては、例えば、酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ジリコニウム(ZrO)、炭酸カルシウム(CaCO)、硫酸バリウム(BaSO)、アルミナ(Al)、カオリンクレー、等の無機顔料や、有機顔料、等の一般に公知の着色顔料を使用できる。また、防錆顔料については、例えば、ストロンチウムクロメート、カルシウムクロメート等の一般に公知のクロム系防錆顔料や、リン酸亜鉛、亜リン酸亜鉛、リン酸アルミ、亜リン酸アルミ、モリブデン酸塩、リン酸モリブデン酸塩、バナジン酸/リン酸混合顔料、シリカ、カルシウムシリケートと呼ばれるCaを吸着させたタイプのシリカ等の一般に公知の非クロム系の防錆顔料及び防錆剤を使用できる。 In the film of the present invention, a color pigment, a rust preventive pigment and a rust preventive agent can be used in combination as required. Examples of the color pigment include titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO 2 ), calcium carbonate (CaCO 3 ), barium sulfate (BaSO 4 ), alumina (Al 2 O 3 ), and kaolin. Generally known color pigments such as inorganic pigments such as clay and organic pigments can be used. As for the rust preventive pigment, for example, commonly known chromium rust preventive pigments such as strontium chromate and calcium chromate, zinc phosphate, zinc phosphite, aluminum phosphate, aluminum phosphite, molybdate, phosphorus Generally known non-chromium rust preventive pigments and rust preventives such as acid molybdate, vanadic acid / phosphoric acid mixed pigment, silica, and a type of silica adsorbed with Ca called calcium silicate can be used.

また、本発明の皮膜には、必要に応じて、一般に公知のレベリング剤、顔料分散剤等を添加することができる。これら添加剤の種類や添加量は、特に規定されるものではなく、必要に応じて適宜選定することができる。   Further, generally known leveling agents, pigment dispersants and the like can be added to the coating of the present invention as required. The type and amount of these additives are not particularly defined and can be appropriately selected as necessary.

本発明の皮膜を金属板表面に形成するためには、バインダーを含む皮膜成分を、一般に公知の塗料形態にして塗布することができる。例えば、塗料形態としては、樹脂を溶剤に溶解した溶剤系塗料、エマルジョン化した樹脂を水等に分散した水系塗料、樹脂を粉砕してパウダー化した粉体塗料、粉砕しパウダー化した樹脂を水等に分散させたスラリー粉体塗料、紫外線(UV)硬化型塗料、電子線(EB)硬化型塗料、樹脂をフィルム上にして貼り付けるフィルムラミネート、樹脂を溶融させてから塗布する形態等がある。塗布方法は、いずれも特に限定されず、一般に公知の塗装方法、例えば、ロール塗装、ローラーカーテン塗装、カーテンフロー塗装、エアースプレー塗装、エアーレススプレー塗装、刷毛塗り塗装、ダイコータ−塗装等が採用できるが、プレコート金属板として、予め導電性皮膜を金属板に被覆する場合は、ロール塗装、ローラーカーテン塗装、カーテンフロー塗装が好適である。   In order to form the film of the present invention on the surface of a metal plate, a film component containing a binder can be generally applied in the form of a known paint. For example, the paint forms include a solvent-based paint in which a resin is dissolved in a solvent, a water-based paint in which an emulsified resin is dispersed in water, a powder paint obtained by pulverizing a resin, and a pulverized and powdered resin in water. There are slurry powder coatings, ultraviolet (UV) curable coatings, electron beam (EB) curable coatings, film laminates that are applied with resin on the film, and forms that are applied after the resin is melted. . The coating method is not particularly limited, and generally known coating methods such as roll coating, roller curtain coating, curtain flow coating, air spray coating, airless spray coating, brush coating, and die coater coating can be employed. However, roll coating, roller curtain coating, and curtain flow coating are suitable when the conductive film is previously coated on the metal plate as the pre-coated metal plate.

なお、金属板に皮膜を被覆する前に、金属板の皮膜密着性を上げるため、金属板に化成処理を施すのが好ましい。この化成処理を施すと、皮膜の密着性や金属板の耐食性が向上し、より好適である。化成処理を施さなくても塗膜が密着すれば、塗装化成処理工程が省略できるのでより好適である。化成処理としては、一般に公知のもの、例えば、塗布クロメート処理、電解クロメート処理、リン酸亜鉛処理、ジルコニア系処理、チタニア系処理を使用することができる。また、近年、樹脂等の有機化合物をベースとしたノンクロメート化成処理も開発されているが、樹脂をベースとしたノンクロメート化成処理を用いると、環境への負荷が低減されるためより好適である。これらの化成処理の種類や付着量の違いによって、皮膜層の密着性や金属板の耐食性が大きく異なるので、必要に応じて適宜選定する必要がある。   In addition, before coating a metal plate with a film, it is preferable to subject the metal plate to a chemical conversion treatment in order to increase the film adhesion of the metal plate. When this chemical conversion treatment is performed, the adhesion of the film and the corrosion resistance of the metal plate are improved, which is more preferable. Even if the chemical conversion treatment is not performed, if the coating film adheres, the coating chemical conversion treatment step can be omitted, which is more preferable. As the chemical conversion treatment, generally known treatments such as coating chromate treatment, electrolytic chromate treatment, zinc phosphate treatment, zirconia treatment, and titania treatment can be used. In recent years, a non-chromate chemical conversion treatment based on an organic compound such as a resin has been developed. However, using a non-chromate chemical conversion treatment based on a resin is more preferable because it reduces the burden on the environment. . The adhesiveness of the coating layer and the corrosion resistance of the metal plate vary greatly depending on the type of chemical conversion treatment and the amount of adhesion, and therefore it is necessary to select them as necessary.

本発明の金属板は、一般に公知の金属材料を用いることができる。金属材料が合金材料であってもよい。例えば、鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板、アルミニウム合金板、マグネシウム合金板、チタン板、銅板等が挙げられる。これらの材料の表面には、めっきが施されていてもよい。   Generally a well-known metal material can be used for the metal plate of this invention. The metal material may be an alloy material. For example, a steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate, an aluminum alloy plate, a magnesium alloy plate, a titanium plate, a copper plate, etc. are mentioned. The surface of these materials may be plated.

