KR20230066345A - Polymer composition, varnish, and polyimide film - Google Patents

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요헤이 아비코
아오이 다이토
켄타로 이시이
타카히로 무라야
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드
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Abstract

하기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 하기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 중합체(X)와, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물(Y)을 포함하는, 중합체 조성물.

Figure pct00017

(식(1) 중, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다. 식(2) 중, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이다. 식(3) 중, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, n은 0~2이다.)Polymer (X) containing at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2), and a compound represented by the following general formula (3) A polymer composition comprising (Y).
Figure pct00017

(In Formula (1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring. In Formula (2), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each Independently, it is hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. At least one selected from the group consisting of a loyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group, and n is 0 to 2.)

Description

중합체 조성물, 바니시, 및 폴리이미드 필름Polymer composition, varnish, and polyimide film

본 발명은 중합체 조성물, 바니시, 및 폴리이미드 필름에 관한 것이다.The present invention relates to polymer compositions, varnishes, and polyimide films.

폴리이미드 수지는, 우수한 기계적 특성 및 내열성을 갖는 점에서, 전기·전자부품 등의 분야에 있어서 다양한 이용이 검토되고 있다. 예를 들어, 액정 디스플레이나 OLED 디스플레이 등의 화상표시장치에 이용되는 유리기판을 폴리이미드 필름기판으로 대체하는 것이 요망되고 있으며, 광학재료로서의 성능을 만족시키는 폴리이미드 수지의 개발이 행해지고 있다.Since polyimide resins have excellent mechanical properties and heat resistance, various uses are being studied in fields such as electric/electronic parts. For example, it is desired to replace glass substrates used in image display devices such as liquid crystal displays and OLED displays with polyimide film substrates, and development of polyimide resins satisfying performance as optical materials is being conducted.

그러나, 최근, 전자기기의 고기능화에 의해, 전자부품에는 다양한 요구성능을 동시에 만족시킬 필요성이 발생하고 있다. 그래서, 디스플레이에 사용되는 폴리이미드 수지에 대해서도, 다양한 첨가제를 배합함으로써, 수지 본래의 성질에 새로운 성질을 부가하는 것이나, 본래의 성질을 높이는 시도도 이루어지고 있다.However, in recent years, due to the high functionality of electronic devices, there is a need for electronic parts to simultaneously satisfy various required performances. [0004] Therefore, attempts have been made to add new properties to the original properties of the resin or to improve the original properties by blending various additives with respect to polyimide resins used in displays.

예를 들어, 특허문헌 1에는, 내열성, 기계적 특성에 더하여, 결정화의 방지와 층 형성시간의 단축화를 목적으로 하여, 특정한 폴리아믹산과, 특정한 인 화합물을 포함하고, 상기 폴리아믹산이, 최고가열온도를 300~500℃로 하는 조건하에서 가열처리함으로써, 큰 수증기 투과계수를 갖는 폴리이미드 필름을 제조할 수 있는 폴리이미드 전구체 조성물이 개시되어 있다.For example, in Patent Document 1, in addition to heat resistance and mechanical properties, for the purpose of preventing crystallization and shortening the layer formation time, a specific polyamic acid and a specific phosphorus compound are included, and the polyamic acid has a maximum heating temperature A polyimide precursor composition capable of producing a polyimide film having a high water vapor transmission coefficient by heat-treating under conditions of 300 to 500° C. is disclosed.

또한, 특허문헌 2에는, 투명성, 내열성, 저선열팽창계수를 갖는 폴리이미드를 얻는 것을 목적으로 하여, 특정한 반복단위를 갖는 폴리이미드 전구체와, 인원자를 포함하고, 1기압에 있어서의 비점이 분해온도보다 낮으며, 또한, 350℃ 이하인 인 화합물을 포함하는 폴리이미드 전구체 조성물이 개시되어 있다.Further, in Patent Document 2, for the purpose of obtaining a polyimide having transparency, heat resistance, and a low linear thermal expansion coefficient, a polyimide precursor having a specific repeating unit and a phosphorus atom are included, and the boiling point at 1 atm is higher than the decomposition temperature A polyimide precursor composition comprising a phosphorus compound that is low and is 350° C. or less is disclosed.

국제공개 제2016/121817호International Publication No. 2016/121817 국제공개 제2015/080139호International Publication No. 2015/080139

상기와 같이 폴리이미드 필름은 유리기판을 대체하는 것이 요구되고 있고, 기계적 특성이나 내열성뿐만 아니라, 높은 무색투명성이 요구된다. 그러나, 이들 성능을 양립하는 것은 어려우며, 첨가제를 배합함으로써, 내열성을 높였다고 해도, 황변 등을 방지하는 것은 곤란하였다.As described above, polyimide films are required to replace glass substrates, and high colorless transparency as well as mechanical properties and heat resistance are required. However, it is difficult to achieve both these performances, and it is difficult to prevent yellowing or the like even if heat resistance is improved by blending additives.

또한, 폴리이미드 자체에서 무색투명성을 발현하기 위해서는, 분자 간 또는 분자 내의 전하이동착체 형성을 억제하기 위해, 일반적으로 지방족 디아민이나 함불소디아민이 사용된다. 그러나, 예를 들어 디스플레이를 제조할 때의 TFT를 제조하는 공정에 있어서의 350℃ 이상과 같은 가혹한 조건에 있어서는, 지방족 디아민은 방향족 디아민에 비해 강직함이 부족하기 때문에, 내열성을 발현하기 어렵고, 또한, 함불소디아민도 고온에서는 무색투명성이 손상된다. 그 때문에, 특히 내열성이 우수하고, 황색도가 낮은 폴리이미드 필름이 요구되고 있었다.Further, in order to express colorless transparency in polyimide itself, aliphatic diamine or fluorine-containing diamine is generally used to suppress formation of charge transfer complexes between molecules or within molecules. However, under severe conditions such as 350 ° C. or higher in the process of manufacturing TFTs when manufacturing displays, for example, since aliphatic diamines lack rigidity compared to aromatic diamines, it is difficult to develop heat resistance, and Fluorinated diamine also loses colorless transparency at high temperatures. Therefore, a polyimide film having particularly excellent heat resistance and low yellowness has been demanded.

본 발명은 이러한 상황을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 과제는, 내열성이 우수하고, 황색도가 낮은 폴리이미드 필름을 얻을 수 있는 중합체 조성물, 이 조성물을 포함하는 바니시, 및 내열성이 우수하고, 황색도가 낮은 폴리이미드 필름을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is a polymer composition capable of obtaining a polyimide film having excellent heat resistance and low yellowness, a varnish containing the composition, and excellent heat resistance and yellowing It is to provide a polyimide film with a low degree.

본 발명자들은, 특정한 함불소디아민과 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 테트라카르본산유래의 반복단위를 포함하는 중합체와 특정한 인 화합물을 포함하는 중합체 조성물이 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 발명을 완성시키기에 이르렀다.The present inventors have found that a polymer composition containing a specific fluorodiamine, a polymer containing a repeating unit derived from tetracarboxylic acid having an alicyclic structure or an aromatic ring, and a specific phosphorus compound can solve the above problems, and completed the invention. I came to do it.

즉, 본 발명은, 하기 [1]~[7]에 관한 것이다.That is, the present invention relates to the following [1] to [7].

[1] 하기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 하기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 중합체(X)와, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물(Y)을 포함하는, 중합체 조성물.[1] Polymer (X) containing at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2), and the following general formula (3) A polymer composition comprising the indicated compound (Y).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식(1) 중, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다.(In Formula (1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring.

식(2) 중, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이다.In Formula (2), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.

식(3) 중, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, n은 0~2이다.)In formula (3), R 3 is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group. At least one, and n is 0 to 2.)

[2] 상기 식(1)로 표시되는 반복단위가, 상기 중합체(X)의 전체 반복단위에 대하여 10몰% 이상인, 상기 [1]에 기재된 중합체 조성물.[2] The polymer composition according to [1] above, wherein the repeating unit represented by the formula (1) is 10 mol% or more with respect to all the repeating units of the polymer (X).

[3] 상기 식(2)로 표시되는 반복단위가, 상기 중합체(X)의 전체 반복단위에 대하여 10몰% 이상인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 중합체 조성물.[3] The polymer composition according to [1] or [2] above, wherein the repeating unit represented by the formula (2) is 10 mol% or more with respect to all the repeating units of the polymer (X).

[4] 화합물(Y)의 함유량이, 중합체(X)에 대하여 10ppm 이상 10,000ppm 이하인, 상기 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 중합체 조성물.[4] The polymer composition according to any one of [1] to [3] above, wherein the content of compound (Y) is 10 ppm or more and 10,000 ppm or less relative to polymer (X).

[5] 상기 [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 중합체 조성물이 유기용매에 용해되어 이루어지는 바니시.[5] A varnish obtained by dissolving the polymer composition according to any one of [1] to [4] above in an organic solvent.

[6] 상기 [5]에 기재된 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하여 얻어지는, 폴리이미드 필름.[6] A polyimide film obtained by applying the varnish according to [5] above on a support and heating it.

[7] 상기 [5]에 기재된 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하는, 폴리이미드 필름의 제조방법.[7] A method for producing a polyimide film, wherein the varnish according to [5] above is applied onto a support and heated.

본 발명에 따르면, 내열성이 우수하고, 황색도가 낮은 폴리이미드 필름을 얻을 수 있는 중합체 조성물, 이 조성물을 포함하는 바니시, 및 내열성이 우수하고, 황색도가 낮은 폴리이미드 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, a polymer composition capable of obtaining a polyimide film having excellent heat resistance and low yellowness, a varnish containing the composition, and a polyimide film having excellent heat resistance and low yellowness can be provided.

[중합체 조성물][Polymer composition]

본 발명의 중합체 조성물은, 하기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 하기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 중합체(X)와, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물(Y)을 포함한다.The polymer composition of the present invention comprises a polymer (X) containing at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2), and the following general formula The compound (Y) represented by (3) is included.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식(1) 중, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다.(In Formula (1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring.

식(2) 중, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이다.In Formula (2), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.

식(3) 중, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, n은 0~2이다.)In formula (3), R 3 is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group. At least one, and n is 0 to 2.)

본 발명의 중합체 조성물이 폴리이미드 필름의 원료로서 우수하고, 얻어진 폴리이미드 필름이, 우수한 내열성을 갖고, 황색도도 낮다는 우수한 특성을 갖는 이유는 확실하지는 않으나, 다음과 같이 생각된다.The reason why the polymer composition of the present invention is excellent as a raw material for a polyimide film and the obtained polyimide film has excellent properties such as excellent heat resistance and low yellowness is not certain, but it is considered as follows.

본 발명의 중합체 조성물은, 특정한 인 화합물을 포함하는데, 중합체를 이미드화하여 얻어지는 폴리이미드의 말단에 해당 인 화합물이 배위, 혹은 폴리이미드의 말단과 해당 인 화합물이 반응함으로써, 특히 고온에 있어서의 말단의 부반응 혹은 분해열화 등을 억제할 수 있고, 나아가 함불소디아민에서 유래하는 불소의 탈리를 억제할 수 있는 것으로 생각되고, 이에 따라 내열성과 저황색도를 양립할 수 있는 것으로 생각된다.The polymer composition of the present invention contains a specific phosphorus compound, but the phosphorus compound coordinates with the terminal of a polyimide obtained by imidizing the polymer, or the terminal of the polyimide and the phosphorus compound react, particularly at a high temperature. It is thought that the side reaction or decomposition deterioration of can be suppressed, and furthermore, the desorption of fluorine derived from the fluorinated diamine can be suppressed, thereby achieving both heat resistance and low yellowness.

<중합체(X)><Polymer (X)>

본 발명의 중합체 조성물에 포함되는 중합체(X)는, 하기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 하기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함한다.The polymer (X) contained in the polymer composition of the present invention contains at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2).

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

(식(1) 중, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다.(In Formula (1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring.

식(2) 중, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이다.)In Formula (2), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. )

중합체(X)에 포함되는 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위는, 바람직하게는 하기 일반식(1-1)로 표시되는 반복단위이다.The repeating unit represented by the general formula (1) contained in the polymer (X) is preferably a repeating unit represented by the following general formula (1-1).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식(1-1) 중, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다.)(In Formula (1-1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring.)

중합체(X)에 포함되는 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위는, 바람직하게는 하기 일반식(2-1)로 표시되는 반복단위이다.The repeating unit represented by the general formula (2) contained in the polymer (X) is preferably a repeating unit represented by the following general formula (2-1).

