JP2009282291A - Pellicle - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ペリクルに関するものである。 The present invention relates to a pellicle.
ウエハー等を用いた半導体を製造する場合には、フォトマスクに形成されたパターンをフォトレジスト等の感光剤を塗布した基板上に投影光学系にて露光する投影露光方式が使用されている。近年、パターン形状の微細化に伴い、使用される露光光は短波長化される傾向にあり、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）やＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）を用いた露光装置が実用化され、１つの半導体回路に対して数十枚に及ぶフォトマスクが使用されている。 When manufacturing a semiconductor using a wafer or the like, a projection exposure method is used in which a pattern formed on a photomask is exposed by a projection optical system onto a substrate coated with a photosensitive agent such as a photoresist. In recent years, with the miniaturization of the pattern shape, the exposure light used tends to be shortened, and an exposure apparatus using KrF (wavelength 248 nm) or ArF (wavelength 193 nm) has been put into practical use. On the other hand, several tens of photomasks are used.
これらのフォトマスクは露光時、または保管時、または搬送時に周囲を浮遊する浮遊埃が付着して異物となる。フォトマスク上の異物は、露光時、その部分の結像を妨げるため、製品に欠陥が現れる。 These photomasks become foreign substances by adhering floating dust that floats around during exposure, storage, or transportation. The foreign matter on the photomask hinders image formation at the time of exposure, so that a defect appears in the product.
また、フォトマスク上に異物が一定以上堆積すると、異物を除去するためにフォトマスクを洗浄する必要がある。このとき、洗浄により、製品製造のためのコストが増大したり、フォトマスクのパターンが磨耗する。 In addition, when foreign matter accumulates over a certain amount on the photomask, it is necessary to clean the photomask in order to remove the foreign matter. At this time, the cleaning increases the cost for manufacturing the product and wears the pattern of the photomask.
このようなフォトマスク表面に付着する異物による解像不良を防ぐため、フォトマスクは表面に透光性を有する防塵カバーとしてペリクルを装着することが提案されている（特許文献１参照）。
しかしながら、ペリクルを装着したフォトマスクにおいても、使用環境によっては欠陥が発生している。これは、周囲を浮遊する異物以外にも、露光／保管を繰り返す事で、ペリクルを構成する部材内部の曇り原因物質が変質して異物となり、フォトマスク上に該異物が徐々に堆積する影響によるものである。 However, even in a photomask with a pellicle mounted, a defect occurs depending on the use environment. This is because, in addition to the foreign matter floating around, by repeating exposure / storage, the fogging substance inside the member constituting the pellicle is altered to become foreign matter, and the foreign matter gradually accumulates on the photomask. Is.
従来、露光／保管の操作で発生する異物のサイズは非常に小さく、ウエハーに露光する際の影響も小さく、検査時にも検出されず大きな問題とされてこなかった。しかし、ウエハーに露光されるパターンの微細化が進んだことや、検査技術の進歩によりこれまで見過ごされてきた異物についても検出されるようになり、近年この問題が顕在化してきた。 Conventionally, the size of the foreign matter generated by the exposure / storage operation is very small, and the influence when exposing the wafer is small, and it has not been detected at the time of inspection and has not been regarded as a big problem. However, as the pattern exposed on the wafer has been miniaturized and foreign substances that have been overlooked so far have been detected due to the advance of inspection technology, this problem has become apparent in recent years.
そこで、本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、曇りの原因となる異物の発生を抑制できるペリクルを提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problem, and an object thereof is to provide a pellicle capable of suppressing the generation of foreign matter that causes fogging.
本発明者らの検討により、露光／保管を繰り返す事により発生する異物は、露光によりペリクル膜とフォトマスクとの空間中に発生するオゾンによる周囲の部材などの酸化、が原因と判明した。
よって、ペリクル膜とフォトマスクとの間を耐オゾン性を示す材料で覆うことにより、オゾンによる部材の酸化／劣化を抑制し、曇りの原因となる異物の発生を抑制することを想到するに至った。
なお、本明細書において、「耐オゾン性」とは、オゾンに対する抗酸化性として定義する。
As a result of studies by the present inventors, it has been found that the foreign matter generated by repeated exposure / storage is caused by oxidation of surrounding members and the like by ozone generated in the space between the pellicle film and the photomask by exposure.