めっきの種類としては、例えば、亜鉛めっき、アルミニウムめっき、銅めっき、ニッケルめっき等が挙げられる。これらの合金めっきであってもよい。鋼板の場合は、冷延鋼板、熱延鋼板、溶融亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛めっき鋼板、溶融合金化亜鉛めっき鋼板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム−亜鉛合金化めっき鋼板、ステンレス鋼板等、一般に公知の鋼板及びめっき鋼板を適用できる。   Examples of the type of plating include zinc plating, aluminum plating, copper plating, and nickel plating. These alloy platings may be used. In the case of steel plates, generally known steel plates such as cold-rolled steel plates, hot-rolled steel plates, hot-dip galvanized steel plates, electrogalvanized steel plates, hot-dip galvanized steel plates, aluminum-plated steel plates, aluminum-zinc alloyed steel plates, stainless steel plates, etc. And plated steel plate can be applied.

本発明の金属板は、電子機器の筐体部材として、より好ましい。本発明の金属材を少なくとも一部に適用可能な電子機器筐体としては、例えば、デスクトップPC、デジタルテレビ等のデジタル家電製品、複写機、さらにはカーナビゲーション、カーAV、エンジンルーム用電子機器、車載レーダー用筐体等のカーエレクトロニクス機器等が挙げられる。また、ノートPC、携帯電話などのモバイル製品用筐体の一部に本発明の金属材を用いてもよい。   The metal plate of this invention is more preferable as a housing member of an electronic device. Examples of the electronic device casing to which the metal material of the present invention can be applied at least in part include digital home appliances such as desktop PCs and digital TVs, copying machines, car navigation, car AV, engine room electronic devices, Car electronics equipment such as an in-vehicle radar housing. Further, the metal material of the present invention may be used for a part of a casing for a mobile product such as a notebook PC or a mobile phone.

以下、実験に用いたサンプル塗料の作製方法について詳細を説明する。   Hereinafter, the details of the method for producing the sample paint used in the experiment will be described.

(実施例1)
[塗料]
市販の有機溶剤可溶型/非晶性ポリエステル樹脂(以下、ポリエステル樹脂と称する。)である東洋紡績社製「バイロンTMGK140」(数平均分子量:13000、Tg:20℃)を有機溶剤(ソルベッソ150とシクロヘキサノンとを質量比で1:1に混合したもの)に溶解した。
(Example 1)
[paint]
“Byron TM GK140” (number average molecular weight: 13000, Tg: 20 ° C.) manufactured by Toyobo Co., Ltd., which is a commercially available organic solvent soluble type / amorphous polyester resin (hereinafter referred to as polyester resin), is used as an organic solvent (Solvesso). 150 and cyclohexanone mixed in a mass ratio of 1: 1).

次に、有機溶剤に溶解したポリエステル樹脂に、ポリエステル樹脂の固形分100質量部に対して市販のヘキサ−メトキシ−メチル化メラミンである三井サイテック社製の「サイメルTM303」を15質量部添加し、更に、市販の酸性触媒である三井サイテック社製の「キャタリスト6003B」を0.5質量部添加し、攪拌することで、メラミン硬化型ポリエステル系のクリアー塗料を得た。 Next, 15 parts by mass of “Cymel TM 303” manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., which is a commercially available hexa-methoxy-methylated melamine, is added to the polyester resin dissolved in the organic solvent with respect to 100 parts by mass of the solid content of the polyester resin. Further, 0.5 parts by mass of “Catalyst 6003B” manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., which is a commercially available acid catalyst, was added and stirred to obtain a melamine-curable polyester-based clear paint.

次に、作製したクリアー塗料に、以下の粒子を表1〜10に示すように添加して、サンプル塗料を作製した。   Next, the following particles were added to the prepared clear paint as shown in Tables 1 to 10 to prepare a sample paint.

[ニッケル粉]
本実施例に係るニッケル粉としては、INCO社製の「Inco Type123」「Inco Type255」「Inco Type287」「Inco Type110」「Inco Type210」「Inco Type210H」「Inco HDNP」を用いた。分級することによって、粒度分布を調整し使用した。粒度分布は、塗膜の断面の2次電子像を撮影し、粒子の粒径を実測することにより求めた。
[Nickel powder]
As the nickel powder according to this example, “Inco Type 123”, “Inco Type 255”, “Inco Type 287”, “Inco Type 110”, “Inco Type 210”, “Inco Type 210H” and “Inco HDNP” manufactured by INCO were used. The particle size distribution was adjusted and used by classification. The particle size distribution was determined by taking a secondary electron image of the cross section of the coating film and actually measuring the particle size of the particles.

[カーボンブラック]
本実施例に係るカーボンブラックとしては、東海カーボン社製カーボンブラック「トーカブラックTM#7350F」を使用した。
[Carbon black]
As the carbon black according to this example, carbon black “Toka Black # 7350F” manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd. was used.

[ポリテトラフルオロエチレン]
本実施例に係るポリテトラフルオロエチレンとしては、ダイキン社製のポリテトラフルオロエチレン粒子「ルブロン・L−5」を使用し、ワックスとして利用した。
[Polytetrafluoroethylene]
As polytetrafluoroethylene according to this example, polytetrafluoroethylene particles “Lublon L-5” manufactured by Daikin Co., Ltd. were used and used as wax.

以下、実験に用いたサンプル板の作製方法について、詳細を説明する。   Hereinafter, the details of the method for producing the sample plate used in the experiment will be described.

厚み0.5mmの市販の電気亜鉛めっき鋼板(亜鉛付着量:片面20g/m)を、市販のアルカリ脱脂剤である日本パーカライジング社製の「FC4336」を2質量%濃度に希釈した60℃温度の水溶液中にてアルカリ脱脂し、水洗後、乾燥した。次いで、脱脂した電気亜鉛めっき鋼板上にロールコーターにて市販のノンクロメート化成処理液である日本パーカライジング社製の「CT−E300」を塗布し、到達板温が60℃となるような条件で熱風乾燥させた。付着量は、全皮膜量として150mg/mとした。 A commercially available electrogalvanized steel sheet having a thickness of 0.5 mm (zinc adhesion amount: 20 g / m 2 on one side) was diluted to 2% by mass with “FC4336” manufactured by Nippon Parkerizing Co., Ltd., which is a commercially available alkaline degreasing agent, at a temperature of 60 ° C. The solution was alkali degreased in an aqueous solution, washed with water and dried. Next, “CT-E300” manufactured by Nihon Parkerizing Co., Ltd., which is a commercially available non-chromate chemical conversion treatment liquid, is applied on the degreased electrogalvanized steel sheet using a roll coater, and hot air is applied under conditions such that the ultimate plate temperature is 60 ° C. Dried. The adhesion amount was 150 mg / m 2 as the total film amount.

