JP2009286876A - Polyimide and method for producing same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ポリイミドおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a polyimide and a method for producing the same.
芳香族ポリイミドは、耐熱性、寸法安定性、力学強度、絶縁性等において優れた特性を有するため、航空宇宙材料、耐熱材料、電子材料等に多用されている。
また、芳香族ポリイミドの芳香族構造の一部または全部を、脂肪族構造または脂環式炭化水素構造に置換した半芳香族ポリイミドが知られている。
Aromatic polyimides are widely used in aerospace materials, heat-resistant materials, electronic materials and the like because they have excellent characteristics in heat resistance, dimensional stability, mechanical strength, insulation, and the like.
Further, semi-aromatic polyimides in which part or all of the aromatic structure of the aromatic polyimide is replaced with an aliphatic structure or an alicyclic hydrocarbon structure are known.
上記の半芳香族ポリイミドとして、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(以下、CBDAと略記することがある)と、芳香族ジアミンまたは脂肪族ジアミンとから得られる半芳香族ポリイミド等が挙げられる。
例えば、特許文献1には、置換および無置換シクロブタンテトラカルボン酸と直線状またはトランス配置の種々のジアミン化合物とのポリイミド前駆体およびポリイミドが、低い誘電率、低い線熱膨張係数(以下、線膨張率と略記することがある)、高い透明性、および高いガラス転移温度を有することが開示されている。
非特許文献1には、CBDAと2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以下、TFMBと略記することがある)とのポリイミドが、低い線膨張率、高いガラス転移温度、および低誘電率を有することが開示されている。
As the semiaromatic polyimide, a semiaromatic obtained from 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (hereinafter sometimes abbreviated as CBDA) and an aromatic diamine or an aliphatic diamine. Examples thereof include polyimide.
For example, Patent Document 1 discloses that polyimide precursors and polyimides of substituted and unsubstituted cyclobutanetetracarboxylic acid and various diamine compounds in a linear or trans configuration have a low dielectric constant and a low linear thermal expansion coefficient (hereinafter referred to as linear expansion). (Which may be abbreviated as “rate”), high transparency, and high glass transition temperature.
Non-Patent Document 1 discloses that a polyimide of CBDA and 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (hereinafter sometimes abbreviated as TFMB) has a low coefficient of linear expansion, a high glass transition temperature, and a low dielectric constant. It is disclosed to have a rate.
特許文献2には、特定のエステル型のジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とから得られるポリイミドが、非常に低い線膨張率を有することが開示されている。
特許文献3には、特許文献2と同様の組み合わせのポリイミドが熱可塑性や接着性に優れる可能性を有することが示唆されている。
Patent Document 2 discloses that a polyimide obtained from a specific ester-type diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride has a very low linear expansion coefficient.
Patent Document 3 suggests that the same combination of polyimides as Patent Document 2 may have excellent thermoplasticity and adhesiveness.
特許文献4には、式(II)で示されるポリイミドが、耐熱性、透明性に優れることは開示されている。 Patent Document 4 discloses that the polyimide represented by the formula (II) is excellent in heat resistance and transparency.
非特許文献1に開示されたポリイミドは優れた特性を有しているが、トリフルオロメチル基を有するTFMBは、非常に高価であり、工業的製造の点で著しく不利である。また、特許文献1および非特許文献1に開示されているように、比較的直線性を保持できるCBDAと直線状のジアミンとからポリイミドを合成する場合、本発明者らが検討したところ、上記TFMB以外の直線状ジアミンでは、加熱によるイミド化後に非常に脆くなってしまうという課題があることが分かった。
さらに、特許文献3に開示されたポリイミドについて、本発明者らが検討したところ、イミド化反応において使用する溶媒またはイミド化時の熱処理条件等により脆いものになりやすいため、安定してフレキシブルなフィルムが得られにくいという課題があることが分かった。
Although the polyimide disclosed in Non-Patent Document 1 has excellent characteristics, TFMB having a trifluoromethyl group is very expensive and is extremely disadvantageous in terms of industrial production. In addition, as disclosed in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1, when synthesizing a polyimide from CBDA capable of maintaining relatively linearity and a linear diamine, the present inventors have examined the above TFMB. It was found that other linear diamines had the problem of becoming very brittle after imidization by heating.
Furthermore, when the present inventors examined the polyimide disclosed in Patent Document 3, the film is stable and flexible because it tends to be brittle depending on the solvent used in the imidation reaction or the heat treatment conditions during imidization. It was found that there is a problem that it is difficult to obtain.