Therefore, by covering the space between the pellicle film and the photomask with a material exhibiting ozone resistance, it has been conceived that the oxidation / deterioration of the member due to ozone is suppressed, and the generation of foreign matter that causes fogging is suppressed. It was.
In the present specification, “ozone resistance” is defined as an antioxidant property against ozone.
請求項１に記載の本発明は、ペリクル膜と、前記ペリクル膜を支持するペリクルフレームと、を備え、前記ペリクル膜は、耐オゾン性を示す組成物を主成分とし、前記ペリクルフレームは、内壁の最表面が耐オゾン性を示す組成物を主成分とすることを特徴とするペリクルである。 The present invention according to claim 1 includes a pellicle film and a pellicle frame that supports the pellicle film, wherein the pellicle film includes a composition exhibiting ozone resistance as a main component, and the pellicle frame includes an inner wall. The pellicle is characterized in that the outermost surface of the composition is composed mainly of a composition exhibiting ozone resistance.
請求項２に記載の本発明は、請求項１に記載のペリクルであって、耐オゾン性を示す組成物は、アモルファスフッ素樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、からなる群から選ばれたひとつ以上の樹脂を含むことを特徴とするペリクルである。 The present invention according to claim 2 is the pellicle according to claim 1, wherein the ozone-resistant composition is one or more selected from the group consisting of amorphous fluororesin, nitrocellulose, and cellulose acetate. A pellicle characterized by containing a resin.
請求項３に記載の本発明は、請求項１または２のいずれかに記載のペリクルであって、ペリクルフレームは、内壁にペリクル膜と同等の組成物が塗布／浸漬されたペリクルフレームであることを特徴とするペリクルである。 The present invention described in claim 3 is the pellicle according to claim 1 or 2, wherein the pellicle frame is a pellicle frame in which a composition equivalent to the pellicle film is applied / immersed on the inner wall. Is a pellicle characterized by
請求項４に記載の本発明は、請求項１または２のいずれかに記載のペリクルであって、ペリクルフレームは、内壁にペリクル膜と同等の組成物を貼り付けたペリクルフレームであることを特徴とするペリクルである。 The present invention described in claim 4 is the pellicle according to either claim 1 or 2, wherein the pellicle frame is a pellicle frame in which a composition equivalent to the pellicle film is attached to the inner wall. It is a pellicle.
請求項５に記載の本発明は、請求項４に記載のペリクルであって、ペリクルフレームと、ペリクル膜と同等の組成物と、の間に、内壁粘着剤を有することを特徴とするペリクルである。 The present invention described in claim 5 is a pellicle according to claim 4, which has an inner wall adhesive between the pellicle frame and a composition equivalent to the pellicle film. is there.
本発明によれば、ペリクル膜とフォトマスクとの間を耐オゾン性を示す組成物で覆うことにより、ペリクル膜とフォトマスクとの間にオゾン由来の異物の発生を抑制することが出来る。よって、曇りの原因となる異物の発生を抑制することが出来る。 According to the present invention, by covering the pellicle film and the photomask with the ozone-resistant composition, generation of ozone-derived foreign matter can be suppressed between the pellicle film and the photomask. Therefore, generation | occurrence | production of the foreign material which causes cloudiness can be suppressed.
以下、本発明のペリクルについて具体的に説明を行う。 The pellicle of the present invention will be specifically described below.
＜ペリクル膜＞
ペリクル膜は、ペリクルフレームにより保持され、フォトマスクの露光エリアを覆うように設けられる。
このため、ペリクル膜は露光によるエネルギーを遮断させない様、透光性を有する。
また、シワなどによりフォトマスク表面に影を作らせ無いよう、ペリクルフレームと均一の力がかかるよう貼られている。
<Pellicle membrane>
The pellicle film is held by the pellicle frame and is provided so as to cover the exposure area of the photomask.
For this reason, the pellicle film has translucency so as not to cut off energy by exposure.
The pellicle frame is affixed with a uniform force so as not to cause shadows on the photomask surface due to wrinkles.
本発明のペリクル膜は、耐オゾン性を備える。
耐オゾン性を備え、かつ、透光性を備える材料としては、例えば、（１）フッ素系樹脂、アモルファスフッ素系樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、などの透明性膜、（２）石英ガラス、などが挙げられる。
The pellicle film of the present invention has ozone resistance.