更に、化成処理を施した金属板上の表裏面それぞれに、作製した塗料を表1〜4に記載の膜厚に制御しつつ、ロールコーターにて塗装し、熱風を併用した誘導加熱炉にて乾燥硬化させた。乾燥硬化条件は、到達板温(PMT)で230℃とした。   Furthermore, on each of the front and back surfaces on the metal plate subjected to the chemical conversion treatment, the prepared paint was controlled with the film thickness described in Tables 1 to 4 while being coated with a roll coater, and in an induction heating furnace combined with hot air Dry cured. The drying and curing conditions were 230 ° C. at the ultimate plate temperature (PMT).

ニッケルの粒度分布は、各実施例の金属板より観察用の試験片を切りだして、樹脂に埋め込んだ後、塗膜の表面に垂直な断面を研磨により平滑に観察面として、走査型電子顕微鏡にて1000倍で撮影し、塗膜中のニッケルの粒径を実測することにより求めた。なお、粒径測定のための観察は各試験片について金属板と水平方向20mmの長さについて3箇所ずつ実施した。また、1m当たりの1<[RNi/t]を満たすニッケルの個数及び1m当たりの皮膜表面の0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルの個数は、試験片の塗膜表面3箇所を走査型電子顕微鏡にて1000倍で撮影し、各々の塗膜表面10mm角のニッケルの粒径を実測することにより求めた。なお、断面観察及び表面観察におけるニッケルの粒径は、各粒子の最大径と最小径の平均値とした。 The particle size distribution of nickel was obtained by cutting a specimen for observation from the metal plate of each example, embedding it in a resin, and then polishing the cross section perpendicular to the surface of the coating film as a smooth observation surface by polishing. The film was photographed at a magnification of 1000 times, and the particle diameter of nickel in the coating film was actually measured. In addition, the observation for a particle size measurement was implemented for each test piece 3 places each about the length of the metal plate and the horizontal direction 20 mm. Further, 1 <0.5 <number of nickel that meets the [R Ni / t] ≦ 2 of [R Ni / t] number of nickel satisfying and 1 m 2 per film surface per 1 m 2, the coating of the test piece Three locations on the surface of the film were photographed with a scanning electron microscope at a magnification of 1000 times, and each coating surface was determined by actually measuring the particle diameter of 10 mm square nickel. In addition, the particle diameter of nickel in cross-sectional observation and surface observation was an average value of the maximum diameter and the minimum diameter of each particle.

また、平均膜厚は、各実施例の金属板より観察用の試験片を切りだして、樹脂に埋め込んだ後、塗膜の表面に垂直な断面を研磨により平滑にして、走査型電子顕微鏡にて1000倍で撮影し、金属板と水平方向20mmの塗膜面積を画像解析処理により求め、塗膜面積を金属板と水平方向の長さで割ることにより求めた。測定は各サンプルとも3箇所ずつ実施し、その平均値を平均膜厚とした。   In addition, the average film thickness is obtained by cutting a specimen for observation from the metal plate of each example, embedding it in a resin, smoothing the cross section perpendicular to the surface of the coating film by polishing, and using a scanning electron microscope. The film area of the metal plate and 20 mm in the horizontal direction was obtained by image analysis, and the area of the paint film was divided by the length in the horizontal direction with the metal plate. Each sample was measured at three locations, and the average value was defined as the average film thickness.

以下、作製した表面処理金属板の評価試験について詳細を説明する。   Hereinafter, the details of the evaluation test of the produced surface-treated metal sheet will be described.

1) 伝達インピーダンスの測定
伝達インピーダンスは、測定治具として三菱電線工業製ZTR39Dを用いて測定した。本治具の詳細説明は、非特許文献3にある。供試材は、内径11mm、外径63mmの円盤状に打ち抜いて、治具に装着する。装着後の治具の断面図を、図7に示す。ZTR39Dは、元々上下の外部導体と中心にある内部導体を用いて、円盤状の試材を挟み込む構造となっているが、本検討では、有機樹脂を含有する皮膜の伝達インピーダンスをより正確に測定するために、内径20mm、外径60mmのリング状の導体(金めっきした銅製)を作製して、供試材の上面に配置し、供試材と導体の接触面積を広くした。また、供試材の裏面には厚さ3mmのテフロン板を配置し、裏面からの導通を防いだ。測定の再現性を高めるために、上下の外部導体をビス止めせずに、上側外部導体の自重のみで供試材を圧下した。このときの供試材表面における平均面圧は0.06MPaであった。治具を同軸ケーブルによりスペクトラムアナライザー(アドバンテスト社製、R3361A)に接続し、入力側電圧の周波数を30MHz〜1000MHzで掃引させ、出力側の電力を測定した。供試材を装着せずに治具をセットして測定された出力側電力P1を基準として、供試材がある場合の電力P2から、下式により、各周波数における伝達インピーダンスZtrを算出した。
1) Measurement of transfer impedance The transfer impedance was measured using ZTR39D made by Mitsubishi Electric Industries as a measurement jig. Detailed description of this jig is found in Non-Patent Document 3. The test material is punched into a disk shape having an inner diameter of 11 mm and an outer diameter of 63 mm, and is mounted on a jig. A cross-sectional view of the jig after mounting is shown in FIG. ZTR39D originally has a structure in which a disk-shaped sample is sandwiched between upper and lower outer conductors and a central inner conductor. In this study, the transfer impedance of a film containing organic resin is measured more accurately. For this purpose, a ring-shaped conductor (made of gold-plated copper) having an inner diameter of 20 mm and an outer diameter of 60 mm was prepared and placed on the upper surface of the test material, thereby widening the contact area between the test material and the conductor. In addition, a Teflon plate having a thickness of 3 mm was disposed on the back surface of the test material to prevent conduction from the back surface. In order to improve the reproducibility of the measurement, the test material was squeezed only by the weight of the upper outer conductor without screwing the upper and lower outer conductors. At this time, the average surface pressure on the surface of the test material was 0.06 MPa. The jig was connected to a spectrum analyzer (manufactured by Advantest, R3361A) with a coaxial cable, the frequency of the input side voltage was swept from 30 MHz to 1000 MHz, and the power on the output side was measured. The transfer impedance Z tr at each frequency was calculated from the power P2 when the test material was present, using the output side power P1 measured by setting the jig without mounting the test material as a reference, using the following formula. .