上記事情に鑑みて、本発明が解決しようとする課題は、無色透明で、優れた耐熱性と低線膨張率を有し、しかも靭性に優れる新規なポリイミドおよびその製造方法を提供することにある。 In view of the above circumstances, the problem to be solved by the present invention is to provide a novel polyimide that is colorless and transparent, has excellent heat resistance and low linear expansion coefficient, and is excellent in toughness, and a method for producing the same. .
本発明者らは、上記課題に対して鋭意研究を行った結果、下記手段にて、上記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following means, and have completed the present invention.
本発明は、以下のとおりである。
[1]
下記式(I)および(II)で示される構成単位を含むポリイミド。
式(I)
式(II)
前記式(I)および(II)で示される構成単位の割合が、モル比で85:15〜25:75である、前記[1]に記載のポリイミド。
[3]
前記式(I)および(II)で示される構成単位の割合が、モル比で80:20〜30:70である、前記[1]又は[2]に記載のポリイミド。
[4]
前記[1]〜[3]のいずれか一項に記載のポリイミドの製造方法であって、
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物と、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンおよび/または2,5−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)トルエンと、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンと、を反応させてポリアミド酸を得る工程、
前記ポリアミド酸をイミド化する工程を含む、ポリイミドの製造方法。
[5]
下記式(III)および(IV)で示される構成単位を含むポリアミド酸。
式(III)
式(IV)
[1]
Polyimide containing structural units represented by the following formulas (I) and (II).
Formula (I)
Formula (II)
The polyimide according to the above [1], wherein the proportion of the structural units represented by the formulas (I) and (II) is 85:15 to 25:75 in terms of molar ratio.
[3]
The polyimide according to [1] or [2], wherein the ratio of the structural units represented by the formulas (I) and (II) is 80:20 to 30:70 in terms of molar ratio.
[4]
The method for producing a polyimide according to any one of [1] to [3],
1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene and / or 2,5-bis (4-aminobenzoyloxy) toluene, Reacting 4-bis (4-aminophenoxy) benzene with polyamic acid;
The manufacturing method of a polyimide including the process of imidating the said polyamic acid.
[5]
Polyamic acid containing structural units represented by the following formulas (III) and (IV).
Formula (III)
Formula (IV)
本発明によれば、無色透明で、優れた耐熱性と低線膨張率を有し、しかも靭性に優れる新規なポリイミドおよびその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a novel polyimide that is colorless and transparent, has excellent heat resistance and low linear expansion coefficient, and is excellent in toughness, and a method for producing the same.
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary.
本発明のポリイミドは、下記式(I)および(II)で示される構成単位を含むポリイミドである。
式(I)
式(II)
Formula (I)
Formula (II)
本発明において、前記式(I)および(II)で示される構成単位の割合が、モル比で90:10〜25:75であることが好ましく、85:15〜25:75であることがより好ましく、80:20〜30:70であることがさらに好ましい。
前記式(I)および(II)で示される構成単位の割合が上記範囲内であることに、より低い線膨張率および強い靭性を特性として有するポリイミドとすることができる。
In the present invention, the ratio of the structural units represented by the formulas (I) and (II) is preferably 90:10 to 25:75, more preferably 85:15 to 25:75, in terms of molar ratio. Preferably, it is 80: 20-30: 70.
When the proportion of the structural units represented by the formulas (I) and (II) is within the above range, a polyimide having lower linear expansion coefficient and strong toughness as characteristics can be obtained.
本発明のポリイミドは、以下の製造方法により製造されるポリイミドであることが好ましい。本発明におけるポリイミドの製造方法として、極性有機溶媒中で1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)と、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン(以下、BABBと略記することがある)および/または2,5−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)トルエン(以下、BABTと略記することがある)ならびに1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(以下、BAPBと略記することがある)とを反応させてポリアミド酸の溶液を得た後、上記ポリアミド酸を熱的にまたは化学的にイミド化する方法を好適に用いることができる。
また、CBDAと、BABBおよび/またはBABTならびにBAPBに加え、必要に応じて、CBDA以外の他のテトラカルボン酸二無水物やBABBおよび/またはBABTならびにBAPB以外の従来公知の他のジアミン化合物を反応させる方法により本発明のポリイミドを製造することもできる。
The polyimide of the present invention is preferably a polyimide produced by the following production method. As a method for producing polyimide in the present invention, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene (hereinafter, BABB) and / or 2,5-bis (4-aminobenzoyloxy) toluene (hereinafter sometimes abbreviated as BABT) and 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (hereinafter referred to as BABT). , BAPB) may be reacted to obtain a polyamic acid solution, and then the polyamic acid may be thermally or chemically imidized.
