JP2009269808A - Method for forming layer of inorganic matter and plasma display panel - Google Patents

Method for forming layer of inorganic matter and plasma display panel Download PDF

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直毅 山田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a layer of inorganic matter enabling to sufficiently suppress deterioration of electrical or optical characteristics of the layer of inorganic matter when forming the layer of the inorganic matter by using a composition including an organic compound and inorganic fine particles. <P>SOLUTION: This method for forming the layer of inorganic matter comprises a first step of providing a coating layer by applying on a substrate an inorganic fine particle-containing composition containing an organic compound (A) and inorganic fine particles (B), and a second step of heating the coating layer at a temperature of 150°C or higher and 350°C or lower under an atmosphere of ≤10 vol.% oxygen concentration. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、無機物層の形成方法及びプラズマディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to a method for forming an inorganic layer and a plasma display panel.

基材上に無機物層を形成する方法として、無機微粒子と、有機溶剤やバインダポリマなどの有機化合物とを含有する無機微粒子含有樹脂組成物を用いる方法がある。この方法は概ね、(1)上記樹脂組成物を基材上に塗布して塗布層を形成する塗布工程、(2)塗布層から比較的低沸点の有機化合物(例えば、有機溶剤など)を蒸発させて塗布層を硬化させる乾燥工程、(3)焼成により残余の有機化合物(例えば、バインダポリマ)を分解・除去し、無機微粒子のみを残留させる焼成工程、の三工程を備えている。   As a method of forming an inorganic layer on a substrate, there is a method of using an inorganic fine particle-containing resin composition containing inorganic fine particles and an organic compound such as an organic solvent or a binder polymer. This method generally includes (1) a coating process in which the resin composition is coated on a substrate to form a coating layer, and (2) a relatively low boiling point organic compound (for example, an organic solvent) is evaporated from the coating layer. A drying process for curing the coating layer, and (3) a baking process for decomposing and removing the remaining organic compound (for example, binder polymer) by baking to leave only inorganic fine particles.

上記の方法は、形成される無機物層の厚さを制御することが容易であること、上記樹脂組成物の粘度調節によって、輸送時には液体同様に取り扱うことができ、塗布時には無機微粒子の飛び散りが抑制されることによる作業空間の清浄度の改善を図れるなどの利点を有することから、無機物層の形成方法として多く適用されている。   In the above method, it is easy to control the thickness of the inorganic layer to be formed, and by adjusting the viscosity of the resin composition, it can be handled like a liquid during transportation, and the scattering of inorganic fine particles is suppressed during coating. Since it has the advantage that the cleanliness of the work space can be improved by being applied, it is widely applied as a method for forming an inorganic layer.

バインダポリマとしては、天然物高分子を原料とするセルロース誘導体が好適に用いられ、その他、アクリル樹脂等の人工高分子も用いられることがある。しかし、これらのバインダポリマは、焼成工程後に微量な炭素成分として無機物層中に残留する可能性があり、無機物層の特性、特に電気的、光学的な性能に悪影響を及ぼす場合がある。なお、焼成工程において400℃以上の高温で焼成することにより無機物層中の有機化合物由来の残留成分を十分少なくする方法も行われているが、この場合、使用する基材にかかる熱履歴が大きくなるため、歪等が生じやすく、また、高温で加熱するために生産コストが増大するといった欠点も同時に抱える結果となる。   As the binder polymer, a cellulose derivative using a natural polymer as a raw material is preferably used, and an artificial polymer such as an acrylic resin may also be used. However, these binder polymers may remain in the inorganic layer as a small amount of carbon component after the firing step, and may adversely affect the properties of the inorganic layer, particularly electrical and optical performance. In addition, although the method of making the residual component derived from the organic compound in an inorganic layer sufficiently small by baking at high temperature of 400 degreeC or more in a baking process is also performed, in this case, the heat history concerning the base material to be used is large. Therefore, distortion and the like are likely to occur, and at the same time, there are disadvantages such as production costs increase due to heating at a high temperature.

最近、バインダポリマを用いない或いは低減することを目的として、C10〜C16架橋環式二環性炭化水素化合物又はその誘導体を含有する消失性バインダ組成物が提案されている(例えば、特許文献1を参照)。
特開2007−217603号公報
Recently, for the purpose of not using or reducing the binder polymer, a vanishing binder composition containing a C 10 to C 16 bridged cyclic bicyclic hydrocarbon compound or a derivative thereof has been proposed (for example, Patent Documents). 1).
JP 2007-217603 A

しかし、上記特許文献1に記載の消失性バインダ組成物であっても、形成された無機物層の特性に悪影響が生じる場合のあることを本発明者は見出した。具体的には、プラズマディスプレイパネル(PDP)の蛍光体層を形成した場合に着色又は変色などが発生することが本発明者の検討により判明している。   However, the present inventor has found that even the vanishing binder composition described in Patent Document 1 may adversely affect the properties of the formed inorganic layer. Specifically, the inventors have found that coloring or discoloration occurs when a phosphor layer of a plasma display panel (PDP) is formed.

近時、プラズマディスプレイの性能に対する要求水準は高まっており、高画質化や低消費電力化を図るためにプラズマディスプレイパネルの誘電体層や蛍光体層などに対しても優れた特性を有していることが求められている。そのため、上記従来技術には更なる改善の余地がある。   Recently, the level of demand for plasma display performance has increased, and it has excellent characteristics for dielectric layers and phosphor layers of plasma display panels in order to achieve high image quality and low power consumption. It is required to be. Therefore, there is room for further improvement in the above-described conventional technology.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、有機化合物と無機微粒子とを含む組成物を用いて無機物層を形成する場合に無機物層の電気的又は光学的な性能の低下を十分に抑制することができる無機物層の形成方法及びかかる方法によって形成された蛍光体層を備えるプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances. When an inorganic layer is formed using a composition containing an organic compound and inorganic fine particles, the electrical or optical performance of the inorganic layer is sufficiently reduced. An object of the present invention is to provide a method of forming an inorganic layer that can be suppressed and a plasma display panel including a phosphor layer formed by the method.

上記課題を達成するため、本発明は、基材上に、(A)有機化合物と(B)無機微粒子とを含有する無機微粒子含有組成物を塗布して塗布層を設ける第1工程と、塗布層を、酸素濃度が10体積%以下の雰囲気下、150℃以上350℃以下の温度で加熱する第2工程と、を備える無機物層の形成方法を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a first step of applying an inorganic fine particle-containing composition containing (A) an organic compound and (B) inorganic fine particles on a substrate to provide an application layer; And a second step of heating the layer at a temperature of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or lower.

本発明の無機物層の形成方法によれば、上記構成を有することにより、電気的又は光学的な性能の低下が十分に抑制された無機物層を形成することができる。なお、塗布層を酸素濃度が10体積%を越える雰囲気下、上記温度範囲で加熱すると、無機物層の性能の低下を十分に抑制することが困難となる。この理由を本発明者は以下のとおり推察する。すなわち、有機化合物は150℃以上で分解する性質を有することが多く、300℃近辺で加熱されると分解反応がより一層進行する。この分解反応は蒸発と協奏的な関係となり、蒸発より早く分解反応が進行した成分は酸素濃度が10体積%を越える雰囲気下ではタール状の残分として基材表面に残留しやすくなるものと考えられる。この有機化合物由来の残留成分が無機物層の着色若しくは変色、又は電気特性低下の原因となると本発明者は考えている。なお、加熱温度が150℃を下回ると、有機化合物の除去が不十分となり、加熱温度が350℃を超えると、基材への熱履歴や生産コストの増大が問題となる。本発明の無機物層の形成方法においては、上記第2工程を有することにより、有機化合物由来の残留成分の発生を十分に防止しつつ有機化合物を十分に除去することが可能になるものと本発明者は考えている。   According to the method for forming an inorganic layer of the present invention, by having the above configuration, it is possible to form an inorganic layer in which a decrease in electrical or optical performance is sufficiently suppressed. When the coating layer is heated in the above temperature range in an atmosphere where the oxygen concentration exceeds 10% by volume, it is difficult to sufficiently suppress the deterioration of the performance of the inorganic layer. The inventor presumes the reason as follows. That is, organic compounds often have the property of decomposing at 150 ° C. or higher, and the decomposition reaction further proceeds when heated at around 300 ° C. This decomposition reaction has a concerted relationship with evaporation, and it is considered that the component that has undergone the decomposition reaction faster than evaporation tends to remain on the substrate surface as a tar-like residue in an atmosphere where the oxygen concentration exceeds 10% by volume. It is done. The present inventor believes that the residual component derived from the organic compound causes coloring or discoloration of the inorganic layer or a decrease in electrical characteristics. When the heating temperature is lower than 150 ° C., the removal of the organic compound is insufficient, and when the heating temperature exceeds 350 ° C., the heat history to the base material and the increase in production cost become problems. In the method for forming an inorganic layer according to the present invention, the present invention includes the second step, whereby the organic compound can be sufficiently removed while sufficiently preventing the generation of residual components derived from the organic compound. Thinks.