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(식(2-1) 중, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이다.)(In Formula (2-1), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl having 3 to 9 carbon atoms) It is Ki.)

중합체(X)에는, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는데, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위, 또는 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위 중 어느 하나만을 포함하고 있을 수도 있고, 양방을 포함하고 있을 수도 있다.The polymer (X) includes at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the general formula (1) and a repeating unit represented by the general formula (2). It may contain only one of the repeating unit or the repeating unit represented by the above general formula (2), or may contain both.

즉, 본 발명의 중합체 조성물은, 하기 일반식(1)로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리이미드와, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물(Y)을 포함하는, 폴리이미드 조성물일 수도 있고,That is, the polymer composition of the present invention may be a polyimide composition containing a polyimide containing a repeating unit represented by the following general formula (1) and a compound (Y) represented by the following general formula (3). ,

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식(1) 중, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다. 식(3) 중, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, n은 0~2이다.)(In Formula (1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring. In Formula (3), R 3 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, or a methacrylic group. At least one selected from the group consisting of a loyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group, and n is 0 to 2.)

하기 일반식(2)로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리아미드산과, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물(Y)을 포함하는, 폴리아미드산 조성물일 수도 있다.A polyamic acid composition containing a polyamic acid containing a repeating unit represented by the following general formula (2) and a compound (Y) represented by the following general formula (3) may also be used.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

(식(2) 중, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이다. 식(3) 중, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, n은 0~2이다.)(In formula (2), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. In Formula (3), R 3 is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group. is at least one, and n is 0 to 2.)

중합체(X)에는, 바람직하게는 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위를 포함하고, 보다 바람직하게는 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위와 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위의 양방을 포함한다.The polymer (X) preferably contains a repeating unit represented by the above general formula (1), more preferably a repeating unit represented by the above general formula (1) and a repeating unit represented by the above general formula (2). Includes both sides of the unit.

상기 식(1)에 있어서, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다. X1은, 후술하는 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위A의 원료가 되는 테트라카르본산 이무수물로부터 2개의 디카르본산 무수물부분(4개의 카르복시기부분)을 제거한 것이 바람직하다.In the formula (1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring. X 1 is preferably obtained by removing two dicarboxylic acid anhydride moieties (four carboxy group moieties) from tetracarboxylic dianhydride, which is a raw material for constituent unit A derived from tetracarboxylic dianhydride described later.

상기 식(2)에 있어서, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다. X2는, 후술하는 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위A의 원료가 되는 테트라카르본산 이무수물로부터 2개의 디카르본산 무수물부분(4개의 카르복시기부분)을 제거한 것이 바람직하다.In the formula (2), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring. X 2 is preferably obtained by removing two dicarboxylic acid anhydride moieties (four carboxy group moieties) from tetracarboxylic dianhydride, which is a raw material for constituent unit A derived from tetracarboxylic dianhydride described later.

상기 식(2)에 있어서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이고, 바람직하게는 수소이다.In the formula (2), R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms, preferably hydrogen.

(중합체(X)의 구성)(Configuration of Polymer (X))

상기와 같이, 중합체(X)에는, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하고, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위, 또는 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위 중 어느 하나만을 포함하고 있을 수도 있고, 양방을 포함하고 있을 수도 있는데, 특히 황색도 저감, 투명성 향상의 관점에서, 상기 식(1)로 표시되는 반복단위가, 상기 중합체(X)의 전체 반복단위에 대하여, 바람직하게는 10몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 30몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 50몰% 이상이고, 보다 더 바람직하게는 70몰% 이상이고, 보다 더 바람직하게는 90몰% 이상이고, 100몰% 이하이다.As described above, the polymer (X) contains at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the above general formula (1) and a repeating unit represented by the above general formula (2), ), or may contain only one of the repeating units represented by the general formula (2), or may contain both. In particular, from the viewpoint of reducing yellowness and improving transparency, the formula The repeating unit represented by (1) is preferably 10 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 50 mol% or more, based on all repeating units of the polymer (X). , More preferably, it is 70 mol% or more, and even more preferably 90 mol% or more and 100 mol% or less.

또한, 저황색도를 유지하면서, 내열성도 향상시키는 관점에서, 상기 식(2)로 표시되는 반복단위가, 상기 중합체(X)의 전체 반복단위에 대하여, 바람직하게는 10몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 30몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 50몰% 이상이고, 보다 더 바람직하게는 70몰% 이상이고, 보다 더 바람직하게는 90몰% 이상이고, 100몰% 이하이다.In addition, from the viewpoint of improving heat resistance while maintaining low yellowness, the repeating unit represented by the formula (2) is preferably 10 mol% or more with respect to all repeating units of the polymer (X), and more It is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, even more preferably 70 mol% or more, still more preferably 90 mol% or more, and 100 mol% or less.

또한, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위의 양방을 포함하는 경우, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위와 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위의 몰비[(1)/(2)]는, 바람직하게는 10/90~70/30, 보다 바람직하게는 20/80~60/40, 더욱 바람직하게는 25/75~55/45이다.Further, when both the repeating unit represented by the general formula (1) and the repeating unit represented by the general formula (2) are included, the repeating unit represented by the general formula (1) and the repeating unit represented by the general formula (2) The molar ratio of repeating units represented by [(1)/(2)] is preferably 10/90 to 70/30, more preferably 20/80 to 60/40, still more preferably 25/75 to 55 /45.

<중합체(X)의 각 구성단위><Each structural unit of polymer (X)>

중합체(X)는, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는데, 이 중합체를 구성하는 구성단위에 대하여 이하에 설명한다.Polymer (X) contains at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the formula (1) and a repeating unit represented by the formula (2) explained below.

중합체(X)는, 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 갖는다.Polymer (X) has structural unit A derived from tetracarboxylic dianhydride and structural unit B derived from diamine.

한편, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위에 있어서는, 구성단위A 및 구성단위B는 이미드구조를 형성하고, 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위에 있어서는, 구성단위A 및 구성단위B는 아미드산구조를 형성하고 있는데, 모두 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위를 구성단위A, 디아민에서 유래하는 구성단위를 구성단위B라고 총칭한다.On the other hand, in the repeating unit represented by the general formula (1), the structural unit A and the structural unit B form an imide structure, and in the repeating unit represented by the general formula (2), the structural unit A and the structural unit Unit B forms an amide acid structure, and structural units derived from tetracarboxylic dianhydride are collectively referred to as structural unit A and structural units derived from diamine as structural unit B.

(구성단위A)(unit A)

구성단위A는, 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위이며, 지환식 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위 및 방향족 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, 저황색도 및 투명성의 관점에서, 바람직하게는 지환식 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위이고, 내열성의 관점에서, 바람직하게는 방향족 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위이다.Structural unit A is a structural unit derived from tetracarboxylic dianhydride, and is at least one selected from the group consisting of structural units derived from alicyclic tetracarboxylic dianhydride and structural units derived from aromatic tetracarboxylic dianhydride; , From the viewpoint of low yellowness and transparency, it is preferably a structural unit derived from an alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and from the viewpoint of heat resistance, it is preferably a structural unit derived from an aromatic tetracarboxylic dianhydride.

지환식 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위를 부여하는 지환식 테트라카르본산 이무수물로는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 노보난-2-스피로-α-시클로펜탄온-α’-스피로-2’’-노보난-5,5’’,6,6’’-테트라카르본산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥타-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 이무수물, 디시클로헥실테트라카르본산 이무수물, 5,5’-(1,4-phenylene)-bis[hexahydro-4,7-Methanoisobenzofuran-1,3-dione], 5,5’-비스-2-노보넨-5,5’,6,6’-테트라카르본산-5,5’,6,6’-이무수물, 또는 이들의 위치이성체 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride giving structural units derived from the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclohexane. Butanetetracarboxylic dianhydride, norbonane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbonane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, Bicyclo[2.2.2]octa-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, 5,5'-(1,4-phenylene)-bis [hexahydro-4,7-methanoisobenzofuran-1,3-dione], 5,5'-bis-2-norbornene-5,5',6,6'-tetracarboxylic acid-5,5',6,6 '-dianhydrides, or regioisomers thereof, and the like are exemplified.

이들 중에서도, 저황색도 및 투명성의 관점에서, 바람직하게는 하기 식(a1)로 표시되는 화합물이고, 구성단위A는 바람직하게는 식(a1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A1)를 포함한다.Among these, from the viewpoint of low yellowness and transparency, a compound represented by the following formula (a1) is preferred, and the structural unit A is preferably a structural unit (A1) derived from a compound represented by the formula (a1). include

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

식(a1)로 표시되는 화합물은, 노보난-2-스피로-α-시클로펜탄온-α’-스피로-2’’-노보난-5,5’’,6,6’’-테트라카르본산 이무수물이다.The compound represented by formula (a1) is norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbonane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid It is dianhydride.

방향족 테트라카르본산 이무수물에서 유래하는 구성단위를 부여하는 방향족 테트라카르본산 이무수물로는, 비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA), 9,9-비스(3,4-디카르복시페닐)플루오렌 이무수물(BPAF), 피로멜리트산 이무수물, 3,3’,4,4’-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물, 3,3’,4,4’-디페닐설폰테트라카르본산 이무수물, 3,3’,4,4’-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 2,2’,3,3’-벤조페논테트라카르본산 이무수물 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride giving structural units derived from aromatic tetracarboxylic dianhydride include biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene. Dianhydride (BPAF), pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfotetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, and the like.

이들 중에서도, 내열성과 저황색도를 양립시키는 관점에서, 바람직하게는 하기 식(a2)로 표시되는 화합물 및 하기 식(a3)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, 보다 바람직하게는 하기 식(a2)로 표시되는 화합물이다.Among these, from the viewpoint of achieving both heat resistance and low yellowness, it is preferably at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (a2) and a compound represented by the following formula (a3), more preferably It is a compound represented by the following formula (a2).

즉, 구성단위A는 바람직하게는 하기 식(a2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A2) 및 하기 식(a3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하고, 보다 바람직하게는 하기 식(a2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A2)를 포함한다.That is, the structural unit A is preferably selected from the group consisting of a structural unit (A2) derived from a compound represented by the following formula (a2) and a structural unit (A3) derived from a compound represented by the following formula (a3) It contains at least one, more preferably a structural unit (A2) derived from a compound represented by the following formula (a2).

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식(a2)로 표시되는 화합물은, 비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA)이고, 그 구체예로는, 하기 식(a2s)로 표시되는 3,3’,4,4’-비페닐테트라카르본산 이무수물(s-BPDA), 하기 식(a2a)로 표시되는 2,3,3’,4’-비페닐테트라카르본산 이무수물(a-BPDA), 하기 식(a2i)로 표시되는 2,2’,3,3’-비페닐테트라카르본산 이무수물(i-BPDA)을 들 수 있다. 그 중에서도, 하기 식(a2s)로 표시되는 3,3’,4,4’-비페닐테트라카르본산 이무수물(s-BPDA)이 바람직하다.The compound represented by the formula (a2) is biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), and specific examples thereof include 3,3',4,4'-biphenyltetracarb represented by the following formula (a2s) 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) represented by basal acid dianhydride (s-BPDA), the following formula (a2a), 2 represented by the following formula (a2i), and 2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (i-BPDA). Especially, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) represented by the following formula (a2s) is preferable.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

식(a3)으로 표시되는 화합물은, 9,9’-비스(3,4-디카르복시페닐)플루오렌 이무수물(BPAF)이다.The compound represented by formula (a3) is 9,9'-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride (BPAF).

구성단위A는, 방향족 테트라카르본산 이무수물 및 지환식 테트라카르본산 이무수물 이외의 구성단위를 포함할 수도 있다. 그러한 구성단위를 부여하는 테트라카르본산 이무수물로는, 특별히 한정되지 않는데, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 이무수물 등의 지방족 테트라카르본산 이무수물을 들 수 있다.Structural unit A may also contain structural units other than aromatic tetracarboxylic dianhydride and alicyclic tetracarboxylic dianhydride. Although it does not specifically limit as a tetracarboxylic acid dianhydride which gives such a structural unit, Aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride, such as 1,2,3,4-butane tetracarboxylic acid dianhydride, is mentioned.

구성단위A에 임의로 포함되는 구성단위는, 1종이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.The structural unit arbitrarily contained in structural unit A may be 1 type, or 2 or more types may be sufficient as it.