In addition to BABB and / or BABT and BAPB, if necessary, other tetracarboxylic dianhydrides other than CBDA and other conventionally known diamine compounds other than BABB and / or BABT and BAPB may be reacted with CBDA. The polyimide of this invention can also be manufactured by the method to make it.
本発明で使用される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)として、耐熱性、低線膨張特性の観点で、cis,trans,cis−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物を好適に用いることができる。CBDAの合成方法として、当該事業者公知の合成方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、無水マレイン酸の光環化(二量化)反応により一段階で合成する方法が挙げられる。
CBDAの合成方法として、例えば、Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol.38, 108-116, 2001、特開昭59−212495号公報、特開2003−192685号公報、および特開2006−328027号公報等に開示されている方法が知られている。これらの合成方法で得られるCBDAはいずれもcis,trans,cis体である。以下、本発明においては、CBDAとはこのcis,trans,cis体を指すものとする。
CBDA合成のための原料を安価で容易に入手することができ、しかも合成が容易であることから、CBDAを原料として用いることは有用性が大きい。また、CBDAを出発原料として得られるポリイミドは耐熱性、寸法安定性、透明性に優れる。
As 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) used in the present invention, from the viewpoint of heat resistance and low linear expansion characteristics, cis, trans, cis-1, 2, 3, 4 -Cyclobutanetetracarboxylic acid-1,2: 3,4-dianhydride can be preferably used. The method for synthesizing CBDA is not particularly limited as long as it is a method known by the business operator, and examples thereof include a method of synthesizing in one step by a photocyclization (dimerization) reaction of maleic anhydride.
As a synthesis method of CBDA, for example, Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 38, 108-116, 2001, JP 59-212495 A, JP 2003-192585 A, and JP 2006. A method disclosed in Japanese Patent No. 328027 is known. All CBDAs obtained by these synthesis methods are cis, trans, cis bodies. Hereinafter, in the present invention, CBDA refers to this cis, trans, cis body.
Since raw materials for CBDA synthesis can be easily obtained at low cost, and since synthesis is easy, it is very useful to use CBDA as a raw material. In addition, a polyimide obtained using CBDA as a starting material is excellent in heat resistance, dimensional stability, and transparency.
本発明の目的を逸脱しない範囲であれば、CBDA以外の従来公知の他のテトラカルボン酸二無水物を使用することができる。例えば、上記テトラカルボン酸二無水物として、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、および3,3’4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物、ならびに1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3:5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3:5,6−テトラカルボン酸二無水物、および1−カルボキシメチル−2,3,5−シクロペンタントリカルボン酸−2,6:3,5−二無水物等の脂肪族または脂環式テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。 If it is a range which does not deviate from the objective of this invention, other conventionally well-known tetracarboxylic dianhydrides other than CBDA can be used. For example, as the tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3′4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as anhydrides, 4,4′-oxydiphthalic anhydride, and 3,3′4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, and 1,2,3,4 -Butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] Oct-7-ene-2,3: 5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] octane-2,3: 5,6-tetracarboxylic dianhydride, and 1-carboxy Mechi 2,3,5-cyclopentane tricarboxylic acid-2,6: 3,5-aliphatic anhydrides or alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and the like.
本発明で使用される1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン(BABB)、2,5−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)トルエン(BABT)および1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(BAPB)の合成方法として、当該事業者公知の合成方法であれば特に限定されるものではない。
BABBまたはBABTは、例えば、p−ニトロベンゾイルハライドとヒドロキノンまたは2−メチルヒドロキノンとの縮合反応によりエステル基を有するジニトロ化合物を合成した後、ニトロ基を還元することにより得ることができる。
BAPBは、例えば、p−クロロニトロベンゼンとヒドロキノンとの縮合反応によりエーテル基を有するジニトロ化合物を合成した後、ニトロ基を還元することにより得ることができる。また、BAPBについては和歌山精化工業より「TPE−Q」の製品名で販売されている。
1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene (BABB), 2,5-bis (4-aminobenzoyloxy) toluene (BABT) and 1,4-bis (4-aminophenoxy) used in the present invention ) The method for synthesizing benzene (BAPB) is not particularly limited as long as it is a method known by the operator.
BABB or BABT can be obtained by, for example, synthesizing a dinitro compound having an ester group by a condensation reaction of p-nitrobenzoyl halide and hydroquinone or 2-methylhydroquinone, and then reducing the nitro group.
