JPH0848773A - Polyamic acid, polyimide and their production - Google Patents

Polyamic acid, polyimide and their production

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JPH0848773A
JPH0848773A JP20421994A JP20421994A JPH0848773A JP H0848773 A JPH0848773 A JP H0848773A JP 20421994 A JP20421994 A JP 20421994A JP 20421994 A JP20421994 A JP 20421994A JP H0848773 A JPH0848773 A JP H0848773A
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Japan
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polyimide
polyamic acid
component
film
formula
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JP20421994A
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Japanese (ja)
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Ichiro Kaneko
一郎 金子
Kiyoshi Motoumi
清 本海
Atsushi Sugitani
厚志 杉谷
Masahiro Yuyama
昌弘 湯山
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N

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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a polyimide having excellent mechanical strengths and a low coefficient of linear expansion by dehydrative cyclizing a polyamic acid comprising specified repeating units derived by reacting a specified aromatic tetracarboxylic acid dianhydride with a specified aromatic diamine. CONSTITUTION:An aromatic tetracarboxylic acid dianhydride (A) of formula I (wherein R is an aromatic hydrocarbon group) is reacted with an aromatic diamine (B) of formula II in an organic solvent to obtain a polyamic acid (C) mainly consisting of repeating units of formula III. Component C is cyclized through thermal or chemical dehydration to obtain a polyimide of formula IV. To obtain the polyimide in the form of a film, an organic solvent solution of component C is formed into a film of component C, and this film is dried and imidated through thermal dehydration to form a polyimide film of a thickness of 10-150mum. This film is suitable for e.g. a flexible printed wiring board. Examples of component A include dianhydride of pyromellitic acid and benzophenonetetracarboxylic acid. Component C may contain at most 10mol% diamine component other than component B.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性に優れると共
に、高い機械的強度と低い熱膨張係数を持ち、ファイン
パターン化フレキシブルプリント配線基板等の基材に適
するポリイミド及びこれを製造する方法、並びに該ポリ
イミド製造の中間体であるポリアミド酸及びこれを製造
する方法に関する。
The present invention relates to a polyimide having excellent heat resistance, high mechanical strength and a low coefficient of thermal expansion, which is suitable for a base material such as a fine patterned flexible printed wiring board, and a method for producing the same. The present invention also relates to a polyamic acid which is an intermediate for producing the polyimide and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、ポリイミド樹脂は非常に優れた耐熱性、耐薬品性、
電気特性、機械的特性、その他優れた諸特性を有してい
ることが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, polyimide resins have been extremely superior in heat resistance, chemical resistance, and
It is known to have electrical properties, mechanical properties, and other excellent properties.

【0003】例えば、特公昭36−10999号公報に
見られるような4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
とピロメリット酸二無水物とから得られるポリイミドが
よく知られている。このポリイミドは、主鎖に屈曲性に
富むエーテル結合を含むため、全芳香族ポリイミドであ
りながら可撓性に富むものであるが、その反面、弾性率
が低いと共に、線膨張係数が大きく、熱的寸法安定性が
悪いものである。
For example, a polyimide obtained from 4,4'-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride as disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-10999 is well known. This polyimide is a wholly aromatic polyimide because it contains a flexible ether bond in its main chain, but it is highly flexible, but on the other hand, it has a low elastic modulus, a large linear expansion coefficient, and a thermal dimension. It has poor stability.

【0004】しかしながら、近年、ファインパターン化
フレキシブルプリント配線基板等の用途では、より優れ
た熱的寸法安定性を有し、しかも機械的強度に優れたポ
リイミド樹脂の開発が要望されているが、従来広く使用
されているポリイミド樹脂は、線膨張係数が約3×10
-5/℃程度とかなり大きく、そのため熱的寸法安定性が
悪く、金属などと積層した場合に反りやカールを生じる
という欠点を有していた。このため、熱的寸法安定性及
び機械的強度の向上を目指して様々な組成のポリイミド
樹脂が検討されてきたが、未だ熱的寸法安定性と機械的
特性との両方を十分に満足するポリイミド樹脂は得られ
ていない現状にある。
However, in recent years, in applications such as fine patterned flexible printed wiring boards, there has been a demand for the development of a polyimide resin having more excellent thermal dimensional stability and mechanical strength. Widely used polyimide resin has a linear expansion coefficient of about 3 x 10
It is considerably large at about -5 / ° C. Therefore, it has poor thermal dimensional stability and has a drawback that it is warped or curled when laminated with a metal or the like. For this reason, polyimide resins of various compositions have been studied with the aim of improving thermal dimensional stability and mechanical strength, but polyimide resins that still sufficiently satisfy both thermal dimensional stability and mechanical properties. Is not obtained yet.

