JP4829913B2 - Polyimide and method for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、新規な繰り返し構造単位を有するポリイミド、及び該ポリイミドの製造方法に関する。本発明に係るポリイミドは、光学材料分野におけるフィルムや基材、電子材料分野における保護膜や絶縁膜、またはフレキシブルプリント回路基板等に好適に用いることができる。   The present invention relates to a polyimide having a novel repeating structural unit and a method for producing the polyimide. The polyimide according to the present invention can be suitably used for films and substrates in the field of optical materials, protective films and insulating films in the field of electronic materials, flexible printed circuit boards, and the like.

芳香族ポリイミドは、耐熱性、寸法安定性、力学強度及び絶縁性等に優れているため、航空宇宙材料、耐熱材料、及び電子材料等に広く用いられている。   Aromatic polyimides are widely used in aerospace materials, heat resistant materials, electronic materials, and the like because they are excellent in heat resistance, dimensional stability, mechanical strength, insulation, and the like.

また、芳香族ポリイミドの芳香環の一部又は全部を、脂肪族炭化水素又は脂環式炭化水素に置換することにより、透明性に優れたポリイミドを得ることができることが知られている。このポリイミドは、液晶配向膜等の分野で利用されており、さらに耐熱性透明基材としても利用されてきている。   Further, it is known that a polyimide having excellent transparency can be obtained by substituting part or all of the aromatic ring of an aromatic polyimide with an aliphatic hydrocarbon or an alicyclic hydrocarbon. This polyimide is used in fields such as a liquid crystal alignment film, and has also been used as a heat resistant transparent substrate.

また、芳香族ポリイミドの芳香環を脂環式炭化水素に置換されたポリイミドとしては、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(以下、CBDAと略記することがある)と、芳香族ジアミン又は脂肪族ジアミンとの反応により得られたポリイミド等が知られている。   Moreover, as a polyimide in which the aromatic ring of the aromatic polyimide is substituted with an alicyclic hydrocarbon, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (hereinafter sometimes abbreviated as CBDA), A polyimide obtained by a reaction with an aromatic diamine or an aliphatic diamine is known.

このようなポリイミドの一例として、下記の非特許文献1には、例えばCBDAと2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以下、TFMBと略記する)との反応により得られたポリイミドが開示されている。非特許文献1には、このポリイミドが、低い線膨張率、高いガラス転移温度、及び低い誘電率を有することが記載されている。   As an example of such a polyimide, the following Non-Patent Document 1 discloses a polyimide obtained by a reaction of, for example, CBDA and 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (hereinafter abbreviated as TFMB). Has been. Non-Patent Document 1 describes that this polyimide has a low coefficient of linear expansion, a high glass transition temperature, and a low dielectric constant.

しかしながら、非特許文献1で用いられる上記TFMBは、トリフルオロメチル基が導入されているため、非常に高価であった。そのため、上記TFMBを用いた場合には、コストが高くつかざるを得なかった。   However, the TFMB used in Non-Patent Document 1 is very expensive because a trifluoromethyl group is introduced. Therefore, when the TFMB is used, the cost has to be high.

また、下記の特許文献1には、置換又は無置換のシクロブタンテトラカルボン酸と、直線状又はトランス配置の種々のジアミン化合物との反応により得られたポリイミド前駆体及びポリイミドが開示されている。特許文献1には、このポリイミド前駆体及びポリイミドが、低い誘電率、低い線熱膨張係数、高い透明性、及び高いガラス転移温度を有することが記載されている。   Patent Document 1 below discloses a polyimide precursor and a polyimide obtained by a reaction between a substituted or unsubstituted cyclobutanetetracarboxylic acid and various diamine compounds in a linear or trans configuration. Patent Document 1 describes that the polyimide precursor and the polyimide have a low dielectric constant, a low linear thermal expansion coefficient, a high transparency, and a high glass transition temperature.

しかしながら、上記TFMB以外の直線状のジアミン化合物等を用いた場合には、加熱によるイミド化を行った後に、イミド化された化合物が非常に脆くなるという問題があった。   However, when a linear diamine compound other than the TFMB is used, there is a problem that the imidized compound becomes very brittle after imidization by heating.

一方、下記の特許文献2には、芳香族テトラカルボン酸二無水物と、特定のエステル型のジアミンとの反応により得られたポリイミドが開示されている。このポリイミドは、耐熱性に優れており、かつ低い線膨張率を有する。   On the other hand, the following Patent Document 2 discloses a polyimide obtained by a reaction between an aromatic tetracarboxylic dianhydride and a specific ester type diamine. This polyimide is excellent in heat resistance and has a low linear expansion coefficient.