Examples of materials having ozone resistance and translucency include (1) a transparent film such as (1) fluorine resin, amorphous fluorine resin, nitrocellulose, cellulose acetate, and (2) quartz glass. Is mentioned.
＜ペリクルフレーム＞
ペリクルフレームは、ペリクル膜を支持するために設けられる。
ペリクルフレームは、支持するのに充分な機械的強度があればよく、特に材質は限定されない。例えば、アルミなどの金属系フレーム、樹脂系フレーム、などを用いても良い。
<Pellicle frame>
The pellicle frame is provided to support the pellicle film.
The pellicle frame only needs to have sufficient mechanical strength to support it, and the material is not particularly limited. For example, a metal frame such as aluminum, a resin frame, or the like may be used.
ペリクルフレームの形状については、ウエハーの露光に支障がない範囲であれば、いかなる形状であってもよい。例えば、長方形状、円形状などであってもよい。 The shape of the pellicle frame may be any shape as long as it does not interfere with wafer exposure. For example, it may be rectangular or circular.
本発明のペリクルフレームは、内壁の最表面が耐オゾン性を示す。
このため、耐オゾン性を示す組成物を内壁に塗布／浸漬／接着することが好ましい。
また、ペリクルフレーム自体を耐オゾン性を示す組成物より成型しても良い。
耐オゾン性を示す組成物としては、例えば、フッ素系樹脂、アモルファスフッ素系樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、などが挙げられる。
In the pellicle frame of the present invention, the outermost surface of the inner wall exhibits ozone resistance.
For this reason, it is preferable to apply / immerse / adhere a composition exhibiting ozone resistance to the inner wall.
Further, the pellicle frame itself may be molded from a composition exhibiting ozone resistance.
Examples of the composition exhibiting ozone resistance include a fluorine resin, an amorphous fluorine resin, nitrocellulose, and cellulose acetate.
また、ペリクルフレームには、気圧調整用途にベントホールを設けても良い。ベントホールを設けた場合、ベントホールからのコンタミの流入を防ぐフィルターを該ベントホールに設けることが好ましい。 The pellicle frame may be provided with a vent hole for atmospheric pressure adjustment. When the vent hole is provided, it is preferable to provide a filter for preventing inflow of contamination from the vent hole.
ペリクルフレームと、ペリクル膜とを接着するためには、ペリクル接着剤を用いて接着してよい。ペリクル接着剤は、有機ガスを発することがないものが好ましい。例えば、シリコン樹脂系、ポリ酢酸ビニル樹脂系、アクリル樹脂系、フッ素樹脂系の接着剤を用いても良い。特に、フッ素樹脂系の接着剤は、有機ガスを発することが少なく好ましい。 In order to bond the pellicle frame and the pellicle film, a pellicle adhesive may be used for bonding. The pellicle adhesive preferably does not emit organic gas. For example, a silicon resin-based, polyvinyl acetate resin-based, acrylic resin-based, or fluororesin-based adhesive may be used. In particular, a fluororesin-based adhesive is preferable because it does not emit organic gas.
ペリクルフレームとフォトマスクとを接着するためには、マスク接着剤を用いて接着してよい。マスク接着剤は、有機ガスを発することがないものが好ましい。例えば、シリコン樹脂系、ポリ酢酸ビニル樹脂系、アクリル樹脂系、フッ素樹脂系の接着剤を用いても良い。特に、フッ素樹脂系の接着剤は、有機ガスを発することが少なく好ましい。 In order to bond the pellicle frame and the photomask, they may be bonded using a mask adhesive. The mask adhesive preferably does not emit organic gas. For example, a silicon resin-based, polyvinyl acetate resin-based, acrylic resin-based, or fluororesin-based adhesive may be used. In particular, a fluororesin-based adhesive is preferable because it does not emit organic gas.
また、本発明において、耐オゾン性を示す材料は、アモルファスフッ素樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、からなる群から選ばれたひとつ以上の樹脂を含むことが好ましい。アモルファスフッ素樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、は、透光性、耐オゾン性を備える。
このため、ペリクル膜に用いることが可能であると同時にペリクルフレームに対する耐オゾン性を示す組成物として用いることが出来、本発明において、ペリクル膜とペリクルフレームの内壁を同質の材料にて構成するときに、特に、好適に用いることが出来る。
ペリクル膜とペリクルフレームの内壁を同質の材料にて構成する場合、複数の材料が混合して変質した異物の影響を無視することが出来るため好ましい。
In the present invention, the material exhibiting ozone resistance preferably contains one or more resins selected from the group consisting of amorphous fluororesin, nitrocellulose, and cellulose acetate. Amorphous fluororesin, nitrocellulose, and cellulose acetate have translucency and ozone resistance.