tr = 2×50×(P2/P1) Z tr = 2 × 50 × (P2 / P1)

(測定1)
1サンプルにつき5回行い、最高、最低を除く3データの平均を求めた。30〜1000MHzにおける、各々の平均値と標準サンプル(金めっきを施した銅板)の伝達インピーダンスとの差分により、以下のように評価した。この方法を測定1として評価結果を表1〜10に記す。
(Measurement 1)
Each sample was performed 5 times, and the average of 3 data excluding the highest and the lowest was obtained. Evaluation was performed as follows by the difference between each average value and the transfer impedance of the standard sample (copper plate plated with gold) at 30 to 1000 MHz. The evaluation results are shown in Tables 1 to 10 with this method as measurement 1.

評価基準は、以下の通りである。
◎ : 標準サンプルとの伝達インピーダンスの差が、30〜1000MHzの全範囲で0.2Ω未満
◎〜○: 標準サンプルとの伝達インピーダンスの差が、30〜1000MHzの全範囲で0.2Ω以上0.5Ω未満
○ : 標準サンプルとの伝達インピーダンスの差が、30〜1000MHzの全範囲で0.5Ω以上1.0Ω未満
△ : 標準サンプルとの伝達インピーダンスの差が、30〜1000MHzの全範囲で1.0Ω以上10Ω未満
× : 標準サンプルとの伝達インピーダンスの差が、30〜1000MHzの範囲で10Ωを超えることがある。
The evaluation criteria are as follows.
A: Transfer impedance difference with the standard sample is less than 0.2Ω in the entire range of 30 to 1000 MHz. A to O: Transfer impedance difference with the standard sample is 0.2Ω or more in the entire range of 30 to 1000 MHz. Less than 5Ω: The difference in transfer impedance with the standard sample is 0.5Ω or more and less than 1.0Ω in the entire range of 30 to 1000 MHz. Δ: The difference in transfer impedance with the standard sample is 1. in the entire range of 30 to 1000 MHz. 0Ω or more and less than 10Ω ×: The difference in transfer impedance from the standard sample may exceed 10Ω in the range of 30 to 1000 MHz.

(測定2)
一部の水準において、1サンプルにつき5回行い、最高、最低を除く3データの平均を求め、30MHzと500MHzの伝達インピーダンスを以下のように評価した。この方法を測定2として評価結果を表6,7,9,10に記す。
(Measurement 2)
At some levels, the measurement was performed 5 times per sample, the average of 3 data excluding the highest and lowest values was determined, and the transfer impedances at 30 MHz and 500 MHz were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Tables 6, 7, 9, and 10 with this method as measurement 2.

評価基準は、以下の通りである。
◎ : 0.5×10−4Ω未満
◎〜○: 0.5×10−4Ω以上10−4Ω未満
○ : 10−4Ω以上10−3Ω未満
△ : 10−3Ω以上10−2Ω未満
× : 10−2Ω以上
The evaluation criteria are as follows.
◎: Less than 0.5 × 10 −4 Ω to ○: 0.5 × 10 −4 Ω or more and less than 10 −4 Ω ○: 10 −4 Ω or more and less than 10 −3 Ω Δ: 10 −3 Ω or more 10 Less than 2 Ω x: 10 −2 Ω or more

2) 電磁波シールド性の評価
板厚3mmのAl板を溶接して一辺550mmの筐体を作成し、上面にのみ137mm×137mmの開口部を設けた。これを電波半無響室内に設置し、電磁波の基準発信源として、Schaffner社製コムジェネレーターを筐体内部に固定した後、周波数10MHz〜1000MHzまで10MHz間隔でパルス波を発信した。開口部周囲に、幅5mmのソフトガスケット(森宮電機製SGK5−1)を置いた。この上に150mm×150mmの供試金属板を載せた。筐体から水平方向に3m離れた地点に受信アンテナを配置し、これをスペクトラムアナライザーに接続することにより、筐体からの漏洩電磁波の信号強度を測定し、電界強度1μV/mを0dB(基準値)としてdBで表示した。測定は3回行い、得られた結果を平均して、VCCI規格値(情報技術装置クラスBの規格:30MHz〜230MHzでは40dB以下、230MHz〜1000MHzでは47dB以下)と比較した。
2) Evaluation of electromagnetic wave shielding property An aluminum plate having a thickness of 3 mm was welded to prepare a casing having a side of 550 mm, and an opening of 137 mm × 137 mm was provided only on the upper surface. This was installed in a radio semi-anechoic chamber, and a Schaffner comb generator was fixed inside the housing as an electromagnetic wave reference transmission source, and then a pulse wave was transmitted at a frequency of 10 MHz to 1000 MHz at intervals of 10 MHz. A soft gasket having a width of 5 mm (SGK5-1 manufactured by Morimiya Electric Co., Ltd.) was placed around the opening. A test metal plate of 150 mm × 150 mm was placed thereon. By placing a receiving antenna at a point 3 m away from the housing in the horizontal direction and connecting it to a spectrum analyzer, the signal strength of the electromagnetic wave leaking from the housing is measured, and the electric field strength of 1 μV / m is set to 0 dB (reference value). ) As dB. The measurement was performed three times, and the obtained results were averaged and compared with a VCCI standard value (standard of information technology apparatus class B: 40 dB or less for 30 MHz to 230 MHz, 47 dB or less for 230 MHz to 1000 MHz).