ここで、非特許文献1に記載の上記CBDAと、特許文献2に記載のエステル型ジアミンとを組み合わせて用いれば、ポリイミドを比較的安価に得ることができる。しかしながら、非特許文献1及び特許文献2には、これらを組み合わせて用いることは何ら記載されていない。この組み合わせにより得られるポリイミドについては、下記の特許文献3に、ポリイミドの一例として示唆されている。しかしながら、特許文献3には、この組み合わせにより得られたポリイミドが、優れた耐熱性、熱可塑性、接着性及び加工性を有することは記載されているが、それ以外の特性、例えば透明性及び線膨張率に関する記載はない。
特開2005−336244号公報 特開平8−48773号公報 特開平7−3019号公報 High Performance Polymer, 13, S93−S106, 2001
Here, if the CBDA described in Non-Patent Document 1 and the ester-type diamine described in Patent Document 2 are used in combination, polyimide can be obtained relatively inexpensively. However, Non-Patent Document 1 and Patent Document 2 do not describe any combination of these. About the polyimide obtained by this combination, the following patent document 3 is suggested as an example of a polyimide. However, although Patent Document 3 describes that the polyimide obtained by this combination has excellent heat resistance, thermoplasticity, adhesiveness and workability, other properties such as transparency and linearity are described. There is no description about the expansion coefficient.
JP 2005-336244 A JP-A-8-48773 Japanese Patent Laid-Open No. 7-3019 High Performance Polymer, 13, S93-S106, 2001

本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、透明性及び耐熱性に優れるポリイミド、及び該ポリイミドの製造方法を提供することにある。   The objective of this invention is providing the polyimide which is excellent in transparency and heat resistance in view of the present condition of the prior art mentioned above, and the manufacturing method of this polyimide.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。本発明によれば、下記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするポリイミドが提供される。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention. According to the present invention, a polyimide having a structure represented by the following formula (1) as a main repeating structural unit is provided.

Figure 0004829913
Figure 0004829913

また、本発明に係るポリイミドの製造方法は、本発明のポリイミドの製造方法であって、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物と、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンとを反応させることによりポリアミド酸を得た後、該ポリアミド酸をイミド化することにより、前記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするポリイミドを得ることを特徴とする。   Moreover, the manufacturing method of the polyimide which concerns on this invention is a manufacturing method of the polyimide of this invention, Comprising: 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride and 1,4-bis (4-aminobenzoyl) After obtaining a polyamic acid by reacting with (oxy) benzene, the polyamic acid is imidized to obtain a polyimide having a structure represented by the formula (1) as a main repeating structural unit. .

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係るポリイミドは、下記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とする。   The polyimide which concerns on this invention makes the structure shown by following formula (1) the main repeating structural unit.

Figure 0004829913
Figure 0004829913

本発明に係るポリイミドは、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物と、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンとを反応させることによりポリアミド酸を得た後、該ポリアミド酸をイミド化することにより得ることができる。このようにして得られたポリイミドは、透明性及び耐熱性に優れている。本発明に係るポリイミドは、ほぼ無色透明である。また、本発明に係るポリイミドは、低い線膨張率を有し得る。   The polyimide according to the present invention is obtained by reacting 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride with 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene to obtain a polyamic acid, It can be obtained by imidizing the polyamic acid. The polyimide thus obtained is excellent in transparency and heat resistance. The polyimide according to the present invention is almost colorless and transparent. Further, the polyimide according to the present invention may have a low linear expansion coefficient.

(1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物)
上記1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(以下、CBDAと略記することがある)は、脂環式テトラカルボン酸二無水物である。上記CBDAとしては、cis,trans,cis−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物が好適である。
(1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride)
The 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (hereinafter sometimes abbreviated as CBDA) is an alicyclic tetracarboxylic dianhydride. As the CBDA, cis, trans, cis-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid-1,2: 3,4-dianhydride is preferable.

上記CBDAは、公知の方法に合成することができる。例えば、無水マレイン酸の光環化(二量化)反応により一段階で合成することができる。このような合成法は、例えば特開昭59−212495号公報、特開2003−192685号公報、特開2006−328027号公報、及びJournal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol.38, 108−116, 2001等に記載されている。   The CBDA can be synthesized by a known method. For example, it can be synthesized in one step by photocyclization (dimerization) reaction of maleic anhydride. Such synthetic methods are described in, for example, JP-A-59-212495, JP-A-2003-192585, JP-A-2006-328027, and Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 38, 108-116, 2001, and the like.

上記CBDAを用いることにより、耐熱性、寸法安定性、及び透明性に優れたポリイミドを得ることができる。さらに、上記CBDAを合成するのに用いられる原料が安価であり、しかもCBDAの合成が容易であるため、CBDAを容易に入手することができる。   By using the CBDA, a polyimide having excellent heat resistance, dimensional stability, and transparency can be obtained. Furthermore, since the raw material used for synthesizing the CBDA is inexpensive and the synthesis of CBDA is easy, CBDA can be easily obtained.