For this reason, it can be used for a pellicle film and at the same time can be used as a composition showing ozone resistance to the pellicle frame. In the present invention, when the pellicle film and the inner wall of the pellicle frame are made of the same material, In particular, it can be suitably used.
In the case where the pellicle film and the inner wall of the pellicle frame are formed of the same material, it is preferable because the influence of a foreign material which is deteriorated by mixing a plurality of materials can be ignored.
また、本発明において、耐オゾン性を示す材料は、特に、アモルファスフッ素樹脂であることが好ましい。
アモルファスフッ素樹脂は透光性、耐オゾン性を備え、かつ、特殊フッ素系溶媒を用いて溶解することにより薄膜コーティングを行うことが出来る。
このため、ペリクル膜に用いることが可能であると同時にペリクルフレームに対する塗布／浸漬／薄膜の接着、が容易なことから、本発明において、ペリクル膜とペリクルフレームの内壁を同質の材料にて構成するときに、特に、好適に用いることが出来る。
ペリクル膜とペリクルフレームの内壁を同質の材料にて構成する場合、複数の材料が混合して変質した異物の影響を無視することが出来るため好ましい。
また、アモルファスフッ素樹脂は、ＡｒＦ露光に使用されるＡｒＦレーザーの波長領域において良好な透光性を示すことから、特に、ＡｒＦ露光に使用されるペリクルに好適に用いることが出来る。
In the present invention, the material exhibiting ozone resistance is particularly preferably an amorphous fluororesin.
The amorphous fluororesin has translucency and ozone resistance, and can be coated with a thin film by dissolving it using a special fluorine-based solvent.
Therefore, since it can be used for the pellicle film and at the same time, application / immersion / thin film adhesion to the pellicle frame is easy, in the present invention, the pellicle film and the inner wall of the pellicle frame are made of the same material. Sometimes, it can be particularly preferably used.
In the case where the pellicle film and the inner wall of the pellicle frame are formed of the same material, it is preferable because the influence of a foreign material which is deteriorated by mixing a plurality of materials can be ignored.
In addition, the amorphous fluororesin can be suitably used particularly for a pellicle used for ArF exposure since it exhibits good translucency in the wavelength region of ArF laser used for ArF exposure.
本発明のペリクルの実施の形態として、図１に、一例を示す。
図１（ａ）は、本発明のペリクルの一実施例を示す模式上面図を、図１（ｂ）は、図１（ａ）をＡ−Ａ’線で切断した模式構成断面図を示す。
図１（ａ）及び（ｂ）に示すペリクルは、フォトマスク１０に載せるペリクル膜１１と、ペリクルフレーム１２と、マスク接着剤１３と、ペリクル接着剤１４と、ペリクル内壁部材１５と、フィルター１６と、を備える。
An example of an embodiment of the pellicle of the present invention is shown in FIG.
FIG. 1A is a schematic top view showing an embodiment of the pellicle of the present invention, and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view of FIG. 1A taken along the line AA ′.
The pellicle shown in FIGS. 1A and 1B includes a pellicle film 11 placed on a photomask 10, a pellicle frame 12, a mask adhesive 13, a pellicle adhesive 14, a pellicle inner wall member 15, and a filter 16. .
また、本発明のペリクルの別の実施の形態として、図２に、一例を示す。
図２（ａ）は、本発明のペリクルの一実施例を示す模式上面図を、図２（ｂ）は、図２（ａ）をＢ−Ｂ’線で切断した模式構成断面図を示す。
図２（ａ）及び（ｂ）に示すペリクルは、フォトマスク１０に載せるペリクル膜１１と、ペリクルフレーム１２と、マスク接着剤１３と、ペリクル接着剤１４と、ペリクル内壁接着剤１７と、フィルター１６と、ペリクル膜１８と、を備える。
FIG. 2 shows an example of another embodiment of the pellicle of the present invention.