【0005】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、耐熱性が高いと共に、優れた機械的強度と低い線膨
張係数を兼ね備えたポリイミド及びポリイミドの中間体
であるポリアミド酸並びにこれらを製造する方法を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and produces a polyamic acid which is a polyimide, an intermediate of the polyimide and a polyimide having both high heat resistance and excellent mechanical strength and a low linear expansion coefficient. The purpose is to provide a method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記一般
式(2)で表わされる芳香族テトラカルボン酸二無水物
と下記式(3)で表わされる1,4−ビス(4−アミノ
ベンゾイルオキシ)ベンゼンを反応させることにより、
下記一般式(1)で表わされる単位を主反復単位とする
ポリアミド酸が得られること、このポリアミド酸を熱的
又は化学的に脱水閉環させることにより、容易に下記一
般式(4)で表わされる単位を主反復単位とするポリイ
ミドが得られること、得られたポリイミドが優れた機械
的強度、高い弾性率及び低い線膨張係数を有することを
見い出し、本発明をなすに至ったものである。
Means for Solving the Problems The present inventor has conducted extensive studies in order to achieve the above-mentioned object, and as a result, the aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (2) and the following formula ( By reacting 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene represented by 3),
A polyamic acid having a unit represented by the following general formula (1) as a main repeating unit is obtained, and the polyamic acid is easily represented by the following general formula (4) by thermal or chemical dehydration ring closure. The present invention has been accomplished by finding that a polyimide having a unit as a main repeating unit can be obtained, and that the obtained polyimide has excellent mechanical strength, high elastic modulus and low linear expansion coefficient.

【0007】[0007]

【化5】 (但し、Rは4価の芳香族炭化水素基を示す。)Embedded image (However, R represents a tetravalent aromatic hydrocarbon group.)

【0008】従って、本発明は上記式(1)の単位を主
反復単位とするポリアミド酸、式(2)の芳香族テトラ
カルボン酸二無水物と式(3)のジアミンとを反応させ
ることを特徴とする上記ポリアミド酸の製造方法、式
(4)の単位を主反復単位とするポリイミド、及び、式
(1)のポリアミド酸を脱水閉環することを特徴とする
上記ポリイミドの製造方法を提供する。
Accordingly, the present invention comprises reacting a polyamic acid containing the unit of the above formula (1) as a main repeating unit, an aromatic tetracarboxylic dianhydride of the formula (2) and a diamine of the formula (3). There is provided a method for producing the above polyamic acid, a polyimide having a unit of the formula (4) as a main repeating unit, and a method for producing the above polyimide, which comprises dehydrating and ring-closing the polyamic acid of the formula (1). .

【0009】以下、本発明について更に詳細に説明す
る。本発明のポリアミド酸は、上述したように、下記一
般式(2)で表わされる芳香族テトラカルボン酸二無水
物と下記式(3)で表わされる1,4−ビス(4−アミ
ノベンゾイルオキシ)ベンゼンとを反応させることによ
り得られるもので、下記一般式(1)で表わされる単位
を主反復単位とするものである。
The present invention will be described in more detail below. As described above, the polyamic acid of the present invention comprises an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (2) and 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) represented by the following formula (3). It is obtained by reacting with benzene and has a unit represented by the following general formula (1) as a main repeating unit.

【0010】[0010]

【化6】 [Chemical 6]

【0011】上記式中のRは4価の芳香族炭化水素基で
あり、これは式(2)の芳香族テトラカルボン酸二無水
物の主骨格に由来する。この芳香族テトラカルボン酸二
無水物として具体的には、ピロメリット酸二無水物、
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物、3,3’4,4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテト
ラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、1,1−
ビス(3,4−カルボキシフェニル)エタン二無水物、
3,4,9,10−ベリレンテトラカルボン酸二無水
物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無
水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸
二無水物、1,2,7,8−フェニンレンテトラカルボ
ン酸二無水物などを挙げることができ、これら一種を単
独で又は二種以上を併用して使用することができる。
R in the above formula is a tetravalent aromatic hydrocarbon group, which is derived from the main skeleton of the aromatic tetracarboxylic dianhydride of formula (2). Specifically as the aromatic tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride,
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3'4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride Anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane Dianhydride, bis (3,4-
Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4
-Dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 1,1-
Bis (3,4-carboxyphenyl) ethane dianhydride,
3,4,9,10-berylene tetracarboxylic dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracene tetracarboxylic dianhydride, Examples thereof include 1,2,7,8-phenylenetetracarboxylic dianhydride, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0012】本発明の式(1)の繰り返し単位を有する
ポリアミド酸は高分子量の重合体であり、例えば0.5
g/100mlDMF中、30℃の測定温度で対数粘度
0.5〜5.0であることが望ましい。
The polyamic acid having the repeating unit of the formula (1) of the present invention is a high molecular weight polymer, for example, 0.5
It is desirable that the logarithmic viscosity is 0.5 to 5.0 at a measurement temperature of 30 ° C. in g / 100 ml DMF.