上記CBDAに加えて、本発明の目的を逸脱しない範囲であれば、従来公知の他のテトラカルボン酸二無水物を使用することができる。   In addition to the CBDA, other conventionally known tetracarboxylic dianhydrides can be used as long as they do not depart from the object of the present invention.

上記他のテトラカルボン酸無水物としては、具体的には、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物もしくは3,3’4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3:5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3:5,6−テトラカルボン酸二無水物もしくは1−カルボキシメチル−2,3,5−シクロペンタントリカルボン酸−2,6:3,5−二無水物等の脂肪族又は脂環式テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。   Specific examples of the other tetracarboxylic acid anhydrides include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3′4,4′- Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic anhydride or 3,3′4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride; 3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2 .2] Oct-7-ene-2,3: 5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] octane-2,3: 5,6-tetracarboxylic dianhydride or 1 -Carboxymethyl 2,3,5-cyclopentane tricarboxylic acid-2,6: 3,5-aliphatic, such as dianhydrides or alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and the like.

(1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン)
1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン(以下、BABBと略記することがある)は、ジアミン化合物である。これは、p−ニトロベンゾイルハライドとヒドロキノンとを縮合反応させることによりエステル基を有するジニトロ化合物を合成した後、還元反応によりニトロ基を還元させることにより得ることができる。
(1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene)
1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene (hereinafter sometimes abbreviated as BABB) is a diamine compound. This can be obtained by synthesizing a dinitro compound having an ester group by a condensation reaction of p-nitrobenzoyl halide and hydroquinone, and then reducing the nitro group by a reduction reaction.

上記縮合反応で用いられる上記p−ニトロベンゾイルハライドとしては種々のものが使用可能であるが、コストを低減することができるので、p−ニトロベンゾイルクロライドが好ましい。上記縮合反応の際には、触媒を用いることが好ましい。   Various p-nitrobenzoyl halides used in the condensation reaction can be used, but p-nitrobenzoyl chloride is preferred because the cost can be reduced. A catalyst is preferably used in the condensation reaction.

上記縮合反応で用いられる触媒としては、トリエチルアミンもしくはピリジン等の有機アミン類、または水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が好適に使用される。   As the catalyst used in the condensation reaction, organic amines such as triethylamine or pyridine, or alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide or potassium hydroxide are preferably used.

上記縮合反応で用いられる溶媒としては、縮合反応に際し、不活性なものであれば特に限定されるものではないが、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンもしくはエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエンもしくはキシレン等の芳香族炭化水素類、または酢酸エチルもしくは酢酸ブチル等のエステル類等を使用することができる。またこれらの溶媒は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。中でも、テトラヒドロフラン、ジオキサンもしくはエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類が好ましい。   The solvent used in the condensation reaction is not particularly limited as long as it is inert during the condensation reaction. For example, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane or ethylene glycol dimethyl ether, and aromatics such as toluene or xylene. Aromatic hydrocarbons or esters such as ethyl acetate or butyl acetate can be used. Moreover, these solvents may be used independently and may use 2 or more types together. Of these, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane or ethylene glycol dimethyl ether are preferred.

上記溶媒の使用量は、原料を溶解させるのに十分な量であればよく、特に限定されるものではないが、通常、原料の合計100重量部に対して50〜1000重量部程度である。反応温度は、通常0〜100℃程度であり、好ましくは0〜50℃程度である。反応時間は、1〜24時間程度である。   Although the usage-amount of the said solvent should just be sufficient quantity to dissolve a raw material, it is not specifically limited, Usually, it is about 50-1000 weight part with respect to a total of 100 weight part of a raw material. The reaction temperature is usually about 0 to 100 ° C, preferably about 0 to 50 ° C. The reaction time is about 1 to 24 hours.

上記縮合反応が終了した後に、生成物である1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼンは、溶解性が低いため、触媒の塩酸塩と共に析出している場合が多い。この場合、水またはメタノールもしくはエタノール等の低級アルコールに、触媒の塩酸塩を溶解させることにより除去して、1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼンをろ別すればよい。   After the condensation reaction is completed, the product 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene has a low solubility and is often precipitated together with the catalyst hydrochloride. In this case, the catalyst hydrochloride may be removed by dissolving it in water or a lower alcohol such as methanol or ethanol, and 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene may be filtered off.

上記縮合反応後に、1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼンのニトロ基の還元させる方法としては、従来公知の還元法を用いることができる。還元法としては、収率が高く、かつ反応が容易であるため、接触還元法が好ましい。   As a method of reducing the nitro group of 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene after the condensation reaction, a conventionally known reduction method can be used. As the reduction method, the catalytic reduction method is preferred because of its high yield and easy reaction.

