JP2009295782A - 縦型熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】右側面扉用と左側面扉用で、ウエハ保持部を支持するための支持部を共有することができる縦型熱処理装置を提供する。
【解決手段】支持部は、支持部ベース9と、支持部ベース9上に配置されたベース石英11と、ベース石英11上に配置された石英フィン保温筒13と、石英フィン保温筒13上に配置されたSIC保温筒15を備えている。ウエハ保持部はウエハ挿入口がSIC保温筒15に対して所定の方向に位置決めされてSIC保温筒15上に配置される。SIC保温筒15は、SIC保温筒15の石英フィン保温筒13に接する面に設けられた2つの凹部15a,15bと、石英フィン保温筒13のSIC保温筒15に接する面に設けられた、凹部15a,15bに嵌合する凸部13dによって、石英フィン保温筒13に対して2方向に位置決め可能になっている。
【選択図】図1
【解決手段】支持部は、支持部ベース9と、支持部ベース9上に配置されたベース石英11と、ベース石英11上に配置された石英フィン保温筒13と、石英フィン保温筒13上に配置されたSIC保温筒15を備えている。ウエハ保持部はウエハ挿入口がSIC保温筒15に対して所定の方向に位置決めされてSIC保温筒15上に配置される。SIC保温筒15は、SIC保温筒15の石英フィン保温筒13に接する面に設けられた2つの凹部15a,15bと、石英フィン保温筒13のSIC保温筒15に接する面に設けられた、凹部15a,15bに嵌合する凸部13dによって、石英フィン保温筒13に対して2方向に位置決め可能になっている。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体ウエハ(以下、ウエハという)等の基板に熱処理を施すための熱処理装置に関し、特に、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れ可能なウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えた縦型熱処理装置に関するものである。
ウエハに熱処理を施す熱処理装置の一例として、複数枚のウエハをバッチで処理する縦型熱処理装置が知られている(例えば特許文献1,2を参照。)。
図5は従来の縦型熱処理装置の反応管近傍を一部断面で模式的に示す側面図である。
縦型熱処理装置は、内部でウエハを加熱するための反応管31を備えている。反応管31の周囲に反応管31を加熱するためのヒータ33が設けられている。反応管31の開口部には、反応管31の内径と同程度の環状の石英フランジ35が設けられている。
図5は従来の縦型熱処理装置の反応管近傍を一部断面で模式的に示す側面図である。
縦型熱処理装置は、内部でウエハを加熱するための反応管31を備えている。反応管31の周囲に反応管31を加熱するためのヒータ33が設けられている。反応管31の開口部には、反応管31の内径と同程度の環状の石英フランジ35が設けられている。
反応管31内に収容されるウエハを保持するためのSIC(炭化珪素)ボート37が設けられている。SICボート37は、昇降可能なシールキャップ39上に、ベース石英41、フィン保温筒43及びSIC保温筒45を介して配置されている。
シールキャップ39上に円盤状のベース石英41が配置されている。ベース石英41上に、石英からなりフィンを備えたフィン保温筒43が設置されている。フィン保温筒43上にSIC保温筒45が配置され、さらにその上にSICボート37が設置されている。
シールキャップ39は例えばボールスクリューとガイドレールを備えた昇降機構47に支持されている。
昇降機構47によりシールキャップ39が上昇されてSICボート37が反応管31内に配置される。このとき、シールキャップ39の上面が石英フランジ35に接触して反応管31は封止される。
昇降機構47によりシールキャップ39が上昇されてSICボート37が反応管31内に配置される。このとき、シールキャップ39の上面が石英フランジ35に接触して反応管31は封止される。
図6は縦型熱処理装置の全体を模式的に示す平面図である。
縦型熱処理装置49の筐体51の前面51aに前面扉53aが設けられ、前面51a側から見て右側面51bに右側面扉53bが設けられ、背面51cに背面扉53cが設けられている。