評価基準は、以下の通りである。
○: 30〜1000MHzにてVCCI規格値適合
×: 30〜1000MHzにてVCCI規格値不適合な測定値を認めた
The evaluation criteria are as follows.
○: VCCI standard value conformity at 30 to 1000 MHz ×: Measurement value not conforming to VCCI standard value was recognized at 30 to 1000 MHz

3) 放熱性
日本分光社製のフーリエ変換赤外分光光度計「VALOR−III」を用いて、作製した表面処理金属板の板温度を80℃にしたときの波数600〜3000cm−1の領域における赤外発光スペクトルを測定し、これを標準黒体の発光スペクトルと比較することで、表面処理金属板の全放射率を測定した。なお、標準黒体は、鉄板にタコスジャパン社販売(オキツモ社製造)の「THI−1B黒体スプレー」を30±2μmの膜厚でスプレー塗装したものを用いた。
3) Heat dissipation In a region of wave number 600 to 3000 cm −1 when the plate temperature of the produced surface-treated metal plate is 80 ° C. using a Fourier transform infrared spectrophotometer “VALOR-III” manufactured by JASCO Corporation. The total emissivity of the surface-treated metal plate was measured by measuring the infrared emission spectrum and comparing it with the emission spectrum of a standard black body. In addition, the standard black body used what spray-coated "THI-1B black body spray" with a film thickness of 30 +/- 2micrometer on the iron plate by Tacos Japan company manufacture (Okitsumo company manufacture).

評価基準は、以下の通りである。
◎ : 0.90以上
◎〜〇: 0.80以上0.90未満
〇 : 0.70以上0.80未満
△ : 0.50以上0.70未満
× : 0.50未満
The evaluation criteria are as follows.
◎: 0.90 or more ◎ ~ ○: 0.80 or more and less than 0.90 〇: 0.70 or more and less than 0.80 △: 0.50 or more and less than 0.70 ×: Less than 0.50

4) 摺動性
図8に示すドロービード試験機にて行った。図8において、11は両面に評価皮膜を施した試験片、12は凹面金型、3は凸面金型、4はロードセル、5は油圧シリンダである。図9は、図8のドロービード試験機の凹面金型及び凸面金型の拡大概略断面図である。図9に示すように、凸面のRは4mm、凹面のRは2mm、深さは6mm、幅は12mmである。
4) Sliding property It was carried out with a draw bead testing machine shown in FIG. In FIG. 8, 11 is a test piece having an evaluation film on both sides, 12 is a concave mold, 3 is a convex mold, 4 is a load cell, and 5 is a hydraulic cylinder. FIG. 9 is an enlarged schematic cross-sectional view of a concave mold and a convex mold of the draw bead testing machine of FIG. As shown in FIG. 9, the convex surface R is 4 mm, the concave surface R is 2 mm, the depth is 6 mm, and the width is 12 mm.

巾30mm、長さ300mmの試験片11を凹面金型12と凸面金型13の間に装着し、油圧シリンダ15で押し付け荷重P:1tで、試験片11を介して凸面金型13を凹面金型12に押し付け、試験片11を引き抜き速度:200mm/分で上方に引き抜く、ビード引き抜き試験を行い、その際の引き抜き荷重によって摺動性を測定した。   A test piece 11 having a width of 30 mm and a length of 300 mm is mounted between the concave mold 12 and the convex mold 13, and is pressed by the hydraulic cylinder 15 with a load P of 1 t, and the convex mold 13 is recessed via the test piece 11. The test piece 11 was pressed against the mold 12 and pulled upward at a pulling speed of 200 mm / min. A bead pulling test was performed, and the slidability was measured by the pulling load at that time.

評価基準は、以下の通りである。
◎ : 200kg未満
◎〜〇: 200kg以上250kg未満
〇 : 250kg以上350kg未満
△ : 350kg以上450kg未満
× : 450kg以上
The evaluation criteria are as follows.
◎: Less than 200 kg ◎ ~ ○: 200 kg or more and less than 250 kg 〇: 250 kg or more and less than 350 kg △: 350 kg or more and less than 450 kg ×: 450 kg or more

以下、評価結果の詳細について述べる。   Details of the evaluation results will be described below.

(1) ニッケルの粒度分布と膜厚との関係、ニッケルの分布密度について
ニッケルの粒度分布と膜厚の関係を特定した理由は、皮膜中に含まれるニッケルを適性に分布させる点にあり、加えて皮膜の摺動性を考慮しつつ低い伝達インピーダンスを得る点にある。ニッケルの粒度分布と膜厚の関係として実施例をNo.1〜No.39及びNo.45〜No.75に示し、比較例をNo.40〜No.44及びNo.76〜83に示す。
(1) Relationship between nickel particle size distribution and film thickness, nickel distribution density The reason for specifying the relationship between nickel particle size distribution and film thickness is that nickel contained in the film is properly distributed. Thus, a low transfer impedance is obtained while considering the slidability of the film. As the relationship between the particle size distribution of nickel and the film thickness, Example No. 1-No. 39 and no. 45-No. 75 and Comparative Example No. 40-No. 44 and no. 76-83.

本発明の実施例に示されるように、ニッケルの粒度分布を、個数分布のピーク(表中ではピーク粒径をRと記す)が1<[RNi/t]≦2の範囲にあり、そのピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅W20が5以下、且つ、2<[RNi/t]の範囲には個数分布のピークを有さず、且つ、2<[RNi/t]の範囲のニッケルが1m当たり5×10個未満であるように制御するか、ピーク粒径Rが0.5<[RNi/t]≦2の範囲にあり、そのピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅W20が5以下、且つ、2<[RNi/t]の範囲には個数分布のピークを有さず、2<[RNi/t]の範囲のニッケルが1m当たり5×10個未満であり、皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下存在しているように制御することで、低い伝達インピーダンスと良好な摺動性を確保できる。 As shown in the examples of the present invention, the nickel particle size distribution has a number distribution peak (in the table, the peak particle size is denoted as R p ) in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2. The distribution width W 20 at the 20% frequency level when the peak height is 100% is 5 or less, and there is no number distribution peak in the range of 2 <[R Ni / t], and It is controlled so that the number of nickel in the range of 2 <[R Ni / t] is less than 5 × 10 9 per m 2, or the peak particle size R p is in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2. The distribution width W 20 of the 20% frequency level is 5 or less when the peak height is 100%, and there is no number distribution peak in the range of 2 <[R Ni / t]. , 2 <nickel ranging [R Ni / t] is less than 5 × 10 9 per 1 m 2, 0 to coating surface. <[R Ni / t] by nickel satisfying ≦ 2 is controlled to be present 1 × 10 9 or more 9 × 10 10 or less per 1 m 2, ensure low transfer impedance and good slidability it can.