本発明の無機物層の形成方法は、150℃以上350℃以下の温度で加熱する上記工程を備えることから、焼成工程を省くことができる。この場合、基材への熱履歴を低減することができるとともに無機物層の形成工程の簡略化、低コスト化を図ることができる。   Since the formation method of the inorganic layer of this invention is equipped with the said process heated at the temperature of 150 to 350 degreeC, a baking process can be skipped. In this case, it is possible to reduce the heat history of the base material and simplify the inorganic layer forming process and reduce the cost.

本発明の無機物層の形成方法において、基材上への塗工性及び無機微粒子の分散性を更に向上させる観点から、上記(A)有機化合物はテルペン系化合物を含むことが好ましい。また、テルペン系化合物は比較的低温で除去可能であることから、第2工程後の有機化合物由来の残留物をより低減することができる。   In the method for forming an inorganic layer of the present invention, the organic compound (A) preferably contains a terpene compound from the viewpoint of further improving the coating property on the substrate and the dispersibility of the inorganic fine particles. Moreover, since the terpene compound can be removed at a relatively low temperature, the residue derived from the organic compound after the second step can be further reduced.

また、上記テルペン系化合物は、下記一般式(1)で表される化合物であることが好ましい。

Figure 2009269808
The terpene compound is preferably a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2009269808

本発明は、上記基材がプラズマディスプレイ用基板であり、上記(B)無機微粒子が蛍光体微粒子であり、無機物層としてプラズマディスプレイ用蛍光体層を形成する無機物層の形成方法を提供することができる。この場合、電気的又は光学的な性能の低下、特には、変色、着色などの光学的な性能低下を十分抑制しつつプラズマディスプレイ用蛍光体層を形成することができる。   The present invention provides a method for forming an inorganic layer, wherein the substrate is a substrate for plasma display, the inorganic fine particles (B) are phosphor fine particles, and the phosphor layer for plasma display is formed as an inorganic layer. it can. In this case, the phosphor layer for a plasma display can be formed while sufficiently suppressing a decrease in electrical or optical performance, in particular, a decrease in optical performance such as discoloration or coloring.

本発明はまた、上記の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用蛍光体層を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。本発明のプラズマディスプレイパネルは、上述の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用蛍光体層を備えるため、電気的及び光学的性能などの性能低下が十分に抑制されたものになり得る。また、本発明のプラズマディスプレイパネルは、蛍光体層形成のための製造コストや基板への熱履歴が従来よりも低減され得る。   The present invention also provides a plasma display panel comprising a phosphor layer for plasma display formed by the above-described inorganic layer forming method. Since the plasma display panel of the present invention includes the phosphor layer for plasma display formed by the above-described inorganic layer forming method, performance degradation such as electrical and optical performance can be sufficiently suppressed. In the plasma display panel of the present invention, the manufacturing cost for forming the phosphor layer and the thermal history of the substrate can be reduced as compared with the conventional case.

本発明によれば、有機化合物と無機微粒子とを含む組成物を用いて無機物層を形成する場合に無機物層の電気的又は光学的な性能の低下を十分に抑制することができる無機物層の形成方法及びかかる方法によって形成された蛍光体層を備えるプラズマディスプレイパネルを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when forming an inorganic layer using the composition containing an organic compound and inorganic fine particles, formation of the inorganic layer which can fully suppress the electrical or optical performance fall of an inorganic layer. Methods and plasma display panels comprising phosphor layers formed by such methods can be provided.

以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as necessary. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

本発明の無機物層の形成方法は、基材上に、(A)有機化合物と(B)無機微粒子とを含有する無機微粒子含有組成物を塗布して塗布層を設ける第1工程と、塗布層を、酸素濃度が10体積%以下の雰囲気下、150℃以上350℃以下の温度で加熱する第2工程とを備える。   The method for forming an inorganic layer of the present invention includes a first step of applying an inorganic fine particle-containing composition containing (A) an organic compound and (B) inorganic fine particles on a substrate to provide a coating layer; And a second step of heating at a temperature of 150 ° C. to 350 ° C. in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less.

まず、本発明に係る無機微粒子含有組成物について説明する。   First, the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention will be described.

本発明に係る無機微粒子含有組成物に含まれる(A)有機化合物としては、無機微粒子を分散でき、無機微粒子含有組成物の塗布を可能とするものであれば特に限定されないが、300℃で10分間加熱したときの加熱残分が1質量%以下であるものが好ましい。なお、空気中の300℃における加熱残分とは、有機化合物を、空気中において300℃で10分間加熱した場合の、加熱前の有機化合物の重量に対する加熱後の有機化合物の重量の割合を意味する。   The organic compound (A) contained in the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention is not particularly limited as long as the inorganic fine particles can be dispersed and the inorganic fine particle-containing composition can be applied. What the heating residue when heating for 1 minute is 1 mass% or less is preferable. The heating residue at 300 ° C. in the air means the ratio of the weight of the organic compound after heating to the weight of the organic compound before heating when the organic compound is heated at 300 ° C. for 10 minutes in the air. To do.

(A)有機化合物は、テルペン系化合物を含むことが好ましい。テルペン系化合物は、比較的低温で除去可能であることから、第2工程後の有機化合物由来の残留物をより低減することができる。   (A) The organic compound preferably contains a terpene compound. Since the terpene compound can be removed at a relatively low temperature, the residue derived from the organic compound after the second step can be further reduced.

(A)有機化合物は、テルペン系化合物として、(a−1)下記式(1)で表されるイソボルニルシクロヘキサノールを含むことがより好ましい。   (A) The organic compound more preferably contains (a-1) isobornylcyclohexanol represented by the following formula (1) as a terpene compound.

Figure 2009269808
Figure 2009269808

上記式(1)で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールは、「テルソルブ MTPH」(日本テルペン化学社製、商品名)が商業的に入手可能である。   As for isobornylcyclohexanol represented by the above formula (1), “Telsolve MTPH” (trade name, manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) is commercially available.

本発明に係る無機微粒子含有組成物に上記式(1)で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールを含有させることにより、形成される無機物層において有機化合物に起因する悪影響を更に低減することができる。   By including the isobornylcyclohexanol represented by the above formula (1) in the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention, the adverse effect caused by the organic compound can be further reduced in the formed inorganic layer.

本発明に係る無機微粒子含有組成物における(a−1)上記式(1)で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールの含有量は、有機化合物全量を基準として30〜100質量%が好ましく、50〜95質量%がより好ましく、70〜90質量%が特に好ましい。上記式(1)で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールの含有量を上記範囲内とすることにより、上記範囲外の場合に比べて均一な塗膜を形成しやすくなるという効果が得られやすくなる。本発明の無機物層の形成方法によれば、イソボルニルシクロヘキサノールの含有量を上記範囲とした場合であっても、無機物層の電気的又は光学的な性能の低下を十分に抑制することができる。   In the composition containing inorganic fine particles according to the present invention, the content of (a-1) isobornylcyclohexanol represented by the above formula (1) is preferably 30 to 100% by mass, based on the total amount of the organic compound, and 50 to 95. % By mass is more preferable, and 70 to 90% by mass is particularly preferable. By making content of the isobornyl cyclohexanol represented by the said Formula (1) into the said range, it becomes easy to acquire the effect that it becomes easy to form a uniform coating film compared with the case outside the said range. According to the method for forming an inorganic layer of the present invention, even if the content of isobornylcyclohexanol is within the above range, it is possible to sufficiently suppress a decrease in the electrical or optical performance of the inorganic layer. it can.

また、上記式(1)で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールの含有量は、無機微粒子含有組成物の塗工性を良好にする観点からは、無機微粒子含有組成物の全量を基準として30〜70質量%が好ましく、40〜60質量%がより好ましい。本発明の無機物層の形成方法によれば、イソボルニルシクロヘキサノールの含有量を上記範囲とした場合であっても、無機物層の電気的又は光学的な性能の低下を十分に抑制することができる。   Further, the content of isobornylcyclohexanol represented by the above formula (1) is 30 to 70 on the basis of the total amount of the inorganic fine particle-containing composition from the viewpoint of improving the coating property of the inorganic fine particle-containing composition. % By mass is preferable, and 40 to 60% by mass is more preferable. According to the method for forming an inorganic layer of the present invention, even if the content of isobornylcyclohexanol is within the above range, it is possible to sufficiently suppress a decrease in the electrical or optical performance of the inorganic layer. it can.