2A is a schematic top view showing an embodiment of the pellicle of the present invention, and FIG. 2B is a schematic cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 2A.
The pellicle shown in FIGS. 2A and 2B includes a pellicle film 11 placed on the photomask 10, a pellicle frame 12, a mask adhesive 13, a pellicle adhesive 14, a pellicle inner wall adhesive 17, and a filter 16. And a pellicle film 18.
また、本発明のペリクルは、ペリクルフレームと、ペリクル膜と同等の組成物と、の間に、内壁粘着剤を有することが好ましい。
従来、内壁粘着材は、ペリクルフレーム部材の欠落による発塵を抑制する為に、ペリクルフレームの内壁の最表面に、設けていた。
しかしながら、本発明者らの検討の結果、前記内壁粘着材から有機ガスが発せられることが確認された。又、露光によるオゾンの影響で有機ガスの発生が増加する事が確認された。有機ガスが発せられると、特に、オゾンがペリクル膜とフォトマスクとの空間内に発生したとき、該有機ガスが酸化されることにより異物となる恐れがある。
本発明の一例として示す図２の構成では、露光空間側にペリクルを貼ることにより、内壁粘着剤由来のガスがペリクル膜内側の空間内へ侵入を防ぐ事ができ、ペリクル空間内における有機ガスの充満を抑制する事が可能となる。
また、内壁粘着剤の代わりに、ペリクル膜と同等の組成物の薄膜が、ペリクルフレームからの発塵を抑制することが出来る。
The pellicle of the present invention preferably has an inner wall adhesive between the pellicle frame and a composition equivalent to the pellicle film.
Conventionally, the inner wall adhesive has been provided on the outermost surface of the inner wall of the pellicle frame in order to suppress dust generation due to the lack of the pellicle frame member.
However, as a result of the study by the present inventors, it was confirmed that organic gas was emitted from the inner wall adhesive material. It was also confirmed that the generation of organic gas increased under the influence of ozone due to exposure. When the organic gas is emitted, particularly when ozone is generated in the space between the pellicle film and the photomask, the organic gas may be oxidized to become a foreign substance.
In the configuration of FIG. 2 shown as an example of the present invention, by attaching a pellicle to the exposure space side, the gas derived from the inner wall adhesive can be prevented from entering the space inside the pellicle film, and the organic gas in the pellicle space can be prevented from entering. It becomes possible to suppress the charge.
Further, instead of the inner wall adhesive, a thin film having the same composition as the pellicle film can suppress dust generation from the pellicle frame.
以下、具体的に実施の一例を示す。 A specific example of implementation will be shown below.
＜実施例１＞
まず、ペリクルフレームに浸漬処理を行い、アモルファスフッ素樹脂（商品名：ＣＹＴＯＰ（登録商標）、旭硝子社製）を用いて、ペリクルフレームの内壁にサブミクロンメートルクラスの厚みのアモルファスフッ素樹脂からなる薄膜を形成した。
<Example 1>
First, the pellicle frame is dipped, and an amorphous fluororesin (trade name: CYTOP (registered trademark), manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) is used to form a thin film made of amorphous fluororesin having a thickness of submicron class on the inner wall of the pellicle frame. Formed.
次に、内壁にアモルファスフッ素樹脂が塗布／浸漬されたペリクルフレームの下部にマスク接着剤、上部にペリクル接着剤を塗布し、さらに上部にペリクル膜を貼った。このとき、ペリクル膜には、アモルファスフッ素樹脂（商品名：ＣＹＴＯＰ（登録商標）、旭硝子社製）を用いた（図１、図３（ａ））。 Next, a mask adhesive was applied to the lower part of the pellicle frame in which the amorphous fluororesin was applied / immersed on the inner wall, a pellicle adhesive was applied to the upper part, and a pellicle film was further attached to the upper part. At this time, an amorphous fluororesin (trade name: CYTOP (registered trademark), manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used for the pellicle film (FIGS. 1 and 3A).
＜実施例２＞
まず、ペリクルフレームに内壁粘着剤としてアクリル樹脂を噴霧後、アモルファスフッ素樹脂（商品名：ＣＹＴＯＰ（登録商標）、旭硝子社製）からなる薄膜を、ペリクルフレームの内壁部に貼った。
<Example 2>
First, an acrylic resin was sprayed on the pellicle frame as an inner wall adhesive, and then a thin film made of an amorphous fluororesin (trade name: CYTOP (registered trademark), manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was attached to the inner wall of the pellicle frame.