縦型熱処理装置49の筐体51の前面51aに前面扉53aが設けられ、前面51a側から見て右側面51bに右側面扉53bが設けられ、背面51cに背面扉53cが設けられている。
筐体51内に反応管31及び昇降機構47が配置されている。図6ではヒータ33の図示は省略している。反応管31は筐体51内で筐体51の中央部よりも背面51c側に配置されている。昇降機構47は反応管31に対して左側面51d側に配置されている。
筐体51内の前面51a近傍にウエハ搬送機構55が設けられている。ウエハ搬送機構55と反応管31の間に、ウエハ搬送機構55を昇降させるための昇降機構57が設けられている。昇降機構57は左側面51d近傍に配置されている。
縦型熱処理装置には、反応管31、SICボート37、フィン保温筒43等の構成部品の脱着作業や、ウエハをSICボート37に搭載又は回収する際に発生する搬送トラブルの処置を容易に行なえるように、筐体51の背面51cに背面扉53cが設置されている。
しかし、背面扉53cだけではウエハの搬送トラブルの処置や構成部品の脱着時の確認が困難であり、それらの作業を容易に行なえるように、背面扉53c以外に例えば右側面51bに側面扉53bが設けられている。
しかし、背面扉53cだけではウエハの搬送トラブルの処置や構成部品の脱着時の確認が困難であり、それらの作業を容易に行なえるように、背面扉53c以外に例えば右側面51bに側面扉53bが設けられている。
また、搬送トラブルの処置をしやすくするために、図6に示すように、SICボート37は、ウエハを出し入れするためのウエハ挿入口27aが筐体51の前面51aに対して、側面扉53bが設けられた右側面51b側に傾斜するように配置されている。
ところで、縦型熱処理装置は、クリーンルームにおける占有面積軽減を図るため、複数台の設置においては間隔を空けることなく密着した設置が可能となっている。
しかし、同じ側の筐体側面に側面扉が設けられた装置を並べて設置した場合、一方の装置の側面扉は開閉不能となる。
そこで、装置メーカーは、側面扉の位置について左右どちら側のタイプも用意し、図7に示すように、2台の装置を並べて設置できるようにしている。図7において、右側面51bに右側面扉53bが設けられた縦型熱処理装置49aでは、左側面51d近傍に昇降機構47及び昇降機構57が設置され、SICボート37のウエハ挿入口27aは筐体51の前面51aに対して右側面51b側に傾斜するように配置されている。左側面51dに側面扉53dが設けられた縦型熱処理装置49bでは、右側面51b近傍に昇降機構47及び昇降機構57が設置され、SICボート37のウエハ挿入口27aは筐体51の前面51aに対して左側面51d側に傾斜するように配置されている。
しかし、同じ側の筐体側面に側面扉が設けられた装置を並べて設置した場合、一方の装置の側面扉は開閉不能となる。
そこで、装置メーカーは、側面扉の位置について左右どちら側のタイプも用意し、図7に示すように、2台の装置を並べて設置できるようにしている。図7において、右側面51bに右側面扉53bが設けられた縦型熱処理装置49aでは、左側面51d近傍に昇降機構47及び昇降機構57が設置され、SICボート37のウエハ挿入口27aは筐体51の前面51aに対して右側面51b側に傾斜するように配置されている。左側面51dに側面扉53dが設けられた縦型熱処理装置49bでは、右側面51b近傍に昇降機構47及び昇降機構57が設置され、SICボート37のウエハ挿入口27aは筐体51の前面51aに対して左側面51d側に傾斜するように配置されている。
縦型熱処理装置において、側面扉の位置は自由に左右どちらでも設置可能という訳ではなく、装置の構造上、必然的に限定される。その構造上の理由とは、反応管31内にSICボート37を出し入れするための昇降機構47と、ウエハが収納されたカセットからSICボート37にウエハを移載するウエハ搬送機構55の上下動作を行なうための昇降機構57が装置正面から見て左右のどちら側に設置されているかによる。図6において、仮に昇降機構47及び昇降機構57が設置してある左側面51dに側面扉を設け、開閉できる構造にした場合、昇降機構47及び昇降機構57が邪魔になり、その側面扉を介してのウエハの搬送トラブルの処置や構成部品の脱着時の確認等の作業が困難になる。