また、本発明に係る無機微粒子含有組成物は、塗布層の平坦性の観点から、(A)有機化合物として(a−2)沸点が150〜250℃の範囲内にある有機溶剤を含むことが好ましい。なお、本明細書において、有機溶剤の沸点は大気圧下での値を指す。   Moreover, the inorganic fine particle containing composition which concerns on this invention contains the organic solvent which has (a-2) boiling point in the range of 150-250 degreeC as (A) organic compound from a viewpoint of the flatness of a coating layer. preferable. In the present specification, the boiling point of the organic solvent refers to a value under atmospheric pressure.

(a−2)沸点が150〜250℃の範囲内にある有機溶剤としては、例えば、ホロン(沸点:198℃)、シクロヘキサノン(沸点:155℃)、メチルシクロヘキサノン(沸点:170℃)等のケトン系溶剤、メチルフェニルエーテル(沸点:153℃)、エチルフェニルエーテル(172℃)、メトキシトルエン(沸点:172℃)、ベンジルエチルエーテル(沸点:189℃)、ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:160℃)、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点:188℃)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(沸点:194℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(沸点:231℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点:247℃)、エチレングリコールモノブチルエーテル(沸点:171℃)、エチレングリコールモノイソアミルエーテル(沸点:181℃)等のエーテル系溶剤、1−ヘキサノール(沸点:157℃)、1−ヘプタノール(沸点:176℃)、2−ヘプタノール(沸点:160℃)、3−ヘプタノール(沸点:156℃)、1−オクタノール(沸点:195℃)、2−オクタノール(沸点:179℃)、2−エチル−1−ヘキサノール(沸点:184℃)、シクロヘキサノール(沸点:161℃)、1−メチルシクロヘキサノール(沸点:155℃)、2−メチルシクロヘキサノール(沸点:165℃)、3−メチルシクロヘキサノール(沸点:173℃)、4−メチルシクロヘキサノール(沸点:174℃)、フルフリルアルコール(沸点:170℃)、エチレングリコール(沸点:198℃)、プロピレングリコール(沸点:187℃)、1,2−ブチレングリコール(沸点:191℃)、ヘキシレングリコール(沸点:197℃)、3−メチル−3−メトキシブタノール(沸点:174℃)等のアルコール系溶剤、3−メトキシ−3−メチル−1−ブチルアセテート(沸点:188℃)、エチレングリコールモノアセテート(沸点:182℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点:247℃)等のアセテート系溶剤、プロピレンカーボネート(沸点:241℃)等の環状カーボネート系溶剤、γ−ブチロラクトン(沸点:204℃)等のラクトン系溶剤、N−メチル−2−ピロリドン(沸点:202℃)等のピロリドン系溶剤、α−ピネン(沸点:156℃)、β−ピネン(沸点:161℃)、リモネン(沸点:177℃)、ターピネオール(沸点:217℃)、ジヒドロターピネオール(沸点:207℃)、ジヒドロターピニルアセテート(沸点:220℃)等のテルペン系溶剤、ジメチルホルムアミド(沸点:153℃)、ジメチルスルホキシド(沸点:189℃)などが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   (A-2) Examples of the organic solvent having a boiling point in the range of 150 to 250 ° C. include ketones such as holon (boiling point: 198 ° C.), cyclohexanone (boiling point: 155 ° C.), and methylcyclohexanone (boiling point: 170 ° C.). Solvents, methyl phenyl ether (boiling point: 153 ° C.), ethyl phenyl ether (172 ° C.), methoxytoluene (boiling point: 172 ° C.), benzyl ethyl ether (boiling point: 189 ° C.), diethylene glycol dimethyl ether (boiling point: 160 ° C.), diethylene glycol Diethyl ether (boiling point: 188 ° C), diethylene glycol monomethyl ether (boiling point: 194 ° C), diethylene glycol monobutyl ether (boiling point: 231 ° C), diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point: 247 ° C), ethylene glycol mono Ether solvents such as chill ether (boiling point: 171 ° C), ethylene glycol monoisoamyl ether (boiling point: 181 ° C), 1-hexanol (boiling point: 157 ° C), 1-heptanol (boiling point: 176 ° C), 2-heptanol (boiling point) : 160 ° C), 3-heptanol (boiling point: 156 ° C), 1-octanol (boiling point: 195 ° C), 2-octanol (boiling point: 179 ° C), 2-ethyl-1-hexanol (boiling point: 184 ° C), cyclo Hexanol (boiling point: 161 ° C), 1-methylcyclohexanol (boiling point: 155 ° C), 2-methylcyclohexanol (boiling point: 165 ° C), 3-methylcyclohexanol (boiling point: 173 ° C), 4-methylcyclohexanol ( Boiling point: 174 ° C), furfuryl alcohol (boiling point: 170 ° C), ethylene glycol ( Point: 198 ° C, propylene glycol (boiling point: 187 ° C), 1,2-butylene glycol (boiling point: 191 ° C), hexylene glycol (boiling point: 197 ° C), 3-methyl-3-methoxybutanol (boiling point: 174) Alcohol) such as 3-methoxy-3-methyl-1-butyl acetate (boiling point: 188 ° C.), ethylene glycol monoacetate (boiling point: 182 ° C.), diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point: 247 ° C.), etc. Acetate solvents, cyclic carbonate solvents such as propylene carbonate (boiling point: 241 ° C), lactone solvents such as γ-butyrolactone (boiling point: 204 ° C), pyrrolidones such as N-methyl-2-pyrrolidone (boiling point: 202 ° C) Solvent, α-pinene (boiling point: 156 ° C), β-pinene (boiling point: 161 ° C) ), Limonene (boiling point: 177 ° C.), terpineol (boiling point: 217 ° C.), dihydroterpineol (boiling point: 207 ° C.), dihydroterpinyl acetate (boiling point: 220 ° C.), and the like, dimethylformamide (boiling point: 153) ° C), dimethyl sulfoxide (boiling point: 189 ° C), and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等のテルペンアルコール又はテルペンエステル等のテンルペン系溶剤を含有させることがより好ましい。これにより、基材上に塗布された本発明に係る無機微粒子含有組成物を加熱乾燥したときに、基材面の温度分布に起因して発生する膜厚のばらつきなどのムラをより確実に低減することができる。   Among these, it is more preferable to contain a terpene solvent such as terpene alcohol or terpene ester such as terpineol, dihydroterpineol and dihydroterpinyl acetate. As a result, when the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention applied on the substrate is heat-dried, unevenness such as film thickness variation caused by the temperature distribution on the substrate surface is more reliably reduced. can do.

ターピネオールは、ガムテレビン油から誘導された、下記式で示されるα−,β−,γ−ターピネオールの異性体混合物であり、「ターピネオールC」(日本テルペン化学社製、商品名)が商業的に入手可能である。   Turpineol is an isomer mixture of α-, β-, and γ-terpineol derived from gum turpentine oil and represented by the following formula, and “Terpineol C” (trade name, manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) is commercially available. Is possible.

Figure 2009269808
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ジヒドロターピネオールは、下記式で示される、ガムテレビン油から誘導されるターピネオールに水素添加した化合物であり、日本テルペン化学より商業的に入手可能である。   Dihydroterpineol is a compound obtained by hydrogenating terpineol derived from gum turpentine oil represented by the following formula, and is commercially available from Nippon Terpene Chemical.

Figure 2009269808
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ジヒドロターピニルアセテートは、下記式で示される、ガムテレビン油から誘導されるターピネオールに水素添加及びエステル化した化合物であり、日本テルペン化学より商業的に入手可能である。   Dihydroterpinyl acetate is a compound obtained by hydrogenation and esterification of terpineol derived from gum turpentine oil represented by the following formula, and is commercially available from Nippon Terpene Chemical.

Figure 2009269808
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加熱乾燥後の塗布層にムラが発生するのを防止する観点から、本発明に係る無機微粒子含有組成物における(a−2)沸点が150〜250℃の範囲にある有機溶剤の含有量は、組成物に含まれる有機化合物全量を基準として0〜50質量%であることが好ましく、2〜40質量%であることがより好ましく、5〜30質量%であることが特に好ましい。   From the viewpoint of preventing unevenness in the coating layer after heat drying, the content of the organic solvent (a-2) having a boiling point in the range of 150 to 250 ° C. in the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention is: It is preferably 0 to 50% by mass, more preferably 2 to 40% by mass, and particularly preferably 5 to 30% by mass based on the total amount of organic compounds contained in the composition.