次に、内壁にアモルファスフッ素樹脂の薄膜が貼られたペリクルフレームの下部にマスク接着剤、上部にペリクル接着剤を塗布し、さらに上部にペリクル膜を貼った。このとき、ペリクル膜には、アモルファスフッ素樹脂（商品名：ＣＹＴＯＰ（登録商標）、旭硝子社製）を用いた（図２、図３（ｂ））。 Next, a mask adhesive was applied to the lower part of the pellicle frame having an amorphous fluororesin thin film attached to the inner wall, a pellicle adhesive was applied to the upper part, and a pellicle film was further attached to the upper part. At this time, an amorphous fluororesin (trade name: CYTOP (registered trademark), manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used for the pellicle film (FIGS. 2 and 3B).
＜比較例１＞
まず、ペリクルフレームに内壁粘着剤としてアクリル樹脂を噴霧した。
<Comparative Example 1>
First, acrylic resin was sprayed on the pellicle frame as an inner wall adhesive.
次に、ペリクルフレームの下部にマスク接着剤、上部にペリクル接着剤を塗布し、さらに上部にペリクル膜を貼った。このとき、ペリクル膜には、アモルファスフッ素樹脂（商品名：ＣＹＴＯＰ（登録商標）、旭硝子社製）を用いた。 Next, a mask adhesive was applied to the lower part of the pellicle frame, a pellicle adhesive was applied to the upper part, and a pellicle film was further attached to the upper part. At this time, an amorphous fluororesin (trade name: CYTOP (registered trademark), manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used for the pellicle film.
＜評価１＞
実施例１、実施例２、比較例２、に示したペリクルを、フォトマスクに装着した。
<Evaluation 1>
The pellicle shown in Example 1, Example 2, and Comparative Example 2 was mounted on a photomask.
次に、それぞれ、ペリクルの内側の空間中に、ガスを吸着させる為の治具（Ｔｗｉｓｔｅｒ、 Ｇｅｒｓｔｅｌ社製）を導入し、それぞれ一定時間放置後に、ペリクル内外に置いたガスを吸着させる治具を回収し、加熱脱着式ＧＣ／ＭＳ分析を加熱脱着装置（ＴＤＳＡ２／ＴＤＳ／ＣＩＳ、 Ｇｅｒｓｔｅｌ社製）とガスクロマトグラフ質量分析計（６８９０Ｎ／５９７３ＭＳＤ、 Ａｇｌｅｎｔ社製）を用いて実施した。 Next, a jig for adsorbing a gas (Twister, manufactured by Gerstel) is introduced into the space inside the pellicle, and a jig for adsorbing the gas placed inside and outside the pellicle after being left for a certain period of time. The samples were collected and subjected to thermal desorption GC / MS analysis using a thermal desorption apparatus (TDSA2 / TDS / CIS, manufactured by Gerstel) and a gas chromatograph mass spectrometer (6890N / 5973MSD, manufactured by Agilent).
本発明のペリクルである、実施例１、実施例２、のペリクル膜内側とフォトマスク内の空間に存在する有機ガスの量と、比較例１の、ペリクル膜内側とフォトマスク内の空間に存在する有機ガスの量を比較した。
比較の結果、実施例１、実施例２のペリクル膜内側とフォトマスク内の空間に存在する有機ガスの量は、比較例１に対して、約１／４程度に低減されていた。
The amount of organic gas existing in the space inside the pellicle film and photomask of Example 1 and Example 2, which is the pellicle of the present invention, and the space inside the pellicle film and photomask of Comparative Example 1 The amount of organic gas to be compared was compared.
As a result of comparison, the amount of organic gas present in the space inside the pellicle film and in the photomask of Example 1 and Example 2 was reduced to about ¼ that of Comparative Example 1.
＜評価２＞
実施例１、実施例２、比較例２、に示したペリクルを、フォトマスクに装着した。
<Evaluation 2>
The pellicle shown in Example 1, Example 2, and Comparative Example 2 was mounted on a photomask.