そこで、装置メーカーは、図7に示したように、側面扉の位置を左右それぞれ異なるタイプを設計し密着して設置できるように、装置における扉の設置位置は左右選択可能となるよう用意している。
しかし、ここで問題となるのが、同一プロセスを行なうための2台の縦型熱処理装置であって、左右、側面扉位置の異なるものをユーザーが保有している場合である。
しかし、ここで問題となるのが、同一プロセスを行なうための2台の縦型熱処理装置であって、左右、側面扉位置の異なるものをユーザーが保有している場合である。
図7に示したように、右側面51bに側面扉53bが設けられた縦型熱処理装置49aでは、SICボート37はそのウエハ挿入口27aが筐体51の前面51aに対して右側面51b側に傾斜するように配置されている。また、左側面51dに側面扉53dが設けられた縦型熱処理装置49bでは、SICボート37はそのウエハ挿入口27aが筐体51の前面51aに対して左側面51d側に傾斜するように配置されている。したがって、SICボート37のウエハ挿入口27aの向きを位置決めするためのシールキャップ39、ベース石英41、フィン保温筒43及びSIC保温筒45のうち、いずれか1つ又は複数について、側面扉位置に合わせて形状が異なり、左右、側面扉の向きの異なる装置同士の共用は行なえないという問題があった。
そこで本発明は、右側面扉用と左側面扉用で、ウエハ保持部を支持するための支持部を共有することができる縦型熱処理装置を提供することを目的とするものである。
本発明にかかる縦型熱処理装置は、反応管と、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れするためのウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えたものであって、上記支持部は、上記ウエハ保持部の上記ウエハ挿入口を互いに異なる2方向に切り換えて位置決め可能になっているものである。
本発明の縦型熱処理装置において、上記支持部は、支持部ベースと、上記支持部ベース上に配置されたベース石英と、上記ベース石英上に配置された石英フィン保温筒と、上記石英フィン保温筒上に配置されたSIC保温筒を備えている例を挙げることができる。そして、上記ウエハ保持部は上記ウエハ挿入口が上記SIC保温筒に対して所定の方向に位置決めされて上記SIC保温筒上に配置されており、上記SIC保温筒は、上記SIC保温筒の上記石英フィン保温筒に接する面に設けられた凹部又は凸部と、上記石英フィン保温筒の上記SIC保温筒に接する面に設けられた、凹部又は凸部に嵌合する凸部又は凹部によって、上記石英フィン保温筒に対して2方向に位置決め可能になっている例を挙げることができる。
ところで、縦型熱処理装置において、フィン保温筒については、右側面扉用、左側面扉用で形状が異なっていることがある。形状が互いに異なるフィン保温筒が必要な理由として、図8に示すように、フィン保温筒43における半円状にカットされた2箇所の切欠き43a,43bにある。
切欠き43aはフィン保温筒43を搭載するとシールキャップ39に設けられた温度センサ挿入口39aを塞いでしまうので、反応管内に熱電対を挿入できるようにカットした箇所である。反応管内に熱電対を挿入する際にはベース石英41はシールキャップ39に設けられた温度センサ挿入口39aに対応する位置に貫通穴を備えたものに交換される。
切欠き43bは石英フランジ35(図5参照)に取り付けられたガス導入口48とフィン保温筒43との間にクリアランスがないため、キャップ昇降時の干渉を防ぐためにカットされた箇所である。
切欠き43aはフィン保温筒43を搭載するとシールキャップ39に設けられた温度センサ挿入口39aを塞いでしまうので、反応管内に熱電対を挿入できるようにカットした箇所である。反応管内に熱電対を挿入する際にはベース石英41はシールキャップ39に設けられた温度センサ挿入口39aに対応する位置に貫通穴を備えたものに交換される。
切欠き43bは石英フランジ35(図5参照)に取り付けられたガス導入口48とフィン保温筒43との間にクリアランスがないため、キャップ昇降時の干渉を防ぐためにカットされた箇所である。