上記還元反応で用いられる触媒としては、例えば、ニッケル、ルテニウム、パラジウム、白金又はロジウムなどが挙げられる。中でも、入手が容易であり、コストを低減することができるので、パラジウムが好ましい。これらの触媒は、カーボン(活性炭)、アルミナ又はシリカゲルなどの担体表面に担持されて、使用されることが好ましい。   Examples of the catalyst used in the reduction reaction include nickel, ruthenium, palladium, platinum, and rhodium. Among these, palladium is preferable because it is easily available and the cost can be reduced. These catalysts are preferably used by being supported on the surface of a carrier such as carbon (activated carbon), alumina or silica gel.

上記還元反応で用いられる触媒の量は特に限定されないが、原料の合計100重量部に対して、0.01〜5重量部が好ましい。   The amount of the catalyst used in the reduction reaction is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total raw material.

上記還元反応で使用される溶媒としては、還元反応に際し、不活性なものであれば特に限定されるものではないが、ジニトロ体である1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼンを十分に溶解させ得る溶媒が好ましい。このような溶媒としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランもしくはエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトンもしくはメチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチルもしくは酢酸ブチル等のエステル類、又はN,N−ジメチルホルムアミドもしくはN,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等を使用することができる。これらの溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。中でも、原料の溶解性に優れているので、N,N−ジメチルホルムアミド、又はN,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類が好ましい。   The solvent used in the above reduction reaction is not particularly limited as long as it is inert during the reduction reaction. However, 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene, which is a dinitro form, is sufficient. A solvent that can be dissolved in is preferable. Examples of such solvents include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran or ethylene glycol dimethyl ether, ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate or butyl acetate, or N, N-dimethylformamide or N, N -Amides such as dimethylacetamide can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Among them, amides such as N, N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide are preferable because of excellent solubility of the raw materials.

上記還元反応で使用される溶媒の量は、1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼンを溶解させるのに十分な量であればよく、特に限定されるものではないが、通常、上記1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼン100重量部に対して、50〜1000重量部程度である。反応温度は特に限定されないが、通常、20〜150℃程度であり、好ましくは20〜100℃程度である。   The amount of the solvent used in the reduction reaction is not particularly limited as long as it is sufficient to dissolve 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene. The amount is about 50 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene. Although reaction temperature is not specifically limited, Usually, it is about 20-150 degreeC, Preferably it is about 20-100 degreeC.

上記還元反応は通常、原料を溶媒に溶解させて触媒を添加し、水素ガスを導入して、所定の温度で撹拌しながら行われる。この反応における圧力は、通常、常圧〜ゲージ圧で1MPa程度である。上記還元反応は、水素の吸収が停止するまで継続される。上記還元反応が終了した後に、触媒をろ別により除去し、母液を濃縮あるいは冷却する等により結晶を析出させる。この結晶をろ過により取り出した後、洗浄、乾燥して目的物である上記BABBを得ることができる。必要があれば、適当な溶媒を用いて、さらに再結晶等により精製してもよい。   The above reduction reaction is usually performed while dissolving a raw material in a solvent, adding a catalyst, introducing hydrogen gas, and stirring at a predetermined temperature. The pressure in this reaction is usually about 1 MPa from normal pressure to gauge pressure. The reduction reaction is continued until hydrogen absorption stops. After the reduction reaction is completed, the catalyst is removed by filtration, and crystals are precipitated by concentrating or cooling the mother liquor. The crystals are taken out by filtration, washed and dried to obtain the target BABB. If necessary, it may be further purified by recrystallization using an appropriate solvent.

上記BABBに加えて、本発明の目的を逸脱しない範囲であれば、従来公知の他のジアミン化合物を使用することができる。   In addition to the above-mentioned BABB, other conventionally known diamine compounds can be used as long as they do not depart from the object of the present invention.

上記他の他のジアミン化合物としては、具体的には、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフォン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフォン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、もしくは2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ジアミン化合物、または1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3‘−ジメチルジシクロヘキシルメタン、3(4),8(9),−ビス(アミノメチル)トリシクロ[5,2,1,02,6]デカン、もしくは2,5(6)−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン等の脂環式ジアミン化合物等が挙げられる。 Specific examples of the other diamine compounds include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 4,4′-diaminobiphenyl, and 3,3′-dimethyl-4,4. '-Diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4 '-Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminobenzanilide, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) ) Benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis Aromatic diamine compounds such as [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane or 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, or 1,4-diaminocyclohexane, 4, 4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldicyclohexylmethane, 3 (4), 8 (9),-bis (aminomethyl) tricyclo [5,2,1,0 2, 6] decane, or 2,5 (6) - bis (aminomethyl) bicyclo [2,2,1] alicyclic diamine compounds such heptane or the like It is below.