【0013】この式(1)のポリアミド酸は、上述した
ように、式(2)の芳香族テトラカルボン酸二無水物と
式(2)のジアミンとを有機溶媒中で反応させることに
より得られるが、この場合、ジアミンに対し反応させる
酸二無水物のモル数としては、ジアミン1に対し酸二無
水物0.95〜1.05、より好ましくは0.98〜
1.02が適当である。モル比がこの範囲外であると得
られる重合体の分子量が低下し、十分な機械的強度が得
られない。
As described above, the polyamic acid of the formula (1) is obtained by reacting the aromatic tetracarboxylic dianhydride of the formula (2) with the diamine of the formula (2) in an organic solvent. However, in this case, as the number of moles of the acid dianhydride to be reacted with the diamine, the acid dianhydride is 0.95 to 1.05 with respect to 1 diamine, and more preferably 0.98 to
1.02 is suitable. If the molar ratio is out of this range, the molecular weight of the polymer obtained will decrease, and sufficient mechanical strength will not be obtained.

【0014】なお、本発明のポリアミド酸においては、
上記式(2)のジアミン以外に他のジアミン成分をジア
ミン成分全体の10モル%以下の範囲で含んでいても差
し支えない。他のジアミン成分としては、例えば4,
4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,
4’−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3’−ジア
ミノジフェニルスルフォン、ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルフォン、ビス[4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル]スルフォン、ビス[4−
(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルフォン、1,
4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス
(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4
−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]エーテル、4,4’−ジアミノ
ジフェニルメタン、ビス(3−エチル−4−アミノフェ
ニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニ
ル)メタン、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、3,
3’−ジメトシキ−4,4’−ジアミノジフェニル、
3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、
3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、
2,2’,5,5’−テトラクロロ−4,4’−ジアミ
ノビフェニル、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジ
アミノビフェニル、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’
−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニル
スルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジ
アミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェ
ニルメタン、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’
−ジアミノオクタフルオロビフェニル、2,4−ジアミ
ノトルエン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレン
ジアミン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、3,
4’−ジアミノベンズアニリド、4,3’−ジアミノベ
ンズアニリド、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−ア
ミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9−ビス
(4−アミノフェニル)−10−ヒドロ−アントラセ
ン、オルトトリジンスルフォン、更には例えば3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラアミン、3,3’,
4,4’−テトラアミノジフェニルエーテル等のテトラ
アミン類の一部使用も可能である。1,4−ビス(4−
アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン以外の多価アミン
は、本発明の目的、効果が達成される範囲内の量を使用
できるが、全アミンに対して10モル%以下の量、好ま
しくは5モル%以下の少量が適当である。
In the polyamic acid of the present invention,
In addition to the diamine of the above formula (2), other diamine components may be contained in the range of 10 mol% or less of the total diamine components. Other diamine components include, for example, 4,
4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4-
(2-Aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,
4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-
Bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4
-Aminophenyl) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (3-ethyl-4-aminophenyl) methane, bis (3-chloro-4-amino) Phenyl) methane, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,
3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl,
3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl,
3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl,
2,2 ', 5,5'-Tetrachloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxy-4,4'
-Diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl ether,
3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4 '
-Diaminooctafluorobiphenyl, 2,4-diaminotoluene, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,
4'-diaminobenzanilide, 4,3'-diaminobenzanilide, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-
Aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) hexafluoropropane, 9,9-bis (4-aminophenyl) -10-hydro-anthracene, orthotolidine sulfone, and further, for example 3,
3 ', 4,4'-biphenyltetraamine, 3,3',
It is also possible to use a part of tetraamines such as 4,4′-tetraaminodiphenyl ether. 1,4-bis (4-
A polyvalent amine other than aminobenzoyloxy) benzene can be used in an amount within the range in which the objects and effects of the present invention are achieved, but the amount is 10 mol% or less, preferably 5 mol% or less based on the total amines. A small amount is suitable.