また、本発明に係る無機微粒子含有組成物においては、加熱乾燥後の塗布層にムラが発生するのを防止しつつ塗布層の乾燥時間を更に短縮する観点から、上記(a−2)沸点が150〜250℃の範囲にある有機溶剤に加えて、有機化合物(A)として(a−3)沸点が150℃未満の有機溶剤を併用することができる。   In addition, in the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention, from the viewpoint of further shortening the drying time of the coating layer while preventing unevenness in the coating layer after heat drying, the boiling point (a-2) In addition to the organic solvent which exists in the range of 150-250 degreeC, the organic solvent (a-3) whose boiling point is less than 150 degreeC can be used together as an organic compound (A).

沸点が150℃未満の溶剤としては、例えば、アルコール系有機溶剤(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール等)、芳香族系有機溶剤(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、ケトン系溶剤(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、エーテル系溶剤(テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル)、酢酸エチル、メチルプロピルジグリコール、ヘキシルカルビトール、ブチルプロピレンジグルコール、ベンジルアルコール、ブチルカルビトール、DBEシンナー(デュポン株式会社:商品名)、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサノン等が挙げられる。   Examples of the solvent having a boiling point of less than 150 ° C. include alcohol organic solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, etc.), aromatic organic solvents (benzene, toluene, xylene, etc.), ketone solvents (acetone). , Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), ether solvents (tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether), ethyl acetate, methylpropyl diglycol, hexyl carbitol, butylpropylene diglycol, benzyl alcohol, butyl Examples include carbitol, DBE thinner (DuPont Co., Ltd .: trade name), cyclohexane, methylcyclohexane, cyclohexanone, and the like.

本実施形態の無機微粒子含有組成物における(a−3)沸点が150℃未満の有機溶剤の含有量は、特に制限されないが、上記式(1)で表わされるイソボルニルシクロヘキサノールと混合したときの混合物の25℃における粘度が500〜50000mPa・sとなるように設定することが好ましい。更に、無機微粒子含有組成物の粘度が後述する範囲となるように設定することが好ましい。   In the inorganic fine particle-containing composition of the present embodiment, (a-3) the content of the organic solvent having a boiling point of less than 150 ° C. is not particularly limited, but when mixed with isobornylcyclohexanol represented by the above formula (1) It is preferable to set so that the viscosity of the mixture at 25 ° C. is 500 to 50000 mPa · s. Furthermore, it is preferable to set the viscosity of the inorganic fine particle-containing composition to be in a range described later.

また、本発明に係る無機微粒子含有組成物は、無機微粒子の分散性を向上する目的で、有機化合物(A)として(a−4)バインダポリマを更に含有することもできる。   In addition, the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention may further contain (a-4) a binder polymer as the organic compound (A) for the purpose of improving the dispersibility of the inorganic fine particles.

(a−4)バインダポリマとしては、特に制限されないが、上記有機溶剤や必要に応じて添加される添加剤など、無機微粒子含有組成物中の他の成分との相溶性に優れることが好ましい。具体的には、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹指、ポリエステル樹脂などが好適に用いることができる。これらの中では、熱分解温度が低い(メタ)アクリル系樹脂が好ましい。ここで、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、メタクリル又はアクリルのことを意味し、「(メタ)アクリル系樹指」とは、メタクリル基又はアクリル基を有するモノマー由来のモノマー単位で主として構成される重合体のことを意味する。   (A-4) Although it does not restrict | limit especially as a binder polymer, It is preferable that it is excellent in compatibility with the other component in an inorganic fine particle containing composition, such as the said organic solvent and the additive added as needed. Specifically, for example, (meth) acrylic resin, hydroxystyrene resin, novolak resin, polyester resin and the like can be suitably used. Among these, (meth) acrylic resins having a low thermal decomposition temperature are preferable. Here, in this specification, “(meth) acryl” means methacryl or acrylic, and “(meth) acrylic resin” means a monomer unit derived from a monomer having a methacryl group or an acrylic group. Means a polymer mainly composed of

上記樹脂として用いる(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸(2−エチル)ヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ベンジル、グリシジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルを重合したものが挙げられる。これらのモノマーは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて重合させてもよい。   Examples of the (meth) acrylic resin used as the resin include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, (meth) What polymerized (meth) acrylic acid ester, such as (2-ethyl) hexyl acrylate, lauryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, etc. Can be mentioned. These monomers may be polymerized singly or in combination of two or more.

また、上記の(メタ)アクリル酸エステルのようなモノマーの他、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル系モノマー類、ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類、ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に(メタ)アクリロイル基等の重合性不飽和基を有するマクロモノマー類、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類等のモノマーを、単独又は複数種で重合させて得られるポリマーが挙げられる。   In addition to monomers such as the above (meth) acrylates, aromatic vinyl monomers such as styrene and α-methylstyrene, conjugated dienes such as butadiene and isoprene, polystyrene, poly (meth) acrylate methyl , Macromonomers having a polymerizable unsaturated group such as a (meth) acryloyl group at one end of a polymer chain such as poly (meth) ethyl acrylate and poly (meth) acrylate benzyl, o-hydroxystyrene, m- Examples thereof include polymers obtained by polymerizing monomers such as phenolic hydroxyl group-containing monomers such as hydroxystyrene and p-hydroxystyrene, alone or in combination.

(a−4)バインダポリマは、その重量平均分子量が40,000〜2,000,000であることが好ましく、50,000〜300,000であることがより好ましく、100,000〜200,000であることが特に好ましい。なお、本明細書において、バインダポリマの重量平均分子量とは、GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)法により、ポリスチレン標準物質を用いて作成した検量線を基に推定した重量平均分子量(Mw)である。   (A-4) The binder polymer preferably has a weight average molecular weight of 40,000 to 2,000,000, more preferably 50,000 to 300,000, and 100,000 to 200,000. It is particularly preferred that In the present specification, the weight average molecular weight of the binder polymer is a weight average molecular weight (Mw) estimated by a GPC (gel permeation chromatography) method based on a calibration curve created using a polystyrene standard substance.

本実施形態の無機微粒子含有組成物における(a−4)バインダポリマの含有量は、有機化合物全量を基準として0〜5質量%が好ましく、0〜3質量%がより好ましく、0〜1質量%が特に好ましい。但し、無機微粒子含有組成物中に含まれる有機化合物は、300℃で10分間加熱したときの加熱残分が1質量%以下であることが好ましいので、(a−4)バインダポリマは含有しないことが最も好ましい。   The content of the (a-4) binder polymer in the inorganic fine particle-containing composition of the present embodiment is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 3% by mass, based on the total amount of the organic compound, and 0 to 1% by mass. Is particularly preferred. However, since the organic compound contained in the inorganic fine particle-containing composition preferably has a heating residue of 1% by mass or less when heated at 300 ° C. for 10 minutes, it does not contain (a-4) a binder polymer. Is most preferred.

本発明に係る無機微粒子含有組成物には、必要に応じて、例えば、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を添加することができる。これらの添加剤は、無機微粒子含有組成物中に含まれる有機化合物を300℃で10分間加熱したときの加熱残分が1質量%以下となる範囲で配合することが好ましい。   In the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention, for example, a dye, a color former, a plasticizer, a pigment, a polymerization inhibitor, a surface modifier, a stabilizer, an adhesion promoter, a thermosetting agent, etc. Can be added. These additives are preferably blended so that the heating residue when the organic compound contained in the inorganic fine particle-containing composition is heated at 300 ° C. for 10 minutes is 1% by mass or less.

本発明に係る無機微粒子含有組成物は、25℃における粘度が1000〜100000mPa・sであることが好ましい。無機微粒子含有組成物の粘度が1000mPa・sより小さい場合は、無機微粒子含有組成物の保存中に無機微粒子が沈降しやすくなり、一方、粘度が100000mPa・sより大きい場合は、塗布層の平坦性が低下する傾向がある。   The inorganic fine particle-containing composition according to the present invention preferably has a viscosity at 25 ° C. of 1000 to 100,000 mPa · s. When the viscosity of the inorganic fine particle-containing composition is less than 1000 mPa · s, the inorganic fine particles are likely to settle during storage of the inorganic fine particle-containing composition. On the other hand, when the viscosity is higher than 100,000 mPa · s, the coating layer is flat. Tends to decrease.

(B)無機微粒子としては、形成する無機物層の用途に応じて適宜選択すればよく、例えば、金属粒子、金属酸化物粒子、ガラス粒子、蛍光体微粒子などが挙げられる。金属粒子としては、金粉、銀粉などが挙げられる。また、これら粒子に結着材として後述するガラス粒子を添加してもよい。金属酸化物粒子としては、酸化ルテニウム、酸化銅、酸化錫、ITOなどが挙げられる、また、これら粒子に結着材として後述するガラス粒子を添加してもよい。   (B) The inorganic fine particles may be appropriately selected according to the use of the inorganic layer to be formed. Examples thereof include metal particles, metal oxide particles, glass particles, and phosphor fine particles. Examples of the metal particles include gold powder and silver powder. Moreover, you may add the glass particle mentioned later as a binder to these particle | grains. Examples of the metal oxide particles include ruthenium oxide, copper oxide, tin oxide, ITO, and the like, and glass particles described later as a binder may be added to these particles.