한편, 본 명세서에 있어서, 방향족 테트라카르본산 이무수물이란 방향환을 1개 이상 포함하는 테트라카르본산 이무수물을 의미하고, 지환식 테트라카르본산 이무수물이란 지환을 1개 이상 포함하고, 또한 방향환을 포함하지 않는 테트라카르본산 이무수물을 의미하고, 지방족 테트라카르본산 이무수물이란 방향환도 지환도 포함하지 않는 테트라카르본산 이무수물을 의미한다.Meanwhile, in the present specification, an aromatic tetracarboxylic dianhydride means a tetracarboxylic dianhydride containing one or more aromatic rings, and an alicyclic tetracarboxylic dianhydride includes one or more alicyclic rings and also an aromatic ring. means a tetracarboxylic dianhydride that does not contain, and the aliphatic tetracarboxylic dianhydride means a tetracarboxylic dianhydride that does not contain either an aromatic ring or an alicyclic ring.

(구성단위B)(unit B)

구성단위B는, 디아민에서 유래하는 구성단위이고, 식(b1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B1)를 포함한다.Structural unit B is a structural unit derived from diamine and contains structural unit (B1) derived from the compound represented by formula (b1).

구성단위B에 구성단위(B1)를 포함함으로써, 내열성이 우수하고, 특히 화합물(Y)과 조합되었을 때에, 황색도를 저감하는 효과가 우수하다.By including the structural unit (B1) in the structural unit B, heat resistance is excellent, and the effect of reducing yellowness is excellent, especially when combined with the compound (Y).

구성단위B 중의 구성단위(B1)의 비율은, 바람직하게는 45몰% 이상, 보다 바람직하게는 70몰% 이상, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상, 특히 바람직하게는 99몰% 이상이다. 그 비율의 상한값은 특별히 한정되지 않고, 100몰% 이하이다.The proportion of the structural unit (B1) in the structural unit B is preferably 45 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 90 mol% or more, and particularly preferably 99 mol% or more. The upper limit of the ratio is not particularly limited, and is 100 mol% or less.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

구성단위(B1)는, 바람직하게는 하기 식(b11)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B11)를 포함하고, 구성단위(B1)는, 보다 바람직하게는 하기 식(b11)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B11)이다.The structural unit (B1) preferably includes a structural unit (B11) derived from a compound represented by the following formula (b11), and the structural unit (B1) is more preferably represented by the following formula (b11) It is a structural unit (B11) derived from a compound.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식(b11)로 표시되는 화합물은, 2,2’-비스(트리플루오로메틸)-4,4’-디아미노디페닐에테르(6FODA)이다.The compound represented by formula (b11) is 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl ether (6FODA).

구성단위B에 구성단위(B11)를 포함함으로써, 특히 화합물(Y)과 조합되었을 때에, 황색도를 저감하는 효과가 우수하다.By including structural unit (B11) in structural unit B, especially when combined with compound (Y), the effect of reducing yellowness is excellent.

구성단위B는, 구성단위(B1) 이외의 구성단위를 포함할 수도 있다. 그러한 구성단위를 부여하는 디아민으로는, 특별히 한정되지 않는데, 4-아미노페닐-4-아미노벤조에이트(4-BAAB), 3,5-디아미노안식향산(3,5-DABA), 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 1,4-페닐렌디아민, p-자일릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,2’-디메틸비페닐-4,4’-디아민, 2,2’-디메틸비페닐-4,4’-디아민, 4,4’-디아미노디페닐메탄, 1,4-비스[2-(4-아미노페닐)-2-프로필]벤젠, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 4,4’-디아미노벤즈아닐리드, 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민, α,α’-비스(4-아미노페닐)-1,4-디이소프로필벤젠, N,N’-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드, 2,2-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판, 및 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠 등의 방향족 디아민; 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 및 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산 등의 지환식 디아민; 그리고 에틸렌디아민 및 헥사메틸렌디아민 등의 지방족 디아민을 들 수 있다.The structural unit B may also contain structural units other than the structural unit (B1). The diamine giving such a structural unit is not particularly limited, but 4-aminophenyl-4-aminobenzoate (4-BAAB), 3,5-diaminobenzoic acid (3,5-DABA), 9,9- Bis (4-aminophenyl) fluorene, 1,4-phenylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine, 2, 2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,4-bis[2-(4-aminophenyl)-2-propyl]benzene, 2,2- Bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane, 4,4'-diaminobenzanilide, 1-(4-aminophenyl)-2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene- 5-Amine, α,α'-bis(4-aminophenyl)-1,4-diisopropylbenzene, N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide, 2,2-bis(3-amino -Aromatic diamines such as 4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane and 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene; alicyclic diamines such as 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane and 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane; and aliphatic diamines such as ethylenediamine and hexamethylenediamine.

이들 중에서도, 바람직하게는 하기 식(b2)로 표시되는 화합물이고, 구성단위B는 바람직하게는 식(b2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B2)를 포함한다.Among these, it is preferably a compound represented by the following formula (b2), and the structural unit B preferably contains a structural unit (B2) derived from a compound represented by the formula (b2).

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식(b2)로 표시되는 화합물은, 4-아미노페닐-4-아미노벤조에이트(4-BAAB)이다.The compound represented by formula (b2) is 4-aminophenyl-4-aminobenzoate (4-BAAB).

한편, 본 명세서에 있어서, 방향족 디아민이란 방향환을 1개 이상 포함하는 디아민을 의미하고, 지환식 디아민이란 지환을 1개 이상 포함하고, 또한 방향환을 포함하지 않는 디아민을 의미하고, 지방족 디아민이란 방향환도 지환도 포함하지 않는 디아민을 의미한다.Meanwhile, in the present specification, aromatic diamine means diamine containing one or more aromatic rings, and alicyclic diamine means diamine containing one or more alicyclic rings and not containing aromatic rings. Aliphatic diamine means diamine containing one or more alicyclic rings. It means diamine containing neither an aromatic ring nor an alicyclic ring.

구성단위B에 임의로 포함되는 구성단위는, 1종이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.The structural unit arbitrarily included in structural unit B may be one kind or two or more kinds.

(중합체(X)의 제조방법)(Method for producing polymer (X))

중합체(X)는 어떠한 방법으로 제조해도 되는데, 다음의 방법에 따른 것이 바람직하다.Polymer (X) may be produced by any method, but the following method is preferred.

상기와 같이, 중합체(X)에는, 상기 일반식(1)로 표시되는 반복단위(즉, 이미드부분), 및 상기 일반식(2)로 표시되는 반복단위(즉, 아미드산부분) 중 어느 하나, 또는 양방을 포함하는데, 제조방법을 변경함으로써, 이들을 조절할 수 있다.As described above, in the polymer (X), any one of the repeating unit represented by the above general formula (1) (ie imide moiety) and the repeating unit represented by the above general formula (2) (ie amide acid moiety) Although one or both are included, these can be adjusted by changing the manufacturing method.

구체적으로는, 식(1)로 표시되는 반복단위와 식(2)로 표시되는 반복단위의 양방을 포함하는 경우의 제조방법(이미드-아미드산 공중합체의 제조방법)에 있어서, 식(1)로 표시되는 반복단위를 주로 포함하는 부분(폴리이미드부분)을 제조하는 공정만을 이용함으로써, 실질적으로 식(1)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리이미드)가 얻어지고, 식(2)로 표시되는 반복단위를 주로 포함하는 부분(폴리아미드산부분)을 제조하는 공정만을 이용함으로써, 실질적으로 식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리아미드산)를 얻을 수 있다.Specifically, in the production method in the case of including both the repeating unit represented by formula (1) and the repeating unit represented by formula (2) (method for producing an imide-amic acid copolymer), formula (1) ) By using only the process for producing a portion (polyimide portion) mainly containing the repeating unit represented by the formula (1), the polymer (X) (polyimide) substantially composed of the repeating unit represented by the formula (1) is obtained, Polymer (X) (polyamic acid) substantially composed of the repeating unit represented by formula (2) can be obtained by using only the process for producing the part mainly containing the repeating unit represented by (2) (polyamic acid part). You can get it.

식(1)로 표시되는 반복단위와 식(2)로 표시되는 반복단위의 양방을 포함하는 중합체(X)(이하 이미드-아미드산 공중합체라고도 한다)는, 다음의 하기 공정1 및 공정2를 갖는 방법에 따른 것이 바람직하다.Polymer (X) containing both the repeating unit represented by formula (1) and the repeating unit represented by formula (2) (hereinafter also referred to as an imide-amic acid copolymer) is the following steps 1 and 2 It is preferable to follow the method with

공정1: 이미드부분을 구성하는 테트라카르본산 성분과, 디아민 성분을 반응시켜, 이미드 올리고머를 얻는 공정Step 1: Step of reacting the tetracarboxylic acid component constituting the imide moiety with the diamine component to obtain an imide oligomer

공정2: 공정1에서 얻어진 이미드 올리고머와, 아미드산부분을 구성하는 테트라카르본산 성분 및 디아민 성분을 반응시켜, 이미드-아미드산 공중합체를 얻는 공정Step 2: Step of reacting the imide oligomer obtained in Step 1 with the tetracarboxylic acid component and diamine component constituting the amide acid moiety to obtain an imide-amic acid copolymer

한편, 공정1에서 모든 테트라카르본산 성분과 디아민 성분을 반응시킴으로써, 실질적으로 식(1)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리이미드)가 얻어진다. 구체적으로는, 실질적으로 식(1)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리이미드)의 제조방법은, 상기 공정1을 「폴리이미드를 구성하는 테트라카르본산 성분과, 디아민 성분을 반응시켜, 폴리이미드를 얻는 공정」으로 바꾸어 읽는다.On the other hand, in step 1, polymer (X) (polyimide) substantially composed of repeating units represented by formula (1) is obtained by reacting all the tetracarboxylic acid components and diamine components. Specifically, the method for producing Polymer (X) (polyimide) substantially composed of repeating units represented by Formula (1) includes the step 1 described above as “reacting the tetracarboxylic acid component constituting the polyimide with the diamine component. process to obtain polyimide”.

또한, 공정1을 행하지 않고, 공정2에서 모든 테트라카르본산 성분과 디아민 성분을 반응시킴으로써, 실질적으로 식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리아미드산)가 얻어진다. 구체적으로는, 실질적으로 식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리아미드산)의 제조방법은, 상기 공정2를 「폴리아미드산을 구성하는 테트라카르본산 성분 및 디아민 성분을 반응시켜, 폴리아미드산을 얻는 공정」으로 바꾸어 읽는다.Further, by reacting all the tetracarboxylic acid components and diamine components in step 2 without performing step 1, polymer (X) (polyamic acid) substantially composed of repeating units represented by formula (2) is obtained. Specifically, the method for producing Polymer (X) (polyamic acid) substantially composed of repeating units represented by formula (2) includes the step 2 described above as “the tetracarboxylic acid component and the diamine component constituting the polyamic acid Reaction to obtain polyamic acid”.

〔공정1〕[Process 1]

공정1은, 이미드부분을 구성하는 테트라카르본산 성분과, 디아민 성분을 반응시켜, 이미드 올리고머를 얻는 공정이다.Step 1 is a step of obtaining an imide oligomer by reacting the tetracarboxylic acid component constituting the imide moiety with the diamine component.

공정1에서 사용하는 테트라카르본산 성분으로는, 구성단위(A1)를 부여하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 그 전체량을 공정1에서 사용하는 것이 바람직하고, 구성단위(A1)를 부여하는 화합물 이외의 테트라카르본산 성분을 포함하고 있을 수도 있다. 구성단위(A1)를 부여하는 화합물 이외의 테트라카르본산 성분으로는, 구성단위(A2)를 부여하는 화합물 또는 구성단위(A3)를 부여하는 화합물이 바람직하다.As the tetracarboxylic acid component used in Step 1, it is preferable to include a compound that imparts the structural unit (A1), and it is preferable to use the entire amount in Step 1, and the compound to impart the structural unit (A1) Other tetracarboxylic acid components may be included. As the tetracarboxylic acid component other than the compound that imparts the structural unit (A1), a compound that imparts the structural unit (A2) or a compound that imparts the structural unit (A3) is preferable.

공정1에서 사용하는 디아민 성분으로는, 구성단위(B1)를 부여하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 구성단위(B1)를 부여하는 화합물 이외의 디아민 성분을 포함하고 있을 수도 있다. 구성단위(B1)를 부여하는 화합물 이외의 테트라카르본산 성분으로는, 구성단위(B2)를 부여하는 화합물이 바람직하다.It is preferable that the diamine component used in step 1 contains the compound which provides structural unit (B1), and the diamine components other than the compound which provides structural unit (B1) are within the range which does not impair the effect of this invention. may contain As the tetracarboxylic acid component other than the compound imparting the structural unit (B1), a compound imparting the structural unit (B2) is preferable.