【0015】ここで、本発明のポリアミド酸の生成反応
に使用される有機極性溶媒としては、例えばジメチルス
ルフォキシド等のスルフォキシド系溶媒、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド等の
ホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド等
のアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、
N−ビニル−2−ピロリドン等のピロリドン系溶媒、フ
ェノール、o−,m−又はp−クレゾール、キシレノー
ル、ハロゲン化フェノール、カテコール等のフェノール
系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルムアミド、γ−
ブチロラクトン等を挙げることができ、これらを単独又
は混合物として用いるのが望ましいが、更にはキシレ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素の一部使用も可能
である。
Examples of the organic polar solvent used in the polyamic acid production reaction of the present invention include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide and the like. Formamide solvent, acetamide solvent such as N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone,
Pyrrolidone-based solvent such as N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m- or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, phenolic solvent such as catechol, hexamethylphosphoramide, γ-
Butyrolactone and the like can be mentioned, and it is desirable to use them alone or as a mixture, but it is also possible to partially use an aromatic hydrocarbon such as xylene and toluene.

【0016】これらの有機極性溶媒中で0〜70℃、好
ましくは0〜30℃の温度で1〜50時間、好ましくは
3〜20時間重合してポリアミド酸が得られる。このポ
リアミド酸は有機極性溶媒中に5〜30重量%、特に1
0〜20重量%の範囲で溶解していることが好ましく、
このような溶解量となるように原料、有機溶媒の使用量
を決定することが良い。
Polyamic acid is obtained by polymerizing in these organic polar solvents at a temperature of 0 to 70 ° C., preferably 0 to 30 ° C. for 1 to 50 hours, preferably 3 to 20 hours. This polyamic acid is contained in an organic polar solvent in an amount of 5 to 30% by weight, particularly 1
It is preferably dissolved in the range of 0 to 20% by weight,
It is preferable to determine the amounts of the raw material and the organic solvent used so that the amount of dissolution will be as described above.

【0017】次に、本発明のポリイミドは、上記式
(1)のポリアミド酸を脱水閉環して得られるもので、
下記一般式(4)で表わされる繰り返し単位を有するも
のである。
Next, the polyimide of the present invention is obtained by dehydration ring closure of the polyamic acid of the above formula (1),
It has a repeating unit represented by the following general formula (4).

【0018】[0018]

【化7】 (但し、Rは上記と同様の意味を示す。)[Chemical 7] (However, R has the same meaning as above.)

【0019】このポリイミドの分子量は、上記ポリアミ
ド酸の分子量(対数粘度)に規定された分子量を有す
る。
The molecular weight of this polyimide has a molecular weight defined by the molecular weight (logarithmic viscosity) of the above polyamic acid.

【0020】ここで、上記ポリアミド酸共重合体の脱水
閉環は通常の方法で行うことができ、熱的又は化学的脱
水閉環(イミド化)を好適に採用することができる。熱
的な脱水閉環方法としては、200〜500℃で5〜1
20分加熱する方法が好適である。
The dehydration ring closure of the polyamic acid copolymer can be carried out by an ordinary method, and thermal or chemical dehydration ring closure (imidization) can be preferably adopted. As a thermal dehydration ring-closing method, 5 to 1 at 200 to 500 ° C.
A method of heating for 20 minutes is preferable.

【0021】また、ポリアミド酸共重合体を化学的に脱
水閉環するには、脱水剤及び触媒を用いた方法が好適で
ある。この場合、脱水剤としては、例えば脂肪族酸無水
物、芳香族酸無水物、N,N−ジアルキルカルボジイミ
ド、低級脂肪酸ハロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪酸ハ
ロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪酸無水物、アリルフォ
スフォン酸ジハロゲン化物、チオニルハロゲン化物等が
挙げられ、これらは一種を単独で又は二種以上を混合し
て使用することができる。脱水剤の使用量はポリアミド
酸の繰り返し単位当り約0.1〜10モル量、特に0.
5〜4モル量が好ましい。
A method using a dehydrating agent and a catalyst is suitable for chemically dehydrating and ring-closing the polyamic acid copolymer. In this case, examples of the dehydrating agent include aliphatic acid anhydrides, aromatic acid anhydrides, N, N-dialkylcarbodiimides, lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid anhydrides, and allylphosphon. Examples thereof include acid dihalides and thionyl halides, and these can be used alone or in combination of two or more. The dehydrating agent is used in an amount of about 0.1 to 10 mol per repeating unit of the polyamic acid, particularly, 0.1.
A 5 to 4 molar amount is preferred.