また、No.31〜39に示すように、1<[RNi/t]≦2の範囲のニッケルの個数をN、RNi/t≦0.5の範囲のニッケルの個数をNとしたときに、15≦[N/N]≦100となるように制御することで、さらに低い伝達インピーダンスを確保できる。 No. 31-39, when the number of nickel in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 is N l and the number of nickel in the range of R Ni /t≦0.5 is N s , By controlling so that 15 ≦ [N s / N l ] ≦ 100, a lower transfer impedance can be secured.

20が5を超えると(No.40,77)、もしくは2<[RNi/t]の範囲にもピークをもつ場合(No.41,78)、1<[RNi/t]≦2の範囲の個数分布のピーク粒径より大きい粒径のニッケルが多く存在し、大きな粒子でのみ導通するために、伝達インピーダンスが高くなることが示唆された。また、2<[RNi/t]の範囲のニッケルが5×10個を超えると(No.42,79)、表面の凹凸が大きくなり、摺動性が劣ることが示唆された。 When W 20 exceeds 5 (No. 40, 77) or has a peak in the range of 2 <[R Ni / t] (No. 41, 78), 1 <[R Ni / t] ≦ 2 It was suggested that there is a large amount of nickel having a particle size larger than the peak particle size of the number distribution in the range, and that conduction is increased only with large particles, so that the transfer impedance is increased. Further, when the number of nickel in the range of 2 <[R Ni / t] exceeds 5 × 10 9 (No. 42, 79), it was suggested that the surface unevenness was increased and the slidability was inferior.

ピーク粒径Rが0.5<[RNi/t]≦2の範囲にあっても皮膜表面の0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個より少ないと(No.80)、導通点が少ないために、伝達インピーダンスが高くなることが示唆された。皮膜表面の0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり9×1010個より多いと(No.83)、表面のニッケルの数が多くなり、ニッケルに引っかかるために、摺動性が劣ることが示唆された Peak particle diameter R p is 0.5 <[R Ni / t] ≦ be in the 2 range of the film surface 0.5 <[R Ni / t] nickel satisfying ≦ 2 is 1 m 2 per 1 × 10 9 When the number is less than the number (No. 80), it is suggested that the transfer impedance is increased because the conduction point is small. If there are more than 9 × 10 10 nickel per 1 m 2 satisfying 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2 on the surface of the film (No. 83), the number of nickel on the surface increases and the nickel is caught. It was suggested that the slidability was inferior

0.5≧[RNi/t]の範囲にのみ粒度分布のピークを有す場合(No.43,76)、皮膜表面と金属板とが導通するために介さなければならないニッケル粒子間の界面が多過ぎるために、伝達インピーダンスが高いということが示唆された。一方、0.5<[RNi/t]≦2の範囲にピークを有さず、2<[RNi/t]の範囲にのみピークを有すると(No.44)、表面の凹凸が大きくなり易く、摺動性が劣る恐れがあるということが示唆された。 When having a particle size distribution peak only in the range of 0.5 ≧ [R Ni / t] (No. 43, 76), the interface between nickel particles that must be interposed in order for the coating surface and the metal plate to conduct. It was suggested that the transfer impedance is high because of too much. On the other hand, when there is no peak in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2, and there is a peak only in the range of 2 <[R Ni / t] (No. 44), the surface unevenness is large. It was suggested that the slidability tends to be poor.

金属板の面積に対する1<[RNi/t]を満たすニッケルの分布密度の影響を調査した結果を、実施例No.84〜90に示す。 The result of investigating the influence of the distribution density of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] on the area of the metal plate is shown in Example No. 84-90.

本発明の皮膜の低い伝達インピーダンスの付与にあっては、皮膜中におけるニッケルの分布密度の底上げが前提として必要である。但し、この場合も本発明の皮膜の摺動性の考慮は言うまでもない。No.84〜No.87のように1<[RNi/t]を満たすニッケルの1m当たりの個数が1×10個以上5×1010個以下の範囲内とすることで、範囲外の、No.88,89に比べより低い伝達インピーダンス及び優れた摺動性を示すことから、1<[RNi/t]を満たすニッケルの1m当たりの個数が1×10個以上5×1010個以下の範囲がより好ましいことが分かる。 In order to give a low transfer impedance to the film of the present invention, it is necessary to raise the nickel distribution density in the film. However, it goes without saying that the slidability of the coating of the present invention is taken into consideration in this case as well. No. 84-No. The number per 1 m 2 of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] as in 87 is in the range of 1 × 10 9 or more and 5 × 10 10 or less. Since the lower transfer impedance and the excellent slidability are shown in comparison with 88 and 89, the number of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] per 1 m 2 is 1 × 10 9 or more and 5 × 10 10 or less. It can be seen that the range of is more preferable.

また、1<[RNi/t]を満たすニッケルの1m当たりの個数を満足していても、粒子の分散状態等の影響等でで、半径1mmの範囲に1<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが5個より少ない部分が存在する実施例NO.90に対し、半径1mmの範囲に1<[RNi/t]≦2を満たすニッケル数が5個以上であるNo.84,85,86,87は低い伝達インピーダンスを示しており、半径1mmの範囲に1<[RNi/t]を満たすニッケル数が5個以上であることがより好ましいことが分かる。 Further, even if the number of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] per 1 m 2 is satisfied, 1 <[R Ni / t] within a radius of 1 mm due to the dispersion state of the particles and the like. Example NO. In which there are less than 5 nickel parts satisfying ≦ 2. No. 90, the number of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] ≦ 2 within a radius of 1 mm is 5 or more. 84, 85, 86, and 87 show low transfer impedances, and it is more preferable that the number of nickel satisfying 1 <[R Ni / t] in a radius of 1 mm is 5 or more.

また、本発明の実施例No.91〜113に示されるように、皮膜中の粒状のニッケルの個数分布のピークが2つ存在し、大粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が5以下、小粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が1.5以下であり、0.15≦[Rps/Rpl]≦0.4、15≦[n/n]≦100であるように制御することでも、低い伝達インピーダンスと良好な摺動性を確保できる。 In addition, Example No. As shown in 91 to 113, there are two peaks of the number distribution of granular nickel in the film, the W 20 of the number distribution peak of nickel on the large particle size side is 5 or less, and the nickel on the small particle size side The number W of the peak of the number distribution of 20 is 1.5 or less, 0.15 ≦ [R ps / R pl ] ≦ 0.4, and 15 ≦ [n s / n l ] ≦ 100. However, low transmission impedance and good slidability can be ensured.