金属粒子及び金属酸化物粒子の平均粒径は、0.01〜20μmが好ましく、0.1〜10μmがより好ましい。   0.01-20 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter of a metal particle and a metal oxide particle, 0.1-10 micrometers is more preferable.

ガラス粒子は、低融点であることが好ましく、その軟化点が300〜600℃の範囲内にあることが好ましい。ガラス粒子の軟化点が300℃未満であると、(A)有機化合物が完全に除去されない段階でガラス粒子が溶融し、これにより有機物が残留して着色などの問題が生じやすくなる傾向がある。一方、この軟化点が600℃を超えるとガラス基板などの基材に歪みなどが発生しやすくなる傾向がある。   The glass particles preferably have a low melting point, and preferably have a softening point in the range of 300 to 600 ° C. When the softening point of the glass particles is less than 300 ° C., the glass particles are melted at a stage where (A) the organic compound is not completely removed, whereby organic matter remains, and problems such as coloring tend to occur. On the other hand, when the softening point exceeds 600 ° C., distortion or the like tends to occur in a base material such as a glass substrate.

ガラス粒子としては、例えば、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(PbO−B−SiO系)、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(PbO−B−SiO−Al系)、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(ZnO−B−SiO系)、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(ZnO−B−SiO−Al系)、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(PbO−ZnO−B−SiO系)、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(PbO−ZnO−B−SiO−Al系)、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(Bi−B−SiO系)、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(Bi−B−SiO−Al系)、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(Bi−ZnO−B−SiO系)、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(Bi−ZnO−B−SiO−Al系)等のガラス粒子が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。 As the glass particles, for example, lead oxide, boron oxide, silicon oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 system), lead oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide-based (PbO-B 2 O 3 -SiO 2- Al 2 O 3 system), zinc oxide, boron oxide, silicon oxide system (ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 system), zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide system (ZnO—B 2 O 3) -SiO 2 -Al 2 O 3 system), lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 system), lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, based on aluminum oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 system), bismuth oxide, boron oxide, silicon oxide (Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 system), acid Bismuth, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide-based (Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 system), bismuth oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (Bi 2 O 3 - ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 system), bismuth oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide system (Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 —Al 2 O 3 system), etc. Glass particles. These may be used alone or in combination of two or more.

ガラス粒子の平均粒径は、0.01〜20μmが好ましく、0.1〜10μmがより好ましい。   The average particle size of the glass particles is preferably from 0.01 to 20 μm, more preferably from 0.1 to 10 μm.

蛍光体微粒子としては、金属酸化物を主体とする蛍光体が挙げられ、赤色発色の蛍光体としては、例えば、YS:Eu、Zn(PO:Mn、Y:Eu、YVO:Eu、(Y,Gd)BO:Eu等が挙げられる。青色発色の蛍光体としては、例えば、ZnS:Ag、ZnS:Ag,Al、ZnS:Ag,Ga,Al、ZnS:Ag,Cu,Ga,Cl、ZnS:AgIn、CaCl:Eu2+、(Sr,Ca,Ba,Mg)10(POCl:Eu2+、Sr10(POCl:Eu2+、BaMgAl1423:Eu2+、BaMgAl1626:Eu2+等が挙げられる。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ZnS:Cu、ZnSiO:Mn、ZnS:CuZnSiO:Mn、GdS:Tb、YAl12:Ce、ZnS:Cu,Al、YS:Tb、ZnO:Zn、ZnS:Cu,AlIn、LaPO:Ce,Tb、BaO・6Al:Mn等が挙げられる。 Examples of the phosphor fine particles include phosphors mainly composed of metal oxides. Examples of red-colored phosphors include Y 2 O 2 S: Eu, Zn 3 (PO 4 ) 2 : Mn, Y 2 O. 3 : Eu, YVO 4 : Eu, (Y, Gd) BO 3 : Eu, and the like. Examples of blue-colored phosphors include ZnS: Ag, ZnS: Ag, Al, ZnS: Ag, Ga, Al, ZnS: Ag, Cu, Ga, Cl, ZnS: Ag + In 2 O 3 , and Ca 2 B. 5 O 9 Cl: Eu 2+ , (Sr, Ca, Ba, Mg) 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ , Sr 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ , BaMgAl 14 O 23 : Eu 2+ , BaMgAl 16 O 26 : Eu 2+ and the like. Examples of green phosphors include ZnS: Cu, Zn 2 SiO 4 : Mn, ZnS: Cu + Zn 2 SiO 4 : Mn, Gd 2 O 2 S: Tb, Y 3 Al 5 O 12 : Ce, ZnS. : Cu, Al, Y 2 O 2 S: Tb, ZnO: Zn, ZnS: Cu, Al + In 2 O 3, LaPO 4: Ce, Tb, BaO · 6Al 2 O 3: Mn , and the like.

蛍光体微粒子の平均粒径は、0.01〜20μmが好ましく、0.1〜10μmがより好ましい。   The average particle size of the phosphor fine particles is preferably 0.01 to 20 μm, and more preferably 0.1 to 10 μm.

本発明に係る無機微粒子含有組成物が無機粒子として金属粒子又は金属酸化物粒子を含む場合、かかる無機微粒子含有組成物は電極の形成に好適なものとなる。また、本発明に係る無機微粒子含有組成物がガラス粒子を含む場合、かかる無機微粒子含有組成物は誘電体層の形成に好適なものとなる。また、本発明に係る無機微粒子含有組成物が蛍光体微粒子を含む場合、かかる無機微粒子含有組成物は蛍光体層の形成に好適なものとなる。   When the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention contains metal particles or metal oxide particles as inorganic particles, the inorganic fine particle-containing composition is suitable for forming an electrode. In addition, when the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention includes glass particles, the inorganic fine particle-containing composition is suitable for forming a dielectric layer. In addition, when the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention includes phosphor fine particles, the inorganic fine particle-containing composition is suitable for forming a phosphor layer.

本発明に係る無機微粒子含有組成物における無機微粒子の含有量は、塗布性を確保する観点から、組成物全量を基準として5〜80質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましく、10〜60質量%が特に好ましく、30〜50質量%が最も好ましい。   The content of inorganic fine particles in the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, based on the total amount of the composition, from the viewpoint of ensuring applicability. 60 mass% is especially preferable and 30-50 mass% is the most preferable.

次に、本発明に係る無機微粒子含有組成物以外のことについて説明する。   Next, things other than the inorganic fine particle containing composition according to the present invention will be described.

本発明に係る無機微粒子含有組成物が塗布される基材としては、例えば、ガラス板上に、ITO(酸化インジウムスズ)等の透明電極、及び、銀、銅、アルミニウム等からなる金属電極を、必要に応じて各々所望の形状に形成した電極付ガラス基板等が挙げられる。   As a substrate on which the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention is applied, for example, on a glass plate, a transparent electrode such as ITO (indium tin oxide) and a metal electrode made of silver, copper, aluminum, etc. Examples thereof include a glass substrate with an electrode formed into a desired shape as required.

塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディスペンサー塗布法等が挙げられる。   Examples of the coating method include screen printing, knife coating method, roll coating method, spray coating method, gravure coating method, bar coating method, die coating method, curtain coating method, dispenser coating method, and the like.

第2工程における加熱手段としては、特に制限されないが、通常、熱風乾燥機、電気炉等の加熱機器を用いることができる。その場合、加熱雰囲気の酸素濃度を10体積%以下とすることが必要であり、0〜5体積%とすることがより好ましく、0〜3体積%とすることが特に好ましい。加熱雰囲気の酸素濃度を10体積%以下とすることで、有機化合物の残留物低減及び無機物層の変色を抑制することが可能となる。   Although it does not restrict | limit especially as a heating means in a 2nd process, Usually, heating apparatuses, such as a hot air dryer and an electric furnace, can be used. In that case, the oxygen concentration in the heating atmosphere needs to be 10% by volume or less, more preferably 0 to 5% by volume, and particularly preferably 0 to 3% by volume. By setting the oxygen concentration in the heating atmosphere to 10% by volume or less, it is possible to reduce organic compound residues and to suppress discoloration of the inorganic layer.