【0022】また触媒としては、例えばトリエチルアミ
ン等の脂肪族第三級アミン、ジメチルアニリン等の芳香
族第三級アミン、ピリジン、β−ピコリン、イソキノリ
ン等の複素環式第三級アミン等が挙げられ、これらは一
種を単独で又は二種以上を混合して使用することができ
る。触媒の使用量は、ポリアミド酸の繰り返し単位当り
約0.01〜4モル量、特に0.1〜2モル量が好まし
い。
Examples of the catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, β-picoline and isoquinoline. These can be used alone or in combination of two or more. The amount of the catalyst used is preferably about 0.01 to 4 mols, and particularly preferably 0.1 to 2 mols per repeating unit of polyamic acid.

【0023】なお、上記化学的脱水閉環の反応条件は、
20〜400℃で0.2〜20時間、特に50〜350
℃で0.5〜5時間が好ましい。
The reaction conditions for the chemical dehydration ring closure are as follows:
0.2 to 20 hours at 20 to 400 ° C., especially 50 to 350
Preference is given to 0.5 to 5 hours at 0 ° C.

【0024】ポリイミド共重合体をフィルム状として得
るには、上記ポリアミド酸共重合体の有機溶媒溶解液を
エンドレスベルト等の支持体に流延又は塗布して膜状と
し、この膜を100〜150℃で乾燥し、溶媒を10〜
30%含有するポリアミド酸の自己支持性の膜を得る。
次いで、この膜を支持体上から引き剥し、端部を固定し
た後、約150〜250℃に加熱して溶媒をとばし、更
に250〜500℃で脱水イミド化することにより、厚
みが10〜150μmのポリイミドフィルムを得ること
ができる。
To obtain a polyimide copolymer in the form of a film, a solution of the above polyamic acid copolymer in an organic solvent is cast or applied on a support such as an endless belt to form a film, and this film is 100-150. Dry at 0 ° C and add 10-
A polyamic acid self-supporting membrane containing 30% is obtained.
Then, the film is peeled off from the support, the ends are fixed, the solvent is removed by heating to about 150 to 250 ° C., and dehydration imidization is further performed at 250 to 500 ° C. to give a thickness of 10 to 150 μm. Can be obtained.

【0025】このようにして得られるポリイミド共重合
体は、耐熱性に優れると共に、高い機械的強度と低い熱
膨張係数を有するため、例えば電気絶縁材料やファイン
パターン化フレキシブルプリント配線基板等のフィルム
基材として好適である。
The thus obtained polyimide copolymer has excellent heat resistance, high mechanical strength and a low coefficient of thermal expansion, so that it can be used, for example, as a film base for an electrically insulating material or a fine patterned flexible printed wiring board. It is suitable as a material.

【0026】[0026]

【実施例】以下、実施例と比較例を示し本発明を具体的
に示すが、本発明は下記の実施例に制限されるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will be specifically shown below by showing Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

【0027】[参考例]まず、下記のように1,4−ビ
ス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼンを合成し
た。
Reference Example First, 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene was synthesized as follows.

【0028】テトラヒドロフラン500mlにヒドロキ
ノン33.0g(0.300モル)とトリエチルアミン
66.8g(0.660モル)を溶解し、0℃に冷却
後、その中にテトラヒドロフラン150mlにp−ニト
ロ塩化ベンゾイル116.9g(0.630モル)を溶
かした溶液を、反応液の温度が10℃以下になるように
滴下した。その後、室温に戻し、2時間撹拌を続けた。
Hydroquinone (33.0 g, 0.300 mol) and triethylamine (66.8 g, 0.660 mol) were dissolved in tetrahydrofuran (500 ml) and cooled to 0 ° C., and then tetrahydrofuran (150 ml) was added with p-nitrobenzoyl chloride 116. A solution in which 9 g (0.630 mol) was dissolved was added dropwise so that the temperature of the reaction liquid was 10 ° C or lower. Then, it returned to room temperature and continued stirring for 2 hours.

【0029】次いで、析出物を濾過し、テトラヒドロフ
ランで洗浄し、更に水、メタノールで洗浄した後、乾燥
して1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベン
ゼンの白色結晶を得た。その収量は121.0g(収率
98.8%)であった。粗結晶をN,N−ジメチルホル
ムアミドにより再結晶し、純品を得た。
Then, the precipitate was filtered, washed with tetrahydrofuran, further washed with water and methanol, and then dried to obtain white crystals of 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene. The yield was 121.0 g (yield 98.8%). The crude crystal was recrystallized from N, N-dimethylformamide to obtain a pure product.