皮膜中の粒状のニッケルの粒度分布において、大粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が5を超える場合(No.114)、小粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が1.5を超える場合(No.115)、[Rps/Rpl]が0.15より小さい場合(NO.116)、[Rps/Rpl]が0.4を超える場合(No.117)、安定的に導通経路が得ることが困難となり、伝達インピーダンスが高いということが示唆された。[n/n]が15より小さい場合(No.118)、小粒径側のニッケルが大粒径側のニッケルに対して少なくなるため、大粒径側のニッケル間、大粒径側のニッケルと金属板、大粒径側のニッケルと表面とを結ぶことが困難となり、伝達インピーダンスが高いということが示唆された。[n/n]が100を超える場合(No.119)、小粒径側のニッケルが大粒径側のニッケルに対して多すぎるため、導通経路を確保しにくくなり、伝達インピーダンスが高いということが示唆された。 In the particle size distribution of granular nickel in the film, when the W 20 of the nickel number distribution peak on the large particle size side exceeds 5 (No. 114), the W 20 of the nickel number distribution peak on the small particle size side. Is greater than 1.5 (No. 115), [R ps / R pl ] is less than 0.15 (NO. 116), and [R ps / R pl ] is greater than 0.4 (No. 115). 117), it is difficult to obtain a stable conduction path, suggesting that transfer impedance is high. When [n s / n l ] is smaller than 15 (No. 118), the nickel on the small particle size side is less than the nickel on the large particle size side. It was difficult to connect the nickel and the metal plate, the nickel on the large particle size side and the surface, suggesting that the transfer impedance was high. When [n s / n l ] exceeds 100 (No. 119), since there is too much nickel on the small particle size side with respect to nickel on the large particle size side, it is difficult to secure a conduction path and the transfer impedance is high. It was suggested that.

以上のように、ニッケルの粒度分布と膜厚の関係、更にはニッケルの分布密度を本発明の範囲に制御することによって、皮膜の摺動性を考慮しつつ低い伝達インピーダンスを確保することができることがわかる。   As described above, by controlling the relationship between the nickel particle size distribution and the film thickness, and further the nickel distribution density within the range of the present invention, it is possible to ensure a low transfer impedance while considering the slidability of the film. I understand.

(2) カーボンブラックの含有について
本発明の皮膜のカーボンブラック(表中ではCBと略す)の含有については、誘電体の効果を利用して高周波側の伝達インピーダンスをさらに低くするため、また筐体内の温度を低下する機能を付与するためである。No.120〜No.125、No.127〜No.129、No.131〜No.133、No.135〜No.137より、カーボンブラックを適量加えることによって、高周波数側の伝達インピーダンスが低下し、また放熱性も付与できることが分かる。
(2) Regarding the inclusion of carbon black The coating of the present invention contains carbon black (abbreviated as CB in the table) in order to further reduce the transfer impedance on the high frequency side by utilizing the effect of the dielectric, This is to provide a function of lowering the temperature of the film. No. 120-No. 125, no. 127-No. 129, no. 131-No. 133, no. 135-No. From FIG. 137, it can be seen that by adding an appropriate amount of carbon black, the transfer impedance on the high frequency side is lowered and heat dissipation can be imparted.

(3) ワックス含有について
本発明の皮膜のワックスの含有については、摺動性を更に向上させるためである。No.138〜No.167より、例えば、ワックスとしてポリテトラフルオロエチレン粒子(表中ではPTFEと略す)を適量加えることによって、更に摺動性を付与できることが分かる。
(3) Containing wax About the inclusion of the wax of the film of the present invention, the sliding property is further improved. No. 138-No. From 167, for example, it can be seen that slidability can be further imparted by adding an appropriate amount of polytetrafluoroethylene particles (abbreviated as PTFE in the table) as a wax.

(実施例2)
実施例No.7,32,91,107,125,128,132,136,154,160、166、比較例No.40〜44,76〜83,114〜119の金属材をデスクトップPCの筐体に用いた。電波半無響室内で3m離れた地点での周波数30MHz〜1000MHzの放射ノイズを測定し、VCCI規格値と比較した。この結果、実施例No.7,32,91,107,125,128,132,136,154,160、166、比較例No.40〜44,76〜83,114〜119は規格を満足し、一方、No.40〜44,76〜83,114〜119からは、規格値以上の放射ノイズが検出された。
(Example 2)
Example No. 7, 32, 91, 107, 125, 128, 132, 136, 154, 160, 166, Comparative Example No. Metal materials of 40 to 44, 76 to 83, 114 to 119 were used for the desktop PC casing. Radiation noise with a frequency of 30 MHz to 1000 MHz at a point 3 m away in a radio semi-anechoic room was measured and compared with the VCCI standard value. As a result, Example No. 7, 32, 91, 107, 125, 128, 132, 136, 154, 160, 166, Comparative Example No. Nos. 40 to 44, 76 to 83, and 114 to 119 satisfy the standards. From 40 to 44, 76 to 83, and 114 to 119, radiation noise exceeding the standard value was detected.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious that a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can come up with various changes or modifications within the scope of the technical idea described in the claims. Of course, it is understood that these also belong to the technical scope of the present invention.