공정1에 있어서, 테트라카르본산 성분에 대한 디아민 성분은, 1.01~2몰인 것이 바람직하고, 1.05~1.9몰인 것이 보다 바람직하고, 1.1~1.7몰인 것이 더욱 바람직하다.In Step 1, the diamine component relative to the tetracarboxylic acid component is preferably 1.01 to 2 moles, more preferably 1.05 to 1.9 moles, still more preferably 1.1 to 1.7 moles.

한편, 실질적으로 식(1)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리이미드)를 얻는 경우에는, 테트라카르본산 성분에 대한 디아민 성분은, 0.9~1.1몰인 것이 바람직하다.On the other hand, when obtaining polymer (X) (polyimide) which consists of the repeating unit substantially represented by Formula (1), it is preferable that the diamine component with respect to a tetracarboxylic acid component is 0.9-1.1 mol.

공정1에서 이미드 올리고머를 얻기 위한, 테트라카르본산 성분과 디아민 성분을 반응시키는 방법에는 특별히 제한은 없고, 공지의 방법을 이용할 수 있다.There is no particular restriction on the method of reacting the tetracarboxylic acid component and the diamine component to obtain the imide oligomer in Step 1, and a known method can be used.

구체적인 반응방법으로는, (1)테트라카르본산 성분, 디아민 성분, 및 반응용제를 반응기에 투입하고, 10~110℃에서 0.5~30시간 교반하고, 그 후에 승온하여 이미드화 반응을 행하는 방법, (2)디아민 성분 및 반응용제를 반응기에 투입하여 용해시킨 후, 테트라카르본산 성분을 투입하고, 필요에 따라 10~110℃에서 0.5~30시간 교반하고, 그 후에 승온하여 이미드화 반응을 행하는 방법, (3)테트라카르본산 성분, 디아민 성분, 및 반응용제를 반응기에 투입하고, 즉시 승온하여 이미드화 반응을 행하는 방법 등을 들 수 있다.As a specific reaction method, (1) a method of introducing a tetracarboxylic acid component, a diamine component, and a reaction solvent into a reactor, stirring at 10 to 110 ° C. for 0.5 to 30 hours, and then raising the temperature to perform an imidation reaction, ( 2) After dissolving the diamine component and the reaction solvent in a reactor, the tetracarboxylic acid component is added, stirred at 10 to 110 ° C. for 0.5 to 30 hours as necessary, and then the temperature is raised to perform an imidation reaction; (3) A method of introducing a tetracarboxylic acid component, a diamine component, and a reaction solvent into a reactor, immediately raising the temperature to perform an imidation reaction, and the like.

이미드화 반응에서는, 딘스타크장치 등을 이용하여, 제조시에 생성되는 물을 제거하면서 반응을 행하는 것이 바람직하다. 이러한 조작을 행함으로써, 중합도 및 이미드화율을 보다 상승시킬 수 있다.In the imidation reaction, it is preferable to carry out the reaction while removing water generated during production using a Dean Stark apparatus or the like. By performing such an operation, the degree of polymerization and the imidation rate can be further increased.

상기 이미드화 반응에 있어서는, 공지의 이미드화 촉매를 이용할 수 있다. 이미드화 촉매로는, 염기촉매 또는 산촉매를 들 수 있다.In the said imidation reaction, a well-known imidation catalyst can be used. A base catalyst or an acid catalyst is mentioned as an imidation catalyst.

염기촉매로는, 피리딘, 퀴놀린, 이소퀴놀린, α-피콜린, β-피콜린, 2,4-루티딘, 2,6-루티딘, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리에틸렌디아민, 이미다졸, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린 등의 유기염기촉매, 수산화칼륨이나 수산화나트륨, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨 등의 무기염기촉매를 들 수 있다.As the base catalyst, pyridine, quinoline, isoquinoline, α-picoline, β-picoline, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine , organic base catalysts such as triethylenediamine, imidazole, N,N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, inorganic bases such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogencarbonate, and sodium hydrogencarbonate A catalyst can be mentioned.

또한, 산촉매로는, 크로톤산, 아크릴산, 트랜스-3-헥세노익산, 계피산, 안식향산, 메틸안식향산, 옥시안식향산, 테레프탈산, 벤젠설폰산, 파라톨루엔설폰산, 나프탈렌설폰산 등을 들 수 있다. 상기 이미드화 촉매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Examples of the acid catalyst include crotonic acid, acrylic acid, trans-3-hexenoic acid, cinnamic acid, benzoic acid, methyl benzoic acid, oxybenzoic acid, terephthalic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and naphthalenesulfonic acid. The said imidation catalyst can also be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 중, 취급성의 관점에서, 염기촉매가 바람직하고, 유기염기촉매가 보다 바람직하고, 트리에틸아민 및 트리에틸렌디아민으로부터 선택되는 1종 이상이 더욱 바람직하고, 트리에틸아민이 보다 더 바람직하다.Among the above, from the viewpoint of handleability, base catalysts are preferred, organic base catalysts are more preferred, at least one selected from triethylamine and triethylenediamine is still more preferred, and triethylamine is still more preferred.

이미드화 반응의 온도는, 반응률 및 겔화 등의 억제의 관점에서, 바람직하게는 120~250℃, 보다 바람직하게는 160~200℃이다. 또한, 반응시간은, 생성수의 유출(留出) 개시 후, 바람직하게는 0.5~10시간이다.The temperature of the imidation reaction is preferably 120 to 250°C, more preferably 160 to 200°C, from the viewpoint of reaction rate and suppression of gelation and the like. In addition, the reaction time is preferably 0.5 to 10 hours after the start of distillation of generated water.

공정1에서 얻어진 이미드 올리고머는, 구성단위(A1)를 부여하는 화합물과 구성단위(B1)를 부여하는 화합물로 형성되는 이미드 반복구조단위를 갖는 것이 바람직하다.The imide oligomer obtained in step 1 preferably has an imide repeating structural unit formed from a compound providing the structural unit (A1) and a compound providing the structural unit (B1).

상기 방법에 의해, 용제에 용해된 이미드 올리고머를 포함하는 용액이 얻어진다. 공정1에서 얻어진 이미드 올리고머를 포함하는 용액에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 공정1에 있어서 테트라카르본산 성분이나 디아민 성분으로서 사용한 성분의 적어도 일부가 미반응 모노머로서 함유되어 있을 수도 있다.By the above method, a solution containing an imide oligomer dissolved in a solvent is obtained. The solution containing the imide oligomer obtained in Step 1 may contain at least a part of the components used as the tetracarboxylic acid component or the diamine component in Step 1 as unreacted monomers within a range not impairing the effects of the present invention. there is.

〔공정2〕[Process 2]

본 발명의 제조방법에 있어서의 공정2는, 공정1에서 얻어진 이미드 올리고머와, 아미드산부분을 구성하는 테트라카르본산 성분 및 디아민 성분을 반응시켜, 이미드-아미드산 공중합체를 얻는 공정이다.Step 2 in the production method of the present invention is a step for obtaining an imide-amic acid copolymer by reacting the imide oligomer obtained in step 1 with the tetracarboxylic acid component and diamine component constituting the amide acid moiety.

공정2에서 사용하는 테트라카르본산 성분으로는, 구성단위(A1)를 부여하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 그 전체량을 공정1에서 사용하는 것이 바람직하고, 구성단위(A1)를 부여하는 화합물 이외의 테트라카르본산 성분을 포함하고 있을 수도 있다. 구성단위(A1)를 부여하는 화합물 이외의 테트라카르본산 성분으로는, 구성단위(A2)를 부여하는 화합물 또는 구성단위(A3)를 부여하는 화합물이 바람직하다.As the tetracarboxylic acid component used in step 2, it is preferable to include a compound that imparts structural unit (A1), and it is preferable to use the entire amount in step 1, and the compound to impart structural unit (A1) Other tetracarboxylic acid components may be included. As the tetracarboxylic acid component other than the compound that imparts the structural unit (A1), a compound that imparts the structural unit (A2) or a compound that imparts the structural unit (A3) is preferable.

공정2에서 사용하는 디아민 성분으로는, 구성단위(B1)를 부여하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 구성단위(B1)를 부여하는 화합물 이외의 디아민 성분을 포함하고 있을 수도 있다. 구성단위(B1)를 부여하는 화합물 이외의 테트라카르본산 성분으로는, 구성단위(B2)를 부여하는 화합물이 바람직하다.It is preferable that the diamine component used in step 2 contains the compound which provides structural unit (B1), and diamine components other than the compound which provides structural unit (B1) within the range which does not impair the effect of this invention. may contain As the tetracarboxylic acid component other than the compound imparting the structural unit (B1), a compound imparting the structural unit (B2) is preferable.

한편, 공정2만을 행함으로써, 실질적으로 식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 중합체(X)(폴리아미드산)를 얻는 경우에는, 테트라카르본산 성분에 대한 디아민 성분을, 0.9~1.1몰로 하는 것이 바람직하다.On the other hand, when polymer (X) (polyamic acid) substantially composed of repeating units represented by formula (2) is obtained by performing only step 2, the diamine component relative to the tetracarboxylic acid component is set to 0.9 to 1.1 mol. it is desirable

공정2에서 테트라카르본산 성분 및 디아민 성분과, 공정1에서 얻어진 이미드 올리고머를 반응시키는 방법에는 특별히 제한은 없고, 공지의 방법을 이용할 수 있다.There is no particular restriction on the method of reacting the tetracarboxylic acid component and the diamine component and the imide oligomer obtained in step 1 in step 2, and a known method can be used.

구체적인 반응방법으로는, (1)공정1에서 얻어진 이미드 올리고머, 테트라카르본산 성분, 디아민 성분 및 용제를 반응기에 투입하고, 0~120℃, 바람직하게는 5~80℃의 범위에서 1~72시간 교반하는 방법, (2)공정1에서 얻어진 이미드 올리고머 및 용제를 반응기에 투입하여 용해시킨 후, 테트라카르본산 성분, 디아민 성분을 투입하고, 0~120℃, 바람직하게는 5~80℃의 범위에서 1~72시간 교반하는 방법 등을 들 수 있다.As a specific reaction method, (1) the imide oligomer, tetracarboxylic acid component, diamine component and solvent obtained in step 1 are introduced into a reactor, and the temperature is 0 to 120 ° C., preferably 5 to 80 ° C. Time-stirring method, (2) After putting the imide oligomer and the solvent obtained in step 1 into the reactor to dissolve them, the tetracarboxylic acid component and the diamine component are added, and the temperature is 0 to 120°C, preferably 5 to 80°C. The method of stirring for 1 to 72 hours in the range, etc. are mentioned.

80℃ 이하에서 반응시키는 경우에는, 공정2에서 얻어지는 공중합체의 분자량이 중합시의 온도이력에 의존하여 변동하는 일 없이, 또한 열이미드화의 진행도 억제할 수 있기 때문에, 해당 공중합체를 안정적으로 제조할 수 있다.In the case of reacting at 80°C or lower, the molecular weight of the copolymer obtained in step 2 does not fluctuate depending on the temperature history during polymerization, and the progress of thermal imidation can be suppressed, so that the copolymer is stable. can be manufactured with

상기 방법에 의해, 용제에 용해된 이미드-아미드산 공중합체를 포함하는 공중합체용액이 얻어진다. 또한, 공정1만을 행함으로써 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드용액이 얻어지고, 공정2만을 행함으로써 폴리아미드산을 포함하는 폴리아미드산용액이 얻어진다.By the above method, a copolymer solution containing an imide-amic acid copolymer dissolved in a solvent is obtained. Further, by performing only step 1, a polyimide solution containing polyimide is obtained, and by performing only step 2, a polyamic acid solution containing polyamic acid is obtained.

얻어지는 용액 중의 공중합체의 농도는, 통상 1~50질량%이고, 바람직하게는 3~35질량%, 보다 바람직하게는 5~30질량%의 범위이다.The concentration of the copolymer in the obtained solution is usually 1 to 50% by mass, preferably 3 to 35% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass.

또한, 얻어지는 용액 중의 폴리이미드의 농도는, 통상 1~50질량%이고, 바람직하게는 3~35질량%, 보다 바람직하게는 5~30질량%의 범위이다.In addition, the concentration of the polyimide in the obtained solution is usually 1 to 50% by mass, preferably 3 to 35% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass.

나아가, 얻어지는 용액 중의 폴리아미드산의 농도는, 통상 1~50질량%이고, 바람직하게는 3~35질량%, 보다 바람직하게는 5~30질량%의 범위이다.Furthermore, the concentration of the polyamic acid in the obtained solution is usually 1 to 50% by mass, preferably 3 to 35% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass.