次に、ＡｒＦレーザー（ｘｉｍｅｒ−３００、 ＭＰＢ社製）をフォトマスク上において、５０ｍＷ／ｃｍ２、２００Ｈｚの波長でそれぞれ同一ショット照射した。この時、エネルギーの劣化などの変動はなかった。露光雰囲気はＮ２：Ｏ２＝４：１の比率とし、環境由来の汚染が含有されない条件とした。 Next, ArF laser (ximer-300, manufactured by MPB) was irradiated on the photomask with the same shot at a wavelength of 50 mW / cm 2 and 200 Hz. At this time, there was no change such as energy degradation. The exposure atmosphere was set to a ratio of N 2 : O 2 = 4: 1 so as not to contain environmental contamination.
次に、露光後、フォトマスクの検査を行った。
比較例１のペリクルを具備するフォトマスクからは０．１μｍレベルの生成物が多数検出された。
実施例１、実施例２のペリクルを具備するフォトマスクからは上記０．１μｍレベルの生成物が検出されなかった。
Next, after the exposure, the photomask was inspected.
A large number of products having a level of 0.1 μm were detected from the photomask having the pellicle of Comparative Example 1.
The 0.1 μm level product was not detected from the photomask having the pellicle of Example 1 and Example 2.
以上より、ペリクル膜とフォトマスクとの空間を耐オゾン性を示す材料で覆うことにより、曇りの原因となる異物の発生が抑制されること、が確認された。 From the above, it has been confirmed that the generation of foreign matter that causes fogging is suppressed by covering the space between the pellicle film and the photomask with a material exhibiting ozone resistance.
１０……フォトマスク
１１……ペリクル膜
１２……ペリクルフレーム
１３……マスク接着剤
１４……ペリクル接着剤
１５……ペリクル膜と同等の組成物
１６……フィルター
１７……内壁粘着剤
１８……ペリクル膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Photomask 11 ... Pellicle film 12 ... Pellicle frame 13 ... Mask adhesive 14 ... Pellicle adhesive 15 ... Composition equivalent to pellicle film 16 ... Filter 17 ... Inner wall adhesive 18 ... Pellicle membrane
Claims (5)
前記ペリクル膜を支持するペリクルフレームと、を備え、
前記ペリクル膜は、耐オゾン性を示す組成物を主成分とし、
前記ペリクルフレームは、内壁の最表面が耐オゾン性を示す組成物を主成分とすること
を特徴とするペリクル。 A pellicle membrane;
A pellicle frame that supports the pellicle film,
The pellicle film is mainly composed of a composition showing ozone resistance,
The pellicle frame is characterized in that the outermost surface of the inner wall is composed mainly of a composition exhibiting ozone resistance.
耐オゾン性を示す組成物は、アモルファスフッ素樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、からなる群から選ばれたひとつ以上の樹脂を含むこと
を特徴とするペリクル。 The pellicle according to claim 1, wherein
The composition exhibiting ozone resistance contains one or more resins selected from the group consisting of amorphous fluororesin, nitrocellulose, and cellulose acetate.
ペリクルフレームは、内壁にペリクル膜と同等の組成物が塗布／浸漬されたペリクルフレームであること
を特徴とするペリクル。 The pellicle according to any one of claims 1 and 2,
The pellicle frame is a pellicle frame in which an inner wall is coated / immersed with a composition equivalent to a pellicle film.
ペリクルフレームは、内壁にペリクル膜と同等の組成物を貼り付けたペリクルフレームであること
を特徴とするペリクル。 The pellicle according to any one of claims 1 and 2,
The pellicle frame is a pellicle frame in which a composition equivalent to a pellicle film is attached to an inner wall.
ペリクルフレームと、ペリクル膜と同等の組成物と、の間に、内壁粘着剤を有すること
を特徴とするペリクル。 The pellicle according to claim 4, wherein
A pellicle comprising an inner wall adhesive between a pellicle frame and a composition equivalent to a pellicle film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008134175A JP2009282291A (en) | 2008-05-22 | 2008-05-22 | Pellicle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008134175A JP2009282291A (en) | 2008-05-22 | 2008-05-22 | Pellicle |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009282291A true JP2009282291A (en) | 2009-12-03 |
Family
ID=41452808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008134175A Pending JP2009282291A (en) | 2008-05-22 | 2008-05-22 | Pellicle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009282291A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011209344A (en) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | Pellicle, mounting method therefor, pellicle-equipped mask, and mask |
-
2008
- 2008-05-22 JP JP2008134175A patent/JP2009282291A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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