BAPB can be obtained, for example, by synthesizing a dinitro compound having an ether group by a condensation reaction of p-chloronitrobenzene and hydroquinone and then reducing the nitro group. BAPB is sold under the product name “TPE-Q” by Wakayama Seika Kogyo.
使用するBABBおよび/またはBABTとBAPBの割合について、低い線膨張率および強靭性の観点から、モル比がBABBおよび/またはBABT:BAPB=90:10〜25:75であることが好ましく、85:15〜25:75であることがより好ましく、80:20〜30:70であることがさらに好ましい。BABBおよび/またはBABTの割合が上記範囲内にあることにより、安定して十分な靭性を有するポリイミドを得ることができるため好ましい。また、BAPBが上記範囲内にあることにより、目的とする低い線膨張率(例えば、50ppm/℃、好ましくは、40ppm/℃)を有するポリイミドを得ることができるため好ましい。また、BABBおよびBABTは、いずれかを単独で用いてもよく、併用してもよい。 About the ratio of BABB and / or BABT and BAPB to be used, it is preferable that a molar ratio is BABB and / or BABT: BAPB = 90: 10-25: 75 from a viewpoint of a low linear expansion coefficient and toughness, and 85: It is more preferably 15 to 25:75, and further preferably 80:20 to 30:70. It is preferable that the ratio of BABB and / or BABT is within the above range because a polyimide having sufficient toughness can be obtained stably. Further, it is preferable that BAPB is in the above range because a polyimide having a desired low linear expansion coefficient (for example, 50 ppm / ° C., preferably 40 ppm / ° C.) can be obtained. Moreover, either BABB and BABT may be used independently and may be used together.
本発明の目的を逸脱しない範囲であれば、BABBおよび/またはBABTならびにBAPB以外の従来公知の他のジアミン化合物を使用することができる。例えば、上記他のジアミン化合物として、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフォン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフォン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、および2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ジアミン化合物、ならびに1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3‘−ジメチルジシクロヘキシルメタン、3(4),8(9),−ビス(アミノメチル)トリシクロ[5,2,1,02,6]デカン、および2,5(6)−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン等の脂環式ジアミン化合物等が挙げられる。 Any other conventionally known diamine compounds other than BABB and / or BABT and BAPB can be used as long as they do not depart from the object of the present invention. For example, as the other diamine compound, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3 , 3′-dimethoxy-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4 , 4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminobenzanilide, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-Aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphe Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, and 2 , 2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane and the like, and 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 4,4′-diamino-3 , 3'-dimethyl dicyclohexyl methane, 3 (4), 8 (9), - bis (aminomethyl) tricyclo [5,2,1,0 2,6] decane, and 2,5 (6) - bis (amino And alicyclic diamine compounds such as methyl) bicyclo [2,2,1] heptane.
本発明におけるポリイミドの合成方法として、極性有機溶媒中でCBDAとBABBおよび/またはBABTならびにBAPBを反応させてポリアミド酸の溶液を得た後、上記ポリアミド酸を熱的にまたは化学的にイミド化する方法を好適に用いることができる。 As a method for synthesizing polyimide in the present invention, CBDA and BABB and / or BABT and BAPB are reacted in a polar organic solvent to obtain a polyamic acid solution, and then the polyamic acid is thermally or chemically imidized. The method can be suitably used.
ポリアミド酸の合成方法として、以下の方法を好適に用いることができる。好ましくは不活性ガス雰囲気下で、十分に脱水した極性有機溶媒中に、1)BABBおよび/またはBABTならびにBAPBをあらかじめ溶解させ、次いで、BABBおよび/またはBABTならびにBAPBの合計とほぼ等モルのCBDAを添加して、0℃〜70℃程度の温度で1〜48時間程度反応させる方法、2)BABBおよび/またはBABTならびにCBDAを反応させながら溶解させ、次いで、BAPBを添加して、1)と同様の条件で反応させる方法、3)BAPBおよびCBDAを反応させながら溶解させ、次いで、BABBおよび/またはBABTを添加して、1)と同様の条件で反応させる方法、が挙げられる。 As a method for synthesizing the polyamic acid, the following method can be suitably used. 1) Pre-dissolve BABB and / or BABT and BAPB in a fully dehydrated polar organic solvent, preferably under an inert gas atmosphere, and then approximately equimolar CBDA with the sum of BABB and / or BABT and BAPB And a method of reacting at a temperature of about 0 ° C. to 70 ° C. for about 1 to 48 hours, 2) dissolving BABB and / or BABT and CBDA while reacting, then adding BAPB and adding 1) Examples include a method of reacting under the same conditions, 3) a method of dissolving BAPB and CBDA while reacting, and then adding BABB and / or BABT and reacting under the same conditions as in 1).