【0030】1000mlのオートクレーブに、上で得
られた1,4−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ベ
ンゼン102.1g(0.250モル)を5%Pd/C
3g、ジメチルホルムアミド700mlと共に装入し
た。60℃で激しく撹拌しながら水素を導入し、水素の
吸収が認められなくなるまで撹拌を続けた。
In a 1000 ml autoclave, 102.1 g (0.250 mol) of 1,4-bis (4-nitrobenzoyloxy) benzene obtained above was added to 5% Pd / C.
Charged with 3 g and 700 ml of dimethylformamide. Hydrogen was introduced with vigorous stirring at 60 ° C., and stirring was continued until hydrogen absorption was no longer observed.

【0031】冷却後、濾過して触媒を除去し、減圧濃縮
して水1000mlへ注ぎ、沈澱物を濾過し、水で洗浄
後、減圧乾燥し、1,4−ビス(4−アミノベンゾイル
オキシ)ベンゼンの淡茶白色固体を得た。収量は83.
6g(収率96.0%)であった。粗結晶をDMF/メ
タノールの混合溶媒により再結晶し、純品を得た。
After cooling, the catalyst was removed by filtration, concentrated under reduced pressure and poured into 1000 ml of water. The precipitate was filtered, washed with water and dried under reduced pressure to give 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy). A pale brown white solid of benzene was obtained. Yield 83.
It was 6 g (yield 96.0%). The crude crystal was recrystallized with a mixed solvent of DMF / methanol to obtain a pure product.

【0032】[実施例1]1000mlのフラスコにD
MF509.8gを入れ、窒素ガスを流しながら芳香族
ジアミンとして1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオ
キシ)ベンゼン34.836g(0.100モル)をD
MFに溶解した。次に酸二無水物としてピロメリット酸
二無水物21.812g(0.100モル)を加え、2
5℃で3時間反応させた。次いで、得られたポリアミド
酸溶液をガラス板上にアプリケーターで薄く延ばし、バ
キュームオーブン中減圧下110℃、60分間乾燥して
から剥離した後、鉄枠に固定し、200℃,60分、次
いで300℃,60分で脱溶剤イミド化して、約25μ
m厚みのフィルムを得た。
[Example 1] D was added to a 1000 ml flask.
MF509.8g was put, and 34.836 g (0.100 mol) of 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene as an aromatic diamine was added as D while flowing nitrogen gas.
Dissolved in MF. Next, 21.812 g (0.100 mol) of pyromellitic dianhydride was added as an acid dianhydride, and 2
The reaction was carried out at 5 ° C for 3 hours. Then, the obtained polyamic acid solution was thinly spread on a glass plate with an applicator, dried in a vacuum oven under reduced pressure at 110 ° C. for 60 minutes, and then peeled off, and then fixed on an iron frame, 200 ° C. for 60 minutes, then 300 Desolvation imidization at ℃, 60 minutes, about 25μ
A m-thick film was obtained.

【0033】[実施例2]1000mlのフラスコにD
MF578.3gを入れ、窒素ガスを流しながら芳香族
ジアミンとして1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオ
キシ)ベンゼン34.836g(0.100モル)をD
MFに溶解した。次に酸二無水物として3,3’,4,
4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物29.42
2g(0.100モル)を加え、25℃で3時間反応さ
せた。次いで、得られたポリアミド酸溶液をガラス板上
にアプリケーターで薄く延ばし、バキュームオーブン中
減圧下110℃、60分間乾燥してから剥離した後、鉄
枠に固定し、200℃,60分、次いで300℃,60
分で脱溶剤イミド化して、約25μm厚みのフィルムを
得た。
[Example 2] D was added to a 1000 ml flask.
MF578.3g was put, and 34.836 g (0.100 mol) of 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene as an aromatic diamine was added as D while flowing nitrogen gas.
Dissolved in MF. Next, as acid dianhydride, 3,3 ', 4,4
4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 29.42
2 g (0.100 mol) was added and reacted at 25 ° C. for 3 hours. Then, the obtained polyamic acid solution was thinly spread on a glass plate with an applicator, dried in a vacuum oven under reduced pressure at 110 ° C. for 60 minutes, and then peeled off, and then fixed on an iron frame, 200 ° C. for 60 minutes, then 300 ℃, 60
It was desolvated and imidized in minutes to obtain a film having a thickness of about 25 μm.