これらの2箇所の切欠き43a,43bは干渉を防ぐという目的も半円状にカットされた形状も同じであるが、その大きさが異なる。大きさの違いについてはガス導入口48との干渉防止にカットされた切欠き43bの方が直径で例えば4mm(ミリメートル)だけ切欠き43aよりも大きい。その理由については、単純にガス導入口48の大きさが熱電対の大きさより大きいという事も勿論であるが、干渉物同士(石英フランジ35とフィン保温筒43)のセット時の位置変化とシールキャップ39の昇降動作とを合わせて考慮の上、マージンを持たせた若干大きめのカットがされていることにある。
装置内におけるガス導入口48と温度センサ挿入口39aの位置は、どちらの装置側面に側面扉が設けられているかによって異なる、すなわち、ガス導入口48と温度センサ挿入口39aの位置が右側面扉53bを備えた装置と左側面扉53dを備えた装置で互いに反対になるので、フィン保温筒43はそれぞれ左右専用品を保有する必要があった。
そこで、本発明の縦型熱処理装置において、上記石英フィン保温筒は、上方から見て周縁部に同じ大きさの2つの切欠きを備えている例を挙げることができる。
本発明の縦型熱処理装置では、反応管と、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れするためのウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えたものであって、支持部は、上記ウエハ保持部の上記ウエハ挿入口を互いに異なる2方向に切り換えて位置決め可能になっているようにしたので、一方の位置決めを右側面扉用とし、他方の位置決めを左側面扉用とすることができ、右側面扉用と左側面扉用で、ウエハ保持部を支持するための支持部を共有することができる。
本発明の縦型熱処理装置において、支持部は、支持部ベースと、支持部ベース上に配置されたベース石英と、ベース石英上に配置された石英フィン保温筒と、石英フィン保温筒上に配置されたSIC保温筒を備え、ウエハ保持部はウエハ挿入口がSIC保温筒に対して所定の方向に位置決めされてSIC保温筒上に配置されており、SIC保温筒は、SIC保温筒の石英フィン保温筒に接する面に設けられた凹部又は凸部と、石英フィン保温筒のSIC保温筒に接する面に設けられた、凹部又は凸部に嵌合する凸部又は凹部によって、石英フィン保温筒に対して2方向に位置決め可能になっているようにすれば、石英フィン保温筒上にSIC保温筒を搭載する際に2方向に位置決めのうち一方の位置決めを選択することにより、容易に2方向に位置決めの切り替えが可能になる。
さらに、石英フィン保温筒は、上方から見て周縁部に同じ大きさの2つの切欠きを備えているようにすれば、ガス導入口と温度センサ挿入口の位置が右側面扉を備えた装置と左側面扉を備えた装置で互いに反対になる場合であっても、同じ大きさの2つの切欠きは、ガス導入口と温度センサ挿入口のどちらにも対応することができるので、右側面扉用と左側面扉用で石英フィン保温筒を共有することができる。
図1は縦型熱処理装置の一実施例における支持部を模式的に示す斜視図である。図2はこの実施例の反応管近傍を一部断面で模式的に示す側面図である。図3はこの実施例の石英フィン保温筒を模式的に示す平面図である。この実施例の反応管近傍について図1から図3を参照して説明する。
例えばSICからなる反応管1を備えている。反応管1は内部にウエハが配置され、ウエハを加熱するためのものである。反応管1の周囲に反応管1を加熱するためのヒータ(加熱部)3が設けられている。反応管1の開口部に、反応管1の内径と同程度の内径をもつ環状の石英フランジ5が設けられている。
反応管1内に収容されるウエハを保持するためのSICボート(ウエハ保持部)7が設けられている。SICボート7は、昇降可能なシールキャップ9上に、ベース石英11、石英フィン保温筒13及びSIC保温筒15を介して配置されている。シールキャップ9、ベース石英11、石英フィン保温筒13及びSIC保温筒15は本発明の縦型熱処理装置の支持部を構成する。シールキャップ9は例えばボールスクリューとガイドレールを備えた昇降機構17に支持されている。