上記極性有機溶媒としては、ポリイミド合成において従来公知の溶媒を用いることができる。例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、およびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、およびδ−バレロラクトン等のラクトン類、エチレンカーボネート、およびプロピレンカーボネート等のカーボネート類、モノグライム、ジグライム、トリグライム、およびテトラグライム等のグライム類、ならびにジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いても、混合溶媒として用いてもよい。また、これらの溶媒に、トルエン、およびキシレン等の炭化水素系溶媒、THF、およびジオキサン等のエーテル系溶媒等を添加して混合溶媒を使用することもできる。得られるポリアミド酸溶液の濃度が、好ましくは5%〜50%質量%、より好しくは10〜30質量%程度となるように上記溶媒を用いることが好適である。 As said polar organic solvent, a conventionally well-known solvent can be used in a polyimide synthesis | combination. For example, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone, lactones such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, and δ-valerolactone, ethylene carbonate And carbonates such as propylene carbonate, glymes such as monoglyme, diglyme, triglyme, and tetraglyme, and aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide. These solvents may be used alone or as a mixed solvent. In addition, a mixed solvent can be used by adding a hydrocarbon solvent such as toluene and xylene, an ether solvent such as THF and dioxane, or the like to these solvents. It is preferable to use the solvent so that the concentration of the resulting polyamic acid solution is preferably 5% to 50% by mass, more preferably about 10 to 30% by mass.
上記のようにして得られたポリアミド酸溶液から、上記式(I)および(II)で示される構成単位を含むポリイミドを得るためには、熱的に脱水閉環する熱イミド化法、脱水剤を用いる化学イミド化法のいずれの方法を用いてもよい。 In order to obtain a polyimide containing the structural units represented by the above formulas (I) and (II) from the polyamic acid solution obtained as described above, a thermal imidization method in which thermal dehydration and ring closure is performed, a dehydrating agent is used. Any method of the chemical imidization method to be used may be used.
熱イミド化法としては、例えば、ポリアミド酸溶液をPETフィルムやガラス板、金属支持体等の基板上に塗布して膜状とした後、40〜150℃程度で10分〜2時間程度乾燥した後、これを剥離してポリアミド酸フィルムを得る。このフィルムを、好ましくは、不活性ガス雰囲気下、端部を支持体に固定した状態で加熱し、最終的に250〜400℃程度で10分〜3時間程度熱処理することで、本発明の上記式(I)および(II)で示される構成単位を含むポリイミドのフィルムを得ることができる。 As the thermal imidization method, for example, a polyamic acid solution is applied onto a substrate such as a PET film, a glass plate, or a metal support to form a film, and then dried at about 40 to 150 ° C. for about 10 minutes to 2 hours. Then, this is peeled off to obtain a polyamic acid film. This film is preferably heated in an inert gas atmosphere with the end fixed to the support, and finally heat-treated at about 250 to 400 ° C. for about 10 minutes to 3 hours. A polyimide film containing the structural units represented by the formulas (I) and (II) can be obtained.
化学イミド化法としては、ポリアミド酸溶液に、例えば、無水酢酸等の脱水剤とトリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、およびキノリン等の触媒を添加した後、熱イミド化法と同様の操作を行うことによりポリイミドのフィルムを得ることができる。 As the chemical imidization method, for example, after adding a dehydrating agent such as acetic anhydride and a catalyst such as triethylamine, pyridine, picoline, and quinoline to the polyamic acid solution, polyimide is obtained by performing the same operation as the thermal imidization method. Film can be obtained.
本発明の目的を逸脱しない範囲であれば、酸化防止剤、光安定化剤、および末端封止剤等の各種の添加剤を配合する、あるいは無機フィラー等により複合化することも可能である。
例えば、ポリアミド酸溶液に上記添加剤や無機フィラー等を配合し、ポリアミド酸のフィルムとした後にイミド化させることにより、添加剤等を含有するフィルムを得ることができる。
As long as it does not deviate from the object of the present invention, various additives such as an antioxidant, a light stabilizer, and an end-capping agent can be blended or combined with an inorganic filler or the like.
For example, a film containing an additive or the like can be obtained by blending the above-mentioned additive or inorganic filler into a polyamic acid solution to form a polyamic acid film and then imidizing it.