(ポリイミドの製造方法)
本発明に係るポリイミドを製造する方法としては、上記CBDAと上記BABBとを反応させてポリアミド酸を得た後、該ポリアミド酸をイミド化する方法が好ましい。
(Production method of polyimide)
As a method for producing the polyimide according to the present invention, a method in which the CBDA and the BABB are reacted to obtain a polyamic acid and then the polyamic acid is imidized is preferable.

上記ポリアミド酸の合成に際しては、上記CBDAと上記BABBとを、溶媒中で反応させる。これにより、ポリアミド酸含有溶液を得ることができる。   In the synthesis of the polyamic acid, the CBDA and the BABB are reacted in a solvent. Thereby, a polyamic acid-containing solution can be obtained.

上記CBDAと上記BABBとは、極性溶媒中で反応させることが好ましく、極性有機溶媒中で反応させることが好ましい。上記溶媒は、十分に脱水されていることが好ましい。   The CBDA and the BABB are preferably reacted in a polar solvent, and are preferably reacted in a polar organic solvent. The solvent is preferably sufficiently dehydrated.

上記ポリアミド酸の合成方法としては、好ましくは、不活性ガス雰囲気下で、充分に脱水された有機極性溶媒等の溶媒に、ほぼ等モルの上記CBDAと上記BABBとを溶解させる。この時発熱等の変化はほとんど観察されない。これは上記BABBのアミノ基の塩基性が弱いことに起因すると思われる。次に、室温〜70℃程度の温度で1〜48時間程度反応させる。この時の反応速度は、用いる溶媒によっても異なる。上記BABBのアミノ基の塩基性が弱いため、加熱下で反応させることが好ましい。   As a method for synthesizing the polyamic acid, preferably, approximately equimolar amounts of the CBDA and the BABB are dissolved in a sufficiently dehydrated solvent such as an organic polar solvent in an inert gas atmosphere. At this time, almost no change such as heat generation is observed. This seems to be due to the weak basicity of the amino group of BABB. Next, the reaction is carried out at room temperature to about 70 ° C. for about 1 to 48 hours. The reaction rate at this time varies depending on the solvent used. Since the basicity of the amino group of BABB is weak, the reaction is preferably carried out under heating.

上記CBDAと上記BABBとの反応に使用される溶媒としては、従来公知のものを用いることができ特に限定されないが、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドもしくはN−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンもしくはδ−バレロラクトン等のラクトン類、エチレンカーボネートもしくはプロピレンカーボネート等のカーボネート類、モノグライム、ジグライム、トリグライムもしくはテトラグライム等のグライム類、またはジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒等が使用可能である。またこれらに、トルエンもしくはキシレン等の炭化水素系溶媒、またはTHFもしくはジオキサン等のエーテル系溶媒等を添加した溶媒を使用してもよい。溶媒の使用量は、得られたポリアミド酸の濃度が、好ましくは5〜50重量%、さらに好ましくは10〜30重量%程度となるように用いればよい。   The solvent used for the reaction of the CBDA and the BABB can be a conventionally known solvent and is not particularly limited. For example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide or N-methyl- Amido solvents such as 2-pyrrolidone, lactones such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone or δ-valerolactone, carbonates such as ethylene carbonate or propylene carbonate, glymes such as monoglyme, diglyme, triglyme or tetraglyme, Alternatively, an aprotic polar solvent such as dimethyl sulfoxide can be used. Moreover, you may use the solvent which added hydrocarbon solvents, such as toluene or xylene, or ether solvents, such as THF or dioxane, to these. The amount of the solvent used may be such that the concentration of the obtained polyamic acid is preferably about 5 to 50% by weight, more preferably about 10 to 30% by weight.

上記のようにして得られたポリアミド酸、又は該ポリアミド酸含有溶液を用いて、該ポリアミド酸をイミド化させることにより、上記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするポリイミドを得ることができる。   The polyamic acid obtained as described above or the polyamic acid-containing solution is used to imidize the polyamic acid to obtain a polyimide having the structure represented by the above formula (1) as a main repeating structural unit. be able to.

上記ポリアミド酸をイミド化するに際しては、熱的方法及び化学的方法の内のいずれかを用いることが好ましい。また、上記ポリアミド酸をイミド化するに際しては、熱的に脱水閉環する熱イミド化法、又は脱水剤を用いる化学イミド化法等を用いることがより好ましい。   In imidizing the polyamic acid, it is preferable to use either a thermal method or a chemical method. Moreover, when imidating the said polyamic acid, it is more preferable to use the thermal imidation method which carries out dehydration ring closure thermally, the chemical imidation method using a dehydrating agent, etc.