상기 제조방법으로 얻어지는 이미드-아미드산 공중합체의 수평균분자량은, 얻어지는 폴리이미드 필름의 기계적 강도의 관점에서, 바람직하게는 5,000~500,000이다. 또한, 중량평균분자량(Mw)은, 동일한 관점에서, 바람직하게는 10,000~800,000이고, 보다 바람직하게는 100,000~300,000이다. 한편, 해당 공중합체의 수평균분자량 및 중량평균분자량은, 예를 들어, 겔 여과 크로마토그래피 측정에 의한 표준 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 환산값으로부터 구할 수 있다.The number average molecular weight of the imide-amic acid copolymer obtained by the above production method is preferably 5,000 to 500,000 from the viewpoint of mechanical strength of the polyimide film obtained. From the same viewpoint, the weight average molecular weight (Mw) is preferably 10,000 to 800,000, more preferably 100,000 to 300,000. On the other hand, the number average molecular weight and weight average molecular weight of the copolymer can be obtained from, for example, standard polymethyl methacrylate (PMMA) conversion values measured by gel filtration chromatography.

상기 제조방법으로 얻어지는 폴리이미드의 수평균분자량은, 얻어지는 폴리이미드 필름의 기계적 강도의 관점에서, 바람직하게는 5,000~500,000이다. 또한, 중량평균분자량(Mw)은, 동일한 관점에서, 바람직하게는 10,000~800,000이고, 보다 바람직하게는 100,000~300,000이다.The number average molecular weight of the polyimide obtained by the above production method is preferably 5,000 to 500,000 from the viewpoint of mechanical strength of the polyimide film obtained. From the same viewpoint, the weight average molecular weight (Mw) is preferably 10,000 to 800,000, more preferably 100,000 to 300,000.

상기 제조방법으로 얻어지는 폴리아미드산의 수평균분자량은, 얻어지는 폴리이미드 필름의 기계적 강도의 관점에서, 바람직하게는 5,000~500,000이다. 또한, 중량평균분자량(Mw)은, 동일한 관점에서, 바람직하게는 10,000~800,000이고, 보다 바람직하게는 100,000~300,000이다.The number average molecular weight of the polyamic acid obtained by the above production method is preferably 5,000 to 500,000 from the viewpoint of mechanical strength of the polyimide film obtained. From the same viewpoint, the weight average molecular weight (Mw) is preferably 10,000 to 800,000, more preferably 100,000 to 300,000.

다음으로 본 제조방법에서 이용되는 원료 등에 대하여 설명한다.Next, the raw materials used in this production method will be described.

〔테트라카르본산 성분〕[Tetracarboxylic acid component]

본 제조방법에 있어서의 원료로서 이용되는 테트라카르본산 성분으로서, 구성단위(A1)를 부여하는 화합물로는, 식(a1)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(a1)로 표시되는 화합물에 대응하는 테트라카르본산 및 해당 테트라카르본산의 알킬에스테르를 들 수 있다. 구성단위(A1)를 부여하는 화합물로는, 식(a1)로 표시되는 화합물이 바람직하다.Examples of the compound giving the structural unit (A1) as the tetracarboxylic acid component used as a raw material in the present production method include compounds represented by formula (a1), but are not limited thereto, and the same structural unit It may be a derivative thereof to the extent that it gives Examples of the derivative include tetracarboxylic acid corresponding to the compound represented by formula (a1) and alkyl esters of the tetracarboxylic acid. As a compound which gives structural unit (A1), the compound represented by formula (a1) is preferable.

마찬가지로, 구성단위(A2)를 부여하는 화합물로는, 식(a2)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(a2)로 표시되는 화합물에 대응하는 테트라카르본산 및 해당 테트라카르본산의 알킬에스테르를 들 수 있다. 구성단위(A2)를 부여하는 화합물로는, 식(a2)로 표시되는 화합물이 바람직하다.Similarly, as the compound giving the structural unit (A2), the compound represented by formula (a2) can be mentioned, but it is not limited thereto, and a derivative thereof may be used within the range giving the same structural unit. Examples of the derivative include tetracarboxylic acid corresponding to the compound represented by formula (a2) and alkyl esters of the tetracarboxylic acid. As a compound which gives structural unit (A2), the compound represented by formula (a2) is preferable.

나아가, 구성단위(A3)를 부여하는 화합물로는, 식(a3)으로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(a3)으로 표시되는 화합물에 대응하는 테트라카르본산 및 해당 테트라카르본산의 알킬에스테르를 들 수 있다. 구성단위(A3)를 부여하는 화합물로는, 식(a3)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.Furthermore, as a compound giving structural unit (A3), although the compound represented by formula (a3) can be mentioned, it is not limited to it, A derivative thereof may also be sufficient as the range giving the same structural unit. Examples of the derivative include tetracarboxylic acid corresponding to the compound represented by formula (a3) and alkyl esters of the tetracarboxylic acid. As a compound which gives structural unit (A3), the compound represented by formula (a3) is preferable.

〔디아민 성분〕[diamine component]

본 제조방법에 있어서의 원료로서 이용되는 디아민 성분으로서, 구성단위(B1)를 부여하는 화합물로는, 디아민을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 디아민에 대응하는 디이소시아네이트를 들 수 있다. 구성단위(B1)를 부여하는 화합물로는, 디아민이 바람직하다.As the diamine component used as a raw material in this production method, the compound giving the structural unit (B1) includes diamine, but is not limited thereto, and may be a derivative thereof within the scope of giving the same structural unit. there is. Examples of the derivative include diisocyanates corresponding to diamines. As a compound which gives structural unit (B1), diamine is preferable.

마찬가지로, 구성단위(B2)를 부여하는 화합물로는, 디아민을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 디아민에 대응하는 디이소시아네이트를 들 수 있다. 구성단위(B2)를 부여하는 화합물로는, 디아민이 바람직하다.Similarly, examples of the compound imparting the structural unit (B2) include diamine, but are not limited thereto, and may be derivatives thereof within the scope of imparting the same structural unit. Examples of the derivative include diisocyanates corresponding to diamines. As a compound which provides structural unit (B2), diamine is preferable.

본 발명에 있어서, 공정1 및 공정2를 포함한 공중합체의 제조의 전체공정에 이용하는 테트라카르본산 성분과 디아민 성분의 투입량비는, 테트라카르본산 성분 1몰에 대하여 디아민 성분이 0.9~1.1몰인 것이 바람직하다.In the present invention, the ratio of the amount of the tetracarboxylic acid component and the diamine component used in the entire process of copolymer production including step 1 and step 2 is preferably 0.9 to 1.1 mole of the diamine component per 1 mole of the tetracarboxylic acid component. do.

〔말단봉지제〕[Encapsulation agent]

또한, 중합체(X)의 제조에는, 전술한 테트라카르본산 성분 및 디아민 성분 외에, 말단봉지제를 이용할 수도 있다. 말단봉지제는, 공정1 및 2의 양방을 행하는 경우, 공정2일 때에 이용하는 것이 바람직하다.In addition to the tetracarboxylic acid component and the diamine component described above, an end capping agent can also be used for the production of Polymer (X). When performing both steps 1 and 2, it is preferable to use the terminal capping agent at the time of step 2.

말단봉지제로는 모노아민류 혹은 디카르본산류가 바람직하다. 도입되는 말단봉지제의 투입량으로는, 테트라카르본산 성분 1몰에 대하여 0.0001~0.1몰이 바람직하고, 특히 0.001~0.06몰이 바람직하다. 모노아민류 말단봉지제로는, 예를 들어, 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 벤질아민, 4-메틸벤질아민, 4-에틸벤질아민, 4-도데실벤질아민, 3-메틸벤질아민, 3-에틸벤질아민, 아닐린, 3-메틸아닐린, 4-메틸아닐린 등이 추장된다. 이들 중, 벤질아민, 아닐린을 호적하게 사용할 수 있다. 디카르본산류 말단봉지제로는, 디카르본산류가 바람직하고, 그 일부를 폐환해 있을 수도 있다. 예를 들어, 프탈산, 무수프탈산, 4-클로로프탈산, 테트라플루오로프탈산, 2,3-벤조페논디카르본산, 3,4-벤조페논디카르본산, 시클로펜탄-1,2-디카르본산, 4-시클로헥센-1,2-디카르본산 등이 추장된다. 이들 중, 프탈산, 무수프탈산을 호적하게 사용할 수 있다.As the end capping agent, monoamines or dicarboxylic acids are preferable. The amount of the end capping agent to be introduced is preferably 0.0001 to 0.1 mol, particularly preferably 0.001 to 0.06 mol, per 1 mol of the tetracarboxylic acid component. Examples of the monoamine endcapping agent include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, benzylamine, 4-methylbenzylamine, 4-ethylbenzylamine, 4-dodecylbenzylamine, 3-methylbenzylamine , 3-ethylbenzylamine, aniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline, etc. are recommended. Among these, benzylamine and aniline can be used conveniently. As the dicarboxylic acid endcapping agent, dicarboxylic acids are preferable, and some of them may be ring-closed. For example, phthalic acid, phthalic anhydride, 4-chlorophthalic acid, tetrafluorophthalic acid, 2,3-benzophenone dicarboxylic acid, 3,4-benzophenone dicarboxylic acid, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid and the like are recommended. Among these, phthalic acid and phthalic anhydride can be used conveniently.

〔용제〕〔solvent〕

중합체(X)의 제조방법에 이용되는 용제는, 생성되는 이미드-아미드산 공중합체를 용해할 수 있는 것이면 된다. 예를 들어, 비프로톤성 용제, 페놀계 용제, 에테르계 용제, 카보네이트계 용제 등을 들 수 있다.The solvent used in the method for producing Polymer (X) may be any solvent capable of dissolving the resulting imide-amic acid copolymer. Examples thereof include aprotic solvents, phenolic solvents, ether solvents, and carbonate solvents.

비프로톤성 용제의 구체예로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 1,3-디메틸이미다졸리디논, 테트라메틸요소 등의 아미드계 용제, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용제, 헥사메틸포스포릭아미드, 헥사메틸포스핀트리아미드 등의 함인계 아미드계 용제, 디메틸설폰, 디메틸설폭사이드, 설포란 등의 함황계 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 등의 케톤계 용제, 아세트산(2-메톡시-1-메틸에틸) 등의 에스테르계 용제 등을 들 수 있다.Specific examples of the aprotic solvent include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethylimidazoli Amide-based solvents such as dinon and tetramethylurea, lactone-based solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, phosphorus-containing amide-based solvents such as hexamethylphosphoricamide and hexamethylphosphinetriamide, and dimethylsulfone. , Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone, and ester solvents such as acetic acid (2-methoxy-1-methylethyl) etc. can be mentioned.

페놀계 용제의 구체예로는, 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 2,3-자일레놀, 2,4-자일레놀, 2,5-자일레놀, 2,6-자일레놀, 3,4-자일레놀, 3,5-자일레놀 등을 들 수 있다.Specific examples of the phenolic solvent include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6 -Xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, etc. are mentioned.

에테르계 용제의 구체예로는, 1,2-디메톡시에탄, 비스(2-메톡시에틸)에테르, 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에탄, 비스〔2-(2-메톡시에톡시)에틸〕에테르, 테트라하이드로푸란, 1,4-디옥산 등을 들 수 있다.Specific examples of the ether solvent include 1,2-dimethoxyethane, bis(2-methoxyethyl) ether, 1,2-bis(2-methoxyethoxy)ethane, bis[2-(2-methoxyethyl) ether, oxyethoxy) ethyl] ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and the like.

카보네이트계 용제의 구체적인 예로는, 디에틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the carbonate-based solvent include diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

상기 반응용제 중에서도, 아미드계 용제 또는 락톤계 용제가 바람직하고, 아미드계 용제가 보다 바람직하고, N-메틸-2-피롤리돈이 더욱 바람직하다. 상기 반응용제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수도 있다.Among the above reaction solvents, amide-based solvents or lactone-based solvents are preferred, amide-based solvents are more preferred, and N-methyl-2-pyrrolidone is still more preferred. These reaction solvents may be used alone or in combination of two or more.

<화합물(Y)><Compound (Y)>

본 발명의 중합체 조성물에 포함되는 화합물(Y)은, 하기 일반식(3)으로 표시된다.Compound (Y) contained in the polymer composition of the present invention is represented by the following general formula (3).

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

(식(3) 중, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, n은 0~2이다.)(In formula (3), R 3 is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group is at least one, and n is 0 to 2.)