本発明のポリイミドをフィルムとして用いる場合、用途にもよるが、フィルムの厚みとしては5μm〜200μm程度が好ましく、さらには10μm〜100μm程度が好ましい。 When the polyimide of the present invention is used as a film, depending on the use, the thickness of the film is preferably about 5 μm to 200 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.
本発明のポリアミド酸は、下記式(III)および(IV)で示される構成単位を含むポリアミド酸である。
式(III)
式(IV)
Formula (III)
Formula (IV)
本発明のポリアミド酸は、上記ポリイミドの製造方法において製造されるポリアミド酸であることが好ましい。
本発明において、これらポリアミド酸を含有する溶液を熱イミド化法、化学イミド法などにより閉環させて本発明のポリイミドを得ることができる。
The polyamic acid of the present invention is preferably a polyamic acid produced by the above polyimide production method.
In the present invention, the polyimide of the present invention can be obtained by ring-closing the solution containing these polyamic acids by a thermal imidization method, a chemical imide method or the like.
本発明において、前記式(III)および(IV)で示される構成単位の割合が、モル比で90:10〜25:75であることが好ましく、85:15〜25:75であることがより好ましく、80:20〜30:70であることがさらに好ましい。 In the present invention, the proportion of the structural units represented by the formulas (III) and (IV) is preferably 90:10 to 25:75, more preferably 85:15 to 25:75, in terms of molar ratio. Preferably, it is 80: 20-30: 70.
以下に実施例を示すが、本発明はこれによってなんら限定されるものではない。実施例における測定方法は以下のとおりである。 Examples are shown below, but the present invention is not limited thereto. The measurement methods in the examples are as follows.
[FT−IR測定]
スペクトロメータとして、ThermoElectron製「NICOLET380」を用い、ATR法にて測定した。
[FT-IR measurement]
The measurement was performed by the ATR method using “NICOLET 380” manufactured by ThermoElectron as a spectrometer.
[線膨張率の測定]
SIIナノテクノロジー社製「TMA/SS6100」を用い、窒素雰囲気下、荷重10mN、昇温速度5℃/分で測定し、100℃から200℃の線膨張率の平均値(CTE)を求めた。また、線膨張率の曲線の変曲点をガラス転移温度(Tg)とした。
[Measurement of linear expansion coefficient]
Using “TMA / SS6100” manufactured by SII Nano Technology, measurement was performed under a nitrogen atmosphere at a load of 10 mN and a heating rate of 5 ° C./min, and an average linear expansion coefficient (CTE) from 100 ° C. to 200 ° C. was obtained. The inflection point of the linear expansion coefficient curve was defined as the glass transition temperature (Tg).
[熱分解特性評価]
SIIナノテクノロジー社製「TG/DTA6200」を用い、ヘリウム雰囲気下、昇温速度10℃/分で測定し、5%重量減少温度(Td5)を評価した。
[Pyrolysis characteristics evaluation]
Using a “TG / DTA6200” manufactured by SII Nanotechnology, a 5% weight loss temperature (Td5) was evaluated under a helium atmosphere at a heating rate of 10 ° C./min.
[透明性の評価]
島津製作所製紫外可視分光光度計「UVmini1240」を用い、1100nm〜200nmの波長範囲の光線の透過率を測定し、780nm〜380nmの可視光線に相当する波長範囲の透過率の平均値(T)を求めた。また、波長400nmでの透過率(T400)、および透過率が0.5%以下となる吸収端の波長(Cut Off)を求めた。
[Evaluation of transparency]
Using a UV-visible spectrophotometer “UVmini 1240” manufactured by Shimadzu Corporation, the transmittance of light in the wavelength range of 1100 nm to 200 nm is measured, and the average value (T) of the transmittance in the wavelength range corresponding to visible light in the range of 780 nm to 380 nm is calculated. Asked. Further, the transmittance at a wavelength of 400 nm (T 400 ) and the wavelength at the absorption edge (Cut Off) at which the transmittance is 0.5% or less were determined.
[靭性の評価]
フィルムを180度完全に折り曲げて、割れが生じるかを指標として靭性の評価を行った。
[Toughness evaluation]
The film was completely bent 180 degrees, and the toughness was evaluated using as an index whether cracks occurred.