上記熱イミド化法としては、例えば、PETフィルム、ガラス板又は金属支持体等の基板上に、ポリアミド酸含有溶液を塗布して膜状とした後、40〜150℃程度で10分〜2時間程度乾燥させた後、これを剥離してフィルム状態のポリアミド酸を得る。このポリアミド酸のフィルムを、好ましくは端部を支持体に固定した状態で加熱し、最終的に250〜400℃程度で10分〜3時間程度熱処理することで、フィルム状態で、本発明に係るポリイミドを得ることができる。   As the thermal imidization method, for example, a polyamic acid-containing solution is applied onto a substrate such as a PET film, a glass plate, or a metal support to form a film, and then at about 40 to 150 ° C. for 10 minutes to 2 hours. After drying to a certain extent, it is peeled off to obtain a polyamic acid in a film state. The polyamic acid film is preferably heated with the end portion fixed to the support, and finally heat-treated at about 250 to 400 ° C. for about 10 minutes to 3 hours. A polyimide can be obtained.

また、上記化学イミド化法としては、例えば無水酢酸等の脱水剤と、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の触媒とを、ポリアミド酸溶液に添加した後、熱イミド化法と同様の操作を行うことにより、フィルム状態で、本発明に係るポリイミドを得ることができる。   As the chemical imidization method, for example, a dehydrating agent such as acetic anhydride and a catalyst such as triethylamine, pyridine, picoline, or quinoline are added to the polyamic acid solution, and then the same operation as the thermal imidization method is performed. Thus, the polyimide according to the present invention can be obtained in a film state.

また、本発明の目的を損なわない範囲であれば、本発明に係るポリイミドに各種の添加剤、無機フィラー等を添加し、複合化させることも可能である。   In addition, various additives, inorganic fillers, and the like can be added to the polyimide according to the present invention so long as the object of the present invention is not impaired.

本発明のポリイミドをフィルム状態で用いる場合、用途にもよるが、フィルムの厚みとしては5〜200μmが好ましく、さらには10〜100μmが好ましい。   When the polyimide of the present invention is used in a film state, it depends on the use, but the thickness of the film is preferably 5 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm.

本発明に係るポリイミドは、上記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするので、透明性及び耐熱性に優れている。従って、本発明に係るポリイミドは、光学材料分野におけるフィルムや基材、電子材料分野における保護膜や絶縁膜、あるいはフレキシブルプリント回路基板等に好適に使用することできる。   Since the polyimide which concerns on this invention makes the structure shown by said Formula (1) the main repeating structural unit, it is excellent in transparency and heat resistance. Therefore, the polyimide according to the present invention can be suitably used for films and substrates in the field of optical materials, protective films and insulating films in the field of electronic materials, flexible printed circuit boards, and the like.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[FT−IR測定]
スペクトロメータとして、ThermoElectron製「NICOLET380」を用いて測定した。
H−NMR測定]
JEOL製NMR測定装置「ECX−400」を用い、DMSO−d中、23℃で測定した。
[DSC測定]
島津製作所製「DSC−60」を用い、アルゴン雰囲気下、昇温速度10℃/分で測定した。
[熱分解特性評価]
島津製作所製「DTG−60」を用い、アルゴン雰囲気下、昇温速度10℃/分で測定し、5%重量減少温度を評価した。
[熱膨張率の測定]
SIIナノテクノロジー社製「TMA/SS6100」を用い、窒素雰囲気下、昇温速度15℃/分で測定し、100℃から200℃の熱膨張率の平均値を求めた。
[透明性の評価]
島津製作所製紫外可視分光光度計「UVmini1240」を用い、1100nm〜200nmの波長範囲の光線の透過率を測定した。
Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. In addition, this invention is not limited to a following example.
[FT-IR measurement]
Measurement was performed using “NICOLET 380” manufactured by ThermoElectron as a spectrometer.
[1 H-NMR measurement]
Measurement was performed at 23 ° C. in DMSO-d 6 using a JEOL NMR measurement apparatus “ECX-400”.
[DSC measurement]
Using “DSC-60” manufactured by Shimadzu Corporation, the measurement was performed under an argon atmosphere at a heating rate of 10 ° C./min.
[Pyrolysis characteristics evaluation]
Using a “DTG-60” manufactured by Shimadzu Corporation, the temperature was measured at a heating rate of 10 ° C./min in an argon atmosphere, and a 5% weight loss temperature was evaluated.
[Measurement of thermal expansion coefficient]
Using “TMA / SS6100” manufactured by SII Nanotechnology, the temperature was measured at a rate of temperature increase of 15 ° C./min in a nitrogen atmosphere, and the average value of the coefficient of thermal expansion from 100 ° C. to 200 ° C. was obtained.
[Evaluation of transparency]
Using a UV-visible spectrophotometer “UVmini 1240” manufactured by Shimadzu Corporation, the transmittance of light in the wavelength range of 1100 nm to 200 nm was measured.