シールキャップ9は例えばSUSによって形成されている。シールキャップ9はシールキャップ9及びベース石英によって反応管1が封止された状態で反応管1内に温度センサを挿入するための貫通孔からなる温度センサ挿入口9aを備えている。温度センサ挿入口9aは、ベース石英11上にSICボート7が搭載された状態で温度センサを反応管1内に挿入可能な位置に設けられている。なお、縦型熱処理装置の使用時には、温度センサ挿入口9aを塞ぐべく、図3に示すようにベース石英11として温度センサ挿入口9aに対応する位置に貫通穴が形成されていないものが用いられる。そして縦型熱処理装置の試験運転時には、ベース石英11に代えて、温度センサ挿入口9aに対応する位置に貫通穴を備えたものが用いられ、その貫通穴及び温度センサ挿入口9aを介して反応管1内に温度センサが挿入される。
シールキャップ9上に円盤状のベース石英11が配置されている。ベース石英11は、例えばベース石英11の下面に設けられた凸部とシールキャップ9の上面に設けられた凹部によってシールキャップ9の所定の位置及び向きに配置されている。
ベース石英11上に、例えば石英からなる石英フィン保温筒13が設置されている。石英フィン保温筒13は、例えば下段石英フィン保温筒13a、上段外側石英フィン保温筒13b、上段内側石英フィン保温筒13cによって構成されている。
下段石英フィン保温筒13aは例えば下段石英フィン保温筒13aに設けられた支柱とベース石英11の上面に設けられた凹部によってベース石英11の所定の位置及び向きに配置されている。
上段外側石英フィン保温筒13b及び上段内側石英フィン保温筒13cは下段石英フィン保温筒13a上に配置されている。上段外側石英フィン保温筒13bは上方から見てドーナツ状であり、上段内側石英フィン保温筒13cは上段外側石英フィン保温筒13bとは間隔をもって下段石英フィン保温筒13a上に配置されている。上段外側石英フィン保温筒13b及び上段内側石英フィン保温筒13cは、例えば、上段外側石英フィン保温筒13b及び上段内側石英フィン保温筒13cにそれぞれ設けられた支柱とベース石英11の上面に設けられた凹部によってベース石英11の所定の位置及び向きに配置されている。
図3に示すように、下段石英フィン保温筒13a及び上段外側石英フィン保温筒13bは、上方から見て周縁部に同じ大きさの2つの切欠き13e,13f(図1及び図2での図示は省略)を備えている。切欠き13e,13fはガス導入口18(図1での図示は省略)と温度センサ挿入口9aの位置に対応して設けられている。図3では、例えば右側面扉を備えた縦型熱処理装置用に、切欠き13eがガス導入口18の位置に対応し、切欠き13fが温度センサ挿入口9aの位置に対応している。左側面扉を備えた縦型熱処理装置では、切欠き13eが温度センサ挿入口9aに対応し、切欠き13fがガス導入口18の位置の位置に対応して配置される。なお、石英フィン保温筒13と石英フランジ5の間に十分な隙間がある場合には、下段石英フィン保温筒13a及び上段外側石英フィン保温筒13bは切欠き13e,13fを備えていなくてもよい。
下段石英フィン保温筒13aの上面に例えば石英からなる位置決め用凸部13dが形成されている。位置決め用凸部13dは上方から見て上段外側石英フィン保温筒13bと上段内側石英フィン保温筒13cの間に設けられている。
下段石英フィン保温筒13a上にSIC保温筒15が搭載されている。SIC保温筒15は、円筒状であり、上方から見て上段外側石英フィン保温筒13bと上段内側石英フィン保温筒13cの間に配置される。また、SIC保温筒15は、下段石英フィン保温筒13aに接する面に、位置決め用凸部13dに嵌合する2つの位置決め用凹部15a,15bを備えている。位置決め用凹部15a,15bのいずれか一方が位置決め用凸部13dに嵌合されることにより、SIC保温筒15は下段石英フィン保温筒13aに対して2方向に位置決め可能になっている。
SIC保温筒15上にSICボート7が搭載されている。SICボート7は、例えばSICボート7の下面に設けられた凸部とSIC保温筒15の上面に設けられた凹部によって、SICボート7のウエハ挿入口がSIC保温筒15に対して所定の方向に位置決めされてSIC保温筒15上に配置されている。
図4はこの実施例の縦型熱処理装置の全体を模式的に示す平面図である。図4には2つの縦型熱処理装置を示す。
縦型熱処理装置19a,19bにおいて、筐体21の前面21aに前面扉23aが設けられ、背面21cに背面扉23cが設けられている。筐体21内に反応管1、昇降機構17、ウエハ搬送機構25、及び、ウエハ搬送機構25を昇降させるための昇降機構27が配置されている。図4ではヒータ3の図示は省略している。反応管1は筐体21内で筐体21の中央部よりも背面21c側に配置されている。ウエハ搬送機構25は筐体21内の前面21a近傍に配置されている。