[実施例1]
窒素置換したガラス容器中で、N,N−ジメチルアセトアミド4mlとエチレンカーボネート4mlの50:50の混合溶媒8ml、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン(BABB)0.711g(2.04mmol)、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)0.500g(2.55mmol)を混合し、70℃のホットスターラー上で30分間撹拌して、均一透明な溶液を得た。該溶液を室温まで冷却後、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(BAPB)0.149g(0.51mmol)を添加して撹拌したところ、著しく増粘したため、上記混合溶媒4mlで希釈し、さらに16時間撹拌して淡黄色の粘調液を得た。
この溶液をPETフィルム上にアプリケータを用いて塗工し、80℃で1時間乾燥させてポリアミド酸のフィルムを得た。このポリアミド酸のフィルムをPETフィルムから剥離し、金属製の枠に固定して、窒素雰囲気下、300℃で1時間熱処理し、イミド化を行った。得られたポリイミドフィルムは厚み15μmで、優れた靭性を有するものであった。
このフィルムについて線膨張率を測定したところ、17.5ppm/℃とかなり低い値を示した。また線膨張率の曲線の変曲点より求めたガラス転移温度は316℃と高い耐熱性を示した。また、このフィルムについて熱分解特性を評価したところ、5%重量減少温度は467℃と良好な値を示した。また、透明性を評価したところ、380nm〜780nmの可視光線の透過率の平均値(T)は83.2%、400nmでの透過率(T400)は68.6%、吸収端波長(Cut Off)は320nmであり、高い透明性を示した。評価結果を表1に示す。
[Example 1]
In a nitrogen-substituted glass container, 8 ml of a 50:50 mixed solvent of 4 ml of N, N-dimethylacetamide and 4 ml of ethylene carbonate, 0.711 g of 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene (BABB) (2. 04 mmol), 0.500 g (2.55 mmol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and stirring on a hot stirrer at 70 ° C. for 30 minutes to obtain a homogeneous transparent solution Got. After cooling the solution to room temperature, 0.149 g (0.51 mmol) of 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (BAPB) was added and stirred. The mixture was further stirred for 16 hours to obtain a pale yellow viscous liquid.
This solution was applied onto a PET film using an applicator and dried at 80 ° C. for 1 hour to obtain a polyamic acid film. The polyamic acid film was peeled from the PET film, fixed to a metal frame, and heat-treated at 300 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to perform imidization. The obtained polyimide film had a thickness of 15 μm and excellent toughness.
When the linear expansion coefficient of this film was measured, it showed a considerably low value of 17.5 ppm / ° C. Moreover, the glass transition temperature calculated | required from the inflection point of the curve of a linear expansion coefficient showed 316 degreeC and high heat resistance. Moreover, when the thermal decomposition characteristic was evaluated about this film, 5% weight reduction temperature showed a favorable value with 467 degreeC. When the transparency was evaluated, the average value (T) of the visible light transmittance of 380 nm to 780 nm was 83.2%, the transmittance at 400 nm (T 400 ) was 68.6%, and the absorption edge wavelength (Cut Off) was 320 nm, indicating high transparency. The evaluation results are shown in Table 1.
[実施例2〜4]
実施例1において、BABBとBAPBの比率を変更した以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを作製した。得られたフィルムは、いずれも高い透明性を示し、優れた靭性を有するものであった。評価結果を表1に示す。
実施例2のポリイミドフィルムのFT−IRスペクトルを図1に示す。
[Examples 2 to 4]
A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1 except that the ratio of BABB and BAPB was changed in Example 1. The obtained films all showed high transparency and had excellent toughness. The evaluation results are shown in Table 1.
The FT-IR spectrum of the polyimide film of Example 2 is shown in FIG.
[実施例5]
実施例1において、BABBとBAPBの比率を90:10に変更した以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを作製した。得られたフィルムは、高い透明性を有し、非常に低い線膨張率を示した。評価結果を表1に示す。
[Example 5]
A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1 except that the ratio of BABB and BAPB was changed to 90:10 in Example 1. The obtained film had high transparency and showed a very low coefficient of linear expansion. The evaluation results are shown in Table 1.
[比較例1]
実施例1において、BABBを使用せず、BAPBを0.745g(2.55mmol)用いた以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを作製した。得られたポリイミドフィルムはほぼ無色透明の靭性を有するものであったが、線膨張率が50ppm/℃を超える大きいものであった。評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
In Example 1, a polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 except that BABB was not used and 0.745 g (2.55 mmol) of BAPB was used. The obtained polyimide film had almost colorless and transparent toughness, but had a large linear expansion coefficient exceeding 50 ppm / ° C. The evaluation results are shown in Table 1.