加熱温度は、150〜350℃であるが、170〜300℃が好ましく、200〜280℃がより好ましい。加熱時間は、1〜120分が好ましく、5〜100分がより好ましく、10〜90分が特に好ましい。加熱の温度及び時間がこの範囲外であると形成される無機物層の平坦性が劣る傾向がある。   Although heating temperature is 150-350 degreeC, 170-300 degreeC is preferable and 200-280 degreeC is more preferable. The heating time is preferably 1 to 120 minutes, more preferably 5 to 100 minutes, and particularly preferably 10 to 90 minutes. When the heating temperature and time are outside this range, the flatness of the inorganic layer formed tends to be poor.

加熱機器内の酸素濃度は自然状態では大気中の酸素濃度と同等の約20体積%である。この酸素濃度を10体積%以下とする手段としては、加熱機器内を窒素、又はアルゴン、ヘリウム、ネオン等の不活性ガスで置換すること、真空ポンプを用いることなどが挙げられ、その酸素濃度は可能なかぎり低い値であることが好ましい。酸素濃度の測定は、酸素濃度計により容易に行なうことができ、市販の酸素濃度計としては、酸素濃度計LC−750L(東レエンジニアリング社製)等が挙げられる。   The oxygen concentration in the heating device is about 20% by volume equivalent to the oxygen concentration in the air in the natural state. Examples of means for reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less include replacing the inside of the heating device with an inert gas such as nitrogen or argon, helium, or neon, using a vacuum pump, and the like. A value as low as possible is preferred. The measurement of the oxygen concentration can be easily performed with an oxygen concentration meter, and examples of a commercially available oxygen concentration meter include an oxygen concentration meter LC-750L (manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.).

通常、有機化合物を除去するための加熱乾燥工程は大気中で行なうことが一般的であるが、乾燥に要する温度を150℃以上にした場合、有機化合物の強度の低下、変色、変性等の化学変化を生じることがある。そのため、例えば、有機化合物としてバインダポリマを用いる場合、ポリエチレンは荷重たわみ温度が130℃以下(高密度ポリエチレン)、ポリエチレンテレフタラートのガラス転移点が約80℃、一般的な(メタ)アクリル樹脂のガラス転移点が約−50〜190℃であることなど、安価で安定的に入手可能な有機化合物でありかつ150℃以上の加熱で変化が生じない材料は限られている。また、150℃以上に加熱する場合、有機化合物の蒸発と平行して有機化合物自体の熱による変性(熱による化学反応など)が進行する可能性が高い。このように蒸発と熱反応が協奏的に発生すると、乾燥工程の中で、有機化合物による熱反応生成物が、乾燥後の無機物層中に残留し、最終的に得られる無機物層中に有機成分の残留物が存在し、無機物層が所望の特性(例えば、絶縁性等)を達成できない場合があった。このような加熱による有機化合物の反応の主要な原因として、雰囲気中の酸素の影響が大きいものと本発明者は考えている。   Usually, the heating and drying step for removing the organic compound is generally performed in the atmosphere. However, when the temperature required for the drying is set to 150 ° C. or higher, the chemistry such as reduction in the strength, discoloration, and modification of the organic compound is performed. May cause change. Therefore, for example, when a binder polymer is used as the organic compound, polyethylene has a deflection temperature under load of 130 ° C. or less (high density polyethylene), a glass transition point of polyethylene terephthalate is about 80 ° C., and is a general (meth) acrylic resin glass. There are limited materials that are organic compounds that are inexpensive and stably available, such as having a transition point of about −50 to 190 ° C., and that do not change when heated to 150 ° C. or higher. In addition, when heating at 150 ° C. or higher, there is a high possibility that denaturation of the organic compound itself by heat (chemical reaction by heat, etc.) proceeds in parallel with the evaporation of the organic compound. When evaporation and thermal reaction occur in a concerted manner in this way, in the drying process, the thermal reaction product of the organic compound remains in the inorganic layer after drying, and the organic component in the finally obtained inorganic layer In some cases, the inorganic layer cannot achieve desired characteristics (for example, insulating properties). The present inventor considers that the influence of oxygen in the atmosphere is large as the main cause of the reaction of the organic compound by such heating.

これに対して本発明の無機物層の形成方法は、上記第2工程を備えることにより、有機化合物の選択範囲を広げることができるとともに、有機成分の残留物の発生を十分抑制することが可能となる。   On the other hand, the method for forming an inorganic layer according to the present invention includes the second step, so that the selection range of the organic compound can be expanded and generation of organic component residues can be sufficiently suppressed. Become.

本発明の無機物層の形成方法においては、第2工程の後に、必要に応じて更に焼成を行うことができる。   In the method for forming an inorganic layer of the present invention, firing can be further performed as necessary after the second step.

焼成する方法としては、例えば、電気炉中で加熱する方法等が挙げられる。焼成温度は、300〜1500℃であることが好ましく、350〜700℃であることがより好ましく、400〜600℃であることがさらに好ましい。本工程は大気中で行われることが好ましい。また、焼成時間は5分間〜2時間程度が好ましい。   Examples of the firing method include a method of heating in an electric furnace. The firing temperature is preferably 300 to 1500 ° C, more preferably 350 to 700 ° C, and further preferably 400 to 600 ° C. This step is preferably performed in the atmosphere. The firing time is preferably about 5 minutes to 2 hours.

本実施形態においては、上記第2工程において有機化合物は90質量%以上除去されていることが好ましく、95質量%以上除去されていることがより好ましく、99質量%以上除去されていることが特に好ましい。   In the present embodiment, the organic compound is preferably removed in an amount of 90% by mass or more in the second step, more preferably 95% by mass or more, and particularly preferably 99% by mass or more. preferable.

また、本発明の無機物層の形成方法は、上記第2工程によって有機化合物をほぼ全量除去することが可能であることから、焼成工程を必要とせず、工程が簡略化された無機物層の形成方法として有用である。   In addition, the method for forming an inorganic layer according to the present invention can remove almost all of the organic compound by the second step, and therefore does not require a firing step, and the method for forming an inorganic layer is simplified. Useful as.

本発明の無機物層の形成方法は、例えば、基板上に、公知の方法で本発明に係る無機微粒子含有組成物を塗布し、上述した特定の条件で加熱乾燥した後、必要に応じて焼成することによって、プラズマディスプレイパネル用の電極、誘電体層、蛍光体層などを形成することができる。また、チップコンデンサ等の電子部品製造プロセスにおいて、絶縁物層、誘電体層などを形成する場合も同様に、基材上に本発明に係る無機微粒子含有組成物を公知の方法で塗布し、上述した特定の条件で加熱乾燥した後、焼成することによって上記電子部品を得ることができる。   The method for forming the inorganic layer of the present invention includes, for example, applying the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention on a substrate by a known method, heat drying under the above-mentioned specific conditions, and then firing as necessary. Thus, an electrode, a dielectric layer, a phosphor layer and the like for a plasma display panel can be formed. Similarly, in the case of forming an insulator layer, a dielectric layer, etc., in an electronic component manufacturing process such as a chip capacitor, the inorganic fine particle-containing composition according to the present invention is applied onto a substrate by a known method, The electronic component can be obtained by heating and drying under the specified conditions, followed by firing.

本発明の無機物層の形成方法は、150℃以上に加熱した場合に蛍光体微粒子が変色することも抑制できることから、プラズマディスプレイパネル用の蛍光体層の形成方法としても特に有用である。   The method for forming an inorganic material layer of the present invention is particularly useful as a method for forming a phosphor layer for a plasma display panel because it can also suppress discoloration of phosphor particles when heated to 150 ° C. or higher.

次に、本発明の無機物層の形成方法の一実施形態としてプラズマディスプレイパネル用の蛍光体層の形成方法について説明する。   Next, a method for forming a phosphor layer for a plasma display panel will be described as an embodiment of the method for forming an inorganic layer of the present invention.

図1は、本発明の無機物層の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。図1(a)は、無機物層が設けられる基板の断面を示し、図1(b)は、第1工程により設けられた塗布層を備える基板の断面を示し、図1(c)は、第2工程を経て形成された無機物層を備える基板の断面を示す。以下、この図面を参照しつつ蛍光体層の形成方法について詳述する。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining an embodiment of a method for forming an inorganic layer of the present invention. FIG. 1A shows a cross section of a substrate on which an inorganic layer is provided, FIG. 1B shows a cross section of a substrate provided with a coating layer provided in the first step, and FIG. The cross section of a board | substrate provided with the inorganic substance layer formed through two processes is shown. Hereinafter, the method for forming the phosphor layer will be described in detail with reference to this drawing.

まず、アドレス電極54が設けられた背面ガラス基板41を用意する。次に、背面ガラス基板41の電極54が設けられている側に背面誘電体層72を形成する。形成した誘電体層72上に、バリアリブ80を形成する(図1(a)を参照)。   First, the rear glass substrate 41 provided with the address electrodes 54 is prepared. Next, the back dielectric layer 72 is formed on the side of the back glass substrate 41 where the electrodes 54 are provided. Barrier ribs 80 are formed on the formed dielectric layer 72 (see FIG. 1A).