縦型熱処理装置19a,19bにおいて、筐体21の前面21aに前面扉23aが設けられ、背面21cに背面扉23cが設けられている。筐体21内に反応管1、昇降機構17、ウエハ搬送機構25、及び、ウエハ搬送機構25を昇降させるための昇降機構27が配置されている。図4ではヒータ3の図示は省略している。反応管1は筐体21内で筐体21の中央部よりも背面21c側に配置されている。ウエハ搬送機構25は筐体21内の前面21a近傍に配置されている。
縦型熱処理装置19aは正面から見て右側面21bに右側面扉23bを備えている。縦型熱処理装置19aにおいて、昇降機構17及び昇降機構27は反応管1に対して左側面21d側に配置されている。
縦型熱処理装置19bは正面から見て左側面21dに左側面扉23dを備えている。縦型熱処理装置19bにおいて、昇降機構17及び昇降機構27は反応管1に対して右側面21b側に配置されている。
縦型熱処理装置19aにおいて、図1に示した位置決め用凹部15aと位置決め用凸部13dが嵌合されて、SICボート7は、ウエハを出し入れするためのウエハ挿入口7aが筐体21の前面21aに対して、右側面扉23bが設けられた右側面21b側に傾斜するように配置されている。
これに対し、縦型熱処理装置19bにおいて、図1に示した位置決め用凹部15bと位置決め用凸部13dが嵌合されて、SICボート7は、ウエハ挿入口7aが筐体21の前面21aに対して、左側面扉23dが設けられた左側面21d側に傾斜するように配置されている。
このように、右側面扉用と左側面扉用で共通のシールキャップ9、ベース石英11、石英フィン保温筒13及びSIC保温筒15により、SICボート7のウエハ挿入口7aを互いに異なる2方向に切り換えて右側面扉用と左側面扉用に合わせて位置決め可能になっている。
また、ガス導入口(図示は省略)と温度センサ挿入口(図示は省略)の位置が縦型熱処理装置19aと19bで互いに反対になっているが、図3に示したように、下段石英フィン保温筒13a及び上段外側石英フィン保温筒13bは、上方から見て周縁部に同じ大きさの2つの切欠き13e,13fを備えているので、右側面扉用と左側面扉用で下段石英フィン保温筒13a及び上段外側石英フィン保温筒13bも共有することができる。
このように、右側面扉23bを備えた縦型熱処理装置19aと左側面扉23dを備えた縦型熱処理装置19bでシールキャップ9、ベース石英11、石英フィン保温筒13及びSIC保温筒15を共有することができるので、部品管理が容易になる。
さらに、2種類の部品を購入する必要がなくなり、製造コストの大幅な削減が可能となる。
さらに、2種類の部品を購入する必要がなくなり、製造コストの大幅な削減が可能となる。
上記の実施例では、下段石英フィン保温筒13aに位置決め用凸部13dを設け、SIC保温筒15に2つの位置決め用凹部15a,15bを設けることにより、SICボート7のウエハ挿入口7aの向きを2方向に位置決めできるようにしているが、本発明はこれに限定されるものではなく、SICボートを支持するための支持部は、SICボートのウエハ挿入口を互いに異なる2方向に切り換えて位置決め可能になっているものであればどのような構成であってもよい。
例えば、下段石英フィン保温筒13aに2つの位置決め用凹部を設け、SIC保温筒15に1つの位置決め用凸部を設けるようにしてもよい。
例えば、下段石英フィン保温筒13aに2つの位置決め用凹部を設け、SIC保温筒15に1つの位置決め用凸部を設けるようにしてもよい。
また、縦型熱処理装置の試験運転時に用いる、温度センサ挿入口9aに対応する位置に貫通穴を備えた試験運転時用ベース石英について、右側面扉23bを備えた縦型熱処理装置19aにおける温度センサ挿入口9aの位置と、左側面扉23dを備えた縦型熱処理装置19bにおける温度センサ挿入口9aの位置に、温度センサ挿入用の貫通穴をそれぞれ備えたものを準備してもよい。これにより、試験運転時用ベース石英についても、右側面扉用と左側面扉用で共用することが可能になり、2種類の試験運転時用ベース石英を準備する必要がなくなる。なお、試験運転時に、2箇所に温度センサ挿入用の貫通穴を備えた試験運転時用ベース石英を用いる場合、一方の貫通穴がシールキャップ9の温度センサ挿入口9aに連通して配置される。このとき、他方の貫通穴はシールキャップ9により反応管1の外部雰囲気とは遮断されるので、問題なく縦型熱処理装置の試験運転を行なうことができる。