【0034】[実施例3]1000mlのフラスコにD
MF603.5gを入れ、窒素ガスを流しながら芳香族
ジアミンとして1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオ
キシ)ベンゼン34.836g(0.100モル)をD
MFに溶解した。次に酸二無水物として3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物32.
223g(0.100モル)を加え、25℃で3時間反
応させた。次いで、得られたポリアミド酸溶液をガラス
板上にアプリケーターで薄く延ばし、バキュームオーブ
ン中減圧下110℃、60分間乾燥してから剥離した
後、鉄枠に固定し、200℃,60分、次いで300
℃,60分で脱溶剤イミド化して、約25μm厚みのフ
ィルムを得た。
[Example 3] D was added to a 1000 ml flask.
MF603.5g was put, and 34.836 g (0.100 mol) of 1,4-bis (4-aminobenzoyloxy) benzene as an aromatic diamine was added while flowing nitrogen gas.
Dissolved in MF. Next, as acid dianhydride, 3,3 ', 4,4
4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride 32.
223g (0.100mol) was added and it was made to react at 25 ° C for 3 hours. Then, the obtained polyamic acid solution was thinly spread on a glass plate with an applicator, dried in a vacuum oven under reduced pressure at 110 ° C. for 60 minutes, and then peeled off, and then fixed on an iron frame, 200 ° C. for 60 minutes, then 300
Desolvation imidization was carried out at 60 ° C. for 60 minutes to obtain a film having a thickness of about 25 μm.

【0035】[比較例1]1000mlのフラスコにD
MF376.5gを入れ、窒素ガスを流しながら芳香族
ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
20.024g(0.100モル)をDMFに溶解し
た。次に酸二無水物としてピロメリット酸二無水物2
1.812g(0.100モル)を加え、25℃で3時
間反応させた。次いで、得られたポリアミド酸溶液をガ
ラス板上にアプリケーターで薄く延ばし、バキュームオ
ーブン中減圧下110℃、60分間乾燥してから剥離し
た後、鉄枠に固定し、200℃,60分、次いで300
℃,60分で脱溶剤イミド化して、約25μm厚みのフ
ィルムを得た。
[Comparative Example 1] D was added to a 1000 ml flask.
376.5 g of MF was added, and 20.024 g (0.100 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether as an aromatic diamine was dissolved in DMF while flowing a nitrogen gas. Next, pyromellitic dianhydride 2 as acid dianhydride
1.812 g (0.100 mol) was added and reacted at 25 ° C. for 3 hours. Then, the obtained polyamic acid solution was thinly spread on a glass plate with an applicator, dried in a vacuum oven under reduced pressure at 110 ° C. for 60 minutes, and then peeled off, and then fixed on an iron frame, 200 ° C. for 60 minutes, then 300
Desolvation imidization was carried out at 60 ° C. for 60 minutes to obtain a film having a thickness of about 25 μm.

【0036】[比較例2]1000mlのフラスコにD
MF445.0gを入れ、窒素ガスを流しながら芳香族
ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
20.024g(0.100モル)をDMFに溶解し
た。次に酸二無水物として3,3’,4,4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物29.422g(0.1
00モル)を加え、25℃で3時間反応させた。次い
で、得られたポリアミド酸溶液をガラス板上にアプリケ
ーターで薄く延ばし、バキュームオーブン中減圧下11
0℃、60分間乾燥してから剥離した後、鉄枠に固定
し、200℃,60分、次いで300℃,60分で脱溶
剤イミド化して、約25μm厚みのフィルムを得た。
[Comparative Example 2] D was added to a 1000 ml flask.
MF445.0g was put and 20.024g (0.100mol) of 4,4'- diamino diphenyl ether as an aromatic diamine was melt | dissolved in DMF, flowing nitrogen gas. Next, as the acid dianhydride, 29.422 g of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride (0.1
(00 mol) was added, and the mixture was reacted at 25 ° C. for 3 hours. Then, the obtained polyamic acid solution was thinly spread on a glass plate with an applicator, and the solution was placed in a vacuum oven under reduced pressure.
After being dried at 0 ° C. for 60 minutes and peeled off, the film was fixed on an iron frame and desolvated at 200 ° C. for 60 minutes and then at 300 ° C. for 60 minutes to obtain a film having a thickness of about 25 μm.