Claims (12)

金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、
前記皮膜の平均膜厚をt(μm)、ニッケルの粒径をRNi、ニッケルの個数分布のピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅をW20(μm)としたときに、
前記個数分布のピークが1<[RNi/t]≦2の範囲に少なくとも存在し、
前記個数分布のピークのW20が5以下であり、
2<[RNi/t]の範囲には前記個数分布のピークが存在せず、
2<[RNi/t]の範囲にあるニッケルが1m当たり5×10個未満である
ことを特徴とする、表面処理金属板。
In the surface-treated metal plate having a coating containing granular nickel on one side or both sides of the metal plate,
When the average film thickness of the film is t (μm), the nickel particle size is R Ni , and the nickel number distribution peak height is 100%, the distribution width of the 20% frequency level is W 20 (μm). When
The number distribution peak is present at least in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2,
W 20 of the number distribution peak is 5 or less,
The number distribution peak does not exist in the range of 2 <[R Ni / t],
The surface-treated metal sheet, wherein the number of nickel in the range of 2 <[R Ni / t] is less than 5 × 10 9 per 1 m 2 .
金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、
前記皮膜の平均膜厚をt(μm)、ニッケルの粒径をRNi、ニッケルの個数分布のピークの高さを100%としたときの20%度数レベルの分布幅をW20(μm)としたときに、
前記個数分布のピークが0.5<[RNi/t]≦2の範囲に少なくとも存在し、
前記個数分布のピークのW20が5以下であり、
2<[RNi/t]の範囲には前記個数分布のピークが存在せず、
2<[RNi/t]の範囲にあるニッケルが1m当たり5×10個未満であり、
前記皮膜表面に0.5<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが1m当たり1×10個以上9×1010個以下存在している
ことを特徴とする、表面処理金属板。
In the surface-treated metal plate having a coating containing granular nickel on one side or both sides of the metal plate,
When the average film thickness of the film is t (μm), the nickel particle size is R Ni , and the nickel number distribution peak height is 100%, the distribution width of the 20% frequency level is W 20 (μm). When
The number distribution peak is at least in the range of 0.5 <[R Ni / t] ≦ 2,
W 20 of the number distribution peak is 5 or less,
The number distribution peak does not exist in the range of 2 <[R Ni / t],
2 <nickel in the range of [R Ni / t] is less than 5 × 10 9 per 1 m 2,
Wherein 0.5 to film surface <[R Ni / t] nickel satisfying ≦ 2, characterized in that the are present 1 × 10 9 or more 9 × 10 10 or less per 1 m 2, the surface treated metal plate.
前記個数分布のピークが1<[RNi/t]≦2の範囲に少なくとも存在する
ことを特徴とする、請求項2に記載の表面処理金属板。
The surface-treated metal sheet according to claim 2, wherein the number distribution peak exists at least in a range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2.
1<[RNi/t]≦2の範囲にあるニッケルの個数をNとし、RNi/t≦0.5の範囲にあるニッケルの個数をNとしたときに、
前記表面処理金属板の皮膜中のニッケルは、15≦[N/N]≦100を満たす
ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の表面処理金属板。
When the number of nickel in the range of 1 <[R Ni / t] ≦ 2 is N 1 and the number of nickel in the range of R Ni /t≦0.5 is N s ,
Nickel in the coating of the surface-treated metal plate, 15 ≦ and satisfies the [N s / N l] ≦ 100, the surface treated metal sheet according to any one of claims 1 to 3.
前記表面処理金属板の皮膜中の1<[RNi/t]を満たすニッケルが、1m当たり1×10個以上5×1010個以下である
ことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の表面処理金属板。
The nickel satisfying 1 <[R Ni / t] in the film of the surface-treated metal plate is 1 × 10 9 or more and 5 × 10 10 or less per 1 m 2. The surface-treated metal plate according to any one of the above.
前記表面処理金属板の皮膜中の1<[RNi/t]≦2を満たすニッケルが、半径1mmの円内に少なくとも5個存在する
ことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の表面処理金属板。
6. The nickel according to claim 1, wherein at least five nickels satisfying 1 <[R Ni / t] ≦ 2 in the film of the surface-treated metal plate are present in a circle having a radius of 1 mm. The surface-treated metal plate according to Item.
前記金属板の片面又は両面に粒状のニッケルを含有する皮膜を有する表面処理金属板において、
皮膜中粒状Niの個数分布のピークが2つ存在し、
大粒径側のニッケルのピーク粒径Rplと小粒径側のニッケルのピーク粒径Rps、ピーク粒径Rplのニッケルの個数をn、ピーク粒径Rpsのニッケルの個数をnとしたときに、
大粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が5以下、小粒径側のニッケルの個数分布のピークのW20が1.5以下であり、
0.15≦[Rps/Rpl]≦0.4、
15≦[n/n]≦100、
を満たす
ことを特徴とする、請求項2に記載の表面処理金属板。
In the surface-treated metal plate having a coating containing granular nickel on one side or both sides of the metal plate,
There are two peaks of the number distribution of granular Ni in the film,
The peak particle size R pl of nickel on the large particle size side, the peak particle size R ps of nickel on the small particle size side, the number of nickel of the peak particle size R pl is n l , and the number of nickel of the peak particle size R ps is n s
W 20 peak number distribution of nickel having a greater particle diameter of 5 or less, W 20 of the peak of the number distribution of nickel particle diameter is 1.5 or less,
0.15 ≦ [R ps / R pl ] ≦ 0.4,
15 ≦ [ ns / n 1 ] ≦ 100,
The surface-treated metal sheet according to claim 2, wherein:
前記大粒径側のニッケルのピーク粒径Rplが6μm以下である
ことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の表面処理金属板。
The surface-treated metal plate according to any one of claims 1 to 7, wherein a peak particle size R pl of nickel on the large particle size side is 6 µm or less.
前記表面処理金属板の皮膜を有する面を80℃以上200℃以下の所定の温度で測定した波数600〜3000cm−1の領域における赤外線全放射率が、0.70以上である
ことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の表面処理金属板。
The infrared total emissivity in the region of wave number 600 to 3000 cm −1 measured at a predetermined temperature of 80 ° C. or higher and 200 ° C. or lower on the surface having the film of the surface-treated metal plate is 0.70 or higher. The surface treatment metal plate as described in any one of Claims 1-8.
前記表面処理金属板の皮膜が、さらにカーボンブラックを含有する
ことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の表面処理金属板。
The surface-treated metal sheet according to any one of claims 1 to 9, wherein the film of the surface-treated metal sheet further contains carbon black.
前記表面処理金属板の皮膜が、さらにワックスを含有する
ことを特徴とする、請求項1〜10いずれか一項に記載の表面処理金属板。
The surface-treated metal sheet according to any one of claims 1 to 10, wherein the film of the surface-treated metal sheet further contains a wax.
請求項1〜11のいずれか一項に記載の表面処理金属板を部材として用いて成る電子機器筐体。
The electronic device housing | casing which uses the surface treatment metal plate as described in any one of Claims 1-11 as a member.
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