以上、本発明の実施例を説明したが、材料、形状、配置等は一例であり、本発明はこれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
1 反応管
3 ヒータ(加熱部)
7 SICボート(ウエハ保持部)
9 シールキャップ(支持部ベース)
9a 温度センサ挿入口
11 ベース石英
13 フィン保温筒
13a 下段石英フィン保温筒
13b 上段外側石英フィン保温筒
13c 上段内側石英フィン保温筒
13d 位置決め用凸部
13e,13f 切欠き
15 SIC保温筒
15a,15b 位置決め用凹部
3 ヒータ(加熱部)
7 SICボート(ウエハ保持部)
9 シールキャップ(支持部ベース)
9a 温度センサ挿入口
11 ベース石英
13 フィン保温筒
13a 下段石英フィン保温筒
13b 上段外側石英フィン保温筒
13c 上段内側石英フィン保温筒
13d 位置決め用凸部
13e,13f 切欠き
15 SIC保温筒
15a,15b 位置決め用凹部
Claims (3)
- 反応管と、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れするためのウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えた縦型熱処理装置において、
前記支持部は、前記ウエハ保持部の前記ウエハ挿入口を互いに異なる2方向に切り換えて位置決め可能になっていることを特徴とする縦型熱処理装置。 - 前記支持部は、支持部ベースと、前記支持部ベース上に配置されたベース石英と、前記ベース石英上に配置された石英フィン保温筒と、前記石英フィン保温筒上に配置されたSIC保温筒を備え、
前記ウエハ保持部は前記ウエハ挿入口が前記SIC保温筒に対して所定の方向に位置決めされて前記SIC保温筒上に配置されており、
前記SIC保温筒は、前記SIC保温筒の前記石英フィン保温筒に接する面に設けられた凹部又は凸部と、前記石英フィン保温筒の前記SIC保温筒に接する面に設けられた、前記凹部又は前記凸部に嵌合する凸部又は凹部によって、前記石英フィン保温筒に対して2方向に位置決め可能になっている請求項1に記載の縦型熱処理装置。 - 前記石英フィン保温筒は、上方から見て周縁部に同じ大きさの2つの切欠きを備えている請求項2に記載の縦型熱処理装置。
Priority Applications (1)
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JP2008147858A JP2009295782A (ja) | 2008-06-05 | 2008-06-05 | 縦型熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN103374712A (zh) * | 2012-04-26 | 2013-10-30 | 塔工程有限公司 | 具有热防护件的化学气相沉积装置 |
JP2019195049A (ja) * | 2018-05-03 | 2019-11-07 | ユ−ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド | 基板処理システム |
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2008
- 2008-06-05 JP JP2008147858A patent/JP2009295782A/ja not_active Withdrawn
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US11251056B2 (en) | 2018-05-03 | 2022-02-15 | Eugene Technology Co., Ltd. | Substrate processing system |
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