【0037】[比較例3]1000mlのフラスコにD
MF470.2gを入れ、窒素ガスを流しながら芳香族
ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
20.024g(0.100モル)をDMFに溶解し
た。次に酸二無水物として3,3’,4,4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物32.223g
(0.100モル)を加え、25℃で3時間反応させ
た。次いで、得られたポリアミド酸溶液をガラス板上に
アプリケーターで薄く延ばし、バキュームオーブン中減
圧下110℃、60分間乾燥してから剥離した後、鉄枠
に固定し、200℃,60分、次いで300℃,60分
で脱溶剤イミド化して、約25μm厚みのフィルムを得
た。
[Comparative Example 3] D was added to a 1000 ml flask.
470.2 g of MF was added, and 20.024 g (0.100 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether as an aromatic diamine was dissolved in DMF while flowing a nitrogen gas. Next, 32.223 g of 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride as an acid dianhydride
(0.100 mol) was added, and the mixture was reacted at 25 ° C for 3 hours. Then, the obtained polyamic acid solution was thinly spread on a glass plate with an applicator, dried in a vacuum oven under reduced pressure at 110 ° C. for 60 minutes, and then peeled off, and then fixed on an iron frame, 200 ° C. for 60 minutes, then 300 Desolvation imidization was carried out at 60 ° C. for 60 minutes to obtain a film having a thickness of about 25 μm.

【0038】得られたフィルムについて、機械的特性及
び線膨張係数は下記のようにして測定した。測定結果を
表1に示す。機械的特性(引張強度、弾性率、伸度) ASTM D882−88に基づき測定した。線膨張係数 真空理工(株)製熱分析計TMA−7000を用い、昇
温速度5(℃/分)で150〜200℃での線膨張係数
の平均値を求めた。対数粘度 ポリアミド酸濃度が0.5g/100mlDMF、温度
30℃の条件で測定した結果より、下記式により算出し
た。
The mechanical properties and linear expansion coefficient of the obtained film were measured as follows. Table 1 shows the measurement results. Mechanical Properties (Tensile Strength, Elastic Modulus, Elongation ) Measured based on ASTM D882-88. Linear expansion coefficient Using a thermal analyzer TMA-7000 manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd., an average value of linear expansion coefficients at 150 to 200 ° C was obtained at a temperature rising rate of 5 (° C / min). The logarithmic viscosity polyamic acid concentration was 0.5 g / 100 ml DMF, and the temperature was 30 ° C.

【0039】[0039]

【数1】 [Equation 1]

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明のポリイミドは、耐熱性に優れ、
かつ優れた機械的強度を有すると共に、線膨張係数が小
さく、熱的寸法安定性に優れたものである。
The polyimide of the present invention has excellent heat resistance,
It also has excellent mechanical strength, a small linear expansion coefficient, and excellent thermal dimensional stability.

【0042】また、本発明の製造方法によれば、かかる
ポリイミド及びその中間体として有用なポリアミド酸を
容易かつ確実に製造することができる。
Further, according to the production method of the present invention, such a polyimide and a polyamic acid useful as an intermediate thereof can be easily and reliably produced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉谷 厚志 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田1番地 信 越化学工業株式会社高分子機能性材料研究 所内 (72)発明者 湯山 昌弘 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田1番地 信 越化学工業株式会社高分子機能性材料研究 所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Atsushi Sugitani, 1st Higashiwada, Kamisu-cho, Kashima-gun, Kashima-gun, Ibaraki Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymer Functional Materials Research Laboratory (72) Inventor Masahiro Yuyama Kamisu, Kashima-gun, Ibaraki No. 1 Towada, Oomachi-machi, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Polymer Functional Materials Research Center

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表わされる単位を主
反復単位とするポリアミド酸。 【化1】 (但し、Rは4価の芳香族炭化水素基を示す。)
1. A polyamic acid containing a unit represented by the following general formula (1) as a main repeating unit. Embedded image (However, R represents a tetravalent aromatic hydrocarbon group.)
【請求項2】 下記一般式(2) 【化2】 (但し、Rは4価の芳香族炭化水素基を示す。)で表わ
される芳香族テトラカルボン酸二無水物と下記式(3) 【化3】 で表わされる芳香族ジアミンとを反応させることを特徴
とする請求項1記載のポリアミド酸の製造方法。
2. The following general formula (2): (Wherein R represents a tetravalent aromatic hydrocarbon group) and an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (3): The method for producing a polyamic acid according to claim 1, which comprises reacting with an aromatic diamine represented by
【請求項3】 下記一般式(4)で表わされる単位を主
反復単位とするポリイミド。 【化4】 (但し、Rは4価の芳香族炭化水素基を示す。)
3. A polyimide comprising a unit represented by the following general formula (4) as a main repeating unit. [Chemical 4] (However, R represents a tetravalent aromatic hydrocarbon group.)
【請求項4】 請求項1記載のポリアミド酸を脱水閉環
することを特徴とする請求項3記載のポリイミドの製造
方法。
4. The method for producing a polyimide according to claim 3, wherein the polyamic acid according to claim 1 is subjected to dehydration ring closure.
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