実施例および比較例の評価結果 Evaluation results of examples and comparative examples
[実施例6]
窒素置換したガラス容器中で、十分に脱水したN−メチル−2−ピロリドンとγ−ブチロラクトンの50:50の混合溶媒8ml、2,5−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)トルエン(BABT)0.647g(1.79mmol)、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)0.500g(2.55mmol)を混合し、70℃のホットスターラー上で1時間撹拌して、均一透明な溶液を得た。該溶液を室温まで冷却後、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(BAPB)0.224g(0.77mmol)を添加して撹拌したところ、著しく増粘したため、上記混合溶媒4mlで希釈し、さらに70℃のホットスターラー上で20分間撹拌して淡黄色の粘調液を得た。
この溶液をガラス上にアプリケータを用いて塗工し、80℃で1時間乾燥させてポリアミド酸のフィルムを得た。このポリアミド酸のフィルムをPETフィルムから剥離し、金属製の枠に固定して、窒素雰囲気下、300℃で1時間熱処理し、イミド化を行った。得られたポリイミドフィルムは厚み14μmで、靭性に優れるものであった。
このフィルムについて線膨張率を測定したところ、27.2ppm/℃と低い値を示した。また線膨張率の曲線の変曲点より求めたガラス転移温度は323℃と高い耐熱性を示した。また、このフィルムについて熱分解特性を評価したところ、5%重量減少温度は465℃と良好な値を示した。また、透明性を評価したところ、380nm〜780nmの可視光線の透過率の平均値(T)は86.0%、400nmでの透過率(T400)は77.6%、吸収端波長(Cut Off)は320nmであり、高い透明性を示した。
[Example 6]
In a nitrogen-substituted glass container, 8 ml of a 50:50 mixed solvent of sufficiently dehydrated N-methyl-2-pyrrolidone and γ-butyrolactone, 2,5-bis (4-aminobenzoyloxy) toluene (BABT) 0. 647 g (1.79 mmol) and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) 0.500 g (2.55 mmol) were mixed and stirred on a hot stirrer at 70 ° C. for 1 hour. A homogeneous transparent solution was obtained. After the solution was cooled to room temperature, 0.224 g (0.77 mmol) of 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (BAPB) was added and stirred. The mixture was further stirred for 20 minutes on a hot stirrer at 70 ° C. to obtain a pale yellow viscous liquid.
This solution was coated on glass using an applicator and dried at 80 ° C. for 1 hour to obtain a polyamic acid film. The polyamic acid film was peeled from the PET film, fixed to a metal frame, and heat-treated at 300 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to perform imidization. The obtained polyimide film had a thickness of 14 μm and was excellent in toughness.
When the linear expansion coefficient of this film was measured, it showed a low value of 27.2 ppm / ° C. Moreover, the glass transition temperature calculated | required from the inflection point of the curve of a linear expansion coefficient showed high heat resistance with 323 degreeC. Moreover, when the thermal decomposition characteristic was evaluated about this film, the 5% weight loss temperature showed a favorable value with 465 degreeC. When the transparency was evaluated, the average value (T) of the transmittance of visible light from 380 nm to 780 nm was 86.0%, the transmittance at 400 nm (T 400 ) was 77.6%, and the absorption edge wavelength (Cut Off) was 320 nm, indicating high transparency.
本発明のポリイミドは、透明性、耐熱性に優れ、低線膨張率を有するため、光学材料分野におけるフィルムおよび基材、ならびに電子材料分野における保護膜、絶縁膜、およびフレキシブルプリント回路基板等に好適に使用することができる。 The polyimide of the present invention is excellent in transparency and heat resistance, and has a low coefficient of linear expansion, so it is suitable for films and substrates in the field of optical materials, protective films, insulating films, flexible printed circuit boards in the field of electronic materials Can be used for
Claims (5)
式(I)
式(II)
Formula (I)
Formula (II)
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物と、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンおよび/または2,5−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)トルエンと、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンと、を反応させてポリアミド酸を得る工程、
前記ポリアミド酸をイミド化する工程を含む、ポリイミドの製造方法。 It is a manufacturing method of the polyimide according to any one of claims 1 to 3,
1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene and / or 2,5-bis (4-aminobenzoyloxy) toluene, Reacting 4-bis (4-aminophenoxy) benzene with polyamic acid;
The manufacturing method of a polyimide including the process of imidating the said polyamic acid.
式(III)
式(IV)
Formula (III)
Formula (IV)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008139822A JP4829925B2 (en) | 2008-05-28 | 2008-05-28 | Polyimide and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009286876A true JP2009286876A (en) | 2009-12-10 |
JP4829925B2 JP4829925B2 (en) | 2011-12-07 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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JP (1) | JP4829925B2 (en) |
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