次に、隣り合うバリアリブ80の間隙に、無機微粒子として蛍光体粒子を含む本発明に係る無機微粒子含有組成物を塗布し、塗布層1を形成する(図1(b)を参照)。   Next, an inorganic fine particle-containing composition according to the present invention containing phosphor particles as inorganic fine particles is applied to the gaps between adjacent barrier ribs 80 to form a coating layer 1 (see FIG. 1B).

塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディスペンサー塗布法等が挙げられる。   Examples of the coating method include screen printing, knife coating method, roll coating method, spray coating method, gravure coating method, bar coating method, die coating method, curtain coating method, dispenser coating method, and the like.

次に、塗布層1を、酸素濃度が10体積%以下の雰囲気下、150℃以上350℃以下の温度で加熱することにより乾燥させ、無機物層としての蛍光体層90を形成する(図1(c)を参照)。   Next, the coating layer 1 is dried by heating at a temperature of 150 ° C. or more and 350 ° C. or less in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less to form a phosphor layer 90 as an inorganic layer (FIG. 1 ( see c)).

本実施形態においては、不活性ガス雰囲気下で加熱することが好ましい。また、加熱温度は、150〜300℃程度とすることが好ましく、加熱時間は、1分間〜1時間程度とすることが好ましい。具体的な条件としては、例えば、250℃、30分間加熱する条件が挙げられる。   In this embodiment, it is preferable to heat in an inert gas atmosphere. The heating temperature is preferably about 150 to 300 ° C., and the heating time is preferably about 1 minute to 1 hour. Specific conditions include, for example, a condition of heating at 250 ° C. for 30 minutes.

また、本実施形態においては、上記の加熱を行った後の塗布層に対して更に焼成を行って蛍光体層90を形成してもよい。   In the present embodiment, the phosphor layer 90 may be formed by further baking the coating layer after the above heating.

焼成方法としては、例えば、電気炉中に、基板上に上記塗布層が設けられた積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上記積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。   Examples of the firing method include a method in which a laminated body in which the coating layer is provided on a substrate is accommodated in an electric furnace and heated, a method in which the laminated body is placed on a hot plate and heated. It is done.

焼成温度は、無機微粒子含有組成物からなる塗布層が十分に焼結する温度であれば特に限定されないが、最高温度が350〜700℃であることが好ましく、400〜600℃であることがより好ましい。焼成時間は、5分間〜2時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。   The firing temperature is not particularly limited as long as the coating layer composed of the inorganic fine particle-containing composition is sufficiently sintered, but the maximum temperature is preferably 350 to 700 ° C, more preferably 400 to 600 ° C. preferable. The firing time is preferably about 5 minutes to 2 hours. Moreover, it is preferable that baking is implemented in air | atmosphere.

本実施形態の蛍光体層90の形成方法によれば、焼成に際して塗布層に含まれる有機化合物由来の不純物を従来よりも少なくできることから、有機化合物由来の不純物の残留による蛍光体層90の性能低下を抑制することができる。   According to the method for forming the phosphor layer 90 of the present embodiment, impurities derived from the organic compound contained in the coating layer during firing can be reduced as compared with the prior art. Can be suppressed.

このようにして得られる基板上に蛍光体層を備えた積層体200は、PDP用背面基板(PDP用基板)として好適に用いることができる。   The laminate 200 provided with the phosphor layer on the substrate thus obtained can be suitably used as a PDP rear substrate (PDP substrate).

図2は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの一実施形態を示す要部断面図である。図2に示すPDP300は、PDP用前面基板100と、PDP用背面基板200とで主として構成される。PDP用前面基板100は、積層体3と、積層体3における前面誘電体層70の表面を覆うように設けられた保護層71とで構成されている。積層体3は、主に前面ガラス基板40と帯状の表示電極52と前面誘電体層70とを順に積層して構成されている。PDP用背面基板200は、背面ガラス基板41と、背面ガラス基板41上に設けられた帯状のアドレス電極54と、背面ガラス基板41及びアドレス電極54上に設けられた背面誘電体層72と、背面誘電体層72上に設けられたバリアリブ80と、バリアリブ80の壁面及び背面誘電体層72の表面を覆うように形成された蛍光体層90とで主として構成されている。蛍光体層90は、本発明の無機物層の形成方法により得られたものである。そして、PDP用前面基板100とPDP用背面基板200とは、保護層71とバリアリブ80とが互いに密着するように貼り合わされて、蛍光体層90及び保護層71で囲まれた放電空間76が形成されている。なお、PDP300において、ガラス基板40、41、保護層71、背面誘電体層72、バリアリブ80、電極52、54、及び蛍光体膜90等の構成部材は、従来公知の材料及び方法で形成することができる。また、電極52,54、前面誘電体層70及び背面誘電体層72は、本発明の無機物層の形成方法により形成されていてもよく、バリアリブ80も本発明の無機物層の形成方法により均一な層とした後、例えば、サンドブラスト法により加工形成されてもよい。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the main part of an embodiment of the plasma display panel according to the present invention. A PDP 300 shown in FIG. 2 is mainly composed of a PDP front substrate 100 and a PDP rear substrate 200. The front substrate 100 for PDP is composed of the laminate 3 and a protective layer 71 provided so as to cover the surface of the front dielectric layer 70 in the laminate 3. The laminate 3 is configured by laminating a front glass substrate 40, a strip-shaped display electrode 52, and a front dielectric layer 70 in order. The PDP rear substrate 200 includes a rear glass substrate 41, a strip-shaped address electrode 54 provided on the rear glass substrate 41, a rear dielectric layer 72 provided on the rear glass substrate 41 and the address electrode 54, and a rear surface. The barrier rib 80 provided on the dielectric layer 72 and a phosphor layer 90 formed so as to cover the wall surface of the barrier rib 80 and the surface of the back dielectric layer 72 are mainly configured. The phosphor layer 90 is obtained by the inorganic layer forming method of the present invention. The PDP front substrate 100 and the PDP rear substrate 200 are bonded together so that the protective layer 71 and the barrier rib 80 are in close contact with each other, thereby forming a discharge space 76 surrounded by the phosphor layer 90 and the protective layer 71. Has been. In the PDP 300, the constituent members such as the glass substrates 40 and 41, the protective layer 71, the back dielectric layer 72, the barrier rib 80, the electrodes 52 and 54, and the phosphor film 90 are formed by a conventionally known material and method. Can do. The electrodes 52 and 54, the front dielectric layer 70, and the back dielectric layer 72 may be formed by the inorganic layer forming method of the present invention, and the barrier rib 80 is also uniform by the inorganic layer forming method of the present invention. After forming the layer, it may be formed by, for example, sandblasting.

本発明の無機物層の形成方法により形成される蛍光体層90を備えるPDP300は、蛍光体層の形成において焼成工程が省略可能であるため、従来よりも低エネルギーで製造でき、製造コスト及び環境の点でも優れたものになり得る。   The PDP 300 including the phosphor layer 90 formed by the inorganic layer forming method of the present invention can be manufactured with lower energy than conventional methods because the firing step can be omitted in forming the phosphor layer. It can also be excellent in terms.

また、PDP300のおける電極及び/又は誘電体層が本発明の無機物層の形成方法により形成された場合も、PDP300は従来よりも低エネルギーで製造でき、製造コスト及び環境の点でも優れたものになり得る。   In addition, when the electrode and / or dielectric layer in the PDP 300 is formed by the method for forming an inorganic layer of the present invention, the PDP 300 can be manufactured with lower energy than the conventional one, and the manufacturing cost and environment are excellent. Can be.

以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

(参考例1)
ソーダガラス製、直径45mm、肉厚2mmの時計皿上に、イソボルニルシクロヘキサノール(日本テルペン化学社製、商品名:テルソルブMTPH)を1.3074g量り取り、250℃に予め予熱した熱風対流式乾燥機にて窒素雰囲気下(酸素濃度約1体積%)、1時間乾燥した。乾燥後、残留物の状況を目視で観察し、重量を測定したが、目視では明らかな残留物は観察できず、表1のとおり、重量測定によっても残留物は確認できなかった。
(Reference Example 1)
1.3074 g of isobornylcyclohexanol (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd., trade name: Tersolve MTPH) was weighed on a watch glass having a diameter of 45 mm and a wall thickness of 2 mm and preheated to 250 ° C. The sample was dried for 1 hour in a dryer under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of about 1% by volume). After drying, the state of the residue was visually observed and the weight was measured. However, no obvious residue was visually observed, and as shown in Table 1, the residue could not be confirmed by weight measurement.