(合成例1)
窒素置換した反応容器中で、溶媒としてのTHF2300mlと、触媒としてのトリエチルアミン133.4g(1.32mol)とを使用し、ヒドロキノン66.0g(0.60mol)とp−ニトロベンゾイルクロリド233.6g(1.26mol)とを2時間反応させた。反応中、初期には6℃に冷却されていた溶液温度は、反応終了時には24℃まで上昇した。
(Synthesis Example 1)
In a nitrogen-substituted reaction vessel, using 2300 ml of THF as a solvent and 133.4 g (1.32 mol) of triethylamine as a catalyst, 66.0 g (0.60 mol) of hydroquinone and 233.6 g of p-nitrobenzoyl chloride ( 1.26 mol) was reacted for 2 hours. During the reaction, the solution temperature, which was initially cooled to 6 ° C., rose to 24 ° C. at the end of the reaction.

析出した反応生成物およびトリエチルアミンの塩酸塩をろ過により取り出して、水およびメタノールで洗浄した後、トリエチルアミンの塩酸塩を除去し乾燥することにより、ジニトロ体である1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼンを得た。収率は93.5%であった。   The precipitated reaction product and triethylamine hydrochloride were removed by filtration, washed with water and methanol, and then the triethylamine hydrochloride was removed and dried to obtain 1,4-bis (4-nitrobenzoyl) which is a dinitro compound. Oxy) benzene was obtained. The yield was 93.5%.

得られた1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベンゼン119.7gを、反応容器中でDMF700mlに溶解し、5%Pd/C(50%wet)3.0gを添加した。ここへH--ガスを供給し、内圧を0.4MPaとし、約60℃で7時間還元反応させた。触媒および溶媒を除去した後、再結晶し、減圧乾燥することにより、目的化合物である1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンを得た。収率は90.8%であった。 119.7 g of the obtained 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene was dissolved in 700 ml of DMF in a reaction vessel, and 3.0 g of 5% Pd / C (50% wet) was added. H-- 2 gas was supplied here, the internal pressure was set to 0.4 MPa, and a reduction reaction was performed at about 60 ° C. for 7 hours. After removing the catalyst and the solvent, it was recrystallized and dried under reduced pressure to obtain 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene as the target compound. The yield was 90.8%.

DSC法により融点を測定したところ320℃であった。この結晶について、H−NMR測定、及びFT−IR測定を行い、目的物である1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンが得られていることを確認した。 It was 320 degreeC when melting | fusing point was measured by DSC method. This crystal was subjected to 1 H-NMR measurement and FT-IR measurement, and it was confirmed that 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene, which was the object, was obtained.

(合成例2)
内部照射型のガラス容器中を窒素置換し、該ガラス容器中で酢酸エチル250gおよび無水マレイン酸25.5gを混合し、冷却下で高圧水銀灯により光照射を行い、約20℃で6時間反応させた。反応終了後、析出している生成物をろ取し、酢酸エチルで洗浄した後、減圧乾燥することにより、目的化合物である1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を得た。収率は7.8%であった。
(Synthesis Example 2)
The inside irradiation type glass container is purged with nitrogen, 250 g of ethyl acetate and 25.5 g of maleic anhydride are mixed in the glass container, irradiated with light with a high pressure mercury lamp under cooling, and reacted at about 20 ° C. for 6 hours. It was. After completion of the reaction, the precipitated product was collected by filtration, washed with ethyl acetate, and then dried under reduced pressure to obtain the target compound 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride. . The yield was 7.8%.

得られた1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の結晶について、H−NMR測定、及びFT−IR測定を行い、目的物である1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物が得られていることを確認した。 The obtained 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride crystals were subjected to 1 H-NMR measurement and FT-IR measurement, and the target 1,2,3,4-cyclobutanetetra It was confirmed that carboxylic dianhydride was obtained.

(実施例1)
窒素置換したガラス容器中で、N,N−ジメチルアセトアミド8ml、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン0.888g(2.55mmol)、及び1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物0.500g(2.55mmol)を混合した。このとき、特に発熱等の変化は、観察されなかった。これを70℃のホットスターラー上で20時間撹拌し、均一でかつ透明な微黄色の粘調液を得た。
Example 1
In a glass container purged with nitrogen, 8 ml of N, N-dimethylacetamide, 0.888 g (2.55 mmol) of 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene, and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic 0.500 g (2.55 mmol) of acid dianhydride was mixed. At this time, no change such as exotherm was observed. This was stirred for 20 hours on a hot stirrer at 70 ° C. to obtain a uniform and transparent slightly yellow viscous liquid.