화합물(Y)을 포함함으로써, 내열성을 가지면서, 저황색도의 필름을 얻을 수 있고, 나아가 필름의 투명성도 향상시킬 수 있다.By including the compound (Y), a film having heat resistance and low yellowness can be obtained, and furthermore, the transparency of the film can be improved.

식(3)에 있어서, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, 바람직하게는 탄소수 1~30의 알킬기이다.In formula (3), R 3 is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group. is at least one, preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.

복수의 R3은, 동일해도 상이해도 되는데, 바람직하게는 동일하다.A plurality of R 3 may be the same or different, but are preferably the same.

n은 0~2이고, 바람직하게는 1~2이다.n is 0-2, Preferably it is 1-2.

화합물(Y)은, 인 화합물이고, 화합물(Y)의 구체예로는, 산성 인산에스테르 및 인산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 들 수 있고, 바람직하게는 산성 인산에스테르이다.Compound (Y) is a phosphorus compound, and specific examples of compound (Y) include at least one selected from the group consisting of acidic phosphoric acid esters and phosphoric acid, preferably acidic phosphoric acid esters.

산성 인산에스테르로는, 이소트리데실애씨드포스페이트, 디부틸포스페이트 등을 들 수 있고, 바람직하게는 이소트리데실애씨드포스페이트이다.Examples of the acidic phosphoric acid ester include isotridecyl acid phosphate, dibutyl phosphate and the like, and isotridecyl acid phosphate is preferable.

화합물(Y)의 함유량은, 중합체(X)에 대하여, 바람직하게는 10ppm 이상 10,000ppm 이하이고, 보다 바람직하게는 100ppm 이상 5,000ppm 이하이고, 더욱 바람직하게는 500ppm 이상 2,000ppm 이하이다. 화합물(Y)의 양이 이 범위임으로써, 내열성을 가지면서, 저황색도의 필름을 얻을 수 있고, 나아가 필름의 투명성도 향상시킬 수 있다. 한편, 본 명세서에 있어서, 「ppm」은 질량백만분율을 나타낸다.The content of the compound (Y) is preferably 10 ppm or more and 10,000 ppm or less, more preferably 100 ppm or more and 5,000 ppm or less, and still more preferably 500 ppm or more and 2,000 ppm or less, relative to the polymer (X). When the amount of the compound (Y) is within this range, a film having heat resistance and low yellowness can be obtained, and furthermore, the transparency of the film can be improved. In the present specification, "ppm" represents parts per million by mass.

[바니시][Varnish]

본 발명의 바니시는, 상기 서술한 중합체 조성물이 유기용매에 용해되어 이루어지는 것이다. 즉, 본 발명의 바니시는, 중합체(X) 및 화합물(Y)이 유기용매에 용해되어 이루어지는 것이며, 본 발명의 바니시는, 중합체(X), 화합물(Y) 및 유기용매를 포함하고, 중합체(X) 및 화합물(Y)은 해당 유기용매에 용해되어 있다.The varnish of the present invention is obtained by dissolving the polymer composition described above in an organic solvent. That is, the varnish of the present invention is formed by dissolving Polymer (X) and Compound (Y) in an organic solvent, and the varnish of the present invention contains Polymer (X), Compound (Y) and an organic solvent, and the polymer ( X) and compound (Y) are dissolved in the organic solvent.

유기용매는 중합체(X) 및 화합물(Y)이 용해되는 것이면 되고, 특별히 한정되지 않는데, 중합체(X)의 제조에 이용되는 용제로서 상기 서술한 화합물을, 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용하는 것이 바람직하다.The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves the polymer (X) and the compound (Y), but it is preferable to use the above-mentioned compounds alone or in a mixture of two or more as the solvent used for the production of the polymer (X). desirable.

본 발명의 바니시는, 상기 서술한 중합체(X) 용액에 화합물(Y)을 혼합, 용해시킨 것이어도 되고, 나아가 희석용제를 추가한 것이어도 된다.The varnish of the present invention may be obtained by mixing and dissolving the compound (Y) in the polymer (X) solution described above, or may be obtained by adding a diluting solvent.

본 발명의 바니시에 포함되는 중합체(X)에, 식(2)로 표시되는 반복단위(아미드산부분)를 포함하는 경우, 아미드산부분의 이미드화를 효율좋게 진행시키는 관점에서, 추가로 이미드화 촉매 및 탈수촉매를 함유시킬 수 있다. 이미드화 촉매로는, 비점이 40℃ 이상 180℃ 이하인 이미드화 촉매이면 되고, 비점이 180℃ 이하인 아민 화합물을 바람직한 것으로서 들 수 있다. 비점이 180℃ 이하인 이미드화 촉매이면, 필름 형성 후, 고온에서의 건조시에 이 필름이 착색되어, 외관이 손상될 우려가 없다. 또한, 비점이 40℃ 이상인 이미드화 촉매이면, 충분히 이미드화가 진행되기 전에 휘발될 가능성을 회피할 수 있다.When the polymer (X) contained in the varnish of the present invention contains the repeating unit (amic acid moiety) represented by formula (2), from the viewpoint of efficiently advancing imidation of the amic acid moiety, further imidation A catalyst and a dehydration catalyst may be contained. The imidation catalyst may be an imidation catalyst having a boiling point of 40°C or more and 180°C or less, and an amine compound having a boiling point of 180°C or less is mentioned as a preferable one. If the imidation catalyst has a boiling point of 180°C or less, there is no fear that the film is colored and the appearance is deteriorated during drying at a high temperature after film formation. Moreover, if it is an imidation catalyst whose boiling point is 40 degreeC or more, possibility of volatilization before imidation fully advances can be avoided.

이미드화 촉매로서 호적하게 이용되는 아민 화합물로는, 피리딘 또는 피콜린을 들 수 있다. 상기 이미드화 촉매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Pyridine or picoline is mentioned as an amine compound suitably used as an imidation catalyst. The said imidation catalyst can also be used individually or in combination of 2 or more types.

탈수촉매로는, 무수아세트산, 프로피온산 무수물, n-부티르산 무수물, 안식향산 무수물, 트리플루오로아세트산 무수물 등의 산 무수물; 디시클로헥실카르보디이미드 등의 카르보디이미드 화합물; 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Examples of the dehydration catalyst include acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, n-butyric anhydride, benzoic anhydride, and trifluoroacetic anhydride; carbodiimide compounds such as dicyclohexylcarbodiimide; etc. can be mentioned. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

본 발명의 바니시에 포함되는 중합체(X)는 용매용해성을 갖고 있기 때문에, 고농도의 바니시로 할 수 있다. 본 발명의 바니시는, 중합체(X)를 3~40질량% 포함하는 것이 바람직하고, 5~40질량% 포함하는 것이 보다 바람직하고, 10~30질량% 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 바니시의 점도는 0.1~100Pa·s가 바람직하고, 0.1~20Pa·s가 보다 바람직하다. 바니시의 점도는, E형 점도계를 이용하여 25℃에서 측정된 값이다.Since the polymer (X) contained in the varnish of the present invention has solvent solubility, a high-concentration varnish can be obtained. The varnish of the present invention preferably contains 3 to 40% by mass of Polymer (X), more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 10 to 30% by mass. The viscosity of the varnish is preferably 0.1 to 100 Pa·s, and more preferably 0.1 to 20 Pa·s. The viscosity of the varnish is a value measured at 25°C using an E-type viscometer.

또한, 본 발명의 바니시는, 폴리이미드 필름의 요구특성을 손상시키지 않는 범위에서, 무기필러, 접착촉진제, 박리제, 난연제, 자외선안정제, 계면활성제, 레벨링제, 소포제, 형광증백제, 가교제, 중합개시제, 감광제 등의 각종 첨가제를 포함할 수도 있다.In addition, the varnish of the present invention contains an inorganic filler, an adhesion promoter, a release agent, a flame retardant, a UV stabilizer, a surfactant, a leveling agent, an antifoaming agent, an optical whitening agent, a crosslinking agent, and a polymerization initiator within a range that does not impair the required characteristics of the polyimide film. , various additives such as a photosensitizer may be included.

본 발명의 바니시의 제조방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 적용할 수 있다.The manufacturing method of the varnish of this invention is not specifically limited, A well-known method can be applied.

[폴리이미드 필름 및 폴리이미드 필름의 제조방법][Polyimide film and manufacturing method of polyimide film]

본 발명의 폴리이미드 필름은, 중합체(X)에 식(2)로 표시되는 반복단위(아미드산부분)를 포함하는 경우, 중합체(X)의 아미드산부분을 이미드화하여 이루어지는 폴리이미드 수지, 및 화합물(Y)을 포함한다. 또한, 중합체(X)가 폴리이미드인 경우, 해당 폴리이미드, 혹은 추가로 가열에 의해 분자량을 조정한 폴리이미드 수지, 및 화합물(Y)을 포함한다. 따라서, 본 발명의 폴리이미드 필름은, 내열성이 우수하고, 황색도가 낮다.The polyimide film of the present invention is a polyimide resin formed by imidizing the amide acid moiety of the polymer (X) when the repeating unit (amic acid moiety) represented by the formula (2) is included in the polymer (X), and Compound (Y) is included. Moreover, when polymer (X) is a polyimide, the said polyimide or the polyimide resin whose molecular weight was further adjusted by heating, and compound (Y) are included. Therefore, the polyimide film of the present invention has excellent heat resistance and low yellowness.

본 발명의 폴리이미드 필름은, 전술한 바니시를 이용하여 제조할 수 있다.The polyimide film of the present invention can be produced using the varnish described above.

본 발명의 바니시를 이용하여 폴리이미드 필름을 제조하는 방법에는 특별히 제한은 없는데, 다음의 방법에 따른 것이 바람직하다.There is no particular restriction on the method for producing a polyimide film using the varnish of the present invention, but the following method is preferred.

즉, 상기 서술한 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하는 방법이 바람직하고, 구체적으로는, 중합체(X) 및 화합물(Y)이 유기용매에 용해되어 이루어지는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하는 방법이 바람직하다.That is, a method of applying the above-described varnish on a support and then heating is preferable. method is preferred.

또한, 본 발명의 폴리이미드 필름으로는, 상기 서술한 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하여 얻어지는, 폴리이미드 필름이 바람직하고, 구체적으로는, 중합체(X) 및 화합물(Y)이 유기용매에 용해되어 이루어지는 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하여 얻어지는, 폴리이미드 필름이 바람직하다.As the polyimide film of the present invention, a polyimide film obtained by applying the above-mentioned varnish on a support and heating is preferable. Specifically, the polymer (X) and the compound (Y) are mixed in an organic solvent. A polyimide film obtained by applying a dissolved varnish on a support and heating it is preferred.

지지체로는, 예를 들어, 평활한, 유리판, 금속판, 플라스틱 등을 들 수 있다.As a support body, a smooth glass plate, a metal plate, plastic etc. are mentioned, for example.

바니시를 지지체 상에 도포, 또는 필름상으로 성형한 후, 이 바니시 중에 포함되는 반응용제나 희석용제 등의 유기용매를 가열에 의해 제거하고, 중합체 필름을 얻어, 이 중합체 필름 중에 포함되는 중합체에 아미드산부분이 있을 경우, 그것을 가열에 의해 이미드화(탈수폐환)하고, 이어서 지지체로부터 박리함으로써, 폴리이미드 필름을 제조할 수 있다.After the varnish is applied on a support or formed into a film, organic solvents such as reaction solvents and diluting solvents contained in the varnish are removed by heating to obtain a polymer film, and the polymer contained in the polymer film contains amide When there is an acid moiety, a polyimide film can be manufactured by imidating it by heating (dehydration ring closure) and then peeling it from the support.

본 발명의 폴리이미드 필름에 포함되는 폴리이미드 수지의 중량평균분자량(Mw)은, 필름의 기계적 강도의 관점에서, 바람직하게는 10,000~800,000이고, 보다 바람직하게는 30,000~500,000이고, 더욱 바람직하게는 50,000~400,000이고, 보다 더 바람직하게는 100,000~300,000이다. 한편, 해당 공중합체의 중량평균분자량은, 예를 들어, 겔 여과 크로마토그래피 측정에 의한 표준 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 환산값으로부터 구할 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide resin contained in the polyimide film of the present invention is preferably 10,000 to 800,000, more preferably 30,000 to 500,000, and still more preferably from the viewpoint of mechanical strength of the film. 50,000 to 400,000, more preferably 100,000 to 300,000. On the other hand, the weight average molecular weight of the copolymer can be obtained, for example, from a standard polymethyl methacrylate (PMMA) conversion value measured by gel filtration chromatography.