(参考例2)
ソーダガラス製、直径45mm、肉厚2mmの時計皿上に、イソボルニルシクロヘキサノール(日本テルペン化学社製、商品名:テルソルブMTPH)を1.2835g量り取り、250℃に予め予熱した熱風対流式乾燥機にて空気中(酸素濃度約20体積%)、1時間乾燥した。乾燥後、残留物の重量を測定した結果、表1のとおり0.0003g(0.02質量%)の残留物が生じていた。
(Reference Example 2)
A hot air convection system in which 1.2835 g of isobornyl cyclohexanol (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd., trade name: Tersolve MTPH) was weighed on a watch glass having a diameter of 45 mm and a wall thickness of 2 mm made of soda glass and preheated to 250 ° C. It was dried in the air (oxygen concentration about 20% by volume) with a dryer for 1 hour. As a result of measuring the weight of the residue after drying, 0.0003 g (0.02 mass%) of the residue was generated as shown in Table 1.

Figure 2009269808
Figure 2009269808

(実施例1)
イソボルニルシクロヘキサノール(日本テルペン化学社製、商品名:テルソルブMTPH)52質量部、ターピネオールC(異性体混合物)15質量部、及び蛍光体微粒子(ZnSiO:Mn)33質量部を混合し、ビーズミルを用いて15分間混合、分散し、更に30μm角の開口部を有する濾布を通過させて濾過し、蛍光体微粒子含有組成物溶液を調製した。
Example 1
52 parts by mass of isobornylcyclohexanol (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd., trade name: Tersolve MTPH), 15 parts by mass of terpineol C (isomer mixture), and 33 parts by mass of phosphor fine particles (Zn 2 SiO 4 : Mn) are mixed. Then, they were mixed and dispersed for 15 minutes using a bead mill, and further filtered through a filter cloth having a 30 μm square opening to prepare a phosphor fine particle-containing composition solution.

得られた蛍光体微粒子含有組成物溶液を、ソーダガラス製、直径45mm、肉厚2mmの時計皿上に約1.3g量り取り、170℃に予め予熱した熱風対流式乾燥機を用い、窒素雰囲気下(酸素濃度約1体積%)で1時間加熱乾燥して無機物層を形成した。得られた無機物層を目視にて観察した結果、着色は見られなかった。   About 1.3 g of the obtained phosphor fine particle-containing composition solution was weighed on a watch glass made of soda glass, diameter 45 mm, wall thickness 2 mm, and preheated to 170 ° C. in a nitrogen atmosphere using a hot air convection dryer. Under heating (oxygen concentration of about 1% by volume), the mixture was heated and dried for 1 hour to form an inorganic layer. As a result of visually observing the obtained inorganic layer, coloring was not seen.

(実施例2)
実施例1における加熱温度170℃を250℃に変更した以外は実施例1と同様にして、無機物層を形成した。得られた無機物層を目視にて観察した結果、着色は見られず、蛍光体微粒子のみで構成される蛍光体層が得られた。
(Example 2)
An inorganic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the heating temperature of 170 ° C. in Example 1 was changed to 250 ° C. As a result of visually observing the obtained inorganic substance layer, coloring was not seen but the fluorescent substance layer comprised only by fluorescent substance fine particles was obtained.

(比較例1)
実施例1と同様にして作製した蛍光体粉末含有樹脂組成物溶液を、ソーダガラス製、直径45mm、肉厚2mmの時計皿上に約1.3g量り取り、250℃に予め予熱した熱風対流式乾燥機を用い、空気中(酸素濃度約20体積%)で1時間加熱乾燥して無機物層を形成した。得られた無機物層を目視にて観察した結果、特に縁部に着色が見られた。また、有機化合物由来の残留物若しくは当初配合した有機化合物が無機物層に存在することが確認された。
(Comparative Example 1)
About 1.3 g of a phosphor powder-containing resin composition solution produced in the same manner as in Example 1 was weighed on a soda glass, diameter 45 mm, wall thickness 2 mm watch glass and preheated to 250 ° C. An inorganic layer was formed by heating and drying in air (oxygen concentration of about 20% by volume) for 1 hour using a dryer. As a result of visual observation of the obtained inorganic layer, coloring was particularly observed at the edge. Moreover, it was confirmed that the residue derived from an organic compound or the organic compound mix | blended initially exists in an inorganic layer.

(比較例2)
比較例1における加熱温度250℃を170℃に変更した以外は比較例1と同様にして、無機物層を形成した。得られた無機物層を目視にて観察した結果、若干の着色が見られた。また、有機化合物由来の残留物若しくは当初配合した有機化合物が無機物層に存在することが確認された。
(Comparative Example 2)
An inorganic layer was formed in the same manner as Comparative Example 1 except that the heating temperature 250 ° C. in Comparative Example 1 was changed to 170 ° C. As a result of visually observing the obtained inorganic layer, some coloring was observed. Moreover, it was confirmed that the residue derived from an organic compound or the organic compound mix | blended initially exists in an inorganic layer.

(比較例3)
実施例1における加熱温度170℃を100℃に変更した以外は実施例1と同様にして、無機物層を形成した。しかし、得られた無機物層には、有機化合物が当初の量と比較して50質量%以上残留しており、乾燥不十分であった。
(Comparative Example 3)
An inorganic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the heating temperature of 170 ° C. in Example 1 was changed to 100 ° C. However, in the obtained inorganic layer, the organic compound remained in an amount of 50% by mass or more compared with the initial amount, and the drying was insufficient.

Figure 2009269808
Figure 2009269808

以上より、本発明の無機物層の形成方法によれば、有機化合物と無機微粒子とを含む組成物を用いて無機物層を形成する場合に、有機化合物由来の残留成分の発生を十分に防止しつつ有機化合物を十分に除去することが可能であり、電気的又は光学的な性能の低下が十分に抑制され所望の特性を有する無機物層を形成できる。   As described above, according to the method for forming an inorganic layer of the present invention, when an inorganic layer is formed using a composition containing an organic compound and inorganic fine particles, generation of residual components derived from the organic compound is sufficiently prevented. An organic compound can be sufficiently removed, and a decrease in electrical or optical performance can be sufficiently suppressed, and an inorganic layer having desired characteristics can be formed.

本発明の無機物層の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for demonstrating one Embodiment of the formation method of the inorganic substance layer of this invention. 本発明のプラズマディスプレイパネルの一実施形態を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows one Embodiment of the plasma display panel of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…塗布層、40、41…基板、52、54…電極、70…前面誘電体層、71…保護層、72…背面誘電体層、76…放電空間、80…バリアリブ、90…蛍光体層、100…プラズマディスプレイパネル用前面基板、200…プラズマディスプレイパネル用背面基板、300…プラズマディスプレイパネル。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coating layer, 40, 41 ... Substrate, 52, 54 ... Electrode, 70 ... Front dielectric layer, 71 ... Protective layer, 72 ... Back dielectric layer, 76 ... Discharge space, 80 ... Barrier rib, 90 ... Phosphor layer , 100: Front substrate for plasma display panel, 200: Back substrate for plasma display panel, 300: Plasma display panel.

Claims (5)

基材上に、(A)有機化合物と(B)無機微粒子とを含有する無機微粒子含有組成物を塗布して塗布層を設ける第1工程と、
前記塗布層を、酸素濃度が10体積%以下の雰囲気下、150℃以上350℃以下の温度で加熱する第2工程と、
を備える、無機物層の形成方法。
A first step of applying an inorganic fine particle-containing composition containing (A) an organic compound and (B) inorganic fine particles on a substrate to provide a coating layer;
A second step of heating the coating layer at a temperature of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or lower;
A method for forming an inorganic layer.
前記(A)有機化合物が、テルペン系化合物を含む、請求項1に記載の無機物層の形成方法。   The method for forming an inorganic layer according to claim 1, wherein the organic compound (A) includes a terpene compound. 前記テルペン系化合物が、下記一般式(1)で表される化合物である、請求項2に記載の無機物層の形成方法。
Figure 2009269808
The method for forming an inorganic layer according to claim 2, wherein the terpene compound is a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2009269808
前記基材が、プラズマディスプレイ用基板であり、
前記(B)無機微粒子が、蛍光体微粒子であり、
前記無機物層としてプラズマディスプレイ用蛍光体層を形成する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の無機物層の形成方法。
The substrate is a substrate for plasma display;
The (B) inorganic fine particles are phosphor fine particles,
The formation method of the inorganic substance layer as described in any one of Claims 1-3 which forms the fluorescent substance layer for plasma displays as the said inorganic substance layer.
請求項4に記載の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用蛍光体層を備える、プラズマディスプレイパネル。
A plasma display panel comprising the phosphor layer for plasma display formed by the method for forming an inorganic layer according to claim 4.
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