この溶液をPETフィルム上にアプリケータを用いて塗工し、60℃で30分乾燥させ、100℃で30分さらに乾燥させて、フィルム状態のポリアミド酸(ポリアミド酸フィルム)を得た。このポリアミド酸フィルムをPETフィルムから剥離した。しかる後、ポリアミド酸フィルムを窒素雰囲気下において、100℃で1時間保持し、200℃で1時間さらに保持し、300℃で1時間さらに保持し、イミド化を行った。このようにして、上記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするポリイミドに相当するフィルム状態のポリイミド(ポリイミドフィルム)を得た。得られたポリイミドフィルムは、厚みが11μmであり、ほぼ無色透明であったが、若干脆いものであった。得られたポリイミドフィルムのFT−IRスペクトルを図1に示した。   This solution was applied onto a PET film using an applicator, dried at 60 ° C. for 30 minutes, and further dried at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a polyamic acid (polyamic acid film) in a film state. This polyamic acid film was peeled from the PET film. Thereafter, the polyamic acid film was kept at 100 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere, further kept at 200 ° C. for 1 hour, and further kept at 300 ° C. for 1 hour to perform imidization. In this way, a film-like polyimide (polyimide film) corresponding to the polyimide having the structure represented by the above formula (1) as the main repeating structural unit was obtained. The obtained polyimide film had a thickness of 11 μm and was almost colorless and transparent, but was slightly brittle. The FT-IR spectrum of the obtained polyimide film is shown in FIG.

このポリイミドフィルムについて、熱分解特性を評価したところ、5%重量減少温度は456℃と良好な値を示した。また、透明性を評価したところ、380nm〜780nmの可視光線の透過率の平均値は84.5%、400nmでの透過率は77%、吸収端波長は321nmであった。   When the thermal decomposition characteristics of this polyimide film were evaluated, the 5% weight loss temperature showed a good value of 456 ° C. When the transparency was evaluated, the average value of the transmittance of visible light from 380 nm to 780 nm was 84.5%, the transmittance at 400 nm was 77%, and the absorption edge wavelength was 321 nm.

(実施例2)
実施例1において、溶媒をN−メチル−2−ピロリドンに変更した以外は、実施例1と同様にして、上記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするポリイミドに相当するフィルム状態のポリイミド(ポリイミドフィルム)を作製した。得られたポリイミドフィルムは、厚みが15μmであり、ほぼ無色透明であり、かつフレキシブルなものであった。
(Example 2)
In Example 1, except that the solvent was changed to N-methyl-2-pyrrolidone, a film state corresponding to polyimide having the structure represented by the above formula (1) as a main repeating structural unit in the same manner as in Example 1. Of polyimide (polyimide film) was prepared. The obtained polyimide film had a thickness of 15 μm, was almost colorless and transparent, and was flexible.

このポリイミドフィルムについて熱膨張率を測定したところ、25ppmと低い値を示した。また、ポリイミドフィルムは、熱膨張率の曲線の変曲点より求めたガラス転移温度が304℃であり、高い耐熱性を有していた。   The coefficient of thermal expansion of this polyimide film was measured and showed a low value of 25 ppm. Moreover, the polyimide film had a glass transition temperature of 304 ° C. determined from the inflection point of the thermal expansion coefficient curve, and had high heat resistance.

このポリイミドフィルムについて、熱分解特性を評価したところ、5%重量減少温度は474℃と良好な値を示した。   When the thermal decomposition characteristics of this polyimide film were evaluated, the 5% weight loss temperature showed a good value of 474 ° C.

実施例1で得られたポリイミドのFT−IRスペクトル。The FT-IR spectrum of the polyimide obtained in Example 1.

Claims (2)

下記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするポリイミド。
Figure 0004829913
A polyimide having a structure represented by the following formula (1) as a main repeating structural unit.
Figure 0004829913
請求項1に記載のポリイミドの製造方法であって、
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物と、1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンとを反応させることによりポリアミド酸を得た後、該ポリアミド酸をイミド化することにより、前記式(1)で示される構造を主たる繰り返し構造単位とするポリイミドを得ることを特徴とする、ポリイミドの製造方法。
It is a manufacturing method of the polyimide according to claim 1, Comprising:
After obtaining a polyamic acid by reacting 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride with 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene, the polyamic acid is imidized. By this, the polyimide which makes the structure shown by said Formula (1) the main repeating structural unit is obtained, The manufacturing method of a polyimide characterized by the above-mentioned.
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