본 발명의 바니시를 건조시켜 중합체 필름을 얻을 때의 가열온도로는, 바람직하게는 50~150℃이다. 중합체를 가열에 의해 이미드화할 때의 가열온도로는, 바람직하게는 200~500℃이고, 보다 바람직하게는 250~450℃이고, 더욱 바람직하게는 300~400℃이다. 또한, 가열시간은, 통상 1분간~6시간이고, 바람직하게는 5분간~2시간, 보다 바람직하게는 15분간~1시간이다.The heating temperature when drying the varnish of the present invention to obtain a polymer film is preferably 50 to 150°C. The heating temperature for imidizing the polymer by heating is preferably 200 to 500°C, more preferably 250 to 450°C, still more preferably 300 to 400°C. The heating time is usually 1 minute to 6 hours, preferably 5 minutes to 2 hours, and more preferably 15 minutes to 1 hour.

가열분위기는, 공기가스, 질소가스, 산소가스, 수소가스, 질소/수소혼합가스 등을 들 수 있는데, 얻어지는 폴리이미드 수지의 착색을 억제하기 위해서는, 산소농도가 100ppm 이하인 질소가스, 수소농도가 0.5% 이하인 질소/수소혼합가스가 바람직하다.The heating atmosphere includes air gas, nitrogen gas, oxygen gas, hydrogen gas, nitrogen/hydrogen mixed gas, and the like. In order to suppress coloring of the obtained polyimide resin, nitrogen gas having an oxygen concentration of 100 ppm or less and a hydrogen concentration of 0.5 % or less of nitrogen/hydrogen mixed gas is preferred.

한편, 이미드화의 방법은 열이미드화로 한정되지 않고, 화학이미드화를 적용할 수도 있다.On the other hand, the method of imidation is not limited to thermal imidation, and chemical imidation can also be applied.

본 발명의 폴리이미드 필름의 두께는 용도 등에 따라 적당히 선택할 수 있는데, 바람직하게는 1~250μm이고, 보다 바람직하게는 5~100μm이고, 더욱 바람직하게는 5~50μm이다. 두께가 1~250μm임으로써, 자립막으로서의 실용적인 사용이 가능해진다.The thickness of the polyimide film of the present invention can be appropriately selected depending on the application and the like, but is preferably 1 to 250 μm, more preferably 5 to 100 μm, still more preferably 5 to 50 μm. When the thickness is 1 to 250 μm, practical use as a self-supporting film becomes possible.

폴리이미드 필름의 두께는, 바니시의 고형분농도나 점도를 조정함으로써, 용이하게 제어할 수 있다.The thickness of the polyimide film can be easily controlled by adjusting the solid content concentration and viscosity of the varnish.

본 발명의 중합체 조성물을 이용함으로써, 내열성이 우수하고, 황색도가 낮은 폴리이미드 필름을 얻을 수 있고, 얻어지는 본 발명의 폴리이미드 필름은, 내열성이 우수하고, 황색도도 낮다. 해당 필름이 갖는 호적한 물성값은 이하와 같다.By using the polymer composition of the present invention, a polyimide film having excellent heat resistance and low yellowness can be obtained, and the resulting polyimide film of the present invention has excellent heat resistance and low yellowness. Suitable physical property values of the film are as follows.

전광선투과율은, 두께 10μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 85% 이상이고, 보다 바람직하게는 87% 이상이고, 더욱 바람직하게는 89% 이상이다.The total light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 87% or more, still more preferably 89% or more, when the film has a thickness of 10 μm.

옐로우인덱스(YI)는, 두께 10μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 12 이하이고, 보다 바람직하게는 11 이하이고, 무색성이 우수한 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하이다.The yellow index (YI) is preferably 12 or less, more preferably 11 or less, and from the viewpoint of excellent colorlessness, when a film having a thickness of 10 μm is preferably 9 or less, more preferably 8 or less. .

또한, 1% 중량감소온도는, 바람직하게는 430℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 480℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 500℃ 이상이고, 보다 더 바람직하게는 510℃ 이상이다. 여기서, 1% 중량감소온도는, 폴리이미드 필름을 승온속도 10℃/min로 40~550℃까지 승온하고, 300℃에 있어서의 중량과 비교하여, 중량이 1% 감소했을 때의 온도이다.The 1% weight loss temperature is preferably 430°C or higher, more preferably 480°C or higher, even more preferably 500°C or higher, and still more preferably 510°C or higher. Here, the 1% weight loss temperature is the temperature when the polyimide film is heated to 40 to 550 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min, and the weight is reduced by 1% compared to the weight at 300 ° C.

한편, 본 발명에 있어서의 상기 서술한 물성값은, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.On the other hand, the above-mentioned physical property values in the present invention can be specifically measured by the method described in Examples.

본 발명의 폴리이미드 필름은, 컬러필터, 플렉서블 디스플레이, 반도체부품, 광학부재 등의 각종 부재용의 필름으로서 호적하게 이용된다. 본 발명의 폴리이미드 필름은, 액정 디스플레이나 OLED 디스플레이 등의 화상표시장치의 기판으로서, 특히 호적하게 이용된다.The polyimide film of the present invention is suitably used as a film for various members such as color filters, flexible displays, semiconductor parts, and optical members. The polyimide film of this invention is used especially suitably as a board|substrate of image display apparatuses, such as a liquid crystal display and an OLED display.

실시예Example

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이들 실시예에 의해 전혀 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples. However, the present invention is not limited at all by these examples.

실시예 및 비교예에서 얻은 필름의 각 물성은 이하에 나타내는 방법에 의해 측정하였다.Each physical property of the film obtained in Examples and Comparative Examples was measured by the method shown below.

(1)필름두께(1) Film thickness

필름두께는, 주식회사미쯔토요제의 마이크로미터를 이용하여 측정하였다.The film thickness was measured using a micrometer manufactured by Mitutoyo Corporation.

한편, 실시예 5 및 비교예 6의 필름두께는, 막두께측정기 Filmetrics F20(필메트릭스주식회사제)을 이용하여 측정하였다.On the other hand, the film thicknesses of Example 5 and Comparative Example 6 were measured using a film thickness meter Filmetrics F20 (manufactured by Filmetrics Co., Ltd.).

(2)전광선투과율, 옐로우인덱스(YI)(2) Total light transmittance, yellow index (YI)

전광선투과율은 JIS K7105:1981에 준거하고, YI는 ASTM D1925(C광원, 2°)에 준거하고, 일본전색공업주식회사제의 색채·탁도 동시측정기 「COH7700」을 이용하여 측정하였다.The total light transmittance was based on JIS K7105: 1981, and YI was measured based on ASTM D1925 (C light source, 2°) using a simultaneous color and turbidity measuring instrument "COH7700" manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.

(3)1% 중량감소온도(Td 1%)(3) 1% weight reduction temperature (Td 1%)

주식회사히타찌하이테크사이언스제의 시차열 열중량 동시측정장치 「NEXTA STA200RV」를 이용하였다. 시료를 승온속도 10℃/min로 40~150℃까지 승온하고, 150℃에서 30분 유지하여 수분을 제거한 후 550℃까지 승온하였다. 150℃에서 30분 유지한 후의 중량과 비교하여, 중량이 1% 감소했을 때의 온도를 1% 중량감소온도로 하였다. 중량감소온도는 수치가 클수록 우수하다.Differential thermal thermogravimetric simultaneous measuring device "NEXTA STA200RV" manufactured by Hitachi High-Tech Sciences Co., Ltd. was used. The temperature of the sample was raised to 40 to 150 °C at a heating rate of 10 °C/min, maintained at 150 °C for 30 minutes to remove moisture, and then heated to 550 °C. Compared to the weight after holding at 150 ° C. for 30 minutes, the temperature when the weight decreased by 1% was set as the 1% weight loss temperature. The weight loss temperature is excellent as the number increases.

실시예 및 비교예에서 사용한 테트라카르본산 성분 및 디아민 성분, 그리고 그 약호 등은 하기와 같다.The tetracarboxylic acid component and diamine component used in Examples and Comparative Examples, and their abbreviations, etc. are as follows.

<테트라카르본산 성분><Tetracarboxylic acid component>

CpODA: 노보난-2-스피로-α-시클로펜탄온-α’-스피로-2’’-노보난-5,5’’,6,6’’-테트라카르본산 이무수물(식(a1)로 표시되는 화합물)CpODA: norbonane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride (formula (a1) compound shown)

s-BPDA: 3,3’,4,4’-비페닐테트라카르본산 이무수물(미쯔비시케미컬주식회사제, 식(a2s)로 표시되는 화합물)s-BPDA: 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, compound represented by formula (a2s))

BPAF: 9,9-비스(3,4-디카르복시페닐)플루오렌 이무수물(JFE케미컬주식회사제; 식(a3)으로 표시되는 화합물)BPAF: 9,9-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride (manufactured by JFE Chemical Co., Ltd.; compound represented by formula (a3))

<디아민 성분><Diamine component>

6FODA: 2,2’-비스(트리플루오로메틸)-4,4’-디아미노디페닐에테르(식(b11)로 표시되는 화합물)6FODA: 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl ether (compound represented by formula (b11))

4-BAAB: 4-아미노페닐-4-아미노벤조에이트(일본순량약품주식회사제; 식(b2)로 표시되는 화합물)4-BAAB: 4-aminophenyl-4-aminobenzoate (manufactured by Nippon Sunryang Chemical Co., Ltd.; compound represented by formula (b2))

<인 화합물><Phosphorus compound>

JP-513: 이소트리데실애씨드포스페이트(죠호쿠화학공업주식회사제, 식(3)에 있어서, R3이 이소트리데실기이고, n이 1인 화합물과, R3이 이소트리데실기이고, n이 2인 화합물의 1:1 혼합물)JP-513: isotridecyl acid phosphate (manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd., a compound in formula (3) wherein R 3 is an isotridecyl group and n is 1, and a compound in which R 3 is an isotridecyl group and n 1:1 mixture of these two compounds)

DBP: 디부틸포스페이트(죠호쿠화학공업주식회사제, 식(3)에 있어서, R3이 부틸기이고, n이 2인 화합물)DBP: Dibutyl phosphate (manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd., in formula (3), R 3 is a butyl group, and n is a compound of 2)

인산: 식(3)에 있어서, n이 0인 화합물Phosphoric acid: the compound in formula (3), wherein n is 0

인산트리메틸: 식(3)에 있어서, R3이 메틸기이고, n이 3인 화합물Trimethyl phosphate: In formula (3), R 3 is a methyl group, and n is 3.

트리페닐포스핀: 식(3)에 있어서, R3이 페닐기이고, n이 3인 화합물Triphenylphosphine: In the formula (3), R 3 is a phenyl group, and n is a compound of 3

<기타 화합물><Other compounds>

이르가녹스 1010(산화방지제): 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](BASF재팬주식회사제)Irganox 1010 (antioxidant): pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)

<표면조정제><Surface conditioner>

BYK-378: 실리콘계 표면조정제(빅케미·재팬주식회사제)BYK-378: Silicone surface conditioner (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.)

실시예 및 비교예에 있어서 사용한, 용매 및 촉매의 약호 등은 하기와 같다.The symbols of solvents and catalysts used in Examples and Comparative Examples are as follows.

NMP: N-메틸-2-피롤리돈(도쿄순약공업주식회사제)NMP: N-methyl-2-pyrrolidone (manufactured by Tokyo Pure Chemical Industries, Ltd.)

TEA: 트리에틸아민(칸토화학주식회사제)TEA: Triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.)

<실시예 1><Example 1>

스테인리스제 반월형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 장착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 500mL의 5구 둥근바닥 플라스크에, 6FODA를 26.899g(0.0800몰)과, NMP를 94.146g을 투입하고, 계 내 온도 50℃, 질소분위기하, 회전수 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다.26.899 g (0.0800 mol) of 6FODA and 94.146 g of NMP were added to a 500 mL 5-neck round bottom flask equipped with a stainless steel half-moon-shaped stirring blade, a nitrogen inlet tube, a Dean Stark equipped with a cooling tube, a thermometer, and a glass end cap. The mixture was added and stirred at a rotation speed of 200 rpm under a nitrogen atmosphere at a system temperature of 50° C. to obtain a solution.

이 용액에, s-BPDA를 23.536g(0.0800몰)과, NMP를 23.536g을 일괄로 투입하고, 맨틀히터로 50℃로 유지한 채 5시간 교반하였다.To this solution, 23.536 g (0.0800 mol) of s-BPDA and 23.536 g of NMP were added at once, and the mixture was stirred for 5 hours while maintaining at 50° C. with a mantle heater.

그 후, NMP를 84.059g 첨가하여 균일화한 후, 실온으로 되돌려 고형분농도 20질량%의 폴리아미드산 바니시를 얻었다.After that, 84.059 g of NMP was added and homogenized, and then it was returned to room temperature to obtain a polyamic acid varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

얻어진 바니시 100g에 JP-513을 0.02g(폴리아미드산에 대하여 1000ppm), BYK-378을 0.02g(폴리아미드산에 대하여 1000ppm) 투입하고 30분간 교반하여 균일화해서, 폴리아미드산 조성물 바니시를 얻었다.0.02 g (1000 ppm based on polyamic acid) and 0.02 g (1000 ppm based on polyamic acid) of JP-513 and 0.02 g (1000 ppm based on polyamic acid) of JP-513 were added to 100 g of the obtained varnish and stirred for 30 minutes to homogenize to obtain a polyamic acid composition varnish.

계속해서 유리판 상에 얻어진 폴리아미드산 조성물 바니시를 스핀코트에 의해 도포하고, 핫플레이트에서 80℃, 20분간 유지하고, 그 후, 열풍건조기로 옮겨, 질소분위기하, 승온속도 5℃/min로 420℃까지 승온하고, 질소분위기하, 열풍건조기 중 420℃에서 60분 가열하여, 용매를 증발시키고, 이미드화시켜, 폴리이미드 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyamic acid composition varnish was applied on a glass plate by spin coating, maintained at 80° C. for 20 minutes on a hot plate, and then transferred to a hot air dryer and heated to 420° C./min under a nitrogen atmosphere at a heating rate of 5° C./min. The temperature was raised to °C, heated at 420 °C for 60 minutes in a hot air dryer under a nitrogen atmosphere, the solvent was evaporated and imidized to obtain a polyimide film. The results are shown in Table 1.

<실시예 2, 3 및 비교예 2~4><Examples 2 and 3 and Comparative Examples 2 to 4>

JP-513 0.02g(폴리아미드산에 대하여 1000ppm) 대신에, 표 1에 나타낸 인 화합물 또는 기타 화합물을 각각 0.02g(폴리아미드산에 대하여 1000ppm) 이용한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 폴리이미드 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, except that 0.02 g (1000 ppm based on polyamic acid) of each phosphorus compound or other compound shown in Table 1 was used instead of 0.02 g (1000 ppm based on polyamic acid) of JP-513. , to obtain a polyimide film. The results are shown in Table 1.

<비교예 1><Comparative Example 1>

JP-513을 이용하지 않은 것 이외는, 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 폴리이미드 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that JP-513 was not used. The results are shown in Table 1.

<실시예 4><Example 4>

s-BPDA 23.536g(0.0800몰) 대신에, CpODA를 0.0800몰 이용하고, 원료를 일괄 투입한 후의 유지온도를 10℃로 하고, 5시간 교반한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 폴리아미드산 조성물 바니시를 얻었다.Instead of 23.536 g (0.0800 mole) of s-BPDA, 0.0800 mole of CpODA was used, the holding temperature after the raw materials were added at once was set to 10 ° C, and stirred for 5 hours. By the same method as in Example 1, A polyamic acid composition varnish was obtained.

계속해서 유리판 상에 얻어진 폴리아미드산 조성물 바니시를 스핀코트에 의해 도포하고, 핫플레이트에서 80℃, 20분간 유지하고, 그 후, 열풍건조기로 옮겨, 질소분위기하, 승온속도 5℃/min로 420℃까지 승온하고, 질소분위기하, 열풍건조기 중 420℃에서 60분 가열하여, 용매를 증발시키고, 이미드화시켜, 폴리이미드 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyamic acid composition varnish was applied on a glass plate by spin coating, maintained at 80° C. for 20 minutes on a hot plate, and then transferred to a hot air dryer and heated to 420° C./min under a nitrogen atmosphere at a heating rate of 5° C./min. The temperature was raised to °C, heated at 420 °C for 60 minutes in a hot air dryer under a nitrogen atmosphere, the solvent was evaporated and imidized to obtain a polyimide film. The results are shown in Table 1.

<비교예 5><Comparative Example 5>

JP-513을 이용하지 않은 것 이외는, 실시예 4와 동일한 방법에 의해, 폴리이미드 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 4 except that JP-513 was not used. The results are shown in Table 1.

<실시예 5><Example 5>

스테인리스제 반월형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 장착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 500mL의 5구 둥근바닥 플라스크에, 6FODA를 10.087g(0.030몰), 및 NMP를 47.017g 투입하고, 계 내 온도 70℃, 질소분위기하, 회전수 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다.10.087 g (0.030 mol) of 6FODA and 47.017 g of NMP were added to a 500 mL 5-necked round bottom flask equipped with a stainless steel half-moon-shaped stirring blade, a nitrogen inlet pipe, a Dean Stark equipped with a cooling pipe, a thermometer, and a glass end cap. and stirred at a rotation speed of 200 rpm under a nitrogen atmosphere at a system temperature of 70° C. to obtain a solution.

이 용액에, BPAF 9.169g(0.020몰), 및 NMP 11.754g을 일괄로 첨가한 후, 이미드화 촉매로서 TEA를 0.101g 투입하고, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분간에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거(留去)되는 성분을 포집하고, 회전수를 점도상승에 맞추어 조정하면서, 반응계 내 온도를 190℃로 유지하여 1시간 환류하였다. 그 후, NMP를 147.043g 첨가하고, 반응계 내 온도를 50℃까지 냉각하여, 이미드 반복구조단위를 갖는 올리고머를 포함하는 용액을 얻었다.To this solution, 9.169 g (0.020 mol) of BPAF and 11.754 g of NMP were added at once, and then 0.101 g of TEA was added as an imidization catalyst, heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190 °C for about 20 minutes. raised to °C. Components distilled off were collected, and while adjusting the number of rotations according to the increase in viscosity, the temperature inside the reaction system was maintained at 190°C and refluxed for 1 hour. Thereafter, 147.043 g of NMP was added, and the temperature in the reaction system was cooled to 50° C. to obtain a solution containing an oligomer having an imide repeating structural unit.

얻어진 용액에, s-BPDA 23.538g(0.080몰), 4-BAAB를 15.978g(0.070몰) 및 NMP 26.386g을 일괄로 첨가하고, 50℃에서 5시간 교반하였다. 그 후, 고형분농도가 약 15질량%가 되도록 NMP를 첨가하여 균일화시킴으로써, 이미드 반복구조단위와 아미드산 구조단위를 갖는 공중합체를 포함하는 바니시(이미드-아미드산 공중합체 바니시)를 얻었다.To the obtained solution, 23.538 g (0.080 mol) of s-BPDA, 15.978 g (0.070 mol) of 4-BAAB, and 26.386 g of NMP were added all at once, and the mixture was stirred at 50°C for 5 hours. Thereafter, NMP was added and homogenized so that the solid content concentration was about 15% by mass, thereby obtaining a varnish containing a copolymer having an imide repeating structural unit and an amide acid structural unit (imide-amic acid copolymer varnish).

얻어진 바니시 100g에 JP-513을 0.015g(이미드-아미드산 공중합체에 대하여 1000ppm), BYK-378을 0.015g(이미드-아미드산 공중합체에 대하여 1000ppm) 투입하고 30분간 교반하여 균일화해서, 이미드-아미드산 공중합체 조성물 바니시를 얻었다.To 100 g of the obtained varnish, 0.015 g of JP-513 (1000 ppm based on imide-amic acid copolymer) and 0.015 g of BYK-378 (1000 ppm based on imide-amic acid copolymer) were added and stirred for 30 minutes to homogenize, An imide-amic acid copolymer composition varnish was obtained.

계속해서 유리판 상에 얻어진 이미드-아미드산 공중합체 조성물 바니시를 스핀코트에 의해 도포하고, 핫 플레이트에서 80℃, 20분간 유지하고, 그 후, 열풍건조기로 옮겨, 질소분위기하, 승온속도 5℃/min로 430℃까지 승온하고, 질소분위기하, 열풍건조기 중 430℃에서 60분간 가열하여 용매를 증발시키고, 열이미드화시켜, 폴리이미드 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained imide-amic acid copolymer composition varnish was applied on a glass plate by spin coating, held on a hot plate at 80°C for 20 minutes, and then transferred to a hot air dryer at a heating rate of 5°C under a nitrogen atmosphere. The temperature was raised to 430°C at /min, and the solvent was evaporated by heating at 430°C for 60 minutes in a hot air dryer under a nitrogen atmosphere, followed by thermal imidization to obtain a polyimide film. The results are shown in Table 1.

<비교예 6><Comparative Example 6>

JP-513을 이용하지 않은 것 이외는, 실시예 5와 동일한 방법에 의해, 폴리이미드 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 5, except that JP-513 was not used. The results are shown in Table 1.

한편, 비교예 6에서 얻어진 폴리이미드 필름은 유리판으로부터 박리할 수 없었기 때문에, 실시예 5 및 비교예 6의 전광선투과율 및 옐로우인덱스(YI)는, 유리판을 포함하여 측정하였다. 또한, 비교예 6에서 얻어진 폴리이미드 필름에 대해서는, 1% 중량감소온도(Td 1%)를 측정하지 않았다.On the other hand, since the polyimide film obtained in Comparative Example 6 could not be peeled from the glass plate, the total light transmittance and yellow index (YI) of Example 5 and Comparative Example 6 were measured including the glass plate. In addition, for the polyimide film obtained in Comparative Example 6, the 1% weight loss temperature (Td 1%) was not measured.

[표 1][Table 1]

Figure pct00015
Figure pct00015

표 1에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 중합체 조성물로부터 얻어진 폴리이미드 필름은, 내열성이 우수하고, 황색도도 낮은 것을 알 수 있다. 본 발명의 중합체 조성물로부터 얻어진 폴리이미드 필름은, 나아가 투명성도 우수하다.As shown in Table 1, it can be seen that the polyimide film obtained from the polymer composition of the present invention has excellent heat resistance and low yellowness. The polyimide film obtained from the polymer composition of the present invention is also excellent in transparency.

Claims (7)

하기 일반식(1)로 표시되는 반복단위 및 하기 일반식(2)로 표시되는 반복단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 중합체(X)와,
하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물(Y)을 포함하는, 중합체 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00016

(식(1) 중, X1은 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이다.
식(2) 중, X2는 지환구조 혹은 방향족환을 갖는 4가의 기이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 3~9의 알킬실릴기이다.
식(3) 중, R3은, 탄소수 1~30의 알킬기, 페닐기, 알콕시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시에틸기, 및 메타크릴로일옥시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, n은 0~2이다.)
Polymer (X) containing at least one selected from the group consisting of a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2);
A polymer composition containing a compound (Y) represented by the following general formula (3).
[Formula 1]
Figure pct00016

(In Formula (1), X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring.
In Formula (2), X 2 is a tetravalent group having an alicyclic structure or an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.
In formula (3), R 3 is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxyethyl group, and a methacryloyloxyethyl group. At least one, and n is 0 to 2.)
제1항에 있어서,
상기 식(1)로 표시되는 반복단위가, 상기 중합체(X)의 전체 반복단위에 대하여 10몰% 이상인, 중합체 조성물.
According to claim 1,
The polymer composition in which the repeating unit represented by the said formula (1) is 10 mol% or more with respect to all the repeating units of the said polymer (X).
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 식(2)로 표시되는 반복단위가, 상기 중합체(X)의 전체 반복단위에 대하여 10몰% 이상인, 중합체 조성물.
According to claim 1 or 2,
The polymer composition in which the repeating unit represented by the said Formula (2) is 10 mol% or more with respect to all the repeating units of the said polymer (X).
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
화합물(Y)의 함유량이, 중합체(X)에 대하여 10ppm 이상 10,000ppm 이하인, 중합체 조성물.
According to any one of claims 1 to 3,
The polymer composition whose content of compound (Y) is 10 ppm or more and 10,000 ppm or less with respect to polymer (X).
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 중합체 조성물이 유기용매에 용해되어 이루어지는 바니시.A varnish obtained by dissolving the polymer composition according to any one of claims 1 to 4 in an organic solvent. 제5항에 기재된 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하여 얻어지는, 폴리이미드 필름.A polyimide film obtained by applying the varnish according to claim 5 on a support and heating it. 제5항에 기재된 바니시를 지지체 상에 도포하고, 가열하는, 폴리이미드 필름의 제조방법.A method for producing a polyimide film comprising applying the varnish according to claim 5 onto a support and heating the varnish.
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